JPH10301262A - ポジ型感光性平版印刷版 - Google Patents

ポジ型感光性平版印刷版

Info

Publication number
JPH10301262A
JPH10301262A JP10606897A JP10606897A JPH10301262A JP H10301262 A JPH10301262 A JP H10301262A JP 10606897 A JP10606897 A JP 10606897A JP 10606897 A JP10606897 A JP 10606897A JP H10301262 A JPH10301262 A JP H10301262A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
group
polymer
lithographic printing
printing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10606897A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3736707B2 (ja
Inventor
Mitsuhiro Imaizumi
充弘 今泉
Satoshi Takita
敏 滝田
Keiji Akiyama
慶侍 秋山
Shiro Tan
史郎 丹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP10606897A priority Critical patent/JP3736707B2/ja
Publication of JPH10301262A publication Critical patent/JPH10301262A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3736707B2 publication Critical patent/JP3736707B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 消去性能、残色、耐刷性能、耐薬品性能が良
好なポジ型感光性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 陽極酸化処理を施したアルミニウム支持
体上に、酸基を有する構成成分及びオニウム基を有する
構成成分を有する高分子化合物を含有する中間層を設け
た上に、ポジ型感光層を設けてなる感光性平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版に
関し、特にポジ型感光性平版印刷版に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、広く使用されているポジ型感
光性平版印刷版は、陽極酸化処理を施したアルミニウム
支持体上に、o−キノンジアジド化合物を含むポジ型感
光層を設けたものである。o−キノンジアジド化合物は
紫外線露光によりカルボン酸に変化することが知られて
おり、画像露光後アルカリ水溶液で現像すると当該感光
層の露光部のみが溶解除去され、支持体表面が露出す
る。従って、未露光部(画像部)は親油的な感光層が残
存するためインキ受容部になり、露光部(非画像部)は
親水的な支持体表面が露出するため、水を保持しインキ
反発部になる。ポジ型平版印刷版では、より高い耐刷性
能(一つの版でより多くの印刷物を印刷できること)が
望まれているが、従来の平版印刷版は十分なものでなか
った。
【0003】これらのポジ型感光性平版印刷版の感光層
には、上記のo−ナフトキノンジアジド化合物と結合剤
(以下バインダーと称す)としては通常はノボラック樹
脂が用いられてきた。このため現像液としてはノボラッ
ク樹脂を溶解可能なpH13.0前後のアルカリ性水溶
液を用いることが一般的である。
【0004】しかしながら、このようなポジ型感光性平
版印刷版において、該感光層の露光部を現像して得られ
た非画像部には、感光層中に含まれる物質、例えば染料
等、が不可逆的に吸着し、非画像部を汚染するため、い
わゆる残色が生じて修正工程で画像部と非画像部の識別
が困難であったり、修正後が明瞭に残り不均一な版面と
なり、その程度がひどくなると汚れとなるため印刷版と
して使用できなくなるという問題があった。また、消去
性能(一般に消去液と称される薬品を用いて不要な画像
部の除去を行う際の除去の容易さ)も十分でなく、その
改良が望まれていた。
【0005】これを改善するため、従来は陽極酸化処理
したアルミニウム支持体表面を英国特許第2,098,
627号公報に記載のアリールスルホン酸ナトリウムを
下塗りする方法や特開昭63−130391号公報に記
載のβ−アラニンを下塗りする方法、あるいは低分子量
化合物のみならず、特公昭46−35685号公報に記
載のポリビニルホスホン酸を下塗りする方法などが提案
されている。しかしながらこれらの方法では、非画像部
の残色の低減が不十分であったり、上述の“汚れ”の発
生を完全におさえることができなかったりするなどの問
題があり、更には感光性組成物と支持体との密着が不十
分になるために耐刷性が大幅に低下する問題があり、満
足できるものではなく、その改良が望まれていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、画像露光して現像処理した時に、非画像部の残色が
少なく、汚れが生じにくく、消去性も良好な平版印刷版
を与えるポジ型感光性平版印刷版を提供することであ
る。更に、本発明の他の目的は画像部が支持体に強固に
密着して、耐刷性が優れ、耐薬品性(プレートクリーナ
ーで画像を拭きながら印刷する際、正常に印刷すること
ができる枚数)が良好な平版印刷版を与えるポジ型感光
性平版印刷版を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、下記感光性平版印刷版により上記の目的を解決す
るに至った。すなわち、本発明は、陽極酸化処理を施し
たアルミニウム支持体上に、酸基を有する構成成分とオ
ニウム基を有する構成成分を有する高分子を含有する層
を設けた上に、ポジ型感光層を設けることを特徴とする
ポジ型感光性平版印刷版により達成されたものである。
【0008】本発明は、陽極酸化処理を施したアルミニ
ウム支持体上に、酸基を有する構成成分とオニウム基を
有する構成成分とを重合してなる高分子化合物を含む中
間層を設けることにより、中間層に含まれる高分子化合
物のオニウム基が感光層中の前記染料の支持体への吸着
を防ぐことができ、一方、非画像部においては、前記高
分子化合物中の酸基がアルカリ現像液で容易に解離する
ため、この高分子化合物は支持体から溶解除去されるた
め残色に優れ、上述の汚れも生じにくくなり、更に、驚
くべきことに消去性も向上した。また、中間層に含まれ
る高分子化合物により画像部と支持体との密着性が著し
く向上するため、耐刷性能が向上し、薬品を用いた場合
の耐刷性能(耐薬品性)も大幅に良化した。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の中間層形成に用い
られる高分子化合物について詳しく説明する。本発明の
高分子化合物は、酸基を有する構成成分とオニウム基を
有する構成成分とを重合してなる高分子化合物である。
ここで、酸基として好ましいものは酸解離指数(pK
a)が7以下の酸基が好ましく、より好ましくは−CO
OH,−SO3 H,−OSO3 H,−PO32 ,−O
PO32 ,−CONHSO2 ,−SO2 NHSO2
であり、特に好ましくは−COOHである。また、オニ
ウム基として好ましいものは、周期律表第V族あるいは
第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましく
は窒素原子、リン原子あるいはイオウ原子からなるオニ
ウム基であり、特に好ましくは窒素原子からなるオニウ
ム基である。本発明の高分子化合物の中で、好ましく
は、この高分子化合物の主鎖構造がアクリル樹脂やメタ
クリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリマーあ
るいはウレタン樹脂あるいはポリエステルあるいはポリ
アミドであることを特徴とするポリマーである。より好
ましくは、この高分子化合物の主鎖構造がアクリル樹脂
やメタクリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリ
マーであることを特徴とするポリマーである。特に好ま
しくは、酸基を有する構成成分が下記の一般式(1)あ
るいは一般式(2)で表される重合可能な化合物であ
り、オニウム基を有する構成成分が下記の一般式
(3)、一般式(4)あるいは一般式(5)で表される
ことを特徴とするポリマーである。
【0010】
【化1】
【0011】式中、Aは2価の連結基を表す。Bは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。D及びEはそれぞれ
独立して2価の連結基を表す。Gは3価の連結基を表
す。X及びX′はそれぞれ独立してpKaが7以下の酸
基あるいはそのアルカリ金属塩あるいはアンモニウム塩
を表す。R1 は水素原子、アルキル基またはハロゲン原
子を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して0または
1を表す。tは1〜3の整数である。酸基を有する構成
成分の中でより好ましくは、Aは−COO−または−C
ONH−を表し、Bはフェニレン基あるいは置換フェニ
レン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子ある
いはアルキル基である。D及びEはそれぞれ独立してア
ルキレン基あるいは分子式がCn2nO、Cn2nSある
いはCn2n+1Nで表される2価の連結基を表す。Gは
分子式がCn2n-1、Cn2n-1O、Cn2n-1Sあるい
はCn2nNで表される3価の連結基を表す。但し、こ
こでnは1〜12の整数を表す。X及びX′はそれぞれ
独立してカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、硫酸モ
ノエステルあるいは燐酸モノエステルを表す。R1は水
素原子またはアルキル基を表す。a,b,d,eはそれ
ぞれ独立して0または1を表すが、aとbは同時に0で
はない。酸基を有する構成成分の中で特に好ましくは一
般式(1)で示す化合物であり、Bはフェニレン基ある
いは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基ある
いは炭素数1〜3のアルキル基である。D及びEはそれ
ぞれ独立して炭素数1〜2のアルキレン基あるいは酸素
原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。R
1 は水素原子あるいはメチル基を表す。Xはカルボン酸
基を表す。aは0であり、bは1である。
【0012】酸基を有する構成成分の具体例を以下に示
す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるものでは
ない。 (酸基を有する構成成分の具体例)アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、
【0013】
【化2】
【0014】
【化3】
【0015】
【化4】
【0016】次に、オニウム基を有する構成成分が一般
式(3)、(4)、(5)で表わされることを特徴とす
るポリマーについて説明する。
【0017】
【化5】
【0018】式中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。Mはそれぞれ独立し
て2価の連結基を表す。Y1は周期率表第V族の原子を
表し、Y2は周期率表第VI族の原子を表す。Z-は対アニ
オンを表す。R2は水素原子、アルキル基またはハロゲ
ン原子を表す。R3,R4,R5,R7はそれぞれ独立して
水素原子あるいは場合によっては置換基が結合してもよ
いアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、R6
アルキリジン基あるいは置換アルキリジンを表すが、R
3とR4あるいはR6とR7はそれぞれ結合して環を形成し
てもよい。j,k,mはそれぞれ独立して0または1を
表す。uは1〜3の整数を表す。オニウム基を有する構
成成分の中でより好ましくは、Jは−COO−または−
CONH−を表し、Kはフェニレン基あるいは置換フェ
ニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子あ
るいはアルキル基である。Mはアルキレン基あるいは分
子式がCn2nO、Cn2nSあるいはCn2n+1Nで表
される2価の連結基を表す。但し、ここでnは1〜12
の整数を表す。Y1は窒素原子またはリン原子を表し、
2はイオウ原子を表す。Z-はハロゲンイオン、P
6 -、BF4 -あるいはR8SO3 -を表す。R2は水素原子
またはアルキル基を表す。R3,R4,R 5,R7はそれぞ
れ独立して水素原子あるいは場合によっては置換基が結
合してもよい炭素数1〜10のアルキル基、芳香族基、
アラルキル基を表し、R6は炭素数1〜10のアルキリ
ジン基あるいは置換アルキリジンを表すが、R3とR4
るいはR6とR7はそれぞれ結合して環を形成してもよ
い。j,k,mはそれぞれ独立して0または1を表す
が、jとkは同時に0ではない。オニウム基を有する構
成成分の中で特に好ましくは、Kはフェニレン基あるい
は置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基あるい
は炭素数1〜3のアルキル基である。Mは炭素数1〜2
のアルキレン基あるいは酸素原子で連結した炭素数1〜
2のアルキレン基を表す。Z-は塩素イオンあるいはR8
SO3 -を表す。R2は水素原子あるいはメチル基を表
す。jは0であり、kは1である。
【0019】オニウム基を有する構成成分の具体例を以
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。 (オニウム基を有する構成成分の具体例)
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】なお、ここで使用する高分子化合物には酸
基を有する構成成分を20モル%以上、好ましくは40
