JPH10337834A - 酸素ガス高遮断性積層ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに包装材 - Google Patents
酸素ガス高遮断性積層ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに包装材Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡便かつ低コストで製造でき、公知のフィル
ムと同様の優れた物理的性質を有し、酸素ガス高遮断性
を有し、光学特性が改善された二軸延伸積層ポリエステ
ルフィルムを提供する。 【解決手段】８０重量％以上の熱可塑性ポリエステルか
ら成るベース層と少なくとも一つの最外層から成る二軸
延伸積層ポリエステルフィルムであって、最外層の少な
くとも一つは、不活性粒子を含有し且つ外側表面上にメ
タル層またはセラミック層を形成しており、当該最外層
の外側表面は、１ｍｍ2当りＮ個の突起を有し、且つ、
当該突起の高さｈと突起の直径ｄとの間に特定の関係を
有することを特徴とする二軸延伸積層ポリエステルフィ
ルム。
ムと同様の優れた物理的性質を有し、酸素ガス高遮断性
を有し、光学特性が改善された二軸延伸積層ポリエステ
ルフィルムを提供する。 【解決手段】８０重量％以上の熱可塑性ポリエステルか
ら成るベース層と少なくとも一つの最外層から成る二軸
延伸積層ポリエステルフィルムであって、最外層の少な
くとも一つは、不活性粒子を含有し且つ外側表面上にメ
タル層またはセラミック層を形成しており、当該最外層
の外側表面は、１ｍｍ2当りＮ個の突起を有し、且つ、
当該突起の高さｈと突起の直径ｄとの間に特定の関係を
有することを特徴とする二軸延伸積層ポリエステルフィ
ルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸素ガス高遮断性
積層ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに包
装材に関する。
積層ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに包
装材に関する。
【０００２】
【従来の技術】多くの食料や飲料の包装用途において、
ガス、水蒸気および香りに対し高い遮断効果（低透過率
または低浸透性と同じ意味）が要求される。この種の包
装材を製造する公知の方法としては、使用するプラスチ
ックフィルムに高真空アルミニウムメタル化（金属化）
を施す方法がある。他の公知の方法としては、Ｓｉ
Ｏx、ＡｌＯxまたはＭｇＯx等のセラミック材料でフィ
ルムを被覆する方法がある。セラミック材料を使用して
施される被覆は、基本的に透明である。
ガス、水蒸気および香りに対し高い遮断効果（低透過率
または低浸透性と同じ意味）が要求される。この種の包
装材を製造する公知の方法としては、使用するプラスチ
ックフィルムに高真空アルミニウムメタル化（金属化）
を施す方法がある。他の公知の方法としては、Ｓｉ
Ｏx、ＡｌＯxまたはＭｇＯx等のセラミック材料でフィ
ルムを被覆する方法がある。セラミック材料を使用して
施される被覆は、基本的に透明である。
【０００３】上記物質に対する遮断効果は、本質的に、
フィルム中のポリマーの種類と、施される遮断層の品質
に依存する。例えば、メタル化した二軸延伸ポリエステ
ルフィルムは、酸素の様なガスや香りに対して非常に高
い遮断能を有する。また、メタル化した二軸延伸ポリプ
ロピレンフィルムは、水蒸気に対して非常に高い遮断能
を有する。
フィルム中のポリマーの種類と、施される遮断層の品質
に依存する。例えば、メタル化した二軸延伸ポリエステ
ルフィルムは、酸素の様なガスや香りに対して非常に高
い遮断能を有する。また、メタル化した二軸延伸ポリプ
ロピレンフィルムは、水蒸気に対して非常に高い遮断能
を有する。
【０００４】コーヒー、脂肪含有スナック（ナッツ、ポ
テトチップス等）、（パウチ入）二酸化炭素含有飲料の
様な食品や、他の消費物品は、包装材が遮断能を十分有
していない場合、長期保存や長時間輸送により腐敗しま
たは悪臭を放ったり、あるいは風味が失われる恐れがあ
る。上記のメタル化フィルム、またはセラミック被覆フ
ィルムは、良好な遮断特性を有しているため、これらの
食品や消費物品の包装に、特に好適に用いられる。
テトチップス等）、（パウチ入）二酸化炭素含有飲料の
様な食品や、他の消費物品は、包装材が遮断能を十分有
していない場合、長期保存や長時間輸送により腐敗しま
たは悪臭を放ったり、あるいは風味が失われる恐れがあ
る。上記のメタル化フィルム、またはセラミック被覆フ
ィルムは、良好な遮断特性を有しているため、これらの
食品や消費物品の包装に、特に好適に用いられる。
【０００５】メタル化によって形成されたアルミニウム
層を有するポリエステルフィルムを、包装材として使用
する場合、通常その構成は、一層以上から成る複合フィ
ルム（積層体）から成る。このポリエステルフィルムを
使用して製造される袋は、例えば、垂直チューブ状袋形
成機および封止機で、内容物の充填および封止が行われ
る。袋は、その内側（即ち、袋の内容物に面する側）で
封止される。封止層は、通常、ポリエチレンまたはポリ
プロピレンから成る。ここで、複合フィルムは、典型的
には、ポリエステル層／アルミニウム層／接着層／密閉
層、から成る。この積層体の厚さが約５０〜１５０μｍ
の場合、金属層の厚さは、２０〜５０ｎｍにすぎない。
従って、この積層体は、アルミニウム層が非常に薄くて
も、十分な光保護性と、非常に良好な遮断特性を有す
る。
層を有するポリエステルフィルムを、包装材として使用
する場合、通常その構成は、一層以上から成る複合フィ
ルム（積層体）から成る。このポリエステルフィルムを
使用して製造される袋は、例えば、垂直チューブ状袋形
成機および封止機で、内容物の充填および封止が行われ
る。袋は、その内側（即ち、袋の内容物に面する側）で
封止される。封止層は、通常、ポリエチレンまたはポリ
プロピレンから成る。ここで、複合フィルムは、典型的
には、ポリエステル層／アルミニウム層／接着層／密閉
層、から成る。この積層体の厚さが約５０〜１５０μｍ
の場合、金属層の厚さは、２０〜５０ｎｍにすぎない。
従って、この積層体は、アルミニウム層が非常に薄くて
も、十分な光保護性と、非常に良好な遮断特性を有す
る。
【０００６】酸素ガス遮断性、すなわち酸素ガス透過率
の測定は、通常、積層体または包装材自体ではなく、メ
タル化、またはセラミック被覆ポリエステルフィルムに
対して行われる。袋の中に食品やその他の消費物品を比
較的長期間貯蔵しても、内容物が良好な品質を保持する
ためには、メタル化フィルムの酸素ガス透過率（浸透率
と同じ）が、通常、２ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙ、特
に１ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙを超えないのが好まし
い。包装業界では、更に低透過率の遮断材が望まれてお
り、１．０ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙを大きく下回る
低い透過率を有するメタル化またはセラミック被覆を施
したフィルムの製造が試みられている。
の測定は、通常、積層体または包装材自体ではなく、メ
タル化、またはセラミック被覆ポリエステルフィルムに
対して行われる。袋の中に食品やその他の消費物品を比
較的長期間貯蔵しても、内容物が良好な品質を保持する
ためには、メタル化フィルムの酸素ガス透過率（浸透率
と同じ）が、通常、２ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙ、特
に１ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙを超えないのが好まし
い。包装業界では、更に低透過率の遮断材が望まれてお
り、１．０ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙを大きく下回る
低い透過率を有するメタル化またはセラミック被覆を施
したフィルムの製造が試みられている。
【０００７】メタル化、またはセラミック被覆ポリエス
テルフィルムの遮断効果に関して、詳細な理論的解析が
十分なされていない。しかしながら、支持体表面と支持
体ポリマーの種類およびその形態が遮断効果に大きく影
響を与えることは明らかである。一般的に、滑らかな表
面はより良好な遮断特性をもたらすと予想される。
テルフィルムの遮断効果に関して、詳細な理論的解析が
十分なされていない。しかしながら、支持体表面と支持
体ポリマーの種類およびその形態が遮断効果に大きく影
響を与えることは明らかである。一般的に、滑らかな表
面はより良好な遮断特性をもたらすと予想される。
【０００８】これに関連して、ｖｏｎ Ｗｅｉｓｓは、
「Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄｓ Ｆｉｌｍｓ」２０４号、１
９９１年（２０３−２１６頁を参照）報文において、基
材層の物質透過に与える影響に関する研究報告を行って
いる。この研究に於て、種々の二酸化チタン粒子濃度の
ラッカーで被覆されたポリエステルフィルムが使用され
ている。二酸化チタン粒子の濃度は２〜２０重量％であ
り、被覆基材ポリエステルの表面粗度は４３ｎｍ（ラッ
カーを被覆しないか、または、二酸化チタンを含有しな
いラッカーを被覆した場合）から１２４ｎｍまで変化さ
せることができた。
「Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄｓ Ｆｉｌｍｓ」２０４号、１
９９１年（２０３−２１６頁を参照）報文において、基
材層の物質透過に与える影響に関する研究報告を行って
いる。この研究に於て、種々の二酸化チタン粒子濃度の
ラッカーで被覆されたポリエステルフィルムが使用され
ている。二酸化チタン粒子の濃度は２〜２０重量％であ
り、被覆基材ポリエステルの表面粗度は４３ｎｍ（ラッ
カーを被覆しないか、または、二酸化チタンを含有しな
いラッカーを被覆した場合）から１２４ｎｍまで変化さ
せることができた。
【０００９】Ｗｅｉｓｓの実験によれば、ラッカーを被
覆した表面の表面粗度が増加すると（ＴｉＯ2の含有量
が増加）、アルミニウムによるメタル化後のポリエステ
ルフィルムの酸素ガス透過率が極めて高くなった。しか
しながら、ＴｉＯ2を含有しないラッカーを被覆したフ
ィルムとラッカーを被覆してないフィルムを比較する
と、両者の表面粗度は殆ど同じであるのに対し、酸素ガ
ス透過率において大きく異なっていた。具体的には、ラ
ッカーが被覆されてないフィルムの酸素ガス透過率は
０．４３ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙであるのに対し、
ラッカーが被覆されたフィルムの酸素ガス透過率は１９
ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙと非常に大きく、酸素ガス
遮断性が悪い。更に、Ｗｅｉｓｓの実験では、アルミニ
ウムを被覆する際に実験用のエバポレーターを使用して
おり、工業用メタライザーを使用した場合と比較する
と、低い酸素ガス透過率を有するメタル化フィルムが得
られる。そのため、基材の表面形態が酸素ガス透過性に
及ぼす影響を、明確にすることは出来ない。
覆した表面の表面粗度が増加すると（ＴｉＯ2の含有量
が増加）、アルミニウムによるメタル化後のポリエステ
ルフィルムの酸素ガス透過率が極めて高くなった。しか
しながら、ＴｉＯ2を含有しないラッカーを被覆したフ
ィルムとラッカーを被覆してないフィルムを比較する
と、両者の表面粗度は殆ど同じであるのに対し、酸素ガ
ス透過率において大きく異なっていた。具体的には、ラ
ッカーが被覆されてないフィルムの酸素ガス透過率は
０．４３ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙであるのに対し、
ラッカーが被覆されたフィルムの酸素ガス透過率は１９
ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙと非常に大きく、酸素ガス
