JPH10333137A - ブラックマトリックス用金属ブランクス - Google Patents
ブラックマトリックス用金属ブランクスInfo
- Publication number
- JPH10333137A JPH10333137A JP14266297A JP14266297A JPH10333137A JP H10333137 A JPH10333137 A JP H10333137A JP 14266297 A JP14266297 A JP 14266297A JP 14266297 A JP14266297 A JP 14266297A JP H10333137 A JPH10333137 A JP H10333137A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- black matrix
- metal
- layer
- thin film
- blank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 クロム金属を全く用いることなく、物理的、
光学的特性に優れ、カラー液晶パネル構成のブラックマ
トリックスに有用な金属ブランクスを提供する。 【解決手段】 透明ガラス基板上にＣｒ金属を含まない
材料により成膜される薄膜が、金属元素としては、実質
的にＮｉ、Ｗ並びにＺｒの３種からなるものとする。
光学的特性に優れ、カラー液晶パネル構成のブラックマ
トリックスに有用な金属ブランクスを提供する。 【解決手段】 透明ガラス基板上にＣｒ金属を含まない
材料により成膜される薄膜が、金属元素としては、実質
的にＮｉ、Ｗ並びにＺｒの３種からなるものとする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この出願の発明は、ブラック
マトリックス用金属ブランクスに関するものである。さ
らに詳しくは、この発明は、液晶パネル用カラーフィル
ター基板の製造に特に有用なブラックマトリックスに用
いられる金属ブランクスに関するものである。
マトリックス用金属ブランクスに関するものである。さ
らに詳しくは、この発明は、液晶パネル用カラーフィル
ター基板の製造に特に有用なブラックマトリックスに用
いられる金属ブランクスに関するものである。
【０００２】
【従来の技術とその課題】カラー液晶パネルは、情報機
器の表示装置等において広範囲にわたって利用されてお
り、近年の情報化社会の進展に伴い、ますます大画面
で、高精細を目指した開発が繰り広げられている。この
ようなカラー液晶パネルにおいては、画面のコントラス
トを上げたり、発色効果を高めて表示画像を鮮明化する
ために、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各カラーフィ
ルター画素間にはブラックマトリックスが配設されてい
る。
器の表示装置等において広範囲にわたって利用されてお
り、近年の情報化社会の進展に伴い、ますます大画面
で、高精細を目指した開発が繰り広げられている。この
ようなカラー液晶パネルにおいては、画面のコントラス
トを上げたり、発色効果を高めて表示画像を鮮明化する
ために、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各カラーフィ
ルター画素間にはブラックマトリックスが配設されてい
る。
【０００３】従来、このブラックマトリックスは、例え
ば透明ガラス基板上にクロム等の金属ターゲットをスパ
ッタリングにより成膜した金属ブランクスを公知のフォ
トリソグラフィ技術を用いたエッチングによるパターニ
ングを行うことで製造されている。このような金属ブラ
ンクスとして、クロム金属膜や、酸化クロム膜とクロム
金属膜を積層したものが知られてもいる。
ば透明ガラス基板上にクロム等の金属ターゲットをスパ
ッタリングにより成膜した金属ブランクスを公知のフォ
トリソグラフィ技術を用いたエッチングによるパターニ
ングを行うことで製造されている。このような金属ブラ
ンクスとして、クロム金属膜や、酸化クロム膜とクロム
金属膜を積層したものが知られてもいる。
【０００４】この場合、クロム金属膜は光遮蔽機能を有
し、酸化クロム層は例えば多層に積層したときに光干渉
により反射率を抑える機能を有する。この観点からも、
一定の光学濃度を保ち、さらに反射率が低い金属ブラン
クスを製造するために、クロム金属の含まれた材料をタ
ーゲットとしてスパッタリング成膜することが代表的な
技術として従来から知られ、利用されている。
し、酸化クロム層は例えば多層に積層したときに光干渉
により反射率を抑える機能を有する。この観点からも、
一定の光学濃度を保ち、さらに反射率が低い金属ブラン
クスを製造するために、クロム金属の含まれた材料をタ
ーゲットとしてスパッタリング成膜することが代表的な
