JPH10510005A - 不動態化可能金属又は合金の基板を酸化層でコーティングするためのプロセス、及び酸化物層でコーティングされた燃料組立体被着層及び案内管及びスペーサグリッド - Google Patents

不動態化可能金属又は合金の基板を酸化層でコーティングするためのプロセス、及び酸化物層でコーティングされた燃料組立体被着層及び案内管及びスペーサグリッド

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JPH10510005A JP8518339A JP51833996A JPH10510005A JP H10510005 A JPH10510005 A JP H10510005A JP 8518339 A JP8518339 A JP 8518339A JP 51833996 A JP51833996 A JP 51833996A JP H10510005 A JPH10510005 A JP H10510005A
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Abstract

(57)【要約】 酸化要素を励起するために使用する冷プラズマの流通残光内に位置すると共に500°C以下の酸化温度に加熱された基板(2)を、冷プラズマにより励起された酸化気体と接触させることにより、基板(2)の表面予備酸化を行う。冷プラズマにより活性化された酸化要素を含む気体混合物により金属ハロゲン化物を不均質酸化することにより、予備酸化された基板(2)の表面に金属酸化物を形成する。冷プラズマの流通する遠残光内に配設された基板の近傍でできるだけ直に酸化気体混合物をハロゲン化物と接触させる。冷プラズマは、好ましくは、マイクロ波により形成する。プロセスは、核燃料ロッドの被着管上に保護コーティングを施すために使用可能である。

Description

【発明の詳細な説明】 不動態化可能金属又は合金の基板を酸化層でコーティングするための プロセス、及び酸化物層でコーティングされた燃料組立体被着層及び 案内管及びスペーサグリッド 本発明は、不動態化可能金属又はジルコニウム等の不動態化可能金属に基づく 合金から形成された基板に金属酸化物層をコーティングするプロセスに関する。 加圧水型原子炉の燃料ロッドは、一般にジルコニウム合金から形成された管状 クラッドの内側に積層された酸化物として核燃料材料のペレットから構成されて いる。燃料ロッドのクラッドは、核燃料ペレットを保持しなければならず、該ク ラッドは、核燃料が反応器の内側から拡散するのを防止する一次バリヤを構成す る。 燃料ロッドのクラッドの局部貫通の場合、反応器の冷却水は、燃料ロッドのク ラッドの内側を貫通する。この水は沸騰してクラッドの金属と反応し、クラッド 金属の水素化物を形成する。この結果、クラッドに更に孔が開き、最初の貫通効 果を増幅する。 従って、特にロッドが液体流を横切る力に晒されてばね及びディンプルにより 構成されるロッド支持体に対する振動による「フレチング」現象のために磨耗を 受け易い組立体の底部グリッドでは、燃料ロッドクラッドの貫通の危険性を最小 にする必要がある。 更に、核燃料組立体の底部グリッドは、循環する冷却流体により振動する残留 物のトラッピングを極めて受け易い位置にある。 従って、特に磨耗に最も晒され易いクラッドの領域で、耐磨耗コーティング層 により燃料ロッドクラッドを保護することが提案された。 例えば、クラッドの外面に硬いコーティング層、特に酸化ジルコニウム(ジル コニア)堆積層を堆積することにより、ジルコニウム合金から成る燃料ロッドク ラッドの耐磨耗性を改善することが提案された。これらの堆積物は、反応器冷却 水により搬送された残留物による磨耗に対してある程度の保護を保障することが できる。 フラマトーム・アンド・コジェマ社により出願された仏国特許出願第89−1 2920号においては、ジルコニウム又はジルコニウム合金等の不動態化可能金 属から成る部分の表面酸化のプロセスが提案され、これにより、この部分にジル コニウム酸化物の拡散層を形成することが可能となった。このプロセスは、原子 炉用の燃料ロッドクラッドの外面をコーティングする際に特に適用可能である。 不動態化可能な金属部分の表面酸化のこのプロセスに関し、冷プラズマにより 活性化された気体即ちエネルギの供給により活性化された種を含む気体が使用さ れた。活性化気体の使用は、中庸の温度で該部分の表面に微細で均質化された粒 子から成る酸化物層を得ることを可能にした。 このプロセスは、被着管等の要素の腐食に対する高度の保護を保障する酸化物 コーティング層を得ることを可能にする。しかしながら、得られる層は薄いので 、例えば被着管に対する残留物の摩擦による機械的原因に由来する損傷について は、極めて効率の良い保護を保障するものではない。 また、国際出願第9209716号公報には、500°C以下の温度で気相又 は溶融塩を用いて被着管の表面に炭化物又は酸化物のコーティング層を生成する ことによりジルコニウム合金被着管をフレチングすることで、磨耗を減少させる ことが提案されている。