JPH1057907A - オゾン水洗浄装置の制御方法 - Google Patents

オゾン水洗浄装置の制御方法

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JPH1057907A
JPH1057907A JP22157296A JP22157296A JPH1057907A JP H1057907 A JPH1057907 A JP H1057907A JP 22157296 A JP22157296 A JP 22157296A JP 22157296 A JP22157296 A JP 22157296A JP H1057907 A JPH1057907 A JP H1057907A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の課題は一定濃度のオゾン水を安定的
に供給して洗浄作業性を大幅に向上させることができる
新規なオゾン水洗浄装置の制御方法を提供する。 【解決手段】 上記課題を解決するために本発明は、オ
ゾン水製造手段Aで得られるオゾン水の供給量を吐出手
段Cで吐出されるオゾン水の最大吐出量よりも高く設定
すると共に、オゾン水タンクBのオゾン水の液位が下限
を下回ったときにオゾン水製造手段Aを駆動してオゾン
水を供給し、オゾン水の液位が上限に達したときにオゾ
ン水製造手段Aからのオゾン水の供給を停止してオゾン
水タンクB内のオゾン水量が常時一定範囲になるように
制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は洗浄用のオゾン水を
均一濃度で安定供給するためのオゾン水洗浄装置の制御
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】周知の通り、オゾンガスを溶解したオゾ
ン水には優れた殺菌効果と安全性を有することから、こ
のオゾン水を、衛生上無菌状態が望まれる食器、調理器
具、飲料水タンク、受水槽、食品加工工場の物流機械等
の洗浄液として積極的に用いることが検討されている。
【0003】このオゾン水を用いた洗浄装置としては、
例えば、図2に示すようなものが提案されている。図示
するように、このオゾン水洗浄装置はオゾナイザーと称
されるオゾン発生装置aで得られたオゾンガスと、水道
の蛇口b等から供給される水道水とをオゾンエジェクタ
cに導き、ここで水道水中にオゾンガスを溶解させてオ
ゾン水を製造した後、このオゾン水をオゾン水タンクd
に溜めておき、このタンクd内のオゾン水を必要に応じ
て吐出ポンプeから抜き出して加圧した後、ノズルfか
ら吹き出して洗浄対象物を洗浄するようにしたものであ
る。尚、図中gはオゾン水中から分離したオゾンガスを
無害な酸素に分解して放出するオゾンキラー等と称され
るオゾン分解触媒、hはオゾン水の噴射を制御する開閉
レバーである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うなオゾン水洗浄装置では、一定濃度のオゾン水を安定
的に得ることが困難であり、安全性や洗浄性に大きなム
ラが生じてしまうといった欠点がある。すなわち、水道
の蛇口などから供給される水道水には圧力変動が生じる
ことがあり、これによって水道水の供給量が増減する
と、オゾンエジェクタcで得られるオゾン水の濃度が大
きく変動する。そして、噴射されたオゾン水の濃度が高
すぎると作業員等に悪影響を及ぼし、反対に濃度が低す
ぎると洗浄性が低下してしまうといった不都合を招く結
果となる。
【0005】また、オゾン水を吐出する吐出ポンプは、
負荷を低減すべく開閉バルブの開閉と連動して駆動、停
止を行うようになっていることから、開閉バルブを開い
たときに瞬時に高圧のオゾン水をノズルから噴射するこ
とができず、応答性が悪いといった不都合がある。
【0006】さらに、製造されるオゾン水量と消費され
るオゾン水量に大きな変動が生じた場合には、その都度
作業員が洗浄作業を中断して調整を行わなければなら
ず、作業性が悪い。
【0007】そこで、本発明はこのような課題を有効に
解決するために案出されたものであり、その主な目的
は、一定濃度のオゾン水を安定的に供給して洗浄作業性
を大幅に向上させることができる新規なオゾン水洗浄装