技術として従来から知られ、利用されている。
【０００５】しかしながら、一般的に六価の原子価をも
つクロムは人体への毒性が強く、環境を汚染するという
問題があり、液晶パネルの製造工程においてクロムを含
まない合金ブランクスが求められており、これまでにも
各種の対策が提案されている。だがこれまでに提案され
ているクロム以外の金属を用いて得られた金属ブランク
スは、後加工を含めた利用法の点で課題を残している。
つクロムは人体への毒性が強く、環境を汚染するという
問題があり、液晶パネルの製造工程においてクロムを含
まない合金ブランクスが求められており、これまでにも
各種の対策が提案されている。だがこれまでに提案され
ているクロム以外の金属を用いて得られた金属ブランク
スは、後加工を含めた利用法の点で課題を残している。
【０００６】例えば、金属ブランクスをブラックマトリ
ックスにパターニングする工程においては酸性のエッチ
ング液が用いられ、水に浸漬して洗浄される。この水浸
工程が長時間にわたる場合等に、合金ブランクスが透明
ガラス基板から浮き上がったり、一部が円形に剥離して
ピンホールが生じたり、光学濃度が著しく低下するとい
う問題が生じることがある。この場合は、例えば既存の
後工程における加工が難しくなる。
ックスにパターニングする工程においては酸性のエッチ
ング液が用いられ、水に浸漬して洗浄される。この水浸
工程が長時間にわたる場合等に、合金ブランクスが透明
ガラス基板から浮き上がったり、一部が円形に剥離して
ピンホールが生じたり、光学濃度が著しく低下するとい
う問題が生じることがある。この場合は、例えば既存の
後工程における加工が難しくなる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこでこの出願の発明
は、上記問題点を解決するために、液晶パネルのカラー
フィルタに用いられるブラックマトリックス用金属ブラ
ンクスであって、透明ガラス基板上にＣｒ金属を含まな
い材料により成膜される薄膜が、金属元素としては、実
質的にＮｉ、Ｗ、Ｚｒの３種から成ることを特徴とする
ブラックマトリックス用金属ブランクスを提供する。
は、上記問題点を解決するために、液晶パネルのカラー
フィルタに用いられるブラックマトリックス用金属ブラ
ンクスであって、透明ガラス基板上にＣｒ金属を含まな
い材料により成膜される薄膜が、金属元素としては、実
質的にＮｉ、Ｗ、Ｚｒの３種から成ることを特徴とする
ブラックマトリックス用金属ブランクスを提供する。
【０００８】また、この出願の発明は、可視光域におい
て、極小反射率が３．０％以下、光学濃度が３．０以上
で、透明ガラス基板上に不活性ガス、酸素または酸化炭
素ガスの少なくとも１種以上のガス雰囲気下においてＮ
ｉ−Ｗ−Ｚｒ系の合金からなる薄膜が多層成膜されてい
ること等を態様としてもいる。この発明によって得られ
るブラックマトリックス用金属ブランクスは、製造工程
においてクロム金属を全く含まないこと、一定の光学濃
度を保って十分な光遮蔽効果があること、分光反射率が
低いこと、Ｃｒ金属ブランクスをブラックマトリックス
にパターニングしているウエットエッチング装置や方法
という既存の後加工工程を殆んど変更することなく利用
できることが大きな特徴であり、カラー液晶パネル用ブ
ラックマトリックスとして用いることができる。
て、極小反射率が３．０％以下、光学濃度が３．０以上
で、透明ガラス基板上に不活性ガス、酸素または酸化炭
素ガスの少なくとも１種以上のガス雰囲気下においてＮ
ｉ−Ｗ−Ｚｒ系の合金からなる薄膜が多層成膜されてい
ること等を態様としてもいる。この発明によって得られ
るブラックマトリックス用金属ブランクスは、製造工程
においてクロム金属を全く含まないこと、一定の光学濃
度を保って十分な光遮蔽効果があること、分光反射率が
低いこと、Ｃｒ金属ブランクスをブラックマトリックス
にパターニングしているウエットエッチング装置や方法
という既存の後加工工程を殆んど変更することなく利用
できることが大きな特徴であり、カラー液晶パネル用ブ
ラックマトリックスとして用いることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】この発明のブラックマトリックス
用金属ブランクスは、上記のとおり、クロム成分を一切
含んでいない金属系薄膜であって、含有金属元素は実質
的にＮｉ、Ｗ、およびＺｒの３種から成っている。な
お、ここで言うところの「実質的」との規定は、スパッ
タリングにおける原料ターゲット材や他の製造工程に由
来する不可避的不純分を除いては、金属元素としては、
前記のＮｉ、Ｗ、並びにＺｒのみを含有していることを
意味している。
用金属ブランクスは、上記のとおり、クロム成分を一切
含んでいない金属系薄膜であって、含有金属元素は実質
的にＮｉ、Ｗ、およびＺｒの３種から成っている。な