これにより、厚さが2マイクロメートル迄の保護層を形 成することが可能になった。被着管の表面に形成された層は、余りに薄いので、 機械的損傷に対する極めて効果的な保護を保障すること、例えば被着管の表面の 引っ掻きを防止することができなかった。 米国特許出願第5171520号公報には、コーティングすべき表面上にセラ ミック又はガラスを噴霧することにより、最も磨耗に晒され易い部分に核燃料ロ ッドの局部コーティングを施すことが提案された。これにより、アルミノケイ酸 塩、ホウケイ酸塩、カルシオボレートにより結合されたジルコン等の材料から形 成された100マイクロメートル以上の厚さを有する層を得ることができる。 また、米国特許出願第522729号公報では、イオン堆積プロセスにより、 燃料ロッドの被着管の外面に亜硝酸ジルコンから磨耗及び腐食に対する保護用の コーティング層を形成することが提案された。 コーティング層を堆積させることによる保護方法は、燃料ロッドの被着管の耐 磨耗性を増加させるが、得られるコーティング層は、層が成分の拡散により形成 されたものであるので、これらの層の厚さが限定され、コーティングされた表面 層内に大きな応力勾配が生じるという欠点を有している。実質的な厚さを有する コーティング層が生成される場合、これらのコーティング層は、これらの瑕疵部 分の近傍で基板金属の腐食感度が増加する等の欠点を有する。 更に、ジルコニウム合金被着管を含む燃料ロッドの場合に使用し得るコーティ ングプロセスは、被着管の金属組織学的状態が処理により変更を生じない程度の 温度で実施する必要がある。 応力解放熱処理を受けたジルコニウム合金の場合、処理は、480°C以下の 温度で実施しなければならない。 再結晶状態でのジルコニウム合金の場合、処理は、650°C以下の温度で実 施しなければならない。 基板上に異なる種類の堆積物を生成することを可能にする一般にCVD(化学 蒸着法)と呼ばれる気相化学コーティングプロセスが公知である。このプロセス を実施するために、コーティングすべき基板上に堆積される酸化物又は炭化物等 の金属元素の化合物を気相として形成すべく、揮発性の金属元素化合物上に、コ ーティングすべき基板の表面で、例えば酸化又は炭素化気体等の反応性気体を反 応させる。 特に、金属元素は、基板を構成する材料の基本金属元素であってよい。 ジルコニウム合金被着管の場合、例えばジルコニウムに基づいた合金基板上に ジルコニウム酸化物により構成された化合物を堆積することができる。 基板上にコーティング層を堆積するために、700乃至1100°C程度の十 分に高温まで基板を加熱する必要がある。 ジルコニウム合金被着管の場合、CVD法による堆積温度は、合金の金属組織 学的構造により決定された限界を超えてはならない。 冷プラズマにより反応気体を励起することで反応を活性化するために必要なエ ネルギの一部を供給するCVD堆積法は、公知である。反応気体の励起により、 気体内に活性化された化学種を生成することが可能となり、反応性が増加する。 かくして、反応温度を低下することができるので、一定の用途の場合に極めて好 ましい。 更に、基本的にハロゲン化物及び水素による浸食を受け易い金属により構成さ れた基板上に金属酸化物層の極めて付着性の強いコーティング層を生成すること を可能にする方法は知られていない。 従って、本発明の目的は、不動態化可能金属又はジルコニウム等の不動態化可 能金属に基づく合金から形成された基板を金属酸化物層でコーティングするため のプロセスを提供することであり、該プロセスは、前記基板を機械的損傷から保 護して完全に付着性を有し且つ瑕疵部での腐食を増長させる可能性を有さず基板 の処置の可能性に比肩し得る中庸の温度で得ることができるコーティングを得る ことを可能にする。 このため、 − 基板を冷プラズマ内で励起された酸化気体と接触させ、該基板をプラズマの 流通残光内に配設すると共に500°C以下の酸化温度に加熱することにより、 基板の表面予備酸化を行い、 − 気体の金属ハロゲン化物を冷プラズマ内で励起された酸化要素を含む反応気 体混合物と接触させることにより、プラズマの流通する残光内に配設された基板 上の金属ハロゲン化物の酸化により、金属酸化物の堆積物を生成する。 本発明は、また、原子炉の組立体の燃料ロッドのジルコニウム合金被着管と、 本発明によるプロセスにより生成された保護酸化物コーティング層を含む組立体 内でロッドを保持するためのスペーサグリッドとに関する。 本発明は、また、燃料組立体内で中性子吸収ロッドの案内管の内面のコーティ ングにも適用できる。 本発明に関連して使用される反応種特に酸化物成分の冷プラズマによる活性化 は、反応種にエネルギを供給することにより反応温度を低下させることができる 。この活性化は、特に、ダイオード又はトリダイオードプラズマ、高周波プラズ マ又はマイクロ波プラズマを用いて行ってもよい。作業圧力は、選定したプラズ マの種類に依る。活性化種の密度と、技術的実施可能性と、プロセスの柔軟性と との間で良好な妥協点を得るために、好ましくは、300乃至2450MHzの マ イクロ波発生装置が使用される。 