遮断性が悪い。更に、Ｗｅｉｓｓの実験では、アルミニ
ウムを被覆する際に実験用のエバポレーターを使用して
おり、工業用メタライザーを使用した場合と比較する
と、低い酸素ガス透過率を有するメタル化フィルムが得
られる。そのため、基材の表面形態が酸素ガス透過性に
及ぼす影響を、明確にすることは出来ない。
【００１０】基材ポリエステルフィルムの表面形態が、
フィルムのガス遮断性に及ぼす影響についての他の研究
としては、Ｈ. Ｕｔｚの論文、「アルミニウムメタル
化したプラスチックフィルムのバリア特性」が挙げられ
る。
フィルムのガス遮断性に及ぼす影響についての他の研究
としては、Ｈ. Ｕｔｚの論文、「アルミニウムメタル
化したプラスチックフィルムのバリア特性」が挙げられ
る。
【００１１】前記 Ｕｔｚの研究結果では、ＰＥＴフィ
ルムの表面粗度と酸素ガス遮断性との間に直接的な関係
がないと記載されている。例えば、ビデオテープ用フィ
ルムは非常に平坦（表面粗度：Ｒａ＝２２ｎｍ）であ
り、フィルムの酸素ガス透過率は１．３ｃｍ3／ｍ2・ｂ
ａｒ・ｄａｙである。一方、非常に粗い（表面粗度：Ｒ
ａ＝２２０ｎｍ）表面を有するＰＥＴ−ＩＩフィルムの
酸素ガス透過率は１．２ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙで
あり、ビデオテープ用フィルムの酸素ガス透過率と大差
が無い。
ルムの表面粗度と酸素ガス遮断性との間に直接的な関係
がないと記載されている。例えば、ビデオテープ用フィ
ルムは非常に平坦（表面粗度：Ｒａ＝２２ｎｍ）であ
り、フィルムの酸素ガス透過率は１．３ｃｍ3／ｍ2・ｂ
ａｒ・ｄａｙである。一方、非常に粗い（表面粗度：Ｒ
ａ＝２２０ｎｍ）表面を有するＰＥＴ−ＩＩフィルムの
酸素ガス透過率は１．２ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａｙで
あり、ビデオテープ用フィルムの酸素ガス透過率と大差
が無い。
【００１２】ＥＰ−Ａ−０１２４２９１号公開公報に
は、以下の要件（ａ）〜（ｃ）を満足する表面特性を有
する磁気テープ用二軸延伸単層ポリエステルフィルムが
記載されている。
は、以下の要件（ａ）〜（ｃ）を満足する表面特性を有
する磁気テープ用二軸延伸単層ポリエステルフィルムが
記載されている。
【００１３】（ａ）平均表面粗度Ｒａが１〜１６ｎｍ （ｂ）摩擦係数μｋが０．０１〜０．２０ （ｃ）Ｒａとμｋが以下の式（１）を満足する
【００１４】
【数２】
【００１５】上記の表面粗度の条件は、フィルム中にＴ
ｉＯ2粒子を０．１〜０．５％、または、ＴｉＯ2とＣａ
ＣＯ3粒子を０．１〜０．３％含有させることにより達
成される。ＴｉＯ2粒子の粒径は０．１〜０．５μｍで
ある。このフィルムの表面には多数の突起が形成され、
これらの多数の微小突起によって、ポリエステルフィル
ムの滑り性が非常に優れている。更に、フィルム表面に
形成された突起の分布は以下の式（１０）を満足する。
ｉＯ2粒子を０．１〜０．５％、または、ＴｉＯ2とＣａ
ＣＯ3粒子を０．１〜０．３％含有させることにより達
成される。ＴｉＯ2粒子の粒径は０．１〜０．５μｍで
ある。このフィルムの表面には多数の突起が形成され、
これらの多数の微小突起によって、ポリエステルフィル
ムの滑り性が非常に優れている。更に、フィルム表面に
形成された突起の分布は以下の式（１０）を満足する。
【００１６】
【数３】
【００１７】上記の式でｘ（μｍ）は中心線上の突起の
高さを表し、ｙは突起高さがｘにおける１ｍｍ2当りの
突起数を表す。突起の分布は通常の表面粗度測定装置に
より決定できる。
高さを表し、ｙは突起高さがｘにおける１ｍｍ2当りの
突起数を表す。突起の分布は通常の表面粗度測定装置に
より決定できる。
【００１８】ＥＰ−Ａ−０４９０６６５号公開公報に
は、以下の（ａ）及び（ｂ）の要件を満足する、磁気テ
ープ用二軸延伸単層ポリエステルフィルムが記載されて
いる。
は、以下の（ａ）及び（ｂ）の要件を満足する、磁気テ
ープ用二軸延伸単層ポリエステルフィルムが記載されて
いる。
【００１９】（ａ）粒径０．０２〜０．３μｍのθ−ア
ルミナ粒子を０．０５〜１．０重量％含有する。 （ｂ）粒径０．１〜１．５μｍの、θ−アルミナ粒子以
外の他の不活性粒子を０．０１〜１．５重量％含有し、
且つ、他の不活性粒子の粒径は、（ａ）のθ−アルミナ
粒子の粒径よりも大きい。
ルミナ粒子を０．０５〜１．０重量％含有する。 （ｂ）粒径０．１〜１．５μｍの、θ−アルミナ粒子以
外の他の不活性粒子を０．０１〜１．５重量％含有し、
且つ、他の不活性粒子の粒径は、（ａ）のθ−アルミナ
粒子の粒径よりも大きい。
【００２０】上記フィルムの表面には、多数の突起が形
成され、この突起の形態は以下の式（３）を満足する。
成され、この突起の形態は以下の式（３）を満足する。
【００２１】
【数４】
【００２２】式中、ｘ（μｍ）は標準線における突起の
高さを表し、ｙは突起高さがｘである領域の１ｍｍ2当
りの突起数を表す。突起の分布は、前述のＥＰ−Ａ−０
１２４２９１号公開公報に記載の方法で測定されてい
る。
高さを表し、ｙは突起高さがｘである領域の１ｍｍ2当
りの突起数を表す。突起の分布は、前述のＥＰ−Ａ−０
１２４２９１号公開公報に記載の方法で測定されてい
る。
【００２３】当該分野の公知文献の中には、異なる表面
形状の２表面を有するフィルムが開示されている。この
種のフィルムは、特に磁気記録テープ材料として好適で
あり、例えば、表面Ａが平坦で、表面Ｂが粗い表面形態
を有する。
形状の２表面を有するフィルムが開示されている。この
種のフィルムは、特に磁気記録テープ材料として好適で
あり、例えば、表面Ａが平坦で、表面Ｂが粗い表面形態
を有する。
【００２４】ＤＥ−Ａ−１６９４４０４号公開公報に
は、一層以上の結晶化可能な熱可塑性延伸ベースフィル
ムと添加剤を含有する一層以上の外層とから成る積層フ
ィルムが記載されている。添加剤は、通常の不活性無機
または有機粒子である。その不活性粒子がＳｉＯ2の場
合、外層における含有量が１〜２５重量％となる様に、
粒径２〜２０μｍの粒子を添加する。この積層フィルム
は、装飾の目的のためにアルミニウムによるメタル化が
施されたり、磁気テープの材料として使用されたりす
る。
は、一層以上の結晶化可能な熱可塑性延伸ベースフィル
ムと添加剤を含有する一層以上の外層とから成る積層フ
ィルムが記載されている。添加剤は、通常の不活性無機
または有機粒子である。その不活性粒子がＳｉＯ2の場
合、外層における含有量が１〜２５重量％となる様に、
粒径２〜２０μｍの粒子を添加する。この積層フィルム
は、装飾の目的のためにアルミニウムによるメタル化が
施されたり、磁気テープの材料として使用されたりす
る。
【００２５】ＤＥ−Ａ−２２３０９７０号公開公報に
は、二軸延伸積層ポリエステルフィルムと当該積層ポリ
エステルフィルムのＡ表面上に被覆した薄い磁気金属層
とから成る磁気記録媒体が記載されている。当該積層ポ
リエステルフィルムは、磁気金属層が被覆されるＡ表面
を有する層とベース層とから成り、且つ、以下の（ａ）
及び（ｂ）の要件を満足する。
は、二軸延伸積層ポリエステルフィルムと当該積層ポリ
エステルフィルムのＡ表面上に被覆した薄い磁気金属層
とから成る磁気記録媒体が記載されている。当該積層ポ
リエステルフィルムは、磁気金属層が被覆されるＡ表面
を有する層とベース層とから成り、且つ、以下の（ａ）
及び（ｂ）の要件を満足する。
【００２６】（ａ）磁気金属層が被覆されるＡ表面を有
する層は粒子を含有しない。当該層の厚さは４μｍ以上
か、または、積層ポリエステルフィルムの全厚さの５０
％以上の厚さを有する。 （ｂ）ベース層は粒子を含有し、比較的粗い表面を有す
る。ベース層は、ポリマーＡから成る粒子およびポリマ
ーＢから成る粒子をそれぞれ１％以上含有する。
する層は粒子を含有しない。当該層の厚さは４μｍ以上
か、または、積層ポリエステルフィルムの全厚さの５０
％以上の厚さを有する。 （ｂ）ベース層は粒子を含有し、比較的粗い表面を有す
る。ベース層は、ポリマーＡから成る粒子およびポリマ
ーＢから成る粒子をそれぞれ１％以上含有する。
【００２７】ＥＰ−Ｂ−００６１７６９号特許公報に
は、共押出二軸延伸積層ポリエステルフィルムと当該積
層ポリエステルフィルムのＡ表面上に被覆した薄い磁気
金属層とから成る磁気記録媒体が記載されている。当該
積層ポリエステルフィルムのＢ表面上には、必要に応じ
て潤滑層が設けられる。磁気金属層が被覆されるＡ表面
は、以下の（ａ）〜（ｃ）の特徴を有する。
は、共押出二軸延伸積層ポリエステルフィルムと当該積
層ポリエステルフィルムのＡ表面上に被覆した薄い磁気
金属層とから成る磁気記録媒体が記載されている。当該
積層ポリエステルフィルムのＢ表面上には、必要に応じ
て潤滑層が設けられる。磁気金属層が被覆されるＡ表面
は、以下の（ａ）〜（ｃ）の特徴を有する。
【００２８】（ａ）平均粒径Ｄが１〜１００ｎｍである
粒子Ａを含有する。Ａ表面を有するＡ層の厚さをＴとす
ると、式Ｄ＜Ｔ＜２００Ｄを満足する。 （ｂ）平均粒径Ｄ１が０．３〜２μｍであり、且つ、粒
径分布係数が０．６である粒子Ｂを含有する。 （ｃ）粒子Ａの平均粒径Ｄは、粒子Ｂの平均粒径Ｄ１よ
り小さい。
粒子Ａを含有する。Ａ表面を有するＡ層の厚さをＴとす
ると、式Ｄ＜Ｔ＜２００Ｄを満足する。 （ｂ）平均粒径Ｄ１が０．３〜２μｍであり、且つ、粒
径分布係数が０．６である粒子Ｂを含有する。 （ｃ）粒子Ａの平均粒径Ｄは、粒子Ｂの平均粒径Ｄ１よ
り小さい。
【００２９】更に、支持体ポリマーを選定することによ
り、酸素ガス遮断性が改善されることが知られている
（ ＩＣＩ ５ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｍ
ｅｔａｌｌｉｓｉｎｇ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ、 カン
ヌ、１９８６年、Ｇ.ＳｃｈｒｉｃｋｅｒのＭｅｔｔａ
ｌｉｓｉｅｒｔｅ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｏｌｉｅｎ
ｆｕｒ ｈｏｈｅｒｗｅｒｔｉｇｅ Ｖｅｒｐａｃｋｕ
ｎｇｅｎ「高品質包装メタル化プラスチックフィル
ム」）。当該プラスチックフィルムとして、例えば、ポ
リエステル、詳しくは、エチレングリコールとテレフタ
ル酸から誘導される、または、エチレングリコール、テ
レフタル酸およびナフタレン−２，６−ジカルボン酸か
ら誘導される、ポリエステルが挙げられている。他に、
ポリアミド、エチレンビニルアルコール共重合体（ＥＶ
ＯＨ）及びポリ塩化ビニリデンを使用しても好結果が得
られると考えられる。
り、酸素ガス遮断性が改善されることが知られている
（ ＩＣＩ ５ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｍ
ｅｔａｌｌｉｓｉｎｇ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ、 カン
ヌ、１９８６年、Ｇ.ＳｃｈｒｉｃｋｅｒのＭｅｔｔａ
ｌｉｓｉｅｒｔｅ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｏｌｉｅｎ
ｆｕｒ ｈｏｈｅｒｗｅｒｔｉｇｅ Ｖｅｒｐａｃｋｕ
ｎｇｅｎ「高品質包装メタル化プラスチックフィル
ム」）。当該プラスチックフィルムとして、例えば、ポ
リエステル、詳しくは、エチレングリコールとテレフタ
ル酸から誘導される、または、エチレングリコール、テ
レフタル酸およびナフタレン−２，６−ジカルボン酸か
ら誘導される、ポリエステルが挙げられている。他に、
ポリアミド、エチレンビニルアルコール共重合体（ＥＶ
ＯＨ）及びポリ塩化ビニリデンを使用しても好結果が得
られると考えられる。
【００３０】また、米国特許５５０６０１４号公報に
は、（ａ）４５〜８５モル％のテレフタル酸、（ｂ）１
０〜４０モル％のナフタレンジカルボン酸、（ｃ）５〜
１５モル％の炭素数２〜８のジカルボン酸、および、
（ｄ）エチレングリコール、（モル％は、ジカルボン酸
の全体比をベースにする）から誘導される共重合ポリエ
ステルが記載されている。この共重合ポリエステルは、
ガスに対して良好な遮断特性を有することが記載されて
いるため、ボトル又は容器の製造、または、様々な厚さ
のフィルムの製造に使用される。しかしながら、この共
