JPH103629A - 薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法Info
- Publication number
- JPH103629A JPH103629A JP15388996A JP15388996A JPH103629A JP H103629 A JPH103629 A JP H103629A JP 15388996 A JP15388996 A JP 15388996A JP 15388996 A JP15388996 A JP 15388996A JP H103629 A JPH103629 A JP H103629A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head slider
- protective film
- magnetic head
- prescribed
- film
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- Pending
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】吸着を抑えた構造をもつ薄膜磁気ヘッドスライ
ダーを単純な工程により製造する。 【解決手段】空気ベアリング面にアモルファスカーボン
膜２などの保護膜を形成後に該保護膜面に液晶用ギャッ
プスペーサー３などの微細粒子を付着させる工程と、該
微細粒子をマスクとして保護膜の一部をエッチングする
工程と、該微細粒子を保護膜面より取り除く工程とを有
する薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法。
ダーを単純な工程により製造する。 【解決手段】空気ベアリング面にアモルファスカーボン
膜２などの保護膜を形成後に該保護膜面に液晶用ギャッ
プスペーサー３などの微細粒子を付着させる工程と、該
微細粒子をマスクとして保護膜の一部をエッチングする
工程と、該微細粒子を保護膜面より取り除く工程とを有
する薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置用
の磁気ヘッドスライダーに関し、特に空気ベアリング面
に保護膜をもつ薄膜磁気ヘッドスライダーに関する。
の磁気ヘッドスライダーに関し、特に空気ベアリング面
に保護膜をもつ薄膜磁気ヘッドスライダーに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年磁気ディスク装置において、記録密
度の進歩はめざましく、それに伴って磁気ヘッドスライ
ダーの磁気メディアに対する浮上量は著しく低下してい
る。同時に、ヘッドスライダーとメディアとの間の摩擦
特性の向上の要求も厳しくなっており、摩擦特性を向上
させるために、スライダーのメディアと対峙する面に、
アモルファスカーボン膜よりなる保護膜を形成したスラ
イダーも多く見られるようになっている。
度の進歩はめざましく、それに伴って磁気ヘッドスライ
ダーの磁気メディアに対する浮上量は著しく低下してい
る。同時に、ヘッドスライダーとメディアとの間の摩擦
特性の向上の要求も厳しくなっており、摩擦特性を向上
させるために、スライダーのメディアと対峙する面に、
アモルファスカーボン膜よりなる保護膜を形成したスラ
イダーも多く見られるようになっている。
【０００３】一般的に、静止した状態からヘッドが浮上
する際の摩擦抵抗すなわち吸着は、静止状態のヘッドス
ライダーの接触面積が大きいほど大きくなる。この接触
面積を下げるために、スライダーの空気ベアリング面の
レールには、球面または円筒面の形状ががつけられてい
る。またメディア上には、静止したヘッドスライダーの
吸着を防ぐための微細な凹凸からなる構造が設けられて
いる。
する際の摩擦抵抗すなわち吸着は、静止状態のヘッドス
ライダーの接触面積が大きいほど大きくなる。この接触
面積を下げるために、スライダーの空気ベアリング面の
レールには、球面または円筒面の形状ががつけられてい
る。またメディア上には、静止したヘッドスライダーの
吸着を防ぐための微細な凹凸からなる構造が設けられて
いる。
【０００４】しかし低浮上量を達成するためには、磁気
メディアの媒体表面を平滑にすることが望ましい。すな
わち吸着を防ぐためのメディア上のこのような微細構造
は使わないことが望ましい。
メディアの媒体表面を平滑にすることが望ましい。すな
わち吸着を防ぐためのメディア上のこのような微細構造
は使わないことが望ましい。
【０００５】このような平滑な磁気メディアを用いる際
に、ヘッドスライダーの吸着を小さくする方法として、
スライダーの空気ベアリングのレール上にも微細な構造
を持たせて、接触面積を小さくすることが可能である。
に、ヘッドスライダーの吸着を小さくする方法として、
スライダーの空気ベアリングのレール上にも微細な構造
を持たせて、接触面積を小さくすることが可能である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし従来、このレー
