JPH10507994A - 導電性及び/又は低放射性層を含む板ガラス - Google Patents

導電性及び/又は低放射性層を含む板ガラス

Info

Publication number
JPH10507994A
JPH10507994A JP9505564A JP50556497A JPH10507994A JP H10507994 A JPH10507994 A JP H10507994A JP 9505564 A JP9505564 A JP 9505564A JP 50556497 A JP50556497 A JP 50556497A JP H10507994 A JPH10507994 A JP H10507994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
film
oxide
glass
upstream
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP9505564A
Other languages
English (en)
Inventor
ボワール,フィリップ
ザグドゥン,ジョルジュ
Original Assignee
サン−ゴバン ビトラージュ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サン−ゴバン ビトラージュ filed Critical サン−ゴバン ビトラージュ
Publication of JPH10507994A publication Critical patent/JPH10507994A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3441Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3435Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0272Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
    • C23C16/029Graded interfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/453Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/90Other aspects of coatings
    • C03C2217/91Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
  • Details Of Aerials (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 透明基材(1)、特にガラス製の基材を含み、且つ機能性の透明な伝導性及び/又は低放射率の薄層(3)を少なくとも一つ備えた板ガラス。この板ガラスの光学的な、特に測色上の外観を、基材(1)と機能性層(3)との間に屈折率が二つの面の間で低下する屈折率勾配を持つ中間層(2)を少なくとも一つ配置することにより向上させることができる。この板ガラスを製造するための装置も開示される。

