JPH1036225A - 水性ネイルエナメル - Google Patents

水性ネイルエナメル

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JPH1036225A
JPH1036225A JP18965896A JP18965896A JPH1036225A JP H1036225 A JPH1036225 A JP H1036225A JP 18965896 A JP18965896 A JP 18965896A JP 18965896 A JP18965896 A JP 18965896A JP H1036225 A JPH1036225 A JP H1036225A
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JP
Japan
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nail enamel
film
polymer
water
aqueous
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JP18965896A
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English (en)
Inventor
Tsutomu Kamata
勉 鎌田
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Pola Chemical Industries Inc
Original Assignee
Pola Chemical Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用時に容易に剥落を生じない皮膜強度を有
しながら、不要となった際には容易に除去できる水性ネ
イルエナメルを提供する事を課題とする。 【解決手段】 エマルション状のポリマーと、二酸化珪
素、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウムおよび珪酸マグ
ネシウムアルミニウムから選ばれる一種又は二種以上の
無機粉末と、を混合撹拌して水性ネイルエナメルを得
る。前記無機粉末の平均粒径は0.001〜100μm
であることが好ましく、また無機粉末の含有量は、皮膜
形成成分であるポリマーの量に対して0.01〜5重量
%であることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水性ネイルエナメ
ルに関し、詳しくは、強固な皮膜の形成能に優れながら
も、リムーバー(除去液)により容易に除去することの
できる水性ネイルエナメルに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ネイルエナメルは、ニトロセルロ
ースを皮膜形成剤としてアセトン、トルエン等の有機溶
剤に溶かし、この溶液を塗布して皮膜を形成するものが
主流である。このようなネイルエナメルの除去にはニト
ロセルロースを溶解しうるアセトン、トルエン等の有機
溶剤の混合溶液を主成分としたリムーバーを用いるのが
一般的である。
【0003】このニトロセルロースを皮膜形成剤とする
ネイルエナメルは速乾性があり、比較的強固な皮膜を形
成するものである。しかし、近年このタイプのネイルエ
ナメルに使用されるトルエン等の有機溶剤に安全面、環
境衛生面での問題点が指摘されはじめ、このような有機
溶剤を使用していない水性ネイルエナメルの開発が盛ん
となってきた。
【0004】水性ネイルエナメルは水性溶剤を使用して
いるため、ニトロセルロースを皮膜形成剤として使用す
るのは物性上困難であるので、これに代わる皮膜形成剤
として、エマルション状の、アクリル系ポリマー、ウレ
タン系ポリマーなどのポリマーを使用するものが開発さ
れている。最近では高分子化合物の水性分散液の改良が
進み、強固な皮膜を形成する水性ネイルエナメルも多々
見られるようになった。
【0005】しかしながら、このような皮膜形成成分で
あるポリマーを配合した新しいタイプの水性ネイルエナ
メルには、乾燥した皮膜の除去が容易ではないという問
題がある。この点を解決するために水性ネイルエナメル
専用のリムーバーも研究されているが、ニトロセルロー
スを含むタイプのネイルエナメルを除去する場合と比較
すると除去性能は未だ充分とは言いがたい。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な状況に鑑みてなされたものであって、使用時に容易に
は剥落を生じない皮膜強度を有しながら、不要となった
際には容易に除去できる水性ネイルエナメルを提供する
事を課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】こうした現状に鑑み、本
発明者らは、エマルション状のポリマーが形成する皮膜
がリムーバーによって容易に溶解し、除去されるよう、
水性ネイルエナメルの組成自体について鋭意研究を進め
た。その結果、本発明者らは、二酸化珪素、珪酸カルシ
ウム、珪酸マグネシウムおよび珪酸マグネシウムアルミ
ニウムから選ばれる一種又は二種以上の無機粉末を水性
ネイルエナメルに配合することにより、皮膜自体の強度
を低下させる事なく、リムーバー等で容易に除去しうる
水性ネイルエナメルを得られる事を見いだし本発明を完
