JPH10503614A - エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法 - Google Patents

エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法

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JPH10503614A JP8504956A JP50495696A JPH10503614A JP H10503614 A JPH10503614 A JP H10503614A JP 8504956 A JP8504956 A JP 8504956A JP 50495696 A JP50495696 A JP 50495696A JP H10503614 A JPH10503614 A JP H10503614A
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マグヌス ベルググレン,ロルフ
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フオルスカルパテント イ リンケピング アクチボラゲット
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Abstract

(57)【要約】 エレクトロルミネッセンス装置は、好ましくは透明又は半透明の材料で構成された基体、その上に適用された第一電極層(11)、それ及び基体(10)の上に適用された発光層(12、13)で、発光能力を示し、共役重合体又は重合体混合物により構成された発光層、発光層(12、13)の上に適用された第二電極層(14)を有し、そのエレクトロルミネッセンス装置には二つの電極層への接続部(15、16)が配備されている。本発明によれば、発光層(12、13)は、別に作られた一体的発光層(13)を有する。好ましくはこの層(13)を一方向に特別に張力をかけて前処理し、この方向に重合体材料中の重合体鎖の主要部分を配向する。好ましい態様として、発光層は幾つかの部分層(12、13)により構成する。そのようなエレクトロルミネッセンス装置の製造では、発光層(12、13)の少なくとも一部分(13)を、この層(13)を最初に作った下のキャリヤー又は支持体から移すことにより適用する方法を用いており、エレクトロルミネッセンス装置の下の部分と積層するための、そのキャリヤーからの移動は最初に行う。なぜなら、発光層(12、13)のこの部分(13)は、前処理、特に一方向への延伸で、重合体材料中の重合体鎖をこの方向に配向する延伸にかけてあるからである。

Description

【発明の詳細な説明】 エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法 本発明は、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、特に発光層とし て共役重合体を有する装置に関する。 本発明が関与するこの種のエレクトロルミネッセンス装置は、屡々報告されて いる。この種の一例として、PCT/WO90/13148、PCT/WO92 /03490、PCT/WO92/03491、PCT/WO93/14177 、PCT/WO94/03030、PCT/WO94/03031、及び米国特 許第5,317,169号明細書を挙げることができる。これらの装置はかなり の程度まで開発されており、J.H.ブロース(Burroughes)その他〔Nature 347 ,539-541(1991)〕により報告されて以来、新しい有用な用途分野が見出されて きている。従って、種々の研究者が、全可視スペクトルに亙ってどのような色の 光でもこれらの装置が発光する結果を与える改良を報告している。〔Gグレム(G rem)その他、Advanced Materials 4,36-37(1992);Dブラウン(Braun)その他、 Applied Physics letters,58,1982-1984(1991);及びCザング(Zhang)その他 、Journal of Electronic Materials,22,413-417(1993)〕。N.C.グリーン ハム(Greenham)その他は、Nature 365,628-630(1993)に高量子効率装置 大面積で可撓性の発光装置を製造する可能性について報告している。 有機分子である共役重合体は、以前には得られなかった新しい可能性を与えて きた。発光装置の材料として共役重合体を用いる一つの利点は、溶媒を用いて層 を処理し構成することができると言うことである〔上記PCT公報、A.アサジ (Assadi)その他、Applied Physics Letters,53,1995(1998)、及びJ.H.ブ ロースその他、Nature 335,137(1988)参照〕。別の利点は、重合体の僅かな化 学的変更により、禁止帯幅(放射される光の色)の調節を行うことができるよう になることである〔B.H.エクスイ(Xui)、Macromolecules 26,4457(1993)及 びR.E.ギル(Gill)その他、Advanced Materials,6,132(1994)〕。 