ル上の微細構造をフォトリソグラフィーなどの手段を用
いることなく、単純な工程で生産性よく形成する方法は
提供されていなかった。
ル上の微細構造をフォトリソグラフィーなどの手段を用
いることなく、単純な工程で生産性よく形成する方法は
提供されていなかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、吸着を抑えた
構造をもつ薄膜磁気ヘッドスライダーの新規有用な製造
方法を提供するものであり、空気ベアリング面に保護膜
をもつ薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法であって、
前記保護膜を形成後に該保護膜面に微細粒子を付着させ
る工程と、該微細粒子をマスクとして該保護膜の一部を
エッチングする工程と、該微細粒子を保護膜面より取り
除く工程とにより空気ベアリング面の保護膜面に微細構
造を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドスライダ
ーの製造方法を提供するものである。
構造をもつ薄膜磁気ヘッドスライダーの新規有用な製造
方法を提供するものであり、空気ベアリング面に保護膜
をもつ薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法であって、
前記保護膜を形成後に該保護膜面に微細粒子を付着させ
る工程と、該微細粒子をマスクとして該保護膜の一部を
エッチングする工程と、該微細粒子を保護膜面より取り
除く工程とにより空気ベアリング面の保護膜面に微細構
造を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドスライダ
ーの製造方法を提供するものである。
【０００８】また本発明は、前記保護膜の一部又は全部
が、炭素を主成分とする膜により形成されてなり、該保
護膜のエッチングを酸素プラズマによるドライエッチン
グにより行なうことを特徴とする上記薄膜磁気ヘッドス
ライダーの製造方法を提供するものである。
が、炭素を主成分とする膜により形成されてなり、該保
護膜のエッチングを酸素プラズマによるドライエッチン
グにより行なうことを特徴とする上記薄膜磁気ヘッドス
ライダーの製造方法を提供するものである。
【０００９】本発明により、空気ベアリング面の保護膜
面に微細な凹凸を形成でき、これによりメディアへの吸
着を防止できる薄膜磁気ヘッドスライダーを提供でき
る。
面に微細な凹凸を形成でき、これによりメディアへの吸
着を防止できる薄膜磁気ヘッドスライダーを提供でき
る。
【００１０】微細粒子としてはシリカ微粒子、プラスチ
ック微粒子その他所要の粒径で粒度の揃った粒子から選
ぶことができる。実施例ではプラスチック微粒子（商品
名：ミクロパール 積水化学（株）製品）を用いた。
ック微粒子その他所要の粒径で粒度の揃った粒子から選
ぶことができる。実施例ではプラスチック微粒子（商品
名：ミクロパール 積水化学（株）製品）を用いた。
【００１１】エッチングの方法としては、酸素プラズマ
によるドライエッチング法が好適であるが、その他炭素
を主成分とする膜のエッチングに適した方法を選ぶこと
ができる。
によるドライエッチング法が好適であるが、その他炭素
を主成分とする膜のエッチングに適した方法を選ぶこと
ができる。
【００１２】
（実施例１）薄膜磁気ヘッド素子が形成されたアルチッ
ク基板を、概略５ｃｍ×２ｍｍ×０．５ｍｍのバー状に
切断した後、所定量の研磨を施した。この際、後の工程
で空気ベアリングを形成する側の２ｍｍ×５ｃｍの面
は、バーの長手方向と直角な方向に、Ｒ＝１２ｍの曲率
をもたせた円筒凸面状の加工を施した。この円筒凸面状
加工面、すなわちメディアと対峙するべき面に、シリコ
ン膜１を１．５ｎｍ、アモルファスカーボン膜２を８．
５ｎｍの順に積層して保護膜を形成した。さらに同じ面
にフォトレジストを塗布し、所定の空気ベアリングのマ
スクパターンを露光した後、レジスト現像を行った。そ
の後Ａｒガスを用いたイオンビームミリング装置によっ
て空気ベアリングを形成した後、レジストを剥離した。
ク基板を、概略５ｃｍ×２ｍｍ×０．５ｍｍのバー状に
切断した後、所定量の研磨を施した。この際、後の工程
で空気ベアリングを形成する側の２ｍｍ×５ｃｍの面
は、バーの長手方向と直角な方向に、Ｒ＝１２ｍの曲率
をもたせた円筒凸面状の加工を施した。この円筒凸面状
加工面、すなわちメディアと対峙するべき面に、シリコ
ン膜１を１．５ｎｍ、アモルファスカーボン膜２を８．
５ｎｍの順に積層して保護膜を形成した。さらに同じ面
にフォトレジストを塗布し、所定の空気ベアリングのマ
スクパターンを露光した後、レジスト現像を行った。そ
の後Ａｒガスを用いたイオンビームミリング装置によっ
て空気ベアリングを形成した後、レジストを剥離した。
【００１３】こうして空気ベアリングを形成した面を上
にしてバーをならべ、その上に湿式の液晶用ギャップス
ペーサー散布機で、微細粒子として４．７５μｍの液晶