置の制御方法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に第一の発明は、一定濃度のオゾン水を生成するオゾン
水製造手段と、このオゾン水製造手段で得られたオゾン
水を溜めるオゾン水タンクと、このオゾン水タンク内の
オゾン水を加圧して吐出する吐出手段とを備えたオゾン
水洗浄装置において、上記オゾン水製造手段で得られる
オゾン水の供給量を上記吐出手段で吐出されるオゾン水
の最大吐出量よりも高く設定すると共に、上記オゾン水
タンクに、そのオゾン水の量を計測するレベルセンサー
を備え、このレベルセンサーで検出されたオゾン水の液
位が下限を下回ったときに上記オゾン水製造手段を駆動
してオゾン水を供給し、オゾン水の液位が上限に達した
ときに上記オゾン水製造手段からのオゾン水の供給を停
止してオゾン水タンク内のオゾン水量が常時一定範囲に
なるようにしたものである。
【0009】これによって、吐出手段側におけるオゾン
水の消費量に拘わらず、オゾン水を安定供給することが
可能となってオゾン水の過不足現象が解消され、洗浄作
業性が大きく向上する。さらに、オゾン水の液位の上限
値と下限値の幅を小さく設定しておけば、オゾン水タン
ク内における濃度の変化が少なくなり、一定濃度のオゾ
ン水を吐出することができる。
【0010】次に、第二の発明は上記オゾン水製造手段
を、一定濃度のオゾンガスを任意に発生するオゾナイザ
ーと、原料水を供給する給水ラインと、この給水ライン
を流れる原料水中に上記オゾンガスを溶解させてオゾン
水を生成するオゾンエジェクタで構成し、上記給水ライ
ンに供給される水の圧力が所定の範囲内にある時に、こ
の給水ラインに原料水を流すと同時に上記オゾナイザー
を駆動し、上記給水ラインに供給される水の圧力が所定
の範囲を外れる時、又は運転中に外れた時は装置が停止
するようにして濃度が常に一定のオゾン水が供給される
ようにしたものである。尚、運転中における水の圧力変
動に拘わらず、水の圧力が元々過不足している場合には
減圧弁やポンプなどによって供給される水の圧力調整
し、所定の圧力範囲内になるようにすることで、常に一
定濃度のオゾン水をオゾン水タンク側に安定供給するこ
とができる。
【0011】さらに、第三の発明は上記吐出手段を、オ
ゾン水タンク内のオゾン水を加圧して吐出する吐出ポン
プと、この吐出ポンプで加圧されたオゾン水を吹き出す
ノズルと、上記吐出ポンプの吐出側と上記オゾン水タン
クとの間を接続するバイパスラインとで構成し、上記ノ
ズルを閉じた時に上記吐出ポンプで加圧されたオゾン水
を上記バイパスラインを介して上記オゾン水タンク側に
戻すようにしたものである。
【0012】従って、吐出ポンプの締切り運転を防止す
ることができると同時に、必要なときに瞬時に高圧のオ
ゾン水を噴射ノズルから噴射することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、本発明を実施する好適一形
態を添付図面を参照しながら説明する。
【0014】図1は本発明に係るオゾン洗浄装置の実施
の一形態を示したものであり、図中Aは一定濃度のオゾ
ン水を生成するオゾン水製造手段、Bはこのオゾン水製
造手段Aで得られたオゾン水を溜めるオゾン水タンク、
Cはこのオゾン水タンクB内のオゾン水を加圧して吐出
する吐出手段である。
【0015】先ず、このオゾン水製造手段Aは、無声放
電などによって一定濃度のオゾンガスを発生するオゾナ
イザー1と、原料水を供給する給水ライン2と、給水ラ
イン2を流れる原料水中にオゾナイザー1で発生したオ
ゾンガスを溶解させてオゾン水を生成するオゾンエジェ
クタ3,3とから構成されている。
【0016】また、この給水ライン2の一端は水道の蛇
口等の水源7側に接続され、他端はこれより二つに分岐
して、それぞれオゾン水タンクBの底部側に延出されて
いる。さらに、この給水ライン2の上流側には、水の流
れを規制する給水側電磁弁4と、この原料水の水圧を計
測する圧力スイッチ5が設けられており、この圧力スイ
ッチ5で計測された給水側電磁弁4の下流側の水圧が一
定の範囲を外れたときに、給水電磁弁4を閉じて原料水
の流れを停止するように設定されている。
【0017】一方、オゾナイザー1の上流側には、オゾ
ンガスの原料となる富酸素空気を生成する富酸素製造器
