JPH1057802A - 気液接触装置 - Google Patents
気液接触装置Info
- Publication number
- JPH1057802A JPH1057802A JP21990796A JP21990796A JPH1057802A JP H1057802 A JPH1057802 A JP H1057802A JP 21990796 A JP21990796 A JP 21990796A JP 21990796 A JP21990796 A JP 21990796A JP H1057802 A JPH1057802 A JP H1057802A
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- Japan
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- gas
- liquid
- liquid contact
- ejector
- pressure vessel
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 気液接触塔において、気液接触後の液体を次
工程へ移送するためのポンプを不要化する。 【解決手段】 エゼクタ２，４で液体に気体を混入し、
気液混合流を、自動ガス抜弁３Ａ，５Ａを有する圧力容
器３，５で気液接触させる。 【効果】 エゼクタと圧力容器とを用い、気体と液体と
を加圧状態で接触させるため、気液接触前の液体の保有
エネルギーを気液接触後も液体に保有させておくことが
できる。気液接触後の液体を次工程へ移送するためのポ
ンプ等の移送手段が不要となる。
工程へ移送するためのポンプを不要化する。 【解決手段】 エゼクタ２，４で液体に気体を混入し、
気液混合流を、自動ガス抜弁３Ａ，５Ａを有する圧力容
器３，５で気液接触させる。 【効果】 エゼクタと圧力容器とを用い、気体と液体と
を加圧状態で接触させるため、気液接触前の液体の保有
エネルギーを気液接触後も液体に保有させておくことが
できる。気液接触後の液体を次工程へ移送するためのポ
ンプ等の移送手段が不要となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は気液接触装置に係
り、特に、水中の溶存酸素、炭酸ガスなどの除去、或い
は、排ガス中のアンモニアガス、硫化水素ガスの水中へ
の溶解、除去に有効な気液接触装置に関する。
り、特に、水中の溶存酸素、炭酸ガスなどの除去、或い
は、排ガス中のアンモニアガス、硫化水素ガスの水中へ
の溶解、除去に有効な気液接触装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、水中の溶存酸素や炭酸ガスをスト
リッピングさせるための窒素脱気塔や脱炭酸塔として
は、充填層が形成された塔の上部から被処理水を散水
し、塔下部から不活性ガスや空気を上向流で流す気液接
触塔が用いられている。また、排ガス中のアンモニアガ
スや硫化水素ガスを水等の液体に溶解させる装置として
も、充填層が形成された塔の上部からガス吸収液を散水
し、塔下部から被処理排ガスを上向流で流す気液接触塔
が用いられている。
リッピングさせるための窒素脱気塔や脱炭酸塔として
は、充填層が形成された塔の上部から被処理水を散水
し、塔下部から不活性ガスや空気を上向流で流す気液接
触塔が用いられている。また、排ガス中のアンモニアガ
スや硫化水素ガスを水等の液体に溶解させる装置として
も、充填層が形成された塔の上部からガス吸収液を散水
し、塔下部から被処理排ガスを上向流で流す気液接触塔
が用いられている。
【０００３】このように従来用いられている気液接触塔
は、いずれも塔上部から液体を散水流下させ、塔下部か
ら気体を導入する型式となっている。
は、いずれも塔上部から液体を散水流下させ、塔下部か
ら気体を導入する型式となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の気液接触塔で
は、液体は塔上部から塔下部に落下することにより位置
エネルギーを失うと共に、塔下部では液の運動エネルギ
ーも殆ど失なわれている。即ち、気液接触前の液体が塔
上部において保有していた位置エネルギーあるいは塔上
部に送液するために液体に加えられた運動エネルギー
は、気液接触後、塔下部においては殆ど失われている。
このため、気液接触塔の下部から抜き出した液体を次工
程へ移送する場合には、ポンプ等が必要となる。
は、液体は塔上部から塔下部に落下することにより位置
エネルギーを失うと共に、塔下部では液の運動エネルギ
ーも殆ど失なわれている。即ち、気液接触前の液体が塔
上部において保有していた位置エネルギーあるいは塔上
部に送液するために液体に加えられた運動エネルギー
は、気液接触後、塔下部においては殆ど失われている。
このため、気液接触塔の下部から抜き出した液体を次工
程へ移送する場合には、ポンプ等が必要となる。
【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決し、気液