モル%以上含み、オニウム基を有する構成成分を1モル
%以上、好ましくは5モル%以上含むことが望ましい。
酸基を有する構成成分が20モル%以上含まれると、ア
ルカリ現像時の溶解除去が一層促進され、オニウム基を
有する構成成分が1モル%以上含まれると酸基との相乗
効果により密着性が一層向上される。また、酸基を有す
る構成成分は1種類あるいは2種類以上組み合わせても
良く、また、オニウム基を有する構成成分も1種類ある
いは2種類以上組み合わせても良い。更に、当該発明に
係る高分子化合物は、構成成分あるいは組成比あるいは
分子量の異なるものを2種類以上混合して用いてもよ
い。次に、当該発明に用いられる高分子化合物の代表的
な例を以下に示す。なお、ポリマー構造の組成比はモル
百分率を表す。
【0023】
【化8】
【0024】
【化9】
【0025】
【化10】
【0026】
【化11】
【0027】本発明に係る高分子化合物は、一般には、
ラジカル連鎖重合法を用いて製造することができる
(“Textbook of Polymer Science" 3rd ed,(1984)F.W.
Billmeyer,A Wiley-Interscience Publication参照)。
本発明に係る高分子化合物の分子量は広範囲であっても
よいが、光散乱法を用いて測定した時、重量平均分子量
(Mw)が500〜2,000,000であることが好
ましく、また2,000〜600,000の範囲である
ことが更に好ましい。また、この高分子化合物中に含ま
れる未反応モノマー量は広範囲であってもよいが、20
wt%以下であることが好ましく、また10Wt%以下
であることが更に好ましい。
【0028】次に、本発明に係る高分子化合物の合成例
を示す。 〔合成例〕p−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメ
チルアンモニウムクロリドとの共重合体(No.1)の
合成 p−ビニル安息香酸[北興化学工業(株)製]146.
9g(0.99mol)、ビニルベンジルトリメチルア
ンモニウムクロリド44.2g(0.21mol)およ
び2−メトキシエタノール446gを1Lの3口フラス
コに取り、窒素気流下攪拌しながら、加熱し75℃に保
った。次に2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2,
76g(12mmol)を加え、攪拌を続けた。2時間
後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2,76g
(12mmol)を追加した。更に、2時間後、2,2
−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2.76g(12mm
ol)を追加した。2時間攪拌した後、室温まで放冷し
た。この反応液を攪拌下12Lの酢酸エチル中に注い
だ。析出する固体を濾取し、乾燥した。その収量は18
9.5gであった。得られた固体は光散乱法で分子量測
定を行った結果、重量平均分子量(Mw)は3.2万で
あった。本発明に係る他の高分子化合物も同様の方法で
合成される。
【0029】本発明に係る高分子化合物の中間層は、後
述する陽極酸化処理を施したアルミニウム板上に種々の
方法により塗布して設けられる。
【0030】この層は次のような方法で設けることがで
きる。メタノール、エタノール、メチルエチルケトンな
どの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤あるいはこれら
有機溶剤と水との混合溶剤に本発明に係る高分子化合物
を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して
設ける方法と、メタノール、エタノール、メチルエチル
ケトンなどの有機溶剤あるいはこれら有機溶剤と水との
混合溶剤もしくはそれらの混合溶剤に本発明の高分子化
合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して高
分子化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗
浄、乾燥して有機中間層を設ける方法である。前者の方
法では、上記高分子化合物の0.005〜10重量%の
濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布な
どいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。上記の溶液は、
アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの
塩基性物質や、塩酸、リン酸、硫酸、硝酸などの無機
酸、ニトロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸
などの有機スルホン酸、フェニルホスホン酸などの有機
ホスホン酸、安息香酸、クマル酸、リンゴ酸などの有機
カルボン酸など種々有機酸性物質、ナフタレンスルホニ
ルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライドなどの有
機酸クロライド等によりpHを調整し、pH=0〜1
2、より好ましくはpH=0〜5、の範囲で使用するこ
ともできる。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良
のために黄色染料を添加することもできる。本発明の高
分子化合物の乾燥後の被覆量は、2〜100mg/m2
が適当であり、好ましくは5〜50mg/m2 である。
上記被覆量が2mg/m2 よりも少ないと、十分な効果
が得られない。また、100mg/m2 より多くても同
様である。
【0031】次に本発明のポジ型感光性平版印刷版につ
いて(1)支持体、(2)感光性組成物、(3)現像処
理の順に詳しく説明する。また、本発明において、感光
性平版印刷版はPS版ということもある。
【0032】<1>支持体 以下に本発明のポジ型感光性平版印刷版に使用される支
持体及びその処理に関して説明する。 (アルミニウム板)本発明において用いられるアルミニ
ウム板は、純アルミニウムまたはアルミニウムを主成分
とし微量の異原子を含むアルミニウム合金等の板状体で
ある。この異原子には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合成組成としては、10重量%以下の異原
子含有率のものである。本発明に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは、精錬技術上製造が困難であるため、できるだけ異
原子を含まないものがよい。また、上述した程度の異原
子含有率のアルミニウム合金であれば、本発明に使用し
得る素材という事ができる。このように本発明に使用さ
れるアルミニウム板は、その組成が特に限定されるもの
ではなく、従来公知、公用の素材のものを適宜利用する
事ができる。好ましい素材としては、JIS A 10
50、同1100、同1200、同3003、同310
3、同3005材が含まれる。本発明において用いられ
るアルミニウム板の厚さは、約0.1mm〜0.6mm程度
である。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、表
面の圧延油を除去するための、例えば界面活性剤または
アルカリ性水溶液で処理する脱脂処理が必要に応じて行
われる。
【0033】(粗面化処理及び陽極酸化処理)アルミニ
ウム板の表面を粗面化処理する方法としては、機械的に
粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方
法および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法を
用いることが出来る。また、電気化学的な粗面化法とし
ては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行
う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に
開示されているように両者を組み合わせた方法も利用す
ることが出来る。このように粗面化されたアルミニウム
板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処
理された後、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽
極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理
に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成する
ものならばいかなるものでも使用することができ、一般
には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類
によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる
電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一
般的には電解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜7
0℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、
電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極
酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より
好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸
化皮膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は平
版印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気
力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽
極酸化皮膜が形成されるのが一般的である。
【0034】(親水化処理)本発明において、上述の処
理を施した後に必須ではないが用いてもよい処理として
は、従来より知られている、親水化処理がある。このよ
うな親水化処理としては、米国特許第2,714,06
6号、第3,181,461号、第3,280,734
号、第3,902,734号に開示されているようなア
ルカリ金属珪酸塩(例えば珪酸ナトリウム水溶液)法が
ある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水
溶液中で浸漬処理されるか又は電解処理される。あるい
は、特公昭36−22063号公報に開示されている弗
化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,86
8号、第4,153,461号、第4,689,272
号に開示されている様なポリビニルホスホン酸で処理す
る方法などが用いられる。これらの中で、本発明におい
て特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩
処理について以下に説明する。
【0035】(珪酸塩処理)上述の如き処理を施したア
ルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が
0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜10重量%で
あり、25℃でのpHが10〜13である水溶液に、例
えば15〜80℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカ
リ金属珪酸塩水溶液のpHが10より低いと液はゲル化
し13.0より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本
発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用され
る。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを高くするために
使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処
理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配
合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カル
シウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸
バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、
酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられ
る。第IVB族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタ
ン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸
チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸
化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジル
コニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属
塩もしくは、第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わ
せて使用することができる。これらの金属塩の好ましい
範囲は0.01〜10重量%であり、更に好ましい範囲
は0.05〜5.0重量%である。珪酸塩処理により、
アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、
印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ
性能が向上する。
