JPH10512058A - 不感圧性液晶セル - Google Patents

不感圧性液晶セル

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JPH10512058A JP8517538A JP51753896A JPH10512058A JP H10512058 A JPH10512058 A JP H10512058A JP 8517538 A JP8517538 A JP 8517538A JP 51753896 A JP51753896 A JP 51753896A JP H10512058 A JPH10512058 A JP H10512058A
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ティー. ラガーウォール,スベン
エイ. ムラフスキー,アナトリー
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エイ. コノバロフ,ビクトール
エイ. ミンコ,アナトーリ
ピー. ツターレフ,バレリ
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エーエムテー、アクチエンゲゼルシャフト
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Abstract

(57)【要約】 本発明は実質的に圧力の影響を受けない不感圧性液晶セルに関する。電極を備えた(5,6)プレート(1,2)は互いに所定距離を隔てて配置され、厚みdの液晶層を形成する。少なくとも第1プレート(1)は透明性であり、1mmを超えない厚みbと弾性率Eを有する。キャビティに固定され、高さhを持つスペーサ(11)は、間隔Lで分散され、実質的に前記第1プレートと同一の弾性率Eを持つ。スペーサ(11)は少なくとも一方向に50μmを超えない幅を持つ。前記第1プレート(1)のスペーサ(11)の支持領域による表面網羅度sは、液晶の種類による最小値を超えるか、またはそれに等しい。Lはdとbの現在値の従属値により選択され、第1プレート(1)に圧力Pをかける際、圧力Pにより発生した、スペーサ間の前記第1プレートの、最大相対偏差Δd/dが条件(A):Δd/d=PL4/4Eb3d≦−Gを満たし、ここでGは式(B)の値に等しく、同一圧力Pにより発生したスペーサの相対圧縮率を表し、表面網羅度sが上記の最小値(B):Δh/h=P/sEとする。

Description

【発明の詳細な説明】 不感圧性液晶セル 本発明は、一般的には、互いに所定距離を隔てて配置され内部キャビティを形 成する電極を備えた2枚のプレートと、キャビティにシールされた液晶層と、キ ャビティに分散され液晶層の厚みに相当する高さのスペーサとを備えた液晶セル に関する。 更に詳細には、本発明は、実質的に外部圧力の影響を受けない液晶セルに関す る。 本発明は、ディスプレイ、非反射装置(ノングレア装置)、溶接用ゴーグルな どのセルの大型活性面を必要とする用途に特に有用なものである。したがって、 本発明の背景技術と利点は、主にディスプレイに関して記述されており、本発明 の産業上の利用分野、または請求の範囲のいずれかに限定されるべきものではな い。 冒頭に記述した種類の液晶セルまたはディスプレイは、従来技術において知ら れているところである。一方または両方のプレートがガラスなどの透過材で製造 され、プレートに適用された少なくとも1つの電極構造もまた透過性である。さ らに従来的に、界面層の液晶分子をプレートに配列する配向層がある。 印加された電界の影響下で、液晶材は入射光の方向に対して局部的に方向を変 えることができ、伝送光または反射光の偏光、吸収、または散乱に影響を及ぼす 。セルの一方または両側に偏光子を適用することによって、偏光の変化を観察す ることができる。 通常、光学効果は液晶層の厚みに作用するが、厚みの局部変化がディスプレイ の性能に極めて大きな悪影響を及ぼし、最悪の場合は液晶層の厚みの変化により 完全に役立たなくってしまうことさえある。 最も一般的に使用される液晶ディスプレイには、正誘電異方性を備えたネマチ ックまたはキラルネマチック液晶が内蔵されている。これらのディスプレイでは 、液晶材の光軸が最も多くプレートに対して平行になり、また必要に応じて液晶 層を通じて、最も一般的には90度にねじられる。この、いわゆる導波路モードに おいて、入射光の偏光はシステムの局部固有モードのうちの1つに完全に、また はほぼ相当する。液晶層に電界を印加すると、液晶材の光軸は電界に沿って再配 向され、入射光の偏光が液晶により影響されなくなる。 さらに、液晶ディスプレイは、導波路モードに基づいておらず、その代わりに 光の変調が入射光の偏光の一般変化による、他の様々な電気光学効果で動作する ことができる。光学性がこの効果に基づくディスプレイは一般に、液晶層の厚み の変化に、また最終的にはプレートの相互間隔の変化に非常に左右される。 