Description

【発明の詳細な説明】 導電性及び/又は低放射性層を含む板ガラス 本発明は、機能性の薄いフィルムを備えたガラス基材を含む板ガラスであって 、前記フィルムが透明性、導電性及び/又は低放射性の特性を示すものに関する 。 それはまた、このような板ガラスを得る方法、特に熱分解により又は真空を用 いる技術により得る方法に関する。 この種の機能性フィルムは、とりわけ建築物用に意図された板ガラスに適用可 能であり、低放射率フィルムで被覆されたガラス基材は、それが一部分を構成す る板ガラスを通して建物の内側から外側への遠赤外の輻射を減らすことを可能に する。一部はこの放射の漏れによるエネルギー損失を減らすことによって、居住 者の快適さは、特に冬季において、かなり改善される。基材はこのように被覆さ れ、その後気体の層を介して別の基材と組合わされ、面3(最も外側の面から数 える)として位置している低放射率フィルムが非常に効率的な断熱性の二重窓ガ ラスを構成する。 これらのフィルムはまた、それらが導電性であることから、例えば電線を設け ることによって加熱される窓を形成するために、自動車用の板ガラスにも適用可 能である。 これらの特性を示す金属酸化物のフィルムは、例えば、スズをドープした酸化 インジウム(ITO)、又はアルミニウムをドープした酸化亜鉛(Al:ZnO)、インジウ ムをドープした酸化亜鉛(In:ZnO)、スズをドープした酸化亜鉛(Sn:ZnO)、あるい はフッ素をドープした酸化亜鉛(F:ZnO)、もしくはフッ素をドープした酸化スズ( F:SnO2)の層である。 これらの金属酸化物フィルムは、様々な方法で得ることができ、すなわち真空 プロセス(熱蒸着、又はことによりマグネトロンを用いるスパッタリング)によ るか、あるいは高温であるが軟化温度未満の温度に加熱されたガラス基材の表面 にキャリヤガスにより、液体、固体又は気体の形態で吹きつけられた有機金属化 合物の熱分解によって、得ることができる。このように高温の表面と接触させら れたこれらの化合物は、分解し、酸化して、この表面上に金属酸化物のフィルム を形成する。後者の技術は、とりわけフロート式製造ラインにおいてガラスの帯 上に直接、連続被着することを考えるのを可能にする限りにおいて、特に有利で ある。 しかし、これらのフィルムが、特に放射率及び/又は導電率に関して、高い性 能レベルに達するためには、それらの厚さは少なくとも180nm、あるいは実際に は400nmより厚くなければならず、通常は350〜550nmの範囲でなければならない 。このような厚みを持つ薄いフィルムは、それが覆っている基材に反射外観、特 に着色をもたらし、これは美的観点から高く評価することができない。 こうして、このようにして被覆された基材の反射外観の問題、とりわけ残留着 色が得られる問題が生じている。これは、ヨーロッパ特許第EP-B-0125153号明細 書の教示によれば、厚さ4mmの透明なフロートガラス基材に被着した、厚さがわ ずかおよそ163〜165nmであるフッ素をドープした酸化スズF:SnO2のフィルムは、 透明フロートガラス基材に青色の反射色をもたらし、この色は建築産業及び自動 車産業の両方において現在非常に高く評価されているからである。その一方、同 じ種類であるが厚さ360nmのフィルム、従ってより優れた性能を有するフィルム は、同じ基材の「フィルム側」に緑/青紫色の反射外観をもたらし、この色は美 的理由からそれほど望ましいものではない。 このような特性を有する機能性フィルムを備えた板ガラスの光学的外観を改善 しようとする様々な技術的解決法が、すでに提唱されている。例えば、ヨーロッ パ特許出願公開第EP-A-0573325号明細書の教示によると、基材と機能性フィルム との間にいわゆる「中間」コーティングが挟まれ、そのコーティングの光学的厚 みは、青色であって更にそれほど濃くはない反射の残留着色を得るように適切に 選択されている。同じ目的を念頭に置いて、国際特許出願公開第WO-94/25410号 パンフレットは、機能性フィルムを、この場合は一方が「内側」コーティングと 称され他方が「外側」コーティングと称される二つのコーティングの間に配置す ることを提案しており、これらの二つのコーティングの厚み特性の選定と屈折率 との組み合わせが、板ガラスの反射の測色上の外観を細かく調節する余地を広く する。 従って、本発明の目的は、良好な熱/電気特性を示す機能性フィルムを備える こともでき、且つできる限り目に心地のよい反射外観、特に美的であり、それほ ど濃くなく、わずかに反射性で且つ安定した反射色を示すこともできる板ガラス を開発することにより、薄いフィルムのこれらの積重体を更に改良することであ る。 また、本発明の主題は、これらの板ガラスの製造法の開発でもあり、その実施 のために必要な生産設備の開発でもある。 本発明の主題は、第一に、少なくとも1種の機能性の透明な薄いフィルムを備 えた透明な基材、特にガラス製のものを含む、板ガラスである。本発明の関係に おいて「機能性」フィルムとは、導電性及び/又は熱的特性を有する、とりわけ 低い放射特性を有するフィルムを意味すると理解される。板ガラスの光学的外観 を、特に測色に関して改善するためには、少なくとも一つのいわゆる「中間」フ ィルムを基材とこの機能性フィルムとの間に配置し、この少なくと も一つの中間フィルムはその厚さを通して屈折率の減少勾配を有している。本発 明の範囲内において「減少勾配」とは、フィルムの屈折率がその支持基材の表面 から離れるに従ってその厚みを通して漸進的に減少するということを意味する。 好ましい態様によれば、中間フィルムと組み合わせることで板ガラスの光学的 外観を改善するのに寄与するように屈折率と幾何学的厚みが選定される少なくと も一つのいわゆる「外側」の薄いフィルムが、機能性フィルム上に更に被着され る。 驚くべきことに、基材と機能性フィルムとの間に屈折率が漸進的に減少するフ ィルムを挟むことは、純粋に美的な観点と工業的観点の両方から、板ガラスの反 射外観に極めて有益な影響を及ぼし、他方で、本発明の板ガラスは「フィルム側 」の反射の色が心地よく、とりわけ青色領域の色を持ち、この色は非常に弱めら れた「白(la ましいものなので外観が少しも光って見えないということが、実際に判明してい る。これらの「反射防止」及び「着色防止」効果は、前述の「外側」コーティン グの存在により更に際立ったものとなる。 しかし更に、本発明に特有のこの中間フィルムは、板ガラスの反射外観の安定 性及び均一性の両方の改善を可能にすることが分かった。 これは、選択された薄いフィルムの被着製造法に応じて、フィルムの厚みの公 差は一定であり、この公差の範囲外では、肉眼は板ガラス間の外観の変動あるい は1枚の板ガラスのうちの領域間の外観の変動を非常にはっきり見分けるからで ある。これらの変動は、フィルムの厚みの、とりわけ機能性フィルムの厚みの不 均一性により、干渉を起こすように引き起こされる。しかし、本発明に特有の中 間フィルムはこれらの外観の変動を正に実質的に少なくすることが分かっており 、これにより、選択された被着の方法に応じて、真珠光沢又は光学的外観の欠陥 によるフィルム被着後の板ガラスの廃棄率を有意に低下させることが可能になり 、もしくは逆に、フィルムの厚みに関してそれほど厳しくない製造公差の採用が 可能になり、これは板ガラスの品質あるいはその製造の利益性の観点から有利で ある。 好ましくは、本発明による中間フィルムの厚みの範囲内での屈折率の全体の変 動は、少なくとも0.2に等しい値であるように、とりわけ0.25〜0.80となるよう に選択される。 従って、この屈折率勾配における最小屈折率は好ましくは1.45〜1.60である一 方、最大屈折率は好ましくは1.70〜2.35である。最小屈折率と最大屈折率との差 は、実際には、最適の方法で本発明の有利な効果を得るために、比較的大きくな るように選択される。 この屈折率勾配を生じさせる好ましい方法は、中間フィルムの屈折率を機能性 フィルムの屈折率に近い値から基材の屈折率に近い値へと低下させるものである 。 中間フィルムの幾何学的厚みに関しては、これは好ましくは30〜120nmとなる ように、例えば40〜120nm、とりわけ45〜90nmあるいは50〜100nmとなるように選 ばれる。この厚みは、実際のところ、屈折率勾配を現実に生じさせることができ るのに十分でなければならない。 この屈折率勾配を形成する様々な方法が可能である。最も簡単な方法は、中間 フィルムの化学組成を、その厚みの全体にわたり、とりわけ屈折率の異なる少な くとも2種の成分を混合し、屈折率が最大の一成分又は複数成分の混合物の量を その厚みを通して徐々に減らすことによって、漸進的に変えることで得ることで ある。これら の成分の選定は、例えば次のとおりにすればよい。すなわち、低屈折率の成分と しては、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸炭化ケイ素が適当であり、また高屈折率 の成分としては、酸化スズ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム 、酸化マグネシウム、酸化バナジウム、酸炭化ケイ素もしくは窒化ケイ素、ある いはこれらの成分のうちの少なくとも2種の混合物が適当である。 この勾配は、真空技術を用いるか、もしくは熱分解により、とりわけ気相での 熱分解によって得ることができる。このために特に適したガス供給ノズルが、本 発明に従って設計されている。このノズルは、ガラスがフロートガラスの帯の形 をしていて、そして好ましくは実際のフロート浴の室内にある場合には、そのガ ラスの上に、その走行方向を横切って配置される。これは、第一の上流ヒールピ ース、第二の上流ヒールピース、中央の異形ブロック、及び下流ヒールピースを 含む。二つの上流ヒールピースの間に第一の前駆体ガス噴射スロットが作られ、 そして中央ブロックと下流ヒールピースの間に第二の噴射スロットが作られる。 未反応の気体流出物を排気するためのスロットが、中央の異形ブロックと下流ヒ ールピースの間に設けられる。こうして、これらのスロット全て、並びにヒール ピースの下面と中央ブロックの下面は、二つの噴射スロットに供給されるガス流 を、ほぼU字形の流路により、被着帯域のガラスに沿って案内する。被着帯域に おいてこれら二つのガス流の間に部分的且つ漸進的な混合を生じさせ、こうして 所望の組成勾配を作りだすために、ノズルの特定の幾何学的パラメーターを調節 する。二つの重要なパラメーターは、一方は噴射スロット間の距離1であり、他 方は二つの上流ヒールピース及び中央ブロックの相対的配置である。こうして、 所望の効果をあげるために、好ましい態様では、中央ブロックの下面はそれに隣 合う第二の上流ヒールピースのそれより も高いレベルにあり、そしてこの第二の上流ヒールピースの下面自体は第一の上 流ヒールピースのそれよりも高いレベルにある。 二つの噴射スロット間の距離1に関しては、被着帯域の全長の最大でも四分の 三に等しく、とりわけこの全長のおよそ1/4から2/3となるように選ぶのが 有利である。 本発明による中間フィルムを製造するため所望の屈折率減少勾配を得るために は、最大屈折率を持つ、所定の屈折率の酸化物(TiO2、SnO2、ZrO2、MgO、V2O5 、SiOxCy、Si3N4、これらの酸化物のうちの少なくとも2種の混合物、又はこれ らの酸化物のうちの一つとAl2O3との混合物)の形に熱分解する反応性混合物を 第一の噴射スロットに供給し、最小屈折率を有する酸化物(例えばSiO2のような もの)の形に熱分解する反応性混合物を第二の噴射スロットに供給することが必 要である。 