一つより多くの発光層からなるか、又は一つ以上の障壁層からなる装置を作り たいならば、既に存在している層が、その上に位置する次の層を製造する間に損 傷を受けないようにするため、下の層(単数又は複数)を破壊しない異なった溶 媒から異なった層を追加する必要があった。この問題は、20〜100nmの範 囲の厚さを持つ複数の層からなる装置を製造したい場合には、特に容易に想到で きることである。この製造方法の制約は、異なった層に対し異なった種類の共役 重合体を組合せたい場合には選択の自由が限定されるため、障害になることが時 々ある。 従って、本発明の一つの目的は、新しい型のエレクトロルミネッセンス装置を 与えることであり、装置中の異なった層を選択する時に溶媒の種類を限定するこ となく、そのような装置を製造することができる方法を与えることである。本発 明の別の目的は、どのような色の発光でも達成できるように異なった重合体を組 合せる一層大きな選択の自由を与える多層発光装置を製造することである。本発 明の更に別の目的は、そのような装置及びそのような製造方法で、中間工程で、 一つ又は幾つかの特定の層を、他の層に影響を与えずに処理することができるよ うにすることである。 共役重合体の鎖は、本体物質中に無作為的に配向している。鎖の配向によって 、殆ど一次元性の強い異方性を持つ異方性構造体を達成することができる。この 異方性を達成する可能性については、配向した重合体フイルムの光ルミネッセン スの研究〔D.D.C.ブレイドレー(Bradeley)その他、「配向ポリ−(フェニ レンビニレン)の赤外線特性」“Infrared characterisation of Oriented Poly -(phenylenevinylene)”、Polymer 27,1709(1986)、及びT.W.ハグラー(H agler)その他、Physical Review,B 44,8652(1991)〕及び電子伝導度の研究を 通して研究されてきた。これらの研究は全て厚い重合体層について行われてきた が、それらは、その厚さのために、表示装置で利用することができる種類のエレ クトロルミネッセンス装置又は発光ダイオードで用いるのに適さないか、又は少 なくとも欠点を示すものである。 ルミネッセンス重合体を配向することは可能であることは知られていたが、今 日まで極めて薄い共役重合体ルミネッセンス層を用いてルミネッセンスダイオー ドを製造するのに延伸法を一緒に用いることができるようにした人はだれもいな い。その理由は、それらの層がそれ自身形態を維持することができず、そのため キャリヤー又は支持体の上に直接適用することが必要であり、然も、それらキャ リヤー又は支持体の上には既に少なくとも一つの第一電極、即ち、第一電荷注入 層が既に適用されているからである。発光層と一緒にそのキャリヤー又は支持体 を延伸することは不可能であった。そのため、電極又は電荷注入層はそのような 処理中に損傷を受けるか又は撹乱されることになるであろう。今まで知られてい る範囲で、共役重合体を用いて製造されたエレクトロルミネッセンス装置は、全 て等方性を有し、即ち、重合体鎖は無作為的に配向されている。 例えば、コンピュータースクリーンの表示器に関連して偏光を発するエレクト ロルミネッセンス装置又はエレクトロルミネッセンスダイオードについての要件 が存在する。本発明による別の利点は、注入・障壁層を持つ又は持たない2枚の 電極の間に配向されて挟まれた薄い伝導性重合体層からなる、偏光を発する発光 装置を製造することである。本発明の別の利点は、そのような装置を構成する効 果的な方法を達成できることである。 これら及び他の目的は、請求項1に従って達成することができる。装置は請求 項12に従って製造されるのが好ましい。従属項は本発明の好ましい態様を定め るものである。 本発明を使用することにより、支持構造体又は基体で、好ましくは透明又は半 透明の材料から作られたものと、その上に適用された第一電極層、前記第一電極 層及び基体上に適用された発光能力を示す共役重合体の発光層、及び前記発光層 の上に適用された第二電極層を有するエレクトロルミネッセンス装置が得られ、 然も、そのエレクトロルミネッセンス装置には二つの電極層への接続部も与えら れている。 本発明によれば、発光層は、別に作られた発光層及び連続的発光層を有する。 この層は前処理、特に一方向に延伸され、その方向に重合体材料中の鎖の主たる 部分が配向されているのが好ましい。更に別の態様として、発光層は一つより多 くの部分層からなっている。本発明は、電極と発光層(単数又は複数)との間に 配置された電荷キャリヤー移動促進層を追加することによって注入特性が向上し たエレクトロルミネッセンス装置で用いることもできる。 本発明によるこのエレクトロルミネッセンス装置の製造では、発光層の少なく とも一部分がキャリヤーからそれを移すことによって付加される方法を利用する 。発光層を最初このキャリヤー上に形成し、この層を前処理した後、特に重合体 鎖の延伸配向をした後、そのキャリヤーから下の層へ移す。 電界効果トランジスターの製造では、箔層の上に共役重合体の非常に薄い層を 形成し、その箔を重合体層と一緒に延伸して重合体鎖を配向させることは既に知 られている〔P.