JP2000105459A - ポジ型感光性平版印刷版 - Google Patents

ポジ型感光性平版印刷版

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JP2000105459A
JP2000105459A JP27685398A JP27685398A JP2000105459A JP 2000105459 A JP2000105459 A JP 2000105459A JP 27685398 A JP27685398 A JP 27685398A JP 27685398 A JP27685398 A JP 27685398A JP 2000105459 A JP2000105459 A JP 2000105459A
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JP
Japan
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group
acid
printing plate
photosensitive
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JP27685398A
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English (en)
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Shiro Tan
史郎 丹
Seiji Uno
誠次 宇野
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 汚れ性能及び耐刷性能が良好なポジ型感光性
平版印刷版を提供することであり、また、経時での感度
変更のない安定したポジ型感光性平版印刷版を提供す
る。 【解決手段】 親水化処理を施したアルミニウム支持体
上に、酸基を有する構成成分及びオニウム基を有する構
成成分を有する高分子化合物を含有する中間層を設けた
上に、一般式(A)で示される構成成分を有する高分子
化合物を含むポジ型感光層を設けてなる感光性平版印刷
版。 一般式(A)において、Rは水素原子、メチル基、ハロ
ゲン原子を表し、R及びRはそれぞれ異なっても良
い2価の有機基を表し、Xはアルカリ可溶性基を表し、
nは1から3の自然数を表す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版に
関し、特にポジ型感光性平版印刷版に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、広く使用されているポジ型感
光性平版印刷版は、粗面化処理あるいはアルカリエッチ
ングあるいは陽極酸化処理を施したアルミニウム支持体
上に、o−キノンジアジド化合物を含むポジ型感光層を
設けたものである。o−キノンジアジド化合物は紫外線
露光によりカルボン酸に変化することが知られており、
画像露光後アルカリ水溶液で現像すると当該感光層の露
光部のみが溶解除去され、支持体表面が露出する。従っ
て、未露光部(画像部)は親油的な感光層が残存するた
めインキ受容部になり、露光部(非画像部)は親水的な
支持体表面が露出するため、水を保持しインキ反発部に
なる。しかし、アルミニウム支持体表面の親水性が不十
分であるために、インキ反発力が不十分となり、非画像
部にインキが付着する(以後、汚れ性能と呼ぶ)という
問題があった。通常は汚れ性能を良化する目的で、非画
像部を親水化する必要があるが、一般に親水化処理した
支持体上にポジ型感光層を設けると、親水的な支持体表
面と親油的な感光層との密着性が悪いため、正常に印刷
することができる枚数(以後、耐刷性能という)が減っ
てしまうという問題がある。従って、通常は現像時に、
珪酸ナトリウムや珪酸カリウム等の珪酸塩を含む現像液
を用いることにより、非画像部のみを親水化していた。
しかし、珪酸塩を含む現像液を用いる場合、SiO2
起因する固形物が析出しやすいこと、あるいは、現像廃
液を処理する際、中和処理を行おうとするとSiO2
起因するゲルが生成する等の問題があった。従って、予
め表面を親水化処理した支持体にポジ型感光層を設けて
も、支持体と感光層との密着が良く、耐刷性能が劣化し
ない技術が望まれていた。
【0003】上記の諸問題を解決するため、米国特許明
細書3,136,636 号においては、ポリアクリル酸、カルボ
キシルメチルヒドロキシエチルセルロースのような水溶
性ポリマーの中間層を設けることが提案されているが、
未だ耐刷力の点で満足のゆくものではなかった。米国特
許明細書4,483,913 号においては、ポリ(ジメチルジア
リルアンモニウムクロライド)のような4級アンモニウ
ム化合物の中間層を設けることが提案されているが、汚
れ性能が不十分であり満足のゆくものではなかった。さ
らに、経時による感度変動が問題となっておりその改良
が望まれていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、汚れ性能と耐刷性能が良好なポジ型感光性平版印刷
版を提供することにある。本発明の目的はまた、経時で
の感度変更のない安定したポジ型感光性平版印刷版を提
供することにある。更に、本発明の目的は珪酸塩を含ま
ない現像液を用いて現像した場合においても、汚れと耐
刷性能及び経時安定性が良好なポジ型感光性平版印刷版
を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、下記感光性平版印刷版により上記の目的を解決す
るに至った。すなわち、本発明の上記目的は、親水化処
理を施したアルミニウム支持体上に、酸基を有する構成
成分及びオニウム基を有する構成成分を有する高分子化
合物を含有する中間層を設けた上に、一般式(A)で示
される構成成分を有する高分子化合物を含むポジ型感光
層を設けてなる感光性平版印刷版により達成されたもの
である。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の目的を達成するために
は、特定構造の高分子化合物を感光層中に含むことが必
須である。以下、本発明の必須成分である一般式(A)
で示される構成成分を含む高分子化合物について詳述す
る。
【0007】
【化2】
【0008】一般式(A)において、Rは水素原子、メ
チル基、ハロゲン原子を表し、R1及びR2 はそれぞれ
異なっても良い2価の有機基を表し、Xはアルカリ可溶
性基を表す。nは1から3の自然数を表す。Rがハロゲ
ン原子の場合は、塩素原子が好ましい。R1 としては炭
素数1〜6のアルキレン基であり、メチレン基、エチレ
ン基、トリメチレン基、テトラメチレン基が好ましく、
エチレン基がより好ましい。R 2 としては炭素数1〜1
2の置換されても良いアルキレン基またはシクロアルキ
レン基もしくは炭素数6〜18の置換されても良い芳香
族基であり、メチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、シクロヘキシレン基、フェニレ
ン基、ナフチレン基が好ましく、Xが水酸基、カルボキ
シル基もしくはスルホンアミド基であることが好まし
い。
【0009】(A)で示される構造単位は、対応するビ
ニルモノマーを単独重合することにより得ることができ
るが、以下に示す(a)〜(j)のモノマーを共重合し
た皮膜形成性樹脂が好適に用いられる。 (a)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及び
メタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、 (b)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸
エステル、
【0010】(c)メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクメヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエ
チルメタクリレートなどの(置換)メタクリル酸エステ
ル、 (d)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリル
アミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシルメ
タクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、
N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリル
アミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ベ
ンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N−エ
チル−N−フェニルアクリルアミドおよびN−エチル−
N−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミドも
しくはメタクリルアミド、
【0011】(e)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、 (f)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル
類、 (g)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、 (h)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニル
ケトン類、 (i)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレンなどのオレフィン類、 (j) N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリルなど。上記(a)〜(j) の中で、アクリロ
ニトリル及びメタクリロニトリルを共重合することが好
ましく、より好ましくはアクリロニトリルを50モル%
以上含むことが好ましい。更に好ましくはアクリロニト
リルとメタクリル酸メチルもしくはアクリル酸メチルを
共重合することが好ましい。
【0012】以下にポジ型感光層に含まれる本願発明に
係る高分子化合物の合成例を示す。 (合成例)テトラヒドロフラン中でメタクリロイルオキ
シエチルイソシアネートと4−アミノフェノールを混合
して室温下攪拌することで、下記モノマー(a−1)を
得た。得られたモノマーとメタクリル酸メチル、アクリ
ロニトリルを20:20:60(モル比)でN,N−ジ
メチルアセトアミド溶液中、V−601(和光純薬工
業)を開始剤として78℃、8時間重合を行った。得ら
れたポリマーを大量の水に沈殿させ、濾過、真空乾燥
後、高分子化合物A−1を得た。
【0013】
【化3】
【0014】(合成例)モノマー(a−1)をモノマー
(a−2)に変更した以外は上記合成例と同様にして高
分子化合物A−2を得た。
【0015】
【化4】
【0016】これらの高分子化合物は重量平均分子量が
500〜500,000のものが好ましい。このような高