【0036】(バックコート)支持体の裏面には、必要
に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコー
トとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高
分子化合物および特開平6−35174号公報記載の有
機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて
得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられ
る。これらの被覆層のうち、Si(OCH34、Si
(OC254、Si(OC374、Si(OC49
4などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、
それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れ
ており特に好ましい。
【0037】<2>感光性組成物 次に本発明の感光性平版印刷版に使用する感光性組成物
について詳しく述べる。本発明に使用される感光性組成
物としては、露光前後で現像液に対する溶解性、又は膨
潤性が変化するものであればいずれでも使用できる。以
下、代表的な感光性組成物について説明するが、これに
より本発明は限定されない。
【0038】感光性組成物の感光性化合物としては、o
−キノンジアジド化合物が挙げられ、その代表例として
o−ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。o−ナ
フトキノンジアジド化合物としては、特公昭43−28
403号公報に記載されている1,2−ジアゾナフトキ
ノンスルホン酸クロリドとピロガロール−アセトン樹脂
とのエステルであるものが好ましい。
【0039】その他の好適なo−キノンジアジド化合物
としては米国特許第3,046,120号及び同第3,
188,210号明細書中に記載されている1,2−ジ
アゾナフトキノンスルホン酸クロリドとフェノールホル
ムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
【0040】その他の有用なo−ナフトキノンジアジド
化合物としては、数多くの特許に報告され、知られてい
るものが挙げられる。例えば、特開昭47−5303
号、同48−63802号、同48−63803号、同
48−96575号、同49−38701号、同48−
13354号、特公昭37−18015号、同41−1
1222号、同45−9610号、同49−17481
号、特開平5−11444号、特開平5−19477
号、特開平5−19478号、特開平5−107755
号、米国特許第2,797,213号、同第3,45
4,400号、同第3,544,323号、同第3,5
73,917号、同第3,674,495号、同第3,
785,825号、英国特許第1,227,602号、
同第1,251,345号、同第1,267,005
号、同第1,329,888号、同第1,330,93
2号、ドイツ特許第854,890号等の各明細書中に
記載されているものを挙げることができる。
【0041】更にその他のo−キノンジアジド化合物と
しては、分子量1,000以下のポリヒドロキシ化合物
と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとの
反応により得られるo−ナフトキノンジアジド化合物も
使用することができる。例えば特開昭51−13940
2号、同58−150948号、同58−203434
号、同59−165053号、同60−121445
号、同60−134235号、同60−163043
号、同61−118744号、同62−10645号、
同62−10646号、同62−153950号、同6
2−178562号、同64−76047号、米国特許
第3,102,809号、同第3,126,281号、
同第3,130,047号、同第3,148,983
号、同第3,184,310号、同第3,188,21
0号、同第4,639,406号等の各公報又は明細書
に記載されているものを挙げることができる。
【0042】これらのo−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際には、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシ
ル基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸ク
ロリドを0.2〜1.2当量反応させることが好まし
く、0.3〜1.0当量反応させることがさらに好まし
い。1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドと
しては、1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸
クロリドが好ましいが、1,2−ジアゾナフトキノン−
4−スルホン酸クロリドも用いることができる。また得
られるo−ナフトキノンジアジド化合物は、1,2−ジ
アゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及び導入
量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキシル基
がすべて1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステ
ルに転換された化合物がこの混合物中に占める割合(完
全にエステル化された化合物の含有率)は5モル%以上
であることが好ましく、さらに好ましくは20〜99モ
ル%である。
【0043】また、o−ナフトキノンジアジド化合物を
用いずにポジ型に作用する感光性化合物として、例えば
特公昭52−2696号に記載されているo−ニトリル
カルビノールエステル基を含有するポリマー化合物やピ
リジニウム基含有化合物(特開平4−365049号な
ど)、ジアゾニウム基含有化合物(特開平5−2496
64号、特開平6−83047号、特開平6−3244
95号、特開平7−72621号など)も本発明に使用
することが出来る。更に光分解により酸を発生する化合
物と(特開平4−121748号、特開平4−3650
43号など)、酸により解離するC−O−C基又はC−
O−Si基を有する化合物との組み合せ系も本発明に使
用することができる。例えば光分解により酸を発生する
化合物とアセタール又はO、N−アセタール化合物との
組み合せ(特開昭48−89003号など)、オルトエ
ステル又はアミドアセタール化合物との組み合せ(特開
昭51−120714号など)、主鎖にアセタール又は
ケタール基を有するポリマーとの組み合せ(特開昭53
−133429号など)、エノールエーテル化合物との
組み合せ(特開昭55−12995号、特開平4−19
748号、特開平6−230574号など)、N−アシ
ルイミノ炭素化合物との組み合せ(特開昭55−126
236号など)、主鎖にオルトエステル基を有するポリ
マーとの組み合せ(特開昭56−17345号など)、
シリルエステル基を有するポリマーとの組み合せ(特開
昭60−10247号など)、及びシリルエーテル化合
物との組み合せ(特開昭60−37549号、特開昭6
0−121446号、特開昭63−236028号、特
開昭63−236029号、特開昭63−276046
号など)等が挙げられる。本発明の感光性組成物中に占
めるこれらのポジ型に作用する感光性化合物(上記のよ
うな組み合せを含む)の量は10〜50重量%が適当で
あり、より好ましくは15〜40重量%である。
【0044】o−キノンジアジド化合物は単独でも感光
層を構成し得るが、結合剤(バインダー)としてのアル
カリ水に可溶な樹脂と共に使用することが好ましい。こ
のようなアルカリ水に可溶性の樹脂としては、この性質
を有するノボラック樹脂があり、たとえばフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p
−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/
クレゾール(m−、p−、o−又はm−/p−/o−混
合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂などの
クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。こ
れらのアルカリ性可溶性高分子化合物は、重量平均分子
量が500〜100,000のものが好ましい。その
他、レゾール型のフェノール樹脂類も好適に用いられ、
フェノール/クレゾール(m−、p−、o−又はm−/
p−/o−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒ
ド樹脂が好ましく、特に特開昭61−217034号公
報に記載されているフェノール樹脂類が好ましい。
【0045】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特
開平2−866号公報に記載のスルホンアミド基を有す
るビニル樹脂やウレタン樹脂、特開平7−28244
号、特開平7−36184号、特開平7−36185
号、特開平7−248628号、特開平7−26139
4号、特開平7−333839号公報などに記載の構造
単位を有するビニル樹脂など種々のアルカリ可溶性の高
分子化合物を含有させることができる。特にビニル樹脂
においては、以下に示す(1)〜(4)のアルカリ可溶
性基含有モノマーから選ばれる少なくとも1種を重合成
分として有する皮膜形成性樹脂が好ましい。
【0046】(1)N−(4−ヒドロキシフェニル)ア
クリルアミドまたはN−(4−ヒドロキシフェニル)メ
タクリルアミド、o−、m−またはp−ヒドロキシスチ
レン、o−またはm−ブロモ−p−ヒドロキシスチレ
ン、o−またはm−クロル−p−ヒドロキシスチレン、
o−、m−またはp−ヒドロキシフェニルアクリレート
またはメタクリレート等の芳香族水酸基を有するアクリ
ルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類およびビドロキシスチレン
類、(2)アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無
水マレイン酸およびそのハーフエステル、イタコン酸、
無水イタコン酸およびそのハーフエステルなどの不飽和
カルボン酸、
【0047】(3)N−(o−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスル
ホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミ
ド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルア
ミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−
アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなど
のアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどのメタ
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
【0048】(4)トシルアクリルアミドのように置換
基があってもよいフェニルスルホニルアクリルアミド、
およびトシルメタクリルアミドのような置換基があって
もよいフェニルスルホニルメタクリルアミド。更に、こ
れらのアルカリ可溶性基含有モノマーの他に以下に記す
(5)〜(14)のモノマーを共重合した皮膜形成性樹
脂が好適に用いられる。(5)脂肪族水酸基を有するア
クリル酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例
えば、2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、(6)アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、ア
クリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−
クロロエチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリ
シジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリ
レートなどの(置換)アクリル酸エステル、(7)メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プ
ロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メ
タクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メ
タクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニル、メタクリ
ル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、メタ
クリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルメタクリレ
ート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレートなどの
(置換)メタクリル酸エステル、
【0049】(8)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、(9)エチルビ
ニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、
【0050】(10)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどの
ビニルエステル類、(11)スチレン、α−メチルスチ
レン、メチルスチレン、クロロメチルスチレンなどのス
チレン類、(12)メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
などのビニルケトン類、(13)エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどのオレ
フィン類、(14)N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど。
【0051】これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、
重量平均分子量が500〜500,000のものが好ま
しい。このようなアルカリ可溶性高分子化合物は1種類
あるいは2種類以上を組み合せて使用してもよく、全組
成物の80重量%以下、好ましくは30〜80重量%、
より好ましくは50〜70重量%の添加量で用いられ
る。この範囲であると現像性及び耐刷性の点で好まし
い。
【0052】更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールホルムアルデヒドとの縮合物あ
るいはこれらの縮合物のo−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸エステル(例えば特開昭61−243446号に
記載のもの)を併用することは画像の感脂性を向上させ
る上で好ましい。
【0053】(現像促進剤)本発明における感光性組成
物中には、感度アップおよび現像性の向上のために環状
酸無水物類、フェノール類および有機酸類を添加するこ
とが好ましい。環状酸無水物としては米国特許4,11
5,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェ
ノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェ
ノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、
4,4′,4″−トリヒドロキシ−トリフェニルメタ
ン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,
5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなど
が挙げられる。
【0054】更に、有機酸類としては、特開昭60−8
8942号、特開平2−96755号公報などに記載さ
れている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン
酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン
酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフ
ィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息
香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、
3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、
エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビ
ン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、フェノ
ール類および有機酸類の感光性組成物中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは
0.1〜5重量%である。
【0055】(現像安定剤)また、本発明における感光
性組成物中には、現像条件に対する処理の安定性(いわ
ゆる現像許容性)を広げるため、特開昭62−2517
40号公報や特開平4−68355号公報に記載されて
いるような非イオン界面活性剤、特開昭59−1210
44号公報、特開平4−13149号公報に記載されて
いるような両性界面活性剤を添加することができる。非
イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリス
テアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタン
トリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテルなどが挙げられる。両性界面
活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)
グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、
2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシ
エチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−
N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第
一工業(株)製)およびアルキルイミダゾリン系(例え
ば、商品名レボン15、三洋化成(株)製)などが挙げ
られる。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤
の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15重量
%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
【0056】(焼き出し剤、染料、その他)本発明にお
ける感光性組成物中には、露光後直ちに可視像を得るた
めの焼出し剤、画像着色剤としての染料やその他のフィ
ラーなどを加えることができる。本発明に用いることの
できる染料としては、特開平5−313359号公報に
記載の塩基性染料骨格を有するカチオンと、スルホン酸
基を唯一の交換基として有し、1〜3個の水酸基を有す
る炭素数10以上の有機アニオンとの塩からなる塩基性
染料をあげることができる。添加量は、全感光性組成物
の0.2〜5重量%である。
【0057】また、上記特開平5−313359号公報
に記載の染料と相互作用して色調を変えさせる光分解物
を発生させる化合物、例えば特開昭50−36209号
(米国特許3,969,118号)に記載のo−ナフト
キノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭5
3−36223号(米国特許4,160,671号)に
記載のトリハロメチル−2−ピロンやトリハロメチルト
リシジン、特開昭55−62444号(米国特許2,0
38,801号)に記載の種々のo−ナフトキノンジア
ジド化合物、特開昭55−77742号(米国特許4,
279,982号)に記載の2−トリハロメチル−5−
アリール1,3,4−オキサジアゾール化合物などを添
加することができる。これらの化合物は単独又は混合し
使用することができる。これらの化合物のうち400n
mに吸収を有する化合物を先の黄色染料として用いても
よい。
【0058】画像の着色剤として前記上記特開平5−3
13359号公報に記載の染料以外に他の染料を用いる
ことができる。塩形成性有機染料を含めて好適な染料と
して油溶性染料および塩基染料をあげることができる。
具体的には、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、(以上、オリエント化学工
業株式会社製)、ビクトリアピュアブルーBOH、ビク
トリアピュアブルーNAPS、エチルバイオレット6H
NAPS〔以上、保土谷化学工業(株)製〕、ローダミ
ンB〔C145170B〕、マラカイトグリーン(C1
42000)、メチレンブルー(C152015)等を
あげることができる。
【0059】また本発明における感光性組成物中には、
以下の黄色系染料を添加することができる。一般式
〔I〕、〔II〕あるいは〔III〕で表わされ、417n
mの吸光度が436nmの吸光度の70%以上である黄
色系染料
【0060】
【化12】
【0061】式〔I〕中、R1及びR2はそれぞれ独立に
水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アリール基又
はアルケニル基を示す。またR1とR2は環を形成しても
よい。R3、R4、R5はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜10のアルキル基を示す。G1、G2はそれぞれ独
立にアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基又はフルオロアルキルスルホニル基を示
す。またG1とG2は環を形成してもよい。さらにR1
2、R3、R4、R 5、G1、G2のうち1つ以上に1つ以
上のスルホン酸基、カルボキシル基、スルホンアミド
基、イミド基、N−スルホニルアミド基、フェノール性
水酸基、スルホンイミド基、又はその金属塩、無機又は
有機アンモニウム塩を有する。YはO、S、NR(Rは
水素原子もしくはアルキル基又はアリール基)、Se、
−C(CH32−、−CH=CH−より選ばれる2価原
子団を示し、n1は0又は1を示す。
【0062】
【化13】
【0063】式〔II〕中、R6及びR7はそれぞれ独立に
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ヘテロ環基、置換ヘテロ環基、アリル
基又は置換アリル基を表わし、また、R6とR7とは共に
それが結合している炭素原子と共に環を形成しても良
い。n2は0、1又は2を表わす。G3及びG4はそれぞ
れ独立に、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル
基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシル
基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリー
ルカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、フルオロ
アルキルスルホニル基を表わす。ただし、G3とG4が同
時に水素原子となることはない。また、G3とG4とはそ
れが結合している炭素原子と共に非金属原子から成る環
を形成しても良い。さらにR6、R7、G3、G4のうち1
つ以上に1つ以上のスルホン酸基、カルボキシル基、ス
ルホンアミド基、イミド基、N−スルホニルアミド基、
フェノール性水酸基、スルホンイミド基、又はその金属
塩、無機又は有機アンモニウム塩を有する。
【0064】
【化14】
【0065】式〔III〕中、R8、R9、R10、R11、R
12、R13はそれぞれ同じでも異なっていてもよく水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換ア
リール基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アシル基、
シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、ニトロ基、カルボキシル基、クロル基、ブ
ロモ基を表わす。
【0066】本発明における感光性平版印刷版は、前記
の各感光性組成物の成分を溶解する溶媒に溶かして支持
体上に塗布することによって得られる。ここで使用する
溶媒としては、γ−ブチロラクトン、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、
1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−
プロピルアセテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロ
リドン、テトラヒドロフルフリルアルコール、アセト
ン、ジアセトンアルコール、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ジエチレングリコールジメチルエー
テルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合して
使用する。そして上記成分中の濃度(固形分)は、2〜
50重量%が適当である。塗布量としては0.5g/m
2 〜4.0g/m2 が好ましい。0.5g/m2 よりも
少ないと耐刷性が劣化する。4.0g/m2 よりも多い
と耐刷性は向上するが、感度が低下してしまう。
【0067】本発明における感光性組成物中には、塗布
法を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−
170950号公報に記載されているようなフッ素系界
面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、
全感光性組成物の0.01〜1重量%であり、更に好ま
しくは0.05〜0.5重量%である。以上のようにし
て得られた平版印刷版では原画フィルムに対して忠実な
印刷物を得ることができるが焼ボケ及び印刷物のがさつ
き感が悪い。焼ボケを改良する方法としてこのようにし
て設けられた感光量の表面を凹凸にする方法がある。例
えば特開昭61−258255号公報に記載されている
ように感光液中に数μmの粒子を添加し、それを塗布す
る方法があるがこの方法では焼ボケの改良効果も小さく
かつがさつき感は全く改良されない。
【0068】ところが、例えば特開昭50−12580
5号、特公昭57−6582号、同61−28986
号、同62−62337号公報に記載されているような
感光量の表面に凹凸となる成分をつける方法を用いると
焼ボケは改良され、更に印刷物のがさつき感は良化す
る。更に、特公昭55−30619号公報に記載されて
いるように感光物の感光波長領域に吸収を持つ光吸収剤
をマット層中に含有させると焼ボケ・がさつき感がさら
に良化する。また1インチ175線の線数からなる原画
フィルムよりも焼ボケしやすく、印刷物のがさつき感が
出やすい1インチ300線以上の線数からなる原画フィ
ルムおよびFMスクリーニングにより得られた原画フィ
ルムを用いても良好な印刷物を得ることができる。以上
のように感光性印刷版の感光層表面に設けられた微少パ
ターンは次のようなものが望ましい。すなわち塗布部分
の高さは1〜40μm、特に2〜20μmの範囲が好ま
しく、大きさ(幅)は10〜10000μm、特に20
〜200μmの範囲が好ましい。また量は1〜1000
個/mm2 、好ましくは5〜500個/mm2 の範囲で
ある。