接触後の液体自体が送液のためのエネルギーを有し、次
工程への移送手段が不要な気液接触装置を提供すること
を目的とする。
接触後の液体自体が送液のためのエネルギーを有し、次
工程への移送手段が不要な気液接触装置を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の気液接触装置
は、気体を液体に混入するエゼクタと、該エゼクタから
の気液混合流が導入される圧力容器と、該圧力容器内を
加圧状態に維持した状態で該圧力容器内から気体を排出
する手段と、該圧力容器内から液を加圧状態のまま流出
させる手段とを備えてなることを特徴とする。
は、気体を液体に混入するエゼクタと、該エゼクタから
の気液混合流が導入される圧力容器と、該圧力容器内を
加圧状態に維持した状態で該圧力容器内から気体を排出
する手段と、該圧力容器内から液を加圧状態のまま流出
させる手段とを備えてなることを特徴とする。
【０００７】かかる本発明では、エゼクタからの気液混
合流を圧力容器内で加圧状態にて分離し、気液接触前に
液体が保有していた運動エネルギーを気液分離後も液体
に保有させる。
合流を圧力容器内で加圧状態にて分離し、気液接触前に
液体が保有していた運動エネルギーを気液分離後も液体
に保有させる。
【０００８】このため、動力が必要となるのはエゼクタ
への供給手段のみとなり、気液接触後の液体を次工程へ
移送するためのポンプ等の移送手段が不要となる。
への供給手段のみとなり、気液接触後の液体を次工程へ
移送するためのポンプ等の移送手段が不要となる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
施の形態を説明する。
【００１０】図１〜３は各々本発明の気液接触装置の実
施の形態を示す系統図である。
施の形態を示す系統図である。
【００１１】図１に示す気液接触装置は、液体に気体を
混入させるためのエゼクタ及び気液接触用の気液混合塔
を２段に直列配置したものである。
混入させるためのエゼクタ及び気液接触用の気液混合塔
を２段に直列配置したものである。
【００１２】図１の気液接触装置では、配管１１よりポ
ンプ１で送給される液体にエゼクタ２にて気体を混入さ
せ、気液混合流を充填層３Ｂが形成された圧力容器３に
導入して十分に気液接触させる。気液接触後の気体は圧
力容器３の上部に設けられた自動ガス抜弁３Ａより系外
へ排出される。一方、気液接触後の液体は、配管１２よ
り抜き出し、エゼクタ４で再度気体を混入させた後、気
液混合流を充填層５Ｂが形成された圧力容器５に導入し
て十分に気液接触させる。この圧力容器５においても気
液接触後の気体は圧力容器５の上部に設けられた自動ガ
ス抜弁５Ａより系外へ排出され、気液接触後の液体は配
管１３より排出される。
ンプ１で送給される液体にエゼクタ２にて気体を混入さ
せ、気液混合流を充填層３Ｂが形成された圧力容器３に
導入して十分に気液接触させる。気液接触後の気体は圧
力容器３の上部に設けられた自動ガス抜弁３Ａより系外
へ排出される。一方、気液接触後の液体は、配管１２よ
り抜き出し、エゼクタ４で再度気体を混入させた後、気
液混合流を充填層５Ｂが形成された圧力容器５に導入し
て十分に気液接触させる。この圧力容器５においても気
液接触後の気体は圧力容器５の上部に設けられた自動ガ
ス抜弁５Ａより系外へ排出され、気液接触後の液体は配
管１３より排出される。
【００１３】図１の気液接触装置において、ポンプ１に
より圧力容器３への送液が行われ、この圧力容器３から
排出される液体は、その保有する位置エネルギー及び運
動エネルギーによりエゼクタ４を通過し、圧力容器５に
流入する。そして、この圧力容器５から排出される液体
も、それ自身が保有する位置エネルギー及び運動エネル
ギーにより、ポンプ等の移送手段を経ることなく、次工
程へ移送することができる。
より圧力容器３への送液が行われ、この圧力容器３から
排出される液体は、その保有する位置エネルギー及び運
動エネルギーによりエゼクタ４を通過し、圧力容器５に
流入する。そして、この圧力容器５から排出される液体
も、それ自身が保有する位置エネルギー及び運動エネル
ギーにより、ポンプ等の移送手段を経ることなく、次工
程へ移送することができる。
【００１４】図１に示す気液接触装置は、圧力容器内に
気液接触効率を高めるための充填層を形成した圧力容器
を用いたものであるが、本発明においては、気液接触効
率を高めるために、気液混合流の送液配管内に充填剤を
充填したりスタティックミキサーを設けたりしても良
い。また、この送液配管に下向流部分を設けることも気
液接触効率の向上に有効である。
気液接触効率を高めるための充填層を形成した圧力容器
を用いたものであるが、本発明においては、気液接触効
率を高めるために、気液混合流の送液配管内に充填剤を
充填したりスタティックミキサーを設けたりしても良
い。また、この送液配管に下向流部分を設けることも気
液接触効率の向上に有効である。
【００１５】図２に示す気液接触装置は、気液混合流の
送液配管に下向流部分を設けて気液接触効率を向上させ
るべく、複数本の垂直管を用いたものであり、前工程か
ら配管１４より送給された液体にエゼクタ４で気体を混
