JPH10315644A

JPH10315644A - 印刷版用材料及び印刷版の作製方法

Info

Publication number: JPH10315644A
Application number: JP6709298A
Authority: JP
Inventors: Takeo Akiyama; 健夫秋山; Yasuo Kojima; 康生児島
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-03-17
Filing date: 1998-03-17
Publication date: 1998-12-02

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】水幅が広く、小点再現性が良好で、印刷時に
汚れが出ない、新規な印刷版用材料、該材料を用いた印
刷版の作製方法。【解決手段】空隙層の空隙容量が０．０１ｍｌ／ｍ²
以上であり、空隙層が基体上に設けられ空隙層の空隙容
量が０．５ｍｌ／ｍ²以上であること、０．５〜４０ｍ
ｌ／ｍ²以上であり、空隙層の５容量％以上であり、空
隙層の２０〜８０容量％であり、空隙層の空隙部分が空
隙層の基体側の表面、又は空隙層の基体とは反対側の表
面に開口部分を有し空隙層の空隙部分が空隙層の基体側
の表面、又は空隙層の基体とは反対側の表面に二つ以上
の開口部分を有する。支持体の空隙層上に感熱層を有す
る印刷版用材料と、基体上に感熱転写層を有するドナー
シートを空隙層側と感熱転写層が接するよう重ね合わ
せ、熱、光及び圧力の少なくとも一つを用いて画像様に
転写する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は印刷版用材料に関
し、更に詳しくは、保水性に優れ印刷時に汚れの発生が
ない印刷版の作製に好適な印刷版用材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷の方式は現在までに幾つか見い出さ
れているが、その中で平版印刷が主流を占めて来てい
る。

【０００３】平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本
的に略同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非
画線部をインキ反撥性として、インキ付着性の差異を利
用して、画線部のみにインキを着肉させた後、紙等の被
印刷体にインキを転写して印刷する方式を意味する。
又、このような平版印刷には、通常、ＰＳ版が用いられ
る。ここで言うＰＳ版とは下記のものを意味する。

【０００４】即ち、米澤輝彦著「ＰＳ版概論」１８〜８
１頁，印刷学会出版部（１９９３）に記載されるよう
に、親水化されたアルミニウム基板上に親油性の感光性
樹脂層を塗布し、フォトリソグラフィの技術により画線
部は感光層が残存し、一方、非画線部はアルミニウム基
板表面が露出し、該表面に湿し水層を形成してインクを
反撥し、画像を形成する水ありＰＳ版と、湿し水層の代
わりにシリコーンゴム層をインク反撥層として用いる水
なしＰＳ版、いわゆる水なし平版である。

【０００５】水ありＰＳ版は、支持体に通常砂目立てア
ルミニウム板が用いられ、該アルミニウム表面は保水性
を有すると共に印刷中親油性の感光性樹脂層が該表面か
ら剥離・脱落しないように、感光層との接着性に優れて
いる必要があった。そのため、該アルミニウム表面は通
常砂目立てされ、更に必要に応じて砂目立て表面を陽極
酸化するなどの処理が施され、保水性の向上と感光性樹
脂層に対する接着性の補強が計られて来た。この水あり
ＰＳ版は現在広く使用されている。

【０００６】水ありＰＳ版は実用上優れた印刷版である
が、支持体に通常砂目立てアルミニウム板が用いられる
ので、印刷時の水−インキバランスの調整が難しく、印
刷条件によっては汚れもしくは水負けなどの印刷不良が
発生した。又、表面が粗面化されているため、この上に
親油性感光性樹脂層を設けて所謂ＰＳ版とした場合、ハ
レーションによる小点再現性の劣化が生じる場合があっ
た。

【０００７】一方、印刷分野の製版プロセスには、印刷
に必要とする画像イメージを直接原版に形成して製版す
るダイレクト版と、画像イメージを一度ドラム等の媒体
に形成し、それを原版に転写し現像するインダイレクト
版の２種類が知られている。

【０００８】最近のデスク・トップ・パブリッシング
（ＤＴＰ）システムの進歩や、コンピュータ・ツウ・プ
レート（ＣＴＰ）製版システムの普及により、これらの
ダイレクト製版システムやインダイレクト製版システム
がよく用いられるようになって来た。このダイレクト製
版の一つの形態として、転写性物質を有するドナーシー
トから砂目等の印刷版用支持体へ親油性物質を画像状に
転写して印刷版を作製する方法があるが、砂目のように
表面が粗面化されていると、転写した小点の形ががさつ
いており、印刷物としての仕上がりが良くない場合があ
った。

【０００９】インダイレクト製版を用いる平版印刷用原
版としてオフセットマスターがある。オフセットマスタ
ーは、通常、紙やプラスチックフィルムの支持体に、酸
化亜鉛と樹脂バインダーから成る画像受容層を設けたも
のである。この原版上に、通常のコピー機、レーザープ
リンタ等を用いてトナー等で画像を形成し、この画像部
分を親油性部分とし、トナーの存在しない非画像部分
を、例えばシアン化カリウムを含むエッチング液で親水
化処理することにより、オフセット印刷版が得られる。

【００１０】オフセットマスターは、印刷時にエッチン
グ処理により親水性を補強する必要があり、それでも未
だ親水性が不十分であるため印刷時に非画像部の汚れ
（地汚れ）が発生し易いなどの問題を生じていた。

【００１１】上記のように、平版印刷版用材料として満
足できる性能を有するものは未だ得られていないのが現
状である。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、水幅（湿し水のラチチュード）が広く、小点再現性
が良好で、印刷時に汚れの発生しない新規な印刷版用材
料、該材料を用いた印刷版の作製方法を提供することに
ある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成される。

【００１４】（１）空隙層を有する支持体上の該空隙層
上に感光層又は感熱層を有する印刷版用材料において、
該空隙層の空隙容量が０．０１ｍｌ／ｍ²以上である印
刷版用材料。

【００１５】（２）空隙層が基体上に設けられた（１）
に記載の印刷版用材料。

【００１６】（３）空隙層の空隙容量が０．５ｍｌ／ｍ
²以上である（１）に記載の印刷版用材料。

【００１７】（４）空隙層の空隙容量が０．５〜４０ｍ
ｌ／ｍ²以上である（３）に記載の印刷版用材料。

【００１８】（５）空隙層の空隙容量が空隙層の５容量
％以上である（１）に記載の印刷版用材料。

【００１９】（６）空隙層の空隙容量が空隙層の２０〜
８０容量％である（５）に記載の印刷版用材料。

【００２０】（７）空隙層の空隙部分が空隙層の基体側
の表面、又は空隙層の基体とは反対側の表面に開口部分
を有する（２）に記載の印刷版用材料。

【００２１】（８）空隙層の空隙部分が空隙層の基体側
の表面、又は空隙層の基体とは反対側の表面に二つ以上
の開口部分を有する（２）に記載の印刷版用材料。

【００２２】（９）空隙層が少なくとも１種の親水性バ
インダー及び微粒子を含有する（１）に記載の印刷版用
材料。

【００２３】（１０）親水性バインダーがゼラチン又は
ゼラチン誘導体である（９）に記載の印刷版用材料。

【００２４】（１１）空隙層が０．１〜２０ｇ／ｍ²の
親水性バインダー及び平均粒径３〜２００ｎｍの微粒子
を含有し、かつ該親水性バインダーに対する該微粒子の
重量比が０．５〜１５である（９）に記載の印刷版用材
料。

【００２５】（１２）（１）に記載の支持体の空隙層上
に感熱層を有する印刷版用材料と、基体上に感熱転写層
を有するドナーシートを空隙層側と感熱転写層が接する
よう重ね合わせ、熱、光及び圧力の少なくとも一つを用
いて画像様に転写する印刷版の作製方法。

【００２６】以下、本発明について詳述する。

【００２７】本発明の印刷版用材料が有する空隙層には
空隙の存在が必須であり、該空隙は、例えば親水性バイ
ンダー及び微粒子から選ばれる物質の間に形成される。

【００２８】空隙の形成は種々の方法で行うことがで
き、その方法により空隙層が含有する固体成分も異なる
のが一般的である。以下に代表的な空隙層の形成方法に
ついて説明する。

【００２９】２種以上のポリマーを含有する均一な塗
布液を基体上に塗布し、乾燥過程でこれらポリマーを互
いに相分離させて空隙を形成させる方法。

【００３０】固体微粒子及び親水性バインダーを含有
する塗布液を基体上に塗布し、乾燥後に支持体を水又は
適当な有機溶媒を含有する液に浸漬し、固体微粒子を溶
解させて空隙を形成させる方法。

【００３１】皮膜形成時に発泡する化合物を含有する
塗布液を基体に塗布後、乾燥過程でこの化合物を発泡さ
せて皮膜中に空隙を形成する方法。

【００３２】多孔質固体微粒子と親水性バインダーを
含有する塗布液を基体上に塗布・乾燥し、固体微粒子間
の空隙に併せて固体の多孔質部も利用する方法。

【００３３】親水性バインダーに対して概ね等量以上
の容積及び／又は重量を有する固体微粒子と親水性バイ
ンダーを含有する塗布液を基体上に塗布して固体微粒子
の間に空隙を形成する方法。

【００３４】平均粒径が約０．１μｍ以下の固体微粒
子を、塗布液調製時又は皮膜形成時に凝集させて２次粒
子又は３次元構造を形成して空隙を形成する方法。

【００３５】本発明においては、上記空隙層形成方法の
如何なる手段によってもよいが、印刷版支持体として高
い物理的耐久性の点や低コストで製造できる面から、
、及びが好ましく、特に好ましいのは又はの
方法である。

【００３６】空隙層が多孔質固体微粒子と親水性バイン
ダーを含有するの空隙層を形成する場合、多孔質固体
微粒子は通常、平均粒径が大凡０．１μｍ以下の１次粒
子が凝集して２次粒子を形成したものが好ましく用いら
れる。そのような多孔質固体微粒子としては、炭酸カル
シウム、天然又は合成のシリカ、アルミナ、酸化亜鉛、
鉄粉などの２次凝集粒子が挙げられるが、中でも合成シ
リカ又はアルミナが好ましい。

【００３７】親水性バインダーに対して概ね等量以上の
容積及び／又は重量を有する固体微粒子と親水性バイン
ダーから成るの方法に用いられる固体微粒子としては
特に制限がなく、天然又は合成シリカ、アルミナ、水酸
化アルミニウム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、軽質炭酸カル
シウム、重質炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化
チタン、硫酸バリウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグ
ネシウム、カオリン、クレー、タルク、ゼオライト、珪
酸アルミニウム、珪藻土、マイカ、合成ハイドロタルサ
イト、チタン酸カリウム、塩基性硫酸マグネシウム、硼
酸アルミニウム等の各種微粒子を挙げることができる。
このような固体微粒子の詳細は、例えば「フィラー研究
会編，大成社刊，１９９４年５月３１日」に記載されて
いる。

【００３８】の方法における固体微粒子の粒径は、概
ね０．００３〜１０μｍであり、特に０．００６〜３μ
ｍが好ましい。又、親水性バインダーに対する固体微粒
子の比率は、容量で概ね１〜１０、好ましくは１．５〜
８の範囲であり、重量では概ね１〜１５、好ましくは
１．５〜１０の範囲である。

【００３９】更に、固体微粒子を、塗布液調製時又は皮
膜形成時に凝集させて２次粒子又は３次元構造を形成し
て空隙を形成するの方法に好ましく用いられる固体微
粒子としては、上記で用いられるものが用いられる
が、特に合成シリカが好ましい。

【００４０】合成シリカの中でも、気相法により合成さ
れた微粒子シリカ及び湿式法で合成されたコロイダルシ
リカが好ましく、特に気相法で合成された微粒子シリカ
は、表面のシラノール基が比較的少ないために軟凝集が
形成され易いので本発明の目的に適うものである。合成
シリカはシリカ単独であっても、その表面がアルミナ等
により表面処理されたものであってもよい。

【００４１】の空隙層に用いられる固体微粒子の平均
粒径は、概ね３〜２００ｎｍ、好ましくは６〜１００ｎ
ｍである。又、固体微粒子の親水性バインダーに対する
比率は、容量比で概ね０．５〜１０、好ましくは１〜８
であり、重量比で概ね０．５〜１５、好ましくは１〜１
０である。

【００４２】本発明の印刷版用材料が有する空隙層に用
いられる親水性バインダーとしては、塗膜状態で水を弾
くことがなければ使用可能である。即ち、水に対して溶
解性、膨潤性、給水性、濡れ性等の親和性を示せば使用
できる。

【００４３】塗膜に水を垂らした時の接触角として３０
度未満が好ましい。更に好ましくは１０度未満である。
水に溶解し、接触角が測定不能の場合も好ましい。

【００４４】このような親水性バインダーとしては、水
酸基、カルボキシル基、（２級又は３級）アミンを有す
る基、アミノ基、アミド基、カルバモイル基、スルホ
基、ホスホン酸基、メルカプト基等を有するバインダー
が挙げられる。

【００４５】具体的な親水性バインダーの例としては公
知の各種バインダーが使用でき、例えばゼラチン又はゼ
ラチン誘導体、カゼイン、アルギン酸、ポリアクリル酸
及びその塩、アラビアゴム、キサンテンガム、κ−カラ
ギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ロー
カストビーンガム、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、デキストラン、プルラン、ポ
リビニルアルコール又はその誘導体、ポリアクリルアミ
ド、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリコール、
特開平７−１９５８２６号及び同７−９７５７号に記載
のポリアルキレンオキシド系重合性ポリマー、ポリプロ
ピレングリコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニル
ブチラール等を挙げることができる。これらの中でもポ
リビニルアルコール又はその誘導体が好ましい。又、ゼ
ラチン又はゼラチン誘導体は、耐薬品性の点で好まし
い。

【００４６】親水性バインダーの平均分子量は特に制限
はないが、好ましくは２０００〜１００万である。好ま
しい親水性バインダー量は空隙層の膜厚及び固体微粒子
の比率によって決定されるが、０．１〜２０ｇ／ｍ²で
ある。