ダイレクレフ(Dyreklev)、「配向重合体鎖電界効果トランジス ター」(Aligned Polymer Chain Field Effect Transistors)、(Solid State Com munications,vol.82,5,317-320(1992)〕が、この場合重合体フイルムは障 壁箔から分離することは決してない。この文献には、ドープされていない状態の ポリ(3−オクチルチオフェン)の異方性易動性についての研究が与えられてい る。その易動性は、キャリヤーによって重合体フイルムが追加された電界効果ト ランジスターを用いて推定されている。異方性は配向の増加と共に4の値まで増 大している。この文献には、残りのドーパントに関する性質、共役長さでの異方 性、鎖間のそれらに沿った電荷移動の内部異方性、結晶化度、及び単分散体共役 長さが論じられている。この文献には、第317頁に、キャリヤーに重合体フイ ルムを付加し、そのキャリヤー及び重合体フイルムを延伸することによってフイ ルムを配向させることができることが述べられている。パターン化された金属電 極が含まれている異なった基体上のこれらの種類のフイルムについて、0.82 位の高い配向度が報告されている。このことは、延伸配向重合体の電界効果トラ ンジスターを製造する可能性を与えている。この文献では、ポリ(3−オクチル フェニルチオフェン)をポリエチレン箔(PE)のキャリヤーに付加することが 記載されているが、第318頁第10行〜第17行に記載されているように、キ ャリヤーと重合体フイルムの両方を取り外し、それらを構造体にもう一度、異な った配向方向で付加することができ、換言すれば、共役重合体の活性層はキャリ ヤー箔から決して分離されることはない。 本発明は、上記方法とは異なっている。なぜなら、重合体膜がキャリヤーから 分離されるからである。本発明では、キャリヤーは単に一時的キャリヤーとして 使用され、そこで或る中間的処理が行われる。その処理の後で、重合体フイルム を最終的装置又は基体へ移す。 次の実施例では、エレクトロルミネッセンス装置のための基体としてガラス板 を用いて本発明を行なっている。勿論、本発明は他の種類の基体、可撓性基体、 大きな表面積の基体と組合せることもできる。 偏光を発する装置を製造するために本発明を用いた場合、重合体フイルムを最 初の長さを2倍に延伸すると、重合体鎖配向方向と平行な光強度と、配向方向に 対し直角な光強度との間の比である偏光度を大きくすることができる。この延伸 では、配向方向に対し平行なエレクトロルミネッセンス強度と、直角な方向のそ の強度との間に、3.1の偏光度が達成される。延伸方向に対し平行及び直角な 方向の発光スペクトルは余り変化しない。本発明を用いた装置では0.1%の量 子効率が達成されている。 この装置及び同じ種類の共役重合体を基にした他のエレクトロルミネッセンス 装置によると、発光層は二つの電極に挟まれている。本発明では、この発光層は 一つより多くの装置部分からなっていてもよく、発光層と電荷注入・電荷障壁層 の組合せからなっていてもよい。装置にバイアスを加えると、電極は装置、そし て発光層に電荷を注入する。電荷、電子及びホールは、励起された状態、励起子 の形成によって再結合し、それがエネルギーを光として発する。大きな量子効率 を達成するためには、注入した電子によって光子が放射され、正の電極が大きな 仕事関数の材料で、負の電極が低い仕事関数の材料であることである。本発明で は、大きな仕事関数の材料及び低い仕事関数の材料として、夫々ITO(インジ ウム錫酸化物)及びカルシウムを用いる。これらの装置の電極として他の既知の 種類の材料も用いることができ、一つの例は、例えば、ゲラン・グスタフソン(G 合体による可撓性発光ダイオード」(Flexible light emitting diodes from so luble conducting polymers)、vol.357,11 June(1992)pp.477-479〕。こ こでは、ポリ(エチレンテレフタレート)(PET)上のホール注入電極として ポリアニリンが用いられているが、エミッターとしてポリ(2−メトキシ−5− (2′−エチル−ヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン)(MEH−PP V)が用いられ、電子注入層としてカルシウムが用いられている。ポリアニリン の外に、本発明ではホール注入電極としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオ フ ェン)を用いることができる。 唯一種類の重合体材料から、発光層又はサブ(sub)層を作ることができる。こ の発光層又はサブ層を重合体混合物、共重合体、ブロック共重合体、又はそのよ うな重合体の混合物から製造することもできる。そのような混合物では、少なく とも一つの重合体はルミネッセンス性でなければならない。 この別々に作られる層を製造する場合、下で言及する型の既知の回転被覆方法 を主に用いる。しかし、溶液を注型することにより、又は溶融することにより、 そのような層を製造することもできる。また、この薄層を浸漬形成及び塗布する ことも可能である。 前に述べたように、本発明による利点の一つは、別々に作った層を前処理又は 中間工程としての処理にかけ、然る後、それを基体の残部に積層することができ ることである。そのような中間工程は、延伸方向に重合体鎖を配向させるための 延伸でもよい。