JPH10324931A - 化学蒸着においてゲルマニウムを回収するための方法と装置 - Google Patents
化学蒸着においてゲルマニウムを回収するための方法と装置Info
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- JPH10324931A JPH10324931A JP10039507A JP3950798A JPH10324931A JP H10324931 A JPH10324931 A JP H10324931A JP 10039507 A JP10039507 A JP 10039507A JP 3950798 A JP3950798 A JP 3950798A JP H10324931 A JPH10324931 A JP H10324931A
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
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- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01846—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 化学蒸着層からＧｅを回収する方法の提供。
【解決手段】 ガス状および微粒子のＧｅ物質を有する
流出液を供給し、流出液を均合させると共に中和して、
酸化珪素（ＳｉＯ2）および次亜塩素酸塩（ＣｌＯ-）の
溶解度を維持する所定のｐＨを有する均合および中和Ｇ
ｅ溶液を生成させ、過酸化水素を添加することにより均
合および中和Ｇｅ溶液における次亜塩素酸塩を還元して
次亜塩素酸塩還元Ｇｅ溶液を生成させ、沈澱剤を添加す
ることにより次亜塩素酸塩還元Ｇｅ溶液を沈澱させてＧ
ｕを回収する、化学蒸着層からＧｅを回収するための方
法。
流出液を供給し、流出液を均合させると共に中和して、
酸化珪素（ＳｉＯ2）および次亜塩素酸塩（ＣｌＯ-）の
溶解度を維持する所定のｐＨを有する均合および中和Ｇ
ｅ溶液を生成させ、過酸化水素を添加することにより均
合および中和Ｇｅ溶液における次亜塩素酸塩を還元して
次亜塩素酸塩還元Ｇｅ溶液を生成させ、沈澱剤を添加す
ることにより次亜塩素酸塩還元Ｇｅ溶液を沈澱させてＧ
ｕを回収する、化学蒸着層からＧｅを回収するための方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、化学蒸着（ＣＶ
Ｄ）排出物からゲルマニウム（Ｇｅ）を再生するための
方法および装置を提供する。
Ｄ）排出物からゲルマニウム（Ｇｅ）を再生するための
方法および装置を提供する。
【０００２】
【従来の技術】化学蒸着（ＣＶＤ）排出物からゲルマニ
ウム（Ｇｅ）を再生するための多くの公知方法および装
置が存在する。
ウム（Ｇｅ）を再生するための多くの公知方法および装
置が存在する。
【０００３】たとえば米国特許第４，３８５，９１５号
は、光学部品を製造すべく使用する方法の結果である流
出液からゲルマニウム（Ｇｅ）を除去するためのバッチ
法を記載している。このバッチ法においては、光ファイ
バ反応器が流出液をスクラバーに供給して流出液を処理
すると共に、塩基性の水性生産物を移動サンドバックフ
ィルタに供給する。溶解ゲルマニウムを有する濾過され
た水性媒体を移動サンドバックフィルタにより供給され
た媒体から沈澱装置により沈澱させ、その際たとえば硫
酸マグネシウム水溶液のような沈澱剤を添加する。この
方法は濾過された水性媒体を保持槽に供給することを含
み、ここで水酸化ナトリウム溶液を添加して水性媒体の
ｐＨを１２の数値となし、媒体をスクラバーに循環させ
て再処理する。この方法に伴う１つの問題はこれがバッ
チ法であり、したがって連続式でないことにある。他の
問題は、スクラバーからの塩基性の水性生産物を均合、
