JPH10501302A - 高濃度の四面体配位炭素を含む炭素被覆遮断フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 炭素は、種物質添加物を含有する分解性先駆体のプラズマ強化化学蒸着によって基体に付着させる。種物質は高濃度のｓｐ³四面体配位炭素を有する炭化水素である。種物質は、付着非晶質炭素被覆中のｓｐ³四面体配位炭素原子の複製のための鋳型となる。

Description

【発明の詳細な説明】 高濃度の四面体配位炭素を含む炭素被覆遮断フィルム 本発明は、炭素被覆遮断フィルム、さらに詳しくは、被覆の特性をダイヤモン ドに似たものにする四面体配位炭素を高濃度で含む炭素被覆遮断フィルムに関す る。 炭素被覆が特定の遮断特性を与えることは知られている。例えば、炭素被覆は 水および酸素のような物質の透過を妨げることができる。従って、炭素被覆は、 他の方法ではこれらの遮断特性をもたないであろう基体（例えば重合体フィルム ）に一般に施される。そのような炭素被覆を有するフィルムはしばしば遮断フィ ルムと呼ばれる。 炭素被覆は各種技術によって基体上に付着させることができる。１つの好まし い技術はプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）であり、これによって炭素を重合 体フィルムのような低温基体上に付着させることができる。この技術は、他の付 着法で必要とされる反応室温度と較べて、低い反応室温度で炭素を付着させるこ とができる。その結果、より低い反応室温度で炭素を低温の基体上へ付着させる ことができる。 付着炭素はフィルムに遮断特性をもたらす。しかしながら、様々な商業的用途 では、従来の炭素付着のみによって達成される不透過性よりも高い不透過性を必 要とする。従って、当業界では、ＰＥＣＶＤ技術によって得られる炭素被覆の遮 断特性を改善および／または高める方法が求められている。 本発明は、遮断特性を高めたフィルムの製造方法を提供するものである。この 方法には、プラズマの存在下での分解性先駆体の蒸着によって、非晶質炭素被覆 を基体に付着させる工程が含まれる。分解性先駆体は、付着炭素被覆中の四面体 配位炭素の形成を容易にするかまたは該炭素濃度を高める種物質（seed materia l）を含む。好ましくは、この種物質は高濃度の四面体配位炭素を有する有機化 合物である。 好ましい態様では、フィルムは２つの周波数条件下で生成される。特に、本方 法は、約１３．５ＭＨｚのような第１無線周波数を反応室内に配置された第１の 電極にかけてプラズマを発生させ、そして１０ｋＨＺ〜１ＭＨｚの第２の周波数 を反応室内に配置された第２の電極にかけて炭素被覆の基体への付着を容易にす る工程を含む。 本発明はまた、高められた遮断特性を有するフィルムを提供するものである。 フィルムは、プラズマの存在下での分解性先駆体の蒸着により、非晶質炭素被覆 を基体上に付着させることによって生成される。分解性先駆体は、付着炭素被覆 中の四面体配位炭素の形成を容易にするか、または該炭素濃度を高める種物質を 含む。この種物質は高濃度の四面体配位炭素を含む有機化合物であるのが好まし い。 非晶質被覆中の四面体配位炭素は、ダイヤモンドに似た特性をもたらす。被覆 は改善された耐久性および硬度を示すと共に、水および酸素に対する高い不透過 性も示す。従って、本発明は、高められた遮断性を有する炭素被覆フィルムを提 供するものである。 本発明の遮断フィルムは、非晶質炭素被覆を基体表面上に付着させることによ って生成される。この炭素被覆は、被覆形成用の種物質を含有する気体先駆体の 分解によって生成される。好ましくは、分解はプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶ Ｄ）によって行われる。 