用ギャップスペーサー３（商品名：ミクロパール 積水
化学（株）製品）を５８０００個／ｃｍ2 の散布密度で
散布した（図１Ａ）。これらのバーを、酸素プラズマを
用いたドライエッチング装置に搬入し、アモルファスカ
ーボン膜２を５ｎｍの深さまでエッチングした（図１
Ｂ）。これらのバーは純水中で６０秒間超音波洗浄とリ
ンスを行った後、窒素中で乾燥した。この作業により散
布した液晶用ギャップスペーサーは完全に除去できた
（図１Ｃ）。
にしてバーをならべ、その上に湿式の液晶用ギャップス
ペーサー散布機で、微細粒子として４．７５μｍの液晶
用ギャップスペーサー３（商品名：ミクロパール 積水
化学（株）製品）を５８０００個／ｃｍ2 の散布密度で
散布した（図１Ａ）。これらのバーを、酸素プラズマを
用いたドライエッチング装置に搬入し、アモルファスカ
ーボン膜２を５ｎｍの深さまでエッチングした（図１
Ｂ）。これらのバーは純水中で６０秒間超音波洗浄とリ
ンスを行った後、窒素中で乾燥した。この作業により散
布した液晶用ギャップスペーサーは完全に除去できた
（図１Ｃ）。
【００１４】こうして作製したバーを切断し、磁気ディ
スクドライブ用ヘッドスライダーを作製した。レール面
上には、約４．７５μｍ径のアモルファスカーボン膜の
微細なバンプが、面積率で約１％形成されていた。この
磁気ヘッドスライダーは、通常の平滑なレール面をもつ
スライダーに比べて、メディア上に静止した時の吸着が
小さく摩擦特性に優れていた。静止摩擦に関するＣＳＳ
特性を図２に示した。
スクドライブ用ヘッドスライダーを作製した。レール面
上には、約４．７５μｍ径のアモルファスカーボン膜の
微細なバンプが、面積率で約１％形成されていた。この
磁気ヘッドスライダーは、通常の平滑なレール面をもつ
スライダーに比べて、メディア上に静止した時の吸着が
小さく摩擦特性に優れていた。静止摩擦に関するＣＳＳ
特性を図２に示した。
【００１５】（実施例２）薄膜磁気ヘッド素子が形成さ
れたアルチック基板を、概略５ｃｍ×２ｍｍ×０．５ｍ
ｍのバー状に切断した後、所定量の研磨を施した。この
研磨面すなわちスライダーに加工された時にメディアに
対峙する面にフォトレジストを塗布し、所定の空気ベア
リングのマスクパターンを露光した後、レジスト現像を
行った。その後Ａｒガスを用いたイオンビームミリング
装置によって空気ベアリングを形成した後、レジストを
剥離した。こうして作製したバーを個々のスライダーに
切断した。それぞれのスライダーの空気ベアリング面の
レールに、曲率半径１２ｍの球面凸状の研磨加工を施し
た。これらのスライダーの空気ベアリング面全面に、シ
リコン膜１．５ｎｍ、アモルファスカーボン膜８．５ｎ
ｍの順に積層した保護膜を形成した。
れたアルチック基板を、概略５ｃｍ×２ｍｍ×０．５ｍ
ｍのバー状に切断した後、所定量の研磨を施した。この
研磨面すなわちスライダーに加工された時にメディアに
対峙する面にフォトレジストを塗布し、所定の空気ベア
リングのマスクパターンを露光した後、レジスト現像を
行った。その後Ａｒガスを用いたイオンビームミリング
装置によって空気ベアリングを形成した後、レジストを
剥離した。こうして作製したバーを個々のスライダーに
切断した。それぞれのスライダーの空気ベアリング面の
レールに、曲率半径１２ｍの球面凸状の研磨加工を施し
た。これらのスライダーの空気ベアリング面全面に、シ
リコン膜１．５ｎｍ、アモルファスカーボン膜８．５ｎ
ｍの順に積層した保護膜を形成した。
【００１６】こうして空気ベアリングを形成した面を上
にしてスライダーを配置し、その上に湿式の液晶用ギャ
ップスペーサー散布機で、微細粒子として１２μｍの液
晶用ギャップスペーサーを９０００個／ｃｍ2 の散布密
度で散布した。これらのスライダーを、酸素プラズマを
用いたドライエッチング装置に搬入し、アモルファスカ
ーボン膜を５ｎｍの深さまでエッチングした。さらに純
水中で６０秒間超音波洗浄とリンスを行った後、窒素中
で乾燥した。この作業により散布した液晶用ギャップス
ペーサーは完全に除去できた。
にしてスライダーを配置し、その上に湿式の液晶用ギャ
ップスペーサー散布機で、微細粒子として１２μｍの液
晶用ギャップスペーサーを９０００個／ｃｍ2 の散布密
度で散布した。これらのスライダーを、酸素プラズマを
用いたドライエッチング装置に搬入し、アモルファスカ
ーボン膜を５ｎｍの深さまでエッチングした。さらに純
水中で６０秒間超音波洗浄とリンスを行った後、窒素中
で乾燥した。この作業により散布した液晶用ギャップス
ペーサーは完全に除去できた。
【００１７】レール面上には、約１２μｍ径のアモルフ
ァスカーボン膜の微細なバンプが、面積率で約１％形成
されていた。この磁気ヘッドスライダーは、通常の平滑
なレール面をもつスライダーに比べて、メディア上に静
止した時の吸着が小さく摩擦特性に優れていた。
ァスカーボン膜の微細なバンプが、面積率で約１％形成
されていた。この磁気ヘッドスライダーは、通常の平滑
なレール面をもつスライダーに比べて、メディア上に静
