JPH06121990A - 水中の溶存酸素除去方法 - Google Patents
水中の溶存酸素除去方法Info
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- JPH06121990A JPH06121990A JP27312892A JP27312892A JPH06121990A JP H06121990 A JPH06121990 A JP H06121990A JP 27312892 A JP27312892 A JP 27312892A JP 27312892 A JP27312892 A JP 27312892A JP H06121990 A JPH06121990 A JP H06121990A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 原水に水素ガスを効率よく、かつ過飽和にな
らないように溶解する。 【構成】 気体透過性中空糸膜モジュール３の中空糸内
に原水流入部１から原水を流入させるとともに、モジュ
ール３の内部の中空糸外に大気圧以下の圧力で水素ガス
を供給管２から供給し、中空糸膜を介して水素ガスを原
水に溶解させる。水素ガスを溶解した原水はパラジウム
樹脂７を充填した樹脂塔６に送られ、ここで溶存酸素が
除去される。
らないように溶解する。 【構成】 気体透過性中空糸膜モジュール３の中空糸内
に原水流入部１から原水を流入させるとともに、モジュ
ール３の内部の中空糸外に大気圧以下の圧力で水素ガス
を供給管２から供給し、中空糸膜を介して水素ガスを原
水に溶解させる。水素ガスを溶解した原水はパラジウム
樹脂７を充填した樹脂塔６に送られ、ここで溶存酸素が
除去される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子工業の洗浄用超純
水、発電用ボイラ給水、ボイラ復水等の水中の溶存酸素
の除去方法に関する。
水、発電用ボイラ給水、ボイラ復水等の水中の溶存酸素
の除去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】水中の溶存酸素の除去方法を大別する
と、物理的方法と化学的方法とに大別される。物理的方
法には、加熱脱気、真空脱気、窒素曝気等がある。加熱
脱気は、蒸気を用いて水温を上昇させることによって、
溶存酸素の溶解度が低下することを利用して溶存酸素を
除去する方法である。真空脱気は、水の蒸気圧付近まで
減圧にして溶存酸素を除去する方法である。また窒素曝
気は、被処理水を純窒素と接触させ、窒素以外の溶存気
体である溶存酸素の分圧を下げることによって溶存酸素
を除去する方法である。物理的な方法によって溶存酸素
除去を行なう場合、溶存酸素濃度を例えば１０μｇ−Ｏ
／ｌまで除去するためには、膨大なエネルギーを必要と
し、装置も大型化する問題がある。
と、物理的方法と化学的方法とに大別される。物理的方
法には、加熱脱気、真空脱気、窒素曝気等がある。加熱
脱気は、蒸気を用いて水温を上昇させることによって、
溶存酸素の溶解度が低下することを利用して溶存酸素を
除去する方法である。真空脱気は、水の蒸気圧付近まで
減圧にして溶存酸素を除去する方法である。また窒素曝
気は、被処理水を純窒素と接触させ、窒素以外の溶存気
体である溶存酸素の分圧を下げることによって溶存酸素
を除去する方法である。物理的な方法によって溶存酸素
除去を行なう場合、溶存酸素濃度を例えば１０μｇ−Ｏ
／ｌまで除去するためには、膨大なエネルギーを必要と
し、装置も大型化する問題がある。
【０００３】また化学的方法は、溶存酸素と還元剤の酸
化還元反応によって溶存酸素を除去する方法である。こ
の化学的方法の一つに溶存酸素と水素とをパラジウム触
媒の存在下で反応させる方法があり、パラジウム触媒の
存在により、常温で溶存酸素と還元剤としての水素とが
反応し、溶存酸素が除去される。水素の溶解法として
は、散気ノズル、エゼクタ等を用い水中に細かい水素の
気泡を分散させて溶解させる方法や、吸収塔内に仕切板
や充填物を入れてそれらの表面を水の層で覆うことで吸
収効率を高める方法、さらに気体透過性膜を介して加圧
された水素を供給してこれを水に溶解させる方法（特開
平３−２９３０９２）等がある。
化還元反応によって溶存酸素を除去する方法である。こ
の化学的方法の一つに溶存酸素と水素とをパラジウム触
媒の存在下で反応させる方法があり、パラジウム触媒の