分子化合物は1種類あるいは2種類以上を組み合わせて
使用してもよく、全組成物の95重量%以下、好ましく
は30〜80重量%の範囲で用いられる。本発明におけ
る感光層は、上記高分子化合物の他に後述する感光性組
成物を含み、さらにその他の化合物(後述)を含有して
いてもよい。
【0017】次に、本発明の中間層形成に用いられる高
分子化合物について詳しく説明する。本発明の中間層に
用いられる高分子化合物は、少なくとも酸基を有する構
成成分と少なくともオニウム基を有する構成成分とを重
合してなる高分子化合物である。ここで、酸基として好
ましいものは酸解離指数(pKa)が7以下の酸基が好
ましく、より好ましくは−COOH,−SO3 H,−O
SO3 H,−PO3 2 ,−OPO3 2 ,−CONH
SO2 ,−SO2 NHSO2 −であり、特に好ましくは
−COOHである。また、オニウム基として好ましいも
のは、周期律表第V族あるいは第VI族の原子からなるオ
ニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あ
るいはイオウ原子からなるオニウム基であり、特に好ま
しくは窒素原子からなるオニウム基である。本発明の中
間層において使用される高分子化合物の中で、好ましい
ものは、この高分子化合物の主鎖構造がアクリル樹脂や
メタクリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリマ
ーあるいはウレタン樹脂あるいはポリエステルあるいは
ポリアミドであることを特徴とするポリマーである。よ
り好ましくは、この高分子化合物の主鎖構造がアクリル
樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系
ポリマーであることを特徴とするポリマーである。特に
好ましくは、酸基を有する構成成分が下記の一般式
(1)あるいは一般式(2)で表される重合可能な化合
物であり、オニウム基を有する構成成分が下記の一般式
(3)、一般式(4)あるいは一般式(5)で表される
ことを特徴とするポリマーである。
【0018】
【化5】
【0019】式中、Aは2価の連結基を表す。Bは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。D及びEはそれぞれ
独立して2価の連結基を表す。Gは3価の連結基を表
す。X 1 及びX2 はそれぞれ独立してpKaが7以下の
酸基あるいはそのアルカリ金属塩あるいはアンモニウム
塩を表す。R3 は水素原子、アルキル基またはハロゲン
原子を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して0また
は1を表す。tは1〜3の整数である。酸基を有する構
成成分の中でより好ましくは、Aは−COO−または−
CONH−を表し、Bはフェニレン基あるいは置換フェ
ニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子あ
るいはアルキル基である。D及びEはそれぞれ独立して
アルキレン基あるいは分子式がCn 2nO、Cn 2n
あるいはCn 2n+1Nで表される2価の連結基を表す。
Gは分子式がCn 2n-1、Cn 2n-1O、Cn 2n-1
あるいはCn 2nNで表される3価の連結基を表す。但
し、ここでnは1〜12の整数を表す。X1 及びX2
それぞれ独立してカルボン酸、スルホン酸、ホスホン
酸、硫酸モノエステルあるいは燐酸モノエステルを表
す。R3 は水素原子またはアルキル基を表す。a,b,
d,eはそれぞれ独立して0または1を表すが、aとb
は同時に0ではない。
【0020】酸基を有する構成成分の中で特に好ましく
は一般式(1)で示す化合物であり、Bはフェニレン基
あるいは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基
あるいは炭素数1〜3のアルキル基である。D及びEは
それぞれ独立して炭素数1〜2のアルキレン基あるいは
酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表
す。R3 は水素原子あるいはメチル基を表す。X1 はカ
ルボン酸基を表す。aは0であり、bは1である。
【0021】酸基を有する構成成分の具体例を以下に示
す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるものでは
ない。 (酸基を有する構成成分の具体例)アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸
【0022】
【化6】
【0023】
【化7】
【0024】
【化8】
【0025】次に、オニウム基を有する構成成分が一般
式(3)、(4)、(5)で表わされることを特徴とす
るポリマーについて説明する。
【0026】
【化9】
【0027】式中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。Mはそれぞれ独立し
て2価の連結基を表す。Y1 は周期率表第V族の原子を
表し、Y2 は周期律表VI族の原子を表す。Z- は対アニ
オンを表す。R4 は水素原子、アルキル基またはハロゲ
ン原子を表す。R5 ,R6 ,R7 ,R9 はそれぞれ独立
して水素原子あるいは場合によっては置換基が結合して
もよいアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、R
8 はアルキリジン基あるいは置換アルキリジンを表す
が、R5 とR6 あるいはR8 とR9 はそれぞれ結合して
環を形成してもよい。j,k,mはそれぞれ独立して0
または1を表す。uは1〜3の整数を表す。オニウム基
を有する構成成分の中でより好ましくは、Jは−COO
−または−CONH−を表し、Kはフェニレン基あるい
は置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロ
ゲン原子あるいはアルキル基である。Mはアルキレン基
あるいは分子式がCn 2nO、Cn 2nSあるいはCn
2n+1Nで表される2価の連結基を表す。但し、ここで
nは1〜12の整数を表す。Y1 は窒素原子またはリン
原子を表し、Y2 はイオウ原子を表す。Z- はハロゲン
イオン、PF6 - 、BF4 - あるいはR10SO3 - を表
す。R10は水素原子またはアルキル基を表す。R5 ,R
6 ,R7 ,R9 はそれぞれ独立して水素原子あるいは場
合によって置換基が結合してもよい炭素数1〜10のア
ルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、R8 は炭素
数1〜10のアルキリジン基あるいは置換アルキリジン
を表すが、R5 とR6 あるいはR8 とR9 はそれぞれ結
合して環を形成してもよい。j,k,mはそれぞれ独立
して0または1を表すが、jとkは同時に0ではない。
オニウム基を有する構成成分の中で特に好ましくは、K
はフェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その
置換基は水酸基あるいは炭素数1〜3のアルキル基であ
る。Mは炭素数1〜2のアルキレン基あるいは酸素原子
で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。Z-
塩素イオンあるいはR10SO3 - を表す。R 10は水素原
子あるいはメチル基を表す。jは0であり、kは1であ
る。
【0028】オニウム基を有する構成成分の具体例を以
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。 (オニウム基を有する構成成分の具体例)
【0029】
【化10】
【0030】
【化11】
【0031】なお、ここで使用する高分子化合物には酸
基を有する構成成分を20モル%以上、好ましくは40
モル%以上含み、オニウム基を有する構成成分を1モル
%位上、好ましくは5モル%以上含むことが望ましい。
酸基を有する構成成分が20モル%以上含まれると、ア
ルカリ現像時の溶解除去が一層促進され、オニウム基を
有する構成成分が1モル%以上含まれると酸基との相乗
効果により密着性が一層向上される。また、酸基を有す
る構成成分は1種類あるいは2種類以上組み合わせても
良く、また、オニウム基を有する構成成分も1種類ある
いは2種類以上組み合わせても良い。更に、当該発明の
中間層に使用される高分子化合物は、構成成分あるいは
組成比あるいは分子量の異なるものを2種類以上混合し
て用いてもよい。次に、当該発明の中間層に用いられる
高分子化合物の代表的な例を以下に示す。なお、ポリマ
ー構造の組成比はモル百分率を表す。
【0032】
【化12】
【0033】
【化13】
【0034】
【化14】
【0035】
【化15】
【0036】本発明に係る中間層に使用される高分子化
合物は、一般には、ラジカル連鎖重合法を用いて製造す
ることができる。("Textbook of Polymer Science" 3rd
ed.(1984) F.W.Billmeyer, A Wiley-Interscience Publ
ication 参照)。また、連鎖移動剤を用いて低分子量化
したポリマーを好適に用いることができる。本発明に係
る高分子化合物の分子量は広範囲であってもよいが、光
散乱法を用いて測定した時、重量平均分子量(Mw)が
300〜2,000,000であることが好ましく、また1,
000〜600,000の範囲であることが更に好まし
い。また、この高分子化合物中に含まれる未反応モノマ
ー量は広範囲であってもよいが、20Wt%以下である
ことが好ましく、また10Wt%以下であることが更に
好ましい。
【0037】次に、本発明に係る中間層に使用される高
分子化合物の合成例を示す。 〔合成例〕 p−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロリドとの共重合体( No.1)の合成 p−ビニル安息香酸〔北興化学工業(株)製〕146.9
g(0.99mol )、ビニルベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロリド44.2g(0.21mol )および2−メトキ
シエタノール446gを1Lの3口フラスコに取り、窒
素気流下攪拌しながら、加熱し75℃に保った。次に
2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチルを2.76g(1
2 mmol)加え、攪拌を続けた。2時間後、2,2−アゾ
ビス(イソ酪酸)ジメチル2.76g(12 mmol)を追加
した。更に、2時間後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)
ジメチル2.76g(12 mmol)を追加した。2時間攪拌
した後、室温まで放冷した。この反応液を攪拌下12L
の酢酸エチル中に注いだ。析出する固体を濾取し、乾燥
した。その収量は189.5gであった。得られた固体は
光散乱法で分子量測定を行った結果、重量平均分子量
(Mw)は3.2万であった。中間層に使用される他の高
分子化合物も同様の方法で合成される。
【0038】上記高分子化合物の中間層は、後述する親
