JP2865452B2 - 原水中の溶存ガス除去装置 - Google Patents

原水中の溶存ガス除去装置

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  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は工業用水、純水、超純水
等の原水中に溶解している酸素ガスや窒素ガスのような
溶存ガスを可能な限り取り除く原水中の溶存ガス除去装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】産業界では種々の形態で水が使用されて
いるが、腐蝕防止や水温上昇に伴う発泡の防止のため
に、水中に溶解している溶存ガスの量を低減することが
望まれている。たとえば、酸素ガスについては半導体製
造業界でシリコン基板を洗浄する際にいわゆる超純水で
ある洗浄水中に酸素ガスが溶存していると表面上に不必
要な自然酸化膜が生成することが明らかにされていると
共に、洗浄水中に酸素ガスや窒素ガスが溶解している
と、半導体ウエハー上に形成されている通常トレンチと
呼ばれる極めて狭小な溝内に存在する空気が障害となっ
て当該洗浄水がトレンチ内に入ることができず、その結
果洗浄が不完全になるという問題点がある。すなわち、
溶存ガスを実質的に含まない洗浄水を用いた場合には、
トレンチ内に存在する空気が洗浄水中に吸収されるた
め、トレンチ内に洗浄水が入り込むことができるのであ
るが、洗浄水中にガスが既にほぼ飽和近くまで溶解して
いる場合には、トレンチ内の空気を吸収することができ
ず洗浄が不完全なものとなるのである。このことは、最
近半導体ウエハーの集積度の上昇に伴いアスペクト比
(トレンチの深さ/幅の比)が次第に高くなる、つまり
トレンチの幅が益々狭小となる傾向にあるので一層重要
である。
【0003】また、酸素ガス、窒素ガスについては例え
ば医療分野で血液の自動分析装置に使用する水中にガス
が存在していると、温度変化等によって分析用カラム中
に発生した気泡が流路を塞ぎ、カラム内で流れが阻害さ
れるという問題点がある。さらに、炭酸ガスについては
陰イオン交換樹脂の負荷になり寿命の低下を招いたり、
抵抗率上昇の妨げになる。
【0004】そこで、従来より原水中の溶存ガスを取り
除くことが行われており、炭酸ガスについては気曝法や
アルカリ剤吸収法等により除去を行っている。また、酸
素ガスについては真空脱気法や加熱脱気法により除去を
行っている。そして、プロセスの途中で上記のような処
理を行った後の原水貯槽内は通常窒素ガスでシールし、
既に除去したガスの再溶解が起こらないように工夫して
いる。しかしこの方法によると、今度は原水中に窒素ガ
スが飽和状態の近くまで溶解することとなり、原水中の
溶存ガス量を低減することはきわめて困難なことであっ
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記したように、従来
は脱ガス処理を行った原水を窒素ガスでシールする関係
上、原水貯槽内の原水には窒素ガスが飽和状態の近くま
で溶存することになるという問題点があった。窒素ガス
の溶解した原水を半導体ウエハーの洗浄水として使用す
ると、トレンチ内に存在する空気のため洗浄水が当該ト
レンチ内に入り込めず、洗浄が不完全になることは前記
したとおりである。また、血液の自動分析装置に使用す
る水中に窒素ガスが存在していると、前記したように分
析用カラム中に発生した気泡が流路を塞ぎ、カラム内で
流れが阻害されるという問題点がある。
【0006】そこで、本発明者らは半導体ウエハーの洗
浄水や、血液自動分析装置に使用する用水として相応し
い溶存ガスを実質的に含まない原水を得るべく種々検討
した結果、原水中の溶存ガス量は気体の分圧に比例する
ということに着目し、窒素や炭酸ガス等の溶存ガスを含
む原水中に強制的に酸素ガスを吹き込み、酸素ガス以外
の窒素ガスや炭酸ガス等を除去した後、酸素ガスを多量
に含んだ原水を、脱酸素用イオン交換樹脂装置で処理す
ることにより溶存酸素ガスを除去するようにすれば、き
わめて溶存ガスの少ない水を得ることができることを見
出し本発明をなすに至ったものである。
【0007】従って、本発明は原水中に溶存している酸
素ガス以外の溶存ガスを一旦酸素ガスと置換することに
より除去すると共に、今度は原水中の溶存酸素ガスを脱
酸素用イオン交換樹脂装置により取り除くようにした原
水中の溶存ガス除去装置を提供することを目的とするも
のである。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明装置の構成を詳述すれば、窒素、酸素、炭酸ガ
ス等の溶存ガスを含む原水に酸素ガスを接触させること
により、原水中に溶存している酸素ガス以外の気体を除
去する気液接触装置と、当該気液接触装置で処理され酸
素ガスを多量に含んだ原水中の溶存酸素ガスを除去する
脱酸素用イオン交換樹脂装置とから構成されることを特
徴とする原水中の溶存ガス除去装置である。なお、窒素
ガスは不活性であるから、イオン交換樹脂装置によって
これを取り除くのは困難であるが、酸素ガスの場合には
イオン交換樹脂装置によってこれを容易に除去すること
ができる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の具体的構成を図示の実施例に
基づき詳細に説明する。図1は本発明装置の一実施例を