お、ここで言うところの「実質的」との規定は、スパッ
タリングにおける原料ターゲット材や他の製造工程に由
来する不可避的不純分を除いては、金属元素としては、
前記のＮｉ、Ｗ、並びにＺｒのみを含有していることを
意味している。
【００１０】勿論この発明においては、バッチ式、イン
ライン式等によるスパッタリング方法やその他の成膜手
段を適宜に採用できるのであって、また、金属ブランク
スの膜構成、または多層膜のいずれ積層数等も特段に限
定されるものではない。例えば、単層膜であってもブラ
ックマトリックス用ブランクスとして用いることができ
る。
ライン式等によるスパッタリング方法やその他の成膜手
段を適宜に採用できるのであって、また、金属ブランク
スの膜構成、または多層膜のいずれ積層数等も特段に限
定されるものではない。例えば、単層膜であってもブラ
ックマトリックス用ブランクスとして用いることができ
る。
【００１１】スパッタリング方法は、この発明の薄膜の
形成において好ましく用いられる方法の一つであるが、
この方法においても、スパッタリング用ターゲット材の
種類や成膜条件は適宜に決められる。たとえば、スパッ
タリング用ターゲット材としても、Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒの合
金や焼結体、Ｎｉ−Ｗ合金にＺｒ金属を挾設したもの等
を用いることができる。
形成において好ましく用いられる方法の一つであるが、
この方法においても、スパッタリング用ターゲット材の
種類や成膜条件は適宜に決められる。たとえば、スパッ
タリング用ターゲット材としても、Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒの合
金や焼結体、Ｎｉ−Ｗ合金にＺｒ金属を挾設したもの等
を用いることができる。
【００１２】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発
明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明に
おいては、「原子数比」は、Ｎｉ＋Ｗ＋Ｚｒの合計を１
００原子％とした場合の値を示している。
明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明に
おいては、「原子数比」は、Ｎｉ＋Ｗ＋Ｚｒの合計を１
００原子％とした場合の値を示している。
【００１３】
【実施例】実施例１ 成膜装置内を十分排気しながら、図１に示したように、
加熱した透明ガラス基板（１０）上に、Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒ
合金ターゲットを、比率がＡｒ：Ｎ2 ：Ｏ2 ＝０〜６
５：２〜８５：１０〜１５の範囲内で導入したガス雰囲
気中でスパッタリングして、膜厚が５５〜６５ｎｍの反
射防止性を有する第１層（１）を成膜した。
加熱した透明ガラス基板（１０）上に、Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒ
合金ターゲットを、比率がＡｒ：Ｎ2 ：Ｏ2 ＝０〜６
５：２〜８５：１０〜１５の範囲内で導入したガス雰囲
気中でスパッタリングして、膜厚が５５〜６５ｎｍの反
射防止性を有する第１層（１）を成膜した。
【００１４】続いて、前記ターゲットをＡｒ雰囲気中で
スパッタリングし、膜厚が１００〜１２０ｎｍの光遮蔽
性を有する第２層（２）を第１層（１）上に積層した。
得られたＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス（１１）の全
膜厚は１５５〜１８５ｎｍと薄く、光学濃度は４．１以
上あり遮光性に優れたものであった。上記合金ブランク
ス（１１）の含有金属元素の原子数比〔Ｎｉ：Ｗ：Ｚ
ｒ〕は、各層別に透明ガラス基板（１０）上へ成膜した
単層膜を用いてＥＰＭＡによる定量分析を行ったとこ
ろ、次の表１のとおりであった。
スパッタリングし、膜厚が１００〜１２０ｎｍの光遮蔽
性を有する第２層（２）を第１層（１）上に積層した。
得られたＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス（１１）の全
膜厚は１５５〜１８５ｎｍと薄く、光学濃度は４．１以
上あり遮光性に優れたものであった。上記合金ブランク
ス（１１）の含有金属元素の原子数比〔Ｎｉ：Ｗ：Ｚ
ｒ〕は、各層別に透明ガラス基板（１０）上へ成膜した
単層膜を用いてＥＰＭＡによる定量分析を行ったとこ
ろ、次の表１のとおりであった。
【００１５】
【表１】
【００１６】前記Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス（１
１）の波長と反射率の関係は図２の分光反射率線Ａに示
