JPH10502671A - ジニトリルをアミノニトリルに半水素化する方法 - Google Patents

ジニトリルをアミノニトリルに半水素化する方法

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JPH10502671A JP8518365A JP51836596A JPH10502671A JP H10502671 A JPH10502671 A JP H10502671A JP 8518365 A JP8518365 A JP 8518365A JP 51836596 A JP51836596 A JP 51836596A JP H10502671 A JPH10502671 A JP H10502671A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、ジニトリルの対応するアミノニトリルへの半水素化に関する。より正確には、本発明は、ラネーニッケル;ラネーコバルト;「Handbook ofChemistry and Physics」(Weast、1970〜1971年の第5版)に発表されたような元素周期律表第IVb、VIb、VII b及びVIII族の元素並びに亜鉛から選択されるドーピング元素を含むラネーニッケル;並びに元素周期律表第IVb、VIb、VII b及びVIII族の元素並びに亜鉛から選択されるドーピング元素を含むラネーコバルトから選択される触媒と、アルカリ又はアルカリ土類金属から誘導される強無機塩基との存在下で、脂肪族ジニトリルを水素によって対応するアミノニトリルに半水素化する方法であって、・初期水素化混合物が、該混合物の液体化合物全体に対して少なくとも0.5重量%の割合の水と、水素化させるべきジニトリルから生成し得るジアミン及び(又は)アミノニトリル並びに未転化ジニトリル(これら3種の化合物の合計として80〜99.5重量%の割合)とを含むこと、並びに・該方法がジニトリルの転化率が95%に達することができる場合に目的アミノニトリルについての少なくとも60%の選択性を得ることを可能にすることを特徴とする、前記方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 ジニトリルをアミノニトリルに半水素化する方法 この発明は、ジニトリルの対応するアミノニトリルへの半水素化に関する。 ジニトリルの水素化は一般的に、対応するジアミンを製造するために実施され る。従って、特にアジポニトリルの水素化は、ポリアミド6,6の製造のための 2種の基本化合物の内の一方であるヘキサメチレンジアミンをもたらす。 しかしながら、ジアミンを製造するのではなくて中間体のアミノニトリルを製 造することが必要とされることが時としてある。これは例えばアジポニトリルを アミノカプロニトリルに半水素化する場合であるが、これに限定されるものでは ない。このアミノカプロニトリルは、次いでポリアミド6の基本化合物であるカ プロラクタム又は直接ポリアミド6に転化させることができる化合物である。 かくして、米国特許第4389348号明細書には、非プロトン系アンモニア 性溶媒中でベーシック担体に担持させたロジウムの存在下で水素を用いてジニト リルをω−アミノニトリルに水素化する方法が記載されている。 米国特許第5151543号明細書には、ジニトリルに対して少なくとも2/ 1のモル過剰の液体アンモニア又は無機塩基含有アルカノール(この無機塩基は 該アルカノールに可溶のものである)を含む溶媒中でラネーニッケル又はコバル トタイプの触媒の存在下でジニトリルをアミノニトリルに部分的に水素化する方 法が記載されている。 国際公開WO−A−93/16034号パンフレットには、アルカリ金属水酸 化物又は水酸化アンモニウム、低原子価遷移金属錯体及びラネーニッケル触媒の 存在下で加圧下で50〜90℃の温度においてアジポニトリルを水素化すること によって6−アミノカプロニトリルを製造する方法が記載されている。この方法 は、実施例に従えば、低級アルカノール又は炭化水素のような溶媒中で実施され る。 本発明は、ジニトリルの1つのニトリル官能基を選択的に水素化して対応する アミノニトリルを主要生成物として及びジアミンを少量生成物としてだけ製造す ることを取扱うものである。 