【0069】<3>現像処理 次に、本発明の感光性平版印刷板の現像処理について説
明する。 (露光)本発明の感光性平版印刷版は像露光された後に
現像処理される。像露光に用いられる活性光線の光源と
してはカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、タングステンランプ、ケミカルラ
ンプなどがある。放射線としては、電子線、X線、イオ
ンビーム、遠赤外線などがある。また、g線、i線、D
eep−UV光、高密度エネルギービーム(レーザービ
ーム)も使用される。レーザービームとしてはヘリウム
・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレー
ザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシマ
ーレーザー、半導体レーザー、YAGレーザーなどが挙
げられる。
【0070】(現像液)本発明の感光性平版印刷版の現
像液として好ましいものは、実質的に有機溶剤を含まな
いアルカリ性の水溶液である。具体的には珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム、NaOH、KOH、LiOH、第3
リン酸ナトリウム、第2リン酸ナトリウム、第3リン酸
アンモニウム、第2リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、アンモニア水などのような水溶液が適当である。
更に好ましくは(a)非還元糖から選ばれる少なくとも
一種の糖類および(b)少なくとも一種の塩基を含有
し、pHが9.0〜13.5の範囲にある現像液であ
る。以下この現像液について詳しく説明する。なお、本
明細書中において、特にことわりのない限り、現像液と
は現像開始液(狭義の現像液)と現像補充液とを意味す
る。
【0071】(非還元糖及び塩基)この現像液は、その
主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合
物と、少なくとも一種の塩基からなり、液のpHが9.
0〜13.5の範囲であることを特徴とする。かかる非
還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、
還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したト
レハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した
配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコール
に分類され、何れも好適に用いられる。トレハロース型
少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖
体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラ
シ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとして
はD,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L
−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジッ
ト、D,L−タリット、ズリシットおよびアロズルシッ
トなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られる
マルチトールおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元
体(還元水あめ)が好適に用いられる。これらの中で特
に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであ
り、特にD−ソルビット、サッカロース、還元水あめが
適度なpH領域に緩衝作用があることと、低価格である
ことで好ましい。これらの非還元糖は、単独もしくは二
種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占
める割合は0.1〜30重量%が好ましく、更に好まし
くは、1〜20重量%である。この範囲以下では十分な
緩衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高
濃縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。尚、
還元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐
色に変色し、pHも徐々に下がり、よって現像性が低下
するという問題点がある。
【0072】非還元糖に組み合わせる塩基としては従来
より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水
酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム、燐酸三ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、燐酸二ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられ
る。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロピノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。こ
れらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせ
て用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリ
ウム、同カリウムである。その理由は、非還元糖に対す
るこれらの量を調整することにより広いpH領域でpH
調整が可能となるためである。また、燐酸三ナトリウ
ム、同カリウム、炭酸ナトリウム、同カリウムなどもそ
れ自身に緩衝作用があるので好ましい。これらのアルカ
リ剤は現像液のpHを9.0〜13.5の範囲になるよ
うに添加され、その添加量は所望のpH、非還元糖の種
類と添加量によって決められるが、より好ましいpH範
囲は10.0〜13.2である。
【0073】現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基
からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液
として用いられる弱酸としては、pKaが10.0〜1
3.2のものが好ましい。このような弱酸としては、Pe
rgamon Press社発行のIONISATION CONSTANTS OF ORGANI
C ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記載されているも
のから選ばれ、例えば2,2,3,3−テトラフルオロ
プロパノール−1(pKa12.74)、トリフルオロ
エタノール(同12.37)、トリクロロエタノール
(同12.24)などのアルコール類、ピリジン−2−
アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−アルデヒ
ド(同12.05)などのアルデヒド類、サリチル酸
(同13.0)、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同
12.84)、カテコール(同12.6)、没食子酸
(同12.4)、スルホサリチル酸(同11.7)、
3,4−ジヒドロキシスルホン酸(同12.2)、3,
4−ジヒドロキシ安息香酸(同11.94)、1,2,
4−トリヒドロキシベンゼン(同11.82)、ハイド
ロキノン(同11.56)、ピロガロール(同11.3
4)、o−クレゾール(同10.33)、レゾルシノー
ル(同11.27)、p−クレゾール(同10.2
7)、m−クレゾール(同10.09)などのフェノー
ル性水酸基を有する化合物、
【0074】2−ブタノンオキシム(同12.45)、
アセトキシム(同12.42)、1,2−シクロヘプタ
ンジオンジオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグ
リオキシム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム
(同11.37)、アセトフェノンオキシム(同11.
35)などのオキシム類、アデノシン(同12.5
6)、イノシン(同12.5)、グアニン(同12.
3)、シトシン(同12.2)、ヒポキサンチン(同1
2.1)、キサンチン(同11.9)などの核酸関連物
質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸(同12.
32)、1−アミノ−3,3,3−トリフルオロ安息香
酸(同12.29)、イソプロピリデンジホスホン酸
(同12.10)、1,1−エチリデンジホスホン酸
(同11.54)、1,1−エチリデンジホスホン酸1
−ヒドロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾール
(同12.86)、チオベンズアミド(同12.8)、
ピコリンチオアミド(同12.55)、バルビツル酸
(同12.5)などの弱酸が挙げられる。
【0075】これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホ
サリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合
わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わ
せて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組
み合わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用さ
れる。
【0076】(界面活性剤)現像液には、現像性の促進
や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添
加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、
カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げら
れる。界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリ
ルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分
エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタ
エリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリ
コールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステ
ル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステ
ル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エス
テル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポ
リグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレ
ン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸
部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N
−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシ
エチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸
エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン
性界面活性剤、
【0077】脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキ
シアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、
ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム
塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム
塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキ
ルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エス
テル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類な
どのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラ
ブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチ
レンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カ
ルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタ
イン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの
両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の
中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなど
のポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それ
らの界面活性剤もまた包含される。
【0078】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に0.001〜10重量