止した時の吸着が小さく摩擦特性に優れていた。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、空気ベアリング面のレ
ール上に微細構造をもつような、摩擦特性に優れた磁気
ヘッドスライダーをフォトリソグラフィーなどの手段を
用いることなく、単純な工程により製造できる。
ール上に微細構造をもつような、摩擦特性に優れた磁気
ヘッドスライダーをフォトリソグラフィーなどの手段を
用いることなく、単純な工程により製造できる。
【図１】Ａは微細粒子散布後の表面付近の概略図、Ｂは
エッチング後の表面付近の概略図、Ｃは微細粒子除去後
の表面付近の概略図である。
エッチング後の表面付近の概略図、Ｃは微細粒子除去後
の表面付近の概略図である。
【図２】実施例１で得られた静止摩擦のＣＳＳ特性図。
１・・・シリコン膜 ２・・・アモルファスカーボン膜 ３・・・液晶用ギャップスペーサー ４・・・空気ベアリング加工後のアルチック基板
Claims (2)
- 【請求項１】空気ベアリング面に保護膜をもつ薄膜磁気
ヘッドスライダーの製造方法であって、前記保護膜を形
成後に該保護膜面に微細粒子を付着させる工程と、該微
細粒子をマスクとして該保護膜の一部をエッチングする
工程と、該微細粒子を保護膜面より取り除く工程とによ
り空気ベアリング面の保護膜面に微細構造を形成するこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法。 - 【請求項２】前記保護膜の一部又は全部が、炭素を主成
分とする膜により形成されてなり、該保護膜のエッチン
グを酸素プラズマによるドライエッチングにより行なう
ことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドスライ
ダーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15388996A JPH103629A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15388996A JPH103629A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH103629A true JPH103629A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=15572337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15388996A Pending JPH103629A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH103629A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100416656C (zh) * | 2005-08-08 | 2008-09-03 | Tdk株式会社 | 薄膜磁头滑块的abs加工方法 |
| US7727552B1 (en) | 1997-03-28 | 2010-06-01 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Oral pharmaceutical preparations decreased in bitterness by masking |
| US7727548B2 (en) | 2000-03-01 | 2010-06-01 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Rapidly disintegrable tablet containing polyvinyl alcohol |
-
1996
- 1996-06-14 JP JP15388996A patent/JPH103629A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7727552B1 (en) | 1997-03-28 | 2010-06-01 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Oral pharmaceutical preparations decreased in bitterness by masking |
| US7727548B2 (en) | 2000-03-01 | 2010-06-01 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Rapidly disintegrable tablet containing polyvinyl alcohol |
| CN100416656C (zh) * | 2005-08-08 | 2008-09-03 | Tdk株式会社 | 薄膜磁头滑块的abs加工方法 |
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