より正確には、本発明は、ラネーニッケル;ラネーコバルト;「Handbook of Chemistry and Physics」(Weast、1970〜1971年の第5版)に発表され たような元素周期律表第IVb、VIb、VII b及びVIII族の元素並びに亜鉛から選 択されるドーピング元素を含むラネーニッケル;並びに元素周期律表第IVb、VI b、VII b及びVIII族の元素並びに亜鉛から選択されるドーピング元素を含むラ ネーコバルトから選択される触媒と、アルカリ又はアルカリ土類金属から誘導さ れる強無機塩基との存在下で、脂肪族ジニトリルを水素によって対応するアミノ ニトリルに半水素化する方法であって、 ・初期水素化混合物が、該混合物の液体化合物全体に対して少なくとも0.5重 量%の割合の水と、水素化させるべきジニトリルから生成し得るジアミン及び( 又は)アミノニトリル並びに未転化ジニトリル(これら3種の化合物の合計とし て、前記混合物の液体化合物全体に対して80〜99.5重量%の割合)とを含 むこと、 ・ジニトリルの転化率が95%に達することができること、並びに ・該方法が目的アミノニトリルについての少なくとも60%の選択性を得ること を可能にすること を特徴とする、前記方法に関する。 ジニトリルの転化率は少なくとも70%であるのが好ましい。 本発明の方法において用いることができる脂肪族ジニトリルは、より特定的に は、一般式(I): NC−R−CN (I) (ここで、Rは1〜12個の炭素原子を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキレン 又はアルケニレン基を表わす) のジニトリルである。 式(I)においてRが1〜6個の炭素原子を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキ レン基を表わすジニトリルが、本発明の方法において用いるのに好ましい。 このようなジニトリルの例としては、特にアジポニトリル、メチルグルタロニ トリル、エチルスクシノニトリル、マロノニトリル、スクシノニトリル及びグル タロニトリル並びにそれらの混合物、特にアジポニトリルの合成のための同じ方 法から生じ得るアジポニトリル及び(又は)メチルグルタロニトリル及び(又は )エチルスクシノニトリルの混合物を挙げることができる。 実際上は、R=(CH2)4である場合が最も頻繁なものである。何故ならば、こ れは本発明の方法におけるアジポニトリル(ADN)の利用に相当するからであ る。 強無機塩基は一般的にアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩 及びアルカノラートから成る。これは、アルカリ金属水酸化物、炭酸塩及びアル カノラートから選択するのが好ましい。 用いられる強無機塩基は、LiOH、NaOH、KOH、RbOH、CsOH 及びそれらの混合物から選択するのが最適である。 RbOH及びCsOHも非常に良好な結果をもたらすことができるが、性能と 価格との良好な折衷点から、実際上はNaOH及びKOHが特に頻繁に用いられ る。 反応混合物は、方法の実施のタイプに応じて変化する組成を有する。 実際、本方法を特に実験室での実施又は断続的な小規模製造の場合のように不 連続で実施する場合には、初期反応混合物は次第にアミノニトリル及び(それよ り小さい割合ではあるが)ジアミンに富むようになり、ジニトリルの濃度は、半 水素化の開始時にジニトリルの全部又は大部分を装入する場合には低下していく ことができ、ジニトリルを反応の間に徐々に導入する場合には比較的一定のまま であることができる。 他方、本方法を連続的に実施する場合には、反応混合物の平均組成は、反応の 選択性によって決定される値に達する。 水は一般的に20%以下の量で存在させる。反応混合物の水含有率は、該混合 物の液体成分全体に対して2〜15重量%の範囲であるのが好ましい。 反応混合物中の目的アミノニトリル及び(又は)対応するジアミン及び未転化 ジニトリルの濃度は、前記反応混合物中に含まれる液体全体に対して85〜98 重量%の範囲であるのが一般的である。 本発明の方法の連続操作においては、アミノニトリル及びジアミンについての それぞれの選択性の比並びにジニトリルの導入速度によって平均濃度が決定され るだろう。 強無機塩基の量は、触媒1kg当たりに0.1モル以上であるのが有利である 。この量は、触媒1kg当たりに0.1〜3モルの範囲であるのが好ましく、触 媒1kg当たりに0.2〜2モルの範囲であるのがさらにより一層好ましい。 アミノニトリルについて最高の選択性を得るために、用いる塩基に応じて強無 機塩基/触媒の比を変えることができる。かくして、KOH、RbOH及びCs OHについては、この比は、触媒(特にドープされた又はされていないラネーニ ッケル)1kg当たりに0.2〜1.0モルであるがさらにより一層好ましい。 NaOH及びLiOHについては、この比は、触媒(特にドープされた又はされ ていないラネーニッケル)1kg当たりに0.2〜1.5モルであるのがさらに より一層好ましい。 本方法において用いられる触媒は、 ・ラネーニッケル、 ・ラネーコバルト 又は ・ラネーニッケル若しくはラネーコバルト及び触媒の調製の際に元の合金から取 り除かれた金属の残留量の金属(即ち一般的にアルミニウム)に加えて1種以上 のその他の元素(しばしばドーパントと称される)(例えばクロム、チタン、モ リブデン、タングステン、鉄若しくは亜鉛)を含むラネーニッケル若しくはラネ ーコバルト であることができる。これらのドーピング元素の中では、クロム、チタン、それ らの相互の混合物及びそれらのいずれか一方又は両方と鉄との混合物が特に有利 なものであると考えられる。これらのドーパントは、ニッケル又はコバルトに対 して0〜10重量%を占めるのが一般的であり、ニッケル又はコバルトに対して 0〜5重量%を占めるのが好ましい。 触媒がクロム又はチタンのようなドーパントを含有する場合には、強塩基/ド ーパントの比を考慮に入れるのも有利である。かくして、ドーパント1kg当た りにKOH12〜30モルのKOH/ドーパントの比及びドーパント1kg当た りにNaOH12〜50モルのNaOH/ドーパントの比を用いるのが好ましい 。 触媒の使用量は、特に採用した操作方法又は選択した反応条件の関数として非 常に広く変えることができる。かくして、反応混合物にジニトリルを徐々に導入 する場合には、触媒/水素化させるべきジニトリルの重量比は、ジニトリル全部 を反応の開始時に用いる場合のものよりもはるかに高いだろう。指標として、反 応混合物の合計重量に対して0.5〜50重量%、大抵の場合1〜35重量%の 触媒を用いることができる。 触媒及びジニトリルの転化率が所定のものであれば、アミノニトリルの収率の 最大点は、上で示した値の範囲内で選択される塩基/Ni又は塩基/Co比によ って決定される。 また、ジニトリルの転化率が一定であれば、アミノニトリルの最高収率は、ド ーパントの性状及び含有率、反応混合物中の水の量並びに温度にも依存する。 アミノニトリルについての全体的な選択性は、ジニトリルのアミノニトリルへ の水素化速度定数の値を増大させることによって改善され、アミノニトリルのジ アミンへの水素化速度定数の値を減少させることによっては改善されない。上で 示した様々なパラメーターによって影響を及ぼされるものは、本質的に、2つの 連続反応の内の第一のものの速度定数である。 本発明の方法は、150℃以下の反応温度で実施するのが一般的であり、12 0℃以下の反応温度で実施するのが好ましく、100℃以下の反応温度で実施す るのがさらにより一層好ましい。 具体的には、この温度は周囲温度(約20℃)〜100℃の範囲である。 加熱の前、加熱と同時に又は加熱の後に、反応容器を適切な水素圧、即ち実際 上は1バール(0.10MPa)〜100バール(10MPa)の範囲、好まし くは5バール(0.5MPa)〜50バール(5MPa)の範囲にする。 反応時間は、反応条件及び触媒の関数として変えることができる。 不連続操作においては、反応時間は数分〜数時間まで変えることができる。 連続操作(これは本発明に従う方法についての好ましい産業的方法である)に おいては、この時間はもちろん固定できるパラメーターではない。 操作条件に応じて、当業者は本発明に従う方法の工程の年代(順序)を変える ことができるということに留意すべきである。 本発明に従う(連続法又は不連続法を用いる)水素化を制御するその他の条件 は、慣用の、それ自体既知の技術の裁量に属する。 以下の実施例は、本発明を例示するものである。 これらの実施例においては、以下の略号を用いることがある。 ・ADN=アジポニトリル ・ACN=アミノカプロニトリル ・HMD=ヘキサメチレンジアミン ・DC =転化率 ・CY =転化した出発基剤に基づく(この場合にはADNに基づく)選択性例1 Rushtone Cavitatorタイプの撹拌機、反応成分及び水素導入手段並びに温度制 御システムを備えた300ミリリットルのステンレス鋼製反応器に、以下のもの を装入する。 ・アジポニトリル 95.1g ・ヘキサメチレンジアミン 94.2g ・水 21.1g ・KOH 0.056g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 2.5g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにKOH0.4モルを存在さ せた。 反応器を窒素でパージし、次いで水素でパージした後に、反応混合物を50℃ に加熱する。次いでこの温度において水素を連続的に添加することによって圧力 を2MPaに調節する。水素の消費及び反応混合物の試料の気相クロマトグラフ ィー(GC)による分析によって反応の進行を調べる。最高収率に達した時に、 反応混合物の撹拌を停止して冷却することによって反応を停止させる。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 80分 ・ADNのDC: 83.5% ・ACNのCY: 77.5%例2 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例1を繰り返した。 ・アジポニトリル 95.1g ・ヘキサメチレンジアミン 95.4g ・水 21.1g ・KOH 0.113g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 2.5g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにK0H0.8モルを存在さ せた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 80分 ・ADNのDC: 81.9% ・ACNのCY: 68.3%例3 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例1を繰り返した。 ・アジポニトリル 27.4g ・ヘキサメチレンジアミン 166.4g ・水 19.4g ・KOH 0.115g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 2.5g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにKOH0.8モルを存在さ せた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 20分 ・ADNのDC: 71.2% ・ACNのCY: 77.0%例4 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例1を繰り返した。 ・アジポニトリル 142.4g ・ヘキサメチレンジアミン 47.75g ・水 21.1g ・KOH 0.053g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 2.5g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにKOH0.4モルを存在さ せた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 103分 ・ADNのDC: 76.2% ・ACNのCY: 77.2%例5 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例1を繰り返した。 ・アジポニトリル 95.1g ・ヘキサメチレンジアミン 97.1g ・水 21.1g ・KOH 0.056g ・ラネーニッケル(Cr2.4%及びFe1.3%含有) Ni 2.5g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにKOH0.4モル、Cr1 kg当たりにKOH16.7モルを存在させた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 45分 ・ADNのDC: 82.4% ・ACNのCY: 74.3%例6 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例1を繰り返した。 ・アジポニトリル 95.0g ・ヘキサメチレンジアミン 97.3g ・水 21.1g ・KOH 0.056g ・ラネーニッケル(Cr3.0%及びFe1.6%含有) Ni 2.5g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにKOH0.4モル、Cr1 kg当たりにKOH13.3モルを存在させた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 85分 ・ADNのDC: 84.5% ・ACNのCY: 65.9%例7 電磁式撹拌機、反応成分及び水素導入手段並びに温度制御システムを備えた1 50ミリリットルのステンレス鋼製反応器に、以下のものを装入する。 ・アジポニトリル 21.65g ・ヘキサメチレンジアミン 21.65g ・水 4.75g ・NaOH 0.0372g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 0.58g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにNaOH1.6モルを存在 させた。 反応器を窒素でパージし、次いで水素でパージした後に、反応混合物を50℃ に加熱する。次いでこの温度において水素を連続的に添加することによって圧力 を2MPaに調節する。水素の消費及び反応混合物の試料の気相クロマトグラフ ィー(GC)による分析によって反応の進行を調べる。最高収率に達した時に、 反応混合物の撹拌を停止して冷却することによって反応を停止させる。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 90分 ・ADNのDC: 70% ・ACNのCY: 62%例8 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例7を繰り返した。 ・アジポニトリル 21.6g ・ヘキサメチレンジアミン 21.8g ・水 4.75g ・NaOH 0.0046g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 0.58g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにNaOH0.2モルを存在 させた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 107分 ・ADNのDC: 76% ・ACNのCY: 62%例9 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例7を繰り返した。 ・アジポニトリル 21.6g ・ヘキサメチレンジアミン 21.7g ・水 4.78g ・NaOH 0.0094g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 0.58g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにNaOH0.4モルを存在 させた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 67分 ・ADNのDC: 80% ・ACNのCY: 69%例10 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例7を繰り返した。 ・アジポニトリル 21.6g ・ヘキサメチレンジアミン 21.6g ・水 4.75g ・NaOH 0.0187g ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) Ni 0.58g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにNaOH0.8モルを存在 させた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 69分 ・ADNのDC: 75% ・ACNのCY: 73%例11 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例7を繰り返した。 ・アジポニトリル 21.65g ・ヘキサメチレンジアミン 21.65g ・水 4.75g ・KOH 0.026g ・ラネーニッケル(Cr3.6%含有) Ni 0.58g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにKOH0.8モルを存在さ せた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 51分 ・ADNのDC: 75% ・ACNのCY: 67%例12 Cavitator タイプの撹拌機、反応成分及び水素導入手段並びに様々な制御シス テムを備えた金属製反応器に、以下のものを装入する。 ・アジポニトリル 2856kg ・ヘキサメチレンジアミン 1151kg ・水 588kg ・KOH 0.83kg ・ラネーニッケル(Cr1.7%含有) 37kg 例1について記載した条件下で操作した。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 3時間30分 ・ADNのDC: 86% ・ACNのCY: 64%例13 電磁式撹拌機、反応成分及び水素導入手段並びに温度制御システムを備えた1 50ミリリットルのステンレス鋼製反応器に、以下のものを装入する。 ・アジポニトリル 6g ・ヘキサメチレンジアミン 41.16g ・水 0.84g ・CsOH 0.054g ・ラネーニッケル(Fe12%含有) 0.4g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにCsOH0.9モルを存在 させた。 反応器を窒素でパージし、次いで水素でパージした後に、反応混合物を80℃ に加熱する。次いでこの温度において水素を連続的に添加することによって圧力 を2.5MPaに調節する。水素の消費及び反応混合物の試料の気相クロマトグ ラフィー(GC)による分析によって反応の進行を調べる。最高収率に達した時 に、反応混合物の撹拌を停止して冷却することによって反応を停止させる。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 50分 ・ADNのDC: 89% ・ACNのCY: 65%例14 同じ操作条件において以下の装入物を用いて例13を繰り返した。 ・アジポニトリル 6g ・ヘキサメチレンジアミン 37.8g ・水 4.2g ・CsOH 0.036g ・ラネーニッケル(Ti1.5%含有) 0.4g この例においては、ラネーニッケル1kg当たりにCsOH0.6モルを存在 させた。 次の結果が得られた。 ・反応時間: 20分 ・ADNのDC: 90% ・ACNのCY: 60%