重合ポリエステルの不利な点は、ポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）よりも非常に高価であること、食料や
飲料の包装使用に不適当であり、認可されていないこと
である。
は、（ａ）４５〜８５モル％のテレフタル酸、（ｂ）１
０〜４０モル％のナフタレンジカルボン酸、（ｃ）５〜
１５モル％の炭素数２〜８のジカルボン酸、および、
（ｄ）エチレングリコール、（モル％は、ジカルボン酸
の全体比をベースにする）から誘導される共重合ポリエ
ステルが記載されている。この共重合ポリエステルは、
ガスに対して良好な遮断特性を有することが記載されて
いるため、ボトル又は容器の製造、または、様々な厚さ
のフィルムの製造に使用される。しかしながら、この共
重合ポリエステルの不利な点は、ポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）よりも非常に高価であること、食料や
飲料の包装使用に不適当であり、認可されていないこと
である。
【００３１】しかしながら、上記に挙げた公知文献に記
載されたフィルムにおいて、非常に高価であること、適
用範囲が制限されること、機械的性質が劣ること、フィ
ルムの廃棄に問題が生じること、食料や飲料の包装使用
に適さないこと等の問題点に加えて、酸素ガス高遮断性
が達成できないこと、光学的特性（特に光沢）が劣るこ
と等の問題点がある。
載されたフィルムにおいて、非常に高価であること、適
用範囲が制限されること、機械的性質が劣ること、フィ
ルムの廃棄に問題が生じること、食料や飲料の包装使用
に適さないこと等の問題点に加えて、酸素ガス高遮断性
が達成できないこと、光学的特性（特に光沢）が劣るこ
と等の問題点がある。
【００３２】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、簡便かつ低コストで製造でき、公知のフィルムと同
様の優れた物理的性質を有し、酸素ガス高遮断性（１ｂ
ａｒｒの圧力の大気中における、フィルムを通して拡散
する酸素ガスが１日当り０．５ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄ
ａｙ未満であること）を有し、光学特性、特に光沢が改
善された二軸延伸積層ポリエステルフィルムを提供する
ことである。
は、簡便かつ低コストで製造でき、公知のフィルムと同
様の優れた物理的性質を有し、酸素ガス高遮断性（１ｂ
ａｒｒの圧力の大気中における、フィルムを通して拡散
する酸素ガスが１日当り０．５ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄ
ａｙ未満であること）を有し、光学特性、特に光沢が改
善された二軸延伸積層ポリエステルフィルムを提供する
ことである。
【００３３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意検討した結果、メタル化またはセラミ
ック被覆を施す表面を有する最外層に粒子を含有させる
ことにより、当該表面に突起を形成させ、且つ、当該表
面の突起密度、突起の高さ及び突起の直径を特定の範囲
に規定することにより、上記の目的を達成し得るとの知
見を得た。
を達成すべく鋭意検討した結果、メタル化またはセラミ
ック被覆を施す表面を有する最外層に粒子を含有させる
ことにより、当該表面に突起を形成させ、且つ、当該表
面の突起密度、突起の高さ及び突起の直径を特定の範囲
に規定することにより、上記の目的を達成し得るとの知
見を得た。
【００３４】本発明は上記の知見に基づき完成されたも
のであり、その第１の要旨は、８０重量％以上の熱可塑
性ポリエステルから成るベース層と少なくとも一つの最
外層から成る二軸延伸積層ポリエステルフィルムであっ
て、最外層の少なくとも一つは、不活性粒子を含有し且
つ外側表面上にメタル層またはセラミック層を形成して
おり、当該最外層の外側表面は、１ｍｍ2当りＮ個の突
起を有し、且つ、当該突起の高さをｈ（μｍ）、突起の
直径をｄ（μｍ）とすると以下の式（１）〜（４）を満
足することを特徴とする二軸延伸積層ポリエステルフィ
ルムに存する。
のであり、その第１の要旨は、８０重量％以上の熱可塑
性ポリエステルから成るベース層と少なくとも一つの最
外層から成る二軸延伸積層ポリエステルフィルムであっ
て、最外層の少なくとも一つは、不活性粒子を含有し且
つ外側表面上にメタル層またはセラミック層を形成して
おり、当該最外層の外側表面は、１ｍｍ2当りＮ個の突
起を有し、且つ、当該突起の高さをｈ（μｍ）、突起の
直径をｄ（μｍ）とすると以下の式（１）〜（４）を満
足することを特徴とする二軸延伸積層ポリエステルフィ
ルムに存する。
【００３５】
【数５】
【００３６】本発明の第２の要旨は、ベース層および外
層用の溶融ポリエステルを共押出しダイに供給し、当該
溶融ポリエステルを冷却ロール上に共押出ししてフィル
ムを形成し、当該フィルムを二軸延伸し、当該二軸延伸
フィルムを熱固定し、当該熱固定フィルムの最外側の外
側表面上にメタル化またはセラミック被覆を施すことか
ら成る第１の要旨に記載の二軸延伸積層ポリエステルフ
ィルムの製造方法に存する。
層用の溶融ポリエステルを共押出しダイに供給し、当該
溶融ポリエステルを冷却ロール上に共押出ししてフィル
ムを形成し、当該フィルムを二軸延伸し、当該二軸延伸
フィルムを熱固定し、当該熱固定フィルムの最外側の外
側表面上にメタル化またはセラミック被覆を施すことか
ら成る第１の要旨に記載の二軸延伸積層ポリエステルフ
ィルムの製造方法に存する。
【００３７】本発明の第３の要旨は、第１の要旨に記載
のフィルムから成ることを特徴とする食料品および高級
食品の包装材に存する。
のフィルムから成ることを特徴とする食料品および高級
食品の包装材に存する。
【００３８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の積層ポリエステルフィルムは、８０重量％以上
の熱可塑性ポリエステルから成るベース層と少なくとも
一つの外層から成り、最外層の少なくとも一つは粒子を
含有し、且つ、最外層の外側表面上にメタル層またはセ
ラミック層が形成されている。以下の記載において、ベ
ース層をベース層Ｂ、メタル層またはセラミック層を表
面に有する最外層を外層Ａ、メタル層またはセラミック
層を表面に有さない最外層を外層Ｃとそれぞれ略記する
ことがある。
本発明の積層ポリエステルフィルムは、８０重量％以上
の熱可塑性ポリエステルから成るベース層と少なくとも
一つの外層から成り、最外層の少なくとも一つは粒子を
含有し、且つ、最外層の外側表面上にメタル層またはセ
ラミック層が形成されている。以下の記載において、ベ
ース層をベース層Ｂ、メタル層またはセラミック層を表
面に有する最外層を外層Ａ、メタル層またはセラミック
層を表面に有さない最外層を外層Ｃとそれぞれ略記する
ことがある。
【００３９】ベース層Ｂは、８０重量％以上、好ましく
は９０％以上の熱可塑性ポリエステルから成る。熱可塑
性ポリエステルとしては、具体的には、エチレングリコ
ールとテレフタル酸から製造されるポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、エチレングリコールとナフタレン
−２，６−ジカルボン酸から製造されるポリエチレン−
２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）、１，４−ビスヒドロ
キシメチルシクロヘキサンとテレフタル酸から製造され
るポリ（１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレ
ート）（ＰＣＤＴ）、エチレングリコールとナフタレン
−２，６−ジカルボン酸とビフェニル−４，４’−ジカ
ルボン酸から製造されるポリ（エチレン２，６−ナフタ
レートビベンゾエート）（ＰＥＮＢＢ）が好ましい。特
にエチレングリコールとテレフタル酸から成る単位また
はエチレングリコールとナフタレン−２，６−ジカルボ
ン酸から成る単位が好ましくは９０％以上、更に好まし
くは９５％以上から成るポリエステルが好ましい。
は９０％以上の熱可塑性ポリエステルから成る。熱可塑
性ポリエステルとしては、具体的には、エチレングリコ
ールとテレフタル酸から製造されるポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、エチレングリコールとナフタレン
−２，６−ジカルボン酸から製造されるポリエチレン−
２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）、１，４−ビスヒドロ
キシメチルシクロヘキサンとテレフタル酸から製造され
るポリ（１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレ
ート）（ＰＣＤＴ）、エチレングリコールとナフタレン
−２，６−ジカルボン酸とビフェニル−４，４’−ジカ
ルボン酸から製造されるポリ（エチレン２，６−ナフタ
レートビベンゾエート）（ＰＥＮＢＢ）が好ましい。特
にエチレングリコールとテレフタル酸から成る単位また
はエチレングリコールとナフタレン−２，６−ジカルボ
ン酸から成る単位が好ましくは９０％以上、更に好まし
くは９５％以上から成るポリエステルが好ましい。
【００４０】上記のモノマー以外の残余のモノマー単位
は、他の共重合ジオールおよび／または共重合ジカルボ
ン酸から誘導されたモノマーである。
は、他の共重合ジオールおよび／または共重合ジカルボ
ン酸から誘導されたモノマーである。
【００４１】共重合ジオールとしては、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ＨＯ−（ＣＨ2）n−
ＯＨの式で示される脂肪族グリコール（ｎは３〜６の整
数を表す、具体的には、１，３−プロパンジオール、
１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、
１，６−ヘキサンジオールが挙げられる）、炭素数６ま
での分岐型脂肪族グリコール、ＨＯ−Ｃ6Ｈ4−Ｘ−Ｃ6
Ｈ4−ＯＨで示される芳香族ジオール（式中Ｘは−ＣＨ2
−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＳＯ2−を表す）、式：ＨＯ−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4
−ＯＨで表されるビスフェノールが好ましい。
コール、トリエチレングリコール、ＨＯ−（ＣＨ2）n−
ＯＨの式で示される脂肪族グリコール（ｎは３〜６の整
数を表す、具体的には、１，３−プロパンジオール、
１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、
１，６−ヘキサンジオールが挙げられる）、炭素数６ま
での分岐型脂肪族グリコール、ＨＯ−Ｃ6Ｈ4−Ｘ−Ｃ6
Ｈ4−ＯＨで示される芳香族ジオール（式中Ｘは−ＣＨ2
−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＳＯ2−を表す）、式：ＨＯ−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4
−ＯＨで表されるビスフェノールが好ましい。
【００４２】上記の共重合ジカルボン酸としては、芳香
族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸が好ましい。
族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸が好ましい。
【００４３】芳香族ジカルボン酸の好ましい例として
は、ベンゼンジカルボン酸、ナフタレン−１，４−又は
−１，６−ジカルボン酸などのナフタレンジカルボン
酸、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸などのビフェ
ニル−ｘ，ｘ’−ジカルボン酸、ジフェニルアセチレン
−４，４’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチレン
−ｘ，ｘ−ジカルボン酸、スチルベン−ｘ，ｘ−ジカル
ボン酸などが挙げられる。