他の可能な前処理又は中間処理は、その性質又は化学的構造を修 正するための重合体層の化学的処理である。 本発明によるエレクトロルミネッセンス装置の最も有望な用途は、大面積の表 示器としての用途である。それらはそのまま、又は他の既知の装置と組合せて、 例えば、液晶(LCD)と一緒にして用いることもできる。延伸配向した偏光発 光層を製造することができること、及び非延伸基体上でも製造できることにより 、既知の製造工程と、重合体フイルムの溶媒を基礎とした被覆及び偏光フィルタ ーによる光調節性とを組合せることが可能になる。その装置は、慣用的LCDス クリーンのためのバックライトとして用いることもできる。 実施例で述べるように、本発明は、3種類の異なった材料、ポリ[3−(4− オクチルフェニル)−2,2′ビチオフェン](PTOPT)、ポリ[3−(4 −オクチルチオフェン)](POPT)、及びポリ(3−オクチルチオフェン) (POT)に基づいて試験されている。本発明は、どのような種類の薄膜重合体 材料でもキャリヤーから移行させることを目的としている。この広い態様では、 本発明は、PCT公報及び他の公報について上で言及した材料のいずれのものに ついても有用であり、それらの文献は全て参考のためこの記載中に入れてある。 本発明の枠内で、置換ポリチオフェン−及びポリ(p−フェニレンビニレン)− 系重合体、ポリ(p−フェニレン)、又は置換ポリ(チオフェニレンビニレン) を本発明のエミッターとして特別に使用する。 好ましい実施例として、ポリエチレン箔〔GLAD、ドイツ、デュッセルドル フ、ダウブランズ(DowBrands)欧州GmbH〕をキャリヤーとして用いた。他の 種類の一時的キャリヤーも、そのキャリヤー材料が、或る処理後に重合体フイル ムをそのキャリヤーから離すことができる性質を有する限り、用いることができ る。重合体フイルムを次に永久的基体へ移す。 次の実施例では、エレクトロルミネッセンス強度は、光ダイオード〔ハママツ (Hamamatsu)、1010−BR〕を用いて測定した。EL強度は10-12A単位で 与えられている。 本発明の幾つかの実施例を次の図面を参照して下に記述するが、本発明は、そ れらに限定されるものではない。 第1図は、ポリ[3−(4−オクチルフェニル)−2,2′ビチオフェン]の 化学的構造を示す。 第2図は、本発明によるエレクトロルミネッセンス装置の断面図である。 第3図は、電圧(V)の関数として電流(A)、及び電圧(V)の関数として エレクトロルミネッセンス強度を示したグラフである。電流は左垂直軸に沿った 値について黒四角で示されており、エレクトロルミネッセンス強度は、右垂直軸 に沿った値について黒丸で示されている。電圧の値は水平軸に沿って与えられて いる。 第4図は、波長(nm)の関数としてエレクトロルミネッセンスの強度を描い たグラフである。実線は平行方向の強度を示し、点線は垂直方向の強度を示して いる。 第5図は、波長の関数として標準化したエレクトロルミネッセンス強度を示し たグラフであり、実線は平行方向に相当し、点線は垂直方向に相当する。 第6図は、延伸方向に対する角度の関数としてエレクトロルミネッセンス強度 を描いたグラフである。 性能実施例で、何も外に記載されていない限り、全ての工程は室温及び周囲の 雰囲気中で行われた。実施例では、重合体について次の省略が用いられている。 POPT:ポリ[3−(4−オクチルチオフェン)] PTOPT:ポリ[3−(4−オクチルフェニル)−2,2′ビチオフェン] POT:ポリ(3−オクチルチオフェン) PCHMT:ポリ(3−シクロヘキシル−4−メチルチオフェン) PE:ポリエチレン 行われた実施例で論じられている重合体フイルムの厚さは、次のようにして推 定された。それらフイルムの光学的吸収を測定する。次にフイルム厚さを、プロ フィロメーター(profilometer)により測定した厚さに関係付けるデーターを用い てその厚さを計算した。 実施例は、ダイオードの他の部分に積層した、別に作った延伸配向重合体層に よる偏光光源を製造することができることを示している。実施例は、同じ方法を 用いることにより、重合体層を機械的に処理することなく、ダイオードを製造す ることができることも示している。延伸配向した層を有し、PTOPTが発光層 である製造された装置は、0.1%の量子効率及び2Vの電圧でターン(turn)を 示していた。他の種類の材料を用いても同様な結果が得られている。一層よい配 向特性を有する他の材料は、これらの装置で偏光度を増大する。延伸配向層を持 つ又は持たない装置と比較して、本発明を用い、重合体層を延伸しても、性能特 性の低下は全く見られない。 実施例1 ここで行われた実施例では、発光層が一層構造を持ち、別の層として作られ、 製造後エレクトロルミネッセンス装置の層の他の部分に積層することによりエレ クトロルミネッセンス装置を製造した。 POPTを、CHCl31リットル当たりPOPT5gの濃度までクロロホル ム〔CHCl3、プロ・アナリシス(pro analysis)〕に溶解した。厚さ約10μ mのPE箔(商標名GLAD)を円状プラスチック基体(ポリスチレン ペトリ 皿)上に乗せ、その目的はPE箔を平らに保ち、ホトレジスト回転塗布装置に取 付けることができるようにすることにある。PE箔を有するプラスチック基体を ホトレジスト回転塗布装置に、PE箔を上側にして取付けた。