8が付設されており、さらにこの富酸素製造器8とオゾ
ナイザー1を結ぶラインには、富酸素製造器8で得られ
た富酸素空気の圧力を計測する圧力計9と、その流れを
規制する酸素側電磁弁10が備えられている。そして、
給水ライン2と同様に、この富酸素製造器8から供給さ
れる富酸素空気の圧力が所定の範囲を外れたときに酸素
側電磁弁10を閉じてオゾナイザー1側への富酸素空気
の供給を停止するようになっている。
【0018】また、この酸素側電磁弁10と給水側電磁
弁4は、一方の電磁弁の開閉に連動して他方の電磁弁が
開閉するようになっており、常に一定範囲量の原料水及
び富酸素空気が供給されるようになっていることから、
常に一定濃度のオゾン水を生成してオゾン水タンクB側
へ供給できるようになっている。尚、図中23はオゾン
ガスの逆流を防止する逆止弁、24はオゾン水の流れを
規制するバルブ、25は電磁弁10と連動するオゾンガ
ス電磁弁である。また、図示するように、この給水ライ
ン2の一部はオゾナイザー1内を通過するようになって
おり、オゾナイザー1で発生する熱を奪って冷却する冷
却ラインも兼用している。
【0019】次に、オゾン水タンクBは、上述したよう
にオゾン水製造手段Aで得られた一定濃度のオゾン水を
一時的に貯溜しておくための密閉容器であり、その内部
にはオゾン水の貯溜量を常時測定するレベルセンサー1
1が設けられている。そして、このレベルセンサー11
は図示しない表示手段等を備えたマイクロコンピュータ
等の制御回路12に接続されており、このレベルセンサ
ー11で検出されたタンクB内のオゾン水の液位が予め
設定した下限を下回ったときに上記オゾン水製造手段A
を駆動して一定濃度のオゾン水を供給し、オゾン水の液
位が上限に達した時に上記オゾン水製造手段Aからのオ
ゾン水の供給を停止してオゾン水タンクB内のオゾン水
量が常時一定範囲に収まるように制御されている。尚、
図中13はオゾン水中から揮発したオゾンガスを無害な
酸素に分解して放出するオゾン分解触媒、14はタンク
B内のオゾン水を溢流するオーバーフロー管、15はタ
ンクB内のオゾン水を放流するドレン弁である。
【0020】次に、吐出手段Cは、オゾン水タンクBの
底部に接続された吐出ライン16に、オゾン水タンクB
内のオゾン水を加圧して吐出する吐出ポンプ18と、こ
の吐出ポンプ18で加圧されたオゾン水を吹き出す噴射
ノズル19とを接続すると共に、吐出ポンプ18の吐出
側と上記オゾン水タンクBとの間をバイパスライン17
で接続して構成されている。また、図示するように、こ
の吐出ポンプ18の吐出側にはオゾン水の流れを規制す
る吐出バルブ21が設けられると共に、バイパスライン
17側にも同様にオゾン水の流れを規制するバイパスバ
ルブ22が設けられており、これらは吐出バルブ21、
バイパスバルブ22はそれぞれ反対に開閉制御されるよ
うになっている。
【0021】また、さらに、この吐出バルブ21の下流
側にはオゾン水の吐出圧を計測する圧力スイッチ20が
備えられており、吐出圧が設定値に達した時にその信号
を上記制御回路12に入力するようになっている。
【0022】次に、上記構成に基づいて本発明の制御方
法及び作用を説明する。
【0023】先ず、オゾン水製造手段Aにおいて、水源
7から供給される原料水を給水ライン2に流すと共に、
酸素製造器8からオゾナイザー1へ富酸素空気を供給す
る。この時、供給ライン2側の原料水の水圧が一定の範
囲、例えば1kg/cm2 〜2kg/cm2 の範囲から
外れていると、これを検出する圧力スイッチ5が給水側
電磁弁4を閉じて原料水の供給を停止すると同時にその
信号が圧力計9に送られ、富酸素側電磁弁10を閉じて
富酸素空気の供給も停止される。また、反対に給水ライ
ン2側の原料水の水圧が一定の範囲であっても、富酸素
空気の圧力が一定の範囲を外れている場合には同様に圧
力計9からその信号が圧力スイッチ5に送られ、給水側
電磁弁4を閉じて原料水の供給が停止される。
【0024】次に、このようにして一定範囲の圧力で供
給される富酸素空気はオゾナイザー1に流れ、ここで無
声放電などによってオゾンガスとなった後、電磁弁2
5、バルブ24、逆止弁23を通過してオゾンエジェク
タ3,3に流れ、同じく一定範囲の圧力で給水ライン2
から流れてくる原料水中に溶解してオゾン水となり、そ
の後、さらに給水ライン2を通過してオゾン水タンクb