される通りであり、可視光域（波長４００〜７００ｎ
ｍ）における極小反射率は、波長が約５８０ｎｍのとき
に０．０７％以下、最大反射率は５．５％以下と極めて
低かった。なお、反射率の測定にはオリンパス光学工業
（株）製の顕微分光ＯＳＰ−ＳＰ２００を用い、アルミ
薄膜をリファレンスとして測定したものである。
１）の波長と反射率の関係は図２の分光反射率線Ａに示
される通りであり、可視光域（波長４００〜７００ｎ
ｍ）における極小反射率は、波長が約５８０ｎｍのとき
に０．０７％以下、最大反射率は５．５％以下と極めて
低かった。なお、反射率の測定にはオリンパス光学工業
（株）製の顕微分光ＯＳＰ−ＳＰ２００を用い、アルミ
薄膜をリファレンスとして測定したものである。
【００１７】比較のために、図２には、クロム金属をス
パッタリングターゲットとしたときに得られた低反射Ｃ
ｒブランクスの分光反射率曲線Ｂを併記した。この発明
によるＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス（１１）は図２
の曲線ＡおよびＢの対比からも明らかなように、低反射
Ｃｒブランクスと比べると、分光反射率等の光学特性に
関して何ら遜色がなかった。
パッタリングターゲットとしたときに得られた低反射Ｃ
ｒブランクスの分光反射率曲線Ｂを併記した。この発明
によるＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス（１１）は図２
の曲線ＡおよびＢの対比からも明らかなように、低反射
Ｃｒブランクスと比べると、分光反射率等の光学特性に
関して何ら遜色がなかった。
【００１８】なお、前記合金系ブランクスにおける膜厚
方向の各部（第１層の下層部及び上層部、第２層）に相
当する単層膜を透明ガラス基板（１０）の上に成膜し、
分光エリプソメータを用いて屈折率を評価した一例を図
３に示した。実施例２ 実施例１と同様の方法によって、金属組成比を変更しな
がらＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金ターゲットを用いてスパッタリ
ング成膜を行い、複数サンプルの薄膜を形成した。
方向の各部（第１層の下層部及び上層部、第２層）に相
当する単層膜を透明ガラス基板（１０）の上に成膜し、
分光エリプソメータを用いて屈折率を評価した一例を図
３に示した。実施例２ 実施例１と同様の方法によって、金属組成比を変更しな
がらＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金ターゲットを用いてスパッタリ
ング成膜を行い、複数サンプルの薄膜を形成した。
【００１９】これらのサンプル薄膜について、ウエット
エッチングによってブラックマトリックスにパターニン
グする工程等への実用性を評価した。評価項目と方法は
次の表２のとおりである。
エッチングによってブラックマトリックスにパターニン
グする工程等への実用性を評価した。評価項目と方法は
次の表２のとおりである。
【００２０】
【表２】
【００２１】サンプル薄膜のうちのいくつかを例示する
と、前記実施例１における第２層の金属元素の原子数比
〔Ｎｉ：Ｗ：Ｚｒ〕が表３のものが示される。表４には
これらサンプルの評価の結果を例示した。
と、前記実施例１における第２層の金属元素の原子数比
〔Ｎｉ：Ｗ：Ｚｒ〕が表３のものが示される。表４には
これらサンプルの評価の結果を例示した。
【００２２】
【表３】
【００２３】
【表４】
【００２４】なお、各サンプルは図４のように溶液に半
分程度浸漬して評価した。また、各サンプルについて、
浸漬部・境界部・雰囲気部においての膜剥がれ、ピンホ
ール、膜色変化、金属層側から測定した反射率の変化
率、光学濃度（ＯＤ値）の変化率等を総合的に評価した
ところ、Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクスの実用性に関
しては、Ｚｒを原子数比で約１．０以上４．０以下で含
有するサンプルが特に優れていることが判明した。実施例３ 実施例２において評価の高かったサンプルと同様のＮｉ
−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス４を１０ｃｍ角程度に切断
し、フォトリソグラフィ技術によりパターニング性の評
価を行った。エッチング液としては、液晶パネル等情報
機器の製造工程等において既に広く知られ、Ｃｒ金属ブ
ランクスをパターニングしてブラックマトリックスを形
成するときに多用されているＣｒエッチング液を用い
た。具体的には、組成が純水４４０ｍｌ、７０％過塩素
２６ｍｌ、硝酸第２セリウムアンモニウム１００ｇのＣ
ｒエッチング液を用いた。そのＣｒエッチング液を３０
℃に加熱し、その液中で揺動エッチングを行ってパター
ン幅の細り（サイドエッチング量）を評価したところ、