水化処理を施したアルミニウム板上に種々の方法により
塗布して設けられる。この層は次のような方法で設ける
ことができる。メタノール、エタノール、メチルエチル
ケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤あるい
はこれら有機溶剤と水との混合溶剤に本発明に係る高分
子化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、
乾燥して設ける方法と、メタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤あるいはこれら有機溶剤
と水との混合溶剤もしくはそれらの混合溶剤に本発明の
高分子化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸
漬して高分子化合物を吸着させ、しかる後、水などによ
って洗浄、乾燥して有機中間層を設ける方法である。前
者の方法では、上記高分子化合物の0.005〜10重量
%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法
では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.
05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ま
しくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20
分、好ましくは2秒〜1分である。
【0039】上記の溶液は、アンモニア、トリエチルア
ミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン
酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホン酸、フェ
ニルスルホン酸などの有機ホスホン酸、安息香酸、クマ
ル酸、リンゴ酸などの有機カルボン酸など種々有機酸性
物質、ナフタレンスルホニルクロライド、ベンゼンスル
ホニルクロライドなどの有機酸クロライド等によりpHを
調整し、pH=0〜12、より好ましくはpH=0〜5、の
範囲で使用することもできる。また、感光性平版印刷版
の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもで
きる。本発明の中間層における高分子化合物の乾燥後の
被覆量は、2〜100mg/m2が適当であり、好ましくは
5〜59mg/m2である。上記被覆量が2mg/m2よりも少
ないと、十分な効果が得られない。また、100mg/m2
より多くても同様である。
【0040】次に本発明のポジ型感光性平版印刷版につ
いて(1)支持体、(2)感光性組成物、(3)現像処
理の順に詳しく説明する。また、本発明において、感光
性平版印刷版はPS版ということもある。
【0041】<1>支持体 以下に本発明のポジ型感光性平版印刷版に使用される支
持体及びその処理に関して説明する。 (アルミニウム板)本発明において用いられるアルミニ
ウム板は、純アルミニウムまたはアルミニウムを主成分
とし微量の異原子を含むアルミニウム合金等の板状体で
ある。この異原子には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合成組成としては、10重量%以下の異原
子含有率のものである。本発明に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは、精錬技術上製造が困難であるため、できるだけ異
原子を含まないものがよい。また、上述した程度の異原
子含有率のアルミニウム合金であれば、本発明に使用し
得る素材という事ができる。このように本発明に使用さ
れるアルミニウム板は、その組成が特に限定されるもの
ではなく、従来公知、公用の素材のものを適宜利用する
事ができる。好ましい素材としては、JIS A 10
50、同1100、同1200、同3003、同310
3、同3005材が含まれる。本発明において用いられ
るアルミニウム板の厚さは、約0.1mm〜0.6mm程度で
ある。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、表面
の圧延油を除去するための、例えば界面活性剤またはア
ルカリ性水溶液で処理する脱脂処理が必要に応じて行わ
れる。
【0042】(粗面化処理及び陽極酸化処理)アルミニ
ウム板の表面を粗面化処理する方法としては、機械的に
粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方
法および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、プラ
スト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法を
用いることが出来る。また、電気化学的な粗面化法とし
ては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行
う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に
開示されているように両者を組み合わせた方法も利用す
ることが出来る。このように粗面化されたアルミニウム
板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処
理された後、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽
極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理
に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成する
ものならばいかなるものでも使用することができ、一般
には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類
によって適宜決められる。
【0043】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流密
度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間10
秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜の量
は1.0g/m2以上が好適であるが、より好ましくは2.0
〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化皮膜が1.0g/m2
未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の
非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にイ
ンキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版の支持体の印
刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、
裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化皮膜が形成される
のが一般的である。
【0044】(親水化処理)上述の処理を施した後に用
いられる親水化処理としては、従来より知られている、
親水化処理が用いられる。このような親水化処理として
は、米国特許第2,714,066 号、第3,181,461 号、第3,28
0,734 号、第3,902,734 号に開示されているようなアル
カリ金属珪酸塩(例えば珪酸ナトリウム水溶液)法があ
る。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶
液中で浸漬処理されるか又は電解処理される。あるい
は、特公昭36−22063 号公報に開示されている弗化ジル
コン酸カリウム及び米国特許第3,276,868 号、第4,153,
461 号、第4,689,272 号に開示されている様なポリビニ
ルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。これら
の中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸
塩処理である。珪酸塩処理について以下に説明する。
【0045】(珪酸塩処理)上述の如き処理を施したア
ルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が
0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜10重量%であ
り、25℃でのpHが10〜13である水溶液に、例えば
15〜80℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属
珪酸塩水溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0
より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用い
られるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカ
リ金属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水
酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカ
リ土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよ
い。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝
酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムの
ような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚
酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB
族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化
チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四
ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニ
ウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムな
どを挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしく
は、第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用
することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.