【００４７】本発明の印刷版用材料が有する空隙層の空
隙容量は特に制限はないが、好ましくは概ね０．０１ｍ
ｌ／ｍ²以上であることが好ましく、０．５ｍｌ／ｍ²以
上がより好ましい。空隙容量が０．０１ｍｌ未満である
場合には、保水性及び蓄水性が不十分であるため印刷時
に地汚れを生じ易く、一方、空隙容量が４０ｍｌを超え
る場合には、空隙層の乾燥膜厚が増加しすぎて皴割れや
支持体との接着不良が起こるなど、皮膜の物理的特性を
劣化し易い。特に好ましい空隙容量は０．５〜４０ｍｌ
／ｍ²である。

【００４８】又、空隙層の空隙率は特に制限はないが、
５％以上が好ましく、より好ましくは１５％以上、特に
好ましくは２０〜８０％である。空隙率が５％未満の場
合には保水性及び蓄水性が低下し、印刷時に水幅がやや
狭まる傾向がある。一方、空隙率が８０％を超えると空
隙層の強度が低下し易くなる傾向がある。

【００４９】空隙層の乾燥膜厚は、空隙率と空隙容量に
より主に決定されるが、好ましくは０．２〜６０μｍ、
特に好ましくは０．５〜４５μｍである。

【００５０】本発明の空隙層の空隙率は、空隙容量及び
空隙層の乾燥膜厚から以下の式で求められる。

【００５１】空隙率（％）＝（空隙容量／乾燥膜厚）×１００ここで、空隙容量の単位はｍｌ／ｍ²、乾燥膜厚の単位
はμｍである。ただし、空隙容量はＪ．ＴＡＰＰＩ，紙
パルプ試験方法Ｎｏ．５１（１９８７），紙及び板紙の
液体吸収性試験方法（ブリストー法）に記載された方法
で本発明の印刷版用支持体の空隙層を測定した時、吸収
時間が２秒における液体転移量（ｍｌ／ｍ²）で表され
る。尚、この時使用する液体は純水（イオン交換水）で
あるが、測定面積の判別を容易にするために２％未満の
水溶性染料を含有させてもよい。

【００５２】本発明の空隙層の空隙は、空隙層内部の空
隙がその空隙層と他の層及び／又は他の系の境界面（例
えば基体に直接空隙層を設けている場合の基体と空隙層
の界面、又、空隙層が最上層の場合には空隙層と外界と
の界面）に開口部を有することが好ましい。

【００５３】この開口部は、空隙層中の同一の空隙に対
して好ましくは少なくとも２箇所である。又、空隙層と
他の層及び／又は他の系との境界面は２面あるが、開口
部が少なくとも２箇所というのは、この内の片方の面に
少なくとも２箇所あってもよく、両方の面にそれぞれ少
なくとも１箇所あってもよい。特に好ましくは、それぞ
れの面に２カ所以上あることである。

【００５４】このように開口部を有する空隙層を形成す
る方法については任意であるが、例えば粒径が２倍以上
異なる２種類以上の固体微粒子を分散粒子として用いる
ことで可能である。

【００５５】本発明において、同一の空隙の開口部は、
好ましくは２〜３２箇所であり、更に好ましくは２〜１
６箇所である。尚、好ましい空隙容量は０．２〜１００
ｍｌ／ｍ²である。

【００５６】基体上に空隙層を有する本発明の印刷版用
材料の基体としては、平版印刷版用の公知の材料が全て
好適に使用される。

【００５７】具体的には、アルミニウム、亜鉛、クロ
ム、銅、マグネシウム、ニッケル、鉄等の金属及びそれ
らを主体とする合金板及びシート、紙、ガラス、セラミ
ックス等の無機板及びシート、表面をマット化して親水
化したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のような
プラスチック板及びシート、プラスチック板又はシート
上にアルミニウム、亜鉛、クロム等の金属層を積層した
板又はシート、任意の支持体上に親水性高分子化合物層
を設けたもの等が挙げられる。前記親水性高分子化合物
の例としては、セルロース誘導体、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ
エチレングリコール、ゼラチン、アラビアゴム等が好ま
しく用いられる。

【００５８】プラスチック系基体としては、ポリエステ
ルフィルム特にＰＥＴフィルム、とりわけ２軸延伸ＰＥ
Ｔフィルムが、水、熱に対する寸法安定性の点で好まし
い。又、寸法安定性の点からはポリエチレンナフタレー
ト（ＰＥＮ）フィルムも好ましく用いられる。その他、
アセテート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリイミド等のフィルムも
好ましく使用できる。

【００５９】これら基体の表面には、基体上に塗布する
層の塗布性及び接着性向上のため適当な下引処理を施す
ことが好ましい。又、表面にプラズマ処理、コロナ放電
処理等を施してもよい。更に、基体の表面又は裏面に
は、ハレーション防止等の目的で、染料や顔料を含むハ
レーション防止層を設けてもよい。

【００６０】又、基体の空隙層を設ける側と反対側の面
は、印刷版用記録材料の滑り性や露光時の原稿との密着
性向上等の目的により、表面がマット化していることが
好ましい。又、基体の空隙層と反対側の面にはバックコ
ート層を設けることが好ましい。このバックコートはシ
リコン樹脂などによって形成できる。

【００６１】上記基体の厚みは、通常１２〜２０００μ
ｍの範囲であり、好ましくは２０〜５００μｍである。

【００６２】次に、本発明の印刷版用材料の作製につい
て説明する。

【００６３】本発明の印刷版用材料は、前記本発明の空
隙層上に少なくとも１層の感光層又は感熱層を設けて成
る。

【００６４】本発明の感光層又は感熱層に用いられる化
合物は、放射線、特に光、熱に対して反応性があり、そ
の反応により画像を形成し得るだけの性質の変化を齎
す。これら感光性又は感熱性化合物としては、ポジ型及
びネガ型の何れをも用いることができる。

【００６５】ネガ型感光性組成物を構成する化合物とし
ては、ジアゾ化合物／アジド化合物を用いることができ
る。ジアゾ化合物とは分子中にジアゾ基を少なくとも１
個有する化合物を称し、脂肪族ジアゾ化合物、芳香族ジ
アゾ化合物を含むが、以下に記載するジアゾ樹脂が好ま
しい。又、アジド化合物とは、分子中にＮ₃基を少なく
とも１個有する化合物を称する。

【００６６】感光性組成物としては、ジアゾ化合物が１
種又は２種以上含有されるものでも、アジド化合物が１
種又は２種以上含有されるものでもよく、アジド化合物
とジアゾとが１種以上任意に組み合わせて含有されるも
のでもよい。ネガ型感光性組成物中のジアゾ化合物及び
／又はアジド化合物の含有量は、該感光性組成物の全固
形分の０．５〜４０重量％が好ましく、２〜３０重量％
がより好ましい。

【００６７】具体的には、以下のものが好ましい。即
ち、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド又はアセ
トアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であ
る。特に好ましくは、ｐ−ジアゾジフェニルアミンとホ
ルムアルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮合物の塩、
例えばヘキサフルオロ硼燐酸塩、テトラフルオロ硼酸
塩、過塩素酸塩又は過沃素酸塩と前記縮合物との反応生
成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許３，３００，
３０９号中に記載されるような、前記縮合物とスルホン
酸類（例えばパラトルエンスルホン酸又はその塩）、ホ
スフィン酸類（例えばベンゼンホスフィン酸又はその
塩）、ヒドロキシル基含有化合物（例えば２，４−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シ−ベンゾフェノン−５−スルホン酸又はその塩）との
反応生成物であるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。

【００６８】又、別のネガ型感光性化合物としては、光
重合型感光性組成物を用いることができる。光重合型感
光性組成物に用いる光重合性化合物は特に限定はなく、
公知の光重合型の化合物の何れをも使用することができ
る。

【００６９】光重合性化合物としては、例えば特公昭３
５−５０９３号、同３５−１４７１９号及び同４４−２
８７２７号に記載されているものが用いられ、ポリオー
ルのアクリル酸又はメタクリル酸エステル、例えばジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート；メチレンビス（メタ）
アクリルアミド、エチレンビス（メタ）アクリルアミド
のようなビス（メタ）アクリルアミド）類；及びウレタ
ン基を含有する不飽和単量体、例えばジ−（２′−メタ
クリロキシエチル）−２，４−トリレンジウレタン、ジ
−（２−アクリロキシエチル）トリメチレンジウレタン
等のようなジオールモノ（メタ）アクリレートとジイソ
シアナートとの反応生成物等が挙げられる。これらの光
重合性化合物の添加量は特に制限はないが、光重合型感
光性組成物中に１０〜８０重量％添加するのが好まし
い。

【００７０】光重合型感光性組成物には光重合開始剤を
含有させることができる。該光重合開始剤は任意である
が、例えば、Ｊ．Ｋｏｓａｒ著「ライト・センシシティ
ブ・システムズ」第５章に記載されるようなカルボニル
化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合
物、アゾ及びジアゾ化合物、ハロゲン化合物及び光還元
性色素などが挙げられる。具体的な光重合開始剤につい
ては、英国特許１，４５９，５６３号に開示されてお
り、これを本発明に適用できる。

【００７１】具体的には、例えばベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン〔４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン〕、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフ
ェノン、２−エチルアントラキノン、フェナントラキノ
ン及びその他の芳香族ケトンのような芳香族ケトン類；
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル及びベンゾインフェニルエーテルのような
ベンゾインエーテル類；メチルベンゾイン、エチルベン
ゾイン及びその他のベンゾイン類；２−（ｏ−クロロフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２
−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−（ｍ−メトキシフ
ェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メ
トキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、
２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェ
ニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプト
フェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、
及び、米国特許３，４７９，１８５号、英国特許１，０
４７，５６９号、米国特許３，７８４，５５７号に記載
の２，４，５−トリアクリルイミダゾール二量体等を挙
げることができるが、使用できる光重合開始剤はこれら
に限定されるものではない。

【００７２】その他の光重合開始剤として、２，４−ジ
エチルチオキサントン等のチオキサントン類を用いるこ
ともできる。この場合、光重合促進剤として公知の化合
物、例えばｐ−ジメチルアミノ安息香酸ｉ−アミルエス
テル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ
−メチルジエタノールアミン、ビスジエチルアミノベン
ゾフェノン等を用いることができる。これらの光重合開
始剤の添加量は特に制限はないが、光重合型感光性組成
物中に０．１〜２０重量％添加するのが好ましい。

【００７３】又、これらの光重合型感光性組成物には、
ジアゾ化合物、熱重合禁止剤及び可塑剤等を含有させる
ことができる。

【００７４】又、別のネガ型感光性化合物としては、光
架橋型化合物を用いることもできる。光架橋型化合物は
特に限定はなく、公知の光架橋型化合物の何れをも用い
得るが、好ましい一例として、光二量化可能な基を有す
る化合物を挙げることができる。

【００７５】上記光二量化可能基を有する化合物として
は、例えば下記一般式（１）〜（８）で示される構造を
有する化合物を挙げることができる。

【００７６】

【化１】

【００７７】一般式（１）〜（３）において、Ｒ₁はア
リール基又は複素環基を示し、これらの基は炭素数１〜
１０のアルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、アミノ
基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、シアノ基又はアジド基を有してもよい。Ｒ₂
は水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ
₃は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール
基、アルカノイル基又はシアノ基を示す。ｎは０〜５の
整数を示す。

【００７８】

【化２】

【００７９】

【化３】

【００８０】一般式（６）において、Ａｒはアリール基
を示し、Ｒ₄は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０のアルキル基又はシアノ基を示す。

【００８１】

【化４】

【００８２】上記化合物としては、例えば桂皮酸エステ
ル、β−フリルアクリル酸エステル、α−シアノ桂皮酸
エステル、ｐ−アジド桂皮酸エステル、β−スチリルア
クリル酸エステル、α−シアノ−β−スチリルアクリル
酸エステル、ｐ−フェニレンジアクリル酸エステル、ｐ
−（２−ベンゾイルビニル）桂皮酸エステル、β−ナフ
チルアクリル酸エステル、シンナミリデンピルビン酸エ
ステル、α−メチル−β−スチリルアクリル酸エステ
ル、α−フェニル−β−スチリルアクリル酸エステル、
α−シアノ−β−フリルアクリル酸エステル及びα−ジ
メチルアミノ桂皮酸エステル、更には上記のエステルに
対応するアミド、カルコン、ベンジリデンアセトン、ス
チルバゾール、スチルベン、α−フェニルマレイミド、
クマリン、ピロン、アントラセン、ジベンゾアゼピン又
はこれらの誘導等が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。

【００８３】これら光二量化可能な基を有する化合物
は、単独で又は２種以上の化合物を混合して使用するこ
とができる。

【００８４】光架橋型化合物には、上記光二量化可能な
基を有する化合物の他に、増感剤を使用することが好ま
しい。

【００８５】増感剤の代表的な例として、２，４，７−
トリニトロ−９−フルオレノン、５−ニトロアセナフテ
ン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２−
ニトロフルオレノン、１−ニトロピレン、Ｎ−アセチル
−４−ニトロ−１−ナフチルアミン、Ｎ−ベンゾイル−
４−ニトロ−１−ナフチルアミン、ミヒラーズケトン、
Ｎ−ブチルアクリドン、５−べンゾイルアセナフテン、
１，８−フタロイルナフタリン、１，２−ベンズアンス
ラセン、９，１０−フェナントラキノン、クロルベンズ
アンスロン、Ｎ−フェニルチオアクリドン、１，２−ベ
ンズアンスラキノン、Ｎ−メチル−２−ベンゾイルメチ
レン−β−ナフトチアゾール、２−クロルチオキサト
ン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソ
プロピルチオキサントン、エオシン、エリストシン及び
ピクラミド等を挙げることができるが、これらに限定さ
れるものではない。

【００８６】これらの増感剤の使用は必ずしも不可欠の
ものではないが、より長波長サイドの光利用効率を高め
る目的で使用される。

【００８７】上記のネガ型感光性組成物に用いられる感
光性化合物は、各々単独で、又は併用して用いることが
できる。

【００８８】一方、ポジ型感光性組成物を構成する感光
性化合物としてはキノンジアジド化合物が用いられる。
具体的には、１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スル
ホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−
スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジ
ド−６−スルホニルクロリド等の何れかと、ヒドロキシ
ル基及び／又はアミノ基含有化合物とを縮合させた化合
物が好適に用いられる。