２〜４分間のエッチング時間においてもパターン幅の細
りは１μｍ未満と少なく、パターン形状も直進性が良か
った。さらに、パターンの断面形状は中下層部の抉れ
（テーパ）が少なく、金属層（遮光層）の欠けや剥がれ
等は殆んど確認されないほどパターニングができた。得
られたパターンの平面形状を図５（ａ）に、パターンの
断面形状を図５（ｂ）にそれぞれ模式的に示した。
分程度浸漬して評価した。また、各サンプルについて、
浸漬部・境界部・雰囲気部においての膜剥がれ、ピンホ
ール、膜色変化、金属層側から測定した反射率の変化
率、光学濃度（ＯＤ値）の変化率等を総合的に評価した
ところ、Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクスの実用性に関
しては、Ｚｒを原子数比で約１．０以上４．０以下で含
有するサンプルが特に優れていることが判明した。実施例３ 実施例２において評価の高かったサンプルと同様のＮｉ
−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス４を１０ｃｍ角程度に切断
し、フォトリソグラフィ技術によりパターニング性の評
価を行った。エッチング液としては、液晶パネル等情報
機器の製造工程等において既に広く知られ、Ｃｒ金属ブ
ランクスをパターニングしてブラックマトリックスを形
成するときに多用されているＣｒエッチング液を用い
た。具体的には、組成が純水４４０ｍｌ、７０％過塩素
２６ｍｌ、硝酸第２セリウムアンモニウム１００ｇのＣ
ｒエッチング液を用いた。そのＣｒエッチング液を３０
℃に加熱し、その液中で揺動エッチングを行ってパター
ン幅の細り（サイドエッチング量）を評価したところ、
２〜４分間のエッチング時間においてもパターン幅の細
りは１μｍ未満と少なく、パターン形状も直進性が良か
った。さらに、パターンの断面形状は中下層部の抉れ
（テーパ）が少なく、金属層（遮光層）の欠けや剥がれ
等は殆んど確認されないほどパターニングができた。得
られたパターンの平面形状を図５（ａ）に、パターンの
断面形状を図５（ｂ）にそれぞれ模式的に示した。
【００２５】図中では、透明ガラス基板（１０）ととも
に、ブラックマトリックス（１２）を示している。
に、ブラックマトリックス（１２）を示している。
【００２６】
【発明の効果】この発明によって得られるブラックマト
リックス用低反射金属ブランクスは、液晶パネルの製造
工程においてクロム金属を全く用いないこと、可視光域
において極小反射率が３．０％以下、光学濃度が３．０
以上の光学特性があること、Ｃｒ金属ブランクスをブラ
ックマトリックスにパターニングされている既存のウエ
ットエッチング加工工程等への実用性があること等の優
れた特徴を有している。したがって、カラー液晶パネル
に搭載のブラックマトリックスに十分に用いることがで
きる。
リックス用低反射金属ブランクスは、液晶パネルの製造
工程においてクロム金属を全く用いないこと、可視光域
において極小反射率が３．０％以下、光学濃度が３．０
以上の光学特性があること、Ｃｒ金属ブランクスをブラ
ックマトリックスにパターニングされている既存のウエ
ットエッチング加工工程等への実用性があること等の優
れた特徴を有している。したがって、カラー液晶パネル
に搭載のブラックマトリックスに十分に用いることがで
きる。
【図１】この発明のＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクスを
例示した断面概要図である。
例示した断面概要図である。
【図２】実施例のＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクスにお
ける光の波長と反射率の関係を曲線Ａに例示し、曲線Ｂ
は比較のためのＣｒ金属ブランクスによるものを曲線Ｂ
とした示した光の波長と反射率との関係図である。
ける光の波長と反射率の関係を曲線Ａに例示し、曲線Ｂ
は比較のためのＣｒ金属ブランクスによるものを曲線Ｂ
とした示した光の波長と反射率との関係図である。
【図３】この発明のＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクスの
膜厚方向における各部ごとに、透明ガラス基板上へ単層
成膜し、分光エリプソメータで測定した波長−屈折率特
性を簡単に例示した図である。（ａ）は、第１層目の下
層部を、（ｂ）は、第１層目の上層部を、（ｃ）は、第
２層目の波長−屈折率特性を示している。
膜厚方向における各部ごとに、透明ガラス基板上へ単層
成膜し、分光エリプソメータで測定した波長−屈折率特
性を簡単に例示した図である。（ａ）は、第１層目の下
層部を、（ｂ）は、第１層目の上層部を、（ｃ）は、第
２層目の波長−屈折率特性を示している。
【図４】実用性テストの方法を例示した概要図である。