01〜10重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜
5.0重量%である。珪酸塩処理により、アルミニウム板
表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、イン
クが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上す
る。
【0046】(バックコート)支持体の裏面には、必要
に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコー
トとしては、特開平5−45885 号公報記載の有機高分子
化合物および特開平6−35174 号公報記載の有機または
無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる
金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これ
らの被覆層のうち、Si(OCH3)4 、Si(OC2
5)4 、Si(OC 3 7)4 、Si(OC4 9)4 、など
の珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それか
ら与えられる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れてお
り特に好ましい。
【0047】<2>感光性組成物 次に本発明の感光性平版印刷版に使用する感光性組成物
について詳しく述べる。本発明に使用される感光性組成
物としては、露光前後で現像液に対する溶解性、又は膨
潤性が変化するものであればいずれでも使用できる。以
下、代表的な感光性組成物について説明するが、これに
より本発明は限定されない。
【0048】感光性組成物中の感光性化合物としては、
o−キノンジアジド化合物が挙げられ、その代表例とし
てo−ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。o−
ナフトキノンジアジド化合物としては、特公昭43−2840
3 号公報に記載されている1,2−ジアゾナフトキノン
スルホン酸クロラリドとピスガロール−アセトン樹脂と
のエステルであるものが好ましい。
【0049】その他の好適なo−キノンジアジド化合物
としては米国特許第3,046,120 号及び同第3,188,210 号
明細書中に記載されている1,2−ジアゾナフトキノン
スルホン酸クロリドフェノールホルムアルデヒド樹脂と
のエステルがある。
【0050】その他の有用なo−ナフトキノンジアジド
化合物としては、数多くの特許に報告され、知られてい
るものが挙げられる。例えば、特開昭47−5303号、同48
−63802 号、同48−63803 号、同48−96575 号、同49−
38701 号、同48−13354 号、特公昭37−18015 号、同41
−11222 号、同45−9610号、同49−17481 号、特開平5
−114444号、特開平5 −19477 号、特開平5 −19478
号、特開平5 −107755号、米国特許第2,797,213 号、同
第3,454,400 号、同第3,544,323 号、同第3,573,917
号、同第3,674,495 号、同第3,785,825 号、英国特許第
1,227,602 号、同第1,251,345 号、同第1,267,005 号、
同第1,329,888 号、同第1,330,932 号、ドイツ特許第85
4,890 号等の各明細書中に記載されているものを挙げる
ことができる。
【0051】更にその他のo−キノンジアジド化合物と
しては、分子量1,000以下のポリヒドロキシ化合物と
1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとの反
応により得られるo−ナフトキノンジアジド化合物も使
用することができる。例えば、特開昭51−139402号、同
58−150948号、同58−203434号、同59−165053号、同60
−121445号、同60−134235号、同60−163043号、同61−
118744号、同62−10645 号、同62−10646 号、同62−15
3950号、同62−178562号、同64−76047 号、米国特許第
3,102,809 号、同第3,126,281 号、同第3,130,047 号、
同第3,148,983号、同第3,184,310 号、同第3、188、210
号、同第4,639,406 号等の各公報又は明細書に記載され
ているものを挙げることができる。
【0052】これらのo−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際には、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシ
ル基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸ク
ロリドを0.2〜1.2当量反応させることが好ましく、0.
3〜1.0当量反応させることがさらに好ましい。1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとして、1,
2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドが好
ましいが、1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン
酸クロリドも用いることができる。また得られるo−ナ
フトキノンジアジド化合物は、1,2−ジアゾナフトキ
ノンスルホン酸エステル基の位置及び導入量の種々異な
るものの混合物となるが、ヒドロキシ基がすべて1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステルに転換された
化合物がこの混合物中に占める場合(完全にエステル化
された化合物の含有率)は5モル%以上であることが好
ましく、さらに好ましくは20〜99モル%以上であ
る。
【0053】また、o−ナフトキノンジアジド化合物を
用いずにポジ型に作用する感光性化合物として、例えば
特公昭52−2696号に記載されている。o−ニトリルカル
ビノールエステル基を含有するポリマー化合物やピリジ
ニウム基含有化合物(特開平4−365049号など)、ジア
ゾニウム基含有化合物(特開平 5−249664号、特開平6
−83047 号、特開平 6−324495号、特開平 7−72621 号
など)も本発明に使用することが出来る。更に光分解に
より酸を発生する化合物と(特開平 4−121748 号、特
開平 4−365043号など)、酸により解離する−C−O−
C−基又はC−O−Si基を有する化合物との組み合せ
系も本発明に使用することができる。例えば光分解によ
り酸を発生する化合物とアセタール又はO,N−アセタ
ール化合物との組み合せ(特開昭48−89003 号など)、
オルトエステル又はアミドアセタール化合物との組み合
せ(特開昭51−120714号など)、主鎖にアセタール又は
ケタール基を有するポリマーとの組み合せ(特開昭53−
133429号など)、エノールエーテル化合物との組み合せ
(特開昭55−12995 号、特開平 4−19748 号、特開平 6
−230574号など)、N−アシルイミノ炭素化合物との組
み合せ(特開昭55−126236号など)、主鎖にオルトエス
テル基を有するポリマーとの組み合せ(特開昭56−1734
5 号など)、シリルエステル基を有するポリマーとの組
み合せ(特開昭60−10247 号など)、及びシリルエーテ
ル化合物との組み合せ(特開昭60−37549 号、特開昭60
−121446号、特開昭63−236028号、特開昭63−236029
号、特開昭63−276046号など)等が挙げられる。本発明
において使用される感光性組成物中に占めるこれらのポ
ジ型に作用する感光性化合物(上記のような組み合せを
含む)の量は10〜50重量%が適当であり、より好ま
しくは15〜40重量%である。
【0054】感光層には既に述べた一般式(A)で示さ
れる構成成分を有する高分子化合物を含むことが必須で
ある。また上記高分子化合物以外に、結合剤(バインダ
ー)としてアルカリ水に可溶な樹脂を共に使用すること
が好ましい。このようなアルカリ水に可溶性の樹脂とし
ては、この性質を有するノボラック樹脂があり、たとえ
ばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−又はm
−/p−/o−混合のいずれでもよい)混合ホルムアル
デヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹脂など
が挙げられる。これらのアルカリ性可溶性高分子化合物
は、重量平均分子量が500〜100,000のものが好
ましい。その他、レゾール型フェノール樹脂類も好適に
用いられ、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−
又はm−/p−/o−混合のいずれでもよい)混合ホル
ムアルデヒド樹脂が好ましく、特に特開昭61−217034号
公報に記載されているフェノール樹脂類が好ましい。
【0055】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711 号公報に開示されているようなフ
ェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特開平2
−866 号公報に記載のスルホンアミド基を有するビニル
樹脂やウレタン樹脂、特開平7 −28244 号、特開平7−3
6184 号、特開平7 −36185 号、特開平7 −248628号、
特開平7 −261394号、特開平7-333839号公報などに記載
の構造単位を有するビニル樹脂など種々のアルカリ可溶
性の高分子化合物を含有させることができる。特にビニ
ル樹脂においては、以下に示す(k)〜(n)のアルカリ可
溶性基含有モノマーから選ばれる少なくとも1種を重合
成分として有する皮膜形成性樹脂を用いることができ
る。
【0056】(k)N−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミドまたN−(4−ヒドロキシフェニル)メタク
リルアミド、o−、m−またはp−ヒドロキシスチレ
ン、o−またはm−ブロモ−p−ヒドロキシスチレン、
o−またはm−クロル−p−ヒドロキシスチレン、o
−、m−またはp−ヒドロキシフェニルアクリレートま
たはメタクリレート等の芳香族水酸基を有するアクリル
アミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン
類、(l)アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水
マレイン酸およびそのハーフエステル、イタコン酸、無
水イタコン酸およびそのハーフエステルなどの不飽和カ
ルボン酸、
【0057】(m)N−(o−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスル
ホニル)アフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミ
ド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルア
ミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−
アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなど
のアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどのメタ
クリル酸エステルなどの不飽和スルホンアミド、
【0058】(n)トシルアクリルアミドのように置換基
があってもよいフェニルスルホニルアクリルアミド、お
よびトシルメタクリルアミドのような置換基があっても
よいフェニルスルホニルメタクリルアミド。
【0059】更に、米国特許第4,123,279 号明細書に記
載されているように、t−ブチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有
するフェノールホルムアルデヒドとの縮合物あるいはこ
れらの縮合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステル(例えば特開昭61−243446号に記載のもの)を併
用することは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。
【0060】(現像促進剤)本発明における感光性組成
物中には、感度アップおよび現像性の向上のために環状
酸無水物類、フェノール類および有機酸類を添加するこ
とが好ましい。環状酸無水物としては米国特許4,115,12
8 号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−
エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マ
レイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
【0061】フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,
3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキ
シベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−
トリフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒ
ドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェ
ニルメタンなどが挙げられる。
【0062】更に、有機酸類としては、特開昭60−8894
2 号、特開昭2−96755 号公報などに記載されている、
スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホス
ホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸類などが
あり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシル
ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチ
ル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、
リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフ
タル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメト
キシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シク
ロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリ
ン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げら
れる。上記の環状無水物類、フェノール類および有機酸
類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15重量
%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
【0063】(現像安定剤)また、本発明における感光
性組成物中には、現像条件に対する処理の安定性(いわ
ゆる現像許容性)を広げるため、特開昭62−251740号公
報や特開平4−68355 号公報に記載されているような非
イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4
−13149 号公報に記載されているような両性界面活性剤
を添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例
としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモ
ノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン
酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノ
オレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
などが挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボ
キシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例え
ば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)およびア
ルキルイミダゾリン系(例えば、商品名レボン15、三
洋化成(株)製)などが挙げられる。上記非イオン界面
活性剤および両性界面活性剤の感光性組成物中に占める
割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましく
は0.1〜5重量%である。
【0064】(焼き出し剤、染料、その他)本発明にお
ける感光性組成物中には、露光後直ちに可視像を得るた
めの焼出し剤、画像着色剤としての染料やその他のフィ
ラーなどを加えることができる。本発明に用いることの
できる染料としては、特開平5−313359号公報に記載の
塩基性染料骨格を有するカチオンと、スルホン酸基を唯
一の交換基として有し、1〜3個の水酸基を有する炭素
数10以上の有機アニオンとの塩からなる塩基性染料を
あげることができる。添加量は、全感光性組成物の0.2
〜5重量%である。
【0065】また、上記特開平5−313359号公報に記載
の染料と相互作用して色調を変えさせる光分解物を発生
させる化合物、例えば特開昭50−36209 号(米国特許3,
969,118 号)に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−
スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−36223 号(米国特許
4,160,671 号)に記載のトリハロメチル−2−ピロンや
トリハロメチルトリシジン、特開昭55−62444 号(米国
特許2,038,801 号)に記載の種々のo−ナフトキノンジ
アジド化合物、特開昭55−77742 号(米国特許4,279,98
2 号)に記載の2−トリハロメチル−5−アリール1,
3,4−オキサジアゾール化合物などを添加することが
できる。これらの化合物は単独又は混合し使用すること
ができる。これらの化合物のうち400nmに吸収を有す
る化合物を先の黄色染料として用いてもよい。
【0066】画像の着色剤として前記上記特開平 5−31
3359号公報に記載の染料以外に他の染料を用いることが
出来る。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油
溶性染料および塩基染料をあげることができる。具体例
には、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイ
ルブルー#603、(以上、オリエント化学工業株式会
社製)、ビクトリアピュアブルーBOH、ビクトリアピ
ュアブルーNAPS、エチルバイオレット6HNAPS
〔以上、保土谷化学工業(株)製〕、ローダミンB〔C
145170B〕、マラカイトグリーン(C14200
0)、メチレンブルー(C152015)等をあげるこ
とができる。
【0067】また本発明における感光性組成物中には、
以下の黄色系染料を添加することができる。一般式
〔I〕、〔II〕あるいは [III]で表わされ、417nmの
吸光度が436nmの吸光度の70%以上である黄色染料
【0068】
【化16】
【0069】式〔I〕中、R11及びR12はそれぞれ独立
に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アリール基
又はアルケニル基を示す。またR11とR12は環を形成し
てもよい。R13、R14、R15はそれぞれ独立に水素原
子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。G1 、G2
それぞれ独立にアルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アシル基、シリールカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基又はフルオロアルキルスルホ
ニル基を示す。またG1 とG2 は環を形成してもよい。
さらにR11、R12、R13、R14、R15、G1 、G2 のう
ち1つ以上に1つ以上のスルホン酸基、カルボキシル
基、スルホンアミド基、イミド基、N−スルホニルアミ
ド基、フェノール性水酸基、スルホンイミド基、又はそ
の金属塩、無機又は有機アンモニウム塩を有する。Yは
O、S、NR(Rは水素原子もしくはアルキル基又はア
リール基)、Se、−C(CH3)2 −、−CH=CH−
より選ばれる2価原子団を示し、n1 は0又は1を示
す。
【0070】
【化17】
【0071】式〔II〕中、R16及びR17はそれぞれ独立
に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、ヘテロ環基、置換ヘテロ環基、ア
リル基又は置換アリル基を表わし、また、R16とR17
は共にそれが結合している炭素原子と共に環を形成して
も良い。n2 は0、1又は2を表わす。G3 及びG4
それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、ア
シル基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換ア
リールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、フ
ルオロアルキルスルホニル基を表わす。ただし、G3
4 が同時に水素原子となることはない。また、G3
4 とはそれが結合している炭素原子と共に非金属原子
から成る環を形成しても良い。さらにR16、R17
3 、G4 のうち1つ以上に1つ以上のスルホン酸基、
カルボキシル基、スルホンアミド基、イミド基、N−ス
ルホニルアミド基、フェノール性水酸基、スルホンイミ
ド基、又はその金属塩、無機又は有機アンモニウム塩を
有する。
【0072】
【化18】
【0073】式〔II〕中、R18、R19、R20、R21、R
22、R23はそれぞれ同じでも異なっていてもよく水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換ア
リール基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アシル基、
シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、ニトロ基、カルボキシル基、クロル基、ブ
ロモ基を表わす。
【0074】本発明における感光性平版印刷版は、前記
の各感光性組成物の成分を溶解する溶媒に溶かして支持
体上に塗布することによって得られる。ここで使用する