ヘキサン〔n−ヘ キサン、C614、プルム(purum)〕をPE箔上に適用し、PE箔を有するプラ スチックム基体を1000rpmで30秒間回転した。PE箔をそのプラスチッ ク基体上で40℃の炉中で10分間乾燥した。次にそのプラスチック基体上の乾 燥したPE箔を再びホトレジスト回転塗布装置に取付けた。POPT溶液をPE 箔上に適用し、それを1000rpmで30秒間回転した。この時間の後に溶媒 を蒸発した。POPT層の厚さは50nmであることが決定された。このように して作られたPOPT及びPEの二層フイルムを、最初の長さの1.5倍に長手 方向に機械的に延伸した。 エレクトロルミネッセンス装置を製造するための第一電極層を有する基体は、 スイス、バルザーズ(Balzers)から商標名BAL−TRACONとして市場で購 入した。この基体は、厚さ2mmのガラスからなり、その一方の側に厚さ100 nmのインジウム錫酸化物(ITO)の被覆を持っていた。この基体を一片が1 5mmの四角な板に切断した。ホトレジストをITO層上に適用し、ホトレジス トがそのガラス板の一方の端の5×15mm2の面積を覆うようにした。ホトレ ジストを100℃で4分間炉中で乾燥した。乾燥後、ITO層のホトレジストで 覆われていない領域を、50%のH2O、50%のHCl及び数滴のHNO3から なる食刻溶液で食刻した。食刻は10分間行なった。次に専門家によく知られた やり方で、特にこの目的のために設計したクリーニング溶液中で20分間濯ぐこ とにより、ホトレジスト層を除去した。その後で基体を、この目的のために特に 設計した別のクリーニング溶液で濯ぎ、次にアセトンで濯ぎ、最終的にエタノー ルで濯いだ。 残留ITO層を有するホトレジストの無い食刻した基体を、銅から作られた加 熱棒上で60℃に加熱した。次にPOPT及びPEの二層構造体を、POPT層 を基体のITO層の方へ向けるようにして基体上に配置した。次に二層構造体を ゴムロールを用いて基体上にプレスした。同時に温度を80〜90℃に上昇させ た。この温度でPE箔を、基体上に残っていたPOPT層から剥がした。 POPT層の上に第二電極層を次のやり方で真空蒸着した。POPT層を有す る基体上に、希望の電極模様に相当する穴を有する遮蔽マスクを取付けた。遮蔽 マスクを有する基体を蒸着装置の蒸着室へ入れた。これをp<10-6トールの圧 力まで減圧した。その後で、最初にカルシウム、次にアルミニウム(純度99. 5%)を層の形にPOPT層の上に適用した。得られたカルシウム層の厚さは2 0nmであり、得られたアルミニウム層の厚さは100nmであった。 次に通常のやり方で両方の電極に接続部を作り、このようにして作られたエレ クトロルミネッセンス装置が6Vの電圧を印加している間、日中に見ることがで きる赤色及び近赤外光を発することが判明した。延伸方向に対し平行に発した光 と、延伸方向に対し直角に発した光との強度比は1.6であった。 実施例2 この実施例では、偏光を発する二つの有機層からなるエレクトロルミネッセン ス装置を製造した。 第一電極層を有し、実施例1のエレクトロルミネッセンス装置を製造するのに 用いることを目的とした基体を、ここでも用いた。 基体を食刻し、ホトレジストを除去した。この後で、基体をPTOPTの層で 回転被覆した。これは、PTOPTの溶液を基体の上に回転塗布することにより 行なった。溶液はPTOPTをクロロホルム中に入れたもの(8mg/ml)か らなっていた。回転速度は1000rpmであった。 キャリヤーである10mmの厚さのPE箔をn−ヘキサン(C614)で10 00rpm(回転)で30秒間洗浄した。次にそのキャリヤーを炉へ移し、40 ℃で10分間乾燥した。次にキャリヤーをホールダーに取付け、次にそれら二つ を回転機の上に乗せた。次にキャリヤーを回転被覆法を用いてPTOPTの第一 層で被覆した。PTOPTはクロロホルム(CHCl3)中に溶解した(8mg/ ml)。次にPTOPT溶液をキャリヤー上に適用し、キャリヤーを1000r pmで30秒間回転した。その後で溶媒(CHCl3)はフイルムを残し、それは 今度は50nmの厚さを持っていた。次にPTOPTフイルムと一緒に箔をその 2倍の長さにした。 ITO電極及びPTOPT層を有する基体を60℃に加熱した。次に延伸配向 したPTOPT層を上に有する長い箔を基体/ITO/PTOPT構造体に、延 伸配向したPTOPTをPTOPTに合わせるようにして付加した。二層構造体 をゴムローラーにより基体構造体へ穏やかにプレスした。同時に温度を80℃〜 90℃に上昇させた。この後でPE箔を取り除き、延伸配向したフイルムを基体 上に残した(基体/ITO/PTOPT/延伸PTOPT)。 PTOPT層の上に、実施例1と同じやり方で真空蒸着により第二の電極を付 着させた。カルシウム層は20nmで、アルミニウム層は100nmであった。 二つの電極に接続部を作った。 この実施例の装置構造は第2図に示されており、基体10、その基体の一方の 端のITO電極11、回転被覆により作られた第一(底部)PTOPT層、延伸 配向及び移行の組合せで回転被覆により作られた第二(別の)PTOPT層13 、及びカルシウムとアルミニウム保護層とからなる金属電極14からなる。二つ の電極11及び14には接続部15及び16も取付けてある。 