【００８９】上記ヒドロキシル基含有化合物としては、
例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシア
ントラキノン、ビスフェノールＡ、フェノールノボラッ
ク樹脂、レゾルシンベンゾアルデヒド縮合樹脂及びピロ
ガロールアセトン縮合樹脂等が挙げられる。又、アミノ
基含有化合物としては、例えばアニリン、ｐ−アミノジ
フェニルアミン、ｐ−アミノベンゾフェノン、４，４′
−ジアミノジフェニルアミン、４，４−ジアミノベンゾ
フェノン等が挙げられる。

【００９０】上記ヒドロキシル基含有化合物としては、
フェノール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂と
のエステル化合物が好ましく用いられる。

【００９１】フェノール類としては、例えばフェノー
ル、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾール、３，５−キシレノー
ル、カルバクロール、チモール等の１価フェノール、カ
テコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の２価フェノー
ル、ピロガロール及びフロログルシン等の３価フェノー
ル等が挙げられる。

【００９２】アルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、
べンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド及びフルフラール等が挙げられる。これらの内、好
ましいものはホルムアルデヒド及びべンズアルデヒドで
ある。又、ケトンとしてはアセトン及びメチルエチルケ
トン等が挙げられる。

【００９３】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、ｍ−，ｐ−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。

【００９４】前記キノンジアジド化合物としては、特開
昭５８−４３４５１号に記載される以下の化合物も挙げ
ることができる。即ち、例えば１，２−ベンゾキノンジ
アジドスルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステル、１，２−ベンゾキノンジアジ
ドスルホン酸アミド、１，２−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸アミドなどの公知の１，２−キノンジアジド化
合物、具体的にはジエイ・コサール（Ｊ．Ｋｏｓａｒ）
著「ライト・センシティブ・システムズ」（Ｌｉｇｈｔ
−ＳｅｎｓｉｔｉｖｅＳｙｓｔｅｍｓ）（１９６５
年），ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ
Ｗｉ１ｅｙ＆Ｓｏｎｓ）社（ニューヨーク）やダブリュ
ー・エス・ディー・フォレスト（Ｗ．Ｓ．ＤｅＦｏｒ
ｅｓｔ）著「フォトレジスト」（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓ
ｔ）５０巻，（１９７５年），マグローヒル（ＭｃＧｒ
ａｗ−Ｈｉｌｌ）社（ニューヨーク）、永松，乾共著
「感光性高分子」，講談社（１９７７）の記載に従うこ
とができる。

【００９５】例えば、１，２−ベンゾキノンジアジド−
４−スルホン酸フェニルエステル、１，２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸−２，４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノンエステル、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸−２，３，４−トリヒドロキシベンゾ
フェノンエステル、１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸クロリド２モルと４，４′−ジアミノベン
ゾフェノン１モルの縮合物、１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸クロリド２モルと４，４′−ジヒ
ドロキシ−１，１′−ジフェニルスルホン１モルの縮合
物、１，２−キノンジアジド化合物等を挙げることがで
きる。又、特公昭３７−１９５３号、同３７−３６２７
号、同３７−１３１０９号、同４０−２６１２６号、同
４０−３８０１号、同４５−５６０４号、同４５−２７
３４５号、同５１−１３０１３号、特開昭４８−９６５
７５号、同４８−６３８０２号、同４８−６３８０３号
等に記載された１，２−キノンジアジド化合物をも挙げ
ることができる。

【００９６】上記キノンジアジド化合物の内、１，２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリドをヒド
ロキシル基含有化合物と縮合反応させて得られるキノン
ジアジドエステル化合物が特に好ましい。

【００９７】感光性組成物には各種のバインダーを使用
することができる。該バインダーとしては、公知の種々
のポリマーを使用することができる。

【００９８】具体的なバインダーの詳細については、米
国特許４，０７２，５２７号に記載されている。又、例
えばポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、アクリレー
ト系共重合体、酢酸ビニル系共重合体、フェノキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、未加硫
ゴム、ポリエーテル、ポリアミド、ユリア樹脂、アルキ
ド樹脂、メラミン樹脂、ガムロジン、ポリテルペン、ク
マロインデン樹脂、ポリアクリロニトリルブタジエン、
ポリ酢酸ビニル、ヒドロキシル基を有する親油性高分子
化合物（側鎖にアルコール性ヒドロキシル基を有するモ
ノマー、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート又は
２−ヒドロキシエチルメタクリレート等と他の共重合し
得るモノマーとの共重合体）、フェノール性ヒドロキシ
ル基を有する単量体（Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタ
クリルアミド、ｏ−、ｍ−又はｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｏ−、ｍ−又はｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレ
ート等）と他の共重合し得るモノマーとの共重合体、ヒ
ドロキシエチルアクリレート単位又はヒドロキシエチル
メタクリレート単位を主なる繰り返し単位として含むポ
リマー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニル
アルコール、ポリアミド樹脂、線状ポリウレタン樹脂、
ポリビニルアルコールのフタレート化樹脂、酢酸セルロ
ース、セルロースアセテートフタレート等のセルロース
誘導体、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンを縮合
したエポキシ樹脂、アルカリ可溶性樹脂（ノボラック樹
脂、フェノール性ヒドロキシル基を有するビニル系重合
体、多価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹
脂等）等が挙げられる。

【００９９】上記ノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール・クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重縮合樹脂、ｐ−置換フェノールとフェノール又
はクレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合樹脂等が
挙げられる。

【０１００】感光性組成物中には、以上に説明した各素
材の他に、必要に応じて更に以下の添加剤を使用するこ
ともできる。

【０１０１】例えば塗布性を改良するためのアルキルエ
ーテル類（エチルセルロース、メチルセルロース等）、
弗素系界面活性剤類や、ノニオン界面活性剤（プルロニ
ックＬ−６４：旭電化製）、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を
付与するための可塑剤（ブチルフタリル、ポリエチレン
グリコール、枸櫞酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、燐酸トリクレジル、燐酸トリブチル、燐酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等）、画
像部の感脂性を向上させるための感脂化剤（特開昭５５
−５２７号記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体の
アルコールによるハーフエステル化物、ｐ−ｔ−ブチル
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂やｐ−オクチルフェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、又はこれらの樹脂がキ
ノンジアジド化合物で部分的にエステル化されている樹
脂等）、安定剤〔燐酸、亜燐酸、有機酸（枸櫞酸、蓚
酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、４−
メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン−５−スルホ
ン酸、酒石酸等）、現像促進剤（高級アルコール、酸無
水化物等）、形態保持性を与えるための無機粉末（コロ
イダルシリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等）等が挙
げられる。又、米国特許３，３７０，９７１号及び同
２，９６５，５１１号に見られる酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、ｔ−ブチル安息香酸、極性基を有する有機色素
誘導体、例えば特公昭４１−２４６６号及び米国特許
２，７６１，８６５号に代表される、有機顔料を母体骨
格とし側鎖にスルホン基、スルホンアミド基、アミノメ
チル基及びフタルイミドメチル基等の置換基を導入して
得られる化合物、又は特開昭５６−１６７７６１号、同
５６−１６７７６２号、同５６−１６１８２７号等に記
載の化合物を添加するのが好ましい。

【０１０２】これら添加剤の添加量はその使用対象目的
によって異なるが、一般に、感光性組成物の全固形分に
対して０．０１〜３０重量％である。

【０１０３】本発明の感光性組成物は、上述したキノン
ジアジド化合物、光重合型及び／又は光架橋型化合物及
び／又はジアゾ化合物及び／又はアジド化合物等の感光
性化合物、それらと共に用いる結合剤（バインダー）及
び各々の添加剤を、下記有機溶媒を用いて溶解して調製
することができる。

【０１０４】溶媒としては、通常、塩化メチレン、クロ
ロホルム、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン、四塩化炭素等の塩素
系溶媒；フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリ
ルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶
媒；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶
媒；エチレングリコールモノメチル（又はエチル，プロ
ピル，ブチル）エーテル、ジエチレングリコールモノメ
チル（又はエチル，プロピル，ブチル）エーテル等のエ
チレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレング
リコールモノアルキルエーテル系溶媒；エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール
エチルエーテルアセテート、酢酸エチル等のエステル系
溶媒；ジメチルホルムアミド、メチルピロリドン、ニト
ロエタン、ニトロベンゼン等の含窒素化合物；メチルエ
チルケトン、メチルｉ−ブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン、４−メチル−４−メトキ
シ−２−ペンタノン等のケトン系溶媒；トルエン、キシ
レン等の芳香族系溶媒；ジメチルスルホキシド等が挙げ
られ、これらの内から１種あるいは複数種が適宜選択、
使用される。

【０１０５】上記感光性組成物層を設ける方法として
は、各組成物を溶媒に分散又は溶解して塗工液を調製
し、積層させる面に塗布・乾燥する塗工法や、剥離可能
なシ−ト上に前記の層を形成した後、積層させる基材面
上に加熱及び／又は加圧して該層のみを転写させる転写
法等により形成することができる。

【０１０６】この印刷版用材料には保護層を設けてもよ
い。この保護層としては公知の何れのものをも用いるこ
とができるが、現像に際して現像液に溶解又は分散する
ものが好ましい。それ以外は、画像露光した後に剥離す
る。

【０１０７】保護層を形成する材料としては、具体的に
はポリビニルアルコール、セルロース類等を挙げること
ができる。保護層のガス透過性は、用いる感光体の種類
に応じて適宜選択される。例えば、ｏ−キノンジアジド
のように露光時にガスを発生する感光体を用いた場合、
ガスを散逸させるためにガス透過性の良好な保護層を形
成する材料を用いることが好ましく、光重合型の感光体
のように空気中の酸素により画像形成が阻害される感光
体を用いた場合、ガス透過性の低い保護層を形成する材
料の使用が好ましい。

【０１０８】保護層の膜厚は任意であるが、保護層の効
果、現像液の影響等を考慮すると０．０１〜５μｍ程
度、特に０．０３〜１μｍとすることが好ましい。

【０１０９】又、保護層は、使用前又は使用中に剥離・
除去するフィルムシートを用いて形成することができ
る。これらフィルムシートとしては、例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等の
フィルムが挙げられる。フィルムの好ましい厚みは、用
いるフィルムの材質によって異なるが、作業性、経済性
の点から５〜１００μｍ程度が好ましい。

【０１１０】本発明の印刷版用材料を用いて印刷版を作
製するには、印刷版用材料を放射線にて画像様に露光し
た後、適当な現像手段（加熱、加圧による転写、剥離、
現像液への浸漬など）により現像し、感光層を画像様に
除去し、親水性の部分と親油性の部分とを形成させれば
よい。

【０１１１】本発明に用いる現像液は、印刷版用材料を
現像する現像作用を有するものであれば任意に用いるこ
とができるが、好ましくはアルカリ性の水性現像液が用
いられる。この現像液（補充液を含む）に用いられるア
ルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三燐酸ナトリウ
ム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸カリウム、第二燐酸
カリウム、第三燐酸アンモニウム、第二燐酸アンモニウ
ム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムのような無機
アルカリ剤、モノ−、ジ−又はトリエタノールアミン及
び水酸化テトラアルキルアンモニウムのような有機アル
カリ剤及び有機珪酸アンモニウム等が有用である。これ
らの中でも珪酸塩が好ましく、アルカリ金属珪酸塩が最
も好ましい。

【０１１２】アルカリ剤の現像液中における含有量は特
に制限はないが、０．０５〜２０重量％の範囲が好適で
あり、より好ましくは０．１〜１０重量％である。

【０１１３】現像液には有機溶剤、水溶性還元剤、界面
活性剤、キレート剤等の添加剤を添加することができ
る。このような有機溶剤としては、例えば酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジ
ル、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブ
チル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル；
エチルブチルケトン、メチルｉ−ブチルケトン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテ
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール、メチルフェニルカルビノール、アミルア
ルコール、メチルアミルアルコールのようなアルコール
類；エチレングリコール、プロピレングリコールのよう
なグリコール類；キシレンのようなアルキル置換芳香族
炭化水素；メチレンジクロリド、エチレンジクロリド、
モノクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素等が挙
げられる。これら有機溶媒は１種以上用いてもよい。こ
れらの有機溶媒の中では、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテル及
びベンジルアルコール、プロピレングリコールが特に好
ましい。

【０１１４】現像液には、更に現像性能を高めるために
以下のような添加剤を加えることができる。例えば、特
開昭５８−７５１５２号記載の食塩、塩化カリウム、臭
化カリウム等の中性塩、特開昭５８−１９０９５２号記
載のエチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸等のキレ
ート剤、特開昭５９−１２１３３６号記載の［Ｃｏ（Ｎ
Ｈ₃）₆］Ｃｌ₃等の錯体、特開昭５５−９５９４６号記
載のｐ−ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルク
ロリド４級化物等のカチオニックポリマー、特開昭５６
−１４２５２８号記載のビニルベンジルトリメチルアン
モニウムクロリドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等
の両性高分子電解質、特開昭５７−１９２９５２号記載
の還元性無機塩、特開昭５８−５９４４４号記載の塩化
リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭５０−３４４
４２号記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合
物、特公昭５９−７５２５５号記載のＳｉ、Ｔｉ等を含
む有機金属界面活性剤、特開昭５９−８４２４１号記載
の有機硼素化合物、高級アルコール硫酸エステル類、脂
肪族アルコールリン酸エステル塩類、アルキルアリール
スルホン酸塩類、二塩基脂肪族エステルのスルホン酸塩
類、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒ
ド縮合物、アルキルアミドスルホン酸塩類等のアニオン
界面活性剤等が挙げられる。

【０１１５】次に、本発明の印刷版用材料を用いて印刷
版を作製するもう一つの態様を説明する。それは、印刷
版用材料の空隙層のある側と、基体上に少なくとも１層
の転写性物質を含む感熱転写層（以下、単に転写層又は
画像層ともいう）を有するドナーシートの転写層とを重
ね合わせ、熱、光及び圧力の少なくとも一つを用いて画
像様に転写する方法である。

