JPH10313035A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板処理装置の構成を簡単化し、装置の設置
面積を小さくでき、基板搬送手段間の位置調整を不要と
する。 【解決手段】 複数枚の基板Ｗが収容可能な基板収容器
１に対する基板Ｗの取り出し・収納と、基板Ｗに所定の
処理を施す基板処理部４に対する基板Ｗの搬入・搬出と
が可能な基板保持アーム２１を有し、基板保持アーム２
１の水平方向への進退移動、及び、基板保持アーム２１
の鉛直方向への昇降移動、及び、基板保持アーム２１の
鉛直軸Ｑ周りの回転のみが可能に構成された基板搬送機
構３を備え、この基板搬送機構３の周囲に、１個以上の
基板収容器１と１個以上の基板処理部４とを配置した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板収容器から基
板を取り出して、基板処理部で所定の基板処理を施し、
処理済の基板を基板収容器に収容する基板処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置は、例え
ば、図１２の平面図に示すように、大きく分けて基板搬
入搬出部１００と基板処理ユニット部２００とを備えて
構成されている。

【０００３】基板搬入搬出部１００は、複数枚の基板Ｗ
を収容可能な基板収容器１１０を１個以上（図では２
個）載置する載置台１２０と基板搬送機構１３０と受け
渡し台１４０とを備えている。基板搬送機構１３０は、
載置台１２０に載置された基板収容器１１０に対する基
板Ｗの取り出し・収容が可能な板状の基板保持アーム１
３１を有し、この基板保持アーム１３１の水平方向への
進退移動と、基板保持アーム１３１のＹ方向への移動
と、基板保持アーム１３１の鉛直方向（図の紙面に垂直
な方向）への昇降移動とが行えるように構成されてい
て、これら動作を組み合わせて基板保持アーム１３１を
用いて、載置台１２０に載置された基板収容器１１０に
対する基板Ｗの取り出し・収容が行えるようになってい
る。

【０００４】基板処理ユニット部２００は、基板Ｗに所
定の基板処理を施す１個以上（図では４個）の基板処理
部２１０と基板搬送機構２２０とを備えている。基板搬
送機構２２０は、各基板処理部２１０に対する基板Ｗの
搬入・搬出が可能な馬蹄型の基板保持アーム２２１を有
し、この基板保持アーム２２１の水平方向への進退移動
と、基板保持アーム２２１のＸ方向への移動と、基板保
持アーム２２１の鉛直方向への昇降移動と、基板保持ア
ーム２２１の鉛直軸周りの回転とが行えるように構成さ
れていて、これら動作を組み合わせて基板保持アーム２
２１を用いて、各基板処理部２１０間の基板Ｗの搬送
と、各基板処理部２１０に対する基板Ｗの搬入・搬出と
が行えるようになっている。また、各基板処理部２１０
は、基板搬送機構２２０の搬送路２３０を挟んで対向配
置されている。

【０００５】上記基板処理装置の動作は以下のとおりで
ある。基板搬送機構１３０が基板収容器１１０から未処
理の基板Ｗを１枚ずつ取り出して、その基板Ｗを受け渡
し台１４０を介して基板搬送機構２２０に順次引き渡し
ていく。基板搬送機構２２０は受け取った基板Ｗを各基
板処理部２１０に順次搬送して、一連の基板処理を施さ
せて、処理済の基板Ｗを受け渡し台１４０を介して基板
搬送機構１３０に順次引き渡していく。基板搬送機構１
３０は受け取った処理済の基板Ｗを基板収容器１１０に
順次収納していく。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置の構成では、基板搬入搬出部
１００と基板処理ユニット部２００にそれぞれ基板搬送
機構１３０、２２０を備えているので、装置構成が複雑
で、装置の設置面積が大きくなるという欠点があった。
また、動作中に、２台の基板搬送機構１３０、２２０の
間での基板Ｗの受け渡しを含んでいるので、受け渡しの
際に基板Ｗが位置ずれしないように両基板搬送機構間の
微妙な位置調整が必要となり、この調整に手間を要する
という欠点もあった。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、装置構成を簡単化し、装置の設置面積
を小さくでき、基板搬送機構間の位置調整を不要にする
ことができる基板処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、複数枚の基板が収容可能
な基板収容器に対する基板の取り出し・収納と、基板に
所定の処理を施す基板処理部に対する基板の搬入・搬出
とが可能な基板保持アームを有し、前記基板保持アーム
の水平方向への進退移動、及び、前記基板保持アームの
鉛直方向への昇降移動、及び、前記基板保持アームの鉛
直軸周りの回転のみが可能に構成された基板搬送手段を
備え、この基板搬送手段の周囲に、１個以上の基板収容
器と１個以上の基板処理部とを配置したことを特徴とす
るものである。

【０００９】請求項２に記載の発明は、上記請求項１に
記載の基板処理装置において、前記基板収容器を支持し
て鉛直軸周りに回転させる基板収容器回転手段をさらに
備えたことを特徴とするものである。