中和の前に濾過し或いは塩素酸塩を還元する点にある。
は、光学部品を製造すべく使用する方法の結果である流
出液からゲルマニウム（Ｇｅ）を除去するためのバッチ
法を記載している。このバッチ法においては、光ファイ
バ反応器が流出液をスクラバーに供給して流出液を処理
すると共に、塩基性の水性生産物を移動サンドバックフ
ィルタに供給する。溶解ゲルマニウムを有する濾過され
た水性媒体を移動サンドバックフィルタにより供給され
た媒体から沈澱装置により沈澱させ、その際たとえば硫
酸マグネシウム水溶液のような沈澱剤を添加する。この
方法は濾過された水性媒体を保持槽に供給することを含
み、ここで水酸化ナトリウム溶液を添加して水性媒体の
ｐＨを１２の数値となし、媒体をスクラバーに循環させ
て再処理する。この方法に伴う１つの問題はこれがバッ
チ法であり、したがって連続式でないことにある。他の
問題は、スクラバーからの塩基性の水性生産物を均合、
中和の前に濾過し或いは塩素酸塩を還元する点にある。
【０００４】化学蒸着（ＣＶＤ）排出物からゲルマニウ
ム（Ｇｅ）を再生するための他の方法および装置は次の
特許を包含する：米国特許第２，８２７，３６１号はゲ
ルマニウム（Ｇｅ）の回収方法を記載しており、この方
法は溶解ゲルマニウム（Ｇｅ）を有すると共に少なくと
も７のｐＨ値を有する水溶液に含有された溶解珪素を除
去することを含む。この方法は、可溶性無機アルミニウ
ムを溶液に添加して不溶性珪素を溶液から沈澱させる工
程を含む。使用する水溶液は水酸化ナトリウム水溶液で
ある。米国特許第２，９２９，６７７号はファーネスス
ラグから採取された酸化亜鉛フュームからゲルマニウム
（Ｇｅ）を回収する方法を記載しており、この方法は鉄
およびゲルマニウム（Ｇｅ）を沈澱させるべく水酸化ナ
トリウム水溶液を使用する。米国特許第４，３６７，０
８５号は、ガラス原料ガスを用いて光ファイバープレフ
ォームを作成する方法を記載している。この方法に使用
される装置は、排気ポートから流出するガスを処理する
ための排気ガス清浄器を含む。清浄過程は明かに水スプ
レーおよび中和ＮａＯＨの使用を含む。米国特許第４，
５７８，２５３号は、光ファイバーを作成する蒸着法の
流出液からゲルマニウム（Ｇｅ）を回収する方法を記載
している。この米国特許は、米国特許第４，３８５，９
１５号に開示された方法を含んでいる。ドイツ特許第
３，１４３，９５８号は、ドーパントとして使用したガ
スを再生する工程を含む光ファイバーの形成方法を記載
している。水スプレーおよび分別蒸留法を再使用のため
ゲルマニウム（Ｇｅ）の回収方法に使用する。
ム（Ｇｅ）を再生するための他の方法および装置は次の
特許を包含する：米国特許第２，８２７，３６１号はゲ
ルマニウム（Ｇｅ）の回収方法を記載しており、この方
法は溶解ゲルマニウム（Ｇｅ）を有すると共に少なくと
も７のｐＨ値を有する水溶液に含有された溶解珪素を除
去することを含む。この方法は、可溶性無機アルミニウ
ムを溶液に添加して不溶性珪素を溶液から沈澱させる工
程を含む。使用する水溶液は水酸化ナトリウム水溶液で
ある。米国特許第２，９２９，６７７号はファーネスス
ラグから採取された酸化亜鉛フュームからゲルマニウム
（Ｇｅ）を回収する方法を記載しており、この方法は鉄
およびゲルマニウム（Ｇｅ）を沈澱させるべく水酸化ナ
トリウム水溶液を使用する。米国特許第４，３６７，０
８５号は、ガラス原料ガスを用いて光ファイバープレフ
ォームを作成する方法を記載している。この方法に使用
される装置は、排気ポートから流出するガスを処理する
ための排気ガス清浄器を含む。清浄過程は明かに水スプ
レーおよび中和ＮａＯＨの使用を含む。米国特許第４，
５７８，２５３号は、光ファイバーを作成する蒸着法の
流出液からゲルマニウム（Ｇｅ）を回収する方法を記載
している。この米国特許は、米国特許第４，３８５，９
１５号に開示された方法を含んでいる。ドイツ特許第
３，１４３，９５８号は、ドーパントとして使用したガ
