JPH1044606A - 光学記録媒体 - Google Patents

光学記録媒体

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JPH1044606A
JPH1044606A JP8207014A JP20701496A JPH1044606A JP H1044606 A JPH1044606 A JP H1044606A JP 8207014 A JP8207014 A JP 8207014A JP 20701496 A JP20701496 A JP 20701496A JP H1044606 A JPH1044606 A JP H1044606A
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JP
Japan
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metal
recording medium
optical recording
recording
chelate compound
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Application number
JP8207014A
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English (en)
Inventor
Yuko Okamoto
祐子 岡本
Yutaka Kurose
裕 黒瀬
Shuichi Maeda
修一 前田
Takako Kobayashi
貴子 小林
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 波長630〜660nmのレーザー光での記
録、再生に特に有用な光学記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板上に、光ビームによる情報の書
き込み、読み取りが可能な記録層が設けられた光学記録
媒体において、該記録層が下記一般式[I]または[I
I]で示されるアゾ系化合物と金属(Ni等)との金属
キレート化合物を含有するもの。 【化1】 (式中、XはH、C1 〜C6 のアルキル、C3 〜C6
シクロアルキルを示し、R1 、R2 はC1 〜C6 のアル
キルを示す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アゾ系化合物と金
属との金属キレート化合物を用いた光学記録媒体に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、発振波長の短い半導体レーザーの
開発が進められ、従来の780nm、830nmよりも
短波長のレーザー光を用いたより高密度の記録再生可能
な光学記録媒体が求められている。従来提案されている
光学記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒
体、カルコゲン酸化物光記録媒体、有機色素系光記録媒
体等がある。これらの中で、安価でプロセス上容易であ
るという点で、有機色素系光記録媒体は有意性を有する
ものと考えられている。また、有機色素系光記録媒体に
は記録可能なコンパクトディスク(CD−R)として、
反射率の高い金属層を有機色素層の上に積層したタイプ
のものが広く知られている。
【0003】ところで、短波長半導体レーザー記録用の
有機色素系光学記録媒体では、CD−Rのレーザー波長
より短い波長のものを用い、レーザーのビーム径をより
微小なものにして高密度記録にすることができるが、現
在提案されているものは、記録時の色素の分解による記
録部の変形が大きいという問題や、変調度があまり得ら
れないという問題、その他に耐光性、耐久性の不十分と
いう問題を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決する光学記録媒体として、アゾ系化合物と金属
との金属キレート化合物を用いた光学記録媒体を提供す
ることを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこの目的を
達成するべく鋭意検討した結果、下記一般式[I]また
は[II]で示されるアゾ系化合物と金属との金属キレー
ト化合物を記録層に含有することにより、記録再生特性
に優れ、十分な反射率、高密度記録が可能な耐光性、耐
久性に優れた光学記録媒体が得られることを見い出し
た。すなわち本発明は基板と記録層からなり、該記録層
が下記一般式[I]または[II]で示されるアゾ系化合
物と金属との金属キレート化合物を含有することを特徴
とする630〜660nmのレーザー光で記録再生する
ための光学記録媒体をその要旨とする。
【0006】
【化2】
【0007】(式中、Xは水素原子、炭素数1〜6の直
鎖または分岐のアルキル基、または炭素数3〜6の環状
アルキル基を表わし、R1 、R2 は炭素数1〜6の直鎖
または分岐のアルキル基を表わす。)
【0008】
【発明の実施の形態】以下本発明につき詳細に説明す
る。本発明におけるアゾ系化合物としては、前記一般式
[I]、[II]において、Xは水素原子;メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブ
チル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、n−
ペンチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖ま
たは分岐のアルキル基またはシクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭
素数3〜6の環状アルキル基であり、Y、R1 、R2
炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキル基であればよ
い。
【0009】本発明において、アゾ系化合物とキレート
化合物を形成する金属としては、一般に該アゾ系化合物
とキレート化合物を形成する能力のある金属なら特に制
限はないが、Ni、Co、Fe、Zn、Cu、Pd、P
t、Ru、Rh、Osなどの遷移金属が好ましく、耐光
性、耐久性の点からNi、Coがより好ましく、特にN
iが好ましい。
【0010】本発明の短波長記録用光学記録媒体は、基
本的には基板と前記アゾ系化合物と金属との金属キレー
ト化合物を含む記録層とから構成されるものであるが、
さらに必要に応じて基板上に下引き層を設けることがで
きる。好ましい層構成の一例としては、記録層上に金、
銀、アルミニウムの様な金属層および保護層を設けた高
反射率の媒体が挙げられる。
【0011】前記基板としては、使用するレーザー光に
対して透明なものであり、ガラスや種々のプラスチック
が用いられる。プラスチックとしては、アクリル樹脂、
メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン
樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチ
レン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられるが、高生産性、
コスト、耐吸湿性の点から射出成型ポリカーボネート樹
脂基板が特に好ましい。
【0012】この透明基板上の案内溝は、溝幅が0.3
〜0.35μm、溝深さが100〜200nmが好まし
い。またトラックピッチは0.7〜1.0μmである。
溝幅が0.3μm未満の場合にはプッシュプル信号強度
が十分得られない恐れがある。また、0.35μmを越
えると、十分な記録変調度が得られにくい恐れがある。
溝深さは100nm未満では十分な記録変調度が、20
0nmを越えると十分な反射率が得られない恐れがあ
る。
【0013】本発明の光学記録媒体におけるアゾ系化合
物と金属との金属キレート化合物を含有する記録層の記
録膜の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング
法、ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸
漬法等、一般に行われている薄膜形成法で成膜すること
ができるが、量産性、コスト面からスピナー法が好まし
い。
【0014】また、必要に応じてバインダーを使用する
こともできる。バインダーとしてはポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ケトン樹脂、ニトロセルロ
ース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカ
ーボネート等既知のものが用いられる。スピナー法によ
る成膜の場合、回転数は500〜5000rpmが好ま
しく、スピンコートの後、場合によっては、加熱あるい
は溶媒蒸気にあてる等の処理を行ってもよい。
【0015】また、記録層の安定や耐光性向上のため
に、一重項酸素クエンチャーとしての他の遷移金属キレ
ート化合物(たとえば、アセチルアセトナートキレー
ト、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキ
シム、ビス(ジチオ−α−ジケトン)等)を含有してい
てもよい。さらに、必要に応じて他の色素を併用するこ
ともできる。他の色素としては別の種類の同系統の化合
物でもよいし、トリアリールメタン系色素、アゾ系色
素、シアニン系色素、スクワリリウム系色素、含金属イ
ンドアニリン系色素、フタロシアニン系色素等他系統の
色素でもよい。
【0016】ドクターブレード法、キャスト法、スピナ
ー法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合
の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒なら特に限定
されない。例えば、ジアセトンアルコール、3−ヒドロ
キシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトンアルコール
系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロ
ソルブ系溶媒、n−ヘキサン、n−オクタン等の炭化水
素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エ
チルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、n−ブ
チルシクロヘキサン、t−ブチルシクロヘキサン、シク
ロオクタン等の炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテ
ル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、テトラフル
オロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキ
サフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコ
ール系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル
等のヒドロキシエステル系溶媒等が挙げられる。
【0017】本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両
面に設けてもよいし、片面に設けてもよい。また、基板
上に記録層を設けた2枚の媒体を貼り合わせたものでも
よい。上記のようにして得られた光学記録媒体への記録
は、基板の両面または片面に設けた記録層にレーザー光
をあてることにより行う。レーザー光の照射された部分
には、レーザー光エネルギーの吸収による、分解、発
熱、溶融等の記録層の熱的変形が起こる。記録された情
報の再生は、レーザー光により、熱的変形が起きている
部分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることに
より行う。DVD−W/Oのように、十分に小さな記録
ピットが形成されなければならず、かつまた、十分な反
射率(未記録部の反射率)が必要とされる場合には、熱
分解を起こす記録層の色素の吸収極大の波長が、その特
性を左右する重要なパラメータである。
【0018】発明者らは、色素の骨格と置換基がその吸
収極大波長をシフトさせることに注目し、良好な記録特
性・反射率を満足させる色素を見いだした。本発明の光
学記録媒体は、一般式[I]または[II]で示されるア
ゾ系化合物と金属との金属キレート化合物を記録層に含
有することにより、630〜660nmの半導体レーザ
ー光を光源として用いた場合に良好な特性を有するもの
である。一般式[I]、[II]において、特に好ましい
アゾ系化合物と金属との金属キレート化合物の例として
は下記のものが挙げられる。なお、下記の例ではアゾ系
化合物2分子と金属1原子の錯体の例で示しているが、
アゾ系化合物1分子と金属1原子と他のカウンターイオ
ンからなるキレート化合物が含まれていてもよい。ま
た、金属としてニッケルで代表して例示しているが、ニ
ッケル以外でも同様にして好ましいキレート化合物が得
られる。
【0019】
【化3】
【0020】
【化4】
【0021】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、かかる実施例はその要旨を越えない限り、本発明を
限定するものではない。また、ε(分子吸光係数)は、
金属一原子に対して二分子のアゾ系化合物が配位したも
のとして算出した。
【0022】実施例1 (a)製造例
【0023】
【化5】
【0024】上記構造式(1)で示される2−アミノ−
5−エチル−1,3,4−チアジアゾール2.58gを
酢酸20ml、プロピオン酸10mlに溶解し、0〜5
℃で硫酸2mlを滴下し、0〜5℃で43%ニトロシル
硫酸7.09gを加えジアゾ化した。得られたジアゾ液
をメタノール100mlにN,N−ジブチル−3−アミ
ノフェノール5.32g、尿素0.8g、酢酸ナトリウ
ム8.0gを溶解させた溶液に0〜5℃で滴下し、2時
間攪拌後、一晩放置した。析出した結晶をろ別し、乾燥
して下記構造式(2)で示される赤色結晶2.19gを
得た。
【0025】
【化6】
【0026】前記のようにして得られた構造式(2)で
示されるアゾ化合物2.19gをメタノール50mlに
溶解し、室温で酢酸ニッケル四水和物1.13gのメタ
ノール15ml溶液を加えた後、室温で3時間攪拌し、
水50mlを加えた。析出した結晶をろ別し、乾燥して
緑褐色結晶のニッケルキレート化合物1.13gを得
た。この化合物のλmax (クロロホルム中)は525n
m(ε=8.5×104)であった。
【0027】(b)記録媒体例 前記のようにして得られたニッケルキレート化合物をオ
クタフルオロペンタノールに溶解し、1.2wt%にし
た。これを50℃下で30分間超音波分散した後、0.
2μmのフィルターでろ過し、その液を回転数800r
pmで0.6mm厚のポリカーボネート基板にスピンコ
ートした。尚、この基板の溝幅は0.31μmであり、
(トラックピッチ0.8μm)溝深さは160nmであ
る。次にこの塗布膜を80℃のオーブンで乾燥した後、
塗布膜の上にスパッタリング法により膜厚100nmの
Au膜を成膜し、反射層を形成した。さらにこの反射層
の上に紫外線硬化樹脂を約3μmスピンコートし、これ
に紫外線を照射して硬化させ、記録媒体とした。さらに
ホットメルト接着剤をつけ全く同様にして得られた記録
媒体同志を接着し光ディスクとした。塗布膜の最も長波
長側の吸収極大(吸収肩)は586nmであった。記録
層の膜厚は約130nmであった。
【0028】(c)光記録法 前記のようにして得られた光ディスクを640nmの半
導体レーザー(パルステック製、開口径(NA)=0.
6、再生光パワー0.7mW、記録パワー6.5mW)
でCD−Rの4倍速対応のEFM信号を2.5m/sの
線速度で記録したところ、Itop が56%の反射率でI
11/Itop =58% 3Tマークジッターが15nsと
良好な記録特性が得られた。
【0029】実施例2 (a)製造例
【0030】
【化7】
【0031】上記構造式(3)で示される2−アミノ−
5−tert−ブチル−1,3,4−チアジアゾール
3.14gを酢酸20ml、プロピオン酸10mlに溶
解し、0〜5℃で硫酸2mlを滴下し、0〜5℃で43
%ニトロシル硫酸7.09gを加えジアゾ化した。得ら
れたジアゾ液をメタノール100mlにN,N−ジエチ
ル−3−アミノフェノール3.96g、尿素0.8g、
酢酸ナトリウム8.0gを溶解させた溶液に0〜5℃で
滴下し、3時間攪拌後、一晩放置した。析出した結晶を
ろ別し、乾燥して下記構造式(4)で示される赤色結晶
2.78gを得た。
【0032】
【化8】
【0033】前記のようにして得られた構造式(4)で
示されるアゾ化合物2.66gをメタノール100m
l、THF20mlに溶解し、室温で酢酸ニッケル四水
和物2.38gのメタノール80ml溶液を加えた後、
室温で3時間攪拌し、水100mlを加えた。析出した
結晶をろ別し、乾燥して緑褐色結晶のニッケルキレート
化合物0.94gを得た。この化合物のλmax (クロロ
ホルム中)は515nm(ε=6.4×104 )であっ
た。
【0034】(b)記録媒体例 前記のようにして得られたニッケルキレート化合物を実
施例1と同様にして記録媒体を作製した。塗布膜の最も
長波長側の吸収極大(吸収肩)は574nmであった。
記録層膜厚は実施例1とほぼ同じであった。
【0035】(c)光記録法 前記のようにして得られた光ディスクに実施例1と全く
同様な条件で記録したところ、記録パワー6.8mWで
top 反射率54%でI11/Itop =60%、3Tのマ
ークジッターが15nsと良好な記録特性が得られた。
【0036】実施例3 (a)製造例 チオセミカルバジド9.10gとイソ酪酸8.81gを
ジエチレングリコールジメチルエーテル120mlに溶
解し、オキソ塩化リン15.4gを1時間で滴下し、徐
々に加熱後2時間還流した。一晩放置後、析出した結晶
をろ別した。その結晶を氷水100mlに溶解し、25
%水酸化ナトリウム水溶液でpH9に調節し、析出した
結晶をろ別し、乾燥して下記構造式(5)で示される無
色結晶9.01gを得た。
【0037】
【化9】
【0038】上記構造式(5)で示される2−アミノ−
5−isoプロピル−1,3,4−チアジアゾール1.