溶媒としては、γ−ブチロラクトン、エチレンジクライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1
−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プ
ロピルアセテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロ
リドン、テトラヒドロフルフリルアルコール、アセト
ン、ジアセトンアルコール、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ジエチレングリコールジメチルエー
テルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合して
使用する。そして上記成分中の濃度(固形分)は、2〜
50重量%が適当である。塗布量としては0.5g/m2
4.0g/m2が好ましい。0.5g/m2よりも少ないと耐刷
性が劣化する。4.0g/m2よりも多いと耐刷性は向上す
るが、感度が低下してしまう。
【0075】本発明における感光性組成物中には、塗布
法を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−17
0950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全感光性
組成物の0.01〜1重量%であり、更に好ましくは0.0
5〜0.5重量%である。以上のようにして得られた平版
印刷版では原画フィルムに対して忠実な印刷物を得るこ
とができるが焼ボケ及び印刷物のがさつき感が悪い。焼
ボケを改良する方法としてこのようにして設けられた感
光量の表面を凹凸にする方法がある。例えば特開昭61−
258255号公報に記載されているように感光液中に数μm
の粒子を添加し、それを塗布する方法があるがこの方法
では焼ボケの改良効果も小さくかつがさつき感は全く改
良されない。
【0076】ところが、例えば特開昭50−125805号、特
公昭57−6582号、同61−28986 号、同62−62337 号公報
に記載されているような感光量の表面に凹凸となる成分
をつける方法を用いると焼ボケは改良され、更に印刷物
のがさつき管は良化する。更に、特公昭55−30619 号公
報に記載されているように感光物の感光波長領域に吸収
を持つ光吸収剤をマット層中に含有させると焼ボケ・が
さつき感がさらに良化する。また1インチ175線の線
数からなる原画フィルムよりも焼ボケしやすく、印刷物
のがさつき感が出やすい1インチ300線以上の線数か
らなる原画フィルムおよびFMスクリーニングにより得
られた原画フィルムを用いても良好な印刷物を得ること
ができる。以上のように感光性印刷版の感光層表面に設
けられた微少パターンは次のようなものが望ましい。す
なわち塗布部分の高さは1〜40μm 、特に2〜20μ
m の範囲が好ましく、大きさ(幅)は10〜10000
μm 、特に20〜200μm の範囲が好ましい。また量
は1〜1000個/mm2、好ましくは5〜500個/mm2
の範囲である。
【0077】<3>現像処理 次に、本発明の感光性平版印刷版の現像処理について説
明する。 (露光)本発明の感光性平版印刷版は像露光された後に
現像処理される。像露光に用いられる活性光線の光源と
してはカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、タングステンランプ、ケミカルラ
ンプなどがある。放射線としては、電子線、X線、イオ
ンビーム、遠赤外線などがある。また、g線、i線、D
eep−UV光、高密度エネルギービーム(レーザービ
ーム)も使用される。レーザービームとしてはヘリウム
・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレー
ザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシマ
ーレーザー、半導体レーザー、YAGレーザーなどが挙
げられる。
【0078】(現像液)本発明の感光性平版印刷版の現
像液として好ましいものは、実質的に有機溶剤を含まな
いアルカリ性の水溶液である。具体的には珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム、NaOH、KOH、LiOH、第3
リン酸ナトリウム、第2リン酸ナトリウム、第3リン酸
アンモニウム、第2リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、アンモニウム水などのような水溶液が適当であ
る。更に好ましくは(a)非還元糖から選ばれる少なく
とも一種の糖類および(b)少なくとも一種の塩基を含
有し、pHが9.0〜13.5の範囲にある現像液である。以
下この現像液について詳しく説明する。なお、本明細書
中において、特にことわりのない限り、現像液とは現像
開始液(狭義の現像液)と現像補充液とを意味する。
【0079】(非還元糖及び塩基)この現像液は、その
主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合
物と、少なくとも一種の塩基からなり、液のpHが9.0〜
13.5の範囲であることを特徴とする。かかる非還元糖
とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性
を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロ
ース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体
および糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類
され、何れも好適に用いられる。トレハロース型少糖類
には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体とし
ては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配
糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてD,L
−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビ
ット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L
−タリット、ズリシットおよびアロズルシットなどが挙
げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトー
ルおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水
あめ)が好適に用いられる。これらの中で特に好ましい
非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にD
−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領
域に緩衝作用があることと、低価格であることで好まし
い。 これらの非還元糖は、単独もしくは二種以上を組
み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は
0.1〜30重量%が好ましく、更に好ましくは、1〜2
0重量%である。この範囲以下では十分な緩衝作用が得
られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃縮化し難
く、また原価アップの問題が出てくる。尚、還元糖を塩
基と組み合わて使用した場合、経時的に褐色に変色し、
pHも徐々に下がり、よって現像性が低下するという問題
点がある。
【0080】非還元糖に組み合わせる塩基としては従来
より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水
酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム、燐酸三ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、燐酸二ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられ
る。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロピノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。こ
れらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせ
て用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリ
ウム、同カリウムである。その理由は、非還元糖に対す
るこれらの量を調整することにより広いpH領域でpH調整
が可能となるためである。また、燐酸三ナトリウム、同
カリウム、炭酸ナトリウム、同カリウムなどもそれ自身
に緩衝作用があるので好ましい。これらのアルカリ剤は
現像液のpHを9.0〜13.5の範囲になるように添加さ
れ、その添加量は所望のpH、非還元糖の種類と添加量に
よって決められるが、より好ましいpH範囲は10.0〜1
3.2である。
【0081】現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基
からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液
として用いられる弱酸としては、pKaが10.0〜13.
2のものが好ましい。このような弱酸としては、Pergam
on Press社発行のIONISATIONCONSTANTS OF ORGANIC ACI
DS IN AQUEOUS SOLUTION などに記載されているものか
ら選ばれ、例えば2,2,3,3−テトラフルオロプロ
パノール−1(pKa12.74)、トリフルオロエタノ
ール(同12.37)、トリクロロエタノール(同12.2
4)などのアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド
(同12.68)、ピリジン−4−アルデヒド(同12.0
5)などのアルデヒド類、サリチル酸(同13.0)、3
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコ
ール(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサリ
チル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシスルホン酸
(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同11.
94)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン(同11.
82)、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール
(同11.34)、o−クレゾール(同10.33)、レゾ
ルシノール(同11.27)、p−クレゾール(同10.2
7)、m−クレゾール(同10.09)などのフェノール
性水酸基を有する化合物、
【0082】2−ブタノンオキシム(同12.45)、ア
セトキシム(同12.42)、1,2−シクロヘプタンジ
オキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドオキシム(同12.10)、ジメチルグリオキシム(同
11.9)、エタンジアミドジオキシム(同11.37)、
アセトフェノンオキシム(同11.35)などのオキシム
類、アデノシン(同12.56)、イノシン(同12.