示すフロー図であり、図中10は原水に酸素ガスを接触
させるための気液接触装置である。本実施例の気液接触
装置10は、原水の流入管2および流出管3を有する原
水槽1内の下方位置に酸素ガス吹出管4を付設した構造
をなしている。5は当該酸素ガス吹出管4に酸素ガスを
供給する送気管、6は原水槽1の上部に設けた排気管、
7は前記流出管3の先端部に付設した脱酸素用イオン交
換樹脂装置、8は流出管3の管路中に挿着した送水ポン
プ、9は前記脱酸素用イオン交換樹脂装置7によって脱
ガス処理された処理水を各ユースポイントまで送る供給
管である。
【0010】なお、原水槽1内に吹き出す酸素ガスとし
ては、ガスボンベ内に充填された純酸素ガスとしてもよ
いし、あるいは空気を原料として酸素ガスを生成する圧
力スイング式酸素ガス発生装置等から得られる酸素濃度
が90%以上というような高濃度酸素ガスを用いるよう
にしてもよいものである。前記脱酸素用イオン交換樹脂
装置7においては、例えば内部に充填されている還元性
の銅を保持させた弱塩基性アニオン交換樹脂からなる脱
酸素樹脂に原水が接触することにより、その強力な還元
作用によって原水中の溶存酸素ガスが除去され、溶存酸
素ガス濃度がたとえば5ppb以下というような実質的
に酸素ガスを含まない処理水が得られるものである。
【0011】脱酸素用イオン交換樹脂装置7に用いる脱
酸素樹脂としては、前記した弱塩基性アニオン交換樹脂
に還元性の銅(1価の銅または金属銅)を保持させたも
ののほか、強塩基性アニオン交換樹脂を亜硫酸形または
酸性亜硫酸形としたもの、あるいは強塩基性アニオン交
換樹脂の表面にパラジウムを担持させたものなどが好適
に用いられる。上記例の脱酸素樹脂のうち、還元性の銅
を保持させた弱塩基性アニオン交換樹脂と、亜硫酸形あ
るいは酸性亜硫酸形の強塩基性アニオン交換樹脂は、還
元性の銅あるいは亜硫酸、酸性亜硫酸の還元作用によっ
て原水中の溶存酸素ガスを除去するものであり、原水を
これらの樹脂に単に接触させるだけで溶存酸素ガスを除
去することができる。しかし、強塩基性アニオン交換樹
脂の表面にパラジウムを担持させた脱酸素樹脂の場合
は、原水中の溶存酸素ガスと外部より溶解させた水素ガ
スとを、前記パラジウムを触媒として反応させて水とな
すことによって溶存酸素ガスを除去するものであり、し
たがって、この場合には反応させるべき水素ガスを外部
より添加、溶解させた後に脱酸素樹脂と接触させなけれ
ばならないものである。
【0012】次に、本実施例の作用につき述べれば、先
ず、流入管2を通じて原水槽1内に一定のレベルで原水
が供給される。そして、送気管5を通じて酸素ガスが原
水槽1内に供給され、酸素ガス吹出管4に穿設された小
孔より原水中に酸素ガスが吹き出す。原水中に溶解して
いる酸素ガス以外の窒素ガスや炭酸ガスは、吹き込まれ
た酸素ガスと置換されて原水槽1内の上部空間に立ち上
ってくる。原水中から分離した酸素ガス以外の溶存ガス
は原水槽1の上部に設けられた排気管6を通じて外部に
排出される。なお、排気管6には自動開閉弁等が付設さ
れているが、図面上は省略してある。酸素ガス吹出管4
からの酸素ガスの曝気により、酸素ガス以外の溶存ガス
の除去された原水は原水槽1の下方部に接続された流出
管3を通じて次段の脱酸素用イオン交換樹脂装置7に送
られ、ここで前記したように酸素ガスが除去される。そ
して、脱酸素用イオン交換樹脂装置7によって脱ガス処
理された処理水は、供給管9を通じて各ユースポイント
まで送られる。なお、本発明に使用する気液接触装置と
しては、上述の実施例に示したものに限定されるもので
はなく、例えば塔内にラシヒリング等の充填材を充填
し、当該塔の上部より原水を流入させるとともに、塔底
部より酸素ガスを吹き込むことによって気液接触を行わ
せるものなど、従来公知の気液接触装置をすべて使用す
ることができる。
【0013】
【発明の効果】本発明装置は以上のような構成・作用か
らなり、原水中に溶解している窒素ガス、酸素ガスや炭
酸ガスなどの溶存ガスを極めて効率よく取り除くことが
でき、半導体ウエハーの洗浄水や、血液自動分析装置で
使用する用水として好適な溶存ガスを実質的に含まない
原水を比較的安価に提供することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置の一実施例を示すフロー図である。
【符号の説明】
1:原水槽 2:原水の流入
管 3:原水の流出管 4:酸素ガス吹
出管 5:送気管 6:排気管 7:脱酸素用イオン交換樹脂装置 8:送水ポンプ 9:供給管 10:気液接触装
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C02F 1/20 B01D 19/00 C02F 1/58

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒素、酸素、炭酸ガス等の溶存ガスを含
    む原水に酸素ガスを接触させることにより、原水中に溶
    存している酸素ガス以外の気体を除去する気液接触装置
    と、当該気液接触装置で処理され酸素ガスを多量に含ん
    だ原水中の溶存酸素ガスを除去する脱酸素用イオン交換
    樹脂装置とから構成されることを特徴とする原水中の溶
    存ガス除去装置。
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