%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加さ
れる。
【0079】(現像安定化剤)現像液には、種々の現像
安定化剤が用いられる。それらの好ましい例として、特
開平6−282079号公報記載の糖アルコールのポリ
エチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウム
ヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テ
トラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム
塩およびジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨー
ドニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特
開昭50−51324号公報記載のアニオン界面活性剤
または両性界面活性剤、また特開昭55−95946号
公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭56−
142528号公報に記載されている水溶性の両性高分
子電解質がある。更に、特開昭59−84241号公報
のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合
物、特開昭60−111246号公報記載のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶
性界面活性剤、特開昭60−129750号公報のポリ
オキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアル
キレンジアミン化合物、特開昭61−215554号公
報記載の重量平均分子量300以上のポリエチレングリ
コール、特開昭63−175858号公報のカチオン性
基を有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157
号公報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオ
キシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加
化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられ
る。
【0080】(有機溶剤)本発明の現像液は実質的に有
機溶剤を含まないものであるが、必要により有機溶剤が
加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解
度が約10重量%以下のものが適しており、好ましくは
5重量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニ
ルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニル
−1−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノール、
4−フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1−ブ
タノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオ
キシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m
−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジル
アルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノー
ル、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロ
ヘキサノールおよび4−メチルシクロヘキサノール、N
−フェニルエタノールアミンおよびN−フェニルジエタ
ノールアミンなどを挙げることができる。本発明の現像
液において実質的に有機溶剤を含まないとは、有機溶剤
の含有量が使用液の総重量に対して5重量%以下である
ことをいう。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な
関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の
量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量
が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全
に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できな
くなるからである。
【0081】(還元剤)現像液には更に還元剤を加える
ことができる。これは印刷版の汚れを防止するものであ
り、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型感光
性平版印刷版を現像する際に有効である。好ましい有機
還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メ
トール、メトキシキノン、レゾルシン、2−メチルレゾ
ルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、
フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。
更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水
素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、
チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム
塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることがで
きる。これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れて
いるのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現
像液に対して好ましくは、0.05〜5重量%の範囲で
含有される。
【0082】(有機カルボン酸)現像液には更に有機カ
ルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン
酸は炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸および芳香
族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例と
しては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウ
リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン
酸などがあり、特に好ましいのは炭素数8〜12のアル
カン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和
脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香
族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アン
トラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物
で、具体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息
香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、2,4
−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香
酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロ
キシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子
酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ
−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、
1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがあるがヒドロキ
シナフトエ酸は特に有効である。上記脂肪族および芳香
族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカ
リウム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好まし
い。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は
格別な制限はないが、0.1重量%より低いと効果が十
分でなく、また10重量%以上ではそれ以上の効果の改
善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解
を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時
の現像液に対して0.1〜10重量%であり、より好ま
しくは0.5〜4重量%である。
【0083】(その他)現像液には、更に必要に応じ
て、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤
などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例
えば、ポリ燐酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩お
よびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジ
エチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミ
ンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ
酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキ
サンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プロパノ
ールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、
アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミン
テトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミン
ペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミ
ンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエ
チレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)および1−
ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナ
トリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げる
ことができる。
【0084】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用
時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使
用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利で
ある。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こ
さない程度が適当である。
【0085】本発明の感光性平版印刷版の現像液として
はまた、特開平6−282079号公報記載の現像液も
使用できる。これは、SiO2/M2O(Mはアルカリ金
属を示す)のモル比が0.5〜2.0の珪酸アルカリ金
属塩と、水酸基を4以上有する糖アルコールに5モル以
上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレ
ンオキシド付加化合物を含有する現像液である。糖アル
コールは糖のアルデヒド基およびケトン基を還元してそ
れぞれ第一、第二アルコール基としたものに相当する多
価アルコールである。糖アルコールの具体的な例として
は、D,L−トレイット、エリトリット、D,L−アラ
ビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、
D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリ
ット、ズルシット、アロズルシットなどであり、更に糖
アルコールを縮合したジ、トリ、テトラ、ペンタおよび
ヘキサグリセリンなども挙げられる。上記水溶性エチレ
ンオキシド付加化合物は上記糖アルコール1モルに対し
5モル以上のエチレンオキシドを付加することにより得
られる。さらにエチレンオキシド付加化合物には必要に
応じてプロピレンオキシドを溶解性が許容できる範囲で
ブロック共重合させてもよい。これらのエチレンオキシ
ド付加化合物は単独もしくは二種以上を組み合わせて用
いてもよい。これらの水溶性エチレンオキシド付加化合
物の添加量は現像液(使用液)に対して0.001〜5
重量%が適しており、より好ましくは0.001〜2重
量%である。この現像液にはさらに、現像性の促進や現
像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める