【００１０】請求項３に記載の発明は、上記請求項１ま
たは２に記載の基板処理装置において、前記基板搬送手
段には、所定の基板処理を施す前の基板の搬送のみに用
いる１または複数個の第１の基板保持アームと、前記所
定の基板処理を施した後の基板の搬送のみに用いる１ま
たは複数個の第２の基板保持アームとを備えていること
を特徴とするものである。

【００１１】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。基板搬送手段の周囲に、１個以上の基板収容器と１
個以上の基板処理部とが配置されている。基板搬送手段
は、基板保持アームの鉛直方向への昇降移動と、基板保
持アームの鉛直軸周りの回転とによって、基板保持アー
ムを水平方向へ進退移動させる高さ位置と方向とを適宜
に変えて、周囲の基板収容器や基板処理部へ基板保持ア
ームを進入し得るように、基板保持アームの水平方向へ
の進退移動の高さ位置と方向とを調節する。

【００１２】そして、基板搬送手段は、基板保持アーム
の水平方向への進退移動の高さ位置と方向とを基板収容
器に合わせて、基板保持アームを基板収容器に進入させ
て基板を取り出し、基板保持アームの水平方向への進退
移動の高さ位置と方向とを変えて、基板保持アームを基
板処理部に進入させて、基板収容器から取り出した基板
をその基板処理部に搬入させ、その基板処理部での基板
処理を基板に施させる。基板処理が終了すると、基板保
持アームをその基板処理部に進入させて、処理を終えた
基板をその基板処理部から搬出させる。複数の基板処理
部で複数種類の基板処理を基板に施す場合には、上記同
様の動作で、各基板処理部への基板の搬入・搬出を順次
行う。基板搬送手段は、基板保持アームで一連の基板処
理を終えた基板を最後の基板処理部から搬出すると、基
板保持アームの水平方向への進退移動の高さ位置と方向
とを変えて、基板保持アームを基板収容器に進入させ
て、一連の基板処理を終えた基板を基板収容器に収容す
る。

【００１３】請求項２に記載の発明によれば、基板収容
器回転手段は、基板収容器を支持して鉛直軸周りに回転
させ、基板保持アームが進入し易い方向に基板収容器を
向ける。

【００１４】請求項３に記載の発明によれば、基板搬送
手段は、第１の基板保持アームを用いて所定の基板処理
を施す前の基板の搬送を行い、所定の基板処理を施した
後の基板の搬送は、それとは別の第２の基板保持アーム
を用いて行う。例えば、基板に洗浄処理を施す基板処理
部を備えている場合、基板収容器より基板を取り出して
から基板処理部に基板を搬入するまでの基板の搬送を第
１の基板保持アームで行い、基板処理部より洗浄処理後
の基板を搬出してから基板収容器に基板を収容するまで
の搬送を第２の基板保持アームを用いて行うことで、洗
浄処理後の基板を、洗浄処理前の基板の搬送に用いた第
１の基板保持アームで汚すなどの不都合を防止できる。
なお、所定の基板処理を施す前の基板の搬送を、１個の
第１の基板保持アームで行ってもよいし、複数個の第１
の基板保持アームが共動して行ってもよい。また、同様
に、所定の基板処理を施した後の基板の搬送を、１個の
第２の基板保持アームで行ってもよいし、複数個の第２
の基板保持アームが共動して行ってもよい。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１（ａ）は本発明の一実施例に
係る基板処理装置の全体構成を示す平面図であり、図１
（ｂ）はその一部省略側面図、図２（ａ）は基板保持ア
ームの拡大平面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ矢
視断面図、図２（ｃ）は基板搬送機構の構成を示す一部
省略正面図、図２（ｄ）は基板保持アーム付近の構成を
示す側面図である。

【００１６】本実施例装置は、複数個（図では２個）の
基板収容器１を載置支持する載置台２と、基板搬送機構
３と、基板Ｗに洗浄処理を施すための複数台（図では２
台）の基板処理部４（４ａ、４ｂ）を備えて構成されて
いる。載置台２と各基板処理部４ａ、４ｂとは、基板搬
送機構３を挟んで対向配置され、基板搬送機構３の周囲
に各基板収容器１と各基板処理部４ａ、４ｂが配置され
ている。

【００１７】基板収容器１には、鉛直方向（Ｚ方向）に
多段の収納溝１ａ（図４（ａ）参照）が刻設されてい
て、複数枚の基板Ｗを水平姿勢で収容できるように構成
されている。この基板収容器１は少なくとも正面が開口
されていて、そこから基板Ｗの取り出しと収容が行える
ようになっている。

【００１８】載置台２には、各基板収容器１ごとに基板
収容器回転機構１０を備えている。すなわち、載置台２
に、ベアリング１１によって支軸１２が鉛直軸Ｐ周りに
回転可能に立設支持されていて、この支軸１２の上端に
基板収容器１を載置支持する回転台１３が一体回転可能
に取り付けられている。支軸１２を、モーター（例え
ば、ステッピングモーターなど）１４によって鉛直軸Ｐ
周りで回転することによって、回転台１３に載置支持さ
れた基板収容器１を鉛直軸Ｐ周りで回転できるようにな
っている。

