JPH10301101A - カラーフィルター基板、カラーフィルター基板の製造方法および、液晶パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 新たな製造工程を要したり、製造工程が複雑
化したりすることなく、液晶パネルの視角特性を拡大す
ることができるカラーフィルター基板、カラーフィルタ
ー基板の製造方法、および液晶パネルを提供する。 【解決手段】 ブラックマトリクス層３により囲まれた
表示の最小単位である表示画素の領域の表面、すなわ
ち、カラーフィルター層２やオーバーコート層４の表面
を平面でなく、凹型または凸型の形状とする。このよう
な構成のカラーフィルター基板を用いた液晶パネルで
は、表示画素領域内の液晶分子のティルト角が一定の範
囲に分布し、その結果視角特性の改善が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルター基
板、カラーフィルター基板の製造方法および、液晶パネ
ルに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のカラーフィルター基板の概略を図
１２の（ａ），（ｂ）に示し、液晶パネルの概略を図１
３〜図１７に示す。

【０００３】従来のカラーフィルター基板では、図１２
の（ａ）に示すように、表示画素領域１の表面が平滑に
形成されており、印刷工法等を用いてカラーフィルター
層２（２ａ，２ｂ，２ｃはそれぞれ赤のカラーフィルタ
ー層，緑のカラーフィルター層，青のカラーフィルター
層を示す）を形成した場合のようにこの平滑性が不十分
な時（図１２の（ｂ）参照）には、ブラックマトリクス
層３およびカラーフィルター層２の上にさらにオーバー
コート層４を形成して表示画素領域１の平滑性が均一に
なるように作成されていた。なお、図１２の（ａ），
（ｂ）において、５はガラス基板である。また、図面に
おいては、分かり易いように、表示画素領域１は青のカ
ラーフィルター層２ｃについての該当箇所を示してい
る。

【０００４】この表示画素領域１の表面を平滑に形成す
る理由としては、このようにすると、図１３に示すよう
に、液晶パネルを組み立てた時に、液晶層７の層厚を均
一に保つことができるため、液晶パネルの正面方向の光
学特性を良好に保つことができること、図１４に示すよ
うに、表示画素領域１内に急激な表面段差があると液晶
分子７ａの配向方向に乱れＸを生じてしまうが、表示画
素領域１の表面を平滑に形成するとこのような液晶分子
７ａの配向方向の乱れＸを防止できること、更には、電
圧を印可して液晶パネルを駆動した場合に表示画素領域
１内の液晶分子７ａの配向が均一となることに基づくも
のである。簡単化のため、これらの図において、電圧印
可した表示画素領域１内の液晶分子７ａは、中央付近の
もののみを示している。なお、図１３，図１４におい
て、８はカラーフィルター層２上に形成されている透明
電極、９は透明電極８上に形成されている配向膜、１２
はＴＦＴアレイ基板で、このＴＦＴアレイ基板１２は、
別途の透明電極１０や配向膜１１、ガラス基板１３を有
する。

【０００５】そして、今日量産されている液晶パネルの
ほとんどは、液晶層７に電圧を印可することにより液晶
層７の配向状態を操作し、液晶層７を通過する光の偏光
状態をコントロールすることによって所望の表示を得て
いる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来構
成のカラーフィルター基板および液晶パネルによれば、
液晶層７を通過する光はその入射角、出射角によって液
晶層７内の通過距離、および液晶分子７ａとのなす角度
が異なるために，液晶パネルを観察する方向により光学
的特性が異なってしまう。この光学特性の視角依存性は
液晶パネルの特性上の大きな課題のひとつであった。

【０００７】この課題を解決するために近年様々な方法
が提案されている。その第一の方法として、図１５に示
すように、液晶パネルの表面に視角依存補償用の複屈折
フィルム１４を貼付する方法がある。この複屈折フィル
ム１４としては、面内の３次元方向に分子配列をコント
ロールしたものや、円盤状の複屈折異方性を持つものな
どが提案されており、それぞれ効果を上げているが、複
屈折フィルム１４が高価なことやフィルム貼付けという
新たな製造工程を要するという問題があった。