装置についての測定を行い、結果を第3図〜第6図及び表1及び表2に示す。 エレクトロルミネッセンス装置の挙動は、電流対電圧、スペクトル分布に関す る発光した光の偏光挙動、及びエレクトロルミネッセンス強度の測定によって証 明された。電圧を印加すると、630nm及び680nmの所にピークを有する 広い発光が検出された。エレクトロルミネッセンス強度は、直角方向に比較して 延伸方向に平行な方が大きかった。偏光比は2.4であった。 発光した光の色は赤・オレンジとして記述するのが最もよく、強度は室内の光 中で明確に見ることができるのに充分な大きさの発光であった。第5図の標準化 した発光スペクトルは殆ど差はないが、延伸方向に平行に放射した光については 低いエネルギーの方への僅かな移行が起きていた。このことは、重合体材料を延 伸すると有効共役長さが増大し、それが禁止帯幅の減少をもたらすので、予想さ れることであった。この装置のIV特性は、エミッターとしてPTOPTを用い ているが、重合体層が配向されていない同じ種類の重合体発光ダイオードと非常 によく似ている。このことは、この移行方法を装置の性能を失うことなく、即ち 、適切な重合体フイルムを有するように用いることができることを示している。 この装置の外部量子効率は、3Vでの0.01%から9Vでの0.1%へ変化し ていた。 偏光特性の測定は次のようにして行なった。偏光フィルターを重合体発光ダイ オードと光検出器との間の置いた。或る角度での強度を測定しながら、偏光フィ ルターを回転させた。この結果を第6図に与える。この偏光挙動は、配向MEH −PPV〔TWハグラー(Hagler)その他、Physical Review B 44,8652(1991)〕 についての同様な光ルミネッセンスの測定値に相当する。得られた2.4の偏光 比は、発光が殆ど延伸配向層で起きていることを示している。このことに基づい て、もし発光を全重合体体積に亙って等しく分布させるならば、2.4の偏光比 を達成するには配向層中偏光比が10を越えなければならない。全ての測定は室 温で、周囲雰囲気中で、一つ及び同じダイオードで行われた。 実施例3 実施例2を繰り返した。但しPTOPTの代わりに発光層としてPOPTを用 いた。 電極に対する接続部を同じやり方で作り、PTOPTの代わりにPOPTを延 伸のために用いた。PE/POPT構造体を最初の長さを1.5倍に延伸した。 POPT層の厚さは、延伸工程の前は100nmであった。 次に装置をワイヤーに接続し、電圧を適用した。装置は赤・近赤外の色で偏光 を発した。光は6Vで室内の光中で見ることが充分できる明るさを持っていた。 延伸方向に平行な強度は、延伸方向に平行な強度よりも1.6倍大きかった。電 圧によるターン及び量子効率は推定しなかった。 実施例4 実施例2をもう一度繰り返した。但しここでは発光材料としてPOTを用いた 。PE/POT構造体の伸びは、ここでは2.5倍であった。POTフイルムの 厚さは延伸工程前では100nmであった。 その後で、装置をワイヤーに接続し、電圧を適用すると、装置は赤・オレンジ の色で偏光を発した。光は6Vで室内の光中で見ることが充分できる明るさを持 っていた。配向方向に平行なエレクトロルミネッセンス強度は、配向方向に直角 な強度よりも3.1倍大きかった。電圧によるターン及び量子効率は推定しなか った。 実施例5 ここで行われた実施例では、エレクトロルミネッセンス装置を製造した。この 場合発光層と電極との間にPCHMTの電荷移動層を挿入した。 PTOPTをクロロホルム中に溶解した(5mg/ml)。10mmの厚さを 有するPE箔(GLAD)を、PE箔を処理中平らな状態に固定することを目的 として、円状プラスチックホールダー(ポリスチレン)上に取付けた。PE箔を 有するホールダーを回転機に取付けた。PE箔を回転機で1000rpmで30 秒間回転しながら、PE表面をヘキサン(n−ヘキサン)で奇麗にした。次に箔 を炉中40℃で10分間乾燥した。次にPE箔を有するホールダーを再び回転機 に取付けた。PE箔上に1000rpmでPTOPT溶液を30秒間回転被覆し た。この後、重合体を完全に乾燥し、溶媒を残さなかった。PTOPTフイルム の厚さは500nmであった。 第一電極層を有し、実施例1でエレクトロルミネッセンス装置を製造するため に実施例1で用いたその同じ基体をここでも用いた。 基体をITO表面を上にして取付けた。PCHMT溶液〔クロロホルム(CH Cl3)中10mg/ml〕を基体に適用した。回転機を始動させ、基体を100 0rpmで30秒間回転させた。この時間の後、溶媒は蒸発していた。これによ り100nmのフイルム厚さが得られた。 この後で、二層基体をホールダーに取付け、PE/PTOPTをPCHMT表 面に、PTOPTとPCHMTを合わせるようにして付加した。次にそのPE/ PTOPTフイルムをゴムローラーにより、温度を80℃〜90℃に上昇させる と同時に基体にプレスした。この温度でPE箔を除去し、PTOPTフイルムが PTOPTフイルム上に残った。 次にPTOPT層の上に、次の方法で第二電極を真空蒸着した。基体を遮蔽マ スクに取付けた。次に遮蔽マスクを有する基体を真空室へ移した。室はp<10-6 トールの圧力に到達した。次に真空蒸着によりカルシウムの被覆を20nmの 厚さに適用した。次に100nmのアルミニウムの被覆を同じやり方で適用した 。 