【００１９】基板搬送機構３は、平面視で「Ｕ」の字型
の基板保持アーム２１（２１ａ、２１ｂ）を２個備えて
いる。各基板保持アーム２１ａ、２１ｂは各々複数個
（図では３個）の保持部材２２を備えている。各保持部
材２２は、基板Ｗの外周部を下面から点接触で載置支持
する支持ピン２２ａと、基板Ｗの水平方向への移動を規
制する水平規制部２２ｂとを備えていて、基板Ｗの脱落
などを防止して基板Ｗを搬送できるように構成されてい
る。

【００２０】各基板保持アーム２１ａ、２１ｂはアーム
支持台２３に設けられた進退移動部２４（２４ａ、２４
ｂ）によって水平方向への進退移動が個別に行えるよう
に構成されている。なお、各進退移動部２４ａ、２４ｂ
は、ボールネジやベルト駆動機構などの周知の１軸方向
駆動機構によって構成されている。

【００２１】前記アーム支持台２３は、昇降回転軸２５
の上端に一体回転可能に取り付けられている。この昇降
回転軸２５は、モーター（例えば、ステッピングモータ
ーなど）２６によって鉛直軸Ｑ周りで回転され、これに
よって、昇降回転軸２５、アーム支持台２３を介して各
基板保持アーム２１ａ、２１ｂが同時に鉛直軸Ｑ周りで
回転されるようになっている。

【００２２】また、前記昇降回転軸２５は、昇降駆動部
２７によって昇降移動されるように構成され、これによ
って、昇降回転軸２５、アーム支持台２３を介して各基
板保持アーム２１ａ、２１ｂが同時に昇降移動されるよ
うになっている。なお、昇降移動部２７は、ボールネジ
やベルト駆動機構、ロッドレスシリンダなどの周知の１
軸方向駆動機構によって構成されている。

【００２３】各基板処理部４ａ、４ｂは、基板Ｗに同じ
洗浄処理を施すもので、それぞれ基板Ｗを水平姿勢で保
持するスピンチャック３１と、スピンチャック３１およ
びそれによって保持された基板Ｗの周囲に配置されるカ
ップ３２と、適宜の洗浄手段とが、外囲３３内に配備さ
れている。なお、外囲３３には、基板Ｗの搬入搬出用の
開口３４が設けられ、この開口３４を開閉するシャッタ
ー３５も設けられている。

【００２４】図に示すスピンチャック３１は、電動モー
ター３１ａの駆動によって鉛直軸Ｊ周りで回転する回転
軸３１ｂの上端に、基板Ｗを真空吸着保持する回転台３
１ｃが一体回転可能に取り付けられ、基板Ｗを鉛直軸Ｊ
周りで回転可能に保持するように構成されているが、例
えば、回転台３１ｃ上に基板Ｗの外周部を下面から支持
する基板支持部材を複数設けるとともに、これら基板支
持部材に支持された基板Ｗの水平方向の位置を規制する
位置決めピンを設けて、基板Ｗを回転台３１ｃの上面か
ら離間した状態で回転可能に保持するように構成された
スピンチャックを用いてもよい。

【００２５】スピンチャック３１とカップ３２とは図示
しない昇降駆動機構によって相対昇降可能に構成されて
いて、後述するようにスピンチャック３１の回転台３１
ｃをカップ３２の上方に突出させた状態で、基板搬送機
構３による基板Ｗの搬入・搬出が行えるようになってい
る。

【００２６】図では、洗浄手段として、純水などの洗浄
液を基板Ｗに向けて噴出供給するノズル３６と、ブラシ
洗浄機構３７とを備えているが、その他の洗浄手段を備
えていてもよい。なお、ブラシ洗浄機構３７は、昇降可
能で、鉛直軸Ｒ１周りで回転可能なブラシ支持アーム３
７ａの先端部に洗浄ブラシ３７ｂが鉛直軸Ｒ２周りで回
転可能に設けられて構成され、ブラシ支持アーム３７ａ
を鉛直軸Ｒ１周りに回転させて、洗浄ブラシ３７ｂを基
板Ｗの上面に沿わせて変位させることで基板Ｗの上面を
洗浄ブラシ３７ｂで洗浄できるように構成されている。

【００２７】上記構成を有する実施例装置の動作を図３
ないし図５を参照して以下に説明する。

【００２８】まず、基板収容器１が、図３（ａ）に示す
ように、正面を基板処理部４側に向けて回転台１３に載
置支持される。次に、図３（ｂ）に示すように、基板搬
送機構３の基板保持アーム２１（２１ａ、２１ｂ）の進
退方向（鉛直軸Ｑと鉛直軸Ｐとを結ぶ方向であって図の
二点鎖線で示す方向）に対して、基板収容器１の正面が
直交するように、基板搬送機構３から見て右側（図の上
側）の回転台１３を鉛直軸Ｐ周りで時計周りに所定角度
θだけ回転させ、基板搬送機構３から見て左側（図の下
側）の回転台１３を鉛直軸Ｐ周りで反時計周りに所定角
度θだけ回転させる。