存在により、常温で溶存酸素と還元剤としての水素とが
反応し、溶存酸素が除去される。水素の溶解法として
は、散気ノズル、エゼクタ等を用い水中に細かい水素の
気泡を分散させて溶解させる方法や、吸収塔内に仕切板
や充填物を入れてそれらの表面を水の層で覆うことで吸
収効率を高める方法、さらに気体透過性膜を介して加圧
された水素を供給してこれを水に溶解させる方法（特開
平３−２９３０９２）等がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記のパラジウム触媒
を用いた溶存酸素除去方法では、気体状態の水素は溶存
酸素と反応を起こすことができないので、水素を被処理
水中に溶解させる必要がある。水素溶解方法としては、
従来の散気ノズル、エゼクタ、吸収塔等を用いる方法で
は気体状態の水素と被処理水とを直接接触させて溶解さ
せていた。これらの方法では被処理水中に注入する水素
の溶解効率が悪いため、溶存酸素を充分除去するために
は大過剰な水素を供給する必要があり、このため水中に
は溶解されないで残存する水素ガスが生じる。このた
め、溶解されなかった水素ガスは、次工程のパラジウム
触媒と接触させる工程において気泡となって発生し、し
たがってこの過剰の水素ガスを処理または、回収する設
備が必要となり、設備の増大につながる問題が生じる。
また気体透過性膜を介して加圧された水素を溶解させる
方法では、溶解の効率は上がるが溶解量が水素圧で決定
されるので高圧で水素を供給すると溶解量が過剰とな
り、やはりパラジウム触媒と接触させる工程において水
素の気泡が発生する事態を避けられない。
を用いた溶存酸素除去方法では、気体状態の水素は溶存
酸素と反応を起こすことができないので、水素を被処理
水中に溶解させる必要がある。水素溶解方法としては、
従来の散気ノズル、エゼクタ、吸収塔等を用いる方法で
は気体状態の水素と被処理水とを直接接触させて溶解さ
せていた。これらの方法では被処理水中に注入する水素
の溶解効率が悪いため、溶存酸素を充分除去するために
は大過剰な水素を供給する必要があり、このため水中に
は溶解されないで残存する水素ガスが生じる。このた
め、溶解されなかった水素ガスは、次工程のパラジウム
触媒と接触させる工程において気泡となって発生し、し
たがってこの過剰の水素ガスを処理または、回収する設
備が必要となり、設備の増大につながる問題が生じる。
また気体透過性膜を介して加圧された水素を溶解させる
方法では、溶解の効率は上がるが溶解量が水素圧で決定
されるので高圧で水素を供給すると溶解量が過剰とな
り、やはりパラジウム触媒と接触させる工程において水
素の気泡が発生する事態を避けられない。
【０００５】本発明者は、上記問題を解決するために種
々検討した結果、気体透過性膜を介して、水素ガスを大
気圧よりも低い圧力で被処理水に供給すると、上記問題
を生じることなく水素ガスを被処理水に溶解し得るこ
と、さらに気体透過性膜として気体透過性の中空糸膜モ
ジュールを用い、中空糸内に被処理水を流すようにする
と、極めて効率よく水素ガスを被処理水に溶解し得るこ
とを知得して本発明を完成するに至ったものである。し
たがって、本発明の目的は、処理中に水素ガスの発生を
防止した水中の溶存酸素除去方法を提供することにあ
る。
々検討した結果、気体透過性膜を介して、水素ガスを大
気圧よりも低い圧力で被処理水に供給すると、上記問題
を生じることなく水素ガスを被処理水に溶解し得るこ
と、さらに気体透過性膜として気体透過性の中空糸膜モ
ジュールを用い、中空糸内に被処理水を流すようにする
と、極めて効率よく水素ガスを被処理水に溶解し得るこ
とを知得して本発明を完成するに至ったものである。し
たがって、本発明の目的は、処理中に水素ガスの発生を
防止した水中の溶存酸素除去方法を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、気体透過性膜を介して水素ガスを被処理水
に供給して溶解させた後、パラジウム触媒と接触させる
ことにより被処理水中の溶存酸素を除去する水中の溶存
酸素除去方法において、水素ガスの供給圧力を大気圧よ
りも低くするもので、上記気体透過性膜が気体透過性中
空糸膜モジュールを構成する中空糸で、前記中空糸内に
被処理水を流すと共に、中空糸外に水素ガスを満たして
中空糸膜内を流れる被処理水に水素ガスを供給すること
を含むものである。
に本発明は、気体透過性膜を介して水素ガスを被処理水