入させ、気液混合流を垂直管７に流通させた後、配管１
５から圧力容器よりなる気液分離塔８に導入し、気体を
自動ガス抜弁８Ａから系外へ排出し、液体は配管１６よ
り排出する。この配管１６からの液体は、ポンプ等の移
送手段を設けることなく、次工程へ送液することができ
る。
送液配管に下向流部分を設けて気液接触効率を向上させ
るべく、複数本の垂直管を用いたものであり、前工程か
ら配管１４より送給された液体にエゼクタ４で気体を混
入させ、気液混合流を垂直管７に流通させた後、配管１
５から圧力容器よりなる気液分離塔８に導入し、気体を
自動ガス抜弁８Ａから系外へ排出し、液体は配管１６よ
り排出する。この配管１６からの液体は、ポンプ等の移
送手段を設けることなく、次工程へ送液することができ
る。
【００１６】なお、本発明において、圧力容器に設ける
気体排出手段（即ち、図１，２の自動ガス抜弁３Ａ，５
Ａ，８Ａ）としては、圧力容器内の加圧状態を維持した
まま気体を排出できるものであり、通常の場合、液体よ
りも軽く気体よりも重いフロート弁を利用したものが好
適である。また、圧力容器頂部の液レベルをセンサで検
知し、液レベルが配管１２の流入端（集水口）近傍にま
で低下してきたならば弁３Ａ、５Ａ、８Ａを開弁させて
ガスを圧力容器外に排出させ、その後、再び弁３Ａ、５
Ａ、８Ａを閉弁状態とさせるようにした自動制御弁を用
いても良い。
気体排出手段（即ち、図１，２の自動ガス抜弁３Ａ，５
Ａ，８Ａ）としては、圧力容器内の加圧状態を維持した
まま気体を排出できるものであり、通常の場合、液体よ
りも軽く気体よりも重いフロート弁を利用したものが好
適である。また、圧力容器頂部の液レベルをセンサで検
知し、液レベルが配管１２の流入端（集水口）近傍にま
で低下してきたならば弁３Ａ、５Ａ、８Ａを開弁させて
ガスを圧力容器外に排出させ、その後、再び弁３Ａ、５
Ａ、８Ａを閉弁状態とさせるようにした自動制御弁を用
いても良い。
【００１７】このような本発明の気液接触装置により、
被処理液中の溶存酸素又は炭酸ガス等の溶存ガスを除去
する場合には、ポンプにより被処理液を供給し、ストリ
ッピング用気体として窒素、アルゴン等の不活性ガス或
いは空気をエゼクタから導入し、圧力容器又は垂直管内
で被処理液中の溶存ガスを液中から放散させ、ストリッ
ピング用気体と共に弁３Ａ、５Ａ、８Ａより圧力容器外
に排出する。この処理液はポンプ等を経ることなく次工
程へ送られる。
被処理液中の溶存酸素又は炭酸ガス等の溶存ガスを除去
する場合には、ポンプにより被処理液を供給し、ストリ
ッピング用気体として窒素、アルゴン等の不活性ガス或
いは空気をエゼクタから導入し、圧力容器又は垂直管内
で被処理液中の溶存ガスを液中から放散させ、ストリッ
ピング用気体と共に弁３Ａ、５Ａ、８Ａより圧力容器外
に排出する。この処理液はポンプ等を経ることなく次工
程へ送られる。
【００１８】また、排ガス中のアンモニアガスや硫化水
素ガス等を水等のガス吸収液に溶解させて除去する場合
には、ポンプからガス吸収液を供給し、気体として被処
理排ガスをエゼクタ２、６から導入し、被処理排ガス中
のアンモニアガス等をガス吸収液に溶解させる。この場
合、吸収されなかったガス成分は弁３Ａ、５Ａ、８Ａか
ら排出される。ガス吸収液は、ポンプ等を経ることなく
次工程へ送られる。
素ガス等を水等のガス吸収液に溶解させて除去する場合
には、ポンプからガス吸収液を供給し、気体として被処
理排ガスをエゼクタ２、６から導入し、被処理排ガス中
のアンモニアガス等をガス吸収液に溶解させる。この場
合、吸収されなかったガス成分は弁３Ａ、５Ａ、８Ａか
ら排出される。ガス吸収液は、ポンプ等を経ることなく
次工程へ送られる。
【００１９】図３は、脱炭酸手段として本発明の気液接
触装置を適用した純水製造装置を示す。
触装置を適用した純水製造装置を示す。
【００２０】原水は、ポンプ３１を備える配管３２より
陽イオン交換塔３３に通水され、陽イオン交換樹脂３３
Ａでイオン交換される。陽イオン交換塔３３の処理水
は、配管３４より抜き出され、エゼクタ３５で空気又は
窒素ガス等の不活性ガスよりなるストリッピング用ガス
が混入された後、垂直管３６を流通することで、十分に
気液接触がなされ、水中の炭酸ガスがストリッピングさ
れる。気液混合流は配管３７より圧力容器よりなる気液
分離塔３８に流入し、炭酸ガスを含むストリッピング用
ガスは自動ガス抜弁３８Ａより系外へ排出される。気液
分離塔３８の分離液体（脱炭酸水）は、配管３９より陰
イオン交換塔４０に通水され、陰イオン交換樹脂４０Ａ
でイオン交換され、処理水（純水）は配管４１より系外
へ排出される。
陽イオン交換塔３３に通水され、陽イオン交換樹脂３３
Ａでイオン交換される。陽イオン交換塔３３の処理水
は、配管３４より抜き出され、エゼクタ３５で空気又は
窒素ガス等の不活性ガスよりなるストリッピング用ガス
が混入された後、垂直管３６を流通することで、十分に
気液接触がなされ、水中の炭酸ガスがストリッピングさ
れる。気液混合流は配管３７より圧力容器よりなる気液
分離塔３８に流入し、炭酸ガスを含むストリッピング用
ガスは自動ガス抜弁３８Ａより系外へ排出される。気液