マイクロ波を反応気体に伝達するために、共鳴空洞装置を使用してもよい。 好ましくは、コーティングプロセス中に所定の反応温度にまで加熱された分割 形状の金属上のハロゲンの反応により、気体金属ハロゲン化物を形成する。これ により、気体ハロゲン化物の生成を、基板をコーティングするために必要な量の 関数として制御することができる。 基板は、活性化領域由来の活性気体により掃引されるように、一般には、冷プ ラズマの流通する遠残光内、即ちプラズマ活性化領域から離間した領域内に配設 される。かくして、長い燃料ロッド被着管等の少なくとも一方向に延伸した基板 上に均質なコーティング層を形成することができる。基板を遠残光内に配設する ことにより、活性化種の限定された寿命の故に、反応気体の活性を制御すること ができる。 本発明を明瞭に説明するために、添付図面を参照して、原子炉用の燃料ロッド のジルコニウム合金被着管をジルコニア層でコーティングするための本発明によ るプロセスの一実施形態について、非限定的例を経由して説明する。 図1は、本発明によるコーティングプロセスを実施するための装置の例示的実 施形態の正面概略断面図である。 図1Aは、図1に示した装置の塩素化室の拡大断面図である。 本発明によるコーティングプロセスの二つの相、即ちジルコニウム合金基板を 予備酸化する相と、該予備酸化された基板上にジルコニアの蒸着を行うその後の 相は、図に示した装置を用いて、交互に実施される。 コーティング装置は、加圧水原子炉の燃料ロッドの被着管2を略同軸に配設し た反応管1を含む。 被着管2は、ジルカロイ4等のジルコニウム合金から形成される。被着管2は 、約10ミリメートルの直径と約4メートルの長さを有する。 コーティングを形成しない管2の一部を、反応管1から突出させてもよい。 反応管1は、被着管2の直径より略大きい内径と、燃料ロッドの被着管2の長 さより大きい長さを有する。 被着管2は、コーティングプロセスの種々の相の間に被着管2の温度を測定可 能とし得る熱電対4を内側に配置した管状支持体3により、反応管1内に該反応 管と略同軸に保持されている。 被着管2の管状支持体3は、反応管の一方の端部を閉じるプレート5の中央開 口部内に固定される。プレート5は、コーティング作業の開始前に被着管2を同 軸的に取り付けるように、反応管1の端部に解放可能に且つ漏れ無く固定するた めの手段を含む。 プレート5と反対側の反応管1の端部は、中央開口部を含む後部6により閉鎖 されている。該開口部内には、反応管1に対して同軸的に配設されて反応気体を 反応管1内に導入可能な管7が係合支持されている。管7は、被着管2の一方の 端部を覆うアダプタ39により延伸され、これにより、管7により搬送された反 応気体は、基板2の直ぐ近傍のみで反応管1内に解放される。 反応管1は、支持体3により保持された被着管2の配設領域で反応管と係合す るスリーブの形状を有する炉8により取り囲まれている。 スリーブ形の炉8は、その長さの略一部に亘り、耐火性の絶縁材料10内に埋 設された電気抵抗器9を含む。 炉は、コーティング作業の連続相の間に、反応管1、該反応管内に含まれる気 体及び被着管2の温度を増加維持することを可能にする。 吸引管11及び二つの枝部管11a及び11bを介して二つの真空ポンプ12 a及び12bに接続された反応管1の内部容積は、減圧に設定することができ、 これにより、コーティング作業を行うための最適条件を得ることを可能にしてい る。 ポンプ12aは、反応管内の気体の残留圧力を0.01ミリバールにまで減少 させ得るように反応管内の真空レベルを生成維持し得る一次固定ロータ式ベーン ポンプである。 ポンプ12bは、反応管内の残留圧力を1ミリバール程度の範囲にまで到達さ せ得る真空が得られる一次液体リング式ポンプである。 ポンプ12a又はポンプ12bは、それぞれ枝部管11a及び11b上に配設 された二つの弁13a及び13bの一方を開くことにより炉の内部容積に接続可 能である。 圧力計14は、反応管1内の圧力を測定することができる。 反応管1は、プレート5の反対側に、反応管1の室に対して横方向に配設され た塩素化室15に接続された端部を含む。 塩素化室と炉との間に含まれる反応管1の部分の周囲及び塩素化室の周囲には 、電気加熱ベルト16が配設され、この電気加熱ベルトにより、金属ハロゲン化 物が通過する反応管の温度を上昇させて該ハロゲン化物の凝縮を防止すること、 並びに、この温度を既定の値に維持することが可能となる。 塩素化室15は、図1Aに、より詳細な断面図として示した。 塩素化室15は、例えば切粉状又はスポンジ状等の分割形状のジルコニウム層 18をその上に堆積させた石英ウール床17を含む。 反応気体供給管19は、塩素化室15の上部で開口する。塩素化室15は、そ の下側部分に、管路19を通って流入する反応気体を層18の分割形状ジルコニ ウムと接触させることにより塩素化室15内に形成された揮発性ジルコニウム化 合物を排出するための開口部20を含む。 ジルコニウム層18及び石英ウール床17は、多孔質であって、反応管1の内 部容積に流入する気体をして開口部20を通過せしめるようにしている。 