JPH10340421A - 磁気ヘツド及び磁気ヘツドの加工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】回転ドラム装置に用いられる磁気ヘツド装置に
おいて、磁気ヘツドと磁気テープとの間で確実な接触状
態を得る。 【解決手段】磁気ヘツドの接触面を形成する際、磁気ヘ
ツドの使用時と同様な状態で接触面を研磨することによ
り、磁気ヘツドの実使用時において、磁気ヘツドと磁気
テープとの接触状態を確実にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【目次】以下の順序で本発明を説明する。

【０００２】発明の属する技術分野 従来の技術（図１１〜図１９） 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段 発明の実施の形態（図１〜図１０） 発明の効果

【０００３】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘツド及び磁気
ヘツドの加工方法に関し、例えば磁気記録再生装置の回
転ヘツドに用いる磁気ヘツド及び磁気ヘツドの加工方法
に適用して好適なものである。

【０００４】

【従来の技術】従来、ＶＴＲ(Video Tape Recorder) 等
の磁気記録再生装置においては、回転ヘツドが広く用い
られている。図１１においては１は全体としてＶＴＲの
回転ドラム装置を示し、所定の支持部材（図示せず）に
固定された上ドラム２及び下ドラム３の間に、中ドラム
４が矢印ａで示す方向に回転自在に枢支されている。ま
た、固定上ドラムのない、回転ドラムタイプも同様に回
転自在に枢支されている。この中ドラム４にはヘツドベ
ース５を介して磁気ヘツド７が取り付けられ、中ドラム
４と共に回転する。磁気テープ９は各ドラム（上ドラム
２、中ドラム４及び下ドラム３）の周側面２Ａ、３Ａ及
び４Ａに巻きつき、当該周側面を摺動しつつ矢印ｂで示
す方向に走行する。

【０００５】図１２に示すように、磁気ヘツド７はヘツ
ドベース５を介して中ドラム４に取り付けられており、
ヘツドベース５を押しねじ６により所定量撓ませること
により、磁気テープ９の幅方向ｃに対する磁気ヘツド７
の位置を調整し得るようになされている。磁気ヘツド７
は各ドラムの周側面２Ａ、３Ａ及び４Ａより所定の高さ
だけ突出しており、当該周側面２Ａ、３Ａ及び４Ａを走
行する磁気テープ９に対して密着し得るようになされて
いる。磁気ヘツド７の磁気テープ９と接触する接触面８
は所定の曲率Ｒに加工されており、磁気ヘツド７と磁気
テープ９との密着性を向上させている。

【０００６】接触面８の加工方法は図１３に示すよう
に、回転するホルダ１０に磁気ヘツド７を複数個固定
し、ホルダ１０を回転させながら矢印ｄで示す方向に走
行する研磨テープ１１に圧接力Ｆで接触させることによ
り、図１４に示すように磁気ヘツド７は研磨テープ１１
を撓ませつつ当該研磨テープ１１により研磨され、所定
の曲率Ｒを有する接触面８を形成するものである。接触
面８の曲率Ｒは、磁気ヘツド７を研磨テープ１１に接触
させる力である圧接力Ｆを変えることにより調整し得
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが図１２に示す
ように、ヘツドベース５を押しねじ６で撓ませることで
磁気ヘツド７の位置を調整していることにより、磁気ヘ
ツド７は磁気テープ９に対して角度αを以つて接触する
ため、磁気テープ９と磁気ヘツド先端面の曲率に不一致
が生じ、磁気ヘツド７の下側において、磁気ヘツド７と
磁気テープ９間に生ずる隙間であるスペーシング１５が
発生する。このスペーシング１５を増大する原因とし
て、磁気ヘツド７と磁気テープ９の接触圧の低下があげ
られる。また、磁気ヘツド７の幅を広くすることによつ
てもスペーシング１５は増大する。