もちろん、逆に増大する屈折率勾配を得るのが所望であるならば、この設定を 逆にすることが必要である。 本発明はまた、このようなノズルを使用する方法、及びこの方法によって得ら れた板ガラスにも関する。 機能性フィルムの上にある、前述のいわゆる「外側」の薄いフィルムに関して は、これは好ましくは屈折率が1.4〜1.7であり、そして幾何学的厚みが70〜120n mであるように選ばれる。これは、そのような特性であれば、最適な光学的外観 が得られ、とりわけ光反射率RLの低下が最大となり、それゆえに結果として光 透過率TLの増加が最大となるからである。そうするためには、様々な誘電体を 選ぶことが可能であり、特に次に挙げる成分のうちの少なくとも1種、すなわち 酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化アルミニウム、又は酸化ケイ素 と酸化アルミニウムの混合物、更にフッ素タイプのハロゲンを含有しているもの のうちの少なくとも1種 を基にしたものを選ぶことが可能である。 このフィルムを製造するためには、真空成長技術、特に反応性又は非反応性の スパッタリングタイプの技術を利用することができる。特にフロートガラスへの 連続の被着(堆積もしくは成長)については、熱分解技術、とりわけ気相におけ る、CVD(「化学気相成長」)とも呼ばれる技術を使用することも可能であり 、この方法では、ジエチルシランSi(CH3)2H2、ヘキサメチルジシラン(CH3)3-Si- Si(CH3)3、テトラエチルオルトシリケートSi(OC2H5)4、ヘキサメチルジシロキサ ン(CH3)3-Si-O-Si(CH3)3、オクタメチルシクロテトラシロキサン((CH3)2SiO)4、 テトラメチルシクロテトラシロキサン(CH3HSiO)4、更にはヘキサメチルジシラザ ンもしくはテトラメチルシランのような、有機ケイ素の前駆体を、窒素タイプの 不活性の希釈ガス中において、例えば酸素のような酸化ガス(もしくは、このほ かの例えばH2O又はN2Oのようなもっと弱い任意の酸化ガス)と組合わせて使用し 、及び/又は、公知の有機金属の前駆体、特にアルコキシド又はβ−ジケトン官 能基を有するものを使用する。粉末又は液相熱分解を用いる被着(成長もしくは 堆積)技術を採用することも可能である。この「外側」フィルムの構造及び製造 法の更に詳しいことについては、前述の国際特許出願公開第WO-94/25410号パン フレット、及びヨーロッパ特許第EP-0712815号明細書に対応しているフランス特 許出願第FR-94/13911号明細書を参照することができる。 本発明による機能性フィルムは、例えば、前述の特許出願明細書に記載された タイプのフィルムである。従って、それは一般に屈折率が約1.8〜2であり、そ して熱的及び電気的性能の十分なレベルを保証するために、幾何学的厚みが少な くとも300nm、特に350〜550nmである。それは、ドープされた1種又は複数種の 金属酸化物 を基にしたものでよく、例えばスズをドープした酸化インジウムITO、フッ素 をドープした酸化スズF:SnO2、インジウムをドープした酸化亜鉛In:ZnO、フッ素 をドープした酸化亜鉛F:ZnO、アルミニウムをドープした酸化亜鉛Al:ZnO、又は スズをドープした酸化亜鉛Sn:ZnOタイプのものを基にすることができる。 このフィルムは、反応性又は非反応性のスパッタリングタイプの真空成長技術 を用いて、あるいは熱分解技術、特に粉末化合物の熱分解により、製造すること ができ、特にフィルムがF:SnO2又はITOで作られる場合には、これは好ましくは 、フロートガラスの帯上で直接、連続的に実施される。 粉末熱分解を使用すれば、フランス特許第2380997号明細書に記載されている ような、粉末状のジブチルスズオキサイド(DBTO)と気体の無水フッ化水素酸を 用いて、またヨーロッパ特許出願公開第EP-A-178956号又は第EP-A-039256号明細 書に記載されたようにジブチルジフルオライド(DBTF)を、ことによってはDBTO との混合物として用いて、F:SnO2フィルムを製造することが可能である。 ITOフィルムに関しては、例えば、ギ酸インジウムとヨーロッパ特許出願公開 第EP-A-192009号明細書に記されたDBTOのようなスズ化合物とを使って、それら を得ることができる。 F:SnO2フィルムは、化学気相成長又はCVDにより、とりわけヨーロッパ特許 出願公開第EP-A-027403号明細書に記載されたように、例えば(CH3)2SnCl2、(C4H9 )2SnCl2、Sn(C2H5)4のようなスズ化合物と、例えばCCl2F2、CHClF2及びCH3CHF2 のような有機フッ素化合物との混合物を用いるか、さもなければモノブチルトリ クロロスズとヨーロッパ特許出願公開第EP-A-121459号に記載されたクロロジフ ルオロメタン、もしくは四塩化スズSnCl4のような化合物を用いて、得ることも 可能である。 このF:SnO2フィルムは、特にフランス特許第2211411号明細書に記載されたよ うに、適当な有機溶媒中のスズアセチルアセトナト又はジメチルスズ−2−プロ ピオネートを用いて液相で得ることもできる。 インジウムをドープしたもしくはアルミニウムをドープした酸化亜鉛のフィル ムも、ヨーロッパ特許出願公開第EP-A-385769号明細書に記載されたように、ジ エチル亜鉛又は酢酸亜鉛と、トリエチルインジウム、塩化インジウム又はトリエ チルアルミニウム、塩化アルミニウムを用いる化学気相成長により得ることがで きる。 従って、ことにより外側フィルムと組み合わされた、本発明による中間フィル ムを用いると、本発明による薄いフィルムの積重体は熱的、美的及び光学的観点 から、非常に高い性能を示す。得られた板ガラスは、例えば少なくとも75%、と りわけ少なくとも80〜85%の、高い光透過率を示し、低い光反射率を示し、「フ ィルム側」での青色の反射の残留色を示し、残留色が多くても5と等しい表色系 (L*,a*,b*)における彩度C*を示す。最終的に、この板ガラスの放射率は 大きく低下し、ε値は大きくとも0.18である。 それらを二重窓ガラスとして取り付ける場合には、こうしてそれらは少なくと も70%の光透過率の値を達成する。 本発明に従って被覆された一体式の基材は、積層板ガラスに又は二重ガラスタ イプの断熱多重窓ガラスに組込むことができる。後者の場合、フィルムを備える 基材は二重窓ガラスにおいて、建築物のカーテンウォールとして装着されると当 該フィルムが面3(全ての多重窓がラスにおける基材の面は慣習として外側から 内側へ向かって指示される)に位置するように配置される。 既に述べたように、任意のタイプの被着(堆積又は成長)技術を、機能性フィ ルム、その中間フィルム、及びことによりその外側の フィルムを被着させるのに使用することができる。特に、これらのフィルムのう ちの少なくとも一つは、それが金属酸化物を基にしている場合には、真空技術に より、特にスパッタリングにより、ことによっては酸素の存在下での反応性スパ ッタリングによって、適当な組成の金属合金製又はセラミック製のターゲットを 用いて、被着することができる。 とは言え、フィルムのうちの少なくとも一つを被着させるためには、前述の固 体、液体又は気体の熱分解技術を使用することが好ましく、これは、この種の技 術はガラスの帯上に連続式に被着するのを可能にするからである。 このように、本発明による積重体を得るための好ましい態様は、フロート室内 においてガラスの帯上にCVDにより中間フィルムを最初に被着し、次に特にや はりそのフロート室内においてCVDにより、もしくはフロート室と徐冷がまの 間での粉末化合物の熱分解により、機能性フィルムを被着し、そして最後に外側 相を、徐冷がまの前あるいは徐冷がま内でのCVDによるか、あるいは機能性フ ィルムの被着直後の粉末の熱分解により被着することである。 これ以上の詳細と有利な特徴は、下記の図面を参考に、以下の限定を意図しな い説明用の態様の説明から明らかになろう。 図1は本発明に従って被覆されたガラス基材の断面図であり、 図2は本発明による屈折率勾配をつけた中間フィルムの被着に適合したCVD ノズルの断面図であり、 図3〜5は本発明による中間フィルムのSIMSプロフィールであり、 図6及び7は本発明による中間フィルムの屈折率勾配及び化学組成を示すグラ フである。 図1及び図2は両方とも、それらをより容易に検討するため図示 された種々の材料/構成要素間の相対比を厳密に表すものではない非常に模式的 に表現した図であることに注目すべきである。例1〜7 例1〜7は、本発明に従って製造されるものであり、数学的なモデル計算の結 果である。それらは、図1に従い、厚さ4mmの透明なソーダ石灰ケイ酸塩ガラス 製の基材1をモデル計算する。これは、前述の特許明細書に記載されたようにDB TFを用いる粉末熱分解により公知の方法で得られるF:SnO2を基礎材料とした低放 射率のフィルム3で被覆され、そして次にケイ素とアルミニウムの混合酸化物を 基礎材料とした、フッ素も含む、外側フィルム4で被覆され、このフィルムはま た、ヨーロッパ特許第0712815号明細書に対応している、フランス特許第2727107 号の番号で刊行されたフランス特許出願94/13911号明細書の教示に従って、テト ラオルトシリケートTEOS、アルミニウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、 及び酸素を用いるCVDにより公知の方法でもって得られる。基材1と機能性フ ィルム3との間には、減少する屈折率勾配を有する、すなわちその厚さを通して ガラス1との界面からF:SnO2フィルム3との界面まで屈折率が漸進的に減少する 、中間フィルム2が挟みこまれる。この勾配を得るためには、フィルムの化学組 成をその厚みを通して徐々に変更し、このフィルムは、屈折率が最高の成分の比 率が漸進的に減少する酸化物の混合物からなる。このために、図2に例示され且 つ後で詳細に説明される供給ノズルを使用し、適当なケイ素前駆体及び有機金属 前駆体を用いるCVD被着法が選択される。この中間フィルム2の低屈折率成分 は、この場合、酸化ケイ素であり、かつその気体前駆体は、特にテトラエチルオ ルトシリケートTEOS、シランSiH4、又はテトラメチルシランSi(CH3)4から選択す ることができ、これ又はこれらはO2、N2O又はH2Oタイプの酸化性前駆体と組 合わされる。 高屈折率の成分は、気体前駆体としてモノブチルスズトリクロライド又はジブ チルスズジアセテートを用いて酸化スズから、気体前駆体としてチタンテトライ ソプロピラートタイプのチタンアルコキシドを用いて酸化チタンから、気体前駆 体としてZrヘキサフルオロアセチルアセトネートのようなジルコニウムアセチ ルアセトネート又はジルコニウムテトラブトキシドを用いて酸化ジルコニウムか ら、もしくは最後に、気体前駆体としてアルミニウムアセチルアセトネート又は アルミニウムヘキサフルオロアセチルアセトネートを用いて酸化アルミニウムか ら、作ることができる。酸化マグネシウムMgOも使用することができ、この場合 マグネシウムアセチルアセトネート、マグネシウムエチラート、マグネシウムヘ キサフルオロアセチルアセトネート又はマグネシウムトリフルオロアセチルアセ トネートタイプの気体前駆体が用いられる。