【図５】実施例のＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクスをフ
ォトリソグラフィ技術によってエッチングして得られた
パターン形状の概要図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）
は断面図である。
ォトリソグラフィ技術によってエッチングして得られた
パターン形状の概要図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）
は断面図である。
１０ 透明ガラス基板 １１ Ｎｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系ブランクス １２ ブラックマトリックス １ 第１層 ２ 第２層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｆ 1/136 ５００ Ｃ２３Ｃ 14/18 // Ｃ２３Ｃ 14/18 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ
Claims (2)
- 【請求項１】 液晶パネルのカラーフィルターに用いら
れるブラックマトリックス用金属ブランクスであって、
透明ガラス基板上にＣｒ金属を含まない材料により成膜
される薄膜が、金属元素としては、実質的にＮｉ、Ｗ並
びにＺｒの３種から成ることを特徴とするブラックマト
リックス用金属ブランクス。 - 【請求項２】 可視光域において、ガラスと薄膜の界面
での極小反射率が３．０％以下、光学濃度が３．０以上
で、透明ガラス基板上に不活性ガス、窒素、酸素または
酸化炭素ガスの少なくとも１種以上のガス雰囲気中にお
いてスパッタリングによりＮｉ−Ｗ−Ｚｒ合金系薄膜が
多層成膜されている請求項１のブラックマトリックス用
金属ブランクス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14266297A JPH10333137A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | ブラックマトリックス用金属ブランクス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14266297A JPH10333137A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | ブラックマトリックス用金属ブランクス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10333137A true JPH10333137A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=15320584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14266297A Pending JPH10333137A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | ブラックマトリックス用金属ブランクス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10333137A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110020169A1 (en) * | 2008-04-30 | 2011-01-27 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Sputtering Target Material for Producing Intermediate Layer Film of Perpendicular Magnetic Recording Medium and Thin Film Produced by Using the Same |
| US8159749B2 (en) | 2008-08-26 | 2012-04-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Antireflection coating and display device |
| CN109881048A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-06-14 | 北京理工大学 | 一种高强度高塑性Ni-W-X合金制备方法 |
-
1997