ｓｐ³分子軌道に混成する炭素原子は、ダイヤモンドの立方構造のように、四 面体配位の４つの他の原子に共有結合される。従って、高濃度のｓｐ³混成炭素 を含む炭素被覆は、ダイヤモンドに似た特性を示す。これらの特性としては、耐 久性、酸素および水の高い不透過性、並びに高い硬度がある。 これに対して、ｓｐ²分子軌道に混成する炭素原子は、三角形配位の３つの他 の原子に共有結合される。非混成ｐ原子軌道は第４原子と弱いファンデルウァー ルス結合を形成する。このタイプの配位に配列された炭素原子は、グラファイト に見られるような層状構造を形成する。その結果、高濃度のｓｐ²混成炭素を含 む炭素被覆の酸素および水の不透過度はより低い。さらに、高濃度のｓｐ²混成 炭素を含む被覆は低い耐久性および硬度を示す。 非晶質炭素被覆は一般に、ｓｐ³およびｓｐ²混成炭素の両方を含む。従って、 これらの被覆の遮断性は、そこに含まれるｓｐ³対ｓｐ²炭素原子の比率に依存す る。炭素被覆中のｓｐ³原子の数が増加するにつれ、被覆の不透過性が増すと考 えられる。 本発明では、高濃度のｓｐ³炭素原子を含む種物質を分解性先駆体に加える。 種物質は、付着した非晶質炭素被覆中のｓｐ³四面体配位炭素の複製（replicati on）のための鋳型として働くと考えられる。従って、非晶質炭素被覆中のｓｐ³ 炭素原子の数は増加し、その結果、上記の高められた性質を有する炭素被覆が生 じる。 本発明の種物質は、好ましくは高比率のｓｐ³四面体配位炭素原子を有する炭 化水素である。種物質化合物は、炭素環式または複素環式環系に組み込まれた少 なくとも１つの第３または第４結合した炭素原子（すなわち、各々３または４個 の他の炭素原子に結合したｓｐ³炭素原子）を有し；好ましくは、ノルボルナン またはキヌクリジンのような有橋環系に組み込まれたそのような原子を少なくと も１つ有しているのが望ましいと考えられる。好ましくは、種物質中の炭素は、 先駆体ガスの分解中、四面体配位を維持すべきである。米国特許第５，０１９， ６６０号および第５，０５３，４３４号に記載の化合物のようなダイヤモンド状 化合物が特に好ましい。そのような好ましいダイヤモンド状化合物の１つはアダ マンタンである。 種物質は、好ましくは、気体先駆体に容易に加えることができるように、通常 の条件下で気体状態で存在するものであるべきである。あるいは、種物質は気体 状態に容易に変えうるものであるべきである。例えば、周囲条件下で固体として 存在する物質は、昇華しうるものであるのが好ましい。同様に、周囲条件下で液 体で存在する種物質は、蒸発しうるものであるのが好ましい。 本発明の非晶質炭素被覆は様々な基体上に付着させることができると考えられ る。例えば、記載の炭素被覆はポリオレフィン、ポリエステルおよびナイロンか ら製造される重合体フィルムに付着させることができる。ポリオレフィン、とり わけポリプロピレンおよびポリエチレンが特に好ましい基体である。 本発明で用いられる分解性先駆体は炭化水素ガスであるのが好ましい。１〜２ ０個の炭素原子を有する炭化水素ガスが含まれ得るが、これらに限定されない。 アセチレンは特に好ましい分解性先駆体ガスの１つである。 種物質は、好ましくは反応室外で先駆体ガスと混合される。特に、先駆体ガス は０．００１〜１０％の種物質を含みうる。 分解性先駆体をプラズマに導入すると、先駆体ガスは分解し、その後、基体上 に非晶質炭素層として付着する。この炭素被覆の厚さは１０〜５０００オングス トロームである。非晶質炭素被覆の厚さは、主に付着のための時間によって決ま る。 本発明におけるプラズマは、第１無線周波数を第１電極にかけることによって 発生する。この無線周波数は室を流れるガス混合物を励起し、これによってプラ ズマを形成する。このガス混合物は好ましくは、アセチレンのような上記先駆体 ガスとアルゴンのような不活性ガスとの混合物である。先駆体ガスにはさらに水 素のような追加のガスを含有させてもよい。 