内に流れ込み、ここに貯留される。この時、上述したよ
うに富酸素空気と原料水は常に一定の比率でオゾンエジ
ェクタ3,3に供給されることとなるため、ここで得ら
れるオゾン水は常に一定範囲の濃度のものが連続してオ
ゾン水タンクB内に供給されることになる。
【0025】次に、このようにして一定濃度のオゾン水
がオゾン水タンクB内に供給され、その液位がタンクB
の上限に達したことをレベルセンサー11が検出したな
らば、その信号が制御回路12に入力され、これによっ
て制御回路12がオゾン水製造手段Aに信号を送って、
これ以上のオゾン水の供給を中断するように制御する。
具体的には、図示するように、圧力スイッチ5あるいは
圧力計9にその旨の信号を送り、原料水と富酸素空気の
供給を同時に停止する。
【0026】次に、このオゾン水タンクB内のオゾン水
を洗浄に供するためには、吐出手段Cのオゾン水バルブ
21を開の状態にしておくと共に、手元バルブ6を開
き、吐出ポンプ18を駆動してオゾン水を例えば、3k
g/cm2 以上に昇圧して吐出することで高圧のオゾン
水が噴射ノズル19から勢い良く噴射され、洗浄液とし
て消費されることになる。そして、このオゾン水の消費
により、オゾン水タンクB内のオゾン水量が徐々に減少
してその液位が予め設定された下限に達すると、これを
レベルセンサー11が検知してその信号を制御回路12
に入力する。次に、この入力信号を受けた制御回路12
は、オゾン水タンクB内のオゾン水量が減少したと判断
してオゾン水製造手段Aに運転開始信号を送り、これに
よって、オゾン水製造手段Aの運転が再開されて、一定
濃度のオゾン水がオゾン水タンクB側に連続して供給さ
れることになる。ここで、オゾン水製造手段Aのオゾン
水の連続生成量は、吐出手段Cでのオゾン水の連続消費
量を上回るように設定されていることから、その都度吐
出手段Cを停止させなくとも、オゾン水タンクB内のオ
ゾン水の液位がレベルセンサー11で検知される下限を
下回ることなく、徐々に上昇していくことになる。従っ
て、このレベルセンサー11の上限値と下限値との幅を
小さく設定しておけば、オゾン水タンクB内における液
相と気相との比率が大幅に変わることもなくなり、オゾ
ン水タンクB内におけるオゾン水濃度の変化を最小限に
抑えることが可能となる。
【0027】このように、本発明は濃度が一定のオゾン
水をオゾン水タンクB内に安定的に供給することができ
るため、従来のような濃度変化による洗浄能力の低下や
作業員に対する悪影響を未然に防止することができる。
また、この濃度制御は原料水の供給量を制御する圧力ス
イッチ5,富酸素空気の供給量を制御する圧力計9、オ
ゾン水タンクB内の液位を計測するレベルセンサー11
等からの信号によって制御回路12が自動的に行うよう
になっていることから、従来作業員によって行われてい
た煩わしい濃度調整が不要となり、洗浄作業性が大幅に
向上することになる。
【0028】次に、吐出手段Cにおいて、洗浄作業を一
時中断するために手元バルブ6を閉じてその上流側の圧
力が上昇してその値が規定値を超えると、これを圧力ス
イッチ20が検知して、吐出ライン16の吐出バルブ2
1が閉じられると同時に、バイパスバルブ22を開き、
吐出ポンプ18から吐出される高圧のオゾン水がバイパ
スライン17側に流れ、吐出ポンプ18の負荷の上昇が
避けられる。そして、洗浄作業を再開するために手元バ
ルブ6を開くと、これを圧力スイッチ20が検知して、
吐出バルブ21を開くと同時に、バイパスバルブ22を
閉じることで吐出ポンプ18から吐出される高圧のオゾ
ン水が再び吐出ライン16から噴射ノズル19側へ流れ
ることになる。
【0029】従って、噴射を中断する毎に吐出ポンプ1
8を駆動停止させる必要がなくなるため、吐出ポンプ1
8の負荷を低減して寿命を大幅に向上させることができ
ると共に、噴射を再開すると同時に高圧のオゾン水を瞬
時に噴射することができるため、さらに洗浄作業性を向
上することが可能となる。尚、吐出ポンプ18と噴射ノ
ズル19との間に圧力スイッチ20により、一定時間噴
射ノズル19を停止した時や、吐出圧力が異常に上昇し
たときには制御回路12によって直接吐出ポンプ18や
オゾナイザー1等の駆動部を自動停止させて二重に吐出
ポンプ18を保護するようにしても良い。
