JPH05220480A

JPH05220480A - 純水製造装置

Info

Publication number: JPH05220480A
Application number: JP4057510A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Ochi; 康夫越智; Seiichi Taneda; 誠一種田
Original assignee: Miura Co Ltd
Current assignee: Miura Co Ltd
Priority date: 1992-02-10
Filing date: 1992-02-10
Publication date: 1993-08-31

Abstract

(57)【要約】【目的】アルカリ薬品を用いず、安全に且つ効果的に
水中の炭酸ガスを除去して、高純度の純水を効率良く製
造可能な純水製造装置を提供することを目的とする。【構成】原水中の溶解塩及びシリカ分等を除去する逆
浸透膜装置(1) と、原水中の溶存気体を気体透過膜を通
して真空吸引する膜式脱気装置(2) とを直列に接続し、
膜式脱気装置(2) を逆浸透膜装置(1) の上流位置に配置
した構成。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体の洗浄等に用
いる高純度の純水を製造するための、純水製造装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体等の電子技術の発達に伴
い、その洗浄水として用いられる純水も、より高純度の
もの（電気伝導度１ＭΩ・cm以上）が要求されるように
なってきているが、一般に、純水製造装置としては、逆
浸透膜を利用したものが多く用いられている。逆浸透膜
の、溶媒は通すが溶質は透過させないという性質を利用
して、原水の浸透圧より高い圧力をかけて、溶媒として
の水だけを選択的に透過採取するようにしたものであ
る。逆浸透膜を利用した純水製造装置には、次のような
長所がある。１）イオン交換樹脂を用いた純水装置のような再生工程
がない（連続運転ができ水質の変動も少ない）。２）イオン交換のような再生時の排水がないため排水処
理が不要（薬品使用による危険性がなく、取り扱いの手
間がかからない。設備もコンパクト）。３）イオン交換では取れない、コロイド・微粒子・シリ
カを除去することができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電気伝
導度１ＭΩ・cm以上という高純度レベルの純水を実現し
ようとするときには、水中の炭酸ガスの存在が障害にな
る。逆浸透膜では水中の炭酸ガスを除去することができ
ず、又、炭酸ガスの存在下では、逆浸透膜の特性上、溶
質除去率が低下してしまうからである。そこで、その対
策として、苛性ソーダ注入により、炭酸ガスを重炭酸イ
オンと炭酸イオンに解離し、逆浸透膜にて除去可能な形
にする方法がとられているが、この方法は、アルカリ薬
品を使用するため次のような問題点がある。１）薬品の取り扱いの危険性。２）薬品の補充の手間がかかる。３）薬品を注入することで原水の電気伝導度が上がり、
その分、処理水質の電気伝導度も上昇する。

【０００４】

【課題を解決するための手段】この発明は、上述の課題
に鑑みて為されたもので、アルカリ薬品を用いず、安全
に且つ効果的に水中の炭酸ガスを除去して、高純度の純
水を効率良く製造可能な純水製造装置を提供することを
目的としている。具体的には、原水中の溶解塩及びシリ
カ分等を除去する逆浸透膜装置と、原水中の溶存気体を
気体透過膜を通して真空吸引する膜式脱気装置とを直列
に接続し、膜式脱気装置を逆浸透膜装置の上流位置に配
置したことを特徴としている。

【０００５】

【作用】上述の構成によれば、上流位置に配置した膜式
脱気装置により、まず原水中の溶存気体（特に炭酸ガ
ス）を除去し、その後、前記膜式脱気装置の下流位置に
配置した逆浸透膜装置により、原水中の溶解塩及びシリ
カ分等を除去することができ、水中の溶存気体（特に炭
酸ガス）の存在に伴う悪影響を防止して、より高純度の
純水を製造することができる。