5)、グアニン(同12.3)、シトシン(同12.2)、
ヒポキサンチン(同12.1)、キサンチン(同11.9)
などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホス
ホン酸(同12.32)、1−アミノ−3,3,3−トリ
フルオロ安息香酸(同12.29)、イソプロピリデンジ
ホスホン酸(同12.10)、1,1−エチルリデンジホ
スホン酸(同11.54)、1,1−エチルデンジホスホ
ン酸1−ヒドロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾー
ル(同12.86)、チオベンズアミド(同12.8)、ピ
コリンチオアミド(同12.55)、バルビツル酸(同1
2.5)などの弱酸が挙げられる。
【0083】これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホ
サリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合
わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わ
せて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組
み合わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用され
る。
【0084】(界面活性剤)現像液には、現像性の促進
や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添
加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、
カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤剤が挙げ
られる。界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチ
リルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキ
シプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部
分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペン
タエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレング
リコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エ
ステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、
ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチ
レン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪
酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,
N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪
酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオ
ン性界面活性剤、
【0085】脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキ
シアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、
ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエヒテ
ル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム
塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム
塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキ
ルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エス
テル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類な
どのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラ
ブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチ
レンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カ
ルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタ
イン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの
両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の
中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなど
のポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それ
らの界面活性剤もまた包含される。
【0086】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に0.001〜10重量%、
より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加される。
【0087】(現像安定化剤)現像液には、種々の現像
安定化剤が用いられる。それらの好ましい例として、特
開平6−282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレ
ングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロ
キシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブ
チルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩およ
びジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウ
ム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭50
−51324 号公報記載のアニオン界面活性剤または両性界
面活性剤また特開昭55−95946 号公報記載の水溶性カチ
オニックポリマー、特開昭56−142528号公報に記載され
ている水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開昭
59−84241 号公報のアルキレングリコールが付加された
有機ホウ素化合物、特開昭60−111246号公報記載のポリ
オキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型
の水溶性界面活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオ
キシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキ
レンジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載の重
量平均分子量300以上のポリエチレングリコール、特
開昭63−175858号公報のカチオン性基を有する含フッ素
界面活性剤、特開平2−39157 号公報の酸またはアルコ
ールに4モル以上のエチレンオキシドを付加して得られ
る水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリア
ルキレン化合物などが挙げられる。
【0088】(有機溶剤)本発明の現像液は実質的に有
機溶剤を含まないものであるが、必要により有機溶剤が
加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解
度が約10重量%以下のものが適しており、好ましくは
5重量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニ
ルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニル
−1−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノール、
4−フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1−ブ
タノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオ
キシエタノール、o−トメキシベンジルアルコール、m
−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジル
アルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノー
ル、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロ
ヘキサノールおよび4−メチルシクロヘキサノール、N
−フェニルエタノールアミンおよびN−フェニルジエタ
ノールアミンなどを挙げることができる。本発明の現像
液において実質的に有機溶剤を含まないとは、有機溶剤
の含有量が使用液の総重量に対して5重量%以下である
ことをいう。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な
関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の
量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量
が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全
に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できな
くなるからである。
【0089】(還元剤)現像液には更に還元剤を加える
ことができる。これは印刷版の汚れを防止するものであ
り、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型感光
性平版印刷版を現像する際に有効である。好ましい有機
還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メ
トール、メトキシキノン、レゾルシン、2−メチルレゾ
ルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、
フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。
更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水
素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、
チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム
塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることがで
きる。これらの還元剤のうち汚れ効果が特に優れている
のは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液
に対して好ましくは、0.05〜5重量%の範囲で含有さ
れる。
【0090】(有機カルボン酸)現像液には有機カルボ
ン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は
炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸および芳香族カ
ルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例として
は、カプロン酸、エナンチル酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸な
どがあり、特に好ましいのは炭素数8〜12のアルカン
酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪
酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カ
ルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラ
セン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具
体的には、o−クロロ安息鉱酸、p−クロロ安息香酸、
o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o
−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、
1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2
−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−
ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナ
フトエ酸は特に有効である。上記脂肪族および芳香族カ
ルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウ
ム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。
本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別
な制限はないが、0.1重量%より低いと効果が十分でな
く、また10重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計
れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げ
ることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像
液に対して0.1〜10重量%であり、より好ましくは0.
5〜4重量%である。
【0091】(その他)現像液には、更に必要に応じ
て、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤
などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例
えば、ぽり燐酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩お
よびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジ
エチレントリアミンペンタ酢酸、トリエサレンテトラミ
ンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ
酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキ
サンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プロパノ
ールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、
アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミン
テトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミン
ペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミ
ンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエ
チレンジアミントリ(メチレンホヒホン酸)および1−
ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナ
トリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げる
ことができる。
【0092】このような硬水軟水剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適直
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.01〜5重量%、より好ましくは、0.01〜0.5
重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量では所
期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多
い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。
現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時より
も水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に
水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。
この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない
程度が適当である。
【0093】本発明の感光性平版印刷版の現像液として
はまた、特開平6−282079号公報記載の現像液も使用で
きる。これは、SiO2 /M2 O(Mはアルカリ金属を
示す)のモル比が0.5〜2.0の珪酸アルカリ金属塩と、
水酸基を4以上有する糖アルコールに5モル以上のエチ
レンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシ
ド付加化合物を含有する現像液である。糖アルコールは
糖のアルデヒド基およびケトン基を還元してそれぞれ第
一、第二アルコール基としたものに相当する多価アルコ
ールである。糖アルコールの具体的な例としては、D,
L−トレイット、エリトリット、D,L−アラビット、
リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−
マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズ
ルシット、アロズルシットなどであり、更に糖アルコー
ルを縮合したジ、トリ、テトラ、ペンタおよびヘキサグ
リセリンなども挙げられる。上記水溶性エチレンオキシ
ド付加化合物は上記糖アルコール1モルに対し5モル以
上のエチレンオキシドを付加することにより得られる。
さらにエチレンオキシド付加化合物には必要に応じてプ
ロピレンオキシドを溶解性が許容できる範囲でブロック
共重合させてもよい。これらのエチレンオキシド付加化
合物は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加
量は現像液(使用液)に対して0.001〜5重量%が適
しており、より好ましくは0.001〜2重量%である。
この現像液にはさらに、現像性の促進や現像カスの分散
および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に
応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤を添加でき
る。
【0094】(現像および後処理)かかる組成の現像液
で現像処理されたPS版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分と
するフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。
本発明のPS版の後処理にはこれらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。近年、製版・印刷業界では
製版作業の合理化および標準化のため、PS版用の自動
現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般
に現像部と後処理部からなり、PS版を搬送する装置
と、各処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済み
のPS版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各
処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像および後処
理するものである。また、最近は処理液が満たされた処
理液槽中に液中ガイドロールなどによってPS版を浸漬
搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の
水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液の希
釈水として再利用する方法も知られている。このような
自動処理においては、各処理液に処理量や稼動時間等に
応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することが
できる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわ
ゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処理に
よって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けら
れ、多数枚の印刷に用いられる。
【0095】
【実施例】次に、本発明の実施例を示し、詳細に説明す
る。なお、下記実施例におけるパーセントは、他に指定
のない限り、すべて重量%である。 (実施例1〜5、比較例1〜3)厚さ0.24mmのJIS
A1050アルミニウム板の表面をナイロンブラシと
400メッシュのパミストンの水懸濁液を用い砂目立て
した後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウム水
溶液に70度で60秒間浸漬してエッチングした後、流
水で水洗後、20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。こ
れをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を
用いて1%硝酸水溶液中で260クーロン/dm2 の陽極
時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測
定したところ0.55μm (Ra表示)であった。ひきつ
づいて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し、55℃で
2分間デスマットした後、20%H2 SO4 水溶液中で
電流密度14A/cm2 、陽極酸化皮膜量が2.5g/m2
当になるように陽極酸化し、水洗して基板〔A〕を作成
した。基板〔A〕を珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で
30℃で10秒処理し、水洗して基板〔B〕を作成し
た。この様にして処理された基板〔A〕あるいは〔B〕
の表面に表2に示した本発明の高分子化合物を塗布し、
80℃で15秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は、15mg
/m2であった。
【0096】 表2の高分子化合物 0.3g メタノール 100g 水 1g 次に、この基板上に下記感光液〔A−1〕又は〔A−
2〕を塗布することにより感光層を設ける。乾燥後の感
光層塗膜量は1.3g/m2であった。更に、真空密着時間
を短縮させるため、特公昭61−28986 号記載の方法でマ
ット層を形成させることにより、感光性平版印刷版を作
成した(実施例1〜5)。
【0097】比較のために基板〔A〕に処理も中間層も
施していない基板をも作成した(比較例1、2)。更に
比較のため、基板〔B〕の表面上に中間層を設け下記感
光液[A−3]を塗布後マット層を形成した(比較例
3)。
【0098】 〔感光液A−1〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特許 第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.8g バインダー ノボラックI 0.4g ノボラックII 0.2g 本願に係る高分子化合物(A−1) 1.5g p−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g ピロガロール 0.05g 4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル) アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル) −S−トリアジン(以下トリアジンAと略) 0.07g ビクトリアピュアブル−BOH(保土谷化学(株)製の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料) 0.045g F176PF(フッ素系界面活性剤) (大日本インキ化学工業(株)製) 0.01g メチルエチルケトン 15 g 1−メトキシ−2−プロパノール 10 g
【0099】 〔感光液A−2〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特許 第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.8g バインダー ノボラックI 0.4g ノボラックII 0.2g 本願に係る高分子化合物(A−2) 1.5g p−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g ピロガロール 0.05g トリアジンA 0.07g ビクトリアピュアブル−BOH(保土谷化学(株)製の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料) 0.045g F176PF(フッ素系界面活性剤) (大日本インキ化学工業(株)製) 0.01g メチルエチルケトン 15 g 1−メトキシ−2−プロパノール 10 g
【0100】 〔感光液A−3〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ビロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特 許第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.8g バインダー ノボラックI 0.4g ノボラックII 0.2g ノボラック以外の高分子化合物(A−3) 1.5g p−ノルマルオクチルフフェノールホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノン−1,2 −ジアジド−4−スルホン酸クロライド 0.01g テトラスドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g ピロガロール 0.05g トリアジンA 0.07g ビクトリアピュアブル−BOH(保土谷化学(株)製の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料) 0.045g F176PF(フッ素系界面活性剤) (大日本インキ化学工業(株)製) 0.01g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 10g
【0101】
【化19】
【0102】このように作成した感光性平版印刷版を1
mの距離から3kWのメタルハライドランプにより1分
間画像露光し、次に示す現像液を用いて富士写真フィル
ム(株)製PSプロセッサー900VRを用いて、30
℃12秒間現像した。 現像液A:D−ソルビトール 5.1 重量部 水酸化ナトリウム 1.1 重量部 トリエタノールアミン・エチレンオキサイド 付加物(30モル) 0.03重量部 水 93.8 重量部 現像液B:〔SiO2 〕/〔Na2 O〕モル比1.2 SiO2 1.4重量%の珪酸ナトリウム水溶液 100 重量部 エチレンジアミン・エチレンオキサイド 付加物(30モル) 0.03重量部
【0103】耐刷性は、小森印刷機(株)印刷機スプリ
ントを用いて印刷した時に、どれだけの枚数が印刷でき
るか評価した。この印刷枚数が多いほど、耐刷性が良好
であることを示す。保存安定性は、感光性平版印刷版を
40℃の恒温槽中に1ヶ月間放置し、現像した際のグレ
ースケールによる感度変動を調べ判定した。平版印刷版
の構成、現像液および印刷結果を表2に示した。
【0104】 表2 ──────────────────────────────────── 基板 中間層の高分子化合物 感光液 現像液 耐刷性 感度変動 ──────────────────────────────────── 実施例1 B 表1のNO.2の化合物 A−1 A 23万枚 0.25段 ──────────────────────────────────── 実施例2 B 表1のNO.9の化合物 A−1 A 19万枚 0.25段 ──────────────────────────────────── 実施例3 B 表1のNO.19 の化合物 A−2 B 20万枚 0.25段 ──────────────────────────────────── 実施例4 B 表1のNO.6の化合物 A−2 A 20万枚 0.25段 ──────────────────────────────────── 実施例5 B 表1のNO.1の化合物 A−1 B 22万枚 0.25段 ──────────────────────────────────── 比較例1 A な し A−1 B 17万枚 1.5 段 ──────────────────────────────────── 比較例2 B な し A−2 B 3万枚 1.25段 ──────────────────────────────────── 比較例3 B 表1のNO.27 の化合物 A−3 B 19万枚 1.5 段 ────────────────────────────────────
【0105】上記の結果より、本発明の感光性平版印刷
版は、耐刷性に優れ、かつ保存経時による感度変動の少
ない良好なポジ型感光性平版印刷版を与えることができ
ることが明らかである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08F 220/36 C08F 220/36 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA12 AA14 AB03 AC01 AD03 BE00 CB06 CB14 CB15 CB41 CB42 CB43 DA14 DA36 2H096 AA06 BA11 CA02 CA03 EA02 4J100 AL03Q AL08R AM02P BA03R BA16R BA37R BA59R BC04R BC43R CA05 JA37

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 親水化処理を施したアルミニウム支持
    体上に、酸基を有する構成成分及びオニウム基を有する
    構成成分を有する高分子化合物を含有する中間層を設け
    た上に、下記一般式(A)で示される構成成分を有する
    高分子化合物を含むポジ型感光層を設けてなる感光性平
    版印刷版。 【化1】 一般式(A)において、Rは水素原子、メチル基、ハロ
    ゲン原子を表し、R1 及びR2 はそれぞれ異なっても良
    い2価の有機基を表し、Xはアルカリ可溶性基を表し、
    nは1から3の自然数を表す。
  2. 【請求項2】 親水化処理が珪酸塩処理であることを
    特徴とする請求項1に記載の感光性平版印刷版。
  3. 【請求項3】 一般式(A)においてR1 が炭素数1
    〜6のアルキレン基であり、R2 が炭素数1〜12の置
    換されても良いアルキレン基またはシクロアルキレン基
    もしくは炭素数6〜18の置換されても良い芳香族基で
    あり、及びXが水酸基、カルボキシル基もしくはスルホ
    ンアミド基である請求項1に記載の感光性平版印刷版。
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