に供給して溶解させた後、パラジウム触媒と接触させる
ことにより被処理水中の溶存酸素を除去する水中の溶存
酸素除去方法において、水素ガスの供給圧力を大気圧よ
りも低くするもので、上記気体透過性膜が気体透過性中
空糸膜モジュールを構成する中空糸で、前記中空糸内に
被処理水を流すと共に、中空糸外に水素ガスを満たして
中空糸膜内を流れる被処理水に水素ガスを供給すること
を含むものである。
【０００７】上記中空糸膜モジュールを用いる場合に
は、大気圧よりも減圧された水素ガスが水側へ溶解する
ときに高流速で中空糸内を水が通過するために、水素ガ
スを自給するエゼクター効果に似た現象が起こっている
と推定される。
は、大気圧よりも減圧された水素ガスが水側へ溶解する
ときに高流速で中空糸内を水が通過するために、水素ガ
スを自給するエゼクター効果に似た現象が起こっている
と推定される。
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】本発明において使用する気体透過性膜とし
ては水が透過せずに気体の透過するものであれば、いず
れのものでも使用できる。このような膜としては、例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
製の膜や、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素樹脂製の
膜、さらにはポリスルホン製、シリコンゴム製等の膜が
ある。
ては水が透過せずに気体の透過するものであれば、いず
れのものでも使用できる。このような膜としては、例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
製の膜や、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素樹脂製の
膜、さらにはポリスルホン製、シリコンゴム製等の膜が
ある。
【００１０】また、上記気体透過性膜を中空糸状に形成
したものも好適なもので、形状は特に制限はないが、中
空糸膜の内径は０．１〜１ｍｍ程度のものが好ましい。
長さは１０〜３００ｃｍ、特に５０〜１００ｃｍ程度の
ものが好ましい。
したものも好適なもので、形状は特に制限はないが、中
空糸膜の内径は０．１〜１ｍｍ程度のものが好ましい。
長さは１０〜３００ｃｍ、特に５０〜１００ｃｍ程度の
ものが好ましい。
【００１１】また、特に上記中空糸膜を多数並設してモ
ジュール化したものが好ましい。このものを例示すれ
ば、ＭＪ−５１０Ｐ（オルガノ（株）製）、ＧＭＦ−４
（ジャパン ゴアテックス製）、ＦＨ−１０（ダイセル
（株）製）等がある。
ジュール化したものが好ましい。このものを例示すれ
ば、ＭＪ−５１０Ｐ（オルガノ（株）製）、ＧＭＦ−４
（ジャパン ゴアテックス製）、ＦＨ−１０（ダイセル
（株）製）等がある。
【００１２】上記モジュールを用いる場合には、被処理
水は中空糸内を流すものである。流量としては中空糸膜
の単位膜面積当たり、１０〜１３０ｌ／ｈ・ｃｍ2 が好
ましい。
水は中空糸内を流すものである。流量としては中空糸膜
の単位膜面積当たり、１０〜１３０ｌ／ｈ・ｃｍ2 が好
ましい。
【００１３】本発明においては、上記気体透過性膜を介
して水素ガスを被処理水に供給するものであるが、水素
ガスの圧力は大気圧以下とするものである。具体的には
７５０ｍｍＨｇ〜５０ｍｍＨｇとすることが好ましい。
して水素ガスを被処理水に供給するものであるが、水素
ガスの圧力は大気圧以下とするものである。具体的には
７５０ｍｍＨｇ〜５０ｍｍＨｇとすることが好ましい。
【００１４】上記水素ガス圧力とすることにより、次の
パラジウム触媒と接触させる工程において、被処理水中
に水素の気泡を発生させるといった問題もなく、水素ガ
スを被処理水中に効率よく溶解させることができる。
パラジウム触媒と接触させる工程において、被処理水中
に水素の気泡を発生させるといった問題もなく、水素ガ
スを被処理水中に効率よく溶解させることができる。
【００１５】モジュールへ水素ガスを供給する配管ライ
ン内は、大気圧以上であっても、モジュールの水素ガス
流入部近くに流量調整用バルブを設けて水素ガスのモジ
ュールへの供給量を制限すれば、中空糸膜を介しての被
処理水中への水素の溶解に伴ってモジュール内の水素圧
は大気圧以下に減圧される。
ン内は、大気圧以上であっても、モジュールの水素ガス
流入部近くに流量調整用バルブを設けて水素ガスのモジ
ュールへの供給量を制限すれば、中空糸膜を介しての被
処理水中への水素の溶解に伴ってモジュール内の水素圧
は大気圧以下に減圧される。
【００１６】また本発明で用いるパラジウム触媒として
は、種々の担体上に金属パラジウムを担持させたものが
最適であり、担体としてイオン交換樹脂、活性炭、合成
吸着剤、無機交換体といったものを使用することができ
る。
は、種々の担体上に金属パラジウムを担持させたものが
最適であり、担体としてイオン交換樹脂、活性炭、合成
吸着剤、無機交換体といったものを使用することができ
る。
【００１７】被処理水とパラジウム触媒とを接触させる
方法はいかなる方法でもよいが、一般的にはパラジウム
触媒を充填した塔内に被処理水を連続的に通流させて接
触させる方法を用いるのがよい。
方法はいかなる方法でもよいが、一般的にはパラジウム
触媒を充填した塔内に被処理水を連続的に通流させて接
触させる方法を用いるのがよい。
【００１８】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１９】実施例１ 図１は、本発明の実施に用いる装置の一例を示す概略図
である。図１において溶存酸素濃度２５０μｇ−Ｏ／ｌ
の原水を原水流入部１から３００ｌ／ｈで気体透過性の
中空糸膜９（ただし、図１では１本の中空糸膜を模式的
に示してある）で形成されたモジュール（ＭＪ−５１０
Ｐ）３の中空糸内９ａに導入した。水素ガスを水素ガス
供給管２から２Ｎ−ｍｌ／ｍｉｎ．でモジュール内の中
空糸外９ｂに供給し、中空糸膜９を介して水素を原水に
溶解させた。なお、２ａは供給管２に介装した水素ガス
流量調整バルブである。このとき圧力計４は、膜の非接
液側（モジュール内の中空糸外９ｂ）での水素の圧力を
示し、その値は１６０ｍｍＨｇであった。圧力計５は、
水の圧力を示し２．３ｋｇｆ／ｃｍ2 で、水圧が水素ガ
ス圧よりも高い圧力になっていた。また７は、パラジウ
ムを担持したイオン交換樹脂(AMBERLYST ER-206 ローム
アンドハース社製）で、それを充填した樹脂塔６の上部
で気泡の発生は起こらなかった。パラジウム樹脂７で処
理した処理水出口部８での処理水中の溶存酸素濃度は、
０．９μｇ−Ｏ／ｌであった。
である。図１において溶存酸素濃度２５０μｇ−Ｏ／ｌ
の原水を原水流入部１から３００ｌ／ｈで気体透過性の
中空糸膜９（ただし、図１では１本の中空糸膜を模式的
に示してある）で形成されたモジュール（ＭＪ−５１０
Ｐ）３の中空糸内９ａに導入した。水素ガスを水素ガス
供給管２から２Ｎ−ｍｌ／ｍｉｎ．でモジュール内の中
空糸外９ｂに供給し、中空糸膜９を介して水素を原水に
溶解させた。なお、２ａは供給管２に介装した水素ガス
流量調整バルブである。このとき圧力計４は、膜の非接
液側（モジュール内の中空糸外９ｂ）での水素の圧力を
示し、その値は１６０ｍｍＨｇであった。圧力計５は、
水の圧力を示し２．３ｋｇｆ／ｃｍ2 で、水圧が水素ガ
ス圧よりも高い圧力になっていた。また７は、パラジウ
ムを担持したイオン交換樹脂(AMBERLYST ER-206 ローム
アンドハース社製）で、それを充填した樹脂塔６の上部
で気泡の発生は起こらなかった。パラジウム樹脂７で処
理した処理水出口部８での処理水中の溶存酸素濃度は、
０．９μｇ−Ｏ／ｌであった。
【００２０】実施例２ 実施例１の装置を用いて溶存酸素濃度３６００μｇ−Ｏ
／ｌの原水を３００ｌ／ｈで中空糸膜モジュール３に導
入した。水素ガスを２５．５Ｎ−ｍｌ／ｍｉｎ．で供給
し、中空糸膜９を介して水素を原水に溶解させた。この
とき圧力計４は、モジュール内の中空糸外９ｂでの水素
の圧力を示し、その値は４８０ｍｍＨｇであった。パラ
ジウム樹脂塔６上部での気泡の発生は確認されず、また
処理水の溶存酸素濃度は０．５μｇ−Ｏ／ｌであった。
／ｌの原水を３００ｌ／ｈで中空糸膜モジュール３に導
入した。水素ガスを２５．５Ｎ−ｍｌ／ｍｉｎ．で供給
し、中空糸膜９を介して水素を原水に溶解させた。この
とき圧力計４は、モジュール内の中空糸外９ｂでの水素
の圧力を示し、その値は４８０ｍｍＨｇであった。パラ
ジウム樹脂塔６上部での気泡の発生は確認されず、また
処理水の溶存酸素濃度は０．５μｇ−Ｏ／ｌであった。
【００２１】比較例１ 図２は、本発明の比較例に用いた装置の概略図を示す。
図２において溶存酸素濃度２００μｇ−Ｏ／ｌの原水を
原水流入部１１から３００ｌ／ｈで通水し、エゼクター