液晶層の厚みは一般に、色彩だけでなく、セルの電圧対コントラストの依存性 やアクセス可能な最大コントラスト、他のパラメータにも影響する。 米国特許第4653865号明細書に記述されているように、薄型TNディス プレイ(ツイストネマチック)とSTNディスプレイ(スーパーツイストネマチ ック)において、特に後者のツイスト角が270度以上になる場合は特に、液晶 層の一定厚みを維持することが重要である。切換速度を増すため、4μm未満の 薄型液晶層へ移行しつつあるので、液晶層の一定厚みはTN及びSTNディスプ レイに対してますます重要な要求技術となってきた。このディスプレイは導波路 モードでは動作せず、光伝送は厚みが少しでも変化すると非常に影響する。 もう一つの問題は、ディスプレイ面全体にわたってプレートを平行に維持する 方法と、ディスプレイの剛性への対処方法である。機械応力や温度によりプレー ト間隔が変化すると、液晶材のマクロフローに繋がり、その結果としてプレート の内側の配向層を損傷することがある。プレート間隔を減少すると、ディスプレ イの局部短絡を伴い、液晶ディスプレイの最初のプレート間隔が減少するに従っ て、この発生危険率が増加する。 親指などの外部圧力が取り除かれた後、TNセルが通常の光学状態に頻繁に戻 るということは事実である。一般にこのことはまた、ツイスト角があまり大きく なく、例えば180度から200度であり、270度といったような大きな角度 ではないという条件で、また圧力変形がヘリックス構造に変化を生じ、容易に元 に戻らない場合、STNディスプレイに適用される。 せいぜい、再配列はディスプレイの加熱冷却によって、さらには電界を印加す ることによって達成される。 結論として言えば、ツイスト角が大きいSTNディスプレイは、外部圧力を受 けると容易に損傷する。 強誘電性(FLC)または反強誘電性(AFLC)液晶を含むスメクチックデ ィスプレイの機械圧力によって起こる損傷の問題は、例えばS.T.Lager wall,N.A.Clark,及びJ.F.Clercの論文(「Ferro eelectrics(強誘電体)」第94巻,1989年3月)により記述さ れているように、今日の大きな問題である。特定スメクチック材の性質に関係無 く、液晶層がセルプレートに対して平行でないスメクチックディスプレイは、全 てプレート変形に非常に大きな影響を受け、また衝撃に左右される。 スメクチックディスプレイは、TN型及びSTN型と比較して許容変形を制限 する、完全に異なる機構を使用する。スメクチックディスプレイは一般に、対応 するネマチックディスプレイよりもはるかに衝撃の影響を受ける。第1近似法で は、液晶層はガラスプレート(理想的な直立式ブックシェルフ形状)に対して垂 直に立つが、詳細なモデルでは、液晶層はいわゆる山形構造のガラスプレートに 対してきわめてしばしば傾く。この構造は、プレートの垂線に対して液晶層の角 度が非常に小さい場合、QBS構造(準ブックシェルフ構造)と呼ばれる。山形 及びQBS構造は両方とも圧力の影響を大きく受け、FLC及びAFLCの両方 にとって、液晶層構造の配列は、親指で直接圧力をかけることによって損傷する 。 山形構造は通常、加熱無しには再配列されず、一方、過剰に変形していないQ BS構造は適度にAC領域を使用することにより再配列される。しかし、ある一 定の変形限度を超えて、液晶層の配列は山形構造のように元に戻せないほど損傷 する。そしてディスプレイは使用不可能になる。 液晶セルが比較的広い表面に明確に規定した液晶層の厚みを有するようにする ため、キャビティに分散された複数のスペーサまたは支点を持つ、プレストレス を与えた3mmのガラスプレートを使用することが、米国特許第4150878 号(1978年、Barzilaiらの名義で出願)明細書により公知である。 スペーサの機能は主に、面全体に均一な液晶層の厚み、いわゆる正確な面の平行 度を提供することにある。第1例では、2mmの相互間隔で分散された直径50 μmの円筒スペーサを使用することであり、面の平行度が10cmx10cmの 面に0.1μmから0.6μmの公差を有すると言われている。同明細書の第2 例では、相互間隔が1mmの直径0.1mmのスペーサを使用することであり、 公差が0.2μmの面の平行度が与えられると言われている。しかし、これらの 公差は今日の液晶ディスプレイ(1978年のSTNでもなくFLCでもない) にとって不十分であって受け入れられるものではない。さらに、公知のこの画面 のスペーサは、以下さらに詳述するように、圧力の影響を受けないディスプレイ とはならない。3mmのプレートの厚みとスペーサの直径は両方とも、商用的に は受け入れ困難である。 欧州特許出願公開第0407993号(1989年優先、出願人Hoechs t AG)明細書では、LCDセルの製造方法について記述されている。液晶層 の厚みの高均一度を達成するため、均一に分散されたスペーサは1枚のガラスプ レートでエッチングされる。