酸化バナジウムV2O5を選択すること も可能であり、そしてそれはバナジウムテトラエチラートのようなバナジウムア ルコキシドから、あるいはVCl5のようなハロゲン化物もしくはVOCl3のような酸 塩化物から得ることができる。酸炭化ケイ素SiOxCyも使用することができ、その 屈折率はその炭素含有量を変えることによって調節する。これらの前駆体は、具 体的にはシランとエチレンとO2、H2O又はN2Oのような酸化剤との混合物であるこ とができる。最後に、窒化ケイ素Si3N4を選ぶこともでき、これはシランとアン モニア及び/又はアミンとの気体混合物から得ることができる。 これらの例のために使用した態様は、中間フィルムの組成が酸化スズに近い組 成から酸化ケイ素に近い組成まで変化する2成分系である。 しかしながら、別の2成分系である、SiO2/MgO、SiO2/V2O5、Si O2/TiO2、SiO2/ZrO2、SiO2/SiOxCy又はSiO2/SiC型も適し、3成分系、例えばガ ラスに近いAl2O3/TiO2混合物から出発し、SiO2タイプの組成物で終了する3成分 系も適している。 これらの全ての例において、機能性フィルム2は410nmの幾何学的厚みを有し 、外側フィルム4は約93nmの幾何学的厚みを持つ。 下記の表1は、これらの各例について、中間フィルムの幾何学的厚みt、Δri で示されるその厚みを通しての全屈折率変化、更にはri(min)で示される機能性 フィルム3に近いその最小屈折率、及びri(max)で示される基材1側の最大屈折 率をまとめている。 下記の表2で比較するのは、これらの例に従った被覆された基材全てに関して D65光源を用いて測定した分光光度データである。「フイルム側」の反射におけ るこれらの基材の測色特性をまとめるのに使用した略号は、下記の意味を有する 。 ・a*、b*は(L*,a*,b*)測色系における係数である。 ・C*は、やはりこの系における、(a*2+b*21/2に等しい彩度の値である 。 ・ΔC*は、機能性フィルム2の厚みが、その平均値410nmの周 りで±50nm変動した場合に観測された彩度の変動である。 更に、これらの例による被覆された基材は全て、約86%の高い光透過率TLと 、約4〜5%の「フィルム側」での低い光反射率を有している。 比較例8及び9 これらの二つの比較例は、前述の例におけるのと同じ特性を有する、基材1、 機能性フィルム3及び外側フィルム4をモデル計算する。 一方の例8の場合においては、中間フィルム2は、前述のヨーロッパ特許出願 公開第EP-0573325号明細書に記載されたように得られた、その厚みを通じ約1.75 の一定の屈折率を有し、幾何学的厚みが60nmに等しい、SiOxCy物質からなる。 例9の場合には、中間フィルム2は、SiO2/SnO2混合物を基礎材料としている が、屈折率勾配が増加して減少せず、その屈折率がガラス(純粋なSiO2)に近い 約1.45からF:SnO2フィルムに近い約1.85(ほとんどSnO2)まで変化し、幾何学的 厚みが60nmであるものである。 下記の表3は、これらの二つの比較例について上記の表2と同じ 分光光度データを示している。 これらの結果について、様々な解釈ができる。 表2は、本発明による全ての被覆された基材は、「フィルム側」に、青色(わ ずかに正のa*及び負のb*)の反射を有し、この値は、これらの被覆された基材 を面3として薄いフィルムを有するように二重窓ガラスとして装着する場合に認 められる。 従って、これは、大きくとも約5を維持する彩度のために、魅力的で且つそれ ほど濃くはない色である。 表3から、比較例による被覆された基材も青−紫色を呈するとは言え、他方で その色相は、その彩度が明らかにこの5の値を超えているので、もっと濃い。 しかし、これらの二つの表を比較することによって特に明らかになるのは、本 発明による例の彩度の変動ΔC*は、機能性フィルムの厚みの無視できるもので はない変動に対して最大で約3を維持しているので、比較例のそれらよりもはる かに小さいという事実である。実際、工業ラインにおいては、被着の厚さは±50 nmよりはるかに少ない変動で制御することができ、これは現実の工業生産の条件 下での、全体としての本発明の被覆された基材は、非常に均一性の高い視覚効果 をもたらし、差異は肉眼の感受性の閾値未満にとどまるということを意味するこ とは言うまでもない。これは、比較例の場合には当てはまらない。 中間フィルム2と外側フィルム4との組み合わせが、非常に低い「フィルム側 」のRL値を伴う、非常に顕著な反射防止効果を得る のを可能にすることも注目することができる。 次に、勾配をつけた中間フィルムの被着を可能にした、図2によるノズルに戻 ることにする。 この図は、フロート浴の室を所定の方向に進むガラスの帯5を示している。こ の帯が寸法安定性を獲得する浴の帯域において、この帯の上に、気体前駆体が高 温ガラスと接触すると反応し分解して酸化物になるように高温ガラスの表面へ気 体前駆体を供給するためノズル6を取り付ける。このノズルは、ガラスの帯を横 切って配置され、その幅の全体にわたって延在する。本発明を実施するために重 要なノズルの構成要素のみが図示されており、そしてここにおいて説明される。 (一般的な操作について更に詳しいことについては、例えばヨーロッパ特許出願 公開第EP-A-499523号明細書、又は特にヨーロッパ特許出願公開第EP-A-518755号 明細書を参照することができる。)この図は、中央の異形ブロック7、第一の上 流ヒールピース8、第二の上流ヒールピース9及び下流のヒールピース10を示し ている。これらの用語「上流」及び「下流」は、便宜的に選択したものであり、 それらはガラスが進む方向に関して定義される。第一の前駆体ガス供給スロット 11は、第一の上流ヒールピース8と第二の上流ヒールピース9の間に作られ、か つ第二の前駆体ガス供給スロット12は、第二の上流ヒールピースと中央の異形ブ ロック7の間に作られる。中央ブロック7と下流ヒールピース10の間には、未反 応の気体流出物を捕獲するように上部で吸引装置に接続した排気スロット13が配 置されている。これらのスロットの全て、並びに第二の上流ヒールピースと中央 の異形ブロック7の下面は、気体が被着帯域15に対応する長さLにわたってガラ スの帯の表面に沿って流れるようにする。屈折率勾配を得ることができるように 、いくつかの条件が一緒に満たされる。 第一に、これらのスロットのおのおのには前駆体ガスの「完全な」混合物、す なわちそれ自身で所望の酸化物を得るために必要な全ての成分を有する混合物を 供給する。 例えば、第一のスロット11には、SnO2の被着に適した反応性混合物、H2O又はN2 Oタイプの「弱」酸化剤と組合わせられたモノブチルスズトリクロライドか、あ るいはジブチルスズジアセテートのいずれかが供給され、そして窒素タイプの不 活性キャリヤガスによって搬送される。第二のスロット12には、最小屈折率の酸 化物、この場合にはSiO2、の被着に適した反応性混合物、すなわちやはりH2O又 はN2Oタイプの「弱」酸化剤と組み合わされたTEOSが供給される。 しかし、この原理に変更を加えてもよいことに注目すべきである。例えば、勾 配をつけた中間フィルムを作るために、SiOxCy/SiO2系を選択し、SnO2/SiO2系 を選択しなかった場合には、SiO2を製造するための前駆体の“完全な”混合物、 特に不活性ガス中のTEOS及び酸化剤の混合物を、二つの噴射スロットのうちの一 方に供給し、そして他方の噴射スロットには、SiOxCyを製造するための前駆体の “完全な”混合物、特に不活性ガス中のSiH4+エチレンの混合物か、もしくは単 にエチレンを、炭素源として供給する(フィルム中の炭素含有量の変動はその屈 折率の変動を左右する)ことを選択することが可能である。 次に、これらの各スロットからやって来てガラスに沿って流れる二つのガス流 の部分的且つ制御した混合を促進することが必要である。このために、様々な幾 何学的パラメーターを定めなければならない。 一方では、前述の二つの供給スロット11と12の間の、ガラスの進行方向に平行 に測定される距離1が重要である。ここでは、これは 1/Lが約0.27となるような値となるように選ばれる。 他方で、各種のヒールピース及び中央ブロックの相対的配置が重要であり、ノ ズルはまず第一に、ガスを被着ゾーンに閉じ込めるのを保証するため、第一の上 流ヒールピース8及び下流ヒールピース10の下面がガラスの表面に非常に接近す るように、例えば2〜5mmの距離になるように配置される。こうして、上流ヒー ルピース及び中央ブロックの下面も、第二の上流ヒールピース9が第一の上流ヒ ールピース8よりもΔh1だけ高くなるように、且つ中央ブロック7が第二の上流 ヒールピース9よりもΔh2だけ高くなるように配置される(例えば、Δh1≒Δh2 ≒4mmが選択される)。 次に、第二の上流ヒールピース9の「ノーズ」を適切な形状にする(ヒールピ ース9の「ノーズ」とは、ガラス5の表面に最も接近し、そして噴射スロット12 が被着帯域15に入る箇所を定める、ヒールピースの領域を意味している)。 実際のところ、前述の勾配を得るためにノズルを働かせる方法は次のとおりで ある。すなわち、第一の前駆体ガス流が、断面(sec-tion)h1を有する第一の噴 射スロット11からやって来る。第二の前駆体ガス流は断面h2を有する第二の噴射 スロット12からやって来て、そして、第一の上流ヒールピース8の下面と下流ヒ ールピース10の下面によって定められた平面と中央ブロック7との間で測定され た、被着帯域15の高さはh3の値を持つ。 被着帯域15におけるガラスに沿ったガス流の層流を保証するためには、下記の 関係を満足する。 h1+h2=h3 (1) (又はΔh1+Δh2=h3、ここではh1=Δh1及びh2=Δh2を選択) この場合、h1≒h2を選択し、かつこれらの両方の高さが2mmと8mmの間、特に 約4mmであれば、h3は約8mmである。 しかし、被着帯域全体にわたり関係(1)が満たされると、現実には所望の勾配 を得ることなく、二つの重なった層、一方はSnO2のそして他方はSiO2の層が、実 際に得られよう。勾配を得るためには、被着帯域15において、とりわけ第二の噴 射スロット12がこの帯域15に入る領域において、局所的な乱流領域を作りだすこ とが実際問題として必要である。このために採用されたヒールピース9のノーズ の形状は断面h2’のようなものであり、スロットはこの箇所で局所的に広げられ る。 適当な「ノーズ」の形状は、例えば図に示すように、角が切断された斜角つき の形状、又はいくぶんか丸みをつけた形である(図2の点線は考えられる別の輪 郭を示している)。 実際は、この箇所では、被着帯域の高さはh1+h2’と等しく、すなわちh3より も大きくなる。 従ってこのガス流は一部が混合し、その結果勾配を作りだす。実際には、局所 的広がりh2’が大きくなればなるほど、2種のガス流間の混合が多くなり、且つ 種々の前駆体間の相互分散がより多くなろう。 従って、被着帯域の領域1においては、酸化スズ前駆体のみがガラスと接触し 、それゆえ実質的に純粋なSnO2の薄いフィルムが最初に被着する。次に、この領 域1の終点から、二つの反応性混合物が一緒に反応し始め、蒸着物がSiO2に富ん だものになるよう、漸進的にSnO2が少なくなってくる。 