目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。
【0086】(現像および後処理)かかる組成の現像液
で現像処理されたPS版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分と
するフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。
本発明のPS版の後処理にはこれらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。近年、製版・印刷業界では
製版作業の合理化および標準化のため、PS版用の自動
現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般
に現像部と後処理部からなり、PS版を搬送する装置
と、各処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済み
のPS版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各
処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像および後処
理するものである。また、最近は処理液が満たされた処
理液槽中に液中ガイドロールなどによってPS版を浸漬
搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の
水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液
の希釈水として再利用する方法も知られている。このよ
うな自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間
等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理するこ
とができる。また、実質的に未使用の処理液で処理する
いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処
理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛
けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0087】
【実施例】次に、本発明の実施例を示し、詳細に説明す
る。なお、下記実施例におけるパーセントは、他に指定
のない限り、すべて重量%である。 (実施例1〜4、比較例1〜4)厚さ0.24mmのJI
S A1050アルミニウム板の表面をナイロンブラシ
と400メッシュのパミストンの水懸濁液を用い砂目立
てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウム
水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、
流水で水洗後、20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。
これをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電
流を用いて1%硝酸水溶液中で260クーロン/dm2
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さ
を測定したところ0.6μm(Ra表示)であった。ひ
きつづいて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し、55
℃で2分間デスマットした後、20%H2 SO4 水溶液
中で電流密度14A/dm2 、陽極酸化皮膜量が2.5g
/m2 相当になるように陽極酸化し、水洗して基板
[A]を作成した。この様にして処理された基板[A]
の表面に表2に示した本発明の高分子化合物を塗布し、
90℃で10秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は、10mg
/m2 であった。
【0088】 表2の高分子化合物 0.2g メタノール 100g 水 1g 次に、この基板上に下記感光液[A]を塗布することに
より感光層を設ける。乾燥後の感光層塗膜量は1.3g
/m2 であった。更に、真空密着時間を短縮させるた
め、特公昭61−28986号記載の方法でマット層を
形成させることにより、感光性平版印刷版を作成した
(実施例1〜4)。
【0089】比較のため、基板[A]の表面上に中間層
を設けていない基板を作成した(比較例1、2)。更
に、比較のため、基板[A]の表面上に本発明の高分子
化合物に該当しない液を塗布し、90℃で10秒間乾燥
した(比較例3、4)。次にこれらの基板上に実施例1
〜4と同様に感光層及びマット層を設け、感光性平版印
刷版を作成した。
【0090】 〔感光液A〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特 許第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.8g バインダー ノボラックI 1.5g ノボラックII 0.2g ノボラック以外の樹脂III 0.4g p−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g ピロガロール 0.05g 4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル) アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル) −S−トリアジン(以下トリアジンAと略) 0.07g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料) 0.045g F176PF(フッ素系界面活性剤) (大日本インキ化学工業(株)製) 0.01g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 10g
【0091】
【化15】
【0092】このように作成した感光性平版印刷版を1
mの距離から3kWのメタルハライドランプにより1分
間画像露光し、次に示す現像液を用いて富士写真フイル
ム(株)製PSプロセッサー900VRを用いて、30
℃12秒間現像した。 現像液A:D−ソルビトール 5.1重量部 水酸化ナトリウム 1.1重量部 トリエタノールアミン・エチレンオキサイド 付加物(30モル) 0.03重量部 水 93.8重量部 現像液B:[SiO2]/[Na2O]モル比1.2 SiO2 1.4重量%の珪酸ナトリウム水溶液 100重量部 エチレンジアミン・エチレンオキサイド 付加物(30モル) 0.03重量部
【0093】このように現像処理したのち、消去液にて
不要画像部を富士写真フイルム(株)製消去液RP−2
で消去、水洗した後、消去跡の見えにくさ(消去性)を
次のように目視評価した。 ◎…消去部と非画像部の色の差が全くない ○…消去部と非画像部の色の差がほとんどない △…消去部の方が非画像部よりもわずかに濃く見える ×…消去部の方が非画像部よりも明らかに濃く見える 2×…消去部の方が非画像部よりも明らかに汚れて見え
る また、非画像部の残色は非画像部の濃度と塗布前の基板
の濃度の差を次のように目視評価した。 ◎…非画像部と塗布前の基板に色の差が全くない ○…非画像部と塗布前の基板に色の差がほとんどない △…非画像部の方が塗布前の基板よりもわずかに濃く見
える ×…非画像部の方が塗布前の基板よりも明らかに濃く見
える 2×…非画像部の方が塗布前の基板よりも極めて濃く見
える
【0094】耐薬品性は小森印刷機(株)製印刷機スプ
リントを用いて5千枚印刷毎にベタ部を富士写真フイル
ム(株)製プレートクリーナー(CL−2)で拭き、正
常に印刷されなくなるまでの印刷枚数をもって評価し
た。この印刷枚数が多いほど、耐薬品性が良好であるこ
とを示す。耐刷性は、上述の耐薬品性評価と同一条件
で、クリーナー拭きしないで印刷した時に、どれだけの
枚数が印刷できるかを評価した。この印刷枚数が多いほ
ど、耐刷性が良好であることを示す。結果を表2に示
す。結果より、本発明の感光性平版印刷版は、消去性、
残色、耐刷性、耐薬品性の全てにおいて優れていること
がわかる。
【0095】
【表1】
【0096】(実施例5〜10、比較例5〜8)厚さ
0.24mmのJIS A1050アルミニウム板の表面
をナイロンブラシと400メッシュのパミストンの水懸
濁液を用い砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%
水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエ
ッチングした後、流水で水洗後、20%HNO3で中和
洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で260
クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行っ
た。その表面粗さを測定したところ0.55μm(Ra
表示)であった。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液
中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、20%
2SO4水溶液中で電流密度14A/dm2、陽極酸化皮
膜量が2.5g/m2相当になるように陽極酸化し、水洗
して基板[C]を作成した。基板[C]を珪酸ナトリウ
ム2.5重量%水溶液で30℃で10秒処理し、水洗し
て基板[D]を作成した。この様にして処理された基板
[C]あるいは[D]の表面に表3に示した本発明の高
分子化合物を塗布し、80℃で15秒間乾燥した。乾燥
後の被覆量は、15mg/m2であった。
【0097】 (基板[C]用) (基板[D]用) 表3の高分子化合物 0.2g 0.3g メタノール 90g 100g エタノール 10g −− 水 1g 1g 次に、この基板上に下記感光液[B]を塗布することに
より感光層を設ける。乾燥後の感光層塗膜量は1.8g
/m2 であった。更に、真空密着時間を短縮させるた
め、特公昭61−28986号記載の方法でマット層を
形成させることにより、感光性平版印刷版を作成した
(実施例5〜8)。
【0098】比較のために基板[C]に処理も中間層も
施していない基板をも作成した(比較例5、6)。ま
た、基板[C]の表面上に本発明の高分子化合物に該当
しない液を塗布し、80℃で15秒間乾燥した(比較例
7、8)。次にこれらの基板上に実施例5〜8と同様に
感光層及びマット層を設け、感光性平版印刷版を作成し
た。
【0099】 〔感光液B〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特 許第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.9g バインダー ノボラックIV 1.60g ノボラックV 0.3g p−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g ピロガロール 0.05g トリアジンA 0.07g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料) 0.10g F176PF(フッ素系界面活性剤) (大日本インキ化学工業(株)製) 0.06g メチルエチルケトン 12.0g
【0100】
【化16】
【0101】また、基板[C]の表面上に表3に示した
本発明の高分子化合物を塗布し、下記感光液[C]を塗
布する以外は実施例5〜8と同様にして感光性平版印刷
版を作成した(実施例9、10) 〔感光液C〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンとのエステル化物 (エステル化率90%) 0.6g N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル共重合体 (モル比45/30/25,Mw=75000) 1.7g ノボラックIV 0.7g テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g トリアジンA 0.07g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料) 0.05g F176PF(フッ素系界面活性剤) (大日本インキ化学工業(株)製) 0.06g γ−ブチロラクトン 8.0g メチルエチルケトン 12.0g 1−メトキシ−2−プロパノール 10.0g
【0102】このように作成した感光性平版印刷版を実
施例1と同様な方法で画像露光し、表3に示した様に前
述の現像液A、B用いて実施例1と同様な方法で現像処
理した。
【0103】このように現像処理したのち、実施例1と
同様な方法で消去性、残色、耐刷性、耐薬品性について
評価した。結果を表3に示す。結果より、本発明の感光
性平版印刷版は、耐刷性、消去性、残色、耐薬品性の全
てにおいて優れていることが分かる。
【0104】
【表2】
【0105】
【発明の効果】上記の通り本発明によれば、消去性、残
色、耐刷性、耐薬品性の良好なポジ型感光性平版印刷版
を提供することができる。また、珪酸塩を含まない現像
液を用いて現像した場合においても、消去性、残色、耐
刷性、耐薬品性の良好なポジ型感光性平版印刷版を提供
することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹 史郎 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陽極酸化処理を施したアルミニウム支持
    体上に、酸基を有する構成成分及びオニウム基を有する
    構成成分を有する高分子化合物を含有する中間層を設け
    た上に、ポジ型感光層を設けてなる感光性平版印刷版。
JP10606897A 1997-04-23 1997-04-23 ポジ型感光性平版印刷版 Expired - Fee Related JP3736707B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10606897A JP3736707B2 (ja) 1997-04-23 1997-04-23 ポジ型感光性平版印刷版