【０１１６】本発明に用いられるドナーシートは、基体
上に少なくとも１層の転写層（転写性物質を含む層）を
有し、像様に与えられる熱、光及び圧力の少なくとも一
つに感応して、物理的、化学的性質の変化を生じ、昇
華、溶融、アブレーション等の現象により印刷版支持体
上に像様に転写像を生じるものを言う。この変化の方式
により、ドナーシートは、昇華転写シート、溶融転写シ
ート及びアブレーション転写シートと称する。

【０１１７】ドナーシートの基体としては、プロピレ
ン、ポリスチレン等がラミネートされた紙；二酢酸セル
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸セルロース、酪酸・酢酸セルロース、硝酸セルロー
ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリビ
ニルアセタール等のプラスチックフィルムが好適であ
る。

【０１１８】プラスチック表面を有する基体の場合に
は、化学的処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高
周波グロー放電処理、活性プラズマ処理等の表面処理が
行われていることが好ましい。更に、紙あるいはプラス
チック基体の場合は、親水性の表面塗工が行われている
ことが好ましい。好ましい表面塗工の例としては、親水
性樹脂中にコロイダルシリカのような親水性粒子を分散
した塗布液より得られる粗面化表面塗工などが挙げられ
る。

【０１１９】ドナーシート基体の好ましい膜厚は７５〜
２００μｍである。

【０１２０】本発明の転写層は、親水性支持体表面上に
画像形成したものを印刷版として使用するため、画像部
分は親油性であることが好ましい。言い換えれば、非画
像部分よりも画像部分の方が着インキ性が高いことが重
要である。このような特性を付与するためには画像部と
非画像部の水に対する接触角が２０度以上、好ましくは
４０度以上異なることが好ましい。

【０１２１】昇華転写シートは、昇華性を有する化合物
を含有する感熱転写層を支持体上に設けて成る。この昇
華性を有する化合物としては、公知の熱転写用色素の他
に、転写シートの熱転写層が軟化又は溶融しない適当な
温度及び圧力下で、固体から液体を経ずに気体に昇華す
る化合物を用いることができる。昇華性化合物は、有色
のものであっても、無色のものであっても構わない。

【０１２２】昇華性化合物の代表的具体例として、特開
平７−１７１９４１号の（５）〜（９）頁に記載のニト
ロ染料、アゾ染料、アントラキノン染料等が挙げられ
る。

【０１２３】昇華性化合物が、露光するレーザーの波長
光に対する吸光度が低い場合には、基材上にレーザーの
特定波長光を吸収し熱に変換する光熱変換材を含有する
光熱変換層を設けるか、又は光熱変換材を昇華性化合物
含有層に含有させることが好ましい。光熱変換材は、各
種染料、顔料からレーザーの波長に合わせて適宜選択す
ることができる。

【０１２４】昇華性を有する化合物を含有する層を形成
するためのバインダーとしては、セルロース付加化合
物、セルロースエステル、セルロースエーテル等のセル
ロース系樹脂；ポリビニルアルコール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチ
ラール等のポリビニルアセタール系樹脂；ポリビニルピ
ロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、スチ
レン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸系エステル、ポリ
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸共重合体など
のビニル系樹脂；ゴム系樹脂、アイオノマー樹脂、オレ
フィン系樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。

【０１２５】昇華性化合物とバインダーとの組成比は、
１：２０〜５：１（重量比）の範囲が好ましく、より好
ましくは１：５〜４：１である。又、昇華性化合物含有
層の厚みは、通常０．０５〜２０μｍであり、好ましく
は０．１〜１０μｍである。昇華性化合物層は単層とし
てしてもよく、又、必要に応じて、組成等が同一の又は
相違する２層以上の多層構造としてもよい。

【０１２６】溶融転写シートは、支持体上に熱溶融性又
は熱軟化性を有する化合物を含む感熱転写層（熱溶融性
層）を設けて成る。

【０１２７】上記熱溶融性層には、熱溶融性物質、熱可
塑性樹脂から選ばれる化合物が少なくても１種含有され
る。熱溶融性物質は、通常、柳本ＭＪＰ−２型を用いて
測定した融点が４０〜１５０℃の範囲内にある固体又は
半固体の物質である。具体的には、カルナウバ蝋、木
蝋、オウリキュリー蝋、エスパル蝋等の植物蝋；蜜蝋、
昆虫蝋、セラック蝋、鯨蝋等の動物蝋；パラフィンワッ
クス、マイクロクリスタルワックス、ポリエチレンワッ
クス、エステルワックス、酸ワックス等の石油蝋；並び
にモンタン蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱物蝋等の
ワックス類を挙げることができ、更にこれらのワックス
類などの他に、パルミチン酸、ステアリン酸、マルガリ
ン酸、ベヘン酸等の高級脂肪酸；パルミチルアルコー
ル、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、マル
ガニルアルコール、ミリシルアルコール、エイコサノー
ル等の高級アルコール；パルミチン酸セチル、パルミチ
ン酸ミリシル、ステアリン酸セチル、ステアリン酸ミリ
シル等の高級脂肪酸エステル；アセトアミド、プロピオ
ン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミ
ド、アミドワックス等のアミド類；並びにステアリルア
ミン、ベヘニルアミン、パルミチルアミン等の高級アミ
ン類などが挙げられる。

【０１２８】又、熱可塑性樹脂としては、エチレン系共
重合体、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセター
ル系樹脂、アイオノマー樹脂、石油系樹脂等の樹脂類；
天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、
クロロプレンゴム、ジエン系コポリマー等のエラストマ
ー類；エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフ
ェノール樹脂、水添ロジン等のロジン誘導体；並びにフ
ェノール樹脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹
脂、芳香族系炭化水素樹脂等の高分子化合物などを挙げ
ることができる。熱溶融性物質及び熱可塑性物質を適宜
に選択することにより、所望の熱軟化点又は熱溶融点を
有する熱溶融性層を形成することができる。

【０１２９】熱溶融性層には必要に応じて着色剤を含有
することもできる。着色剤としては、無機顔料（二酸化
チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、
プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄ならびに
鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等）及
び有機顔料（アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン
系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の
顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘
導体、キナクリドン顔料等）などの顔料ならびに染料
（酸性染料、直接染料、分散染料、油溶性染料、含金属
油溶性染料又は昇華性色素等）を挙げることができる。
又、後述する親油性バインダーや反応性化合物を添加す
ることもできる。

【０１３０】熱溶融性層の、露光するレーザーの波長光
に対する吸光度が低い場合には、基材上にレーザーの特
定波長光を吸収し熱に変換する光熱変換材を含有する光
熱変換層を設けるか、又は光熱変換材を熱溶融性化合物
層に含有させることが好ましい。光熱変換材としては、
各種染料、顔料からレーザーの波長に合わせて適宜選択
することができる。好ましい熱溶融性層の厚さは０．２
〜２μｍ、更に好ましくは０．３〜１．５μｍである。

【０１３１】本発明においてアブレーション転写シート
を用いる場合には、アブレーションプロセスによって本
発明の印刷版支持体上に転写画像を形成することで印刷
版を作製する。

【０１３２】「アブレーションプロセス」とは、放射線
の放射によって放射線を照射された部分の画像層の急激
なガスの発生等によって該画像層の少なくとも一部が隣
接する被記録媒体へ転写し、該被記録媒体上に転写画像
を形成する方法を意味し、特表平６−５１０４９０号に
おいて「レーザー誘導除去転写画像形成」と称されてい
る方法と同意である。

【０１３３】上記画像層は、レーザー光を吸収し熱に変
換し、それによって画像層の爆融（アブレーション）を
起こし、この爆融によって画像層の少なくとも一部が被
記録媒体へ転写されて該被記録媒体に画像を形成するこ
とができる層である。

【０１３４】画像層は、光を吸収して熱に変換する物質
光熱変換材を含有する。光熱変換材としては、光源によ
っても異なるが、光を吸収し効率良く熱に変換する物質
が好ましく、例えば半導体レーザーを光源として使用す
る場合には、近赤外に吸収を持つものが好ましい。この
ような物質として、例えば、各種シアニン色素を初めと
して、アントラキノン系、インドアニリン金属錯体系、
アズレニウム系、クロコニウム系、スクアリウム系、ジ
チオール金属錯体系、キレート系、ナフタロシアニン金
属錯体系等の色素を用いることができる。その他、近赤
外吸収色素として、特開昭６２−１２３４５４号、特開
平３−１４６５６５号等に記載の化合物、カーボンブラ
ック、グラファイト等を挙げることができる。この他に
も光熱変換材として金属蒸着膜や、磁性体を分散した膜
なども好適である。中でも酸化鉄、鉄、酸化クロム、等
磁性材料に用いられる様な金属微粒子を光熱変換材とす
ることが好ましい。金属微粒子を光熱変換材として用い
ると、単位膜厚当たりの透過濃度を色素やカーボンブラ
ック等に比べて高く設定することが可能であること、金
属蒸着などと違い塗布により塗設可能なためコストや品
質管理の面で好ましい等の有利な点が多い。

【０１３５】いずれにせよ、画像層をアブレーションプ
ロセスに適した光吸収層とするためには、単位膜厚当た
りの透過濃度が３．０／μｍ以上であることが好まし
い。単位膜厚当たりの透過濃度を高く設定することで、
レーザー光を照射した時の発熱部位をより狭くすること
ができ、結果として露光時の到達温度を高くすることが
でき、アブレーションが起こり易くなる。

【０１３６】画像層はバインダーを含有することができ
る。バインダーとしては、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース等のセルロール類、ポリウ
レタン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、アクリル樹脂
等広範囲の素材を使用できる。また、後記する熱可塑性
バインダー及び親油性バインダーを含有させることもで
きる。金属微粒子を光熱変換材として用いる場合には、
上記バインダーにスルホ基、カルボキシル基等分散性の
官能基を導入することが好ましい。平版印刷版に適用す
る場合には、印刷適性を持たせる為に画像層に親油性の
バインダーを含有させることが望ましい。親油性のバイ
ンダーとしては酸価が１０〜２５０の親油性高分子化合
物が好ましい。

【０１３７】酸価が１０〜２５０の範囲の親油性高分子
化合物としては、例えば、ポリアミド、ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリ
ビニルクロライド及びそのコポリマー、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、
エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等が挙げ
られる。

【０１３８】これらの中で好ましい高分子重合体は、下
記（１）〜（１７）に記載のモノマーの混合物を共重合
して得られた共重合高分子重量体である。

【０１３９】上記モノマー混合物には、上記モノマーと
共重合し得る他のモノマーを混合してもよい。また、高
分子重合体は、上記モノマーの共重合によって得られる
共重合体を、例えば、グリシジルアクリレート、グリシ
ジルメタクリレート等によって修飾したものであっても
よい。

【０１４０】（１）芳香族水酸基を有するモノマー；例
えばｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。

【０１４１】（２）脂肪族水酸基を有するモノマー；例
えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシ
ブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒド
ロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシヘキシ
ルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレー
ト、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒドロ
キシエチルビニルエーテル等。

【０１４２】（３）アミノスルホニル基を有するモノマ
ー；例えばｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。

【０１４３】（４）スルホンアミド基を有するモノマ
ー；例えばＮ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミ
ド等。

【０１４４】（５）α，β−不飽和カルボン酸類；例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。

【０１４５】（６）置換又は無置換のアルキルアクリレ
ート；例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、
アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−
２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リレート、グリシジルアクリレート等。

【０１４６】（７）置換又は無置換のアルキルメタクリ
レート；例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸
ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メ
タクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート等。

【０１４７】（８）アクリルアミドもしくはメタクリル
アミド類；例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、
Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニル
アクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−
ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒド
ロキシフェニル）メタクリルアミド等。

【０１４８】（９）弗化アルキル基を含有するモノマ
ー；例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフル
オロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルア
クリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、
ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオ
ロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタ
クリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、
ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロ
オクチルスルホンアミド等。

【０１４９】（１０）ビニルエーテル類；例えばエチル
ビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテメ、プ
ロピルビニルエーテル、ブチルビニエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。

【０１５０】（１１）ビニルエステル類；例えばビニル
アセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。

【０１５１】（１２）スチレン類；例えばスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等。

【０１５２】（１３）ビニルケトン類；例えばメチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトン等。

【０１５３】（１４）オレフィン類；例えばエチレン、
プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン
等。

【０１５４】（１５）Ｎ−ビニル複素環化合物；例えば
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−
ビニルピリジン等。

【０１５５】（１６）シアノ基を有するモノマー；例え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテ
ンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シ
アノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シ
アノスチレン、ｐ−シアノスチレン等。

【０１５６】（１７）アミノ基を有するモノマー；例え
ばＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレ
タンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アク
リロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。

【０１５７】上記共重合体は、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された重量平
均分子量が１万〜２０万であるものが好ましいが、重量
平均分子量はこの範囲に限定されるものではない。

【０１５８】画像層には、加熱、加圧及び光照射の少な
くとも一つの画像接着手段によって被記録媒体との接着
性を向上させることができるような反応性化合物を含有
させることが好ましい。該反応性化合物としては、ラジ
カル重合性化合物、カチオン重合性化合物、ジアゾ化合
物、カップリング剤等を用いることができる。

【０１５９】上記ラジカル重合性化合物には通常の光重
合性化合物及び熱重合性化合物が包含される。ラジカル
重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和
結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能
なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物
であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマ
ー、ポリマー等の化学形態をもつものが含まれる。ラジ
カル重合性化合物は１種のみ用いてもよく、また目的と
する特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用
してもよい。

【０１６０】ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、
ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレ
ン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエー
テル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル
重合性化合物が挙げられる。具体的には、２−エチルヘ
キシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス
（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールジアクリレート、エチレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレ
ート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシア
クリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレー
ト、ｎーブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタク
リレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタク
リル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジア
リルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル
化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三
ら編「架橋剤ハンドブック」（１９８１年大成社）や加
藤清視編「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」
（１９８５年，高分子刊行会）、ラドテック研究会編
「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」７９頁，（１９８
９年，シーエムシー）、滝山栄一郎著「ポリエステル樹
脂ハンドブック」（１９８８年，日刊工業新聞社）に記
載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし
架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いるこ
とができる。