【手続補正書】 【提出日】1997年7月24日 【補正内容】 請求の範囲 1.ラネーニッケル;ラネーコバルト;元素周期律表第IVb、VIb、VII b及び VIII族の元素並びに亜鉛から選択されるドーピング元素を含むラネーニッケル; 並びに元素周期律表第IVb、VIb、VII b及びVIII族の元素並びに亜鉛から選択 されるドーピング元素を含むラネーコバルトから選択される触媒と、アルカリ又 はアルカリ土類金属から誘導される強無機塩基との存在下で、脂肪族ジニトリル を水素によって対応するアミノニトリルに半水素化する方法であって、 ・初期水素化混合物が、該混合物の液体化合物全体に対して少なくとも0.5重 量%でしかし多くとも20重量%の割合の水と、水素化させるべきジニトリルか ら生成し得るジアミン及び(又は)アミノニトリル並びに未転化ジニトリル(こ れら3種の化合物の合計として、前記混合物の液体化合物全体に対して80〜9 9.5重量%の割合)とを含むこと、 ・ジニトリルの転化率が95%に達することができること、並びに ・該方法が少なくとも60%の目的アミノニトリルについての選択性を得ること を可能にすること を特徴とする、前記方法。 2.用いられる強無機塩基がLiOH、NaOH、KOH、RbOH、CsOH 及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求の範囲第1項記載の 方法。 3.反応混合物中に存在させる無機塩基の量が触媒1kg当たりに0.1モル以 上であることを特徴とする、請求の範囲第1又は2項記載の方法。 4.反応混合物中に存在させるKOH、RbOH又はCsOH無機塩基の量がド ープされた又はされていない触媒1kg当たりに0.2〜1.0モルの範囲であ ることを特徴とする、請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の方法。 5.反応混合物中に存在させるNaOH又はLiOH無機塩基の量がドープされ た又はされていない触媒1kg当たりに0.2〜1.5モルの範囲であることを 特徴とする、請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の方法。 6.用いられる触媒がクロム、チタン、それらの相互の混合物及びそれらのいず れか一方又は両方と鉄との混合物から選択される少なくとも1種のドーピング元 素を含むラネーニッケルから選択されることを特徴とする、請求の範囲第1〜5 項のいずれかに記載の方法。 7.用いられる触媒がニッケルの重量に対して0〜10重量%の少なくとも1種 のドーピング元素を含むラネーニッケルから選択されることを特徴とする、請求 の範囲第1〜6項のいずれかに記載の方法。 8.触媒がクロム又はチタンから選択されるドーパントを含有すること及びドー パント1kg当たりにKOH12〜30モルのKOH/ドーパントの比又はドー パント1kg当たりにNaOH12〜50モルのNaOH/ドーパントの比を用 いることを特徴とする、請求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の方法。 9.用いられる触媒が反応混合物の合計重量に対して0.5〜50重量%を占め ることを特徴とする、請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載の方法。 10.150℃以下の反応温度において実施することを特徴とする、請求の範囲 第1〜9項のいずれかに記載の方法。 11.操作を1バール(0.10MPa)〜100バール(10MPa)の範囲 の水素圧において実施することを特徴とする、請求の範囲第1〜10項のいずれ かに記載の方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.ラネーニッケル;ラネーコバルト;元素周期律表第IVb、VIb、VII b及び VIII族の元素並びに亜鉛から選択されるドーピング元素を含むラネーニッケル; 並びに元素周期律表第IVb、VIb、VII b及びVIII族の元素並びに亜鉛から選択 されるドーピング元素を含むラネーコバルトから選択される触媒と、アルカリ又 はアルカリ土類金属から誘導される強無機塩基との存在下で、ジニトリルを水素 によって対応するアミノニトリルに半水素化する方法であって、 ・初期水素化混合物が、該混合物の液体化合物全体に対して少なくとも0.5重 量%の割合の水と、水素化させるべきジニトリルから生成し得るジアミン及び( 又は)アミノニトリル並びに未転化ジニトリル(これら3種の化合物の合計とし て、前記混合物の液体化合物全体に対して80〜99.5重量%の割合)とを含 むこと、 ・ジニトリルの転化率が95%に達することができること、並びに ・該方法が少なくとも60%の目的アミノニトリルについての選択性を得ること を可能にすること を特徴とする、前記方法。 