前と同じやり方で電極のための接続部を作った。エレクトロルミネッセンス装 置は赤・オレンジ色の光を発光した。30Vの印加電圧で通常の室内光中でその 光を見ることができた。電圧によるターンは20Vであった。量子効率は推定し なかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG), AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,CA,C H,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB ,GE,HU,JP,KE,KG,KP,KR,KZ, LK,LR,LT,LU,LV,MD,MG,MN,M W,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD ,SE,SI,SK,TJ,TT,UA,US,UZ, VN (72)発明者 インガナス,オレ,ヴェルナー スウェーデン国 エス − 582 46 リ ンケピング,ヴェルネルスガタン 13 【要約の続き】 初に行う。なぜなら、発光層(12、13)のこの部分 (13)は、前処理、特に一方向への延伸で、重合体材 料中の重合体鎖をこの方向に配向する延伸にかけてある からである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.支持基体(10)、その上に適用された第一電極層(11)、前記第一電 極層及び前記基体上に適用された発光層(12、13)で、発光能力を有する共 役重合体により構成された発光層(12、13)、発光層上に適用された第二電 極層(14)を有し、前記二つの電極層への接続部(15、16)も備えたエレ クトロルミネッセンス装置において、前記発光層(12、13)の少なくとも一 部分(13)が、基体(10)及びその上に適用された第一電極層(11)と共 に、重合体又は重合体混合物から別に形成されたN−体的層(13)として積層 されていることを特徴する、エレクトロルミネッセンス装置。 2.基体が透明又は半透明の材料で構成されている、請求項1に記載のエレク トロルミネッセンス装置。 3.発光層(12、13)の少なくとも一部分(13)が、本質的に一つの方 向に、前記発光層(12、13)のこの部分(13)をその方向に延伸すること により配向した重合体鎖を有する重合体材料により構成されている、請求項1又 は2に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 4.発光層(12、13)が、少なくとも二つの部分層(12、13)により 構成され、第一の基体(10)に最も近く位置する層(12)が共役重合体又は 重合体混合物によって構成され、第二の、基体から更に離れて位置する部分層( 13)が、同じ共役重合体又は重合体混合物又は他の共役重合体又は重合体混合 物によって構成され、下の部分層(12)又は複数の層と積層されている、請求 項3に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 5.基体(10)及びその上に位置する第一電極層に直接接触している第二部 分層(12)が基体上に直接適用されており、その上に横たわる部分層(13) が別に製造された部分層の積層により適用されている、請求項1〜4のいずれか 1項に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 6.発光層(12、13)又はその部分層の少なくとも一つが、配向された重 合体鎖を有する共役重合体又は重合体混合物により構成されている、請求項1〜 5のいずれか1項に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 7.共役重合体が、置換ポリ(チオフェン)、できれば置換したポリ(p−フ ェニレンビニレン)に基づく重合体、置換ポリ(p−フェニレン)、又はできれ ば置換したポリ(チオフェンビニレン)である、請求項1〜6のいずれか1項に 記載のエレクトロルミネッセンス装置。 8.発光層(12、13)が、ポリ[3−(4−オクチルフェニル)−チオフ ェン]、ポリ[3−(4−オクチルフェニル)−2,2′−ビチオフェン]、ポ リ(3−アルキルチオフェン)、ポリ(3−シクロヘキシル−4−メチルチオフ ェン)、又はポリ(3−シクロヘキシルチオフェン)により構成されている、請 求項7に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 9.部分層の一つがポリ(p−フェニルビニレン)により構成され、第二部分 層がポリ(シアノテレフタリリデン)により構成されている、請求項3〜8のい ずれか1項に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 10.電極層の一つが電子注入電極層であり、大きな仕事関数を有する金属、 金属合金、ドープした半導体、又はドープした重合体により構成されている、請 求項1〜9のいずれか1項に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 11.電極層の一つがホール注入電極層であり、大きな仕事関数を有する金属 、金属合金、金属酸化物、ドープした半導体、又はドープした重合体からなる、 請求項1〜10のいずれか1項に記載のエレクトロルミネッセンス装置。 12.第一電極層(11)が、ホールを与える接点として、ポリアニリン、ポ リ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)又はインジウム錫酸化物の薄膜であ り、第二電極層(14)が、電子を与える金属接点として、カルシウム、アルミ ニウム、マグネシウム、インジウム、ナトリウム、リチウム、スカンジウム、又 は銀、又はそれらの混合物の薄層である、請求項1〜11のいずれか1項に記載 のエレクトロルミネッセンス装置。 13.基体(10)が、ガラス、ポリ(エテンテレフタレート)−又はポリ( エテン)基体により構成されている、請求項1〜12のいずれか1項に記載のエ レクトロルミネッセンス装置。 14.基体(10)を、第一電極層(11)、発光能力を示す共役重合体又は 重合体混合物の発光層(12、13)、及び第二電極層(14)で被覆し、然る 後、前記二つの電極層(11、14)への接続部(15、16)を形成し、前記 発光層(12、13)又はその一部分を支持体上に形成し、これによって基体( 10)と一緒にする、エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記 支持体上に別に作られた発光層(13)を前記支持体から外すことにより前記基 体(10)上に付着させることを特徴とする、エレクトロルミネッセンス装置の 製造方法。 15.基体を透明又は半透明の材料により構成する、請求項14に記載の方法 。 16.支持体として、発光層(13)に対して剥離性を有する、材料の表面層 を有するか、又はそれにより構成された箔を用いる、請求項14又は15に記載 の方法。 17.支持体としてポリ(エテンテレフタレート)−又はポリ(エテン)を用 いる、請求項14〜16のいずれか1項に記載の方法。 18.基体(10)として、ガラス、ポリ(エテンテレフタレート)−又はポ リ(エテン)基体を用いる、請求項14〜17のいずれか1項に記載の方法。 19.発光層(13)を、支持体上に注型、塗布、浸漬被覆、又は回転被覆に より形成する、請求項14〜18のいずれか1項に記載の方法。 20.基体(10)及びその上に存在する第一電極層(11)の発光層(12 、13)による被覆を、発光層を構成する二つ又は幾つかの部分層(12、13 )の一つを形成するために少なくとも二つの工程で行い、異なった部分層を同じ か又は異なる重合体材料により構成する、請求項14〜19のいずれか1項に記 載の方法。 21.基体(10)及びその上に存在する第一電極層(11)上に直接横たわ る発光層(12、13)の第一部分層(12)を、この支持体上に直接作り、そ の外側に横たわる発光層(12、13)の層又は複数の層を、先ず支持体上に作 り、次にそれによって適用し、製造すべきエレクトロルミネッセンス装置と一緒 に積層する、請求項20に記載の方法。 22.基体上に作られた発光層又は部分層(13)を、製造すべきエレクトロ ルミネッセンス装置の下の部分と積層する前に、前処理にかける、請求項14〜 21のいずれか1項に記載の方法。 23.支持体上に作られた発光層又は部分層(13)の前処理を、それ及び支 持体を重合体材料の重合体鎖をこの方向に配向する方向に延伸することにより行 い、然る後、この発光層又は部分層(13)をエレクトロルミネッセンス装置の 下の部分に積層する、請求項22に記載の方向。 24.共役重合体として、置換ポリ(チオフェン)、できれば置換したポリ( p−フェニレンビニレン)に基づく重合体、置換ポリ(p−フェニレン)、又は できれば置換したポリ(チオフェンビニレン)を用いる、請求項14〜23のい ずれか1項に記載方法。 25.発光層(12、13)を、できれば置換したポリ(p−フェニレンビニ レン)、置換ポリ(p−フェニレン)、又はできれば置換したポリ(チオフェン ビニレン)により構成する、請求項24に記載の方法。 26.一つの部分層(12)を、ポリ(p−フェニレンビニレン)により構成 し、第二部分層(13)をポリ(シアノテレフタリリデン)により構成する、請 求項14〜22及び24のいずれか1項に記載の方法。 27.電極層の一つを電子注入電極層により構成し、小さな仕事関数を有する 金属、金属合金、ドープした半導体、又はドープした重合体により作る、請求項 14〜26のいずれか1項に記載の方法。 28.電極層の一つをホール注入電極層により作り、小さな仕事関数を有する 金属、金属合金、金属酸化物、ドープした半導体、又はドープした重合体により 構成する、請求項14〜27のいずれか1項に記載の方法。 29.第一電極層(11)を、ホールを与える接点として、ポリアニリン、ポ リ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)又はインジウム錫酸化物の薄膜で構 成し、第二電極層(14)を、電子を与える金属接点として、カルシウム、アル ミニウム、マグネシウム、インジウム、ナトリウム、リチウム、スカンジウム、 又は銀、又はそれらの混合物の薄層により構成する、請求項14〜28のいずれ か1項に記載の方法。
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