【０００８】図１５は磁気ヘツド７の接触面８を磁気テ
ープ９の接触する方向から見た接触面８の干渉縞であ
り、接触面８の頂点であるＰ１は接触面８の幅方向の中
心線であるＬ１から上方にずれており、干渉縞が不均等
であることから、磁気ヘツド７の下側においてスペーシ
ング１５が発生することが予想される。

【０００９】図１６は回転ドラム装置１を上ドラム２側
から見た状態を示し、各ドラム（上ドラム２、中ドラム
４及び下ドラム３）の間には空気の層であるエアフイル
ム１２が発生するが、エアフイルム１２の厚さは一様で
はなくヘツド入口部１３では厚く、ヘツド出口部１４で
は薄くなる。このためヘツド入口部１３では磁気ヘツド
７と磁気テープ９の接触圧が弱く、逆にヘツド出口部１
４では磁気ヘツド７と磁気テープ９の接触圧が強くなる
という傾向が生じる。

【００１０】図１７及び図１８は、回転ドラム装置を有
する磁気記録再生装置によつて磁気テープ９に記録され
た信号Ｓ１の例であり、それぞれ時点ｔ１〜ｔ２の間に
おいて、磁気ヘツド７が図１６について上述したヘツド
入口部１３からヘツド出口部１４まで磁気テープ９を走
査して、信号Ｓ１を記録したものである。図１７におい
て時点ｔ２付近で信号出力が低下しているが、これはヘ
ツド出口部１４付近において磁気ヘツド７と磁気テープ
９の接触圧が強いために磁気ヘツド７が磁気テープ９上
の所定の記録トラツクからずれるトラツクずれを起こし
ているためであり、図１８においては時点ｔ１付近で信
号出力が低下しているが、これはヘツド入口部１３付近
において磁気ヘツド７と磁気テープ９の接触圧が弱いた
めにスペーシング１５が生じているためである。このよ
うに、磁気ヘツドとテープとの接触状態は信号の記録に
大きな影響を与える。

【００１１】近年の磁気記録再生装置においては、磁気
ヘツドの長寿命化を図るために当たり幅を広げることが
行われているが、当たり幅を広くすることによつて増大
するスペーシングを避ける必要がある。図１９は当たり
幅Ｗの一部をトラツク幅Ｔとして用いる記録・再生ヘツ
ド２１を示し、磁気ヘツド下部に生じるスペーシングを
避けるためギヤツプ２２を上方へずらしている。

【００１２】また、近年の磁気記録再生装置において
は、高記録密度化に伴い磁気ヘツドと磁気テープの相対
速度が高速化しており、磁気ヘツドと磁気テープとの均
一な接触が得られにくくなつている。

【００１３】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、回転ドラム装置に用いられる磁気ヘツド装置におい
て、磁気ヘツドと磁気テープとの間で確実な接触状態を
得ることができる磁気ヘツド及び磁気ヘツドの加工方法
を提案しようとするものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、磁気ヘツドの接触面の形成時にお
ける磁気ヘツドと研磨テープとの接触角度を、磁気ヘツ
ドの使用時における磁気テープとの接触角度と同一の角
度とする。

【００１５】これにより、磁気ヘツドの使用時において
当該磁気ヘツドの接触面は、磁気テープに対して確実に
接触する。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下図面において、本発明の一実
施の形態を詳述する。

【００１７】図１において磁気ヘツド１７は、磁気テー
プとの接触面１８にギヤツプ２２を有し、当該ギャツプ
２２は接触面１８の幅すべてに亘つて形成されている。
従つて図２に示すように、この磁気ヘツド１７は接触面
の幅寸法Ｗをトラツク幅Ｔとして用いるようになされて
いる。

【００１８】図３に示すように、磁気ヘツド１７による
トラツク幅Ｔは、39〔μｍ〕のトラツクピツチで磁気テ
ープ９に形成された35〔μｍ〕幅の記録トラツクＴＲ
１、ＴＲ２、ＴＲ３及びＴＲ４を合計４本（合計 156
〔μｍ〕の幅）同時に消去し得るような幅広に設定され
ている。

【００１９】かかる幅広のトラツク幅Ｔを有する磁気ヘ
ツド１７の製造工程では、図４に示す研磨装置２０を用
いて接触面１８を研磨する。すなわち研磨装置２０は、
回転軸２３を回転中心として矢印ｅで示す方向に回転す
る円盤形状の傾斜ホルダ２１を有し、当該傾斜ホルダ２
１の上側面にはラジアル方向ｈに対して傾斜した傾斜面
２１Ａが形成され、当該傾斜面２１Ａに複数の磁気ヘツ
ド１７が、その接触面１８を傾斜ホルダ２１の周側面部
から突出するように取り付けられている。

【００２０】この傾斜ホルダ２１に対して、ラジアル方
向ｈと直交するように研磨面を配置した研磨テープ１１
を矢印ｄ方向に走行させながら、接触圧Ｆを以て磁気ヘ
ツド１７の接触面１８を研磨テープ１１の研磨面に接触
させることにより、磁気ヘツド１７の接触面１８を研磨
する。

【００２１】このとき図５に示すように、各磁気ヘツド
１７は、研磨テープ１１に直交する方向ｈに対して角度
αだけ傾斜した傾斜面２１Ａに取り付けられていること
により、磁気ヘツド１７の接触面１８は研磨テープ１１
の研磨面に対し角度αだけ傾いて接触することになる。

【００２２】この傾斜角度αは、磁気ヘツド１７を回転
ドラム装置に取りつけた際に、図１２について上述した
ように磁気テープ９の幅方向ｃにその位置を調整する場
合の調整角度αとほぼ一致するように選定されている。
このように、磁気ヘツド１７の接触面１８を研磨テープ
１１に対して角度αだけ傾けて接触させながら研磨する
ことにより、当該接触面１８は、磁気ヘツド１７の幅Ｗ
の中心を通る中心線Ｌ１１からずれた点Ｐ１０を曲率中
心とした曲面となる。

【００２３】この場合、接触面１８の中心点Ｐ１１は、
当該接触面１８の曲率中心Ｐ１０から研磨テープ１１に
対して直交する方向ｈにある。従つて、研磨テープ１１
に対して接触面１８の中心点Ｐ１１が最も突出した頂点
となつて接触するように当該接触面１８が研磨される。

【００２４】因みに、図５の研磨方法によつて研磨され
た磁気ヘツド１７の接触面１８の干渉縞は、図６に示す
ように接触面１８の中心点Ｐ１１を中心にしてほぼ均等
に形成され、当該研磨方法によつて形成された接触面１
８は、その中心点Ｐ１１を頂点として均一な曲面を形成
している事が分かる。

【００２５】このようにして形成された接触面１８を有
する磁気ヘツド１７は、図１１及び図１２との対応部分
に同一符号を付けて示す図７に示すように、回転ドラム
装置３０の中ドラム４に固定される。すなわち回転ドラ
ム装置３０は、固定ドラムとして設けられている上ドラ
ム２及び下ドラム３間に、回転中心軸３１を中心として
回転自在に枢支された中ドラム４を有する。各ドラム
（上ドラム２、中ドラム４及び下ドラム３）には、その
周側面２Ａ、４Ａ及び３Ａに沿つて磁気テープ９が巻き
付けられる。

【００２６】中ドラム４にはヘツドベース５を介して磁
気ヘツド１７が固定され、押しねじ６によつてヘツドベ
ース５を撓ませることにより、磁気ヘツド１７が磁気テ
ープ９の幅方向ｃに調整される。この調整を高さ調整と
呼ぶ。このとき、磁気ヘツド１７の幅の中心を通る中心
線Ｌ１１と磁気テープ９に直交する方向ｈとのなす角度
を、当該回転ドラム装置３０において設定された磁気ヘ
ツドの高さ調整値となる値αとすることにより、当該磁
気ヘツド１７は所望とする高さ（磁気テープ９の幅方向
ｃの所定位置）で磁気テープ９に接触する。

【００２７】このとき、図５について上述した加工工程
において、磁気ヘツド１７の接触面１８を研磨テープ１
１によつて研磨加工する際の角度を、回転ドラム装置３
０での調整角度αと同様の角度としていることにより、
研磨加工において接触面１８が研磨テープ１１に接触し
た状態と同様の接触状態で、回転ドラム装置３０の磁気
ヘツド１７が磁気テープ９に接触する。従つて、接触面
１８の中心点Ｐ１１が磁気テープ９に対して最も突出し
た頂点となつて当該磁気テープ９に接触する。

【００２８】以上の構成において、回転ドラム装置３０
の周側面に沿つて走行する磁気テープ９に対して、中ド
ラム４に固定された磁気ヘツド１７は調整角度αだけ傾
いた状態で接触する。

【００２９】このとき、磁気ヘツド１７の接触面１８の
加工工程（図５）において、同様の角度で接触面１８を
研磨テープ１１に接触させながらこれを研磨加工したこ
とにより、磁気ヘツド１７を磁気テープ９に対して角度
αだけ傾けて接触させても、その接触面１８は、図１３
について上述した従来の磁気ヘツド７を磁気テープ９の
幅方向ｃに高さ調節せずに磁気テープ９に対して直交す
る方向に接触させた場合と同様の接触状態となる。

【００３０】この接触状態では、接触面１８の中心点Ｐ
１１が磁気テープ９に対して最も突出した頂点となり、
その周囲が点Ｐ１０を曲率中心とした滑らかな曲面を形
成していることにより、接触面１８の全面が磁気テープ
９に接触することになる。かくして、接触面１８及び磁
気テープ９間において非接触によるスペーシングの発生
が回避される。

【００３１】以上の構成によれば、回転ドラム装置３０
に取り付けられた使用状態と同様の角度αを以て磁気ヘ
ツド１７の接触面１８を研磨テープ１１によつて研磨加
工したことにより、回転ドラム装置３０に取りつけた際
の高さ調整によるスペーシングの発生を回避し得、これ
により磁気テープ９に形成された記録トラツクを磁気ヘ
ツド１７によつて確実に消去する事ができる。

【００３２】図８及び図９は、回転ドラム装置を有する
磁気記録再生装置によつて磁気テープ９に一定強度で記
録されたトラツクＴＲ１〜ＴＲ４を、図３に示すような
幅広消去ヘツドで消去した結果の信号Ｓ１〜Ｓ４の例で
ある。図８は、図１３に示すような従来の加工方法によ
り加工された幅広消去ヘツドを用いた例であり、消去用
の磁気ヘツドの最も下側のトラツクであるトラツクＴＲ
１において、スペーシングによりヘツド入口部にあたる
時点ｔ１１における消去率が低いため、消去ヘツドとし
て実用に耐えない。これに対して図９は、本発明を用い
て加工された幅広消去ヘツドを用いた例であり、図７に
比べトラツクＴＲ１の時点ｔ１１における消去率が向上
しており、消去ヘツドとして実用上十分な消去特性を有
する。

【００３３】このように本発明を用いることで、磁気ヘ
ツドと磁気テープの接触を均一化し得るため、複数のト
ラツクを同時に消去し得る幅広消去ヘツドを容易に実現
できる。また、幅広消去ヘツドを用いることにより、回
転ドラム装置に取りつける幅広消去ヘツドの数を減ずる
ことが可能になる。

【００３４】なお上述の実施の形態においては、幅広消
去ヘツドに本発明を適用した場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、記録・再生ヘツドにも適用するこ
とができる。この場合、テープとの均一な接触を確保し
つつヘツドの幅を広げ得るため、記録・再生ヘツドの寿
命を延ばすことが可能になるとともに、複数トラツクを
同時に記録、再生することができる。

【００３５】また上述の実施の形態においては、当たり
幅Ｗ全てをトラツク幅Ｔとして用いる幅広消去ヘツドに
ついて述べたが、本発明はこれに限らず、当たり幅Ｗの
一部をトラツク幅Ｔとして用いる記録・再生ヘツドに応
用した場合、スペーシングを避ける必要が無くなるた
め、図１０のようにギヤツプ２２を中央に設け得る。

【００３６】また上述の実施の形態においては、固定さ
れた上ドラムと下ドラムの間に回転自在な中ドラムを枢
支し当該中ドラムに磁気ヘツドを取りつけた中ドラム回
転式の回転ドラム装置について述べたが、本発明はこれ
に限らず、固定された下ドラムの上に回転自在な上ドラ
ムを枢支し当該上ドラムに磁気ヘツドを取りつけた上ド
ラム回転式や、固定された上ドラムの下に回転自在な下
ドラムを枢支し当該下ドラムに磁気ヘツドを取りつけた
下ドラム回転式の回転ドラム装置等にも適応し得る。

【００３７】さらに上述の実施の形態においては、回転
ヘツド式の磁気記録再生装置に用いる磁気ヘツドについ
て述べたが、本発明はこれに限らず、固定ヘツド式の磁
気記録再生装置に用いる磁気ヘツド等にも適応し得る。

【００３８】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、磁気ヘツ
ドの接触面を形成する際、磁気ヘツドの使用時と同様な
状態で接触面を研磨することにより、磁気ヘツドの実使
用時において、磁気ヘツドと磁気テープとの接触状態を
確実にし得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による磁気ヘツドの全体構成を示す斜視
図である。

【図２】本発明による磁気ヘツドの接触面を示す略線図
である。

【図３】本発明による磁気ヘツドのトラツク幅と記録ト
ラツクの関係を示す略線図である。

【図４】本発明による磁気ヘツドの研磨方法を示す斜視
図である。

【図５】本発明による磁気ヘツドの研磨方法の詳細を示
す断面図である。

【図６】本発明による磁気ヘツドの接触面の干渉縞を示
す略線図である。

【図７】本発明による回転ドラム装置の詳細を示す断面
図である。

【図８】従来の幅広消去ヘツドによる消去状態を示す信
号波形図である。

【図９】本発明による幅広消去ヘツドによる消去状態を
示す信号波形図である。

【図１０】他の実施の形態による記録・再生ヘツドを示
す略線図である。

【図１１】回転ドラム装置の構成を示す斜視図である。

【図１２】従来の磁気ヘツドの取付部を示す断面図であ
る。

【図１３】従来の磁気ヘツドの研磨方法を示す斜視図で
ある。

【図１４】従来の磁気ヘツドの研磨方法の詳細を示す断
面図である。

【図１５】従来の磁気ヘツドの接触面の干渉縞を示す略
線図である。

【図１６】ヘツドドラムとエアフイルムの関係を示す略
線図である。

【図１７】トラツクずれによる出力低下を示す信号波形
図である。

【図１８】スペーシングによる出力低下を示す信号波形
図である。

【図１９】従来の記録・再生ヘツドを示す略線図であ
る。

【符号の説明】

１、３０……回転ドラム装置、２……上ドラム、３……
下ドラム、４……中ドラム、５……ヘツドベース、７、
１７……磁気ヘツド、８、１８……接触面、９……磁気
テープ、１０……ホルダ、１１……研磨テープ、２１…
…傾斜ホルダ。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気テープの記録面に対して所定角度で接
   触する磁気ヘツドにおいて、 上記磁気テープに対する接触角度に応じて、予め研磨加
   工された上記磁気テープに対する接触面を具えたことを
   特徴とする磁気ヘツド。
2. 【請求項２】上記磁気ヘツドは、 上記接触面内の上記磁気テープに対する最も突出した頂
   点を上記接触面の中心に形成したことを特徴とする請求
   項１に記載の磁気ヘツド。
3. 【請求項３】磁気ヘツドの磁気テープに対する接触面を
   加工する磁気ヘツドの加工方法において、 上記磁気ヘツドを上記磁気テープに接触させる際の角度
   と同一角度で研磨テープに接触させ、 上記研磨テープによって上記磁気ヘツドの上記磁気テー
   プに対する接触面を研磨することを特徴とする磁気ヘツ
   ドの加工方法。