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10606897A JP3736707B2 (ja) 1997-04-23 1997-04-23 ポジ型感光性平版印刷版

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10301262A true JPH10301262A (ja) 1998-11-13
JP3736707B2 JP3736707B2 (ja) 2006-01-18

Family

ID=14424293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10606897A Expired - Fee Related JP3736707B2 (ja) 1997-04-23 1997-04-23 ポジ型感光性平版印刷版

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3736707B2 (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1629975A1 (en) 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and method of making planographic printing plate
EP1701213A2 (en) 2005-03-08 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
EP1705002A1 (en) 2005-03-23 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and plate-making method thereof
EP1708025A1 (en) 2005-03-25 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1710627A1 (en) 2005-03-28 2006-10-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP2042309A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method of producing a negative planographic printing plate
EP2042340A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate
EP2042306A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and method of producing a copolymer used therein
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP2204698A1 (en) 2009-01-06 2010-07-07 FUJIFILM Corporation Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate
JP2010234650A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版用中間層塗布液、平版印刷版原版の製造方法及び平版印刷版原版
WO2013039235A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
WO2013065853A1 (ja) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
JP2013200413A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1629975A1 (en) 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and method of making planographic printing plate
EP1701213A2 (en) 2005-03-08 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
EP1705002A1 (en) 2005-03-23 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and plate-making method thereof
EP1708025A1 (en) 2005-03-25 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1710627A1 (en) 2005-03-28 2006-10-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP2042340A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate
EP2042309A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method of producing a negative planographic printing plate
EP2042306A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and method of producing a copolymer used therein
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP2204698A1 (en) 2009-01-06 2010-07-07 FUJIFILM Corporation Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate
JP2010234650A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版用中間層塗布液、平版印刷版原版の製造方法及び平版印刷版原版
WO2013039235A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
WO2013065853A1 (ja) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
JP2013200413A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3736707B2 (ja) 2006-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3810215B2 (ja) 感光性平版印刷版
US6114089A (en) Positive working photosensitive lithographic printing plate
JP3707630B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3894243B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP3736707B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3707638B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH1138635A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3707631B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH1138629A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH11327152A (ja) 感光性平版印刷版
JP3890425B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH11109641A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH1124277A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3830114B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH08305039A (ja) 感光性平版印刷版用現像液
JP2000112128A (ja) 感光性平版印刷版
JP2000241962A (ja) 感光性平版印刷版
JP2000181053A (ja) 感光性平版印刷版
JP3862246B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPH09244227A (ja) 平版印刷版の製造方法
JP4108255B2 (ja) 平版印刷版の製造方法
JP2000112135A (ja) 感光性平版印刷版
JPH11249289A (ja) 感光性平版印刷版
JP2002214791A (ja) 感光性平版印刷版
JP2000105459A (ja) ポジ型感光性平版印刷版

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050720

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050916

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051019

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051020

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081104

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081104

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091104

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091104

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101104

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111104

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121104

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121104

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131104

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees