JPH1039098A - 軟ｘ線光学素子用多層膜 - Google Patents
軟ｘ線光学素子用多層膜Info
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- JPH1039098A JPH1039098A JP8194556A JP19455696A JPH1039098A JP H1039098 A JPH1039098 A JP H1039098A JP 8194556 A JP8194556 A JP 8194556A JP 19455696 A JP19455696 A JP 19455696A JP H1039098 A JPH1039098 A JP H1039098A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 軽元素層より成る高屈折率層をアモルファス
或は多結晶層を使用して形成する代りに、これらのクラ
スター結晶より成るカゴ状材料を使用して形成すること
により、多層膜の密度を減少し、膜内における吸収損失
を減少させて反射率、透過率および耐力を向上させた軟
Ｘ線光学素子用多層膜を提供する。 【解決手段】 軟Ｘ線波長領域において互いに光学屈折
率の相違する物質（２、３）を交互に積層して軟Ｘ線を
反射および透過させる軟Ｘ線光学素子用多層膜におい
て、高屈折率層（３）を低密度材料を使用して形成した
軟Ｘ線光学素子用多層膜。
或は多結晶層を使用して形成する代りに、これらのクラ
スター結晶より成るカゴ状材料を使用して形成すること
により、多層膜の密度を減少し、膜内における吸収損失
を減少させて反射率、透過率および耐力を向上させた軟
Ｘ線光学素子用多層膜を提供する。 【解決手段】 軟Ｘ線波長領域において互いに光学屈折
率の相違する物質（２、３）を交互に積層して軟Ｘ線を
反射および透過させる軟Ｘ線光学素子用多層膜におい
て、高屈折率層（３）を低密度材料を使用して形成した
軟Ｘ線光学素子用多層膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、軟Ｘ線光学素子
用多層膜に関し、特に、軟Ｘ線波長領域において吸収損
失が小さく、光学屈折率の大きい軟Ｘ線光学素子用多層
膜に関する。
用多層膜に関し、特に、軟Ｘ線波長領域において吸収損
失が小さく、光学屈折率の大きい軟Ｘ線光学素子用多層
膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来例を図７を参照して説明する。図７
はＭｏ／Ｓｉ層より成る通常の軟Ｘ線光学素子用多層膜
の断面を示す図である。１は基板、２はＭｏ層より成る
低屈折率層、３はＳｉ層より成る高屈折率層を示す。こ
の多層膜は現在最も広く研究開発が行なわれているＭｏ
／Ｓｉ系軟Ｘ線反射多層膜の例であり、軽元素層より成
る高屈折率層をＳｉにより形成し、重元素層より成る低
屈折率層をＭｏにより形成した多層膜である。ここにお
いて問題とされるＳｉ層は、通常アモルファス或は微小
結晶の集合した多結晶構造を有している。
はＭｏ／Ｓｉ層より成る通常の軟Ｘ線光学素子用多層膜
の断面を示す図である。１は基板、２はＭｏ層より成る
低屈折率層、３はＳｉ層より成る高屈折率層を示す。こ
の多層膜は現在最も広く研究開発が行なわれているＭｏ
／Ｓｉ系軟Ｘ線反射多層膜の例であり、軽元素層より成
る高屈折率層をＳｉにより形成し、重元素層より成る低
屈折率層をＭｏにより形成した多層膜である。ここにお
いて問題とされるＳｉ層は、通常アモルファス或は微小
結晶の集合した多結晶構造を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】軟Ｘ線波長領域におい
ては物質の光学定数は１に近いので、多層膜反射鏡を形
成した場合、多層膜の各界面における反射が小さく、多
数の界面を必要とすることが知られている。そして、多
層膜を形成する各物質は固有の吸収損失を有しており、
層数を多層とすると吸収損失が増大するところから高い
反射率の多層膜を形成することは困難になる。
ては物質の光学定数は１に近いので、多層膜反射鏡を形
成した場合、多層膜の各界面における反射が小さく、多
数の界面を必要とすることが知られている。そして、多
層膜を形成する各物質は固有の吸収損失を有しており、
層数を多層とすると吸収損失が増大するところから高い
反射率の多層膜を形成することは困難になる。
【０００４】この発明は、軽元素層より成る高屈折率層
として従来のアモルファス或は多結晶構造の高屈折率層
に代えて、Ｓｉ20、Ｓｉ34、Ｓｉ46の如きクラスター結
晶より成るカゴ状構造を有する材料を使用し、従来の多
層膜と比較して吸収損失を著しく減少せしめ、結果とし
て高い屈折率を示す軟Ｘ線光学素子用多層膜を提供する
ものである。
として従来のアモルファス或は多結晶構造の高屈折率層
に代えて、Ｓｉ20、Ｓｉ34、Ｓｉ46の如きクラスター結
晶より成るカゴ状構造を有する材料を使用し、従来の多
層膜と比較して吸収損失を著しく減少せしめ、結果とし
て高い屈折率を示す軟Ｘ線光学素子用多層膜を提供する
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】軟Ｘ線波長領域において
互に光学屈折率の異なる物質を交互に積層して軟Ｘ線を
反射および透過させる軟Ｘ線光学素子用多層膜におい
て、高屈折率層を低密度材料を使用して形成した軟Ｘ線
光学素子用多層膜を構成した。そして、低密度材料はＳ
ｉ或はＣのカゴ状構造を有する材料とした軟Ｘ線光学素
子用多層膜を構成した。
互に光学屈折率の異なる物質を交互に積層して軟Ｘ線を
反射および透過させる軟Ｘ線光学素子用多層膜におい
て、高屈折率層を低密度材料を使用して形成した軟Ｘ線
光学素子用多層膜を構成した。そして、低密度材料はＳ
ｉ或はＣのカゴ状構造を有する材料とした軟Ｘ線光学素
子用多層膜を構成した。
【０００６】また、カゴ状構造を有する材料はＳｉ20、
Ｓｉ34、Ｓｉ46或はＣ60、Ｃ70の内から選択された何れ
かである軟Ｘ線光学素子用多層膜を構成した。
Ｓｉ34、Ｓｉ46或はＣ60、Ｃ70の内から選択された何れ
かである軟Ｘ線光学素子用多層膜を構成した。
【０００７】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図を参照
して説明する。図１はこの発明のＭｏ／Ｓｉ20層より成
る軟Ｘ線光学素子用多層膜の実施例の断面を示す図であ
る。１はその基板を示す。２は重元素層より成る低屈折
率層であり、この例においてはＭｏにより形成されてい
る。この重元素層より成る低屈折率層の材料の選択は、
対象とする軟Ｘ線の波長を考慮して高反射率が得られる
組み合せとして選択する。３は軽元素層より成る高屈折
率層であり、この例においてはＳｉ20を使用して形成さ
れている。
して説明する。図１はこの発明のＭｏ／Ｓｉ20層より成
る軟Ｘ線光学素子用多層膜の実施例の断面を示す図であ
る。１はその基板を示す。２は重元素層より成る低屈折
率層であり、この例においてはＭｏにより形成されてい
る。この重元素層より成る低屈折率層の材料の選択は、
対象とする軟Ｘ線の波長を考慮して高反射率が得られる
組み合せとして選択する。３は軽元素層より成る高屈折
率層であり、この例においてはＳｉ20を使用して形成さ
れている。
【０００８】図２は図１に示されるＭｏ／Ｓｉ20多層膜
のＳｉ20層の拡大図である。１は平滑に研磨を施された
基板、２はＭｏ層より成る低屈折率層、３はＳｉ20より
成る高屈折率層である。図３はＳｉ20層を構成する単体
を示す図である。このＳｉ20はクラスター結晶より成る
カゴ状構造を有する材料である。即ち、Ｓｉ20層の構造
の基本を構成する単体は正５角形の面より成る１２面体
を形成している。頂点は２０個あって各頂点を合計２０
個のＳｉ原子が占めており、内部は中空である。この軽
元素高屈折率層を形成する材料としては、Ｓｉ20の他に
Ｓｉ34、Ｓｉ46を使用することができ、また、他の軽元
素高屈折率層としてＣ60或はＣ70の構造を有する層を使
用することもできる。これらは何れもクラスター結晶よ
り成るカゴ状構造を有する材料である。
のＳｉ20層の拡大図である。１は平滑に研磨を施された
基板、２はＭｏ層より成る低屈折率層、３はＳｉ20より
成る高屈折率層である。図３はＳｉ20層を構成する単体
を示す図である。このＳｉ20はクラスター結晶より成る
カゴ状構造を有する材料である。即ち、Ｓｉ20層の構造
の基本を構成する単体は正５角形の面より成る１２面体
を形成している。頂点は２０個あって各頂点を合計２０
個のＳｉ原子が占めており、内部は中空である。この軽
元素高屈折率層を形成する材料としては、Ｓｉ20の他に
Ｓｉ34、Ｓｉ46を使用することができ、また、他の軽元
素高屈折率層としてＣ60或はＣ70の構造を有する層を使
用することもできる。これらは何れもクラスター結晶よ
り成るカゴ状構造を有する材料である。
【０００９】ここで、図４は通常のＳｉ膜とＳｉ20膜の
光学的屈折率ｎの波長依存性を示す図である。図４にお
ける点線は通常のＳｉの屈折率ｎの波長依存性を示し、
実線はＳｉ20の屈折率ｎの波長依存性を示す。なお、反
射率の計算は入射角を１０°とし、層数１０１として実
施した。図５は通常のＳｉ膜とＳｉ20膜の吸収係数ｋの
波長依存性を示す図である。図５における点線は通常の
Ｓｉの吸収係数ｋの波長依存性を示し、実線はＳｉ20の
吸収係数ｋの波長依存性を示す。なお、反射率の計算は
入射角度１０°、層数１０１として実施した。
光学的屈折率ｎの波長依存性を示す図である。図４にお
ける点線は通常のＳｉの屈折率ｎの波長依存性を示し、
実線はＳｉ20の屈折率ｎの波長依存性を示す。なお、反
射率の計算は入射角を１０°とし、層数１０１として実
施した。図５は通常のＳｉ膜とＳｉ20膜の吸収係数ｋの
波長依存性を示す図である。図５における点線は通常の
Ｓｉの吸収係数ｋの波長依存性を示し、実線はＳｉ20の
吸収係数ｋの波長依存性を示す。なお、反射率の計算は
入射角度１０°、層数１０１として実施した。
【００１０】図６はＭｏ／Ｓｉ層より成る通常の構成の
軟Ｘ線光学素子用多層膜とＭｏ／Ｓｉ20層より成るこの
発明の軟Ｘ線光学素子用多層膜の軟Ｘ線反射率の波長依
存性を示す図である。図６における点線は高屈折率層を
通常のＳｉにより形成した多層膜の反射率の波長依存性
を示し、実線は高屈折率層をＳｉ20により形成したこの
発明の多層膜の反射率の波長依存性を示す。なお、反射
率の計算は入射角度１０°、層数１０１として実施し
た。