成させるに至った。
【0008】即ち、本発明は、エマルション状のポリマ
ーを皮膜形成成分として含有する水性ネイルエナメルに
おいて、二酸化珪素、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウ
ムおよび珪酸マグネシウムアルミニウムから選ばれる一
種又は二種以上の無機粉末を含有することを特徴とする
水性ネイルエナメルに関する。
【0009】前記無機粉末の平均粒径は、好ましくは
0.001〜100μmであり、また無機粉末の含有量
は皮膜形成成分であるポリマーの量に対して、好ましく
は0.01〜5重量%である。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の水性ネイルエナメルは、二酸化珪素、珪
酸カルシウム、珪酸マグネシウムおよび珪酸マグネシウ
ムアルミニウムから選ばれる一種又は二種以上の無機粉
末を含有することを特徴とするものであり、それ以外は
通常の水性エナメルと特に変わるところはなく、エマル
ション状のポリマーを皮膜形成成分として含有する。
【0011】本発明に使用される無機粉末としては、二
酸化珪素、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウムおよび珪
酸マグネシウムアルミニウムから選ばれる無機化合物の
粉末が好ましく、この中でも二酸化珪素の粉末は、ネイ
ルエナメルとしての皮膜強度を低下させる事が少ないの
で特に好適に用いられる。これらの無機粉末は上記のう
ちの一種を単独で配合しても、二種以上を配合してもよ
い。
【0012】また、本発明に適用される無機粉末は、そ
の平均粒径が0.001〜100μmであることが好ま
しく、特に好ましくは0.005〜10μmである。併
用するエマルション状のポリマーの種類により若干の相
違はあるが、平均粒径がおおむねこの範囲内であれば、
平均粒径が大きすぎてネイルエナメルの皮膜が日常生活
の中で簡単に剥落するということがなく、一方小さすぎ
てリムーバーによる除去性が低下するということもな
い。さらに、上記範囲内であれば皮膜のつやが落ちるこ
ともないので、本発明のネイルエナメルを実用的なもの
とすることができる。
【0013】含有される無機粉末の形状は特に問題では
なく、球状であっても、破砕粉末のような不定形であっ
てもよい。また、水性ネイルエナメル中での分散性を高
める等の目的で、疎水処理、親水処理等の表面処理を施
した無機粉末を使用してもよい。表面処理の例として
は、金属石ケン処理、シリコーン処理、フッ素処理等が
挙げられる。
【0014】本発明の水性ネイルエナメルに使用される
エマルション状のポリマーは、皮膜形成性を有し、水性
分散液として存在しうるものであれば特に制限されず、
一般に水性ネイルエナメルに使用されるものであれば本
発明に用いることができる。具体的には、アクリル系ポ
リマー、ウレタン系ポリマー等が挙げられる。
【0015】前記エマルション状のポリマーの粒径は特
に制限されるものではないが、一般的には粒径が0.1
〜5.0μm程度のものを用いるのが好ましい。また、
本発明の水性ネイルエナメルには、2種以上のエマルシ
ョン状のポリマーが含まれてもよい。
【0016】水性ネイルエナメルの製造に際しては、上
記ポリマーは、通常ポリマーエマルションとして配合さ
れる。ポリマーエマルションの製造方法は周知であり、
例えば、界面活性剤の存在下、乳化重合をおこなうこと
によって製造することができる。
【0017】ネイルエナメルに配合するポリマーの量は
特に制限はなく、水性ネイルエナメルの塗りやすさ、塗
布後の乾燥の速さ等を考慮して定めればよい。具体的に
は、ネイルエナメル全量に対して20〜60重量%であ
ることが好ましく、30〜45重量%がより好ましい。
通常、ポリマーエマルション中に含まれるポリマーの量
が上記範囲となるように、ポリマーエマルションを配合
すればよい。
【0018】無機粉末の水性ネイルエナメルへの含有量
は、エマルションとして配合される皮膜形成成分である
ポリマーの量に対して0.01〜5重量%であることが
好ましく、特に好ましくは0.1〜3重量%である。無
機粉末の含有量がこの範囲内であれば、無機粉末が多す
ぎてネイルエナメルの皮膜が日常生活の中で簡単に剥落
するということがなく、一方少なすぎてリムーバーによ
る除去性が低下するということもない。さらに、上記範
囲内であれば皮膜のつやが落ちることもないので、本発
明のネイルエナメルを実用的なものとすることができ
る。
【0019】また、本発明の水性ネイルエナメルには、
上記無機粉末、ポリマーエマルションの他に通常水性ネ
イルエナメルに用いられる消泡剤、可塑剤、色材、防腐
剤、増粘剤、活性剤等を配合してよい。
【0020】本発明の水性ネイルエナメルは、上記無機
粉末と、上記ポリマーエマルションと、必要に応じてそ
の他の成分とを常法に従って混合撹拌することにより製
造することができる。混合撹拌の方法等には特に制限は
なく、水性ネイルエナメルの通常の製造方法に準じて行
えばよい。例えば、上記無機粉末と色材と、別途ポリマ
ーエマルション等の他の成分を混合撹拌した混合物とを
混合して各成分を分散させることにより本発明の水性ネ
イルエナメルを得ることができる。
【0021】
【実施例】以下に本発明の実施例について説明する。
【0022】
【製造例】表1に示すように各成分を秤取り、混合攪拌
して4種類(実施例1〜4)の水性ネイルエナメルを製