１２に水素ガスを水素ガス供給管１３から２Ｎ−ｍｌ／
ｍｉｎ．で供給して水素を原水中に導入したところ、パ
ラジウム樹脂１４(AMBERLYST ER-206)を充填した樹脂塔
１５の上部には気泡が発生した。パラジウム樹脂１４で
処理した処理水出口部１６での溶存酸素濃度は、１５０
μｇ−Ｏ／ｌであった。
図２において溶存酸素濃度２００μｇ−Ｏ／ｌの原水を
原水流入部１１から３００ｌ／ｈで通水し、エゼクター
１２に水素ガスを水素ガス供給管１３から２Ｎ−ｍｌ／
ｍｉｎ．で供給して水素を原水中に導入したところ、パ
ラジウム樹脂１４(AMBERLYST ER-206)を充填した樹脂塔
１５の上部には気泡が発生した。パラジウム樹脂１４で
処理した処理水出口部１６での溶存酸素濃度は、１５０
μｇ−Ｏ／ｌであった。
【００２２】比較例２ 比較例１で用いた装置に、水素ガスを１０Ｎ−ｍｌ／ｍ
ｉｎ．で供給した。このときパラジウム樹脂塔内では大
量の気泡が発生して液面の低下が起こった。また処理水
中の溶存酸素濃度は、９．２μｇ−Ｏ／ｌであった。
ｉｎ．で供給した。このときパラジウム樹脂塔内では大
量の気泡が発生して液面の低下が起こった。また処理水
中の溶存酸素濃度は、９．２μｇ−Ｏ／ｌであった。
【００２３】比較例３ 実施例１の装置を用いて溶存酸素濃度３６００μｇ−Ｏ
／ｌの原水を３００ｌ／ｈでモジュール３に導入した。
水素ガスを圧力計４が、２ｋｇｆ／ｃｍ2 を示すように
して供給したところ、パラジウム樹脂塔上部に気泡が発
生して液面の低下が起こり、最終的に水素ガスが、パラ
ジウム樹脂層の直上に達したので原水の通水を中止し
た。なお、処理水の溶存酸素濃度は０．６μｇ−Ｏ／ｌ
であった。気泡の発生した分を考慮すると水素の供給量
は過剰であった。
／ｌの原水を３００ｌ／ｈでモジュール３に導入した。
水素ガスを圧力計４が、２ｋｇｆ／ｃｍ2 を示すように
して供給したところ、パラジウム樹脂塔上部に気泡が発
生して液面の低下が起こり、最終的に水素ガスが、パラ
ジウム樹脂層の直上に達したので原水の通水を中止し
た。なお、処理水の溶存酸素濃度は０．６μｇ−Ｏ／ｌ
であった。気泡の発生した分を考慮すると水素の供給量
は過剰であった。
【００２４】
【発明の効果】本発明の方法を用いることで（１）水素
を完全に溶解することができるので、効率よく溶存酸素
と水素を反応させることができる、（２）水素を低い圧
力で扱うことができるために安全である、（３）水素を
完全に溶解させることができるためにガス分離塔や水素
ガス処理装置等の設備を設ける必要がなく省スペー
ス、、省コスト化につながる、等の利点がある。
を完全に溶解することができるので、効率よく溶存酸素
と水素を反応させることができる、（２）水素を低い圧
力で扱うことができるために安全である、（３）水素を
完全に溶解させることができるためにガス分離塔や水素
ガス処理装置等の設備を設ける必要がなく省スペー
ス、、省コスト化につながる、等の利点がある。
【図１】本発明の実施に用いる装置の一例を示す概略構
成図である。
成図である。
【図２】比較例に用いた装置を示す概略構成図である。
１ 原水流入部 ２ 水素ガス供給管 ２ａ バルブ ３ モジュール ４ 圧力計 ５ 圧力計 ６ 樹脂塔 ７ パラジウム樹脂 ８ 処理水出口部 ９ 中空糸膜 ９ａ 中空糸内 ９ｂ 中空糸外
Claims (2)
- 【請求項１】 気体透過性膜を介して水素ガスを被処理
水に供給して溶解させた後、パラジウム触媒と接触させ
ることにより被処理水中の溶存酸素を除去する水中の溶
存酸素除去方法において、水素ガスの供給圧力を大気圧
よりも低くすることを特徴とする水中の溶存酸素除去方
法。 - 【請求項２】 気体透過性膜が気体透過性中空糸膜モジ
ュールを構成する中空糸で、前記中空糸内に被処理水を
流すと共に、中空糸外に水素ガスを満たして中空糸内を
流れる被処理水に水素ガスを供給する請求項１記載の水
中の溶存酸素除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4273128A JP3009789B2 (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 水中の溶存酸素除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4273128A JP3009789B2 (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 水中の溶存酸素除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06121990A true JPH06121990A (ja) | 1994-05-06 |