浸漬管の内側に配設された熱電対21は、反応気体と接触される分割形状のジ ルコニウム層18の温度を得ることを可能にする。 管19は、塩素化室15の反対側の端部で、気体分与パネル22に接続されて いる。該パネルは、管路19及び塩素化室15内に、塩化物等のハロゲン化物や アルゴン等の不活性の希釈気体を含む完全に計量された気体混合物を供給するこ とを可能にする。 分与パネル22は、塩素とアルゴンを混合するTコネクタを介して供給管路1 9の端部に出口端部で接続されて平行に配設された塩素供給管23とアルゴン供 給管24とを含む。 反応気体の塩素化室15内への供給を制御し、或いは逆に反応気体の塩素化室 への供給を遮断するために、管路19には、空気式閉鎖弁25及び25′を配設 している。 供給管路19とは反対側の端部で供給管路23の場合には塩素で供給管路24 の場合にはアルゴンである気体の貯蔵タンクに接続された供給管路24及び24 は、それぞれ、減圧器26及び流量計即ち正確に望まれる所定の割合でハロゲン と不活性気体から成る気体を計量するマスフロー調節器27とを含む。 混合器28に接続された供給管路19は、完全に定義された組成を有する気体 混合物を塩素化室15内に供給することができる。 反応管1内に位置する噴射アダプタ39にその端部の一方が接続されて反応管 1の室に反応気体を供給する管路7は、管路30及び31等の少なくとも二本の 枝部供給管路を介して第二の反応気体供給パネル29にその反対側端部が接続さ れている。 管路30及び31は、管路30及び31により供給された気体を混合して反応 管1の内部容積内に導入される反応気体混合物を生成するTコネクタ32を介し て、管路7に接合されている。 30及び31等の供給管路は、それぞれ、酸化又は還元反応気体かアルゴン等 の不活性気体のいずれかである加圧気体を貯蔵するためのタンクに、その一方の 端部が接続されている。 酸化反応気体としては、純粋酸素、二酸化炭素CO2又はその他の蒸気でよい 。 還元反応気体としては、水素でよい。 30及び31等の供給管路のそれぞれに対しては、タンクの下流のパネル29 上に、気体貯蔵タンクにより供給された気体の圧力を低下及び調節可能な減圧器 33と、混合物内の異なる気体の割合を調節可能とする流量計即ちマスフローメ ータ34とが配設されている。 コネクタ32の上流の管路30及び31のそれぞれには、絶縁弁35が配設さ れている。 反応管1内に位置する噴射アダプタ39に接続された供給管路7上では、コネ クタ32に接続管路7の端部に、絶縁弁36と電磁弁37とが配設されている。 圧力計38は、コネクタ32を出た気体混合物の圧力を測定することを可能にす る。 導波管を介してマイクロ波発生器に接続された共鳴空洞から成る励起構造40 を通過する供給管路7は、排気管として機能する。 コネクタ32を出た気体混合物は、励起構造40から排出管7に伝播されるマ イクロ波により気体混合物を励起する排出管7を通過する。排出管7内では、気 体混合物は、マイクロ波のエネルギの吸収により励起され、これにより、排出管 7を出た気体混合物は、励起種を含む。準安定で電気的に中性の活性化された種 は、流通する残光内で基板2に対して反応する。 圧力計41は、マイクロ波発生器に接続された排出管の出口で気体混合物の圧 力を測定することができる。 かくして、励起種及び特に酸素、不活性支持気体及び任意に水素等の還元剤を 含む反応気体混合物を、反応管内に導入することができる。 反応管1には、更に、アルゴン等の不活性気体を供給する管路45が直接に接 続されている。反応管1とは反対側のその端部でアルゴンタンクに接続された供 給管路45上には、マスフローメータ44と弁42とが連続的に配設されている 。管路45は、制御された速度で反応管1内の気体を連行するための組成アルゴ ンを反応管1内に導入可能とする。 核燃料組立体の被着管上にジルコニアコーティングを施すための装置の実施を 以下説明する。 本発明によるコーティングプロセスは、図1及び図2に示した装置に対して交 互に行われる二つの相から成るプロセスである。 反応管1の内側で、反応管1上に漏れ無く取り付けられたプレート5を介して 反応管1に固定された支持体3上に被着管2を取り付ける。 酸素及び不活性キャリヤ気体の混合物により管2の外面を予備酸化する相であ るコーティングプロセスの第一の相を実施するために、真空ポンプ12bを始動 させて反応管1内に含まれる空気を排気する。弁13aを閉じて弁13bを開く 。炉8を用いて、500°C以下の温度、好ましくは、250乃至480°Cの 温度まで被着管を加熱する。 管路30及び31と混合コネクタ32とを介して、酸素とアルゴン等の不活性 気体との混合物を管路7に供給し、形成された気体混合物が減圧下の反応管1内 に位置する噴射アダプタ39に入るようにする。 流速計34を用いて、アルゴンと酸素のそれぞれの流速を調節する。 気体混合物を、排出管7と、2450MHzの周波数でマイクロ波を生成する マイクロ波発生器に導波管を介して接続されてアルゴン及び酸素の気体混合物に エネルギを伝播する励起構造物40とに、通過させる。