スを再生する工程を含む光ファイバーの形成方法を記載
している。水スプレーおよび分別蒸留法を再使用のため
ゲルマニウム（Ｇｅ）の回収方法に使用する。
【０００５】さらに本出願の図１は以下の工程を含む廃
棄物処理のための公知の連続撹拌タンク反応器を示す：
すなわちＣＶＤラスから循環ポンプを備えたスクラバー
までチューブ排出物を供給し；チューブ排出物を洗浄す
ると共にスクラバーからの液体廃棄物をｐＨ中和反応器
まで移送し；液体廃棄物をポリフロー、水浴およびスク
ラバーオーバーフラッドと組合せ、さらにｐＨ中和溶液
を沈降段階に供給し；スラリーを濾過段階に供給して濾
過スラリーを沈降段階に戻し；さらにスラリーをフィル
タプレスに供給して埋立処分するための濾過ケーキを供
給する。
棄物処理のための公知の連続撹拌タンク反応器を示す：
すなわちＣＶＤラスから循環ポンプを備えたスクラバー
までチューブ排出物を供給し；チューブ排出物を洗浄す
ると共にスクラバーからの液体廃棄物をｐＨ中和反応器
まで移送し；液体廃棄物をポリフロー、水浴およびスク
ラバーオーバーフラッドと組合せ、さらにｐＨ中和溶液
を沈降段階に供給し；スラリーを濾過段階に供給して濾
過スラリーを沈降段階に戻し；さらにスラリーをフィル
タプレスに供給して埋立処分するための濾過ケーキを供
給する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、化学蒸着層
からゲルマニウム（Ｇｅ）を回収するための連続システ
ムを提供することにある。
からゲルマニウム（Ｇｅ）を回収するための連続システ
ムを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、化学蒸着層ス
クラバーと均合（ｅｑｕａｌｉｚａｔｉｏｎ）および中
和ミキサと次亜塩素酸塩還元（ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）ミ
キサと沈澱剤および中和ミキサと反応タンクとプレート
クラリファイヤとフィルタプレスおよびドライヤとを備
えた、化学蒸着層からゲルマニウム（Ｇｅ）を回収する
ための連続システムを提供する。
クラバーと均合（ｅｑｕａｌｉｚａｔｉｏｎ）および中
和ミキサと次亜塩素酸塩還元（ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）ミ
キサと沈澱剤および中和ミキサと反応タンクとプレート
クラリファイヤとフィルタプレスおよびドライヤとを備
えた、化学蒸着層からゲルマニウム（Ｇｅ）を回収する
ための連続システムを提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】化学蒸着層スクラバーは、化学蒸
着層を受入れると共に化学蒸着層を洗浄して化学蒸着層
スクラバー溶液を生成させる。
着層を受入れると共に化学蒸着層を洗浄して化学蒸着層
スクラバー溶液を生成させる。
【０００９】均合および中和ミキサは、化学蒸着層スク
ラバー溶液を受入れると共に苛性ソーダをこれに添加し
て１２．０より高いｐＨを有する均合および中和ミキサ
溶液を生成させることにより、酸化珪素（ＳｉＯ2）お
よび次亜塩素酸塩（ＣｌＯ-）の溶解度を維持する。
ラバー溶液を受入れると共に苛性ソーダをこれに添加し
て１２．０より高いｐＨを有する均合および中和ミキサ
溶液を生成させることにより、酸化珪素（ＳｉＯ2）お
よび次亜塩素酸塩（ＣｌＯ-）の溶解度を維持する。
【００１０】次亜塩素酸還元ミキサは、均合および中和
ミキサ溶液を受入れると共に過酸化物を均合および中和
溶液に添加して次亜塩素酸還元溶液を生成させることに
より次亜塩素酸塩を還元する。
ミキサ溶液を受入れると共に過酸化物を均合および中和
溶液に添加して次亜塩素酸還元溶液を生成させることに
より次亜塩素酸塩を還元する。
【００１１】沈澱剤および中和ミキサは、次亜塩素酸還
元溶液を受入れると共に金属陽イオンをエプソム塩（Ｍ
ｇＳＯ4）の形態で添加すると共に苛性ソーダ（ＮａＯ
Ｈ）を添加して、沈澱物および中和溶液を形成させるこ
とによりマグネシウムゲルマネート（ＭｇＧｅＯ3）お
よび三酸化マグネシウム珪素（ＭｇＳｉＯ3）の沈澱を
促進させる。
元溶液を受入れると共に金属陽イオンをエプソム塩（Ｍ
ｇＳＯ4）の形態で添加すると共に苛性ソーダ（ＮａＯ
Ｈ）を添加して、沈澱物および中和溶液を形成させるこ
とによりマグネシウムゲルマネート（ＭｇＧｅＯ3）お
よび三酸化マグネシウム珪素（ＭｇＳｉＯ3）の沈澱を
促進させる。
【００１２】反応タンクは、沈澱剤および中和溶液を受
入れると共に陽イオン型ポリマーを沈澱剤および中和溶
液に添加して、ゲルマニウム（Ｇｅ）および珪素（Ｓ
ｉ）固形物の凝集を促進すると共に凝集溶液を生成させ
る。
入れると共に陽イオン型ポリマーを沈澱剤および中和溶
液に添加して、ゲルマニウム（Ｇｅ）および珪素（Ｓ
ｉ）固形物の凝集を促進すると共に凝集溶液を生成させ
る。
【００１３】プレートクラリファイヤは、回収用凝集溶
液を受入れて凝集物質を生成させる。
液を受入れて凝集物質を生成させる。
【００１４】フィルタプレスおよびドライヤは、凝集物
質を受入れると共に凝集物質を処理および乾燥して、５
〜１０重量％の範囲内におけるゲルマニウム（Ｇｅ）の
乾燥スラッジを生成させる。
質を受入れると共に凝集物質を処理および乾燥して、５
〜１０重量％の範囲内におけるゲルマニウム（Ｇｅ）の
乾燥スラッジを生成させる。
【００１５】以下の説明に関し図１〜３を含む図面を参
照して、本発明をその構成および操作方法の両者につき
さらに説明する。
照して、本発明をその構成および操作方法の両者につき
さらに説明する。
【００１６】
【最良の実施例】図２において、光ファイバープレフォ
ームを製造するための改変化学蒸着（ＭＣＶＤ）法から
の流出液をＣＶＤスクラバー１０に指向させる。これを
スクラバーに対し外部にて水酸化ナトリウムの水溶液で
処理して１０．０より高いｐＨを維持する。スクラバー
スンプからのスラリーオーバーフローを廃棄物処理シス
テムに指向させ、ここでゲルマニウム（Ｇｅ）を回収す
べく処理する。
ームを製造するための改変化学蒸着（ＭＣＶＤ）法から
の流出液をＣＶＤスクラバー１０に指向させる。これを
スクラバーに対し外部にて水酸化ナトリウムの水溶液で
処理して１０．０より高いｐＨを維持する。スクラバー
スンプからのスラリーオーバーフローを廃棄物処理シス
テムに指向させ、ここでゲルマニウム（Ｇｅ）を回収す
べく処理する。
【００１７】ゲルマニウム（Ｇｅ）に関与する処理に含
まれる工程は次の通りである： 工程１：均合および中和 ＣＶＤスクラバー溶液をＣＶＤスクラバー１０から均合
および中和ミキサ（一般に参照符号１２で示す）に供給
し、ここで苛性ソーダを添加して１２．０より高いｐＨ
を有する均合および中和ミキサ溶液を形成させることに
より、酸化珪素（ＳｉＯ2）および次亜塩素酸塩（Ｃｌ
Ｏ-）の溶解度を維持する。
まれる工程は次の通りである： 工程１：均合および中和 ＣＶＤスクラバー溶液をＣＶＤスクラバー１０から均合
および中和ミキサ（一般に参照符号１２で示す）に供給
し、ここで苛性ソーダを添加して１２．０より高いｐＨ
を有する均合および中和ミキサ溶液を形成させることに
より、酸化珪素（ＳｉＯ2）および次亜塩素酸塩（Ｃｌ
Ｏ-）の溶解度を維持する。
【００１８】工程２：次亜塩素酸還元 均合および中和溶液を均合および中和ミキサ１２から次
亜塩素酸還元ミキサ（一般に参照符号１４で示す）に供
給し、ここで過酸化物を添加して次亜塩素酸塩を還元す
る次亜塩素酸還元溶液を形成させる。
亜塩素酸還元ミキサ（一般に参照符号１４で示す）に供
給し、ここで過酸化物を添加して次亜塩素酸塩を還元す
る次亜塩素酸還元溶液を形成させる。
【００１９】工程３：沈澱剤／中和 次亜塩素酸還元溶液を次亜塩素酸還元ミキサ１４から沈
澱剤／中和ミキサ（一般に参照符号１６で示す）に供給
し、ここでエプソム塩（ＭｇＳＯ4）の形態の金属陽イ
オンを添加し、さらに苛性ソーダ（ＮａＯＨ）をも添加
して沈澱剤／中和溶液を生成させると共に、マグネシウ
ムゲルマネート（ＭｇＧｅＯ3）およびＭｇＳｉＯ3の沈
澱を促進する。
澱剤／中和ミキサ（一般に参照符号１６で示す）に供給
し、ここでエプソム塩（ＭｇＳＯ4）の形態の金属陽イ
オンを添加し、さらに苛性ソーダ（ＮａＯＨ）をも添加
して沈澱剤／中和溶液を生成させると共に、マグネシウ
ムゲルマネート（ＭｇＧｅＯ3）およびＭｇＳｉＯ3の沈
澱を促進する。
【００２０】工程４：陽イオン型ポリマーを反応タンク
１７における沈澱剤／中和溶液に添加してゲルマニウム
（Ｇｅ）および珪素（Ｓｉ）固形物の凝集を促進し、こ
れらを回収用プレートクラリファイヤ１８に供給して凝
集物質を生成させる。
１７における沈澱剤／中和溶液に添加してゲルマニウム
（Ｇｅ）および珪素（Ｓｉ）固形物の凝集を促進し、こ
れらを回収用プレートクラリファイヤ１８に供給して凝
集物質を生成させる。
【００２１】工程５：次いで凝集物質をフィルタプレス
２０およびドライヤ２２で処理して５〜１０重量％の範
囲内におけるゲルマニウム（Ｇｅ）の乾燥スラッジを生
成させ、これを循環用の濾過ケーキ２４に形成する。乾
燥工程は水を１０〜１５重量％の範囲まで減少させると
共に、ゲルマニウム（Ｇｅ）の濾過ケーキを生成し、Ｍ
ＣＶＤ法からのゲルマニウム（Ｇｅ）の回収をもたら
す。全工程は洗浄されたゲルマニウム（Ｇｅ）の９８％
を回収する。６７５°Ｆの標準的操作温度にてドライヤ
２２を操作すれば、８５％の最大固形物含有量が得られ
る。ドライヤ２２の操作温度を５７５〜６００°Ｆに維
持すれば、この方法はゲルマニウムの最大収率を与え
る。
２０およびドライヤ２２で処理して５〜１０重量％の範
囲内におけるゲルマニウム（Ｇｅ）の乾燥スラッジを生
成させ、これを循環用の濾過ケーキ２４に形成する。乾
燥工程は水を１０〜１５重量％の範囲まで減少させると
共に、ゲルマニウム（Ｇｅ）の濾過ケーキを生成し、Ｍ
ＣＶＤ法からのゲルマニウム（Ｇｅ）の回収をもたら
す。全工程は洗浄されたゲルマニウム（Ｇｅ）の９８％
を回収する。６７５°Ｆの標準的操作温度にてドライヤ
２２を操作すれば、８５％の最大固形物含有量が得られ
る。ドライヤ２２の操作温度を５７５〜６００°Ｆに維
持すれば、この方法はゲルマニウムの最大収率を与え
る。
【００２２】工程６：クラリファイヤからの上澄液およ
びフィルタプレス２０からの過剰の水を循環させると共
に、たとえばオーバークラッドスクラバー（図示せず）
のような他のシステムに戻す。
びフィルタプレス２０からの過剰の水を循環させると共
に、たとえばオーバークラッドスクラバー（図示せず）
のような他のシステムに戻す。
【００２３】本発明の範囲は、図２に関し図示すると共
に説明した薬品のみに限定されない。たとえばメタビサ
ルファイトのような他の還元剤を次亜塩素酸還元工程に
使用する実施例も実現される。
に説明した薬品のみに限定されない。たとえばメタビサ
ルファイトのような他の還元剤を次亜塩素酸還元工程に
使用する実施例も実現される。
【００２４】次のことが以下のゲルマニウム（Ｇｅ）再
生設計の利点である： （ａ）濾過システムの代わりにスクラバースンプオーバ
ーフローを用いればバッチ法でなく連続法が得られる。
この連続法は、ゲルマニウム（Ｇｅ）の定常的かつ比較
的不変化の比率が再生システムに流入することを確認す
る。スクラバースンプは、スクラバーの上流にて多くの
ＭＣＶＤバッチ法に対するバッファーとして作用する。
したがって、最終生成物は実質的にゲルマニウム（Ｇ
ｅ）の一定重量％を有する。これは、顧客への輸送前に
生成物の余計な試験工程を防止し、これにより運転経費
を節減すると共に顧客との価格レバレッジをより大にす
る。第２に、スクラバー循環溶液を濾過する効果かつ困
難な工程が排除される。
生設計の利点である： （ａ）濾過システムの代わりにスクラバースンプオーバ
ーフローを用いればバッチ法でなく連続法が得られる。
この連続法は、ゲルマニウム（Ｇｅ）の定常的かつ比較
的不変化の比率が再生システムに流入することを確認す
る。スクラバースンプは、スクラバーの上流にて多くの
ＭＣＶＤバッチ法に対するバッファーとして作用する。
したがって、最終生成物は実質的にゲルマニウム（Ｇ
ｅ）の一定重量％を有する。これは、顧客への輸送前に
生成物の余計な試験工程を防止し、これにより運転経費
を節減すると共に顧客との価格レバレッジをより大にす
る。第２に、スクラバー循環溶液を濾過する効果かつ困
難な工程が排除される。
【００２５】（ｂ）凝集工程は濾過効率を増大させる。
凝集剤と共に微粒子を濃縮することにより濾過装置を一
層小さい寸法にしうると共に一層多量の所望生成物を回
収しうる。同量のゲルマニウム（Ｇｅ）を回収すべく凝
集を使用しない場合は、余計な濾過工程が必要とされる
であろう。したがって、経費節減が装置および運転経費
の排除により得られる。
凝集剤と共に微粒子を濃縮することにより濾過装置を一
層小さい寸法にしうると共に一層多量の所望生成物を回
収しうる。同量のゲルマニウム（Ｇｅ）を回収すべく凝
集を使用しない場合は、余計な濾過工程が必要とされる
であろう。したがって、経費節減が装置および運転経費
の排除により得られる。
【００２６】（ｃ）乾燥工程は運転および輸送経費を減
少させる。ドライヤは生成物における水Ｈ2Ｏの量を減
少させる。したがって、輸送重量が減少すると共に、生
成物が一層取扱い容易となる。
少させる。ドライヤは生成物における水Ｈ2Ｏの量を減
少させる。したがって、輸送重量が減少すると共に、生
成物が一層取扱い容易となる。
【００２７】（ｄ）この方法からの廃棄液は、他の工程
に循環し或いはさらに処理することなく下水管に放出し
うる充分な品質を有する。
に循環し或いはさらに処理することなく下水管に放出し
うる充分な品質を有する。
【００２８】（ｅ）生成物は、ＧｅＣｌ4製造のための
顧客の通常の供給原料に直接添加される。更なる処理は
必要とされない。生成物は、顧客の正常の供給原料より
も１０〜２０倍より高いゲルマニウム（Ｇｅ）の比率を
有する。
顧客の通常の供給原料に直接添加される。更なる処理は
必要とされない。生成物は、顧客の正常の供給原料より
も１０〜２０倍より高いゲルマニウム（Ｇｅ）の比率を
有する。
【００２９】図３は、実際のゲルマニウム（Ｇｅ）比率
および重量を示す回収データリストである。
および重量を示す回収データリストである。
【００３０】以上、本発明を特定の実施例につき詳細に
説明したが、これは単に例示に目的に過ぎないことが当
業者には了解されよう。
説明したが、これは単に例示に目的に過ぎないことが当
業者には了解されよう。
【図１】ゲルマニウム（Ｇｅ）再生のための公知の連続
撹拌タンク反応器の略図である。
撹拌タンク反応器の略図である。
【図２】本発明の主題であるゲルマニウム（Ｇｅ）再生
のための連続撹拌タンク反応器の略図である。
のための連続撹拌タンク反応器の略図である。
【図３】本発明の方法を用いる結果として実際のゲルマ
ニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
ニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
１０ ＣＶＤスクラバー １２ 均合および中和ミキサ １４ 次亜塩素酸還元ミキサ １６ 沈澱剤／中和ミキサ １７ 反応タンク１７ １８ プレートクラリファイヤ ２０ フィルタプレス ２２ ドライヤ
【手続補正書】
【提出日】平成１０年４月１７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】ゲルマニウム（Ｇｅ）再生のための公知の連続
撹拌タンク反応器の略図である。
撹拌タンク反応器の略図である。
【図２】本発明の主題であるゲルマニウム（Ｇｅ）再生
のための連続撹拌タンク反応器の略図である。
のための連続撹拌タンク反応器の略図である。
【図３Ａ】本発明の方法を用いる結果として実際のゲル
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
【図３Ｂ】本発明の方法を用いる結果として実際のゲル
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
【図３Ｃ】本発明の方法を用いる結果として実際のゲル
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
【図３Ｄ】本発明の方法を用いる結果として実際のゲル
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
【図３Ｅ】本発明の方法を用いる結果として実際のゲル
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
マニウム（Ｇｅ）比率および重量を示す回収データリス
ト。
【符号の説明】 １０ ＣＶＤスクラバー １２ 均合および中和ミキサ １４ 次亜塩素酸還元ミキサ １６ 沈澱剤／中和ミキサ １７ 反応タンク１７ １８ プレートクラリファイヤ ２０ フィルタプレス ２２ ドライヤ
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３Ａ】
【図１】
【図２】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図３Ｅ】
【図３Ｄ】 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年５月１９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３Ａ】
【図１】
【図２】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図３Ｅ】
【図３Ｄ】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ブルース・デイ・レイリイ アメリカ合衆国、ノース・カロライナ・ 27604、ローリー、フエンハム・コート・ 2812
Claims (13)
- 【請求項１】 化学蒸着層からゲルマニウム（Ｇｅ）を
回収するに際し：ガス状および微粒子のゲルマニウム
（Ｇｅ）物質を有する流出液を供給し；流出液を均合さ
せると共に中和して、酸化珪素（ＳｉＯ2）および次亜
塩素酸塩（ＣｌＯ-）の溶解度を維持する所定のｐＨを
有する均合および中和ゲルマニウム（Ｇｅ）溶液を生成
させ；過酸化水素を添加することにより均合および中和
ゲルマニウム（Ｇｅ）溶液における次亜塩素酸塩を還元
して次亜塩素酸塩還元ゲルマニウム（Ｇｅ）溶液を生成
させ；沈澱剤を添加することにより次亜塩素酸塩還元ゲ
ルマニウム（Ｇｅ）溶液を沈澱させてゲルマニウム（Ｇ
ｅ）を回収することを特徴とするゲルマニウム（Ｇｅ）
の回収方法。 - 【請求項２】 ガスおよび微粒子の形態でゲルマニウム
（Ｇｅ）を有する化学蒸着層スクラバー溶液を供給する
工程をさらに含む請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 化学蒸着層を洗浄して化学蒸着層スクラ
バー溶液を生成させる工程をさらに含む請求項２に記載
の方法。 - 【請求項４】 苛性ソーダを添加することにより流出液
を均合および中和し；金属陽イオンを添加して、三酸化
マグネシウムゲルマニウム（ＭｇＧｅＯ3）および三酸
化マグネシウム珪素（ＭｇＳｉＯ3）の沈澱を促進する
沈澱剤および中和溶液を生成させる工程をさらに含む請
求項３に記載の方法。 - 【請求項５】 陽イオン型ポリマーと苛性ソーダとを沈
殿剤および中和溶液に添加してゲルマニウム（Ｇｅ）お
よび珪素（Ｓｉ）固形物の凝集を促進すると共に凝集溶
液を生成させ；凝集溶液を回収用プレートクラリファイ
ヤに供給して凝集物質を形成させ；凝集物質をフィルタ
プレスおよびドライヤに供給し；凝集物質を処理および
乾燥して５〜１０重量％の範囲内におけるゲルマニウム
（Ｇｅ）の乾燥スラッジを生成させ；乾燥スラッジを循
環用濾過ケーキまで形成し；プレートクラリファイヤか
らの上澄液およびフィルタプレスからの過剰の水を、た
とえばオーバークラッド（ｏｖｅｒｃｌａｄ）スクラバ
ーのような他のシステムに循環および戻す工程をさらに
含む請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 均合および中和ミキサー溶液が１２．０
より高いｐＨを有して、二酸化珪素（ＳｉＯ2）および
次亜塩素酸塩（ＣｌＯ-）の溶解度を維持する請求項５
に記載の方法。 - 【請求項７】 金属陽イオンがエプソム塩ＭｇＡＯ4の
形態であり、苛性ソーダが水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）である請求項５に記載の方法。 - 【請求項８】 連続的である工程をさらに含む請求項５
に記載の方法。 - 【請求項９】 連続的である工程をさらに含む請求項１
に記載の方法。 - 【請求項１０】 化学蒸着層からゲルマニウム（Ｇｅ）
を回収するための連続システムにおいて：化学蒸着層を
受入れると共に化学蒸着層を洗浄して化学蒸着層スクラ
バー溶液を生成させる化学蒸着層スクラバー（１０）
と；化学蒸着層スクラバー溶液を受入れると共に苛性ソ
ーダを添加して、酸化珪素（ＳｉＯ2）および次亜塩素
酸（ＣｌＯ-）の溶解度を維持すべく１２．０より高い
ｐＨを有する均合および中和ミキサ溶液を生成させる均
合および中和ミキサ（１２）と；均合および中和ミキサ
溶液を受入れると共に均合および中和溶液に過酸化物を
添加して次亜塩素酸塩を還元するための次亜塩素酸塩還
元溶液を生成させる次亜塩素酸塩還元ミキサ（１４）
と；次亜塩素酸塩還元溶液を受入れると共にエプソム塩
（ＭｇＳＯ4）の形態で金属陽イオンを添加し、さらに
苛性ソーダ（ＮａＯＨ）を添加して沈澱剤および中和溶
液を形成させてマグネシウムゲルマネート（ＭｇＧｅＯ
3）および三酸化マグネシウム珪素（ＭｇＳｉＯ3）の沈
澱を促進する沈殿剤および中和ミキサ（１６）と；沈澱
剤および中和溶液を受入れると共に陽イオン型ポリマー
を沈澱剤および中和溶液に添加して、ゲルマニウム（Ｇ
ｅ）および珪素（Ｓｉ）固形物の凝集を促進すると共に
凝集溶液を生成させる反応タンク（１７）と；凝集物質
を生成させるべく回収用凝集溶液を受入れるプレートク
ラリファイヤ（１８）と；凝集物質を受入れると共に凝
集物質を処理および乾燥して５〜１０重量％の範囲内に
おけるゲルマニウム（Ｇｅ）の乾燥スラッジを形成させ
るフィルタプレス（２０）およびドライヤ（２２）とを
備えることを特徴とするゲルマニウム（Ｇｅ）の連続回
収システム。 - 【請求項１１】 フィルタプレス（２０）およびドライ
ヤ（２２）が乾燥スラッジを循環用濾過ケーキ（２４）
まで形成する請求項１０に記載の連続システム。 - 【請求項１２】 プレートクラリファイヤ（１８）が上
澄液を戻すと共に、フィルタプレス（２０）およびドラ
イヤ（２２）が過剰の水を他のシステムまで循環させる
請求項１１に記載の連続システム。 - 【請求項１３】 フィルタプレス（２０）およびドライ
ヤ（２２）が乾燥スラッジを循環用の濾過ケーキ（２
４）まで形成し；プレートクラリファイヤ（１８）が上
澄液を戻すと共に、フィルタプレス（２０）およびトラ
イヤ（２２）が過剰の水を他のシステムまで循環させる
請求項１０に記載の方法。
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