造した。各成分の混合撹拌は、A成分を、別途混合攪拌
したB成分に添加し、混合、分散させて行った。なお、
表中の数値の単位は重量%である。
【0023】
【表1】 *R−226(ヘリンドンピンクCN、癸巳化成社製) **アクリルポリマーエマルション(ポリマーの量:45重量%) ***ジエチレングリコールモノエチルエーテル
【0024】比較例として、表2に示すように各成分を
秤取り、上記実施例1〜4と同様にして混合撹拌して、
4種類(比較例1〜4)の水性ネイルエナメルを製造し
た。なお、表中の数値の単位は重量%である。
【0025】
【表2】 *R−226(ヘリンドンピンクCN、癸巳化成社製) **アクリルポリマーエマルション(ポリマーの量:45重量%) ***ジエチレングリコールモノエチルエーテル
【0026】
【剥離試験及び除去試験】上記実施例1〜4及び比較例
1〜4の水性ネイルエナメルをそれぞれガラス板に30
ミルのドクターブレードを用いて塗布し、24時間室温
で乾燥させてネイルエナメル膜を形成させた。以下の方
法によりネイルエナメル膜の剥離試験とリムーバーによ
る除去試験を行った。
【0027】<1.剥離試験 >ガラス板上のネイルエ
ナメル膜の中央部分の10×10cm区画を1×1cm
の大きさの小区画となるようにカッターナイフで切れ目
を入れた。切れ目を入れた区画にセロファンテープを張
りつけ、その後セロファンテープをはがし、剥離してく
るネイルエナメル膜の小区画の数を数えた。
【0028】<2.除去試験>ガラス板上のネイルエナ
メル膜を、リムーバー1mlをしみこませた化粧用コッ
トンで擦り、ガラス板からネイルエナメル膜を除去にす
るのに要した擦った回数を数えた。なお、リムーバー
は、表3に示す組成のものを用いた。
【0029】
【表3】 *ノムコートTIO:2−エチルヘキサン酸トリグリセ
ライド(日清製油社製)
【0030】表4に剥離試験及び除去試験の結果を示
す。
【0031】
【表4】
【0032】
【使用試験】健常爪を有する20〜40歳の本邦女性1
0名に、左手の爪に実施例1のネイルエナメルを、右手
の爪に比較例1のネイルエナメルをそれぞれ二度塗りで
塗布して貰い、以下のアンケート項目について、1.良
い 2.普通 3.悪い の3段階で評価を依頼した。
アンケート結果を表5に示す。
【0033】
【表5】
【0034】表4および表5の結果から明らかなよう
に、本発明の水性ネイルエナメルは、比較例のネイルエ
ナメルに比べ、持ちの良い強固な皮膜を形成するにも拘
わらず、落とし易さにきわめて優れている。
【0035】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明の水性ネ
イルエナメルは強固な皮膜の形成能に優れると共に、リ
ムーバーによる除去性にきわめて優れており、使用性の
良好なものである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エマルション状のポリマーを皮膜形成成
    分として含有する水性ネイルエナメルにおいて、二酸化
    珪素、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウムおよび珪酸マ
    グネシウムアルミニウムから選ばれる一種又は二種以上
    の無機粉末を含有することを特徴とする水性ネイルエナ
    メル。
  2. 【請求項2】 前記無機粉末の平均粒径が、0.001
    〜100μmである請求項1に記載の水性ネイルエナメ
    ル。
  3. 【請求項3】 無機粉末の含有量が、皮膜形成成分であ
    るポリマーの量に対して0.01〜5重量%である請求
    項1に記載の水性ネイルエナメル。
  4. 【請求項4】 前記無機粉末が二酸化珪素である請求項
    1に記載の水性ネイルエナメル。
JP18965896A 1996-07-18 1996-07-18 水性ネイルエナメル Pending JPH1036225A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6187355B1 (en) * 1998-06-08 2001-02-13 The University Of Georgia Research Foundation, Inc. Recovery of used frying oils
JP2001064118A (ja) * 1999-08-25 2001-03-13 Kose Corp 水系美爪料
JP2005529976A (ja) * 2002-06-19 2005-10-06 ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション ケイ酸カルシウムを含む化粧用組成物
JP2018020967A (ja) * 2016-08-02 2018-02-08 東洋紡株式会社 爪被覆剤

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JP2005529976A (ja) * 2002-06-19 2005-10-06 ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション ケイ酸カルシウムを含む化粧用組成物
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