【０１６１】ラジカル重合性化合物にはラジカル重合開
始剤を併用することが好ましい。ラジカル重合開始剤と
しては、特公昭５９−１２８１号、同６１−９６２１
号、及び特開昭６０−６０１０４号等に記載のトリアジ
ン誘導体；特開昭５９−１５０４号、同６１−２４３８
０７号に記載の有機過酸化物；特公昭４３−２３６８４
号、同４４−６４１３号、同４７−１６０４号、並びに
米国特許３，５６７，４５３号に記載のジアゾニウム化
合物；米国特許２，８４８，３２８号、同２，８５２，
３７９号及び同２，９４０，８５３号に記載の有機アジ
ド化合物；特公昭３６−２２０６２、同３７−１３１０
９号、同３８−１８０１５号、同４５−９６１０号に記
載のｏ−キノンジアジド類；特公昭５５−３９１６２
号、特開昭５９−１４０２３号、及び「マクロモレキュ
ルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ），１０巻，１３
０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物；特
開昭５９−１４２２０５号記載のアゾ化合物、特開平１
−５４４４０号、ヨーロッパ特許１０９，８５１号、同
１２６，７１２号、「ジャーナル・オブ・イメージング
・サイエンス」（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」，３０
巻，１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体；特
開平５−２１３８６１号、同５−２５５３４７号記載の
（オキソ）スルホニウム有機硼素錯体；特開昭６１−１
５１１９７号記載のチタノセン類；「コーディネーショ
ン・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏ
ｎＣｈｅｍｉｓｔｒｙＲｅｖｉｅｗ）」，８４巻，
８５〜２７７頁）（１９８８年）及び特開平２−１８２
７０１号記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移
金属錯体；特開平３−２０９４７７号記載の２，４，５
−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開
昭５９−１０７３４４号記載の有機ハロゲン化合物等が
挙げられる。これらの重合開始剤はラジカル重合可能な
エチレン不飽和結合を有する化合物１００重量部に対し
て０．０１〜１０重量部の範囲で含有されるのが好まし
い。

【０１６２】ラジカル重合性化合物を含有する画像層に
は、保存時の重合を防止する目的で熱重合防止剤を含有
させることができる。添加可能な熱重合防止剤の具体例
としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、
アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、ｔ−ブチル
カテコール、フェノチアジン等を挙げることができ、こ
れらの熱重合防止剤は、ラジカル重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物１００重量部に対して０．０
０１〜５重量部の範囲で添加されるのが好ましい。

【０１６３】ラジカル重合性化合物を含有する画像層に
は、更に重合を促進する目的でアミンやチオール、ジス
ルフィド等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を
含有させることができる。これら重合促進剤や連鎖移動
触媒の具体例としては、例えばＮ−フェニルグリシン、
トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の
アミン類；米国特許４，４１４，３１２号や特開昭６４
−１３１４４号記載のチオール類；特開平２−２９１６
１号記載のジスルフィド類、米国特許３，５５８，３２
２号や特開昭６４−１７０４８号記載のチオン類；特開
平２−２９１５６０号記載のｏ−アシルチオヒドロキサ
メートやＮ−アルコキシピリジンチオン類が挙げられ
る。

【０１６４】ラジカル重合性化合物を含有する画像層に
は、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤として、一
般にラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公
知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させること
ができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネルギーを
与えることにより重合性のラジカルを発生することが可
能な化合物である。

【０１６５】この様な化合物としては、例えば２，２′
−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビスプ
ロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物；過酸化
ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過安
息香酸ｔ−ブチル、α−クミルヒドロパーオキサイド、
ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピ
ルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカルバメ
ート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機過酸
化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸
カリウム等の無機過酸化物；ジアゾアミノベンゼン、ｐ
−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換アルカン
類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフォン類
等のアゾ又はジアゾ系化合物；ニトロソフェニル尿素、
テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリールジスル
フィド類、ジベンゾイルジスルフィド、テトラアルキル
チウラムジスルフィド類、ジアルキルキサントゲン酸ジ
スルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリールアル
キルスルホン類、１−アルカンスルフィン酸類等を挙げ
ることができる。これらの中で特に好ましいものは、常
温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分
解時に無色となる化合物であり、このようなものとして
は、過酸化ベンゾイル、２，２′−アゾビスイソブチロ
ニトリル等を挙げることができる。又、これらの熱重合
開始剤を１種又は２種以上混合して用いることができ
る。熱重合開始剤は、熱重合性の画像層形成組成物中、
通常０．１〜３０重量％が好ましく、０．５〜２０重量
％の範囲がより好ましい。

【０１６６】カチオン重合性化合物としては、下記
（１）〜（４）に示すようなカチオン重合性モノマーが
挙げられる。

【０１６７】（１）スチレン誘導体

【０１６８】

【化５】

【０１６９】式中、Ｒ₁₁，Ｒ₁₂及びＲ₁₃は各々、水素原
子又はアルキル基を、Ｒ₁₄は水素原子、アルキル基又は
アルコキシ基を表す。

【０１７０】例えばスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ
−メトキシスチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチル
−β−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メト
キシ−β−メチルスチレン等（２）ビニルナフタレン誘導体

【０１７１】

【化６】

【０１７２】式中、Ｒ₁₁，Ｒ₁₂及びＲ₁₃は各々、水素原
子又はアルキル基を、Ｒ₁₄は水素原子、アルキル基又は
アルコキシ基を表す。

【０１７３】例えば１−ビニルナフタレン、α−メチル
−１−ビニルナフタレン、β−メチル−１−ビニルナフ
タレン、４−メチル−１−ビニルナフタレン、４−メト
キシ−１−ビニルナフタレン等（３）ビニルエーテル類

【０１７４】

【化７】

【０１７５】式中、Ｒ₂₁，Ｒ₂₂及びＲ₂₃は各々、水素原
子、ハロゲン原子又はアルキル基を、Ｒ₂₄はアルキル基
又は芳香環基を表す。

【０１７６】例えばｉ−ブチルビニルエーテル、エチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メチル
フェニルビニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニル
エーテル、α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メ
チルイソブチルビニルエーテル、β−クロロイソブチル
ビニルエーテル等（４）Ｎ−ビニル化合物例えばＮ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−
ビニルフェノチアジン、Ｎ−ビニルアセトアニリド、Ｎ
−ビニルエチルアセトアミド、Ｎ−ビニルスクシンイミ
ド、Ｎ−ビニルフタルイミド、Ｎ−ビニルカプロラクタ
ム、Ｎ−ビニルイミダゾール等。

【０１７７】カチオン重合性化合物はカチオン重合開始
剤を併用することが好ましい。カチオン重合開始剤とし
ては、次のようなジアゾニウム化合物を用いることがで
きる。

【０１７８】（１）ｐ−モノ（又はジ）アルキルベンゼ
ンジアゾニウム誘導体

【０１７９】

【化８】

【０１８０】式中、Ｒ₃₁及びＲ₃₂は、各々水素原子（た
だし、両者同時に水素原子になることはない）又はアル
キル基を表す。又、Ｒ₃₁とＲ₃₂が結合してシクロアルキ
ル環又は異項環を形成してもよい。Ｒ₃₃は任意の置換基
を表し、Ｘ₁ ^-はＣｌ^-、Ｂｒ^-又はＩ^-を表し、Ｘ₂はＡｌ
Ｃｌ₂、１／２ＺｎＣｌ₂又は１／４ＳｎＣｌ₄を表す。

【０１８１】例えば４−メチルアミノベンゼンジアゾニ
ウムテトラフロロボレート、４−メチルアミノベンゼン
ジアゾニウムクロライドアルミニウムクロライド複塩、
２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼンジアゾニ
ウムテトラフロロボレート、２，５−ジブトキシ−４−
モルホリノベンゼンジアゾニウムクロライドジンククロ
ライド複塩等（２）２，５−置換−４−アシルアミドベンゼンジアゾ
ニウム誘導体

【０１８２】

【化９】

【０１８３】式中、Ｒ₄₁はアルキル基又はアリール基
を、Ｒ₄₂及びＲ₄₃は各々、アルキル基又はアルコキシ基
を表す。Ｘ₁ ^-及びＸ₂は前記「化８」のＸ₁ ^-及びＸ₂と同
義である。

【０１８４】例えば２，５−ジエトキシ−４−ベンゾイ
ルアミノベンゼンジアゾニウムテトラフロロボレート等（３）４−フェニルアミノベンゼンジアゾニウム誘導体

【０１８５】

【化１０】

【０１８６】式中、Ｒ₄₂及びＲ₄₃は各々、前記「化９」
のＲ₄₂及びＲ₄₃と、Ｘ₁ ^-及びＸ₂は前記「化８」のＸ₁ ^-
及びＸ₂と、それぞれ同義である。

【０１８７】例えば４−フェニルアミノベンゼンジアゾ
ニウムテトラフロロボレート等（４）硫黄含有ジアゾ化合物

【０１８８】

【化１１】

【０１８９】式中、Ｒ₅₁はアルキル基又はアリール基を
表し、Ｒ₅₂はアルキル基又はアルコキシ基を表す。Ｘ₁ ^-
及びＸ₂は前記「化８」のＸ₁ ^-及びＸ₂と同義である。

【０１９０】例えば２−メトキシ−４−フェニルチオベ
ンゼンジアゾニウムテトラフロロボレート等。

【０１９１】以上、光分解性芳香族ジアゾ化合物の代表
例を列挙したが、勿論これ等に限定されるものではな
く、従来ジアゾ写真法に利用されている多数の光分解性
芳香族ジアゾ化合物のテトラフロロボレート、ＡｌＣｌ
₃，１／２ＺｎＣｌ₂及び１／４ＳｎＣｌ₄複塩を使用す
ることができる。

【０１９２】カチオン重合開始剤としては、芳香族オニ
ウム塩が好ましく、これには周期律表第Ｖａ族元素の
塩、例えばホスホニウム塩（ヘキサフルオロリン酸トリ
フェニルフェナシルホスホニウム）、第VIａ族元素の
塩、例えばスルホニウム塩（テトラフルオロ硼酸トリフ
ェニルスルホニウム、ヘキサフルオロ燐酸トリフェニル
スルホニウム、ヘキサフルオロ燐酸トリス（４−チオメ
トキシフェニル）スルホニウム及びヘキサフルオロアン
チモン酸トリフェニルスルホニウム）、及び第VIIａ族
元素の塩、例えばヨードニウム塩（塩化ジフェニルヨー
ドニウム）等が含まれる。

【０１９３】芳香族オニウム塩をエポキシ化合物の重合
に際しカチオン重合開始剤として使用することは、米国
特許４，０５８，４０１号、同４，０６９，０５５号、
同４，１０１，５１３号、同４，１６１，４７８号等に
詳述されている。

【０１９４】好ましいカチオン重合開始剤としては、第
VIａ族元素のスルホニウム塩が挙げられる。中でも、紫
外線硬化性と紫外線硬化組成物の貯蔵安定性の観点から
は、ヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスルホニ
ウムが好ましい。

【０１９５】本発明の反応性化合物として用いられるジ
アゾ化合物は感光性化合物として機能するものであれ
ば、任意のものを用いることができるが、例えば芳香族
ジアゾニウム化合物とカルボニル化合物との縮合樹脂が
挙げられる。

【０１９６】この縮合樹脂としては、下記一般式（１
１）又は（１２）で表される構造を有するジアゾ樹脂が
好ましい。

【０１９７】

【化１２】

【０１９８】式中、Ｒ₆₀は水素原子、アルキル基又はフ
ェニル基を表し、Ｒ₆₁，Ｒ₆₂及びＲ₆₃は各々、水素原
子、アルコキシ基又はアルキル基を表し、Ｘ₃ ^-は対アニ
オンを示す。Ｙは−ＮＨ−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、
ｍは整数を表す。

【０１９９】

【化１３】

【０２００】式中、Ａは、芳香族基を表し、Ｒ₆₀，
Ｒ₆₁，Ｒ₆₂，Ｒ₆₃，Ｘ₃ ^-，Ｙ及びｍは、それぞれ上記一
般式（１１）で用いられたものと同義である。

【０２０１】一般式（１１）又は（１２）で表されるジ
アゾ樹脂の構造単位とする芳香族ジアゾニウム化合物に
は、例えば特公昭４９−４８００１号に挙げられるよう
なジアゾニウム塩を用いることができるが、特にジフェ
ニルアミン−４−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェ
ニルアミン−４−ジアゾニウム塩類は、４−アミノジフ
ェニルアミン類から誘導されるが、このような４−アミ
ノジフェニルアミン類としては、４−アミノジフェニル
アミン、４−アミノ−３−メトキシジフェニルアミン、
４−アミノ−２−メトキシジフェニルアミン、４′−ア
ミノ−２−メトキシジフェニルアミン、４′−アミノ−
４−メトキシジフェニルアミン、４−アミノ−３−メチ
ルジフェニルアミン、４−アミノ−３−エトキシジフェ
ニルアミン、４−アミノ−３−（β−ヒドロキシエトキ
シ）ジフェニルアミン、４−アミノジフェニルアミン−
２−スルホン酸、４−アミノジフェニルアミン−２−カ
ルボン酸、４−アミノジフェニルアミン−２′−カルボ
ン酸等を挙げることができる。これらのうち、特に好ま
しいものとしては、４−アミノジフェニルアミン、４−
アミノ−３−メトキシジフェニルアミンを挙げることが
できる。