従って本発明によるノズルは、屈折率及び/又は化学組成の勾配を有するフィ ルムを得るのを可能にする。連続した噴射スロットに前駆体を導入する順番を選 択することによって、その厚さを通して屈折率が増加又は減少するフィルムを得 ることが可能である。例10〜12 これらの例は、上述のノズルを用いて、厚さ4mmのソーダ石灰ケイ酸塩ガラス 基材上にガラスから遠ざかるにつれて屈折率が漸進的に減少するSnO2/SiO2を基 にしたフィルムを被着させることによって製造した。 第一のスロット11にはジブチルスズジアセテートDBTAを供給し、そして第二の スロット12にはTEOSを供給する。 下記の表4は、これらの三つの例について、TEOS及びDBTAの容積流量の比R、 nm単位で表したフィルムの厚みt、及び表1で採用したのに従ったri(min)及びr i(max)の値を示す。 このように被覆されたこれら三つの基材をSIMS(二次イオン質量分析)によっ て分析した。図3、4及び5は、それぞれ例10、11及び12によるフィルムに対応 している。これらのグラフの横軸はμmで表した分析の深さを示し、縦軸は対数 スケールで表示した1秒当たりのカウント数を表す。 これらの三つのグラフには本発明に特に関係するもののみを示した。 これらを検討することによって、二つの領域を区別することができ、領域Aは ガラスに対応しており、そして領域Bはフィルムに対応していることがわかる。 領域B内において、領域B1はフィルムのうちの酸化スズに富む部分であり、領 域B2はフィルムのうちの酸化ケイ素に富む部分である。 ナトリウム含有量の変動を検討することによって、本発明による フィルムは、とりわけ領域B2において、この元素の拡散に対する障壁を形成す ることが可能であることが分かる。 アルミニウム含有量はガラス/フィルム界面を見分けるのを可能にする。 図6及び7は、これらの分光光度分析をコンピューター解析することによって 得られた。これらの二つの図において、黒い菱形で識別される曲線は例10に対応 し、白の四角で識別されるものは例11に対応し、黒の四角で識別される曲線は例 12に対応している。図6において、横軸はnm単位で表したフィルムの厚みであり 、縦軸はその屈折率である。図7においても、横軸はnm単位で表した層の厚みで あり、縦軸はフィルム中のSnO2の重量百分率である。 これらの二つのグラフは、本発明で要求される屈折率及び化学組成の勾配の効 果をはっきりと示している。 本発明は全ての態様に対して貢献している。実際に、例えば被着(成長もしく は堆積)パラメーター、例として前駆体の流量、ノズルの下をガラスが進む速度 、ノズルの構造といったもの等を調節することにより、フィルムの厚み、その屈 折率又は組成の変化を選ぶことが可能である。 例11の場合は、屈折率及び組成勾配が一番大きくて、ガラスとの界面に近いと ころでSnO2含有量が90%より多い。 例12においては、ガラスに近いところでも、フィルムは既に80%未満のSiO2を 含有していることが分かる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.機能性、導電性及び/又は低放射率の透明な薄いフィルム(3)を少なく とも一つ備えた透明基材(1)、特にガラス製基材を含む板ガラスであって、当 該板ガラスの光学的及び特に測色上の外観を改善するために、当該基材(1)及 び当該機能性フィルム(3)の間に少なくとも一つの中間フィルム(2)を配置 し、この少なくとも一つの中間フィルムがその厚みを通して減少する屈折率勾配 を有することを特徴とする板ガラス。 2.前記中間フィルム(2)の厚みを通して全体の屈折率の変化が少なくとも 0.2、特に0.25〜0.80であることを特徴とする、請求の範囲第1項記載の板ガラ ス。 3.前記中間フィルム(2)の屈折率勾配における最小屈折率が1.45〜1.60で あることを特徴とする、請求の範囲第1項又は第2項記載の板ガラス。 4.前記中間フィルムの屈折率勾配における最大屈折率が1.7〜2.35であるこ とを特徴とする、請求の範囲第1〜3項の一つに記載の板ガラス。 5.前記中間フィルム(2)の屈折率が前記機能性フィルム(3)のそれに近 い屈折率から前記基材(1)のそれに近い屈折率まで変化することを特徴とする 、請求の範囲第1〜4項の一つに記載の板ガラス。 6.屈折率が変化する前記中間フィルム(2)の幾何学的厚みが30〜120nm、 特に45〜90nmであることを特徴とする、請求の範囲第1〜5項のいずれか一つに 記載の板ガラス。 7.前記中間フィルム(2)の屈折率勾配が、その化学組成を漸進的に変える ことによって、特に異なる屈折率を有する少なくとも 2種の成分を混合し、屈折率が最高である成分又は複数成分の混合物の量を層の 厚みを通して徐々に減少させることによって得られることを特徴とする、請求の 範囲第1〜6項の一つに記載の板ガラス。 8.前記混合物が酸化ケイ素、酸窒化ケイ素又は酸炭化ケイ素を基にした少な くとも1種の低屈折率成分を含むことを特徴とする、請求の範囲第7項記載の板 ガラス。 9.前記混合物が酸化スズ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウ ム、酸化マグネシウム、酸化バナジウム、窒化ケイ素又は酸炭化ケイ素を基にし て選択された少なくとも1種の高屈折率成分を含むことを特徴とする、請求の範 囲第7項又は第8項記載の板ガラス。 10.前記機能性フィルム(3)が、屈折率が1.4〜1.7であり幾何学的厚みが70 〜120nmである少なくとも一つの外側の薄いフィルム(4)で被覆されているこ とを特徴とする、請求の範囲第1〜9項の一つに記載の板ガラス。 11.前記外側フィルム(4)が、酸化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸窒化ケイ素、 酸化アルミニウム、又は混合されたケイ素及び酸化アルミニウムの酸化物の混合 物であり且つフッ素を含有するものを含む群を構成するもののうちの少なくとも 1種を基にした誘電体から作られていることを特徴とする、請求の範囲第10項記 載の板ガラス。 12.前記機能性フィルム(3)が約1.8〜2の屈折率、及び少なくとも300nm、 特に350〜550nmの幾何学的厚みを有することを特徴とする、請求の範囲第1〜11 項の一つに記載の板ガラス。 13.前記機能性フィルム(3)が、スズをドープした酸化インジウムITO、フ ッ素をドープした酸化スズF:SnO2、インジウムをドー プした酸化亜鉛In:ZnO、フッ素をドープした酸化亜鉛F:ZnO、アルミニウムをド ープした酸化亜鉛Al:ZnO又はスズをドープした酸化亜鉛Sn:ZnOを含む群に属する ドープした金属酸化物を基礎材料としていることを特徴とする、請求の範囲第1 〜12項の一つに記載の板ガラス。 14.当該板ガラスの前記フィルム側での反射に青色の残留色があり、この残留 色の(L*,a*,b*)表色系での彩度C*が最大で5に等しく、当該板ガラスが 少なくとも75%、特に少なくとも80〜85%の高い光透過率TLと、最高で0.18の 放射率εとを有することを特徴とする、請求の範囲第1〜13項の一つに記載の板 ガラス。 15.請求の範囲第1〜14項の一つによる前記中間フィルム(2)のような屈折 率勾配を有するフィルムを、フロート浴の室を通って移動するガラスの帯のよう な一方向に移動しているガラス(5)の上に、化学気相成長により形成するため のノズル(6)であり、ガラスが進行する方向を横切って延在しているノズルで あって、第一の上流ヒールピース(8)、第二の上流ヒールピース(9)、中央 の異形ブロック(7)及び下流ヒールピース(10)を含み、当該二つの上流ヒー ルピース間に前駆体ガス噴射のための第一のスロット(11)が画定され、また上 記上流ヒールピース(9)と上記中央の異形ブロック(7)との間に別の組成を 持つ前駆体ガス噴射のための第二のスロット(12)が画定され、上記中央の異形 ブロック(7)と上記下流ヒールピース(10)との間に気体流出物を排気するた めのスロット(13)が画定されていて、これらの全てのスロット(11、12、13) 並びに上記ヒールピースの下面及び上記中央ブロックの下面が、上記噴射スロッ トに供給されるガス流をほぼU字形の流路を備えた被着帯域(15)のガラスに沿 って導き、二つの上記噴射 スロット(11、12)間の距離(1)と、上記第一の上流ヒールピース(8)、上 記第二の上流ヒールピース(9)及び上記中央ブロック(7)の相対的配置とが 、上記被着帯域(15)において二つのガス流間に部分的且つ漸進的な混合を引き 起こすように選択されていることを特徴とするノズル。 16.前記中央ブロック(7)の下面が、それ自身前記第一の上流ヒールピース (8)の下面よりも高いレベルにある前記第二の上流ヒールピース(9)の下面 よりも高いレベルにあることを特徴とする、請求の範囲第15項記載のノズル。 17.二つの前記噴射スロット間の距離1が最大で前記被着帯域の全長Lの3/ 4に等しく、特にこの長さLのほぼ1/4〜2/3に等しいことを特徴とする、請求の 範囲第15項又は第16項記載のノズル。 18.前記第一の噴射スロット(11)に分解して所定の屈折率を有する酸化物の 形態になる気体反応性混合物が供給されること、そして前記第二の噴射スロット (12)に分解して上記の屈折率とは異なる屈折率、特により低い屈折率を有する 酸化物の形態になる気体反応性混合物が供給されることを特徴とする、請求の範 囲第15〜17項の一つに記載のノズル。 19.前記第二の上流ヒールピース(8)が上記被着帯域(15)の近傍で上記第 二噴射スロット(12)を局所的に広げるように構成されていることを特徴とする 、請求の範囲第15〜18項の一つに記載のノズル。 20.前記第二の上流ヒールピース(9)のノーズ(14)が上記被着帯域(15) へと入る領域において前記噴射スロット(12)を広げるように角が切断された又 は丸くされた輪郭を有することを特徴とする、請求の範囲第19項記載のノズル。 21.前記第一の噴射スロット(11)に第一の気体反応性混合物を供給し、前記 第二の噴射スロット(12)に第二の気体混合物を供給して、それにより、これら の二つの混合物から生じるガス流が、これらの二つのガス流の相互拡散を促進し ようとする乱流の領域が作りだされる上記第二の噴射スロット(12)の出口を局 部的に除いて、前記ガラスに沿って前記被着帯域(15)を層流で流れることを特 徴とする、請求の範囲第15〜20項の一つに記載のノズル(6)を使用する方法。
JP9505564A 1995-07-12 1996-07-10 導電性及び/又は低放射性層を含む板ガラス Ceased JPH10507994A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR95/08421 1995-07-12
FR9508421A FR2736632B1 (fr) 1995-07-12 1995-07-12 Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive
PCT/FR1996/001073 WO1997003029A1 (fr) 1995-07-12 1996-07-10 Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10507994A true JPH10507994A (ja) 1998-08-04