【０００６】

【実施例】以下、この発明の好ましい実施例を図面に基
づいて説明する。図中(1) は逆浸透膜装置で、その上流
位置に配置した加圧ポンプ(3) の作用により、原水の浸
透圧より高い圧力をかけて原水中の溶解塩及びシリカ分
等を除去するようにしている。(4) は逆浸透膜装置(1)
に接続した排水ラインで、除去された溶解塩及びシリカ
分等を濃縮水として排出する働きをする。(2) は膜式脱
気装置で、気体透過膜を備え、この気体透過膜を通して
原水中の溶存気体を真空吸引するようになっている。
(5) は真空ポンプで、前記膜式脱気装置(2) に接続して
いる。逆浸透膜装置(1) と膜式脱気装置(2) とは直列に
接続し、膜式脱気装置(2) を逆浸透膜装置(1) の上流位
置に配置している。このような構成により、逆浸透膜装
置(1) の上流位置において、膜式脱気装置(2) で原水中
の溶存気体、特に炭酸ガスを除去し、次工程の逆浸透膜
装置(1) での原水中の不純物除去を効率良く行うことが
できるようになっている。又、アルカリ薬品を用いず、
膜式脱気装置(2) を用いることにより、安全性に優れ、
薬品補充作業の手間も全く不要になる。

【０００７】図２に示す実施例は、逆浸透膜装置として
第１逆浸透膜装置(11)及び第２逆浸透膜装置(12)の２つ
を設けた構成で、両者を直列に接続している。このよう
に２段式の構成とし、前段で処理した水を後段に通して
再度処理することにより、より高純度の純水製造が可能
になる。同図においては、膜式脱気装置(2) を、前記第
１逆浸透膜装置(11)と前記第２逆浸透膜装置(12)との間
に挿入した構成になっているが、これは、より電気伝導
度が低下している第２逆浸透膜装置(12)の方が水中の炭
酸ガスの影響が大きいため、この第２逆浸透膜装置(12)
の上流位置に膜式脱気装置(2) を設置している。膜式脱
気装置(2) の設置位置としては、第１逆浸透膜装置(11)
の上流位置にも設定可能である。

【０００８】第１逆浸透膜装置(11)の排水ライン(13)に
は、エゼクター(6) を挿入してあり、このエゼクター
(6) に前記膜式脱気装置(2) の真空排気ライン(7) を接
続している。この構成によれば、第１逆浸透膜装置(11)
の排水のエネルギーにより、膜式脱気装置(2) の真空吸
引作用を行うことができる。(8) は第２逆浸透膜装置(1
2)の排水ラインで、その先端部を第１逆浸透膜装置(11)
の上流位置に接続して、循環ラインを形成している。

【０００９】

【発明の効果】この発明は、以上のような構成であるの
で、膜式脱気装置により水中の溶存気体、特に炭酸ガス
を除去し、その下流位置に設置した逆浸透膜装置におい
て、高純度の純水を効率良く製造することができる。水
中の炭酸ガスの除去に際して、従来のようなアルカリ薬
品を用いないため、安全性に優れ、薬品補充作業等の手
間も全く不要になり、運転管理上格段に優れた純水製造
装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明における一実施例を示す系統図であ
る。

【図２】この発明の別の実施例を示す系統図である。

【符号の説明】

１逆浸透膜装置２膜式脱気装置 11 第１逆浸透膜装置 12 第２逆浸透膜装置

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０２Ｆ 9/00 Ｚ 8515−4Ｄ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】原水中の溶解塩及びシリカ分等を除去す
る逆浸透膜装置(1)と、原水中の溶存気体を気体透過膜
を通して真空吸引する膜式脱気装置(2) とを直列に接続
し、膜式脱気装置(2) を逆浸透膜装置(1) の上流位置に
配置したことを特徴とする純水製造装置。
【請求項２】原水中の溶解塩及びシリカ分等を除去す
る第１逆浸透膜装置(11)と第２逆浸透膜装置(12)とを設
け、両者を直列に接続するとともに、原水中の溶存気体
を気体透過膜を通して真空吸引する膜式脱気装置(2)
を、前記第１逆浸透膜装置(11)と前記第２逆浸透膜装置
(12)との間に挿入したことを特徴とする純水製造装置。