本明細書では、セルの変形特性についての説明、な らびに液晶セルが「機械的に極めて安定」であるという、未確認の記述について 述べられていない。しかし、液晶セルは米国のAnaheimで1991年5月 6日から10日に行われたSID会議でRiegerらのProc.で説明され ている。また液晶セルは様々な会議で説明され、その機械特性は公知となってい る。前述した記事及び公的文書から、液晶セルは親指の圧力で容易に変形すると いうことが明らかとなっている。EP文書及び前記記事の両方から、プレートの 厚みは0.5mmで、スペーサのサイズが約20μm、かつ600μmの間隔で 分散されるということが明らかとなっている。 今まで製造かつ説明されたディスプレイは、保護ガラスに局所的にかけられた 機械圧力、例えば親指の圧力によりセルを変形させ、液晶セルに光学変化と材料 フローの両方を発生するという点で、機械的に剛性または耐衝撃性のものではな い。これは液晶セル、特に技術的に高度のFLC及びAFLCディスプレイに向 けての開発が妨げられたスメクチック液晶セルにおける一般的な問題である。 例えば約3mm以上の厚型プレートを使用するという、圧力の影響を受けない 不感圧性のディスプレイを得る最も直接的な方法は、今日の薄型LCDセルにと って非現実的である。今日一般に使用される最大厚みは1mmであり、厚型プレ ートは完全に使用されなくなっている。また現在、0.9mm、0.6mm、0 .5mm、及び0.3mmの厚さがあり、後者の寸法はこれまで超小型のディス プレイにのみ使用されてきた。 本発明の目的は、現在使用されている液晶セル、特に比較的大型の活性面を有 するセルに起きる、これらの問題を除去することにある。 本発明の主な目的は、通常発生する機械的影響、例えば取扱い中や輸送時に本 質的に影響を受けない、冒頭に述べた型の液晶セルを提供することにある。 本発明のさらなる目的は、ネマチック(TN/ST)及びスメクチック(FL C/AFLC)液晶の両方に使用可能な、不感圧性セルを提供することにある。 本発明の別の目的は、確実かつ正確な方法で製造できる不感圧性セルを提供す ることにある。 本発明の別の目的は、少なくともVGA解像度を有するディスプレイとして実 装できる圧力の影響を受けないセルを提供することにある。 本発明の更なる目的は、ノングレア装置、溶接用シールドなどとして実装され る不感圧性セルを提供することにある。 これら及び他の目的と利点は、独立請求項および従属請求項に記載された好ま しい実施の形態で記述される特徴を有する液晶セルにより達成される。 本発明によれば、冒頭に記載した型の液晶セルにおいて、キャビティに設けら れたスペーサのサイズ及び相互間隔が液晶セルの他の設計パラメータに関連して 選択されるため、液晶セルは圧力の影響を受けず、一方同時にプレートの厚みが 制限され、スペーサは裸眼では見えない。 本発明によれば、ディスプレイ、非反射装置(ノングレア装置)、溶接用ゴー グルなどとして実装され、上述の先行技術と比較して機械剛性と耐衝撃について の極めて驚くほど高度に改良された液晶セルを提供することが可能である。例え ば、本発明は、今日のディスプレイより100倍以上の耐圧力性を有するSTN ディスプレイとして実装され、基本的にディスプレイがガラス製の場合、破損す るまで、機械的影響に基づき完全固体として動作するよう設計できるということ を意味している。 本発明は幾つかの条件が同時に上述の目的を達成するよう満たされるものでな くてはならず、特に超薄型液晶層の場合や、超薄型プレートを使用することによ り、これらの条件を同時に達成させることが、設計パラメータを適切に選択する ことによって可能になるといった概念に基づいている。 本発明の概念に関連して、以下の2つの主な条件(i)及び(ii)を確立し ているが、適正な限度内における加圧時、液晶層が非許容度まで圧縮されないよ うにするため、すなわち不感圧性ディスプレイとなるよう、この両方の条件が満 たされるものでなくてはならない。条件(i)及び(ii)は独立して満たされ なくてはならず、同等に重要なものである。 (i)第1プレートの外部圧力により発生したスペーサの相対圧縮率が最大値を 超えないこと。 (ii)スペーサ間の前記第1プレートの最大偏差が同一限度内にあること。 本発明を構想する時、以下の2つの式(1)及び(2)が確立されているが、 上述の条件に一致しており、特に式(2)ではまた超薄型プレートで達成される 、剛性についての驚くべき改良点が説明されている。 ここで、 hは、スペーサの高さを表し、 Δhは、スペーサの高さの変化率を表し、 Pは、セルの第1プレートの外部圧力を表し、 Eは、スペーサの弾性率を表し、 sは、第1プレートのスペーサの表面網羅度を表す。 さらに、 dは、液晶層の厚みを表し、 Δdは、プレートの最大偏差を表し、 Lは、スペーサの相互間隔を表し、 Eは、プレートの弾性率(通常スペーサと同じ)を表し、 bは、プレートの厚みを表す。 式(1)は長方形スペーサ用に確立されており、下記に述べるように最も利点 がある。 