【０２０２】一般式（１２）において、Ａで表される芳
香族基を与えるために用いることができる芳香族化合物
の具体例としては、ｍ−クロロ安息香酸、ジフェニル酢
酸、フェノキシ酢酸、ｐ−メトキシフェニル酢酸、ｐ−
メトキシ安息香酸、２，４−ジメトキシ安息香酸、２，
４−ジメチル安息香酸、ｐ−フェノキシ安息香酸、４−
アニリノ安息香酸、４−（ｍ−メトキシアニリノ）安息
香酸、４−（ｐ−メチルベンゾイル）安息香酸、４−
（ｐ−メチルアニリノ）安息香酸、フェノール、クレゾ
ール、キシレノール、レゾルシン、２−メチルレゾルシ
ン、メトキシフェノール、エトキシフェノール、カテコ
ール、フロログルシン、ｐ−ヒドロキシエチルフェノー
ル、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、ｐ−ヒ
ドロキシベンジルアルコール、４−クロロレゾルシン、
ビフェニル−４，４′−ジオール、１，２，４−ベンゼ
ントリオール、ビスフェノールＡ、２，４−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン、４，４′−
ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４′−ジメトキ
シジフェニルエーテル、４，４′−ジヒドロキシジフェ
ニルアミン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフ
ィド、クミルフェノール、クロロフェノール、ブロモフ
ェノール、サリチル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、２−
メチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキ
シ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−
ジヒドロキシ安息香酸、４−クロロ−２，６−ジヒドロ
キシ安息香酸、４−メトキシ−２，６−ジヒドロキシ安
息香酸、没食子酸、フロログリシンカルボン酸、Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、桂皮酸、
桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸、
スチレン、ヒドロキシスチレン、スチルベン、４−ヒド
ロキシスチルベン、４，４′−ジヒドロキシスチルベ
ン、４−カルボキシスチルベン、４，４′−ジカルボキ
シスチルベン、ジフェニールエーテル、ジフェニルアミ
ン、ジフェニルチオエーテル、４−メトキシジフェニル
エーテル、４−メトキシジフェニルアミン、４−メトキ
シジフェニルチオエーテル等を挙げることができる。

【０２０３】画像層中に含有されるこれらのジアゾ樹脂
の中でも、分子内にカルボキシル基を有するジアゾ樹脂
が特に好ましく用いられる。分子内にカルボキシル基を
有するジアゾ樹脂の好ましい例としては、上記一般式
（１２）において、Ａで表される芳香族基中にカルボキ
シル基を含有する構造を有するジアゾ樹脂が挙げられ
る。この際、Ａで表される芳香族基を与えるために用い
ることができる芳香族化合物の好ましい具体例として
は、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、
ｐ−ヒドロキシ桂皮酸、フェノキシ酢酸が挙げられる。

【０２０４】上記ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えばフ
ォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニアリ
ング（Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．）１７巻，３３頁
（１９７３）、米国特許２，０６３，６３１号、同２，
６７９，４９８号、特公昭４９−４８００１号等に記載
の方法に従い、硫酸、燐酸又は塩酸中で芳香族ジアゾニ
ウム塩、必要に応じて上記一般式（１２）においてＡで
表される芳香族基を与える芳香族化合物、及び活性カル
ボニル化合物、例えばパラホルムアルデヒド、アセトア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトン又はアセトフェ
ノン等を重縮合させることによって得られる。

【０２０５】又、前記一般式（１２）においてＡで表さ
れる芳香族性基を与える芳香族化合物と、芳香族ジアゾ
化合物及び活性カルボニル化合物は、その相互の組合せ
は自由であり、更に、各々２種以上を混ぜて縮合するこ
とも可能である。

【０２０６】又、縮合の際に、Ａで表される芳香族性基
を与える芳香族化合物の仕込のモル数は、芳香族ジアゾ
ニウム化合物のモル数に対し好ましくは０．１〜１０
倍、より好ましくは０．２〜２倍、更に好ましくは０．
２〜１倍である。又、この場合、Ａで表される芳香族基
を与える芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウム化合物の
合計モル数に対し、活性カルボニル化合物をモル数で通
常好ましくは０．５〜１．５倍、より好ましくは０．６
〜１．２倍で仕込み、低温で短時間、例えば３時間程度
反応させることによりジアゾ樹脂が得られる。

【０２０７】より好ましく用いることのできる、分子内
にカルボキシル基を有するジアゾ樹脂を合成する手段は
任意であるが、代表的な手段としては、（ａ）芳香族ジ
アゾニウム塩、芳香族カルボン酸及び活性カルボニル化
合物の重縮合反応、（ｂ）カルボキシル基を有する芳香
族ジアゾニウム塩と活性カルボニル化合物の重縮合反
応、（ｃ）芳香族ジアゾニウム塩とカルボキシル基を有
する活性カルボニル化合物の重縮合反応の３通りが挙げ
られる。これらの方法の内、（ａ）の手段が合成手法上
と合成原料の入手し易さの点で好ましい。

【０２０８】上記ジアゾ樹脂の対アニオンは、該ジアゾ
樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶
となすアニオンが好ましい。このようなアニオンを形成
する酸としては、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボ
ン酸、フェニル燐酸等の有機燐酸、有機スルホン酸を含
み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエ
タンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ア
ントラキノンスルホン酸、ナフチルスルホン酸、アルキ
ル置換ナフチルスルホン酸等の脂肪族スルホン酸並びに
芳香族スルホン酸、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオ
ロ硼酸等のハロゲン化ルイス酸、過塩素酸、過沃素酸等
の過ハロゲン酸等を挙げることができる。ただし、これ
らに限られるものではない。これらの中で、特に好まし
いのは、ヘキサフルオロ燐酸及びテトラフルオロ硼酸で
ある。

【０２０９】画像層に用いるジアゾ樹脂の分子量には特
に限定は無く、例えば上記のジアゾ樹脂は、各単量体の
モル比および縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、一般に好ま
しくは、分子量が約４００〜１００００のものが有効に
使用でき、より好ましくは、約８００〜５０００のもの
が適当である。又、画像層中に含有されるこれらジアゾ
樹脂の量は０〜４０重量％が好ましいが、より好ましく
は０．５〜３０重量％である。

【０２１０】カップリング剤としては、チタンカップリ
ング剤、シランカップリング剤、アルミニウムカップリ
ング剤等を用いることができる。

【０２１１】チタンカップリング剤としては、ｉ−プロ
ピルトリ−ｉ−ステアロイルチタネート、ｉ−プロピル
トリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、ｉ−プロ
ピルトリ（ジオクチルピロホスフェート）チタネート、
テトラ−ｉ−プロピルビス（ジオクチルホスファイト）
チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスフ
ァイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシ
メチル−１−ブチル）−ビス（ジトリデシルホスファイ
ト）チタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）
オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルピロホ
スフェート）エチレンチタネート等が挙げられる。

【０２１２】シランカップリング剤の具体例としては、
ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、
３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルト
リエトキシシラン等が挙げられる。

【０２１３】又、アルミニウムカップリング剤として
は、アセトアルコキシアルミニウムジ−ｉ−プロピレー
ト等を挙げることができる。

【０２１４】反応性化合物の中でも、グリシジル基を有
するカップリング剤や燐酸基を有するラジカル重合性化
合物は、被記録媒体との接着性に優れ耐刷性が著しく向
上する点から特に好ましい。

【０２１５】本発明において、印刷版を作製するアブレ
ーション転写シートとしては、画像層を光熱変換物質を
含有する光吸収層と前記反応性化合物を含有する接着層
の２つの層で構成し、該光吸収層を支持体側に該接着層
を支持体から遠い側に設けることができる。このような
態様において、光吸収層は、前記画像層における光熱変
換剤から成る層又は光熱変換剤をバインダーに分散した
層とすることができる。

【０２１６】光吸収層の膜厚は出来るだけ薄い方が良
く、好ましくは０．５μｍ以下、更に好ましくは０．２
μｍ以下である。０．５μｍを超える厚さでは接着層表
面までの距離が大きくなるため接着層表面が転写に十分
な温度にまで達せず、良好な転写性が得られない。ただ
し、接着性の光吸収層とする場合には２．０μｍ以下が
好ましい膜厚となる。

【０２１７】接着層は、平版印刷版の作製に適用する場
合、被転写媒体へ接着性を示し、かつ印刷インクと親和
性を示す熱可塑性バインダーを主成分とする層とするこ
とが好ましい。このような熱可塑性バインダーとして
は、前記画像層で述べたものを使用できる。更に、被転
写媒体との十分な接着性を得るために、前記反応性化合
物を含有させる。反応性化合物は、熱可塑性バインダー
１００重量部に対して５〜２００重量部の割合で添加す
ることが好ましい。

【０２１８】接着層には、上記の他に各種添加剤を適量
添加することができる。該添加剤としては、例えば熱重
合防止剤、酸素クエンチャー、可塑剤、酸発生剤、可視
化剤、マット剤等が挙げられる。

【０２１９】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えば、ハイ
ドロキノン、ピロガロール、ｐ−メチキシフェノール、
カテコール、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量１０
０重量部に対して、１０重量部以下、好ましくは０．０
１〜５重量部程度添加される。酸素クエンチャーとして
は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン誘導体が好ましく、例
えば米国特許４，７７２，５４１号，１１カラム５８行
目〜１２カラム３５行目に記載の化合物が挙げられる。

【０２２０】可塑剤としては、フタル酸エステル類、ト
リメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その
他飽和又は不飽和カルボン酸エステル類、枸櫞酸エステ
ル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、エポキ
システアリン酸エポキシ類、正燐酸エステル類、亜燐酸
エステル類、グリコールエステル類などが挙げられる。

【０２２１】酸発生剤は、加熱により酸を発生し開始剤
の分解を促進する働きを有し、具体的にはジフェニルヨ
ードニウム塩、１，３，５−トリアリルスルホニウム
塩、トリアジン類等が挙げられる。

【０２２２】接着層には可視化剤として染料及び顔料を
含有させることも可能である。又、接着層の膜厚以上の
粒径を持ったマット材を添加させることも可能である。
マット材は被転写媒体が平滑（Ｒａが０．５μｍ未満）
な場合に、記録媒体表面と被転写媒体との間の密着を妨
げることにより熱伝導性を低下させ、結果としてアブレ
ーションによる転写性を改善する効果がある。又、接着
性層を、反応性化合物を含有する反応性接着層と親油性
層に機能分離することも可能である。

【０２２３】接着層の膜厚は好ましくは０．２〜３μ
ｍ、更に好ましくは０．５〜２μｍである。０．２μｍ
より小さいと十分な接着性が得られないし、３μｍより
大きいと感度が低下したり、十分な解像力が得られなく
なったりする。

【０２２４】本発明のドナーシートには必要に応じてそ
の他の層を形成することができる。例えば、フィルムの
帯電防止や搬送安定性を向上させるためにバックコート
層を設けてもよい。

【０２２５】本発明の印刷版の作製方法においては、転
写シートから画像様に転写した後に加熱、加圧及び光照
射から選ばれる少なくとも１つの手段によって転写され
た画像物質と被記録媒体との接着性を増大させることが
好ましい。

【０２２６】反応性化合物としてラジカル重合性モノマ
ー、カチオン重合性モノマー又はジアゾ化合物を用いた
場合には紫外光等で照射し被記録媒体と画像物質との接
着性を増加させることが好ましく、又、加熱しながら光
照射してもよい。又、反応性化合物としてラジカル重合
性モノマー、シランカップリング剤、チタンカップリン
グ剤等を含有させた場合には、被記録媒体上へ画像形成
した後、加熱（マイクロ波による加熱を含む）により被
転写媒体と接着層との接着性を増加させることが好まし
い。

【０２２７】何れの手段を用いる場合でも、光照射又は
加熱の前に、被記録媒体上に転写された画像物質をシリ
コーンゴム等の熱ローラでバインダーの軟化点以上の温
度で加熱及び加圧の処理を施すことが好ましい。この加
熱及び加圧処理を行うことによって被記録媒体と画像物
質との接触面積が増加するため、光照射及び／又は加熱
による接着力が向上する。この接着力向上プロセスは画
像露光の照度が１ｍＷ／ｃｍ²以上のレーザー光で記録
する場合に特に有効である。記録光入射面が記録光によ
って高温に加熱されアブレーションが起こり画像が転写
されるが、高照度露光記録においては発熱範囲が狭く、
接着層表面までに十分に伝わらず、被転写体との密着性
が得られないことがあるからである。特に、凹凸のある
印刷版用支持体に転写した場合は、支持体の凸部のみに
密着し、橋架け状態で画像が転写されるために密着性が
乏しくなる。加熱及び加圧による処理は凹部の密着性も
向上させ、画像と被記録媒体との接着性の増加に大きく
寄与する。この場合の加熱条件は、使用する熱可塑性バ
インダーの軟化点以上にすることが好ましい。

【０２２８】本発明の画像接着手段において、加熱は、
ゴムロールなどによって加熱と同時に加圧する方法、オ
ーブン等で非接触で加熱する方法、マイクロ波などによ
り加熱する方法などを採用することができる。この中で
もゴムロールなどによって加熱及び加圧する方法は被転
写媒体と転写画像との接触面積を増加させる効果があ
り、特に好ましい。この場合、ローラーと画像物質とが
熱融着するのを防ぐために、シリコーンゴムロール等を
用いることが好ましい。

【０２２９】又、加熱温度は接着層が含有する熱可塑性
バインダーの軟化点以上であることが好ましく、更に熱
により重合する場合には、熱重合開始温度以上、シラン
カップリング剤又はチタンカップリング剤が反応する場
合には、その反応開始温度以上にする必要がある。ラジ
カル重合性モノマー又はカチオン重合性モノマーを反応
性化合物として用いる場合には紫外光などで光照射する
ことにより重合させるが、光重合を行う場合には前処理
として加熱及び加圧することにより接着性が向上する。
又、この場合、光照射と同時に加熱することも好まし
い。露光及び加熱の条件は、被転写媒体、接着層の種
類、記録時の露光照度などにより変わるので、適宜設定
する必要がある。

【０２３０】上記昇華転写シート、熱溶融性転写シート
及びアブレーション転写シートにおける、昇華性物質含
有層、熱溶融性層及びアブレーション層を設ける方法と
しては、各組成物を溶媒に分散又は溶解して塗工液を調
製し、積層させる面に塗布・乾燥する塗工法や、剥離可
能なシート上に前記の層を形成した後、積層させる基材
面上に加熱及び／又は加圧して該層のみを転写させる転
写法等により形成することができる。