【0030】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、濃度が一
定のオゾン水を安定供給することが可能となるため、装
置の信頼性及び清浄作業性を大幅に向上することができ
る等といった優れた効果を発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態を示す構成図である。
【図2】従来のオゾン水洗浄装置の概略図である。
【符号の説明】
A オゾン水製造手段 B オゾン水タンク C 吐出手段 1 オゾナイザー 2 給水ライン 3 オゾンエジェクタ 4 給水側電磁弁 5,20 圧力スイッチ 6 手元バルブ 7 水源 8 富酸素製造器 9 圧力計 10 富酸素側電磁弁 11 レベルセンサー 12 制御回路 16 吐出ライン 17 バイパスライン 18 吐出ポンプ 19 噴射ノズル 21 吐出バルブ 22 バイパスバルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 憲三 東京都江東区豊洲三丁目2番16号 石川島 播磨重工業株式会社豊洲総合事務所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一定濃度のオゾン水を生成するオゾン水
    製造手段と、このオゾン水製造手段で得られたオゾン水
    を溜めるオゾン水タンクと、このオゾン水タンク内のオ
    ゾン水を加圧して吐出する吐出手段とを備えたオゾン水
    洗浄装置において、上記オゾン水製造手段で得られるオ
    ゾン水の供給量を上記吐出手段で吐出されるオゾン水の
    最大吐出量よりも高く設定すると共に、上記オゾン水タ
    ンクに、そのオゾン水の量を計測するレベルセンサーを
    備え、このレベルセンサーで検出されたオゾン水の液位
    が下限を下回ったときに上記オゾン水製造手段を駆動し
    てオゾン水を供給し、オゾン水の液位が上限に達したと
    きに上記オゾン水製造手段からのオゾン水の供給を停止
    してオゾン水タンク内のオゾン水量が常時一定範囲にな
    るようにしたことを特徴とするオゾン水洗浄装置の制御
    方法。
  2. 【請求項2】 上記オゾン水製造手段を、一定濃度のオ
    ゾンガスを供給するオゾナイザーと、原料水を供給する
    給水ラインと、この給水ラインを流れる原料水中に上記
    オゾンガスを溶解させてオゾン水を生成するオゾンエジ
    ェクタで構成し、上記給水ラインに供給される水の圧力
    が所定の範囲内にある時に、この給水ラインに原料水を
    流すと同時に上記オゾナイザーを駆動し、上記給水ライ
    ンに供給される水の圧力が所定の範囲を外れた時に、上
    記オゾナイザーを停止すると同時に給水ラインへの水の
    供給を停止して濃度が常に一定のオゾン水が供給される
    ようにしたことを特徴とする請求項1記載のオゾン水洗
    浄装置の制御方法。
  3. 【請求項3】 上記吐出手段を、オゾン水タンク内のオ
    ゾン水を加圧して吐出する吐出ポンプと、この吐出ポン
    プで加圧されたオゾン水を吹き出す噴射ノズルと、上記
    吐出ポンプの吐出側と上記オゾン水タンクとの間を接続
    するバイパスラインとで構成し、上記噴射ノズルを閉じ
    た時に上記吐出ポンプで加圧されたオゾン水を上記バイ
    パスラインを介して上記オゾン水タンク側に戻すように
    したことを特徴とする請求項1又は2記載のオゾン水洗
    浄装置の制御方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110718448A (zh) * 2018-07-11 2020-01-21 胜高股份有限公司 半导体晶片的洗涤方法、及使用该洗涤方法的半导体晶片的制造方法

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CN110718448A (zh) * 2018-07-11 2020-01-21 胜高股份有限公司 半导体晶片的洗涤方法、及使用该洗涤方法的半导体晶片的制造方法

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