【００２９】上記状態において、基板搬送機構３は、以
下のようにして基板Ｗを基板収容器１から取り出す。ま
ず、基板保持アーム２１を鉛直軸Ｑ周りに回転させて、
図３（ｂ）の二点鎖線に示すように、基板保持アーム２
１の進退方向を基板Ｗを取り出す基板収納器１の正面側
に向けるとともに、基板保持アーム２１を昇降移動させ
て２個の基板保持アーム２１ａ、２１ｂのうちのいずれ
か一方の基板保持アーム２１ａまたは２１ｂ（ここでは
２１ａとする）を、取り出す基板Ｗの高さ位置に応じた
高さに位置させる。そして、取り出す基板Ｗの若干下方
の高さで、基板収容器１内に基板保持アーム２１ａを進
入させ、基板保持アーム２１ａを所定量上昇移動させて
取り出す基板Ｗを保持し、その状態で、基板保持アーム
２１ａを後退させて、基板収容器１から基板Ｗを取り出
す。なお、図４（ａ）に示すように、基板保持アーム２
１の幅Ｂａが基板収容器１に刻設された収納溝１ａの幅
Ｂｂよりも狭いので、基板保持アーム２１は収納溝１ａ
と干渉せずに、基板Ｗを取り出すことができ、また、収
納することもできる。

【００３０】基板収容器１から取り出された基板Ｗは以
下のようにして基板処理部４に搬入される。まず、基板
保持アーム２１を鉛直軸Ｑ周りで回転させて、図５
（ａ）または図５（ｂ）に示すように、基板保持アーム
２１の進退方向を基板Ｗを搬入する基板処理部４（４ａ
または４ｂ）のスピンチャック３１の回転中心Ｊ方向に
向けるとともに、基板保持アーム２１を昇降移動させ
て、カップ３２の上方から突出された回転台３１ｃの若
干上方に基板Ｗを搬入できる高さに位置させる。一方
で、基板処理部４側では、シャッター３５を駆動して開
口３４を開くとともに、スピンチャック３１とカップ３
２とを相対昇降させて、回転台３１ｃをカップ３２の上
方に突出させる。そして、基板処理部４内に基板保持ア
ーム２１ａを進入させ、基板保持アーム２１ａを所定量
下降移動させて基板Ｗを回転台３１ｃに引き渡し、基板
保持アーム２１ａを後退させて基板処理部４から退出さ
せる。基板処理部４では、シャッター３５を駆動して開
口３４を閉じ、受け取った基板Ｗを回転台３１ｃに保持
させるとともに、スピンチャック３１とカップ３２とを
相対昇降させて、スピンチャック３１およびそれによっ
て保持された基板Ｗの周囲にカップ３２を配置させ、そ
の状態で、基板Ｗを鉛直軸Ｊ周りで回転させながら洗浄
手段を用いて基板Ｗに適宜の洗浄処理が施される。な
お、図４（ｂ）に示すように、基板保持アーム２１はＵ
の字型の形状に構成しているので、基板保持アーム２１
は回転台３１ｃと干渉せずに、基板Ｗを基板処理部４に
搬入（スピンチャック３１に引き渡す）ことができ、ま
た、搬出することもできる。

【００３１】洗浄処理を終えた基板Ｗの基板処理部４か
らの搬出は以下のようにして行われる。まず、上記基板
Ｗの搬入時と同様の動作で、基板保持アーム２１を鉛直
軸Ｑ周りで回転させて、基板保持アーム２１の進退方向
を基板Ｗを搬出する基板処理部４（４ａまたは４ｂ）の
スピンチャック３１の回転中心Ｊ方向に向ける。そし
て、他方の基板保持アーム２１ｂまたは２１ａ（ここで
は２１ｂとする）を昇降移動させて、カップ３２の上方
から突出された回転台３３に保持されている洗浄処理済
の基板Ｗの若干下方に進入できる高さに基板保持アーム
２１ｂを位置させる。一方で、基板処理部４側では、シ
ャッター３５を駆動して開口３４を開くとともに、スピ
ンチャック３１とカップ３２とを相対昇降させて、洗浄
処理済の基板Ｗを保持している回転台３１ｃをカップ３
２の上方に突出させる。そして、基板処理部４内に基板
保持アーム２１ｂを進入させる。一方で、回転台３１ｃ
は基板Ｗの保持を解除して基板Ｗを載置支持しただけの
状態にする。そして、基板保持アーム２１ｂを所定量上
昇移動させて基板Ｗを回転台３１ｃからすくい上げるよ
うにして受け取り、基板Ｗを保持した基板保持アーム２
１ｂを後退させて基板処理部４から退出させ、洗浄処理
済の基板Ｗを基板処理部４から搬出する。