【０２３１】塗工用溶媒としては、アルコール類（エタ
ノール、プロパノール等）、セロソルブ類（メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等）、芳香族類（トルエン、
キシレン、クロロベンゼント）、ケトン類（アセトン、
メチルエチルケトン等）、エステル類（酢酸エチル、酢
酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等）、ハロゲン系溶剤（クロロホルム、ジクロル
ベンゼン等）、アミド系溶剤（ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルピロリドン等）等を用いることができる。
又、層形成成分の混練分散に当たっては、各種の混練分
散機を使用することができ、このような混練分散機とし
てはロールミル、ボールミル、ペブルミル、コボルミ
ル、トロンミル、サンドミル、サンドグラインダー、Ｓ
ｑｅｇｖａｒｉアトライター、高速インペラー分散機、
高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、高速
ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機、オープンニ
ーダー、連続ニーダー等が挙げられる。

【０２３２】又、本発明においては、印刷版用支持体と
上記のドナーシートの転写層とを重ね合わせた後、熱、
光及び圧力の少なくとも一つを用いて支持体に転写画像
を形成すればよく、サーマルヘッド、レーザー光の利用
が有利である。

【０２３３】本発明においてサーマルヘッドとは、転写
したい情報に応じて、選択的に感熱媒体を非記録材料に
熱転写して必要な記録を形成できるものを言い、その構
造は任意である。一般に、情報に応じた構成の発熱抵抗
素子が設けられており、例えば情報が印字パターンであ
れば、ドット素子マトリックス状に発熱できる発熱抵抗
素子が配線されて成るものが好ましく用いられる。

【０２３４】レーザー光源は、一般によく知られている
ルビーレーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザーなど
の固体レーザー；Ｈｅ−Ｎｅレーザー、Ａｒイオンレー
ザー、Ｋｒイオンレーザー、ＣＯ₂レーザー、ＣＯレー
ザー、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、Ｎ₂レーザー、エキシマー
レーザー等の気体レーザー；ＩｎＧａＰレーザー、Ａｌ
ＧａＡｓレーザー、ＧａＡｓＰレーザー、ＩｎＧａＡｓ
レーザー、ＩｎＡｓＰレーザー、ＣｄＳｎＰ₂レーザ
ー、ＧａＳｂレーザー等の半導体レーザー；化学レーザ
ー、色素レーザー等を挙げることができる。特に好まし
いのが、近赤外線に発振波長域を有するＹＡＧレーザ
ー、半導体レーザーである。

【０２３５】本発明の印刷版を用いた印刷には公知の平
版印刷機が用いられる。即ち、オフセット及び直刷り方
式の枚葉及び輪転印刷機などが用いられる。

【０２３６】前述した方法で本発明の印刷版支持体上に
画像形成した後、平版印刷機の版胴に装着し、該版面に
は接触するインキ着けローラーからインキが、又、湿し
水供給部から湿し水が供給される。該版面上の非画線部
分は湿し水を受容し、空隙層に湿し水が浸透して蓄水さ
れる。即ち、空隙層は蓄水機能を有する層として働く。
一方、画線部分はインキを受容し、オフセットブランケ
ット胴表面又は被印刷体表面にインキを供給して印刷画
像を形成する。

【０２３７】本発明の印刷版を用いて印刷する際に使用
される湿し水は、水ありＰＳ版で使用されるエッチ液を
用いることが可能である。

【０２３８】

【実施例】以下、実施例を挙げ本発明をより具体的に説
明するが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、以
下の実施例において「部」は「重量部」を意味する。

【０２３９】（印刷版用支持体Ｉの作製）平均粒径が約
７ｎｍの１次微粒子シリカ粉末１５０ｇを純水１リット
ル中に添加し、高速ホモジナイザーで分散して青白い透
明な分散液を得た。次に、この分散液中に、平均重合度
４０００、鹸化度８８％の２％ポリビニルアルコール水
溶液（酢酸エチル３重量％含有）１リットルを徐々に添
加した。次いで、硬膜剤として４％硼砂水溶液２８ｍｌ
を添加し、高速ホモジナイザーにて分散して白色半透明
の塗布液を得た。この液は、シリカをポリビニルアルコ
ールに対して重量比で７．５倍含有する。

【０２４０】上記の様にして得られた４０℃の塗布液
を、厚さ１００μｍのコロナ処理したポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）フィルムに塗布し、皮膜形成温度
が１５℃以下になるように一旦冷却して塗布液をゲル化
させた（２０秒間）。次いで、２３℃の風を２０秒間、
３０℃の風を４０秒間、４０℃の風を６０秒間、更に４
５℃の風を９０秒間順次吹き付けて乾燥し、更に２５℃
・５０％ＲＨの雰囲気を３０秒間通過させて調湿し、支
持体Ｉを作製した。

【０２４１】この支持体の断面を電子顕微鏡にて観察し
たところ、形成された層には本発明の空隙のあることが
確認された。この空隙層の膜厚は４０μｍであった。支
持体の空隙層の空隙容量を熊谷理機工業社製Ｂｒｉｓｔ
ｏｗ試験機II型（加圧式）を使用して測定したところ、
２４．７ｍｌ／ｍ²であった。尚、空隙容量は接触時間
２秒間における転移量として求めた。

【０２４２】（印刷版用支持体IIの作製）厚さ０．２４
ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０，調質Ｈ１６）を
５重量％水酸化ナトリウム水溶液中で６５℃で１分間浸
漬し脱脂処理を行った後、水洗し、０．５モル塩酸水溶
液中で２５℃・電流密度６０Ａ／ｄｍ²の条件下で３０
秒間電解エッチング処理を行った。次いで、５重量％水
酸化ナトリウム水溶液中で６０℃、１０秒間のデスマッ
ト処理を施した後、２０重量％硫酸水溶液中で、２０℃
・電流密度３Ａ／ｄｍ²の条件下で１分間陽極酸化処理
を行った。更に水洗し、続いて８０℃の３号珪酸ナトリ
ウム１．５％水溶液で２０秒間封孔処理を行った後、水
洗し支持体IIを得た。

【０２４３】支持体IIの空隙容量は０．１５ｍｌ／ｍ²
であった。

【０２４４】（印刷版用支持体IIIの作製）表面をプラ
ズマ処理した厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、下
記組成の塗布液を乾燥重量が１０ｇ／ｍ²になるようバ
ーコーターを用いて塗布し、６０℃で２０分乾燥を行い
支持体IIIを得た。

【０２４５】受容層形成用塗布液酸化亜鉛（堺化学製：ＳＡＺＥＸ＃２０００）５６部アクリル樹脂（三菱レーヨン製：ダイヤナールＬＲ−１８８）１０部無水マレイン酸１部トルエン３３部上記の配合物及びガラスビーズ３０部をサンプル缶に仕
込み、ペイントシェーカーで２時間分散を行い、所定の
塗布液を得た。

【０２４６】支持体IIIの空隙容量は１．０７ｍｌ／ｍ²
であった。

【０２４７】（印刷版用支持体IVの作製）アルミニウム
イソプロポキシドの加水分解、解膠法で合成したアルミ
ナゾルとポリビニルアルコール（鹸化度９８．５％，重
合度２４００）を用い、固形分１５重量％（ＰＶＡ／ア
ルミナゾル固形分＝０．１１重量比）の塗工液を調製
し、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に乾燥後の厚さ
が３０μｍになるよう、ダイコーターを用いて塗工・乾
燥して疑ベーマイト層を形成した。

【０２４８】更に、１次粒子径３５〜５５ｎｍのシリカ
ゾルと珪素含有ＰＶＡ（クラレ製：Ｒ−ポリマーＲ−１
１３０）からなる固形分５重量％（Ｒ−１１３０／Ｓｉ
Ｏ₂＝０．１重量比）のシリカゾル塗工液を、上記疑ベ
ーマイト層上にグラビアコーターで塗工・乾燥後、１４
０℃で熱処理して支持体IVを得た。シリカゾル層の厚さ
は２００ｎｍであった。又、支持体IVの空隙容量は１
５．８ｍｌ／ｍ²であった。

【０２４９】（ドナーシート用支持体の作製）厚さ１０
０μｍの透明ＰＥＴフィルム（ダイアホイルヘキスト
製：Ｔ−１００Ｇ）の片面を帯電防止処理し、画像層を
設ける側の面をコロナ放電処理しドナーシート用支持体
とした。

【０２５０】（ドナーシートＩ，IIの作製）オープンニ
ーダを用いて混練分散した下記組成の光吸収層用塗布液
を、押出し塗布で前記ドナーシート用支持体上に塗布・
乾燥した後、カレンダーで表面処理を行い、更に６０℃
で７２時間キュアーさせることにより熱硬化させた光吸
収層を形成した。乾燥時の厚さは０．５μｍであった。

【０２５１】光吸収層用塗布液Ｆｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末＊１００部塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン製：ＭＲ−１０５）１０部ポリウレタン樹脂（東洋紡績製：ＵＲ−８７００）１０部 α−アルミナ（平均粒径：０．１５μｍ）８．０部カーボンブラック（平均粒径：０．０４μｍ）０．５部ステアリン酸１．０部ブチルステアレート１．０部ポリイソシアナート化合物（日本ポリウレタン工業製：コロネートＬ）５．０部シクロヘキサノン１００部メチルエチルケトン１００部トルエン１００部＊Ｆｅ：Ａｌ原子数比＝１００：４（全体），５０：５０（表面）、平均長軸径：０．１４μｍ、Ｈｃ：１７６０Ｏｅ、σｓ：１２０ｅｍｕ／ｇ、ＢＥＴ：５３ｍ²／ｇ上記光吸収層の上に、下記の２種の組成の画像形成層用
塗布液を乾燥時の膜厚が０．５ｇ／ｍ²となるように押
出し塗布で塗設し、ドナーシートＩ、IIを作製した。

【０２５２】画像形成層塗布液（Ｉ）親油性の熱可塑性バインダー（ポリマーＡ）４部可視画剤（フタロシアニンブルーのメチルエチルケトン分散物，固形分２０％）１０部ラジカル重合性モノマー（ペンタエリスリトールテトラアクリレート）３．６部ラジカル重合開始剤（２，４−ジエチルチオキサントン）０．２部ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル０．２部マット剤（東芝シリコーン製：トスパール１３０）０．５部メチルエチルケトン７０部画像形成層塗布液（II）親油性の熱可塑性バインダー（ポリマーＡ）４部可視画剤（フタロシアニンブルーのメチルエチルケトン分散物，固形分２０％）１０部ジアゾ樹脂Ａ２部マット剤（トスパール１３０：前出）０．５部メチルエチルケトン１００部ポリマーＡ：メタクリル酸メチル・アクリル酸エチル・アクリロニトリル・メタクリル酸・グリセロール−１，３−ジメタクリレート共重合体（６０／２０／８／１１．１／０．６モル比；Ｔｇ＝７６℃）（ジアゾ樹脂Ａの合成）氷冷した濃硫酸２００ｇに、ｐ
−ヒドロキシ安息香酸１２．７ｇ（０．０９２モル）と
４−ジアゾフェニルアミン硫酸塩４０．５ｇ（０．１３
８モル）を液温が５℃を超えないよう注意しながら攪拌
・溶解する。次いで、パラホルムアルデヒド６．２２ｇ
（０．２０７モル）を攪拌しながら１時間かけてゆっく
りと加え、縮合反応を行う（この際も反応液が５℃を越
えないように注意する）。パラホルムアルデヒドを加え
終わった後、３０分間５℃以下で攪拌を続ける。

【０２５３】反応終了後、反応液を０℃に冷却したエタ
ノール１６００ｍｌにゆっくりと投入すると析出物が生
成する。この際、液温が４０℃を超えないように注意す
る。析出物を吸引濾過で濾取し、エタノール３００ｍｌ
で洗浄して反応中間体ａ（ジアゾ樹脂硫酸塩）を得た。

【０２５４】反応中間体ａを水２４０ｍｌに溶解し、水
９０ｍｌに溶解した塩化亜鉛１９．０４ｇ（０．１４モ
ル）を加えると、再び析出物が生成する。析出物を吸引
濾過で濾過し、反応中間体ｂ（ジアゾ樹脂塩化亜鉛複
塩）を得た。

【０２５５】反応中間体ｂを水１０００ｍｌに溶解し、
水１８０ｍｌに溶解したヘキサフルオロ燐酸アンモニウ
ム２４．８ｇ（０．１５モル）を加えると、析出物が生
成する。析出物を吸引濾過で濾取し、エタノール３００
ｍｌで洗浄した後、３０℃で３日間乾燥しジアゾ樹脂Ａ
を３２．４ｇ得た。

【０２５６】（ドナーシートIII，IVの作製）厚さ１０
０μｍの透明ＰＥＴフィルム（Ｔ−１００Ｇ：前出）の
片面を帯電防止処理した後、未処理の面に下記組成の画
像層用塗布液を乾燥時の厚さが０．５ｇ／ｍ²になるよ
う塗布・乾燥してドナーシートIII及びIVを作製した。

【０２５７】画像形成層塗布液（III）親油性の熱可塑性バインダー（ポリマーＡ）４部光熱変換剤（カーボンブラックのメチルエチルケトン分散物，固形分２０％）４．２部ラジカル重合性モノマー（ペンタエリスリトールテトラアクリレート）３．６部ラジカル重合開始剤（２，４−ジエチルチオキサントン）０．２部ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル０．２部マット剤（トスパール１３０：前出）０．５部メチルエチルケトン７０部画像形成層塗布液（IV）親油性の熱可塑性バインダー（ポリマーＡ）４部光熱変換色素（ＣＹ−１）０．７部ジアゾ樹脂Ａ２部マット剤（トスパール１３０：前出）０．５部メチルエチルケトン１００部