43gを酢酸10ml、プロピオン酸5mlに溶解し、
0〜5℃で硫酸1mlを滴下し、0〜5℃で43%ニト
ロシル硫酸3.55gを加えジアゾ化した。得られたジ
アゾ液をメタノール30mlにN,N−ジエチル−3−
アミノフェノール1.98g、尿素0.4g、酢酸ナト
リウム4.0gを溶解させた溶液に0〜5℃で滴下し、
5時間攪拌後、一晩放置した。析出した結晶をろ別し、
乾燥して下記構造式(6)で示される赤色結晶0.83
gを得た。
【0039】
【化10】
【0040】前記のようにして得られた構造式(6)で
示されるアゾ化合物0.70gと無水酢酸ナトリウム
0.18gをテトラヒドロフラン(THF)26ml、
水13mlに溶解し、室温で酢酸ニッケル四水和物0.
33gのメタノール10ml溶液を加えた後、室温で2
時間攪拌し、水23mlを加えた。析出した結晶をろ別
し、乾燥して濃緑色結晶のニッケルキレート化合物0.
38gを得た。この化合物のλmax (クロロホルム中)
は520nm(ε=7.9×104 )であった。この化
合物のクロロホルム中での可視光吸収スペクトルを図1
に示す。
【0041】(b)記録媒体例 前記のようにして得られたニッケルキレート化合物を実
施例1と同様にして記録媒体を作製した。塗布膜の最も
長波長側の吸収極大(吸収肩)は584nmであった。
記録層膜厚は約120nmであった。この塗布膜の可視
光吸収スペクトルを図2に示す。
【0042】(c)光記録法 こうして得られた光ディスクに、実施例1と同条件で記
録したところ、記録パワー6.4mWでItop 反射率=
62%、I11/Itop =64%、3Tマークジッター1
5nsの良好な特性が得られた。
【0043】
【発明の効果】本発明のアゾ系化合物と金属との金属キ
レート化合物を含有することを特徴とする光学記録媒体
は、630〜660nmのレーザー光に対する記録再生
特性が優れ、高反射率、高密度記録が可能であり、さら
に耐光性、耐久性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例3で用いた金属キレート化合物のクロロ
ホルム中での吸収スペクトル。
【図2】実施例3で用いた金属キレート化合物の塗布膜
での吸収スペクトル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 貴子 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に、光ビームによる情報の書
    き込み、読み取りが可能な記録層が設けられた光学記録
    媒体において、該記録層が下記一般式[I]または[I
    I]で示されるアゾ系化合物と金属との金属キレート化
    合物を含有することを特徴とする630〜660nmの
    レーザー光で記録再生するための光学記録媒体。 【化1】 (式中、Xは水素原子、炭素数1〜6の直鎖または分岐
    のアルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を
    表わし、R1 、R2 は炭素数1〜6の直鎖または分岐の
    アルキル基を表わす。)
  2. 【請求項2】 金属キレート化合物がニッケルキレート
    化合物であることを特徴とする請求項1に記載の光学記
    録媒体。
  3. 【請求項3】 記録層上に金属層及び保護層を設けるこ
    とを特徴とする請求項1または2に記載の光学記録媒
    体。
  4. 【請求項4】 透明基板上の案内溝が0.7〜1.0μ
    mトラックピッチであり、溝幅(溝深さが1/2になる
    ところの溝幅)が0.3〜0.35μmであり、溝深さ
    が100〜200nmであることを特徴とする請求項1
    〜3のいずれか1項に記載の光学記録媒体。
JP8207014A 1996-08-06 1996-08-06 光学記録媒体 Pending JPH1044606A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1369861A2 (en) 2000-08-25 2003-12-10 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Optical recording media
US6737143B2 (en) 2001-06-14 2004-05-18 Ricoh Company Ltd. Optical recording medium, optical recording method and optical recording device
US6936323B2 (en) 2003-04-30 2005-08-30 Ricoh Company, Ltd. Optical recording medium, and method and device using the same

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EP1369861B1 (en) * 2000-08-25 2012-11-07 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Optical recording media
US6737143B2 (en) 2001-06-14 2004-05-18 Ricoh Company Ltd. Optical recording medium, optical recording method and optical recording device
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