これにより、噴射アダプ タ39を介して反応管1内に導入された混合物を励起し、比較的低温で被着管の 表面に迅速に酸化層を得る。 予備酸化に用いる気体混合物を1乃至100ミリバールの減圧で反応管1内に 導入する。これらの条件下で、基板と反応気体と温度及び反応気体の圧力に応じ て、1時間以内に厚さ0.1乃至1マイクロメートルまで予備酸化層を形成する 。 生成した予備酸化層は、極めて付着性に富み、非常に低多孔質でありコーティ ングプロセスのその後の相の間、及び燃料ロッドの使用中に、ジルコニウム合金 基板を保護するに十分な被覆性を付与する。 好ましくは、460°Cの予備酸化温度及び酸素を1容量%含むアルゴン及び 酸素の混合物を用いる。 予備酸化相の直後に、或いは少し遅れて、予備酸化表面上にジルコニア堆積物 を生成することから成るプロセスの第二の相を実施する。被着管により構成され る基板を予備酸化相中に達成された温度に維持し得る限り、ジルコニア堆積相を 予備酸化相の直後に実施することが有利である。 被着管2の予備酸化された表面上にジルコニアの気相化学堆積を実施するため に、分割形状のジルコニウム層18を含む塩素化室15内に、供給管路19を介 して、分与パネル22から発する塩素及びアルゴンの混合物から成る反応気体を 導入する。 分割形状のジルコニウムの層18を、160乃至350°Cの反応温度まで加 熱する。アルゴン及び塩素の気体混合物を塩素化室15内に導入し、層18を構 成する分割形状のジルコニウムと接触させる。 塩素と接触すると、ジルコニウムは、反応式2Cl2+Zr→ZrCl4に従っ て塩化ジルコニウムZrCl4に変換される。 塩素及びアルゴンの混合物を、好ましくは、300°Cの温度で且つ20ミリ バールの圧力で塩素化室15に導入する。 気体として得られた塩化ジルコニウムZrCl4を、石英ウール床17に通し 、 反応管1の室に流入させる。 反応管1の室の内部では、少なくとも酸化気体と不活性気体とを含み好ましく は、酸化気体と還元気体と不活性気体とを含む反応気体を用いて、塩化ジルコニ ウムZrCl4をZrO2に酸化する。 マイクロ波発生器により生成されて励起構造物40の方に伝播されるマイクロ 波のエネルギにより排出管7内で反応気体混合物を励起する。 塩素化室15の出口に供給された気体の塩化ジルコニウムを、石英噴射管39 により、プラズマ由来の酸化混合物から分離保持することにより、塩化ジルコニ ウムが均一相内で反応して基板に達する前に完全に消費されるのを防止するよう にしている。従って、気体の塩化物と活性化された酸化気体との混合が、基板2 のすぐ近傍でのみ行われる。 この分離により更に、付近の残光内に基板が位置決めされないような距離に亘 り気体を搬送することが可能となる。 気体混合物内に電子又はイオンが存在しないため、且つ、長い部分を処理する 必要がないため、遠い残光を採用する必要がある。更に、排出/反応領域の距離 の選定可能性により、気体混合物の反応性を例えば化学又は拡散状態による反応 の好みの制御に適合させることができる。最後にこの構成は、イオンビーム等の 補充的励起源を追加する必要があるといった流れの問題を回避することができる 。 反応気体は、250乃至500°Cの反応温度である。これらの気体の圧力は 、1乃至100ミリバールである。 酸素、水素及びアルゴンを含む反応気体混合物が好ましくは、使用される。 気体として塩化ジルコニウムZrCl4と接触するかかる活性化された混合物 は、塩化物の酸化物を生成し、ジルコニアに変換されると共に塩素元素を解放す る。 ジルコニア層の付着は被着管の表面上での予備酸化層の存在により容易となる 。実際に、気体不透過性の予備酸化層は、水素、塩素又は生成される塩素による 基板金属の浸食を中和する。水素及び塩素は、結合して反応管の出口のポンプに より吸引される気体の塩化水素等の化合物として除去される。 ジルコニウム四塩化物ZrCl4は、残光内に存するO2−H2−Ar混合物 内の励起種により酸化される。 この酸化は、例えば250乃至500°C、又はより特定的には300乃至4 80°Cの中庸温度で実施することができる。ジルコニア層の成長速度は、毎時 30マイクロメートルである。 純粋酸素以外の酸化成分例えば二酸化炭素CO2から成る酸化成分を含む三成 分混合物の使用も提案されている。 本発明のプロセスにより得られるジルコニア堆積物は、極めて付着性に富み、 二時間に限定された処理時間で20乃至60マイクロメートル程度の比較的厚い 厚さに到達し得る。 堆積されたジルコニアは、単結晶結晶構造を有する。 ジルカロイ4上に堆積されたジルコニアコーティング層に対して引っ掻き試験 を行った。これらの試験は、コーティング層が引っ掻き試験中に延性を呈するこ とを示したが、これは、生成されたコーティング層の柱状構造に起因すると思わ れる。 生成されたコーティング層は、引っ掻き又は磨耗等の機械的浸食に対してジル コニウム合金被着管を十分に保護することができる。 本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。 