【００３２】基板処理部４から搬出された基板Ｗは、以
下のようにして基板収容器１に収納される。まず、上記
基板Ｗの取り出し時と同様の動作で、基板保持アーム２
１を鉛直軸Ｑ周りで回転させて、基板保持アーム２１の
進退方向を基板Ｗを収納する基板収納器１の正面側に向
ける。そして、基板保持アーム２１を昇降移動させて、
基板Ｗを収納する収納溝１ａの高さに応じた高さに基板
保持アーム２１ｂを位置させる。この状態で、洗浄処理
済の基板Ｗを保持した基板保持アーム２１ｂを基板収容
器１内に進入させて洗浄処理済の基板Ｗを収納溝１ａに
収納し、基板保持アーム２１ｂを所定量下降移動させて
その基板Ｗを収納溝１ａに引き渡して空の基板保持アー
ム２１ｂを後退させ、基板収容器１への基板Ｗの収納を
行う。

【００３３】この実施例装置では、基板収容器１から基
板Ｗを１枚ずつ順次取り出し、２台の基板処理部４ａ、
４ｂで並行して洗浄処理を行わせ、洗浄処理済の基板Ｗ
を順次基板収容器１に収容するように動作する。

【００３４】すなわち、基板搬送機構３は、基板保持ア
ーム２１ａを用いて１枚目の基板Ｗを基板収容器１から
取り出し、その基板Ｗをいずれか一方の基板処理部４
（４ａとする）に搬入すると、すぐに（１枚目の基板Ｗ
が基板処理部４ａで洗浄処理を受けている間に）、基板
保持アーム２１ａを用いて２枚目の基板Ｗを基板収容器
１から取り出し、その基板Ｗを他方の基板処理部４ｂに
搬入する。それに続いてすぐに（１枚目の基板Ｗが基板
処理部４ａで、２枚目の基板Ｗが基板処理部４ｂで洗浄
処理を受けている間に）、基板搬送機構３は、基板保持
アーム２１ａを用いて３枚目の基板Ｗを基板収容器１か
ら取り出し、基板保持アーム２１ａを基板処理部４ａに
進入できる方向に向けるとともに、基板保持アーム２１
ｂを基板処理部４ａからの基板Ｗの搬出高さに位置させ
る。そして、１枚目の基板Ｗが洗浄処理を終えると、基
板搬送機構３は、空の基板保持アーム２１ｂを用いて洗
浄処理済の１枚目の基板Ｗを基板処理部４ａから搬出す
るとともに、基板保持アーム２１ａに保持している３枚
目の基板Ｗを基板処理部４ａに搬入する。つまり、基板
保持アーム２１ａ、２１ｂを用いて、基板処理部４ａに
対する１枚目の基板Ｗと３枚目の基板Ｗとの交換を行
う。そして、基板保持機構３は、基板保持アーム２１ｂ
に保持している洗浄処理済の１枚目の基板Ｗを基板収容
器１に収容するとともに、それに続いて、基板保持アー
ム２１ａを用いて４枚目の基板Ｗを基板収容器１から取
り出し、基板保持アーム２１を基板処理部４ｂに進入で
きる方向に向けるとともに、基板保持アーム２１ｂを基
板処理部４ｂからの基板Ｗの搬出高さに位置させる。そ
して、２枚目の基板Ｗが洗浄処理を終えると、基板搬送
機構３は、基板保持アーム２１ａ、２１ｂを用いて、基
板処理部４ｂに対する２枚目の基板Ｗと４枚目の基板Ｗ
との交換を行い、基板保持アーム２１ｂに保持している
洗浄処理済の２枚目の基板Ｗを基板収容器１に収容する
とともに、それに続いて、基板保持アーム２１ａを用い
て５枚目の基板Ｗを基板収容器１から取り出す。以後同
様にして、基板収容器１から基板Ｗを１枚ずつ順次取り
出し、奇数枚目の基板Ｗを基板処理部４ａで、偶数枚目
の基板Ｗを基板処理部４ｂで並行して洗浄処理させ洗浄
処理済の基板Ｗを順次基板収容器１に収容していく。

【００３５】また、この実施例装置では、上述したよう
に２個の基板保持アーム２１ａ、２１ｂのうちのいずれ
か一方の基板保持アーム（上記説明では２１ａである
が、２１ｂとしてもよい）を、基板収容器１よりの基板
Ｗの取り出しから基板処理部４への基板Ｗの搬入までの
基板Ｗの搬送のみに用い、他方の基板保持アーム（上記
説明では２１ｂであるが、２１ａとしてもよい）を、基
板処理部４よりの基板Ｗの搬出から基板収容器１への基
板Ｗの収納までの基板Ｗの搬送のみに用いるようにして
いる。これにより、洗浄処理を終えた基板Ｗを、未処理
の基板Ｗの搬送に用いた基板保持アームで汚すなどの不
都合を無くすことができる。

【００３６】なお、例えば、図６に示すように、載置台
２に基板収納器１を１個または３個以上載置支持するよ
うに構成してもよい。図６（ａ）の構成の基板収納器１
や、図６（ｂ）の構成の中央の基板収納器１のように、
正面が基板搬送機構３の基板保持アーム２１（２１ａ、
２１ｂ）の進退方向に対して直交するように載置台２に
載置支持されるように配置すれば、鉛直軸Ｐ周りの回転
が不要となるので、この基板収容器１に対しては基板収
容器回転機構１０を省略することができる。

【００３７】また、図７（ａ）に示すように、基板収容
器１を鉛直方向に多段（図では２段であるが３段以上で
あってもよい）に積層して配置するように構成してもよ
い。なお、例えば、図７（ｂ）に示すように、基板収容
器１を水平方向に２個、鉛直方向に２段積層して配置す
る場合の上段の各基板収容器１に対する基板収容器回転
機構１０は、主動プーリ１５ａ、従動プーリ１５ｂ、ベ
ルト１５ｃを含むベルト伝動機構１５で、モーター１４
の回転力を支軸１２に伝動するように構成してもよい。

【００３８】また、上記各構成において、基板収容器１
を載置台２に載置するときに、基板収容器１の正面が基
板搬送機構３の基板保持アーム２１（２１ａ、２１ｂ）
の進退方向に対して直交するように基板収容器１を載置
台２に載置させるようにすれば、基板収容器回転機構１
０を省略することもできる。

【００３９】また、基板処理部４は２台に限定されず、
１台のみ備えていてもよいし、３台以上備えていてもよ
い。また、基板収容器１や基板処理部４の配置は、上記
実施例の配置に限定されず、例えば、図８の各図に示す
ように配置してもよい。なお、図８の各図において基板
収納器１は鉛直方向に多段に積層配置してもよい。ま
た、図１や図８の各図の配置、あるいは、その他の配置
において、必要に応じて基板処理部４を鉛直方向に多段
に積層して配置するように構成してもよい。

【００４０】基板処理部４としては基板Ｗに洗浄処理を
施すものに限定されず、例えば、スピンチャック３１で
基板Ｗを保持して基板Ｗを回転させながら基板Ｗにレジ
スト膜を塗布するレジスト塗布装置（スピンコーター）
や、スピンチャック３１で基板Ｗを保持して基板Ｗを回
転して現像処理を施す現像処理装置（スピンデベロッパ
ー）などの基板処理部を備えた基板処理装置にも本発明
は同様に適用することができる。

【００４１】また、同種類の基板処理部のみを備える装
置に限定されず、例えば、図９に示すように、上記洗浄
処理部などの基板処理部４と、その他の種類の基板処理
部である熱処理部４０とを備えるなど、複数種類の基板
処理部を備えた基板処理装置にも本発明は同様に適用す
ることができる。

【００４２】なお、熱処理部４０は、基板Ｗを上面で支
持して基板Ｗに熱処理（加熱処理や冷却処理）を施すホ
ットプレートやクールプレートなどの熱処理プレート４
１と、熱処理プレート４１を貫通して昇降可能に構成さ
れ、基板保持アーム２１との間での基板Ｗの受け渡しに
用いられる複数本（図では３本）の昇降ピン４２が、外
囲４３内に収納されて構成されている。外囲４３には、
基板Ｗの搬入搬出用の開口４４が設けられ、この開口４
４を開閉するシャッター４５も設けられている。

【００４３】この熱処理部４０への基板Ｗの搬入は以下
のようにして行われる。まず、基板保持アーム２１を鉛
直軸Ｑ周りで回転させて、基板保持アーム２１の進退方
向を熱処理部４０の熱処理プレート４１の中心方向に向
けるとともに、基板保持アーム２１を昇降移動させて基
板Ｗを熱処理プレート４１の上方に搬入できる高さに位
置させる。一方で、熱処理部４０側では、シャッター４
５を駆動して開口４４を開く。そして、熱処理部４０内
に基板保持アーム２１を進入させて基板Ｗを熱処理プレ
ート４１上方に位置させる。この状態で、昇降ピン４２
が上昇される。そして、基板保持アーム２１を所定量下
降移動させて基板Ｗを昇降ピン４２に引き渡し、空の基
板保持アーム２１を後退させて基板処理部４から退出さ
せる。その後、基板Ｗを受け取った昇降ピン４２を下降
させることでその基板Ｗが熱処理プレート４１の上面に
支持され、シャッター４５を駆動して開口４４が閉じら
れて、その基板Ｗに熱処理が施される。なお、図１０に
示すように、基板保持アーム２１はＵの字型の形状に構
成しているので、基板保持アーム２１は昇降ピン４２と
干渉せずに、基板Ｗを熱処理部４０に搬入（昇降ピン４
２に引き渡す）ことができ、また、搬出することもでき
る。

【００４４】熱処理を終えた基板Ｗの熱処理部４０から
の搬出は以下のようにして行われる。すなわち、熱処理
部４０側では、昇降ピン４２を上昇させて熱処理を終え
た基板Ｗを持ち上げ、熱処理プレート４１の上方に支持
させるとともに、シャッター４５を駆動して開口４４を
開く。一方で、上記基板Ｗの搬入時と同様の動作で、基
板保持アーム２１を鉛直軸Ｑ周りで回転させて、基板保
持アーム２１の進退方向を熱処理部４０の熱処理プレー
ト４１の中心方向に向け、また、基板保持アーム２１を
昇降移動させて、熱処理プレート４１の上方で昇降ピン
４２に支持されている熱処理済の基板Ｗの若干下方に進
入できる高さに基板保持アーム２１を位置させる。そし
て、熱処理部４０内に基板保持アーム２１を進入させ、
基板保持アーム２１を所定量上昇させて基板Ｗを昇降ピ
ン４２からすくい上げるようにして受け取り、基板Ｗを
保持した基板保持アーム２１を後退させて熱処理部４０
から退出させ、熱処理済の基板Ｗを熱処理部４０から搬
出する。

【００４５】図９の構成で、例えば、熱処理、洗浄処理
の順で基板Ｗに基板処理を施す場合、基板搬送機構３に
２個の基板保持アーム２１ａ、２１ｂを備え、基板収納
器１からの基板Ｗの取り出し、その基板Ｗの熱処理部４
０に対する搬入・搬出、熱処理済の基板Ｗの基板処理部
４への搬入を、一方の基板保持アーム２１ａ（２１ｂと
してもよい）で行い、洗浄処理済の基板Ｗの基板処理部
４からの搬出、その基板Ｗの基板収容器１への収納を、
他方の基板保持アーム２１ｂ（２１ａとしてもよい）で
行うようにしてもよいが、熱処理部４０での基板Ｗの交
換が行えるように、図１１に示すように、基板搬送機構
３に３個の基板保持アーム２１ａ、２１ｂ、２１ｃを備
え、基板収納器１よりの基板Ｗの取り出しから基板処理
部４への基板Ｗの搬入までを、３個の基板保持アーム２
１ａ、２１ｂ、２１ｃのうちのいずれか２個の基板保持
アーム（例えば、２１ａと２１ｂ）で行い、洗浄処理済
の基板Ｗの基板処理部４からの搬出、その基板Ｗの基板
収容器１への収納を、残りの基板保持アーム（例えば、
２１ｃ）で行うようにしてもよい。すなわち、基板保持
アーム２１ａを用いて未処理の基板Ｗを基板収納器１か
ら取り出し、次に、基板保持アーム２１ｂを用いて熱処
理済の基板Ｗを熱処理部４０から搬出するとともに、基
板保持アーム２１ａに保持している未処理の基板Ｗを熱
処理部４０に搬入し、次に、基板保持アーム２１ｃを用
いて洗浄処理済の基板Ｗを基板処理部４から搬出すると
ともに、基板保持アーム２１ｂに保持している熱処理済
の基板Ｗを基板処理部４に搬入し、次に、基板保持アー
ム２１ｃに保持している洗浄処理済の基板Ｗを基板収納
器１に収納するとともに、基板保持アーム２１ａを用い
て未処理の基板Ｗを基板収納器１から取り出すというよ
うに、３個の基板保持アーム２１ａ、２１ｂ、２１ｃを
交互に用いて一連の基板Ｗの搬送を行う。

【００４６】また、図９の構成で、例えば、洗浄処理、
熱処理の順で基板Ｗに基板処理を施す場合、基板搬送機
構３に２個の基板保持アーム２１ａ、２１ｂを備え、基
板収納器１よりの基板Ｗの取り出しから基板処理部４へ
の基板Ｗの搬入までの基板の搬送を、一方の基板保持ア
ーム２１ａ（２１ｂとしてもよい）で行い、洗浄処理済
の基板Ｗの基板処理部４からの搬出、その基板Ｗの熱処
理部４０に対する搬入・搬出、全ての処理を終えた基板
Ｗの基板収容器１への収納を、他方の基板保持アーム２
１ｂ（２１ａとしてもよい）で行うようにしてもよい
が、基板搬送機構３に３個の基板保持アーム２１ａ、２
１ｂ、２１ｃを備え、基板収納器１よりの基板Ｗの取り
出しから基板処理部４への基板Ｗの搬入までを、３個の
基板保持アーム２１のうちのいずれか１個の基板保持ア
ーム（例えば、２１ａ）で行い、洗浄処理済の基板Ｗの
基板処理部４からの搬出、その基板Ｗの熱処理部４０に
対する搬入・搬出、全ての処理を終えた基板Ｗの基板収
容器１への収納を、残りの２個の基板保持アーム（例え
ば、２１ｂ、２１ｃ）で行うようにしてもよい。すなわ
ち、基板保持アーム２１ａを用いて未処理の基板Ｗを基
板収納器１から取り出し、次に、基板保持アーム２１ｂ
を用いて洗浄処理済の基板Ｗを基板処理部４から搬出す
るとともに、基板保持アーム２１ａに保持している未処
理の基板Ｗを基板処理部４に搬入し、次に、基板保持ア
ーム２１ｃを用いて熱処理済の基板Ｗを熱処理部４０か
ら搬出するとともに、基板保持アーム２１ｂに保持して
いる洗浄処理済の基板Ｗを熱処理部４０に搬入し、次
に、基板保持アーム２１ｃに保持している熱処理済の基
板Ｗを基板収納器１に収納するとともに、基板保持アー
ム２１ａを用いて未処理の基板Ｗを基板収納器１から取
り出すというように、３個の基板保持アーム２１ａ、２
１ｂ、２１ｃを交互に用いて一連の基板Ｗの搬送を行
う。

【００４７】なお、基板搬送機構３に備える基板保持ア
ーム２１の個数は１個でもよいし、必要に応じて４個以
上備えていてもよい。

【００４８】また、熱処理部４０などは、例えば、基板
処理部４の上に積層したり、基板収納器１の上に積層す
るなどして基板搬送機構３の周囲に配置するようにして
もよい。

【００４９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、基板収容器から基板を取り出
し、基板処理部に基板を搬入・搬出し、処理済の基板を
基板収容器に収容する一連の基板の搬送を１台の基板搬
送手段で行うように構成したので、装置構成を簡単にで
きるとともに、複数台の基板搬送手段間の基板の受け渡
し動作を省略でき、基板搬送手段間の位置調整を不要に
することができる。また、基板搬送手段を、基板保持ア
ームの水平方向への進退移動、及び、基板保持アームの
鉛直方向への昇降移動、及び、基板保持アームの鉛直軸
周りの回転のみ可能に構成したので、基板搬送手段の構
造も簡単にすることができ、装置構成の簡単化に寄与で
きるとともに、基板搬送手段の移動スペースを削減で
き、装置を小型化できるので、装置の設置面積も小さく
できる。また、基板搬送手段の周囲に、１個以上の基板
収容器と１個以上の基板処理部とを配置したので、装置
の設置面積を小さくすることもできる。

【００５０】請求項２に記載の発明によれば、基板収容
器を支持して鉛直軸周りに回転させる基板収容器回転手
段をさらに備えたので、基板保持アームが進入し易い方
向に基板収容器を向けることが可能になり、基板搬送手
段の周囲における基板収容器の配置に自由度を持たせる
ことができる。

【００５１】請求項３に記載の発明によれば、所定の基
板処理を施す前の基板の搬送と、所定の基板処理を施し
た後の基板の搬送とを別個の基板保持アームで行うよう
に構成したので、基板洗浄後の基板の汚染を防止できる
など、所定の基板処理を施す前の基板の搬送に用いた基
板保持アームから、所定の基板処理後の基板への影響を
防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る基板処理装置の全体構
成を示す平面図と一部省略側面図である。

【図２】基板搬送機構の構成を示す図である。

【図３】実施例装置の動作を説明するための図である。

【図４】同じく、実施例装置の動作を説明するための図
である。

【図５】同じく、実施例装置の動作を説明するための図
である。

【図６】基板収容器の配置の変形例の一例の構成を示す
平面図である。

【図７】基板収容器の配置の別の変形例の一例の構成を
示す図である。

【図８】基板処理部の配置の変形例の一例の構成を示す
平面図である。

【図９】異なる種類の基板処理部を備えた実施例装置の
構成を示す平面図である。

【図１０】熱処理部に対する基板の搬入・搬出動作を説
明するための図である。

【図１１】基板搬送機構に基板保持アームを３個備えた
場合の要部構成を示す図である。

【図１２】従来装置の構成を示す平面図である。

【符号の説明】

１：基板収容器 ３：基板搬送機構 ４（４ａ、４ｂ）：基板処理部 １０：基板収容器回転機構 ２１（２１ａ〜２１ｃ）：基板保持アーム ２４：進退移動部 ２６：基板保持アーム回転用のモーター ２７：昇降移動部 ４０：熱処理部 Ｗ：基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の基板が収容可能な基板収容器に
   対する基板の取り出し・収納と、基板に所定の処理を施
   す基板処理部に対する基板の搬入・搬出とが可能な基板
   保持アームを有し、前記基板保持アームの水平方向への
   進退移動、及び、前記基板保持アームの鉛直方向への昇
   降移動、及び、前記基板保持アームの鉛直軸周りの回転
   のみが可能に構成された基板搬送手段を備え、 この基板搬送手段の周囲に、１個以上の基板収容器と１
   個以上の基板処理部とを配置したことを特徴とする基板
   処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記基板収容器を支持して鉛直軸周りに回転させる基板
   収容器回転手段をさらに備えたことを特徴とする基板処
   理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の基板処理装置
   において、 前記基板搬送手段には、所定の基板処理を施す前の基板
   の搬送のみに用いる１または複数個の第１の基板保持ア
   ームと、前記所定の基板処理を施した後の基板の搬送の
   みに用いる１または複数個の第２の基板保持アームとを
   備えていることを特徴とする基板処理装置。