Family

ID=9480918

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9505564A Ceased JPH10507994A (ja) 1995-07-12 1996-07-10 導電性及び/又は低放射性層を含む板ガラス

Country Status (13)

Country Link
US (2) US6174599B1 (ja)
EP (1) EP0781257B1 (ja)
JP (1) JPH10507994A (ja)
CN (2) CN1230255C (ja)
AT (1) ATE201864T1 (ja)
CA (1) CA2199622A1 (ja)
CZ (1) CZ295140B6 (ja)
DE (1) DE69613204T2 (ja)
DK (1) DK0781257T3 (ja)
FR (1) FR2736632B1 (ja)
PL (1) PL185279B1 (ja)
RU (1) RU2179537C2 (ja)
WO (1) WO1997003029A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010515648A (ja) * 2007-01-15 2010-05-13 サン−ゴバン グラス フランス 改良された機械的強度を有する層でコーティングされたガラス基板
US8691669B2 (en) 2008-08-13 2014-04-08 Veeco Ald Inc. Vapor deposition reactor for forming thin film
JP2014516019A (ja) * 2011-05-24 2014-07-07 エージーシー グラス ユーロップ 連続層の被覆を持つ透明ガラス基板
KR101418143B1 (ko) * 2009-06-08 2014-07-11 비코 에이엘디 인코포레이티드 기상 증착 반응기 및 박막 형성 방법
US8840958B2 (en) 2011-02-14 2014-09-23 Veeco Ald Inc. Combined injection module for sequentially injecting source precursor and reactant precursor
JP2015516354A (ja) * 2012-03-05 2015-06-11 サン−ゴバン グラス フランス 結露防止ガラス
JP2021014384A (ja) * 2019-07-12 2021-02-12 Agc株式会社 膜付きガラス基板及びその製造方法