は、ベンゼンジカルボン酸、ナフタレン−１，４−又は
−１，６−ジカルボン酸などのナフタレンジカルボン
酸、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸などのビフェ
ニル−ｘ，ｘ’−ジカルボン酸、ジフェニルアセチレン
−４，４’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチレン
−ｘ，ｘ−ジカルボン酸、スチルベン−ｘ，ｘ−ジカル
ボン酸などが挙げられる。
【００４４】脂環式ジカルボン酸の好ましい例として
は、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸などのシク
ロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸の好ましい例としては、Ｃ3−Ｃ19のアルカンジカ
ルボン酸が挙げられ、当該アルカンは直鎖状であっても
分岐状であってもよい。
は、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸などのシク
ロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸の好ましい例としては、Ｃ3−Ｃ19のアルカンジカ
ルボン酸が挙げられ、当該アルカンは直鎖状であっても
分岐状であってもよい。
【００４５】上記のポリエステルは、エステル交換反応
により製造される。その出発原料は、ジカルボン酸エス
テルとジオール及び亜鉛塩、カルシウム塩、リチウム
塩、マンガン塩などの公知のエステル交換反応用触媒で
ある。生成した中間体は、更に、三酸化アンチモンやチ
タニウム塩などの重縮合触媒の存在下で重縮合に供され
る。また、ポリエステルの製造は、出発原料のジカルボ
ン酸とジオールに重縮合触媒を存在させて直接または連
続的にエステル化反応を行う方法であってもよい。
により製造される。その出発原料は、ジカルボン酸エス
テルとジオール及び亜鉛塩、カルシウム塩、リチウム
塩、マンガン塩などの公知のエステル交換反応用触媒で
ある。生成した中間体は、更に、三酸化アンチモンやチ
タニウム塩などの重縮合触媒の存在下で重縮合に供され
る。また、ポリエステルの製造は、出発原料のジカルボ
ン酸とジオールに重縮合触媒を存在させて直接または連
続的にエステル化反応を行う方法であってもよい。
【００４６】突起数が少なく、及び／又は、突起の大き
さが小さい突起を外層に形成する際は、エステル交換反
応触媒を使用し、その触媒残渣を粒子の替りに使用する
ことが好ましい。当該触媒として、マグネシウム塩およ
びマンガン塩が好ましく使用される。これらのエステル
交換反応触媒は、好ましくはベース層用ポリエステル製
造のために、さらに好ましくは、外層用ポリエステル製
造のために使用される。
さが小さい突起を外層に形成する際は、エステル交換反
応触媒を使用し、その触媒残渣を粒子の替りに使用する
ことが好ましい。当該触媒として、マグネシウム塩およ
びマンガン塩が好ましく使用される。これらのエステル
交換反応触媒は、好ましくはベース層用ポリエステル製
造のために、さらに好ましくは、外層用ポリエステル製
造のために使用される。
【００４７】使用されるポリエステル（特に外層）を、
例えば、Ｍｎエステル交換反応触媒（Ｍｎ含有量：５０
〜２００ｐｐｍ）、Ｍｇエステル交換反応触媒（Ｍｇ含
有量：１００〜３００ｐｐｍ）、または、Ｃａエステル
交換反応触媒（Ｃａ含有量５０〜３００ｐｐｍ）を使用
して製造することにより、第一の要旨で示される積層フ
ィルムの表面形態が得られる。このエステル交換反応触
媒残渣は、外層Ａに含有される粒子と同一であり、本発
明のフィルム表面形態を形成する。しかしながら、他の
エステル交換反応触媒を使用することによっても、本発
明の積層フィルムの表面形態を得られる。
例えば、Ｍｎエステル交換反応触媒（Ｍｎ含有量：５０
〜２００ｐｐｍ）、Ｍｇエステル交換反応触媒（Ｍｇ含
有量：１００〜３００ｐｐｍ）、または、Ｃａエステル
交換反応触媒（Ｃａ含有量５０〜３００ｐｐｍ）を使用
して製造することにより、第一の要旨で示される積層フ
ィルムの表面形態が得られる。このエステル交換反応触
媒残渣は、外層Ａに含有される粒子と同一であり、本発
明のフィルム表面形態を形成する。しかしながら、他の
エステル交換反応触媒を使用することによっても、本発
明の積層フィルムの表面形態を得られる。
【００４８】エステル交換反応触媒の含有量は、不活性
粒子を添加しない場合、外層を構成する材料によって決
定される。不活性粒子を添加する場合は、エステル交換
反応触媒の含有量を少なくする。
粒子を添加しない場合、外層を構成する材料によって決
定される。不活性粒子を添加する場合は、エステル交換
反応触媒の含有量を少なくする。
【００４９】外層Ａに使用するポリマーは、基本的に
は、ベース層に使用するポリマーと同じ物が使用出来る
が、更に、それ以外の他のポリマーから成っていてもよ
い。例えば、外層Ａが、エチレン−２，６−ナフタレー
ト単位およびエチレンテレフタレート単位を含有する単
独重合体、共重合体、または、それらの混合物から成っ
ていることが好ましい。前述した様に、１０モル％ま
で、他の共重合成分から成っていてもよい。
は、ベース層に使用するポリマーと同じ物が使用出来る
が、更に、それ以外の他のポリマーから成っていてもよ
い。例えば、外層Ａが、エチレン−２，６−ナフタレー
ト単位およびエチレンテレフタレート単位を含有する単
独重合体、共重合体、または、それらの混合物から成っ
ていることが好ましい。前述した様に、１０モル％ま
で、他の共重合成分から成っていてもよい。
【００５０】外層Ａ以外の他の外層（外層Ｃ）、また
は、何層かの中間層が存在する場合、ベース層および外
層Ａの説明において記載したポリマーから成っていても
よい。
は、何層かの中間層が存在する場合、ベース層および外
層Ａの説明において記載したポリマーから成っていても
よい。
【００５１】フィルムの製造において、ベース層と外層
Ａのポリマーの溶融粘度が大きく異ならない様にポリマ
ーを選択することが好ましい。ベース層と外層Ａのポリ
マーの溶融粘度が大きく異なると、溶融ポリマーの流動
に乱れが生じ、フィルムに縞が入ることもある。ベース
層と外層Ａのポリマーの溶融粘度の値は、溶液粘度を補
正した値（ＳＶ）で表される。二軸延伸フィルムの製造
に好適な市販ポリエチレンテレフタレートのＳＶ値は６
００〜１０００である。所望の性質を有するフィルムを
得るために、外層ＡのポリマーのＳＶ値は、通常、５０
０〜１２００、好ましくは５５０〜１１５０、更に好ま
しくは６００〜１０００である。必要とされるＳＶ値に
ポリマーを調整するために、それぞれのポリマー細粒子
に対して固相重合を行ってもよい。ベース層と外層Ａの
ポリマーのＳＶ値の差は通常２００以下、好ましくは１
５０以下、更に好ましくは１００以下である。
Ａのポリマーの溶融粘度が大きく異ならない様にポリマ
ーを選択することが好ましい。ベース層と外層Ａのポリ
マーの溶融粘度が大きく異なると、溶融ポリマーの流動
に乱れが生じ、フィルムに縞が入ることもある。ベース
層と外層Ａのポリマーの溶融粘度の値は、溶液粘度を補
正した値（ＳＶ）で表される。二軸延伸フィルムの製造
に好適な市販ポリエチレンテレフタレートのＳＶ値は６
００〜１０００である。所望の性質を有するフィルムを
得るために、外層ＡのポリマーのＳＶ値は、通常、５０
０〜１２００、好ましくは５５０〜１１５０、更に好ま
しくは６００〜１０００である。必要とされるＳＶ値に
ポリマーを調整するために、それぞれのポリマー細粒子
に対して固相重合を行ってもよい。ベース層と外層Ａの
ポリマーのＳＶ値の差は通常２００以下、好ましくは１
５０以下、更に好ましくは１００以下である。
【００５２】外層ＡおよびＣを構成するポリマーのガラ
ス転移温度が、ベース層を構成するポリマーのガラス転
移温度よりも高いことが好ましい。
ス転移温度が、ベース層を構成するポリマーのガラス転
移温度よりも高いことが好ましい。
【００５３】ベース層および外層Ａは安定剤や耐ブロッ
キング剤などの公知の添加剤を含有してもよい。添加剤
はポリマー又はポリマーの混合物が溶融する前に加え
る。安定剤としては、リン系化合物リン酸塩やリン酸エ
ステル等が例示される。
キング剤などの公知の添加剤を含有してもよい。添加剤
はポリマー又はポリマーの混合物が溶融する前に加え
る。安定剤としては、リン系化合物リン酸塩やリン酸エ
ステル等が例示される。
【００５４】耐ブロッキング剤（粒子も含まれる）とし
ては、無機および／または有機粒子が好ましく、具体的
には、炭酸カルシウム、非晶ケイ酸、タルク、炭酸マグ
ネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネ
シウム、アルミナ、ＬｉＦ、ジカルボン酸のカルシウ
ム、バリウム、亜鉛またはマンガン塩、カーボンブラッ
ク、二酸化チタン、カオリン、架橋ポリスチレン粒子、
架橋アクリレート粒子などが例示される。
ては、無機および／または有機粒子が好ましく、具体的
には、炭酸カルシウム、非晶ケイ酸、タルク、炭酸マグ
ネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネ
シウム、アルミナ、ＬｉＦ、ジカルボン酸のカルシウ
ム、バリウム、亜鉛またはマンガン塩、カーボンブラッ
ク、二酸化チタン、カオリン、架橋ポリスチレン粒子、
架橋アクリレート粒子などが例示される。
【００５５】添加剤として、２種以上の異なる耐ブロッ
キング剤を添加してもよく、また、同じ種類で且つ粒径
が異なる粒子の混合物を添加してもよい。重縮合中のグ
リコール分散系または押出し中マスターバッチを介し
て、個々の層に添加する粒子を通常量添加する。粒子の
含有量は、好ましくは０〜５重量％である。耐ブロッキ
ング剤に関する詳細は欧州特許ＥＰ−Ａ−０６０２９６
４号公開公報に記載されている。
キング剤を添加してもよく、また、同じ種類で且つ粒径
が異なる粒子の混合物を添加してもよい。重縮合中のグ
リコール分散系または押出し中マスターバッチを介し
て、個々の層に添加する粒子を通常量添加する。粒子の
含有量は、好ましくは０〜５重量％である。耐ブロッキ
ング剤に関する詳細は欧州特許ＥＰ−Ａ−０６０２９６
４号公開公報に記載されている。
【００５６】外層Ａは、既に、エステル交換反応触媒残
渣を粒子として含有しているので、式（１）及び式
（２）を満足するために、外層Ａに、通常、不活性粒子
を全く添加しないか、或いは僅かに添加する。外層Ａへ
の不活性粒子の添加量は、通常０〜０．０８重量％、好
ましくは０〜０．０６５重量％、更に好ましくは０〜
０．０５重量％であり、粒子の粒径に依存する。好まし
い不活性粒子としては、コロイド状および鎖状のＳｉＯ
2が挙げられる。不活性粒子の粒径は、基本的には制限
はない。しかしながら、粒径が１２ｎｍ未満、好ましく
は８ｎｍ未満、更に好ましくは６ｎｍ未満の粒子、及び
／又は、粒径が１μｍより大きい、好ましくは１．５μ
ｍより大きい、更に好ましくは２μｍより大きい粒子を
使用することが好ましい。
渣を粒子として含有しているので、式（１）及び式
（２）を満足するために、外層Ａに、通常、不活性粒子
を全く添加しないか、或いは僅かに添加する。外層Ａへ
の不活性粒子の添加量は、通常０〜０．０８重量％、好
ましくは０〜０．０６５重量％、更に好ましくは０〜
０．０５重量％であり、粒子の粒径に依存する。好まし
い不活性粒子としては、コロイド状および鎖状のＳｉＯ
2が挙げられる。不活性粒子の粒径は、基本的には制限
はない。しかしながら、粒径が１２ｎｍ未満、好ましく
は８ｎｍ未満、更に好ましくは６ｎｍ未満の粒子、及び
／又は、粒径が１μｍより大きい、好ましくは１．５μ
ｍより大きい、更に好ましくは２μｍより大きい粒子を
使用することが好ましい。
【００５７】外層Ａに不活性粒子を添加しない場合、例
えば、エステル交換反応または重合反応における触媒の
種類と濃度を適切に選択することにより、反応後の触媒
残渣が外層Ａのブロッキングを防ぐことができる。
えば、エステル交換反応または重合反応における触媒の
種類と濃度を適切に選択することにより、反応後の触媒
残渣が外層Ａのブロッキングを防ぐことができる。
【００５８】他の層（フィルムが２層から成る場合はベ
ース層Ｂ、フィルムが３層から成る場合はベース層Ｂ及