ＰＥＣＶＤに適した装置は商業的に入手できる。そのような装置には、基体を 収容する大きさの室が一般にある。装置にはさらに、室の排気を行うための真空 ポンプ、制御条件下でガス混合物を室へ導入するための手段、および室内でプラ ズマを発生させるための手段がある。 特に好ましい態様の１つでは、プラズマ発生手段は間隔をあけて配置された第 １および第２電極を含み、これらを用いて反応室へ独立した２つのエネルギー源 を導入することができる。約１３．５６ＭＨｚの第１無線周波数を第１電極に、 １０ＫＨｚ〜１ＭＨｚの第２無線周波数を第２電極にかける。室は両方の無線周 波数に対する接地用導体として働くのが好ましい。 第１周波数は（ガス混合物の励起によって）プラズマを発生し、一方、第２周 波数は、付着させる炭素分子を励起することによって基体上への炭素の付着を容 易にすると考えられる。この理論的解釈は、この第２無線周波数をかけた時に、 プラズマに目に見える変化が観察される事実によるものである。 他のプラズマ発生手段も考えられる。例えば、約２．４５ＧＨｚの第１周波数 を電極にかけることができる。さらに、レーザーまたは磁界を用いてガス混合物 を励起することもできる。 室はまた、被覆される重合体基体を支持するための基体ホルダープレートを含 む。この基体ホルダープレートは第２電極と一体になっているのが好ましい。本 発明の好ましい態様では、基体ホルダーの裏面（すなわち、第１電極に背を向け ている面）が絶縁される。第２電極の裏面を絶縁することによって、第２電極に 加えられるエネルギーを第１および第２電極の間の領域に集中させる。さらに、 第２電極に加えられるエネルギーは、基体ホルダーによって支持されているフィ ルムを通して直接伝えられる。 さらに、基体ホルダープレートの支持面は平らでも弓形であってもよい。弓形 の支持面を用いると、ここに記載の遮断フィルムの商業生産が容易になると考え られる。 次の実施例は、本発明により製造されたフィルムの高い遮断特性を説明するも のである。 実施例Ｉ 対照試料１を製造した。厚さ約１ミルの未被覆延伸ポリプロピレンフィルムの 酸素透過度（ＴＯ₂）を測定した。酸素透過度は、ミネソタ州ミネアポリスのモ ダン・コントロールズ社に対して登録されているＭｏｃｏｎ（登録商標）の名称 で販売されている２ステーション酸素透過度測定装置モデルＮｏ．：Ｏｘ−ｔｒ ａｎ １００ ツインで測定した。対照試料は３０℃、相対湿度０％で１０６ｃ ｃ／１００ｉｎ²−ａｔｍ−２４時間の酸素透過度を示した。 実施例II 対照試料２および３を製造した。厚さ約１ミルの延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ ）の試料を長さ１１″×幅１５．５″のシートに切断し、第２電極につながれた １０″×１５．５″基体ホルダープレート上に取り付けた。基体ホルダープレー トの表面は曲率半径が４０″の弓形であった。重合体試料をその試料の長さにそ って基体ホルダープレートの上に掛けて、試料をホルダーに固定させた。 室を約１ミリトルにポンプで吸引した。次に、アセチレン７０％のアセチレン ／アルゴンガス混合物を、１００ｓｃｃｍの流量で室内に導入した。室内の圧力 を、真空ポンプの入り口にあるゲート弁を用いることによって約１００ミリトル の反応圧に上げた。第１電極には１００ワットの電力レベルで１３．５ＭＨｚの 第１周波数を、第２電極には２５〜１００ワットの電力レベルで９５ｋＨｚの第 ２周波数をかけた。 試料を約３００秒被覆した。その後、ガス混合物を止め、室をポンプで約１ミ リトルに下げた。室の真空を窒素ガスをブリードすることによって破り、試料を 取り出した。次に、対照試料２および３の酸素透過度を試験した。 実施例III 試料４および５を、約０．１〜１％のアダマンタンをアセチレン／アルゴン混 合物に加え、その後、上記実施例IIに記載の手順を繰り返すことによって製造し た。 