軟Ｘ線光学素子用多層膜とＭｏ／Ｓｉ20層より成るこの
発明の軟Ｘ線光学素子用多層膜の軟Ｘ線反射率の波長依
存性を示す図である。図６における点線は高屈折率層を
通常のＳｉにより形成した多層膜の反射率の波長依存性
を示し、実線は高屈折率層をＳｉ20により形成したこの
発明の多層膜の反射率の波長依存性を示す。なお、反射
率の計算は入射角度１０°、層数１０１として実施し
た。
【００１１】以上の通り、Ｍｏ／Ｓｉ層より成る通常の
構成の多層膜と、Ｍｏ／Ｓｉ20層より成るこの発明の多
層膜の波長依存性を示す図６より明らかな如く、広い軟
Ｘ線波長領域において反射率の向上が認められる。
構成の多層膜と、Ｍｏ／Ｓｉ20層より成るこの発明の多
層膜の波長依存性を示す図６より明らかな如く、広い軟
Ｘ線波長領域において反射率の向上が認められる。
【００１２】
【発明の効果】以上の通りであって、この発明に依れ
ば、軽元素層より成る高屈折率層を従来のアモルファス
或は多結晶層を使用して形成する代りに、これらのクラ
スター結晶より成るカゴ状材料を使用して形成すること
により、多層膜の密度を減少し、膜内における吸収損失
を減少させて反射率、透過率および耐力を向上させるこ
とができる。
ば、軽元素層より成る高屈折率層を従来のアモルファス
或は多結晶層を使用して形成する代りに、これらのクラ
スター結晶より成るカゴ状材料を使用して形成すること
により、多層膜の密度を減少し、膜内における吸収損失
を減少させて反射率、透過率および耐力を向上させるこ
とができる。
【図１】実施例を説明する図。
【図２】図１の一部を拡大して示す図。
【図３】Ｓｉ20の構造を示す図
【図４】屈折率の波長依存性を示す図。
【図５】吸収係数の波長依存性を示す図。
【図６】多層膜の反射率の波長依存性を示す図。
【図７】従来例を説明する図。
１ 基板 ２ 重元素層より成る低屈折率層 ３ 軽元素層より成る高屈折率層
Claims (3)
- 【請求項１】 軟Ｘ線波長領域において互に光学屈折率
の異なる物質を交互に積層して軟Ｘ線を反射および透過
させる軟Ｘ線光学素子用多層膜において、 高屈折率層を低密度材料を使用して形成したことを特徴
とする軟Ｘ線光学素子用多層膜。 - 【請求項２】 請求項１に記載される軟Ｘ線光学素子用
多層膜において、 低密度材料はＳｉ或はＣのカゴ状構造を有する材料とし
たことを特徴とする軟Ｘ線光学素子用多層膜。 - 【請求項３】 請求項１に記載される軟Ｘ線光学素子用
多層膜において、 カゴ状構造を有する材料はＳｉ20、Ｓｉ34、Ｓｉ46或は
Ｃ60、Ｃ70の内から選択された何れかであることを特徴
とする軟Ｘ線光学素子用多層膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08194556A JP3101695B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 軟ｘ線光学素子用多層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08194556A JP3101695B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 軟ｘ線光学素子用多層膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1039098A true JPH1039098A (ja) | 1998-02-13 |
| JP3101695B2 JP3101695B2 (ja) | 2000-10-23 |
Family
ID=16326502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08194556A Expired - Fee Related JP3101695B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 軟ｘ線光学素子用多層膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3101695B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7098305B2 (en) | 2001-09-06 | 2006-08-29 | Ardana Bioscience Limited | Sustained release of microcrystalline peptide suspensions |
| JP2005083862A (ja) | 2003-09-08 | 2005-03-31 | Canon Inc | 光学薄膜およびこれを用いたミラー |
-
1996
- 1996-07-24 JP JP08194556A patent/JP3101695B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3101695B2 (ja) | 2000-10-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000704 |
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