び外層Ｃを指す）に粒子を添加する場合、積層フィルム
の表面突起が式（１）及び式（２）を満足する様に、添
加する粒子の種類、直径、濃度を選択する必要がある。
ース層Ｂ、フィルムが３層から成る場合はベース層Ｂ及
び外層Ｃを指す）に粒子を添加する場合、積層フィルム
の表面突起が式（１）及び式（２）を満足する様に、添
加する粒子の種類、直径、濃度を選択する必要がある。
【００５９】外層Ａ以外の個々の層に粒子を添加する場
合、積層フィルムの構造（層構成）及び、要求される製
造や加工における操作性によって、粒子の添加量が大き
く異なる。
合、積層フィルムの構造（層構成）及び、要求される製
造や加工における操作性によって、粒子の添加量が大き
く異なる。
【００６０】積層フィルムがベース層Ｂ、外層Ａ及び外
層Ｃから成る３層構造を有する場合、ベース層Ｂに於け
る粒子濃度は、外層Ｃの粒子濃度より低いことが好まし
い。ベース層Ｂに粒子を添加する場合、外層Ａの突起数
Ｎが、式（１）及び式（２）を満足する様に、粒子の種
類や添加量を選択する必要がある。上記３層積層フィル
ムの場合、ベース層Ｂの粒子含有量は通常０〜０．０６
重量％、好ましくは０〜０．０４重量％、更に好ましく
は０〜０．０３重量％である。上記３層積層フィルムの
ベース層Ｂに添加する粒子の粒径は特に制限されない
が、２μｍ未満であることが好ましい。
層Ｃから成る３層構造を有する場合、ベース層Ｂに於け
る粒子濃度は、外層Ｃの粒子濃度より低いことが好まし
い。ベース層Ｂに粒子を添加する場合、外層Ａの突起数
Ｎが、式（１）及び式（２）を満足する様に、粒子の種
類や添加量を選択する必要がある。上記３層積層フィル
ムの場合、ベース層Ｂの粒子含有量は通常０〜０．０６
重量％、好ましくは０〜０．０４重量％、更に好ましく
は０〜０．０３重量％である。上記３層積層フィルムの
ベース層Ｂに添加する粒子の粒径は特に制限されない
が、２μｍ未満であることが好ましい。
【００６１】積層フィルムがベース層Ｂ及び外層Ａの２
層から成り、外層Ａの厚さが積層フィルム全厚さの５０
％より大きい場合、ベース層Ｂの粒子の含有量を大きく
することが出来、外層Ａの厚さがフィルム全厚さの５０
％より小さい場合と比較して、、粒子含有量を大きくす
ることが出来る。
層から成り、外層Ａの厚さが積層フィルム全厚さの５０
％より大きい場合、ベース層Ｂの粒子の含有量を大きく
することが出来、外層Ａの厚さがフィルム全厚さの５０
％より小さい場合と比較して、、粒子含有量を大きくす
ることが出来る。
【００６２】本発明の積層フィルムは、更に第２の外層
Ｃを有することが好ましい。外層Ｃの厚さ、及び構成
は、第１の外層Ａと独立して決定することが出来るが、
前述したポリマーやポリマー混合物を使用してもよい。
しかしながら、外層Ａに使用されるポリマーと同一であ
る必要はない。外層Ｃは、従来公知の外層用ポリマーを
含有してもよい。外層Ｃの粒子含有量は、通常、外層Ａ
のそれよりも高い。外層Ｃの粒子含有量は、通常０．０
２〜０．４重量％、好ましくは０．０２〜０．３重量
％、更に好ましくは０．０２〜０．２重量％である。外
層Ｃの粒子含有量は、所望とするフィルム加工状況によ
って異なる。粒子の種類、濃度および粒子濃度は、フィ
ルムが良好な光学特性を有し、フィルムの製造および加
工が容易となる様に選択される。
Ｃを有することが好ましい。外層Ｃの厚さ、及び構成
は、第１の外層Ａと独立して決定することが出来るが、
前述したポリマーやポリマー混合物を使用してもよい。
しかしながら、外層Ａに使用されるポリマーと同一であ
る必要はない。外層Ｃは、従来公知の外層用ポリマーを
含有してもよい。外層Ｃの粒子含有量は、通常、外層Ａ
のそれよりも高い。外層Ｃの粒子含有量は、通常０．０
２〜０．４重量％、好ましくは０．０２〜０．３重量
％、更に好ましくは０．０２〜０．２重量％である。外
層Ｃの粒子含有量は、所望とするフィルム加工状況によ
って異なる。粒子の種類、濃度および粒子濃度は、フィ
ルムが良好な光学特性を有し、フィルムの製造および加
工が容易となる様に選択される。
【００６３】本発明の積層ポリエステルフィルムの外層
Ａの外側表面（メタル層またはセラミック被覆層が形成
される表面）は１ｍｍ2当りＮ個の突起を有し、且つ、
当該突起の高さをｈ（μｍ）、突起の直径をｄ（μｍ）
とすると以下の式（１）〜（４９）を満足する。
Ａの外側表面（メタル層またはセラミック被覆層が形成
される表面）は１ｍｍ2当りＮ個の突起を有し、且つ、
当該突起の高さをｈ（μｍ）、突起の直径をｄ（μｍ）
とすると以下の式（１）〜（４９）を満足する。
【００６４】
【数６】
【００６５】上記式を満足するためには、突起が平坦な
フィルム表面から円錐状に隆起しているのが好ましい。
上記突起を形成するために、上述の様に、原料ポリエス
テルの製造における触媒残渣を粒子として使用すること
が好ましい。又、原料ポリエステルの製造中に、不活性
粒子を配合することも好ましい。
フィルム表面から円錐状に隆起しているのが好ましい。
上記突起を形成するために、上述の様に、原料ポリエス
テルの製造における触媒残渣を粒子として使用すること
が好ましい。又、原料ポリエステルの製造中に、不活性
粒子を配合することも好ましい。
【００６６】メタル化またはセラミック被覆された積層
ポリエステルフィルムの酸素ガス高遮断性を達成するた
めに、１ｍｍ2当りの突起数Ｎは式（１）、式（３）、
及びＡh＝１．４、Ｂh＝２．５、Ａd＝３．４、Ｂd＝
２．４を満足する必要がある。更に、突起の高さｈおよ
び突起の直径ｄは式（２）および式（４）で示す様に、
特定の範囲を有する。
ポリエステルフィルムの酸素ガス高遮断性を達成するた
めに、１ｍｍ2当りの突起数Ｎは式（１）、式（３）、
及びＡh＝１．４、Ｂh＝２．５、Ａd＝３．４、Ｂd＝
２．４を満足する必要がある。更に、突起の高さｈおよ
び突起の直径ｄは式（２）および式（４）で示す様に、
特定の範囲を有する。
【００６７】上記の式（１）〜（４）を満足する積層ポ
リエステルフィルムに於て、外層Ａの外側表面の突起の
高さは比較的低い。大多数の突起の高さは、通常、０．
５μｍ未満、好ましくは０．４μｍ未満、更に好ましく
は０．３μｍ未満の範囲にあり、公知文献に於て知られ
ている突起の高さよりも非常に小さい。
リエステルフィルムに於て、外層Ａの外側表面の突起の
高さは比較的低い。大多数の突起の高さは、通常、０．
５μｍ未満、好ましくは０．４μｍ未満、更に好ましく
は０．３μｍ未満の範囲にあり、公知文献に於て知られ
ている突起の高さよりも非常に小さい。
【００６８】メタル化またはセラミック被覆された積層
ポリエステルフィルムの酸素ガス高遮断性を達成するた
めの決定的な要因は、表面粗度Ｒａ又はＲｚが小さいと
いうことではなく、外層Ａの外側表面の突起密度Ｎが小
さいということである。
ポリエステルフィルムの酸素ガス高遮断性を達成するた
めの決定的な要因は、表面粗度Ｒａ又はＲｚが小さいと
いうことではなく、外層Ａの外側表面の突起密度Ｎが小
さいということである。
【００６９】図１は、外層Ａの外側表面の表面形状の概
略図である。図１−（Ａ）は本発明の積層フィルムの外
層Ａの外側表面の表面形状を示しており、積層フィルム
の酸素ガス遮断性は高い（低酸素ガス透過率）。一方、
図１−（Ｂ）は酸素ガス遮断性が低い（高酸素ガス透過
率）積層フィルムの表面形状を示している。
略図である。図１−（Ａ）は本発明の積層フィルムの外
層Ａの外側表面の表面形状を示しており、積層フィルム
の酸素ガス遮断性は高い（低酸素ガス透過率）。一方、
図１−（Ｂ）は酸素ガス遮断性が低い（高酸素ガス透過
率）積層フィルムの表面形状を示している。
【００７０】表面粗度Ｒａは以下の式（８）より計算さ
れる。
れる。
【００７１】
【数７】
【００７２】図１−（Ａ）で示す様に、突起密度がＮが
小さい場合、酸素ガス遮断性が高い。一方、図１−
（Ｂ）で示す様に、突起密度がＮが大きい場合、酸素ガ
ス遮断性が低い。更に、図１は、Ｒａの値が基本的にガ
ス遮断特性に影響を与えないことも示している。式
（１）〜（４）によって決定される突起密度Ｎが大きい
場合、平坦なフィルム（Ｒａが１０ｎｍ未満）であって
もガス遮断性が低い。この場合、外層Ａの外側表面に多
数の微粒子を含有するが、この微粒子はＲａの値に大き
な影響を及ぼさない。この種の表面形状は、ガス遮断性
を達成するためには不適である。一方、外層Ａの外側表
面に比較的少ない突起を有する場合、高ガス遮断性を達
成するためには好適である。外層表面の突起の大きさが
外層に含有される粒子の大きさに因るかどうかは、重要
なことではない。
小さい場合、酸素ガス遮断性が高い。一方、図１−
（Ｂ）で示す様に、突起密度がＮが大きい場合、酸素ガ
ス遮断性が低い。更に、図１は、Ｒａの値が基本的にガ
ス遮断特性に影響を与えないことも示している。式
（１）〜（４）によって決定される突起密度Ｎが大きい
場合、平坦なフィルム（Ｒａが１０ｎｍ未満）であって
もガス遮断性が低い。この場合、外層Ａの外側表面に多
数の微粒子を含有するが、この微粒子はＲａの値に大き
な影響を及ぼさない。この種の表面形状は、ガス遮断性
を達成するためには不適である。一方、外層Ａの外側表
面に比較的少ない突起を有する場合、高ガス遮断性を達
成するためには好適である。外層表面の突起の大きさが
外層に含有される粒子の大きさに因るかどうかは、重要
なことではない。
【００７３】Ｒａの値はフィルムのガス遮断性に影響を
及ぼさないが、フィルムの加工において大きな影響を及
ぼす。フィルム表面のＲａの値は、通常６ｎｍ以上、好
ましくは８ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上で
ある。一方、フィルム表面のＲａの値の上限は、通常１
００ｎｍ以下、好ましくは８０ｎｍ未満、更に好ましく
は６０ｎｍ未満である。フィルム表面のＲａの値が６ｎ
ｍ未満の場合、フィルムの加工が困難となる場合があ
る。又、フィルム表面のＲａの値が１００ｎｍを超える
場合、フィルム表面の耐摩耗性が低下する場合がある。
及ぼさないが、フィルムの加工において大きな影響を及
ぼす。フィルム表面のＲａの値は、通常６ｎｍ以上、好
ましくは８ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上で
ある。一方、フィルム表面のＲａの値の上限は、通常１
００ｎｍ以下、好ましくは８０ｎｍ未満、更に好ましく
は６０ｎｍ未満である。フィルム表面のＲａの値が６ｎ
ｍ未満の場合、フィルムの加工が困難となる場合があ
る。又、フィルム表面のＲａの値が１００ｎｍを超える
場合、フィルム表面の耐摩耗性が低下する場合がある。
【００７４】メタル化またはセラミック被覆された積層
ポリエステルフィルムの外層Ａの外側面の突起密度Ｎ
が、式（１）又は式（３）の右辺より大きくなった場
合、酸素ガス透過率は０．５ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａ
ｙ以上となり、本発明の目的を達成できないこともあ
る。
ポリエステルフィルムの外層Ａの外側面の突起密度Ｎ
が、式（１）又は式（３）の右辺より大きくなった場
合、酸素ガス透過率は０．５ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａ
ｙ以上となり、本発明の目的を達成できないこともあ
る。
【００７５】式（１）に於ける定数Ａhは１．４、好ま
しくは１．１８、更に好ましくは１．０である。式
（１）に於ける定数Ｂhは２．５、好ましくは２．２、
更に好ましくは２．１である。
しくは１．１８、更に好ましくは１．０である。式
（１）に於ける定数Ｂhは２．５、好ましくは２．２、
更に好ましくは２．１である。
【００７６】式（３）に於ける定数Ａdは３．４、好ま
しくは３．０、更に好ましくは２．６である。式（３）
に於ける定数Ｂdは２．４、好ましくは２．３、更に好
ましくは２．２である。
しくは３．０、更に好ましくは２．６である。式（３）
に於ける定数Ｂdは２．４、好ましくは２．３、更に好
ましくは２．２である。
【００７７】メタル化またはセラミック被覆された積層
ポリエステルフィルムの外層Ａの外側面の突起密度Ｎ
が、非常に小さいことが好ましい。この場合メタル化ま
たはセラミック被覆された積層ポリエステルフィルム