【０００８】第二の方法としては、図１６，図１７，図
１４に示すように、表示画素１をいくつかの領域に分割
して，その各分割表示画素領域１ａ，１ｂ毎に液晶の配
向状態を異ならせることによって視角の拡大を図るとい
う方法が提案されている。図１６に示すように、各分割
表示画素領域１ａ，１ｂによって、ラビング方向を変え
てパネル面方向の液晶分子７ａの配向をコントロールす
る方法や（図１６における９ａ，１１ａは第１のラビン
グを施した配向膜，９ｂ，１１ｂは第２のラビングを施
した配向膜である）、図１７に示すように、各分割表示
画素領域１ｃ，１ｄによって異なった配向膜９ｃ，９
ｄ，１１ｃ，１１ｄの材料を用いることによって液晶分
子７ａのティルト角をコントロールする方法、さらに
は、図１４に示すように、透明電極８と配向膜９との間
における表示画素領域１の一部に誘電体膜１５を形成し
て液晶層７に印可される電界をコントロールする方法等
がある。なお、図１３〜図１７においては、赤のカラー
フィルター層２ａに該当する表示画素領域１に電圧が印
加されている状態を示している。

【０００９】これらの方法はいずれも有効に効果を発揮
しているが、製造工程が複雑化するという問題や、また
それによって生じる製造歩留の低下、さらには分割した
領域の境界付近で液晶分子７ａの配向方向に乱れＸ（図
１４参照）を生じるという問題があった。

【００１０】本発明は上記問題を解決するもので、新た
な製造工程を要したり、製造工程が複雑化したりするこ
となく、液晶パネルの視角特性を拡大することができる
カラーフィルター基板、カラーフィルター基板の製造方
法、および液晶パネルを提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明のカラーフィルター基板は、ブラックマトリク
スにより囲まれた表示の最小単位である表示画素の領域
の表面が平面でなく、凹型または凸型に形成されている
ものである。

【００１２】この本発明によれば、新たな製造工程を要
したり、製造工程が複雑化したりすることなく、液晶パ
ネルの視角特性を拡大することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載のカラー
フィルター基板は、ブラックマトリクスにより囲まれた
表示の最小単位である表示画素の領域の表面が平面でな
く、凹型または凸型に形成されているものであり、これ
によると、カラーフィルター基板の上に液晶層を形成す
ると、表示画素領域の内部で液晶層の層厚が連続的に変
化することとなり、このような構成の液晶パネルに電圧
を印可した場合、電圧を印可した表示画素領域内で上下
の透明電極間に印可する電圧が一定であっても、液晶層
厚の異なる領域では液晶分子に加えられる電界が異な
り、この結果、液晶分子のティルト角が一定の範囲内で
分布して観察方向による光学特性の差異が緩和される。

【００１４】また、このカラーフィルター基板は、表示
画素領域の中央部分と周辺部分との表面の高低差が０．
２μｍ以上であると好適である。本発明の請求項３に記
載のカラーフィルター基板の製造方法は、ガラス基板上
にブラックマトリクス層を厚さ１．５μｍ以上形成した
後、カラーフィルター層をその一部がブラックマトリク
ス層に重なるように形成して、カラーフィルター層の表
面におけるブラックマトリクス層に重なった箇所とブラ
ックマトリクス層に重なっていない箇所との高低差を生
じさせてなるものである。

【００１５】また、本発明の請求項４に記載のカラーフ
ィルター基板の製造方法は、ガラス基板上にブラックマ
トリクス層を厚さ１．５μｍ以上形成した後、カラーフ
ィルター層をその一部がブラックマトリクス層に重なる
ように形成し、さらにブラックマトリクス層およびカラ
ーフィルター層を覆うようにオーバーコート層を形成し
て、オーバーコート層の表面におけるカラーフィルター
層がブラックマトリクス層に重なった箇所とカラーフィ
ルター層がブラックマトリクス層に重なっていない箇所
との高低差を生じさせてなるものである。

【００１６】また、本発明の請求項５に記載のカラーフ
ィルター基板の製造方法は、ブラックマトリクスを形成
したガラス基板表面に感光性透明樹脂膜を塗布し、フォ
トリソグラフィー法を用いて画素中央部に透明樹脂層を
形成した後、カラーフィルター層を形成して、カラーフ
ィルター層の表面における透明樹脂層の形成部に対応す
る箇所と透明樹脂層の非形成部に対応する箇所との高低
差を生じさせてなるものである。