従って、予備酸化層及びジルコニア堆積層は、上述した以外の励起気体混合物 に始まって上述した以外の態様で生成してもよい。 ジルコニアは、塩化物以外のジルコニウムハロゲン化物から堆積してもよい。 本発明は、ジルコニウム及びその合金以外の不動態化可能金属の保護、例えば 、ハフニウムの保護にも適用される。 二つの連続したコーティング相を実施するために使用する装置は、上述した以 外の特定を有してもよい。 使用する基板及び気体を加熱するための手段は、上述した電気加熱手段とは異 なるものでもよい。 気体を分与するための手段も、また、異なったものでもよい。 コーティングすべき基板を配設する反応器を管状以外の形状にして、この形状 をコーティングすべき部分の形状に適合させてもよい。 管の外面に対するジルコニア堆積物をより均一にするために、保護酸化物の気 相堆積の間に反応器の内側でその軸線を中心として管を回転させることもできる 。 本発明によるプロセスは、核燃料ロッド用の被着管をコーティングすることの みならず、一般にジルコニウム及びその合金等の不動態化可能金属から成る他の 核燃料組立体要素にも適用し得る。 特に、本発明によるプロセスは、ジルコニウム合金燃料組立体グリッド上に耐 磨耗性且つ耐引っ掻き性のコーティング層を形成するために使用してもよい。 本発明の特定の用途は、原子炉のコアの反応性を制御するためのロッドクラス タ内で中性子吸収ロッドを案内する燃料組立体案内管の内側での耐磨耗性コーテ ィング層の保護に関する。これにより、特にクラスタが後退位置にあるときに、 制御クラスタの中性子吸収ロッドの端部の振動に起因する磨耗の恐れが限定され 、その結果、中性子吸収ロッドの下端部が、クラスタ案内管の上部で振動する。 生成されたコーティング層は、案内管の全部又は一部を被覆する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルモント ティエリー フランス エフ−54600 ヴィレール レ ナンシー アベニュー アンドレ マル ロー 369 (72)発明者 ガヴィール ジェローム フランス エフ−54000 ナンシー グラ ンド リュー 127 (72)発明者 ミッシェル アンリ フランス エフ−54500 ヴァンドゥーヴ ル レ ナンシー リュー シャルル グ ーノー 63

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.不動態化可能金属又はジルコニウム等の不動態化可能金属に基づく合金から 形成された基板(2)を金属酸化物層でコーティングするプロセスであって、 基板(2)を冷プラズマ内で励起された酸化気体と接触させ、該基板をプラ ズマの流通残光内に配設すると共に500°C以下の酸化温度に加熱することに より、基板(2)の表面予備酸化を行い、 気体の金属ハロゲン化物を冷プラズマ内で励起された酸化要素を含む反応気 体混合物と接触させることにより、プラズマの流通する残光内に配設された基板 上の金属ハロゲン化物の酸化により、金属酸化物の堆積物を生成する、 ことを特徴とするプロセス。 2.気体の金属ハロゲン化物を、所定の反応温度にまで加熱された分割形状の金 属(18)上のハロゲンの反応により形成する、 ことを特徴とする請求の範囲第1項に記載のプロセス。 3.基板(2)を冷プラズマの流通する遠残光内に配設する、 ことを特徴とする請求の範囲第1項及び第2項のいずれか1項に記載のプロ セス。 4.冷プラズマを、マイクロ波により生成する、 ことを特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項のいずれか1項に記載のプロ セス。 5.ハロゲン化物を酸化するための気体混合物が、酸化成分、還元成分及び不活 性気体を含む、 ことを特徴とする請求の範囲第1項乃至第4項のいずれか1項に記載のプロ セス。 6.酸化成分が、純粋酸素、水素の還元成分及びアルゴンの不活性気体から成る 、 ことを特徴とする請求の範囲第5項に記載のプロセス。 7.基板(2)及びハロゲン化物を酸化するための気体混合物が、250乃至5 00°Cの反応温度に加熱される、 ことを特徴とする請求の範囲第6項に記載のプロセス。 8.予備酸化相中に、基板(2)と接触される酸化気体が、アルゴンと混合され た酸素から成る、 ことを特徴とする請求の範囲第1項乃至第7項のいずれか1項に記載のプロ セス。 9.予備酸化相中の基板及び酸化気体の温度が、250乃至500°Cである、 ことを特徴とする請求の範囲第8項に記載のプロセス。 10.基板がジルコニウム合金から成り、基板(2)上に堆積された酸化物が、ジ ルコニアZrO2から成る、 ことを特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項のいずれか1項に記載のプロ セス。 11.気体の四塩化ジルコニウムZrCl4を得るために、160乃至350°C の温度まで加熱された分割形状のジルコニウム上に、塩素を含む気体が作用する 、 ことを特徴とする請求の範囲第2項に記載のプロセス。 12.