Families Citing this family (84)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2759362B1 (fr) * 1997-02-10 1999-03-12 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent muni d'au moins une couche mince a base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium et son procede d'obtention
US6436541B1 (en) 1998-04-07 2002-08-20 Ppg Industries Ohio, Inc. Conductive antireflective coatings and methods of producing same
FR2780054B1 (fr) * 1998-06-19 2000-07-21 Saint Gobain Vitrage Procede de depot d'une couche a base d'oxyde metallique sur un substrat verrier, substrat verrier ainsi revetu
FR2787440B1 (fr) * 1998-12-21 2001-12-07 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent comportant un revetement antireflet
FR2809388B1 (fr) * 2000-05-23 2002-12-20 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant au moins une couche a proprietes thermochromes
US6576349B2 (en) 2000-07-10 2003-06-10 Guardian Industries Corp. Heat treatable low-E coated articles and methods of making same
US20020090521A1 (en) * 2000-09-29 2002-07-11 Tatsuji Nakajima Silica layers and antireflection film using same
US6936347B2 (en) 2001-10-17 2005-08-30 Guardian Industries Corp. Coated article with high visible transmission and low emissivity
WO2003053577A1 (fr) * 2001-12-21 2003-07-03 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Element avec fonction photocatalytique et procede de fabrication de celui-ci
FR2836912B1 (fr) * 2002-03-06 2004-11-26 Saint Gobain Susbstrat transparent a revetement antireflets avec proprietes de resistance a l'abrasion
US20030170605A1 (en) * 2002-03-11 2003-09-11 Egan Visual Inc. Vapor deposited writing surfaces
US7067195B2 (en) * 2002-04-29 2006-06-27 Cardinal Cg Company Coatings having low emissivity and low solar reflectance
US7122252B2 (en) 2002-05-16 2006-10-17 Cardinal Cg Company High shading performance coatings
US7138182B2 (en) * 2002-07-31 2006-11-21 Cardinal Cg Compay Temperable high shading performance coatings
SE523348C2 (sv) * 2002-08-15 2004-04-13 Totalfoersvarets Forskningsins Genomsynlig ruta med radarreflekterande egenskaper
US7005190B2 (en) * 2002-12-20 2006-02-28 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with reduced color shift at high viewing angles
FR2852553B1 (fr) * 2003-03-21 2005-06-17 Saint Gobain Procede pour deposer des films fonctionnels sur des substrats tels que des plaques de verres, et machine de pelliculage pour la mise en oeuvre de ce procede
EP1641723B1 (en) * 2003-06-24 2008-01-02 Cardinal CG Company Concentration-modulated coatings
US7294404B2 (en) * 2003-12-22 2007-11-13 Cardinal Cg Company Graded photocatalytic coatings
JP4182236B2 (ja) * 2004-02-23 2008-11-19 キヤノン株式会社 光学部材および光学部材の製造方法
US7901870B1 (en) 2004-05-12 2011-03-08 Cirrex Systems Llc Adjusting optical properties of optical thin films
ATE377579T1 (de) 2004-07-12 2007-11-15 Cardinal Cg Co Wartungsarme beschichtungen
US7565084B1 (en) 2004-09-15 2009-07-21 Wach Michael L Robustly stabilizing laser systems
EP1797017B1 (en) * 2004-10-04 2010-11-24 Cardinal CG Company Thin film coating and temporary protection technology, insulating glazing units, and associated methods
US8092660B2 (en) * 2004-12-03 2012-01-10 Cardinal Cg Company Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
US7923114B2 (en) * 2004-12-03 2011-04-12 Cardinal Cg Company Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
EP1852402A1 (en) * 2004-12-06 2007-11-07 Nippon Sheet Glass Company Limited Glass member having photocatalytic function and heat ray reflective function, and double layer glass employing it
JP4520418B2 (ja) * 2005-02-18 2010-08-04 キヤノン株式会社 光学用透明部材及びそれを用いた光学系
US8501270B2 (en) * 2005-02-18 2013-08-06 Canon Kabushiki Kaisha Optical transparent member and optical system using the same
FR2903399B1 (fr) * 2006-07-07 2010-10-01 Saint Gobain Materiau anti-salissures et son procede d'obtention
US8153282B2 (en) * 2005-11-22 2012-04-10 Guardian Industries Corp. Solar cell with antireflective coating with graded layer including mixture of titanium oxide and silicon oxide
JP2009534563A (ja) 2006-04-19 2009-09-24 日本板硝子株式会社 同等の単独の表面反射率を有する対向機能コーティング
US20080011599A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Brabender Dennis M Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control
FI20060924A0 (fi) * 2006-10-20 2006-10-20 Beneq Oy Lasinvärjäämislaite ja menetelmä lasin värjäämiseksi
FR2913973B1 (fr) * 2007-03-21 2011-02-18 Saint Gobain Substrat verrier revetu de couches a tenue mecanique amelioree
US7964238B2 (en) * 2007-01-29 2011-06-21 Guardian Industries Corp. Method of making coated article including ion beam treatment of metal oxide protective film
TWI386382B (zh) * 2007-03-26 2013-02-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 低輻射玻璃
WO2009036284A1 (en) 2007-09-14 2009-03-19 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings
US20100037820A1 (en) * 2008-08-13 2010-02-18 Synos Technology, Inc. Vapor Deposition Reactor
US20100037824A1 (en) * 2008-08-13 2010-02-18 Synos Technology, Inc. Plasma Reactor Having Injector
US8851012B2 (en) 2008-09-17 2014-10-07 Veeco Ald Inc. Vapor deposition reactor using plasma and method for forming thin film using the same
US8770142B2 (en) 2008-09-17 2014-07-08 Veeco Ald Inc. Electrode for generating plasma and plasma generator
CN101713062B (zh) * 2008-10-08 2012-03-14 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 遮光元件及其镀膜方法
US8871628B2 (en) 2009-01-21 2014-10-28 Veeco Ald Inc. Electrode structure, device comprising the same and method for forming electrode structure
KR101172147B1 (ko) 2009-02-23 2012-08-07 시너스 테크놀리지, 인코포레이티드 플라즈마에 의한 라디칼을 이용한 박막 형성 방법
JP2010258368A (ja) * 2009-04-28 2010-11-11 Tohoku Univ 電子装置及びその製造方法
CN101618952B (zh) * 2009-07-30 2011-08-17 杭州蓝星新材料技术有限公司 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法
US20110076421A1 (en) * 2009-09-30 2011-03-31 Synos Technology, Inc. Vapor deposition reactor for forming thin film on curved surface
US20110146768A1 (en) * 2009-12-21 2011-06-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Silicon thin film solar cell having improved underlayer coating
FR2956659B1 (fr) * 2010-02-22 2014-10-10 Saint Gobain Substrat verrier revetu de couches a tenue mecanique amelioree
US8834976B2 (en) 2010-02-26 2014-09-16 Guardian Industries Corp. Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same
US8524337B2 (en) 2010-02-26 2013-09-03 Guardian Industries Corp. Heat treated coated article having glass substrate(s) and indium-tin-oxide (ITO) inclusive coating
US8293344B2 (en) * 2010-02-26 2012-10-23 Guardian Industries Corp. Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same
RU2613652C2 (ru) * 2010-02-26 2017-03-21 Гардиан Индастриз Корп. Изделия, включающие противоконденсатные и/или низкоэмиссионные покрытия, и/или способы их изготовления
US8304045B2 (en) 2010-02-26 2012-11-06 Guardian Industries Corp. Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same
US8815059B2 (en) 2010-08-31 2014-08-26 Guardian Industries Corp. System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation
FR2962852A1 (fr) 2010-07-19 2012-01-20 Saint Gobain Electrode transparente pour cellule photovoltaique a haut rendement
US8771791B2 (en) 2010-10-18 2014-07-08 Veeco Ald Inc. Deposition of layer using depositing apparatus with reciprocating susceptor
EP2481833A1 (en) * 2011-01-31 2012-08-01 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Apparatus for atomic layer deposition
US8877300B2 (en) 2011-02-16 2014-11-04 Veeco Ald Inc. Atomic layer deposition using radicals of gas mixture
US9163310B2 (en) 2011-02-18 2015-10-20 Veeco Ald Inc. Enhanced deposition of layer on substrate using radicals
FR2973023B1 (fr) 2011-03-25 2019-08-02 Saint-Gobain Glass France Vitrage multiple isolant comprenant deux empilements bas emissifs
CN102249551A (zh) * 2011-06-15 2011-11-23 蚌埠玻璃工业设计研究院 氟掺杂氧化锌透明导电膜玻璃的生产方法
FR2982608B1 (fr) 2011-11-16 2013-11-22 Saint Gobain Couche barriere aux metaux alcalins a base de sioc
FR2983350A1 (fr) * 2011-11-30 2013-05-31 Saint Gobain Electrode transparente pour cellule photovoltaique cdte
US9110230B2 (en) * 2013-05-07 2015-08-18 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
TWI603110B (zh) * 2013-09-13 2017-10-21 康寧公司 具有保留光學性質的防刮物件
US9335444B2 (en) 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
FR3038597B1 (fr) * 2015-07-08 2021-12-10 Saint Gobain Materiau muni d'un empilement a proprietes thermiques
FR3038598B1 (fr) * 2015-07-08 2017-07-21 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques
US10961148B2 (en) * 2015-09-08 2021-03-30 Saint-Gobain Glass France Glazing including a stack of thin layers
CN107735697B (zh) 2015-09-14 2020-10-30 康宁股份有限公司 减反射制品以及包含其的显示器装置
WO2017100607A1 (en) * 2015-12-11 2017-06-15 Vitro, S.A.B. De C.V. Coating system and articles made thereby
US10112208B2 (en) * 2015-12-11 2018-10-30 VITRO S.A.B. de C.V. Glass articles with nanoparticle regions
CN105734513B (zh) * 2016-03-23 2018-08-24 苏州东山精密制造股份有限公司 透明导电膜的制备工艺
US10773997B2 (en) 2016-05-17 2020-09-15 Saint-Gobain Glass France Transparent pane
EP3458899B1 (de) 2016-05-17 2022-04-06 Saint-Gobain Glass France Head-up-display system
EP3541762B1 (en) 2016-11-17 2022-03-02 Cardinal CG Company Static-dissipative coating technology
CN107253826B (zh) * 2017-05-22 2020-08-04 美的集团股份有限公司 隔热玻璃及其制备方法和电器
EP3837223A1 (en) 2018-08-17 2021-06-23 Corning Incorporated Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures
CN109851231A (zh) * 2019-01-24 2019-06-07 福建工程学院 一种减反射、抗激光损伤玻璃及其制备方法