は、酸素ガス透過率が０．４ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａ
ｙ未満の極めて良好な酸素ガス遮断性を有する。
ポリエステルフィルムの外層Ａの外側面の突起密度Ｎ
が、非常に小さいことが好ましい。この場合メタル化ま
たはセラミック被覆された積層ポリエステルフィルム
は、酸素ガス透過率が０．４ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ・ｄａ
ｙ未満の極めて良好な酸素ガス遮断性を有する。
【００７８】図２は式（１）をグラフ化したものであ
る。縦軸は突起密度Ｎを対数表示し、横軸は突起の高さ
ｈを対数表示している。図３は式（３）をグラフ化した
ものである。縦軸は突起密度Ｎを常用対数表示し、横軸
は突起の直径ｄを常用対数表示している。図２に示され
る直線の下側の領域が、式（１）を満足する領域であ
り、図３に示される直線の下側の領域が、式（３）を満
足する領域である。
る。縦軸は突起密度Ｎを対数表示し、横軸は突起の高さ
ｈを対数表示している。図３は式（３）をグラフ化した
ものである。縦軸は突起密度Ｎを常用対数表示し、横軸
は突起の直径ｄを常用対数表示している。図２に示され
る直線の下側の領域が、式（１）を満足する領域であ
り、図３に示される直線の下側の領域が、式（３）を満
足する領域である。
【００７９】式（１）及び式（３）と類似の関係式は上
述のＥＰ−Ａ−０１２４２９１号公開公報およびＥＰ−
Ａ−０４９０６６５号公開公報にも記載されている。し
かしながら、上述した様に、本発明のフィルムは、外層
に不活性固体粒子を含有させ、多数の微小突起を外層の
外側表面上に存在させることにより、積層ポリエステル
フィルムの滑り性を大きく改良しており、上記公知文献
では達成できなかった効果を達成している。
述のＥＰ−Ａ−０１２４２９１号公開公報およびＥＰ−
Ａ−０４９０６６５号公開公報にも記載されている。し
かしながら、上述した様に、本発明のフィルムは、外層
に不活性固体粒子を含有させ、多数の微小突起を外層の
外側表面上に存在させることにより、積層ポリエステル
フィルムの滑り性を大きく改良しており、上記公知文献
では達成できなかった効果を達成している。
【００８０】更に、公知文献で採用されているフィルム
の表面形状の測定方法と、本発明で採用している測定方
法（実施例の項を参照）とは全く異なっている。
の表面形状の測定方法と、本発明で採用している測定方
法（実施例の項を参照）とは全く異なっている。
【００８１】図４はＥＰ−Ａ−０１２４２９１号公開公
報および本発明の式（１）との比較であり、縦軸は突起
密度Ｎ個（ｍｍ2）、横軸は突起の高さｈ（μｍ）をそ
れぞれ常用対数表示で示したものである。フィルム表面
の形状も、ＥＰ−Ａ−０１２４２９１号公開公報のフィ
ルム（本比較例１を参照）と本発明のフィルムでは大き
く異なっている。
報および本発明の式（１）との比較であり、縦軸は突起
密度Ｎ個（ｍｍ2）、横軸は突起の高さｈ（μｍ）をそ
れぞれ常用対数表示で示したものである。フィルム表面
の形状も、ＥＰ−Ａ−０１２４２９１号公開公報のフィ
ルム（本比較例１を参照）と本発明のフィルムでは大き
く異なっている。
【００８２】図５は、公知文献で採用されているフィル
ム表面の形状測定法で使用される、ポリエステルフィル
ムの光学顕微鏡写真（ＤＩＣ：示差干渉対比）であり、
本発明の測定方法との違いにより、フィルム表面の形状
が大きく異なることをこの写真により示す。この写真
は、粒子含有ポリエステルフィルムを、反射光を使用し
て撮影した。一方、本発明において採用した方法は、実
施例の項で詳述するが、フィルム表面上のすべて突起が
走査型電子顕微鏡によって記録され、画像解析手段を使
用することにより評価する。先行技術で採用している方
法では、ある決まった間隔で表面を掃引するピンを使用
している。図５の写真からも明らかな様に、フィルム表
面上に、ピンによる直線の痕跡が認められる。また、こ
の写真から明らかな様に、記録される粒子数が少なく、
粒子がランダムに存在している。従って、公知文献の測
定方法では、再現性が無く、誤った情報を与えるという
問題点を有する。
ム表面の形状測定法で使用される、ポリエステルフィル
ムの光学顕微鏡写真（ＤＩＣ：示差干渉対比）であり、
本発明の測定方法との違いにより、フィルム表面の形状
が大きく異なることをこの写真により示す。この写真
は、粒子含有ポリエステルフィルムを、反射光を使用し
て撮影した。一方、本発明において採用した方法は、実
施例の項で詳述するが、フィルム表面上のすべて突起が
走査型電子顕微鏡によって記録され、画像解析手段を使
用することにより評価する。先行技術で採用している方
法では、ある決まった間隔で表面を掃引するピンを使用
している。図５の写真からも明らかな様に、フィルム表
面上に、ピンによる直線の痕跡が認められる。また、こ
の写真から明らかな様に、記録される粒子数が少なく、
粒子がランダムに存在している。従って、公知文献の測
定方法では、再現性が無く、誤った情報を与えるという
問題点を有する。
【００８３】フィルムの製造および加工の容易さを以下
のパラメーターで表す。
のパラメーターで表す。
【００８４】ａ） 平均表面粗度Ｒa、c ｂ） 上記表面に於ける静／動摩擦係数μc ｃ） 上記表面１ｍｍ2当りに存在する突起数Ｎc／ｍｍ
2
2
【００８５】本発明のフィルムの外層Ｃの外側表面が、
以下の３条件を満足することが、フィルムの製造および
加工の容易さの観点から好ましい。
以下の３条件を満足することが、フィルムの製造および
加工の容易さの観点から好ましい。
【００８６】ａ） 平均表面粗度Ｒaが３０〜１００ｎ
ｍ、好ましくは４０〜９０ｎｍ、更に好ましくは４５〜
８０ｎｍである。 ｂ） 上記表面に於ける静／動摩擦係数μcが０．６未
満、好ましくは０．５未満、更に好ましくは０．４５未
満である。 ｃ） 上記表面１ｍｍ2当りに存在する突起数Ｎc、突起
の高さをｈ（μｍ）、突起の直径をｄ（μｍ）とする
と、以下の式（９）〜式（１２）を満足する。
ｍ、好ましくは４０〜９０ｎｍ、更に好ましくは４５〜
８０ｎｍである。 ｂ） 上記表面に於ける静／動摩擦係数μcが０．６未
満、好ましくは０．５未満、更に好ましくは０．４５未
満である。 ｃ） 上記表面１ｍｍ2当りに存在する突起数Ｎc、突起
の高さをｈ（μｍ）、突起の直径をｄ（μｍ）とする
と、以下の式（９）〜式（１２）を満足する。
【００８７】
【数８】
【００８８】ベース層と外層の間には、必要に応じて中
間層を設けてもよい。中間層は、上述のベース層の説明
に於て記載されているポリマーから成る。好ましい態様
においては、ベース層に使用されているポリマーから成
る。中間層は上述の公知の添加剤を含有してもよい。中
間層の厚さは、通常０．３μｍより大きく、好ましくは
０．５〜１５μｍ、更に好ましくは１〜１０μｍであ
る。
間層を設けてもよい。中間層は、上述のベース層の説明
に於て記載されているポリマーから成る。好ましい態様
においては、ベース層に使用されているポリマーから成
る。中間層は上述の公知の添加剤を含有してもよい。中
間層の厚さは、通常０．３μｍより大きく、好ましくは
０．５〜１５μｍ、更に好ましくは１〜１０μｍであ
る。
【００８９】外層Ａ（及びＣ）の厚さは、通常０．１μ
ｍより大きく、好ましくは０．２μｍ以上、更に好まし
くは０．３μｍ以上である。外層Ａの厚さの上限値は、
通常５．０μｍ、好ましくは３．０μｍ、更に好ましく
は２．５μｍ、特に好ましくは２．０μｍである。外層
Ａ及びＣの厚さは同一でも異なっていてもよい。
ｍより大きく、好ましくは０．２μｍ以上、更に好まし
くは０．３μｍ以上である。外層Ａの厚さの上限値は、
通常５．０μｍ、好ましくは３．０μｍ、更に好ましく
は２．５μｍ、特に好ましくは２．０μｍである。外層
Ａ及びＣの厚さは同一でも異なっていてもよい。
【００９０】本発明のポリエステルフィルムの総厚さ
は、応用する材料の種類により広い範囲を取り得るが、
好ましくは４〜５０μｍ、更に好ましくは５〜４０μ
ｍ、特に好ましくは６〜３０μｍであり、ベース層の厚
さはフィルムの総厚さの４０〜９０％であることが好ま
しい。
は、応用する材料の種類により広い範囲を取り得るが、
好ましくは４〜５０μｍ、更に好ましくは５〜４０μ
ｍ、特に好ましくは６〜３０μｍであり、ベース層の厚
さはフィルムの総厚さの４０〜９０％であることが好ま
しい。
【００９１】外層の形成は次の様に行う。ポリエチレン
テレフタレートペレットを一つ又は二つの押出機に供給
し、約３００℃で溶融し、押出す。
テレフタレートペレットを一つ又は二つの押出機に供給
し、約３００℃で溶融し、押出す。
【００９２】ベース層用のポリマーは、他の押出機によ
って供給される。押出しを行う前に、溶融ポリマーから
不純物などを濾過する。溶融物を共押出しダイを介して
押出し、平坦なフィルムを得た後、ベース層に被覆層が
積層される。共押出しフィルムは、冷却ロールや必要で
あれば他のロールを使用して引き出され、固化させられ
る。
って供給される。押出しを行う前に、溶融ポリマーから
不純物などを濾過する。溶融物を共押出しダイを介して
押出し、平坦なフィルムを得た後、ベース層に被覆層が
積層される。共押出しフィルムは、冷却ロールや必要で
あれば他のロールを使用して引き出され、固化させられ
る。
【００９３】通常、二軸延伸は連続的に行われる。この
ため、初めに縦方向に延伸し、次いで横方向に延伸する
のが好ましい。これにより分子鎖が配向する。縦方向の
延伸は、延伸比に対応する異なる回転速度を有するロー
ルを使用して行われる。横手方向の延伸は通常テンター
フレームを使用して行われる。
ため、初めに縦方向に延伸し、次いで横方向に延伸する
のが好ましい。これにより分子鎖が配向する。縦方向の
延伸は、延伸比に対応する異なる回転速度を有するロー
ルを使用して行われる。横手方向の延伸は通常テンター
フレームを使用して行われる。
【００９４】延伸時の温度は、所望とするフィルムの物
性によって決定され、広い範囲で選択できる。通常、縦
方向の延伸は８０〜１３０℃の温度で、横方向の延伸は
９０〜１５０℃温度で行われる。縦方向の延伸比は、通
常２．５：１〜６：１、好ましくは３：１〜５．５：１
である。横方向の延伸比は、通常３．０：１〜５．０：
１、好ましくは３．５：１〜４．５：１である。
性によって決定され、広い範囲で選択できる。通常、縦
方向の延伸は８０〜１３０℃の温度で、横方向の延伸は
９０〜１５０℃温度で行われる。縦方向の延伸比は、通
常２．５：１〜６：１、好ましくは３：１〜５．５：１
である。横方向の延伸比は、通常３．０：１〜５．０：
１、好ましくは３．５：１〜４．５：１である。
【００９５】横方向延伸を行う前に、公知のプロセスに
より、フィルムの片面または両面にインライン被覆を施
すことが出来る。インライン被覆により、例えば、金属
層または塗布される印刷インキの接着性が改善され、あ
るいはフィルムの帯電防止またはフィルムの加工処理性
の改善に役立つ。
より、フィルムの片面または両面にインライン被覆を施
すことが出来る。インライン被覆により、例えば、金属
層または塗布される印刷インキの接着性が改善され、あ
るいはフィルムの帯電防止またはフィルムの加工処理性
の改善に役立つ。
【００９６】次いで、熱固定が１５０〜２５０℃の温度
において０．１〜１０秒間行われる。フィルムは通常の
方法で巻き取られる。
において０．１〜１０秒間行われる。フィルムは通常の
方法で巻き取られる。
【００９７】二軸延伸し、熱固定したポリエステルフィ
ルムに金属層またはセラミック層を形成する前に、片面
または両面にコロナ処理または火炎処理を施すことが出
来る。当該処理は、通常、フィルムの表面張力が４５ｍ
Ｎ／ｍを超える様に選択して行われる。
ルムに金属層またはセラミック層を形成する前に、片面
または両面にコロナ処理または火炎処理を施すことが出
来る。当該処理は、通常、フィルムの表面張力が４５ｍ
Ｎ／ｍを超える様に選択して行われる。
【００９８】金属層またはセラミック層は、通常の工業
用装置で形成出来る。アルミニウムの金属層は、通常、
メタル化により形成される。これに対し、セラミック層
は、電子ビームプロセス又はスパッタリングでも形成で
きる。フィルムへの金属層またはセラミック層の形成時
における製造条件は、標準条件を採用出来る。フィルム
のメタル化は、好ましくは、メタル化されたフィルムの