塩素を含む気体が、塩素とアルゴンの混合物であり、分割形状のジルコニウ ム及び気体混合物の温度が、300°Cに近い、 ことを特徴とする請求の範囲第11項に記載のプロセス。 13.請求の範囲第1項乃至第12項のいずれか1項によるプロセスにより得た保 護コーティング層を含みジルコニウム合金から形成された、原子炉の組立体の燃 料ロッドの被着管(2)。 14.請求の範囲第1項乃至第12項のいずれか1項によるプロセスにより得た保 護コーティング層を含む、原子炉の燃料組立体用のスペーサグリッド。 15.請求の範囲第1項乃至第12項のいずれか1項によるプロセスにより得た耐 磨耗性のコーティング層をその内表面の少なくとも一部に亘り含む、原子炉の燃 料組立体用の案内管。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001131752A (ja) * 1999-11-04 2001-05-15 Anelva Corp プラズマクリーニング方法
JP2020510828A (ja) * 2017-04-18 2020-04-09 カチョン ユニバーシティ オブ インダストリー−アカデミック コーオペレイション ファウンデイション 多層構造核燃料被覆管及び多層構造核燃料被覆管の製造方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6512806B2 (en) * 1996-02-23 2003-01-28 Westinghouse Atom Ab Component designed for use in a light water reactor, and a method for the manufacture of such a component
KR100407728B1 (ko) * 2001-03-21 2003-12-01 한국원자력연구소 플라즈마를 이용한 사용후핵연료 산화환원 장치
US6488783B1 (en) * 2001-03-30 2002-12-03 Babcock & Wilcox Canada, Ltd. High temperature gaseous oxidation for passivation of austenitic alloys
US7601225B2 (en) * 2002-06-17 2009-10-13 Asm International N.V. System for controlling the sublimation of reactants
JP4585852B2 (ja) * 2002-07-30 2010-11-24 エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド 基板処理システム、基板処理方法及び昇華装置
US20040086648A1 (en) * 2002-10-30 2004-05-06 Xiangyang Zhou Hydrothermal deposition of thin and adherent metal oxide coatings for high temperature corrosion protection
US7156380B2 (en) * 2003-09-29 2007-01-02 Asm International, N.V. Safe liquid source containers
US7833353B2 (en) * 2007-01-24 2010-11-16 Asm Japan K.K. Liquid material vaporization apparatus for semiconductor processing apparatus
KR100804132B1 (ko) 2007-02-21 2008-02-19 한국원자력연구원 반응가스의 펄스분사를 이용한 사용후핵연료 산화환원반응장치 및 그 방법
US20090022259A1 (en) * 2007-07-20 2009-01-22 General Electric Company Fuel rod with wear-inhibiting coating
US8116423B2 (en) 2007-12-26 2012-02-14 Thorium Power, Inc. Nuclear reactor (alternatives), fuel assembly of seed-blanket subassemblies for nuclear reactor (alternatives), and fuel element for fuel assembly
KR101515116B1 (ko) 2007-12-26 2015-04-24 토륨 파워 인코포레이티드 원자로(대용물), 원자로(대용물)를 위한 드라이버-브리딩 모듈들로 구성된 연료 집합체 및 연료 집합체용 연료 요소
US8343583B2 (en) 2008-07-10 2013-01-01 Asm International N.V. Method for vaporizing non-gaseous precursor in a fluidized bed