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1282866A (en) * 1968-08-16 1972-07-26 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the production of glass having desired surface characteristics
JPS4980119A (ja) 1972-12-06 1974-08-02
GB1516032A (en) * 1976-04-13 1978-06-28 Bfg Glassgroup Coating of glass
GB1524326A (en) * 1976-04-13 1978-09-13 Bfg Glassgroup Coating of glass
FR2380997A1 (fr) 1977-02-16 1978-09-15 Saint Gobain Procede de fabrication de vitrages protegeant de la chaleur
US4187336A (en) * 1977-04-04 1980-02-05 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
CA1134214A (en) * 1978-03-08 1982-10-26 Roy G. Gordon Deposition method
CA1138725A (en) * 1978-07-20 1983-01-04 Robert Terneu Glass coating
BE879189A (fr) * 1978-10-19 1980-04-04 Bfg Glassgroup Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus
JPS6018090B2 (ja) 1979-10-03 1985-05-08 日本板硝子株式会社 導電薄膜の形成方法
DE3010077C2 (de) 1980-03-15 1981-07-30 Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen Verfahren zum Aufbringen von mit einem Halogen, vorzugsweise mit Fluor dotierten Zinnoxidschichten auf Glasoberflächen durch Pyrolyse
JPS59162269A (ja) 1983-03-07 1984-09-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd 基体に酸化錫膜を形成する方法
DK160745C (da) 1983-03-14 1991-09-30 Saint Gobain Vitrage Fremgangsmaade ved og dyse til fordeling af et pulverformet materiale paa et underlag
US4595634A (en) * 1983-08-01 1986-06-17 Gordon Roy G Coating process for making non-iridescent glass
FR2570379B1 (fr) 1984-08-22 1986-11-21 Saint Gobain Vitrage Preparation d'une poudre de difluorure de dibutyl etain destinee a la formation d'un revetement sur un substrat, notamment en verre
DE3587294T2 (de) 1985-01-22 1993-09-30 Saint Gobain Vitrage Verfahren zur Herstellung einer dünnen Metalloxidbeschichtung auf einem Substrat, insbesondere Glas und deren Verwendung als Verglasung.
US4793282A (en) * 1987-05-18 1988-12-27 Libbey-Owens-Ford Co. Distributor beam for chemical vapor deposition on glass
GB8824104D0 (en) * 1988-10-14 1988-11-23 Pilkington Plc Process for coating glass
GB8824102D0 (en) * 1988-10-14 1988-11-23 Pilkington Plc Apparatus for coating glass
EP0385769A3 (en) 1989-03-03 1991-11-27 Hi Tech Fusion Limited Bonding sheet materials together
FR2672518B1 (fr) * 1991-02-13 1995-05-05 Saint Gobain Vitrage Int Buse a alimentation dissymetrique pour la formation d'une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux.
FR2672519B1 (fr) * 1991-02-13 1995-04-28 Saint Gobain Vitrage Int Buse a talon aval sureleve, pour deposer une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux.
FR2677639B1 (fr) * 1991-06-14 1994-02-25 Saint Gobain Vitrage Internal Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium.
US5248545A (en) * 1991-06-24 1993-09-28 Ford Motor Company Anti-iridescent coatings with gradient refractive index
NO931606L (no) * 1992-05-26 1993-11-29 Saint Gobain Vitrage Vindusplate med en funksjonell film
FR2704545B1 (fr) * 1993-04-29 1995-06-09 Saint Gobain Vitrage Int Vitrage muni d'une couche fonctionnelle conductrice et/ou basse-émissive.
FR2727107B1 (fr) 1994-11-21 1996-12-27 Saint Gobain Vitrage Vitrage muni d'au moins une couche mince et son procede d'obtention

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010515648A (ja) * 2007-01-15 2010-05-13 サン−ゴバン グラス フランス 改良された機械的強度を有する層でコーティングされたガラス基板
US8691669B2 (en) 2008-08-13 2014-04-08 Veeco Ald Inc. Vapor deposition reactor for forming thin film
KR101418143B1 (ko) * 2009-06-08 2014-07-11 비코 에이엘디 인코포레이티드 기상 증착 반응기 및 박막 형성 방법
US8840958B2 (en) 2011-02-14 2014-09-23 Veeco Ald Inc. Combined injection module for sequentially injecting source precursor and reactant precursor
JP2014516019A (ja) * 2011-05-24 2014-07-07 エージーシー グラス ユーロップ 連続層の被覆を持つ透明ガラス基板
JP2015516354A (ja) * 2012-03-05 2015-06-11 サン−ゴバン グラス フランス 結露防止ガラス
JP2021014384A (ja) * 2019-07-12 2021-02-12 Agc株式会社 膜付きガラス基板及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1102542C (zh) 2003-03-05
ATE201864T1 (de) 2001-06-15
FR2736632A1 (fr) 1997-01-17
FR2736632B1 (fr) 1997-10-24
CZ76197A3 (en) 1997-08-13
DE69613204D1 (de) 2001-07-12
CN1230255C (zh) 2005-12-07
EP0781257B1 (fr) 2001-06-06
CZ295140B6 (cs) 2005-05-18
PL319097A1 (en) 1997-07-21
CN1164848A (zh) 1997-11-12
RU2179537C2 (ru) 2002-02-20
DE69613204T2 (de) 2002-03-21
PL185279B1 (pl) 2003-04-30
DK0781257T3 (da) 2001-09-24
WO1997003029A1 (fr) 1997-01-30
CA2199622A1 (fr) 1997-01-30
CN1436602A (zh) 2003-08-20
US6354109B1 (en) 2002-03-12
US6174599B1 (en) 2001-01-16
EP0781257A1 (fr) 1997-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10507994A (ja) 導電性及び/又は低放射性層を含む板ガラス
KR100186922B1 (ko) 조성구배를 갖는 기층을 포함하는 다층 반사방지피막
EP0994081B1 (en) Solar control coated glass
KR100238740B1 (ko) 유리 기판의 피복법
RU2127231C1 (ru) Остекление и способ его получения
KR100237950B1 (ko) 복사율이 낮은 필름이 제공된 유리 기판을 포함하는 제품 및 이의 제조방법
USRE40315E1 (en) Coated substrate with high reflectance
EP0611733B1 (en) Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glass and coated glass substrates
US7195821B2 (en) Coated substrate with high reflectance
CN1131145C (zh) 防反射薄膜
EP0627391B1 (en) Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making
EP0983972A2 (en) Solar control coated glass
US20060029813A1 (en) Coated substrates that include an undercoating
CN103539365B (zh) 一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃及其制备方法
US5256485A (en) Coated glass and method of manufacturing same
US20080038457A1 (en) Near infrared reflecting coatings on glass
GB2248243A (en) Glass coated with mixed oxide of aluminium and vanadium prior to coating with tin oxide
US7776460B2 (en) Coated substrate with high reflectance
AU4246399A (en) Solar control coated glass
UA65556C2 (en) A coated glass (variants), a method for making the same and coating absorbing radiation of the spectral region adjacent to that infrared
MXPA99007735A (en) Glass coated for so control

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050830

A313 Final decision of rejection without a dissenting response from the applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A313

Effective date: 20060116

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060307

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061212

A313 Final decision of rejection without a dissenting response from the applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A313

Effective date: 20070502

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070612