実施例IV 対照試料６および７を、基体ホルダーの裏面を絶縁した後、実施例IIの手順を 用いて製造した。詳しくは、基体ホルダーの裏面は、これにポリプロピレンを接 着することによって絶縁した。 実施例Ｖ 試料８および９を、約０．１〜１％のアダマンタンを先駆体ガス混合物に加え 、その後、上記実施例IVに記載の手順を繰り返すことによって製造した。 実施例Ｉ〜Ｖからの結果を次表にまとめる： 上記表の試験データから、種物質の先駆体ガスへの添加によって炭素被覆フィ ルムの遮断特性を有意に高め得ることが明らかである。特に、第２周波数を２５ ワットの電力レベルでかけたとき、試験フィルムの酸素透過度（ＴＯ₂）は５７ ｃｃ（ｗ／ｏ種物質）から２９ｃｃ（ｗ／種物質）に減少した。同様に、第２周 波数を１００ワットの電力レベルでかけたとき、酸素透過度は２．４ｃｃ（ｗ／ ｏ種物質）から１．５ｃｃ（ｗ／種物質）に減少した。 さらに、上記表の試験データから、第２電極の裏面を絶縁したとき、付着被覆 の不透過度がさらに高まることが明らかである。特に、２５ワットの電力レベル で、酸素透過度は７．５ｃｃ（ｗ／ｏ種物質）から６．８ｃｃ（ｗ／種物質）に 減少した。同様に、１００ワットの電力レベルで、酸素透過度は１．２ｃｃ（ｗ ／ｏ種物質）から０．８ｃｃ（ｗ／種物質）に減少した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．プラズマの存在下での分解性先駆体の蒸着により炭素被覆を基体上に付着 させることを含んでなる、高められた遮断特性を有するフィルムの製造方法であ って、 該分解性先駆体が、付着炭素被覆中の四面体配位炭素の形成を容易にするかま たは該炭素濃度を高める種物質を含む、 上記の方法。 ２．種物質が高濃度の四面体配位炭素を有する有機化合物を含んでなる、請求 項１に記載の方法。 ３．有機化合物がダイヤモンド状化合物を含んでなる、請求項２に記載の方法 。 ４．ダイヤモンド状化合物がアダマンタンを含んでなる、請求項３に記載の方 法。 ５．分解性先駆体が０．００１〜１０％の種物質を含む、請求項１〜４のいず れかに記載の方法。 ６．分解性先駆体が１〜２０個の炭素原子を有する有機化合物である、請求項 １〜５のいずれかに記載の方法。 ７．有機化合物がアセチレンを含んでなる、請求項６に記載の方法。 ８．基体がポリオレフィン、ポリエステルおよびナイロン類よりなる群から選 択される物質から形成される、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。 ９．付着工程が２つの周波数条件下で行われる、請求項１〜８のいずれかに記 載の方法。 １０．付着工程が、第１無線周波数を反応室内に配置された第１電極にかけて プラズマを発生させること、および１０ｋＨｘ〜１ＭＨｚの第２周波数を反応室 内に配置された第２電極にかけて炭素被覆の基体への付着を容易にすることを含 んでなる、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。 １１．第２電極が基体ホルダープレートを含み；そして炭素被覆を収容するた めに基体を基体ホルダー上へ配置する工程をさらに含む、請求項１０に記載の方 法。 １２．フィルムが、高濃度の四面体配位炭素を含む炭素被覆を付着させる基体 を含む、高められた遮断性を有するフィルム。 １３．プラズマの存在下での分解性先駆体の蒸着により炭素被覆を基体上に付 着させることを含んでなる方法によって製造される、高められた遮断特性を有す るフィルムであって、 該分解性先駆体が、付着炭素被覆中の四面体配位炭素の形成を容易にするかま たは該炭素濃度を高める種物質を含む、 上記のフィルム。 １４．基体がポリオレフィン、ポリエステルおよびナイロン類よりなる群から 選択される物質から形成される、請求項１３に記載のフィルム。