- 1997-05-30 JP JP14266297A patent/JPH10333137A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110020169A1 (en) * | 2008-04-30 | 2011-01-27 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Sputtering Target Material for Producing Intermediate Layer Film of Perpendicular Magnetic Recording Medium and Thin Film Produced by Using the Same |
| US9293166B2 (en) * | 2008-04-30 | 2016-03-22 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Sputtering target material for producing intermediate layer film of perpendicular magnetic recording medium and thin film produced by using the same |
| US8159749B2 (en) | 2008-08-26 | 2012-04-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Antireflection coating and display device |
| CN109881048A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-06-14 | 北京理工大学 | 一种高强度高塑性Ni-W-X合金制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4147743B2 (ja) | 光吸収性反射防止体とその製造方法 | |
| JPH08234674A (ja) | 表示デバイス用反射防止ブラックマトリクス及びその作製方法 | |
| JPH08179301A (ja) | ブラックマトリックス用クロムブランクスおよび液晶デイスプレイ用カラーフイルター | |
| GB2288053A (en) | Interference filter | |
| KR20080111090A (ko) | 블랭크, 블랙 매트릭스 및 컬러 필터 | |
| JPH09291355A (ja) | 透明導電膜付き基体及びその製造方法 | |
| KR20080016949A (ko) | 그레이톤 마스크용 블랭크스와 이것을 사용한 그레이톤마스크 및 그 제조방법 | |
| KR20080018263A (ko) | 그레이톤 마스크용 블랭크스와 이것을 사용한 그레이톤마스크 및 그 제조방법 | |
| JPH06102558B2 (ja) | 色ガラス板 | |
| JPH10333137A (ja) | ブラックマトリックス用金属ブランクス | |
| KR100497628B1 (ko) | 반사율이낮은박막기판 | |
| EP0868114B1 (en) | Anti-light-reflective film, method for manufacturing the same, and EL device | |
| JPH11119676A (ja) | ブランクス及びブラックマトリクス | |
| CN101631692B (zh) | 低炫目反射镜片和带有这种反射镜片的后视镜 | |
| US7056587B2 (en) | Low-reflective thin-film substrate | |
| JP4419037B2 (ja) | ブラックマトリックス用遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット | |
| JPH11119007A (ja) | ブランクス及びブラックマトリクス | |
| JP4017747B2 (ja) | Ｂｍ膜製造方法 | |
| JPH09243801A (ja) | 低反射薄膜基板 | |
| JP4419036B2 (ja) | ブラックマトリックス用遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット | |
| JP2000121825A (ja) | 遮光層付き基板、その製造方法並びにスパッタターゲット、カラーフィルタ基板、及び表示素子 | |
| JP6525497B2 (ja) | 多層膜構造体の製造方法、及び多層膜構造体 | |
| JP2019083020A (ja) | 多層薄膜 | |
| JP4184498B2 (ja) | 亜鉛／インジウム系ｂｍ膜、及びｂｍ膜製造方法 | |
| JPH06222354A (ja) | 表示装置用遮光膜 |