しかし上述の条件に付け加えて、スペーサの幅とプレートの厚みの両方に関す る重要な二次条件がある。これらの二次条件もまた満たされなくてはならない。 実際、表面網羅度sが十分大となるよう選択した場合、例えば非常に幅が広く、 非常に密接に実装されたスペーサを選択した場合、スペーサΔh/hの相対圧縮 率が無限に小さくなり、またプレートの厚みbが大となるよう選択した場合、プ レートΔd/dの相対偏差が必要に応じて小さくなるということが、上記(1) 及び(2)式から自明である。言い換えれば、この問題は十分小さい支点と十分 薄いプレートの厚みを有する不感圧性ディスプレイを提供することにある。実際 、これらの二次条件はディスプレイの他の設計パラメータの許容限度について非 常に制限的なものである。 本発明の概念に関連して、本発明者はSTNディスプレイ、またいわゆる第1 最小モードで動作するTNディスプレイにおいて、ディスプレイの機能障害を回 避する場合、液晶層の相対厚み変化率が2%を超えてはならないということを発 見した。 今日、STNディスプレイは、例えば1mm当たり3ピクセル以上の解像度、 すなわち約300μmx300μmの最大ピクセル表面にて製造され、10イン チ(25.4cm)型ディスプレイのVGAグラフィックスに相当する。この場 合、ディスプレイの活性面の容認されない大部分を占めるだけでなく、裸眼で見 えるため、サイズが100μmx100μmのスペーサは認められない。 本発明の目的を達成するため、50μmx50μmのスペーサは、このサイズ が適正な上限値であることが発見されているため使用でき、裸眼でディスプレイ の不均等性を識別することが可能である。実際、この50μmの極限値は、液晶 ディスプレイの各ピクセルを取り囲む、エッチングされた絶縁溝の幅に対する標 準上限値に相当する。言い換えれば、1方向に50μmの最大幅を持つスペーサ は、ディスプレイの活性ピクセル外でこれらの間の空間に配置される。 スペーサのサイズに関連する二次条件については、液晶セルがピクセルに分割 されない場合、例えば遮光板、ノングレア装置、溶接用シールドなどとして用い る場合、スペーサは裸眼では見えず、またはセルの不均等性として感知されると いうことが更に重要となることに注目すべきである。 更に、スペーサに光の最小散乱効果、すなわち吸収作用、液晶に対応する屈折 率、及び透過カバープレートを備えるのがよい。 プレートの厚みに関する二次条件については、本発明は、少なくとも1枚のプ レート(外部圧力に耐える)の厚みが1mmを超えず、LCD用の市販ガラスに 対する適正な上限値である液晶セルを利用する。また、上述の米国特許第415 0878号明細書に記述された厚みが3mmなどの厚いガラスの場合、ガラスが 正確に噛み合うほど十分に変形されないため、申し分なく高精度な液晶層の厚み を得ることは不可能である。 上述のように、本発明を使用して、公知のディスプレイと比較して機械剛性を 極めて高度に改良することができる。この改良点が取るに足らないものではなく 、全くセンセーショナルなものであるということは、上記式(2)に関して少な からず説明でき、スペーサ間の最大相対偏差Δd/dがL4-3という形を有す る相関関係に従うということが明らかである。L4従属値は、原点に近づくよう に非常に平坦な曲線で表される。 図示の例として、上述の欧州特許出願公開0407993号明細書で述べられ ている、L=600μmとB=0.5mmのセルで比較を行うことができる。本 発明によれば、L=300μm(1/2ずつ減少)と、b=1mm(2ずつ増加 ) を選択した場合、Δdが公知のセルと比較して27=128ずつ減少する。 このL4-3従属値はまた、ディスプレイ使用に非常に本質的な別の特性を与 え、すなわち解像度(低域L)が高いほどディスプレイは剛性になり、一方同時 に、Lとbの両方が減少する際、L4はb-3より早く減少するため、薄型プレー トが条件(2)から逸脱せずに選択され、同時に条件(1)としてのこれは、ピ クセル間の不活性面の許容幅で満たされる。この本発明の方法により、小型で、 超薄型、軽量の高解像度グラフィックディスプレイが製造でき、とりわけ時計学 及び光学産業、例えばカスケードに多数の液晶コンポーネントが内蔵される光学 機器に役立つ。この使用例では、従来の方法で設計された場合、通常の取扱いで 衝撃の影響を受けてしまう程非常に薄い独立コンポーネントを有することが往々 にして望ましい。 外部圧力Pの適正な上限値は、1cm2当たり50kgの重量に対応する50 atm(ほぼ、50*105N/m2)に設定できる。試験により、本発明により 製造された液晶ディスプレイは、光学的または機械特性の変化を示さずに、この 重量と高圧力に耐えるということが発見されている。 上述したように、液晶層の厚みの最大相対偏差は、TN及びSTNセルでは2 %を超えてはならない。p=50atm及びE=5*105N/m2(ガラスの種 類が異なる場合、ほんの少しだけ変化する)として、表面網羅度s>P/(1% *E)=1%はスペーサの過剰圧縮を回避する必要があるということが(1)か ら発見されている。 この表面網羅度sの1%の最小値と比較して、例えば直線ピクセル幅がL=3 00μm、プレートの厚みがb=1mm、幅がΔL=50μmの長方形スペーサ を有するディスプレイの場合、我々は表面網羅度s=(50/300)2=2. 8%を発見し、スペーサの圧縮率が上記式(1)による許容限度内にあると保証 する。上記(2)によるプレート間の相対偏差(Δd/d)は、P=50atm 及びd=5μmでは、2*10-4μmに等しくなり、また5μmの2%=0.1 μmの許容限度内にある。ここでの5μmの厚みは今日、STNディスプレイの 標準値に対応する。 先行技術と比較して、上述した欧州特許出願公開第0407993号明細書の セルのスペーサの表面網羅度sの対応値を計算することが以下のように可能であ る。すなわち、s=(20μm/600μm)2(ほぼ、0.1%)として、p =50atmでスペーサの10%の相対圧縮率Δh/hに一致し、式(1)によ る許容値をはるかに上回り、セルが耐衝撃性で機械的に安定される場合、完全に は受け入れられないということが明らかである。 同様に、受け入れられないs値は、L=400μm、スペーサ直径=100μ mでs=(100/400)2(0.06%)が得られる、米国特許第4150 878号明細書のセルの場合に取得可能であり、3mmの厚いガラスに関わらず 、容易に変形可能なディスプレイを生じる。 この公知の方法に反して、超薄型・超軽量であるが、同時に例えばクロックデ ィスプレイの全く新しい世代用の超剛性ディスプレイを製造することが、本発明 により可能である。このディスプレイでは、1mm当たり最高20ピクセルを有 することが現在の目的である。本発明によれば、L=50μm、ΔL=10μm (スペーサ幅)を選択した場合、表面網羅度s=(10/50)2=4%が得られ 、許容限度値を十分上回る。同時に0.1mmもの薄いプレートの厚みbを選択 した場合、10-4μmに等しい偏差Δdが50atmで得られ、(2)を極めて 十分に満たす。 冒頭で述べたように、スメクチックディスプレイ(FLCまたはAFLC)は 、TN及びSTNディスプレイと比較して許容変形値を制限する、全体的に異な る機構を備える。光学的許容変形値は、STNよりも少なくとも5倍大きいが、 機械的許容変形値は約10倍小さい。従って、この後者の変形値は決定的となる 。 緩和及びフローについて留意しないため、スメクチックセルの感度を過大評価す る単純化モデルに基づく計算から、また偏差が表面半径Rを有する球状キャップ として表され、スメクチック液晶層はΔd/d=4d/Rの場合、元に戻らない ほど変形することが発見されている。親指の圧力に殆ど相当するr=0.5から 1cmの場合、またFLCまたはAFLCセルにより要求される薄型液晶層に対 応するd=2μmの場合、上記式は約0.1%の相対偏差Δd/dを与え、0. 002μmの最大偏差Δdに対応する。これは、スメクチックセルが、相当する ネマチックセルよりもはるかに衝撃の影響を受け、上記式(2)の下限値に導く ということを示している。別の表面網羅度sの最小限度値はまた、ネマチックと 比較して得られる。FLCの「耐衝撃試験」の標準荷重が、欧州Felicit aプログラムにより、10atm(1cm2当たり10kgに相当)に設定する と、2%のs値が得られ、セルが(1)を満たし、機械的に安定される場合、ス ペーサの表面網羅の最小許容度となる。 以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施の形態について説明するが、 本発明はそれらの実施の形態に限定解釈されるものではない。 図1は、外部圧力をかけた際の歪みを示すセルの概略図であり、スケールを無 視した縦断面図である。 図2は、様々なスペーサの種類の場合の、表面網羅度sの相関関係にあるもの としてスペーサの相対圧縮率を示す図である。 図3A及び3Bは、本発明の1つの実施の形態による液晶ディスプレイの概略 図であり、それぞれスケールを無視した断面図である。 図4は、図3A及び3Bのディスプレイの上面図である。 図5は、セル全体の概略上面図であり、また周辺スペーサの使用例を示す。 図6、伸張スペーサの使用原理である。 下記の表は参照用に作成され、行った実験結果を要約し、本発明が高耐圧力性 の液晶セルを提供することを示している。表面密度sは約0.1%と4%の間で 変化し、同時にd、L、及びbの値として、条件(2)が全ての場合に満たされ るようになっている。液晶層の厚みは、STNの場合d=5μm、FLCの場合 d=2μmとなるよう選択され、試験圧力PはSTNセルの場合約50atm、 FLCセルの場合10atmとなった。 試験番号8から10は、FLCディスプレイの場合のみに行われたが、下記に 詳述する。しかし、使用された伸張スペーサは、ネマチックディスプレイには使 用可能である。 約1%のs値の場合、実験結果の変化量は比較的大きく、sはいずれにしても 1%を超える必要があると思われる。最も有利な選択肢では、sが2%と4%の 間の場合に思える。少なくともSTNディスプレイの場合、4%より大きいsを 選択する理由はない。 s(すなわち条件(1))の条件及び条件(2)の両方を満たす上記例の試験 では、圧力の影響を受けないセルが得られることを示す。スメクチック材で設計 かつ満たされた試験セルでは、元に戻らないほどの変形の場合の圧力閾値に関す るFLC及びAFLCとの間で本質的な違いが見られない。一方、直立式ブック シェルフ構造は少し変形した後、その両方の場合の再配列が山形構造より容易に なる。 特に、スメクチックセルの場合では、正方形、長方形、または円筒状の断面を 持たないスペーサの使用、その代わりに縦方向を横断する幅が、上記条件に準拠 して、スペーサが見えないようにするため50μmを超えてはならない、極めて 伸張したスペーサの使用が好ましい。試験番号8から10は、スメクチックセル で行われる。それらの安定機能に付け加えて、この伸張スペーサには、スメクチ ック層が山形構造の場合、また特に分子が表面に大きなプレチルト角を持つ場合 、極めて重要な2つの機能がある。第1機能はネマチック及びスメクチックセル の両方に適用されるが、セルを満たす際液体フローを案内することであり、分子 の一般的な方向は支持ラインに沿う。スメクチックセルでは、スメクチック層は 支持ラインを横断して形成する。第2機能はスメクチックセルに適用されるが、 電界を適用する際セル内の材料輸送を回避することである。添付の図6は、スケ ールを無視して示した伸張スペーサの原理及び配置を示す。 図1は、外部圧力Pにより負荷がかかり、上部プレート1及び下部プレート2 としてそれぞれ呼ばれる2枚の平行プレート1及び2から成り、液晶層が内蔵さ れる内部キャビティCを形成した液晶セルの断面概略図を示す。プレート1の厚 みはb、キャビティCの影響されない厚みはdとして示す。一般に、第2プレー トの厚みは、本発明によれば、第1プレートの厚みに等しいか、または任意にそ れよりも厚い。下部プレート2で一体となり、相互間隔Lにて配置される、スペ ーサ11間で歪みが発生する。スペーサ11の幅はΔL、スペーサ11間の上部 プレート1の最大偏差はΔdとして示す。 上述したように、2つの条件は圧力の影響を受けないセルを得るよう満足する ものでなくてはならない。まず条件(2)によれば、圧力Pを発生した最大偏差 Δdはあまり大きくてはいけない。次に、条件(1)によれば、スペーサ11は それ自体、圧力Pにより過剰に圧縮されてはならない。スペーサの高さがh(図 1の液晶層の厚みdに等しい)と示され、また圧力をかけられた圧縮率が条件1 によってΔhの場合、様々な形状のスペーサの相対圧縮率を計算する、以下の式 を使用することが少しの変形では可能である。Eはスペーサの弾性率であり、通 常プレート1及び2のEに等しく、sは圧力Pを受けるプレート上のスペーサの 支持または噛み合い面についての表面網羅度である。 各曲線により図2に示されたこれらの式から、任意の値s、P、及びEの場合 、最小圧縮率が長方形スペーサ用に得られ、また好ましいものであることが明ら かである。 図3A、3B、及び4に示されたディスプレイの参照として、同一の参照数字 を図1のように使用する。ディスプレイは透明性の上部または前部プレート1と 、 下部または後部プレート2から成る。プレート1及び2は、ガラスで好ましく製 造されているが、石英やポリマーなどの他の材料からでもできている。エッジシ ール4は、プレート1及び2の周辺間に配置され、プレート1及び2と密閉して 相互接続し、液晶層3を囲む。図示された実施例では、プレート1及び2は、導 電性の、液晶3に電界を適用するための公差型電極層5及び6を備え、少なくと も上部層5が透過性である。下部層6は透過性または反射性のいずれかである。 これらの層の設計と材料選択については、技術熟練者に公知であるため、これ以 上説明する必要がない。図4の上面図では、4つの中央スペーサ11間の細かい 平行線を引いた正方形15は、1つのピクセルを形成する。 セルが反射状態で動作する場合、反射性の下部プレート2または下部電極6の 代替えとして、反射面7がディスプレイ後部に配置される。 偏光フィルム8は上部プレート1の外側に配置され、使用に応じて、第2偏光 フィルム9が液晶3と反射面7との間に配置される。更に、配向層10は、液晶 3に最も近いプレート1及び2の両方に配置され、最初の配向を得る。材料の選 択と、偏光子及び配向層の配向は、技術熟練者にとって公知の概念であり、例え ば米国特許第4653865号明細書に記載されているようにして製造される。 プレート1及び2の間のキャビティに複数のスペーサ11が固定されるが、こ の設計では下部プレート2をエッチングすることによって製造される。上記のパ ラメータの表面網羅度sは、プレート1上のスペーサ11の上部噛み合い面の合 計と、スペーサ11が分散されるプレート1の面全体との間の商に相当する。 スペーサ11が電極層5及び6間に配置される場合、例えばシリカ製の少なく とも1枚のプレートが絶縁層13を有する必要がある。 図示された実施例では、特定の周辺スペーサ12がディスプレイの周辺部分に 配置され、中央スペーサ11と同一方法により製造される。周辺スペーサ12( 図5に図示)は、均一フローの実現、液晶の配向欠陥の回避に鑑みて、製造時 液晶フローを案内する伸張形状と配向を備える。 周辺スペーサ12は、低温度でのディスプレイの活性かつ中央部分のキャビテ ィすなわち間隙形成を回避する重要な機能を持つ。液晶セルを満たす際、この間 隙が頻繁に形成され、真空状態で発生するが、実際液晶ディスプレイの全てに一 般的な問題を確立する。特に、これらは輸送時非常に低い温度に曝され、ガラス と比較して液晶のかなりの体積縮小が液体内の間隙形成に繋がり易い。この間隙 は、室温に加熱した後、極端に長時間維持される。 この間隙形成が毛管作用により妨げられ、表面エネルギーが大きいほど間隙の 曲率半径が小さくなるということが要求されるため、ディスプレイの活性領域外 の領域に間隙形成を位置付けることが、この周辺スペーサにより可能である。 周辺スペーサの幅と相互間隔は、図5に示すように、中央スペーサの幅と相互 間隔よりも各々著しく大きくなくてはならない。この周辺スペーサ間の比較的長 い距離により、上述のスペーサ高さが高くなるように、距離の中央部分と比較し て、周辺領域の大きな曲率半径を間隙が有することができ、スペーサは互いに近 接して位置付けられる。更に、形成されるため、この間隙が核形成の表面を必要 とすることを考慮すると、周辺スペーサの幅が広くなることは、間隙が比較的広 い表面により限界を定められることを意味し、核形成がし易くなる。周辺領域の スペーサ高さが高くなれば、間隙の曲率半径がディスプレイの活性領域内よりも 大となり、間隙のエネルギーが低下する。 周辺スペーサ間の大きな間隙はまた、温度変化に基づいた材料フローを局部的 に容易にすることを目的としている。 −40℃までサイクルする温度にて行った試験により、我々は周辺スペーサが 二列の外部列で任意に配置され、熱形成された無傷の間隙を収集かつ提供し、デ ィスプレイの活性領域にこの形成を抑制するのに効果的であるということを発見 した。 我々の試験では、約10%から20%のスペーサ高さの小さな差が、図5に示 すように、周辺スペーサ間の比較的長い距離で組み合わされ、この領域に正確に 間隙形成を位置付けるのに効果的であることを示している。 本発明によれば、剛性のディスプレイを得るために、例えば約0.1から0. 5atmの負圧により、セル、すなわちプレートを結合することが一般に望まし く、セルを満たし、完成したセルのプレートがスペーサと十分噛み合うか確認す る際、この負圧がかけられる。また他の方法、例えばスペーサのバインダまたは 他のいかなる種類のジョイントを適用することによって、この結合力をもたらす ことが考えられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コノバロフ,ビクトール エイ. ベラルーシュ国ミンスク、220095、ヤクボ バ、66−4−26 (72)発明者 ミンコ,アナトーリ エイ. ベラルーシュ国ミンスク、220085、プリコ ーバ、31−1−3 (72)発明者 ツターレフ,バレリ ピー. ベラルーシュ国ミンスク、モスコフスカ ヤ、7−47

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 互いに所定距離を隔てて配置され、内部キャビティ(C)を形成する、 電極を備えた(5,6)2枚のプレート(1,2)と、少なくとも第1プレート (1)は透明性であり、1mmを超えない厚みbと弾性率Eを有し、前記キャビ ティにシールされ、ネマチック材を含み、前記キャビティの高さに対応する厚み dを有する液晶層(3)と、前記キャビティに固定され、前記液晶層の厚みdに 対応する高さhを持ち、間隔Lのキャビティに分散され、前記第1プレートと同 一の弾性率Eを実質的に有するスペーサ(10)とを備えたネマチック液晶セル において、前記スペーサ(11)は少なくとも一方向に幅50μmを超えず、前 記第1プレート(1)上の前記スペーサ(11)の支持領域による表面網羅度s が1%以上であり、L値がdとbの現在値の従属値において選択され、前記第1 プレート(1)に圧力Pをかける際、前記圧力Pにより発生した、スペーサ間の 前記第1プレートの最大相対偏差Δd/dが、 として、G1が以下の式(B)の値以下であり、前記圧力Pにより発生した、ス ペーサ(11)の相対圧縮率を表し、表面網羅度sを1%の最小値として、 という条件を満たすことを特徴とするネマチック液晶セル。 2. 前記変形上限値G1が2%、好ましくは1%以下であることを特徴とす る請求項1記載のネマチック液晶セル。 3. 液晶層(3)がSTN構造を持つことを特徴とする請求項1または2記 載のネマチック液晶セル。 4. 前記STN構造が200度を超えるツイスト角を持つことを特徴とする 請求項3記載のネマチック液晶セル。 5. 前記スペーサ(11)の高さhが0.5から20μm、好ましくは1か ら10μmの範囲にあることを特徴とする請求項1から4のいずれか1つに記載の ネマチック液晶セル。 6. 互いに所定距離を隔てて配置され、内部キャビティ(C)を形成する、 電極を備えた2枚の(5,6)プレート(1,2)と、少なくとも第1プレート (1)は透明性であり、1mmを超えない厚みbと弾性率Eを有し、前記キャビ ティにシールされ、スメクチック材を含み、前記キャビティの高さに対応する厚 みDを有する液晶層(3)と、前記キャビティに固定され、前記液晶層の厚みd に対応する高さhを持ち、間隔Lのキャビティに分散され、前記第1プレートと ほぼ同一の弾性率Eを有するスペーサ(11)とを備えたスメクチック液晶セル において、前記スペーサ(11)は少なくとも一方向に幅50μmを超えず、前 記第1プレート(1)上の前記スペーサ(11)の支持領域による表面網羅度s が2%以上であり、L値がdとbの現在値の従属値において選択され、前記第1 プレート(1)に圧力Pをかけたとき、前記圧力Pにより発生する、距離間の前 記第1プレートの最大相対偏差Δd/dが、 として、G2が以下の式(B)の値と等しく、前記圧力Pにより発生した、前記 スペーサの相対圧縮率を表し、表面網羅度sを2%の最小値として、 という条件を満たすことを特徴とするスメクチック液晶セル。 7. 前記変形上限値G2が0.1%以下であることを特徴とする請求項6記 載のスメクチック液晶セル。 8. 前記液晶層(3)が強誘電性液晶(FLC)を含んでいることを特徴と する請求項6または7記載のスメクチック液晶セル。 9. 前記液晶層(3)が反強誘電性液晶(AFLC)を含んでいることを特 徴とするという点で特徴付けられる請求項6または7記載のスメクチック液晶セ ル。 10. 前記スペーサ(11)の高さhが0.5から20μm、好ましくは1 から2μmの範囲にあることを特徴とする請求項6から9のいずれか1つに記載 のスメクチック液晶セル。 11. 第1プレートのスペーサ(11)の支持領域による表面網羅度sが2 から4%であることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1つに記載の液晶 セル。 12. 少なくとも第1ガラスプレート(1)、好ましくは両方のプレート( 1,2)の厚さbが0.5mmを超えないことを特徴とする請求項1ないし9の いずれか1つに記載の液晶セル。 13. 前記プレート(1,2)を結合する力が、活性領域のセルに存在する ことを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1つに記載の液晶セル。 14. 負圧が前記プレートを結合する力を提供するための前記キャビティに 勝ることを特徴とする請求項13記載の液晶セル。 15. 前記スペーサ(11)が前記プレートを結合する力を提供するための 少なくとも1枚のプレート(1)に粘着的に接続されることを特徴とする請求項 13記載の液晶セル。 16. 少なくともスペーサ(11)の幾つかが、一方向に50μmを超えな い幅を持ち、前記方向を横断する実質的に広い範囲を有して伸張スペーサを形成 することを特徴とする請求項1ないし15のいずれか1つに記載の液晶セル。 17. 液晶セルが、セルの活性領域のキャビティに分散される前記スペーサ (11)に付け加えて、セル周辺の離隔関係に配置され、セルの活性領域の最初 に記述したスペーサ(11)よりも実質的に広い横断面を有する複数の周辺スペ ーサ(12)を備えていることを特徴とする請求項1ないし16のいずれか1つ に記載の液晶セル。 18. 液晶セルが、セルの活性領域のキャビティに分散される前記スペーサ (11)に付け加えて、セル周辺に配置され、セルの活性領域の最初に記述した スペーサの高さhを超える高さを有する複数の周辺スペーサ(12)を備えてい ることを特徴とする請求項1ないし17のいずれか1つに記載の液晶セル。 19. 周辺スペーサ(12)が伸張状であり、離隔関係に短い面が互いに向 き合って配置されることを特徴とする請求項17または18記載の液晶セル。 20. 前記ペーサ(11)が長方形状の断面を有することを特徴とする請求 項1ないし19のいずれか1つに記載の液晶セル。 21. 前記プレート(1,2)とスペーサ(11,12)がガラス製である ことを特徴とする請求項1ないし20のいずれか1つに記載の液晶セル。 22. 前記スペーサ(11,12)が前記プレート(1,2)の少なくとも 1つ(2)をエッチングすることによって提供されることを特徴とする請求項1 ないし21のいずれか1つに記載の液晶セル。 23. セルが離隔関係に配置された複数のピクセルから成るディスプレイと して設計され、スペーサ(11)が前記ピクセル間に配置されていることを特徴 とする請求項1ないし22のいずれか1つに記載の液晶セル。
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