US8012876B2 (en) * 2008-12-02 2011-09-06 Asm International N.V. Delivery of vapor precursor from solid source
HUE052242T2 (hu) 2008-12-25 2021-04-28 Thorium Power Inc Üzemanyag-szerelvény könnyûvízi atomreaktorhoz
US9117773B2 (en) * 2009-08-26 2015-08-25 Asm America, Inc. High concentration water pulses for atomic layer deposition
WO2011143172A1 (en) 2010-05-11 2011-11-17 Thorium Power, Inc. Fuel assembly with metal fuel alloy kernel and method of manufacturing thereof
US10170207B2 (en) 2013-05-10 2019-01-01 Thorium Power, Inc. Fuel assembly
US10192644B2 (en) 2010-05-11 2019-01-29 Lightbridge Corporation Fuel assembly
US9911511B2 (en) 2012-12-28 2018-03-06 Global Nuclear Fuel—Americas, LLC Fuel rods with wear-inhibiting coatings and methods of making the same
JP7198746B2 (ja) * 2016-09-28 2023-01-04 コミサーリャ ア レナジー アトミック エー オー エナジー アルタナティブ 金属基材を有する原子炉コンポーネント、dli-mocvdによる製造方法および酸化/水素化に対する使用
CN113718190A (zh) * 2021-09-15 2021-11-30 西安稀有金属材料研究院有限公司 一种提升锆合金耐沸腾硝酸腐蚀性与耐磨性的方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4239819A (en) * 1978-12-11 1980-12-16 Chemetal Corporation Deposition method and products
US4297150A (en) * 1979-07-07 1981-10-27 The British Petroleum Company Limited Protective metal oxide films on metal or alloy substrate surfaces susceptible to coking, corrosion or catalytic activity
CH654334A5 (de) * 1982-09-02 1986-02-14 Maschf Augsburg Nuernberg Ag Verfahren zur bildung einer korrosionsbestaendigen oxidischen schicht auf einem metallischen substrat sowie verwendung dieser schicht.
AU1026688A (en) * 1987-01-20 1988-07-21 Gte Laboratories Incorporated A method for depositing composite coatings
FR2652591B1 (fr) * 1989-10-03 1993-10-08 Framatome Procede d'oxydation superficielle d'une piece en metal passivable, et elements d'assemblage combustible en alliage metallique revetus d'une couche d'oxyde protectrice.
JPH0614582B2 (ja) * 1990-11-19 1994-02-23 日本シイエムケイ株式会社 ホールマスキング装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001131752A (ja) * 1999-11-04 2001-05-15 Anelva Corp プラズマクリーニング方法
JP2020510828A (ja) * 2017-04-18 2020-04-09 カチョン ユニバーシティ オブ インダストリー−アカデミック コーオペレイション ファウンデイション 多層構造核燃料被覆管及び多層構造核燃料被覆管の製造方法

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