【０２５８】

【化１４】

【０２５９】（感光性組成物塗布液の調製）下記組成の
感光性組成物塗布液Ｉを調製した。

【０２６０】感光性組成物塗布液ＩポリマーＢ８．０ｇＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）２．０ｇ２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシスチリル）−ｓ −トリアジン０．３ｇジアゾ樹脂Ｂ＊１．５ｇ琥珀酸０．４ｇ弗素系界面活性剤（ＦＣ４３０、住友３Ｍ社製）０．０１ｇ色素（保土谷化学製：ビクトリアピュアブルーＢＯＨ）０．０２ｇ乳酸メチル１８０ｍｌ２−エトキシプロパノール２０ｍｌジアゾ樹脂Ｂ：ジアゾジフェニルアミン・ｐ−ヒドロキシ安息香酸共縮合物（７５／２５モル比）メシチレンスルホン酸塩，重量平均分子量３４００（ポリマーＢの合成）温度計、還流冷却管、攪拌装置、
窒素導入管を備えた５００ｍｌの４首フラスコ中に、ア
セトン５０ｍｌ、メタノール５０ｍｌの混合溶媒を入
れ、２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド２６．０２
ｇ（０．２０モル）、メタクリル酸１．２９ｇ（０．０
１５モル）、アクリロニトリル６．６３ｇ（０．１２５
モル）及びエチルメタクリレート１８．２４ｇ（０．１
６モル）を溶解した。更に、重合反応開始剤としてアゾ
イソブチロニトリル０．６２ｇ（０．００３７モル）を
添加し、窒素気流下で撹拌しながら還流させた。最後
に、反応停止剤としてハイドロキノン０．０５０ｇを投
入し反応を終了させた。

【０２６１】反応終了後、反応液を室温まで冷却し、水
５リットル中に投入して結析させ、濾取、乾燥してポリ
マーＢを得た。得られた高分子化合物の重量平均分子量
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）
により、プルラン標準、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
溶媒で測定したところ、１４５，０００であった。

【０２６２】実施例１印刷版用支持体Ｉ及びIIに、感光性組成物塗布液Ｉを乾
燥後の重量が１．６ｇ／ｍ²になるよう塗布し、８０℃
の気流下で２分間乾燥して感光性平版印刷版試料１及び
２を得た。

【０２６３】上記試料１及び２に、イーストマンコダッ
ク製ステップタブレット（１ステップの透過濃度差０．
１５のもの）とネガ像フィルム原稿を通し、ＰＳ版用焼
付け機を用い、２ｋＷメタルハライドランプを使用して
露光した。露光量は、これらの試料を下記組成の現像液
に３２℃で１５秒間、バット内で浸漬、水洗、乾燥した
際、ベタ段数が３段となるように決定した。

【０２６４】〈現像液組成〉フェニルグリコール１８０．０ｇジエタノールアミン８５．５ｇジブチルナフタレンスルホネート９３．０ｇ純水３８３５ｍｌ現像済み試料１，２で、１７５線９８％相当の網点部分
における目開きの状態を評価したところ、試料１では９
８％のシャドウ部の網点が再現していたが、試料２では
目開きが不十分であり、一部潰れている所が見られた。

【０２６５】又、現像済み試料１及び２を、印刷機（三
菱重工業製：ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１）にかけ、湿し水（東
京インキ製エッチ液ＳＧ−５１，濃度１．５％）、イン
キ（東洋インキ製造製：ハイプラスＭ紅）を使用してコ
ート紙に印刷を行い、湿し水の供給量を変化させ、湿し
水の少ない時の非画像部の汚れ易さ及び湿し水の多い時
の水負けし易さを評価した。結果は、それぞれ５段階評
価で、良好なものから順に５，４，３，２，１とした。
結果は以下の通りであった。

【０２６６】試料Ｎｏ．水負けし易さ汚れ易さ１５５２３２実施例２実施例１において、印刷版用支持体ＩをIVとした他は同
様にして、網点再現性の評価及び水負けし易さ、汚れ易
さの評価を行ったところ、本発明の効果が得られた。

【０２６７】実施例３特開平９−２２６２４４号に記載の装置のドラムに被記
録媒体として印刷版用支持体Ｉを巻回し、更に前記ドナ
ーシートＩを重ね合わせ、発振波長８３０ｎｍ、露光面
パワー１００ｍＷ（照度０．３２ｍＷ／ｃｍ²）のレー
ザダイオードで、記録エネルギー３５０ｍＪ／ｃｍ²で
走査露光した後、ドナーシートＩを剥離し、画像が形成
された印刷版用支持体Ｉを１１０℃のシリコンゴム製ヒ
ートロール２本の間を通し、加圧及び加熱を行った。ヒ
ートロール間の圧力は２ｋｇ／ｃｍ²、加圧及び加熱時
間は５秒間とした。更に、２ｋＷメタルハライドランプ
（岩崎電気製：アイドルフィン２０００）を光源として
９０ｃｍの距離から７０秒間全面露光処理を行い、支持
体Ｉと画像との接着性を増大させ印刷版試料１１を作製
した。

【０２６８】次に上記の手順において、印刷版用支持体
ＩをIIに変えた他は同様にして、印刷版試料１２を作製
した。

【０２６９】上記試料１１及び１２を、印刷機（ＤＡＩ
ＹＡ１Ｆー１：前出）にかけ、湿し水（エッチ液ＳＧ−
５１，濃度１．５％：前出）、インキ（ハイプラスＭ
紅：前出）を使用してコート紙に印刷を行い、湿し水の
供給量を変化させ、湿し水の少ない時の非画像部の汚れ
易さ及び湿し水の多い時の水負けし易さを評価した。結
果は、実施例１と同様の５段階評価をした。結果は以下
の通りであった。

【０２７０】試料Ｎｏ．汚れ易さ水負けし易さ１１５５１２３２実施例４実施例３において、記録エネルギーを３５０ｍＪ／ｃｍ
²に固定する代わりに、記録エネルギーを変化させて露
光した以外は同様にして、印刷版試料２１及び２２を作
製した。

【０２７１】これらの試料において、２０００ｄｐｉの
ラインアンドスペースの太さが１：１で再現される記録
エネルギー量のところで、１７５線２％相当の小点の形
状を比較したところ、試料２２を用いた場合には小点の
形状ががさついていたのに対し、印刷版支持体Ｉを用い
た試料２１の場合にはがさつきがなかった。

【０２７２】実施例５実施例３において、印刷版用支持体ＩをIIIに、又、ド
ナーシートＩをIVに変えた他は同様にして、印刷版試料
３１を作製した。又、印刷版用支持体ＩをIVに、ドナー
シートＩをIVに変えた他は同様にして印刷版試料３２を
作製した。

【０２７３】上記試料３１及び３２を印刷機（ハイデル
ＧＴＯ）にかけ、湿し水（コニカ製：ＳＥＵ−３の２．
５％水溶液）、インキ（ハイプラスＭ紅：前出）を使用
してコート紙に印刷を行ったところ、試料３１は印刷開
始直後に非画線部に地汚れが発生したが、試料３２は１
万枚印刷しても地汚れしなかった。

【０２７４】又、試料３１を日研化学製ＰＰクリーンＨ
液にて不感脂化処理した後、湿し水をＰＰクリーンＨの
５％水溶液とした他は上記と同様にして印刷を行ったと
ころ、約１０００枚印刷したところから非画線部に地汚
れが発生した。

【０２７５】実施例６実施例３において、露光方法を発振波長１０６４ｎｍ、
露光面パワー４Ｗ（照度８ｍＷ／ｃｍ²）のレーザで、
記録エネルギーをふっての内面走査露光に変え、又、印
刷版用支持体Ｉ及びIIに密着させるドナーシートをドナ
ーシートＩからIIに変えた以外は印刷版試料１１、１２
と同様にして印刷版試料４１、４２を作製した。

【０２７６】試料４１及び４２について、実施例４と同
様に小点の形状の評価を行ったところ、本発明の効果が
確認された。

【０２７７】実施例７実施例６において、ドナーシートIIをIIIに変えた以外
は同様にして、印刷版試料５１及び５２を作製した。こ
れらの試料について実施例４と同様に小点の形状の評価
を行ったところ、本発明の効果が確認された。

【０２７８】実施例８３．５μｍ厚のＰＥＴフィルム上に、下記組成の熱転写
層塗布液をワイヤーバーを用いて乾燥膜厚３μｍとなる
よう塗布・乾燥し、熱転写層を有する感熱転写リボンを
作製した。

【０２７９】熱転写層塗布液カーボンブラック（三菱化成社製）２０部カルナバワックス６０部ペンタエリスリトールテトラアクリレート２０部ジ−ｉ−プロピルチオキサントン２部ジメチルアミノ安息臭酸ｉ−アミル１部キシレン１００部この感熱転写リボンを、サーマルヘッドを有するサーマ
ルプリンタ（発熱素子密度７ｄｏｔ／ｍｍの薄膜型シリ
アルヘッドを搭載、印字圧６００ｇ／ヘッド）を用いて
印加エネルギー３ｍｊ／ｄｏｔを与え、印刷版用支持体
Ｉ及びIIに記録した。

【０２８０】更に、記録された該シートに、版面１００
ｍＷ／ｃｍ²に調整したメタルハライドランプにより５
秒間、全面露光した。

【０２８１】こうして得られた印刷版を、実施例３と同
様にして印刷したところ、本発明の効果が確認された。

【０２８２】実施例９厚さ１００μｍの透明ＰＥＴフィルム（Ｔ−１００Ｇ：
前出）上に、前記画像層塗布液（Ｉ）を乾燥後の重量が
１．６ｇ／ｍ²になるよう塗布し、８０℃の気流下で２
分間乾燥した。

【０２８３】このフィルムの画像形成層と前記印刷版用
支持体Ｉの空隙層を有する面とを重ねて１１０℃のヒー
トロール２本の間を通した後、ＰＥＴフィルムを剥離
し、画像形成層を支持体Ｉの空隙層上に転写し、平版印
刷版試料７１を作製した。

【０２８４】実施例１と同様にして網点再現性及び水負
けし易さ、汚れ易さの評価を行ったところ、本発明の効
果が得られた。

【０２８５】実施例１０塗布膜厚を変えた他は印刷版用支持体Ｉと同様にして、
空隙容量の異なる印刷版用支持体Ｖ〜IXを作製した。こ
れら試料の空隙層膜厚及び空隙容量は下記の通りであっ
た。

【０２８６】Ｖ VI VII VIII IX 膜厚（μｍ）１．０５．２１０１５２０空隙容量（ｍｌ／ｍ²）０．４３５．６９．３１２．５これらの支持体の断面を電子顕微鏡にて観察したとこ
ろ、形成された層には何れも空隙があることが確認され
た。

【０２８７】次に、実施例３の印刷版試料１１におい
て、印刷版用支持体Ｉに代えてこれらの支持体を用い、
又、ドナーシートＩに代えてドナーシートIIを用いた他
は実施例３と同様にして印刷時の汚れ易さ及び水負けの
し易さを評価したところ、本発明の効果が得られた。

【０２８８】又、実施例４の印刷版試料２１において、
やはり同様に印刷版用支持体Ｉをこれらの支持体に変更
し、又、トナーシートＩに代えてドナーシートIIを用い
た他は実施例４と同様にして小点の形状を評価したとこ
ろ、本発明の効果が確認された。

【０２８９】実施例１１印刷版用支持体Ｉの作製において、ポリビニルアルコー
ルをゼラチンで代替した以外は同様にして印刷版用支持
体Ｘを作製した。支持体Ｘの空隙容量は２１．２ｍｌ／
ｍ²であった。

【０２９０】この印刷版用支持体Ｘに実施例３と同様に
画像転写処理を行い、印刷版試料８１を作製した。

【０２９１】上記印刷版試料８１及び実施例３の印刷版
試料１１をウルトラプレートクリーナー（大日精化製）
に１０分間浸漬処理した後、実施例３と同様に印刷評価
を行った。汚れ易さと水負けし易さは、どちらも実施例
３と同様に良好であった。又、良好な印刷物が得られる
枚数を比較したところ、試料１１では３０００枚まで良
好な印刷物が得られたのに対し、試料８１では５０００
枚以上良好な印刷物が得られた。

【０２９２】

【発明の効果】本発明の印刷版用材料の使用により、水
幅が広く、小点再現性が良好で、印刷時に汚れの発生し
ない印刷版の作製が可能となった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】空隙層を有する支持体上の該空隙層上に
感光層又は感熱層を有する印刷版用材料において、該空
隙層の空隙容量が０．０１ｍｌ／ｍ²以上であることを
特徴とする印刷版用材料。
【請求項２】空隙層が基体上に設けられたことを特徴
とする請求項１記載の印刷版用材料。
【請求項３】空隙層の空隙容量が０．５ｍｌ／ｍ²以
上であることを特徴とする請求項１記載の印刷版用材
料。
【請求項４】空隙層の空隙容量が０．５〜４０ｍｌ／
ｍ²以上であることを特徴とする請求項３記載の印刷版
用材料。
【請求項５】空隙層の空隙容量が空隙層の５容量％以
上であることを特徴とする請求項１記載の印刷版用材
料。
【請求項６】空隙層の空隙容量が空隙層の２０〜８０
容量％であることを特徴とする請求項５記載の印刷版用
材料。
【請求項７】空隙層の空隙部分が空隙層の基体側の表
面、又は空隙層の基体とは反対側の表面に開口部分を有
することを特徴とする請求項２記載の印刷版用材料。
【請求項８】空隙層の空隙部分が空隙層の基体側の表
面、又は空隙層の基体とは反対側の表面に二つ以上の開
口部分を有することを特徴とする請求項２記載の印刷版
用材料。
【請求項９】空隙層が少なくとも１種の親水性バイン
ダー及び微粒子を含有することを特徴とする請求項１記
載の印刷版用材料。
【請求項１０】親水性バインダーがゼラチン又はゼラ
チン誘導体であることを特徴とする請求項９記載の印刷
版用材料。
【請求項１１】空隙層が０．１〜２０ｇ／ｍ²の親水
性バインダー及び平均粒径３〜２００ｎｍの微粒子を含
有し、かつ該親水性バインダーに対する該微粒子の重量
比が０．５〜１５であることを特徴とする請求項９記載
の印刷版用材料。
【請求項１２】請求項１に記載の支持体の空隙層上に
感熱層を有する印刷版用材料と、基体上に感熱転写層を
有するドナーシートを空隙層側と感熱転写層が接するよ
う重ね合わせ、熱、光及び圧力の少なくとも一つを用い
て画像様に転写することを特徴とする印刷版の作製方
法。