分離塔３８の分離液体（脱炭酸水）は、配管３９より陰
イオン交換塔４０に通水され、陰イオン交換樹脂４０Ａ
でイオン交換され、処理水（純水）は配管４１より系外
へ排出される。
【００２１】この純水装置において、気液分離塔３８よ
り配管３９を経て流出する脱炭酸水は、ポンプ等の移送
手段を必要とすることなく陰イオン交換塔４０に送給す
ることができる。
り配管３９を経て流出する脱炭酸水は、ポンプ等の移送
手段を必要とすることなく陰イオン交換塔４０に送給す
ることができる。
【００２２】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の気液接触装
置によれば、気液接触後の液体を次工程へ移送するため
のポンプ等の移送手段が不要となるため、装置設備及び
制御機構を簡易なものとすることができる。
置によれば、気液接触後の液体を次工程へ移送するため
のポンプ等の移送手段が不要となるため、装置設備及び
制御機構を簡易なものとすることができる。
【図１】本発明の気液接触装置の実施の形態を示す系統
図である。
図である。
【図２】本発明の気液接触装置の他の実施の形態を示す
系統図である。
系統図である。
【図３】本発明の気液接触装置の別の実施の形態を示す
系統図である。
系統図である。
１ ポンプ ２，４，６，３５ エゼクタ ３，５ 圧力容器 ３Ａ，５Ａ，８Ａ，３８Ａ 自動ガス抜弁 ７，３６ 垂直管 ８，３８ 気液分離塔 ３３ 陽イオン交換塔 ４０ 陰イオン交換塔
Claims (1)
- 【請求項１】 気体を液体に混入するエゼクタと、該エ
ゼクタからの気液混合流が導入される圧力容器と、該圧
力容器内を加圧状態に維持した状態で該圧力容器内から
気体を排出する手段と、該圧力容器内から液を加圧状態
のまま流出させる手段とを備えてなることを特徴とする
気液接触装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21990796A JPH1057802A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | 気液接触装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21990796A JPH1057802A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | 気液接触装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1057802A true JPH1057802A (ja) | 1998-03-03 |
Family
ID=16742902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21990796A Pending JPH1057802A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | 気液接触装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1057802A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002061804A (ja) * | 2000-08-15 | 2002-02-28 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 蒸気利用熱源設備の溶存酸素低減装置 |
| JP2008100151A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 有機性廃水処理方法ならびに有機性廃水処理装置 |
| JP2013010075A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Nitto Seiko Co Ltd | 気体注入装置および気液接触装置 |
-
1996
- 1996-08-21 JP JP21990796A patent/JPH1057802A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002061804A (ja) * | 2000-08-15 | 2002-02-28 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 蒸気利用熱源設備の溶存酸素低減装置 |
| JP2008100151A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 有機性廃水処理方法ならびに有機性廃水処理装置 |
| JP2013010075A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Nitto Seiko Co Ltd | 気体注入装置および気液接触装置 |
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