光学的濃度が通常範囲である約２．２〜２．８になる様
に行われる。セラミック層は、酸化物層が好ましくは３
０〜１００ｎｍの範囲になる様にフィルムに施される。
被覆されるフィルムのウェブ速度は、通常、全ての条件
において５〜１０ ｍ／秒である。通常、実験室規模で
のメタル化システムを使用して製作したフィルムは遮断
性能が非常に高い。そのため、比較目的に使用できない
ので、実験室規模でのメタル化システムの使用は避けら
れる。
用装置で形成出来る。アルミニウムの金属層は、通常、
メタル化により形成される。これに対し、セラミック層
は、電子ビームプロセス又はスパッタリングでも形成で
きる。フィルムへの金属層またはセラミック層の形成時
における製造条件は、標準条件を採用出来る。フィルム
のメタル化は、好ましくは、メタル化されたフィルムの
光学的濃度が通常範囲である約２．２〜２．８になる様
に行われる。セラミック層は、酸化物層が好ましくは３
０〜１００ｎｍの範囲になる様にフィルムに施される。
被覆されるフィルムのウェブ速度は、通常、全ての条件
において５〜１０ ｍ／秒である。通常、実験室規模で
のメタル化システムを使用して製作したフィルムは遮断
性能が非常に高い。そのため、比較目的に使用できない
ので、実験室規模でのメタル化システムの使用は避けら
れる。
【００９９】フィルムに他の所望の物性を付与するた
め、塗布および／またはコロナまたは火炎処理を施して
もよい。塗布によって形成される層によって、接着力を
強めたり、帯電防止性や滑り性の改良したり、剥離性を
持たせることが出来る。この様な付加的な層は、横延伸
を行う前に水分散剤を使用したインラインコーティング
によって形成される。
め、塗布および／またはコロナまたは火炎処理を施して
もよい。塗布によって形成される層によって、接着力を
強めたり、帯電防止性や滑り性の改良したり、剥離性を
持たせることが出来る。この様な付加的な層は、横延伸
を行う前に水分散剤を使用したインラインコーティング
によって形成される。
【０１００】金属層は、好ましくはアルミニウムから成
る。しかしながら、凝集性薄層を形成可能であれば、他
の材料でもよい。例えば、シリコンは特に好適であり、
しかも透明な遮断層が出来るという点でアルミニウムと
は異なる性質を有する。セラミック層は、好ましくは周
期律表の第II、III又はIV族の元素の酸化物、詳しく
は、マグネシウム、アルミニウム又はシリコンの酸化物
から成る。通常、減圧下または真空下に金属材料または
セラミック材料をおいて蒸着し、薄層を形成する。形成
される層の厚さは、通常１０〜１００ｎｍである。
る。しかしながら、凝集性薄層を形成可能であれば、他
の材料でもよい。例えば、シリコンは特に好適であり、
しかも透明な遮断層が出来るという点でアルミニウムと
は異なる性質を有する。セラミック層は、好ましくは周
期律表の第II、III又はIV族の元素の酸化物、詳しく
は、マグネシウム、アルミニウム又はシリコンの酸化物
から成る。通常、減圧下または真空下に金属材料または
セラミック材料をおいて蒸着し、薄層を形成する。形成
される層の厚さは、通常１０〜１００ｎｍである。
【０１０１】本発明の製造方法は、先行技術の方法と比
較して、製造コストの観点から優れているといえる。本
発明のフィルムの加工や使用における他の物性は、基本
的に変化しないか或いは改良される。更に、通常、フィ
ルムの総量の１０重量％以上、好ましくは２０〜５０重
量％の含有量で、フィルムの物性に悪影響を及ぼすこと
なくフィルム製造中に再生品を使用できる。
較して、製造コストの観点から優れているといえる。本
発明のフィルムの加工や使用における他の物性は、基本
的に変化しないか或いは改良される。更に、通常、フィ
ルムの総量の１０重量％以上、好ましくは２０〜５０重
量％の含有量で、フィルムの物性に悪影響を及ぼすこと
なくフィルム製造中に再生品を使用できる。
【０１０２】本発明のフィルムは光および／または空気
に対して劣化しやすい食料品および高級食品の包装材と
して好適に使用することが出来る。このフィルムは、コ
ーヒーの真空パック、特に挽いたコーヒーの粉を保存す
る真空パックに好適に使用できる。
に対して劣化しやすい食料品および高級食品の包装材と
して好適に使用することが出来る。このフィルムは、コ
ーヒーの真空パック、特に挽いたコーヒーの粉を保存す
る真空パックに好適に使用できる。
【０１０３】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。尚、本発明における各種
の物性の測定方法は下記のとおりである。
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。尚、本発明における各種
の物性の測定方法は下記のとおりである。
【０１０４】（１）光学濃度 「ＴＤ−９０４」濃度計（Ｍａｃｂｅｔｈ：Ｋｏｌｌｍ
ｏｒｇｅｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏｒｐ社の一
部）を使用して、光学濃度を測定した。 光学濃度は式
ＯＤ＝ −ｌｏｇ （Ｉ／Ｉ0）より決定した。但し、Ｉ
は入射光の強度、Ｉ0は透過光の強度、 Ｉ／Ｉ0は透過
率である。
ｏｒｇｅｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏｒｐ社の一
部）を使用して、光学濃度を測定した。 光学濃度は式
ＯＤ＝ −ｌｏｇ （Ｉ／Ｉ0）より決定した。但し、Ｉ
は入射光の強度、Ｉ0は透過光の強度、 Ｉ／Ｉ0は透過
率である。
【０１０５】（２）酸素ガス遮断性 酸素ガス遮断性は、米国Ｍｏｃｏｎ Ｍｏｄｅｒｎ Ｃ
ｏｎｔｒｏｌｓ社製ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０を使用
し、ＤＩＮ５３ ３８０、Ｐａｒｔ３に準じて測定し
た。
ｏｎｔｒｏｌｓ社製ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０を使用
し、ＤＩＮ５３ ３８０、Ｐａｒｔ３に準じて測定し
た。
【０１０６】（３）溶液粘度（ＳＶ） 溶液粘度（ＳＶ）は、ポリエステル試料のジクロロ酢酸
溶液を使用して測定した。この溶液粘度と純溶媒の粘度
をウベローデ型粘度計により測定し、両者の比から１を
減じ、１０００倍した値をＳＶ値とした。
溶液を使用して測定した。この溶液粘度と純溶媒の粘度
をウベローデ型粘度計により測定し、両者の比から１を
減じ、１０００倍した値をＳＶ値とした。
【０１０７】（４）摩擦係数 摩擦係数は、製造後１４日後に、ＤＩＮ５３ ３７５に
準じて測定した。摩擦係数が１より大きい場合、ブロッ
キングが発生する。
準じて測定した。摩擦係数が１より大きい場合、ブロッ
キングが発生する。
【０１０８】（５）表面張力 表面張力は、“インク法”によりＤＩＮ５３ ３６４に
準じて測定した。
準じて測定した。
【０１０９】（６）ヘーズ フィルムのヘーズは、ＡＳＴＭ−Ｄ １００３−５２に
準じて測定した。ヘルツヘーズは、ＡＳＴＭ−Ｄ １０
０３−５２を基にして決定した。しかしながら、もっと
も効果的な測定範囲を使用するために、４枚のフィルム
を重ね、１°の隔壁スリットを４°のピンホールの代り
に使用して測定を行った。
準じて測定した。ヘルツヘーズは、ＡＳＴＭ−Ｄ １０
０３−５２を基にして決定した。しかしながら、もっと
も効果的な測定範囲を使用するために、４枚のフィルム
を重ね、１°の隔壁スリットを４°のピンホールの代り
に使用して測定を行った。
【０１１０】（７）グロス値 グロス値はＤＩＮ６７ ５３０に準じて測定した。反射
率を、フィルム表面の光学的特性として測定した。ＡＳ
ＴＭ−Ｄ ５２３−７８及びＩＳＯ ２８１３を基準と
し、入射角を２０°及び６０°とした。所定の入射角で
試料の平坦な表面に光線を照射すると、反射および／ま
たは散乱が起こる。光電検知器に当った光が電気的な比
率変数として表示される。得られた無次元値は入射角と
共に表示される。
率を、フィルム表面の光学的特性として測定した。ＡＳ
ＴＭ−Ｄ ５２３−７８及びＩＳＯ ２８１３を基準と
し、入射角を２０°及び６０°とした。所定の入射角で
試料の平坦な表面に光線を照射すると、反射および／ま
たは散乱が起こる。光電検知器に当った光が電気的な比
率変数として表示される。得られた無次元値は入射角と
共に表示される。
【０１１１】（８）フィルム表面に存在する粒子の粒径 フィルム表面に存在する粒子（耐ブロッキング剤）の粒
径および粒径分布は、走査型電子顕微鏡（ＤＳＭ ９８
２ Ｇｅｍｉｎｉ、Ｌｅｏ ＧｍｂＨ（Ｚｅｉｓｓ））
と画像解析システムを使用して決定した。走査型電子顕
微鏡の倍率は１７００倍であった。
径および粒径分布は、走査型電子顕微鏡（ＤＳＭ ９８
２ Ｇｅｍｉｎｉ、Ｌｅｏ ＧｍｂＨ（Ｚｅｉｓｓ））
と画像解析システムを使用して決定した。走査型電子顕
微鏡の倍率は１７００倍であった。
【０１１２】先ず、試料ホルダーに、試料フィルムを水
平に置く。このフィルムを、斜めから（角度α）メタル
化することにより、金属薄層（例えば銀を使用）を形成
する。図６に、このメタル化の説明図を示す。ここで角
度αとは、図６で示す様に、試料フィルム表面と、メタ
ル化蒸気が拡散する方向（図中の矢印の方向）とで為す
角度である。この斜めからのメタル化において、耐ブロ
ッキング剤粒子の影に当たる部分はメタル化されない。
このメタル化されてない影の部分は、導電性を有しな
い。次いで、第二のメタル化（例えば金を使用）を、試
料表面に対して垂直に行う。
平に置く。このフィルムを、斜めから（角度α）メタル
化することにより、金属薄層（例えば銀を使用）を形成
する。図６に、このメタル化の説明図を示す。ここで角
度αとは、図６で示す様に、試料フィルム表面と、メタ
ル化蒸気が拡散する方向（図中の矢印の方向）とで為す
角度である。この斜めからのメタル化において、耐ブロ
ッキング剤粒子の影に当たる部分はメタル化されない。
このメタル化されてない影の部分は、導電性を有しな
い。次いで、第二のメタル化（例えば金を使用）を、試
料表面に対して垂直に行う。
【０１１３】上記の様にして作成した試料フィルム表面
の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像を撮影する。メタル
化金属の違いで生じるコントラストによって、最初の斜
めからのメタル化によってメタル化されなかった耐ブロ
ッキング粒子の影の部分を、見分けることが出来る。試
料フィルムは、影と画像のもっとも低い面（フィルム表
面）と平行に成る様に配置する（影を垂直上方からとら
える様にする）。ＳＥＭ画像をこの位置で撮影し、画像
解析システムに転送する。粒子の端部から影の延びる方
向をｘ方向とし、影の長さ（ｘ方向）及びｙ方向におけ
る影の最大幅を、画像解析システムによって正確に測定
する。耐ブロッキング剤粒子の粒径Ｄはｙ方向における
影の最大幅（突起の直径）ｄに一致する。粒子の高さ
（突起の高さ）ｈは、メタル化の角度をα、ｘ方向に於
ける影の長さをＬ、走査型電子顕微鏡の倍率をＶとする
と下記式（１７）により算出される。
の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像を撮影する。メタル
化金属の違いで生じるコントラストによって、最初の斜
めからのメタル化によってメタル化されなかった耐ブロ
ッキング粒子の影の部分を、見分けることが出来る。試
料フィルムは、影と画像のもっとも低い面（フィルム表
面）と平行に成る様に配置する（影を垂直上方からとら
える様にする）。ＳＥＭ画像をこの位置で撮影し、画像
解析システムに転送する。粒子の端部から影の延びる方
向をｘ方向とし、影の長さ（ｘ方向）及びｙ方向におけ
る影の最大幅を、画像解析システムによって正確に測定
する。耐ブロッキング剤粒子の粒径Ｄはｙ方向における
影の最大幅（突起の直径）ｄに一致する。粒子の高さ
（突起の高さ）ｈは、メタル化の角度をα、ｘ方向に於
ける影の長さをＬ、走査型電子顕微鏡の倍率をＶとする
と下記式（１７）により算出される。
【０１１４】
【数９】
【０１１５】十分に高い信憑性を得るために、数千個の
耐ブロッキング剤粒子について上記の解析を行う。更
に、公知の方法を使用して、粒径（突起の直径）及び粒
子の高さ（突起の高さ）の度数分布を作成する。度数分