2.ジニトリルの転化率が少なくとも70%であることを特徴とする、請求の範 囲第1項記載の方法。 3.無機塩基がアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩及びアル カノラート、好ましくはアルカリ金属水酸化物、炭酸塩及びアルカノラートから 選択されることを特徴とする、請求の範囲第1又は2項記載の方法。 4.用いられる強無機塩基がLiOH、NaOH、KOH、RbOH、CsOH 及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求の範囲第1〜3項の いずれかに記載の方法。 5.反応混合物中に存在させる無機塩基の量が触媒1kg当たりに0.1モル以 上、好ましくは触媒1kg当たりに0.1〜3モルの範囲であることを特徴とす る、請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の方法。 6.反応混合物中に存在させるKOH、RbOH又はCsOH無機塩基の量が触 媒(特にドープされた又はされていないラネーニッケル)1kg当たりに0.2 〜1.0モルの範囲であることを特徴とする、請求の範囲第1〜5項のいずれか に記載の方法。 7.反応混合物中に存在させるNaOH又はLiOH無機塩基の量が触媒(特に ドープされた又はされていないラネーニッケル)1kg当たりに0.2〜1.5 モルの範囲であることを特徴とする、請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の 方法。 8.ジニトリルが一般式(I): NC−R−CN (I) (ここで、Rは1〜12個の炭素原子を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキレン 又はアルケニレン基、好ましくは1〜6個の炭素原子を有する直鎖状又は分枝鎖 状アルキレン基を表わす) の脂肪族ジニトリルであることを特徴とする、請求の範囲第1〜7項のいずれか に記載の方法。 9.水を反応混合物中に該混合物の液体成分全体に対して20重量%以下、好ま しくは2〜15重量%の範囲の量で存在させることを特徴とする、請求の範囲第 1〜8項のいずれかに記載の方法。 10.反応混合物中の目的アミノニトリル及び(又は)対応するジアミン及び未 転化ジニトリルの濃度が前記反応混合物中に含まれる液体全体に対して85〜9 8重量%の範囲であることを特徴とする、請求の範囲第1〜9項のいずれかに記 載の方法。 11.用いられる触媒がラネーニッケル、ラネーコバルト、及びクロム、チタン 、モリブデン、タングステン、鉄又は亜鉛のような1種以上のその他のドーピン グ元素を含むラネーニッケル又はラネーコバルトから選択されることを特徴とす る、請求の範囲第1〜10項のいずれかに記載の方法。 12.用いられる触媒がクロム、チタン、それらの相互の混合物及びそれらのい ずれか一方又は両方と鉄との混合物から選択される少なくとも1種のドーピング 元素を含むラネーニッケルから選択されることを特徴とする、請求の範囲第1〜 11項のいずれかに記載の方法。 13.用いられる触媒がニッケルの重量に対して0〜10重量%、好ましくは0 〜5重量%の少なくとも1種のドーピング元素を含むラネーニッケルから選択さ れることを特徴とする、請求の範囲第1〜12項のいずれかに記載の方法。 14.触媒がクロム又はチタンから選択されるドーパントを含有すること及びド ーパント1kg当たりにKOH12〜30モルのKOH/ドーパントの比又はド ーパント1kg当たりにNaOH12〜50モルのNaOH/ドーパントの比を 用いることを特徴とする、請求の範囲第1〜13項のいずれかに記載の方法。 15.用いられる触媒が反応混合物の合計重量に対して0.5〜50重量%、大 抵の場合1〜35重量%を占めることを特徴とする、請求の範囲第1〜14項の いずれかに記載の方法。 16.150℃以下、好ましくは120℃以下、さらにより一層好ましくは10 0℃以下の反応温度において実施することを特徴とする、請求の範囲第1〜15 項のいずれかに記載の方法。 17.操作を1バール(0.10MPa)〜100バール(10MPa)の範囲 、好ましくは5バール(0.5MPa)〜50バール(5MPa)の範囲の水素 圧において実施することを特徴とする、請求の範囲第1〜16項のいずれかに記 載の方法。
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