| JP3009789B2 JP3009789B2 (ja) | 2000-02-14 |
Family
ID=17523521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4273128A Expired - Fee Related JP3009789B2 (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 水中の溶存酸素除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3009789B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001038364A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-13 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造供給装置の抗菌方法及び抗菌装置 |
| JP2009140632A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Toshiba Fuel Cell Power Systems Corp | 燃料電池システム |
| JP2010240642A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-10-28 | Japan Organo Co Ltd | 溶存酸素除去水の製造方法、溶存酸素除去水の製造装置、溶存酸素処理槽、超純水の製造方法、水素溶解水の製造方法、水素溶解水の製造装置および電子部品の洗浄方法 |
| US20130233786A1 (en) * | 2012-02-22 | 2013-09-12 | Richard Paul Posa | System and method for treating water |
| CN107879517A (zh) * | 2017-12-14 | 2018-04-06 | 浙江启尔机电技术有限公司 | 一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置 |
| CN118495736A (zh) * | 2024-05-30 | 2024-08-16 | 常州新区南极新技术开发有限公司 | 一种膜-常温氢再生氧化还原树脂除氧装置及除氧方法 |
-
1992
- 1992-10-12 JP JP4273128A patent/JP3009789B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001038364A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-13 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造供給装置の抗菌方法及び抗菌装置 |
| JP2009140632A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Toshiba Fuel Cell Power Systems Corp | 燃料電池システム |
| JP2010240642A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-10-28 | Japan Organo Co Ltd | 溶存酸素除去水の製造方法、溶存酸素除去水の製造装置、溶存酸素処理槽、超純水の製造方法、水素溶解水の製造方法、水素溶解水の製造装置および電子部品の洗浄方法 |
| US20130233786A1 (en) * | 2012-02-22 | 2013-09-12 | Richard Paul Posa | System and method for treating water |
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