布を作成する際、粒径Ｄについては０．２μｍの間隔
で、粒子の高さｈについては０．０５μｍの間隔でそれ
ぞれ度数を取り作成する。
耐ブロッキング剤粒子について上記の解析を行う。更
に、公知の方法を使用して、粒径（突起の直径）及び粒
子の高さ（突起の高さ）の度数分布を作成する。度数分
布を作成する際、粒径Ｄについては０．２μｍの間隔
で、粒子の高さｈについては０．０５μｍの間隔でそれ
ぞれ度数を取り作成する。
【０１１６】実施例１ マンガン（Ｍｎ）をエステル交換反応触媒として使用し
て製造したポリエチレンテレフタレートペレット（Ｍｎ
濃度：１００ｐｐｍ）を１６０℃で乾燥し、当該ペレッ
ト中の残存水分を５０ｐｐｍ未満に調製した。この乾燥
ポリエチレンテレフタレートペレットをベース層Ｂ用の
押出し機に供給した。
て製造したポリエチレンテレフタレートペレット（Ｍｎ
濃度：１００ｐｐｍ）を１６０℃で乾燥し、当該ペレッ
ト中の残存水分を５０ｐｐｍ未満に調製した。この乾燥
ポリエチレンテレフタレートペレットをベース層Ｂ用の
押出し機に供給した。
【０１１７】マンガン（Ｍｎ）をエステル交換反応触媒
として使用して製造したポリエチレンテレフタレートペ
レット（Ｍｎ濃度：１００ｐｐｍ）に、粒子を混合させ
た後、当該ペレットを１６０℃で乾燥し、当該ペレット
中の残存水分を５０ｐｐｍ未満に調製した。この粒子を
混合した乾燥ポリエチレンテレフタレートペレットを外
層Ａ及び外層Ｃ用の押出し機に供給した。
として使用して製造したポリエチレンテレフタレートペ
レット（Ｍｎ濃度：１００ｐｐｍ）に、粒子を混合させ
た後、当該ペレットを１６０℃で乾燥し、当該ペレット
中の残存水分を５０ｐｐｍ未満に調製した。この粒子を
混合した乾燥ポリエチレンテレフタレートペレットを外
層Ａ及び外層Ｃ用の押出し機に供給した。
【０１１８】次いで、各Ａ、Ｂ、Ｃ層を共押出し、縦方
向延伸、及び、横方向延伸を行い、総厚さ１２μｍのＡ
ＢＣ構造を有する透明３層積層ポリエステルフィルムを
作成した。各層の構成を表１に示す。
向延伸、及び、横方向延伸を行い、総厚さ１２μｍのＡ
ＢＣ構造を有する透明３層積層ポリエステルフィルムを
作成した。各層の構成を表１に示す。
【０１１９】
【表１】
【０１２０】また、各製造ステップにおける条件を表２
に示す。
に示す。
【０１２１】
【表２】
【０１２２】上記の方法によりフィルムを製造した後、
外層Ａの表面に対して、工業用メタライザーを使用し
て、真空下でアルミニウムによるメタル化を行った。
尚、このメタル化は、以下のすべての実施例についても
同様に行った。メタル化の速度は６ｍ／ｓであり、光学
密度は２．６であった。
外層Ａの表面に対して、工業用メタライザーを使用し
て、真空下でアルミニウムによるメタル化を行った。
尚、このメタル化は、以下のすべての実施例についても
同様に行った。メタル化の速度は６ｍ／ｓであり、光学
密度は２．６であった。
【０１２３】得られたフィルムは、０．５ｃｍ3／ｍ2・
ｂａｒ・ｄａｙ未満の酸素透過率を示した。
ｂａｒ・ｄａｙ未満の酸素透過率を示した。
【０１２４】図７は、前述した測定方法を使用して測定
した、外層ＡにおけるＮ個の突起の分布を示す。図７に
おいて、縦軸は式（１）のｌｏｇ（Ｎ）を表し、横軸は
突起の高さｈ（μｍ）を表し、図中の直線は式（１）の
右辺を表す。図７の各ｌｏｇ（Ｎ）の値（図中□で表
す）は直線の下に存在し、式（１）を満足していること
がわかる。
した、外層ＡにおけるＮ個の突起の分布を示す。図７に
おいて、縦軸は式（１）のｌｏｇ（Ｎ）を表し、横軸は
突起の高さｈ（μｍ）を表し、図中の直線は式（１）の
右辺を表す。図７の各ｌｏｇ（Ｎ）の値（図中□で表
す）は直線の下に存在し、式（１）を満足していること
がわかる。
【０１２５】実施例２ 外層Ａを表３に示す構成に変更した以外は、実施例１と
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
【０１２６】
【表３】
【０１２７】実施例３ 外層Ａを表４に示す構成に変更した以外は、実施例１と
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
【０１２８】
【表４】
【０１２９】実施例４ 外層Ａを表５に示す構成に変更した以外は、実施例１と
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
【０１３０】
【表５】
【０１３１】実施例５ 外層Ａを表６に示す構成に変更した以外は、実施例１と
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
【０１３２】
【表６】
【０１３３】実施例６ 外層Ａを表７に示す構成に変更した以外は、実施例１と
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。外層Ａの
原料ポリエステルは、Ｃａをエステル交換反応触媒に使
用して製造した。原料ポリエステルのＣａ含有量は２０
０ｐｐｍである。
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。外層Ａの
原料ポリエステルは、Ｃａをエステル交換反応触媒に使
用して製造した。原料ポリエステルのＣａ含有量は２０
０ｐｐｍである。
【０１３４】
【表７】
【０１３５】実施例６で得られたフィルムの外層Ａ及び
ベース層Ｂには、不活性粒子を添加しなかったが、外層
Ａの外側表面には突起が存在した。この突起は、原料ポ
リエステルを製造する際に使用したエステル交換反応触
媒に起因する。
ベース層Ｂには、不活性粒子を添加しなかったが、外層
Ａの外側表面には突起が存在した。この突起は、原料ポ
リエステルを製造する際に使用したエステル交換反応触
媒に起因する。
【０１３６】実施例７ 外層Ａ、及び外層Ｃを表８に示す構成に変更した以外
は、実施例１と同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ
構造を有する透明３層積層ポリエステルフィルムを作成
した。各製造ステップにおける条件は実施例１と同じで
ある。
は、実施例１と同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ
構造を有する透明３層積層ポリエステルフィルムを作成
した。各製造ステップにおける条件は実施例１と同じで
ある。
【０１３７】
【表８】
【０１３８】実施例８ 外層Ａを表９に示す構成に変更した以外は、実施例７と
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
同様の方法で、総厚さ１２μｍのＡＢＣ構造を有する透
明３層積層ポリエステルフィルムを作成した。各製造ス
テップにおける条件は実施例１と同じである。
【０１３９】
【表９】
【０１４０】比較例１ ＥＰ−Ａ−０１２４２９１号公開公報の実施例１を追試
した。
した。
【０１４１】比較例２ ＥＰ−Ａ−０４９０６６５号公開公報の実施例１を追試
した。
した。
【０１４２】比較例３ ＤＥ−Ａ−１６９４４０４号公開公報の実施例１を追試
した。
した。
【０１４３】比較例３ ＥＰ−Ａ−００６１７６９号公開公報の実施例１５を追
試した。
試した。
【０１４４】比較例３ ＥＰ−Ｂ−００８８６３５号特許公報の実施例１を追試
した。
した。
【０１４５】上記実施例および比較例において、得られ
たフィルムの各層の厚さ、使用した粒子の種類および粒
子濃度、得られたフィルムの物性を表１０〜表１４に纏
めて示す。
たフィルムの各層の厚さ、使用した粒子の種類および粒
子濃度、得られたフィルムの物性を表１０〜表１４に纏
めて示す。
【０１４６】
【表１０】
【０１４７】
【表１１】
【０１４８】
【表１２】
【０１４９】
【表１３】
【０１５０】
【発明の効果】本発明の二軸延伸ポリエステルフィルム
は、酸素ガス高遮断性を有し、光沢が改善され、低コス
トで且つ簡単に製造できるため、食料品および高級食品
の包装材料として好適であり、その工業的価値は高い。
は、酸素ガス高遮断性を有し、光沢が改善され、低コス
トで且つ簡単に製造できるため、食料品および高級食品
の包装材料として好適であり、その工業的価値は高い。
【図１】外層Ａの外側表面の表面形状を示す概略図。
（Ａ）：突起密度が小さい場合、（Ｂ）：突起密度が大
きい場合。
（Ａ）：突起密度が小さい場合、（Ｂ）：突起密度が大
きい場合。
【図２】突起の高さｈと突起密度Ｎとの関係を、式
（１）に従って表した図。
（１）に従って表した図。
【図３】突起の直径ｄと突起密度Ｎとの関係を、式
（３）に従って表した図。
（３）に従って表した図。
【図４】突起の高さｈと突起密度Ｎとの関係を、式
（１）及びＥＰ−０１２４２９１号公開公報に従って表
した図。
（１）及びＥＰ−０１２４２９１号公開公報に従って表
した図。
【図５】ＤＩＣ法による、ポリエステルフィルム表面の
光学顕微鏡写真。
光学顕微鏡写真。
【図６】本発明で採用したフィルム表面に存在する粒子
の粒径を測定する方法の概念図。
の粒径を測定する方法の概念図。
【図７】実施例１に於いて、突起の高さｈと突起密度Ｎ
との関係を式（１）に従って表した図。
との関係を式（１）に従って表した図。
Claims (14)
- 【請求項１】 ８０重量％以上の熱可塑性ポリエステル
から成るベース層と少なくとも一つの最外層から成る二
軸延伸積層ポリエステルフィルムであって、最外層の少
なくとも一つは、不活性粒子を含有し且つ外側表面上に
メタル層またはセラミック層を形成しており、当該最外
層の外側表面は、１ｍｍ2当りＮ個の突起を有し、且
つ、当該突起の高さをｈ（μｍ）、突起の直径をｄ（μ
ｍ）とすると以下の式（１）〜（４）を満足することを
特徴とする二軸延伸積層ポリエステルフィルム。 【数１】 - 【請求項２】 不活性粒子の含有量が０．０８重量％未
満である請求項１に記載のフィルム。 - 【請求項３】 酸素透過量が０．５ｃｍ3／ｍ2・ｂａｒ
・ｄａｙ未満である請求項１又は２に記載のフィルム。 - 【請求項４】 酸素透過量が０．４５ｃｍ3／ｍ2・ｂａ
ｒ・ｄａｙ未満である請求項１又は２に記載のフィル
ム。 - 【請求項５】 最外層の構成ポリマーのガラス転移温度
がベース層の構成ポリマーのガラス転移温度よりも高い
請求項１〜４の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項６】 最外層の厚さが０．１〜５．０μｍであ
る請求項１〜５の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項７】 前記フィルムがベース層と最外層の２層
から成り、最外層の表面がメタル化され、ベース層の表
面がメタル化されてない請求項１〜６の何れかに記載の
フィルム。 - 【請求項８】 前記フィルムがメタル層を有する最外
層、ベース層、メタル層を有しない最外層の順に３層か
ら成り、当該メタル層を有する最外層のベース層側と反
対側表面がメタル化されている請求項１〜７の何れかに
記載のフィルム。 - 【請求項９】 前記メタル層を有しない最外層が、原料
ポリエステル製造に於て使用したエステル交換反応触媒
残渣粒子を含有している請求項８に記載のフィルム。 - 【請求項１０】 メタル層を有する最外層が、原料ポリ
エステル製造に於て使用したエステル交換反応触媒残渣
粒子を含有している請求項１〜８の何れかに記載のフィ
ルム。 - 【請求項１１】 少なくとも一つの最外層がインライン
コーティングにより形成された請求項１〜１０の何れか
に記載のフィルム。 - 【請求項１２】 ベース層および外層用の溶融ポリエス
テルを共押出しダイに供給し、当該溶融ポリエステルを
冷却ロール上に共押出ししてフィルムを形成し、当該フ
ィルムを二軸延伸し、当該二軸延伸フィルムを熱固定
し、当該熱固定フィルムの最外側の外側表面上にメタル
化またはセラミック被覆を施すことから成る請求項１に
記載の二軸延伸積層ポリエステルフィルムの製造方法。 - 【請求項１３】 押出しダイに、フィルムの総量の１０
〜５０重量％の含有量で再生品を供給する請求項１２に
記載の製造方法。 - 【請求項１４】 請求項１〜１１に記載のフィルムから
成ることを特徴とする食料品および高級食品の包装材。
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