【００１７】また、本発明の請求項６に記載のカラーフ
ィルター基板の製造方法は、ブラックマトリクスを形成
したガラス基板表面に感光性透明樹脂膜を塗布し、フォ
トリソグラフィー法を用いて画素中央部に透明樹脂層を
形成した後、カラーフィルター層を形成し、さらにブラ
ックマトリクス層およびカラーフィルター層を覆うよう
にオーバーコート層を形成して、オーバーコート層の表
面における透明樹脂層の形成部に対応する箇所と透明樹
脂層の非形成部に対応する箇所との高低差を生じさせて
なるものである。

【００１８】これらの製造方法によれば、ブラックマト
リクスにより囲まれた表示の最小単位である表示画素の
領域の表面が平面でなく、凹型または凸型に形成されて
いるカラーフィルター基板を良好に製造することができ
る。

【００１９】また、ブラックマトリクス層およびカラー
フィルター層を覆うようにオーバーコート層を形成する
ことで、カラーフィルター層がブラックマトリクス層に
重なった領域と重ならない領域との境界付近での表面段
差をなくすことができて、表面形状を連続的に変化させ
ることができ、表面段差による配向乱れを防止できる。

【００２０】また、本発明の請求項５，６に記載のカラ
ーフィルター基板の製造方法において、画素中央部に形
成する透明樹脂層の面積がブラックマトリクスで囲まれ
た表示画素面積の３分の１以下であり、層厚が０．２μ
ｍ以上であると好適である。

【００２１】また、本発明の請求項８に記載の液晶パネ
ルは、カラーフィルター基板を用いて組み立てられた液
晶パネルであって、カラーフィルター基板は、ブラック
マトリクスにより囲まれた表示の最小単位である表示画
素の領域の表面が平面でなく、凹型または凸型に形成さ
れているものである。

【００２２】以下、本発明の実施の形態について、図１
から図１１を用いて説明する。なお、従来と同機能のも
のには同符号を付してその説明は一部省略する。また、
各図面においては、ＴＦＴアレイ基板上のＴＦＴ素子、
配線等は省略して簡略化している。

【００２３】図１，図２に示すように、このカラーフィ
ルター基板においては、ブラックマトリクス層３により
囲まれた表示の最小単位である表示画素領域１の表面
を、平面でなく凹型に形成している。すなわち、図１に
示すように、カラーフィルター層２（２ａ，２ｂ，２
ｃ）の表面を凹型に形成したり、図２に示すように、カ
ラーフィルター層２（２ａ，２ｂ，２ｃ）の表面を凹型
に形成するとともに、この表面形状を維持するように、
カラーフィルター層２の上にさらにオーバーコート層４
を形成している。

【００２４】そして、このカラーフィルター基板が採用
されている液晶パネルは、図３，図４に示すように、こ
のカラーフィルター基板のオーバーコート層４の上に、
透明電極８や配向膜９が設けられているとともに、別途
の透明電極１０や配向膜１１を有するＴＦＴアレイ基板
１２との間に液晶層７が設けられた構成とされている。
なお、図３，図４においては、赤のカラーフィルター層
２ａに該当する表示画素領域１に電圧が印加されている
状態を示している。

【００２５】このカラーフィルター基板および液晶パネ
ルは、以下のようにして製造される。図５の（ａ），
（ｂ）に示すように、清浄なガラス基板１に、アクリル
系感光性ブラックレジスト２１をスピンコータを用いて
通常より厚めに塗布し、８０℃、３０分間のプリベーク
を施す。次に、図５の（ｃ）に示すように、所望のパタ
ーンのマスク２２を介して１平方センチメートル当り１
００ｍＷのエネルギーで露光を行った後、アルカリ系の
現像液中での現像処理と、２００℃、２時間の加熱処理
とを行い、ガラス基板１に所望のパターンのブラックマ
トリクス層３が形成された付き基板を得る（図５の
（ｄ）参照）。

【００２６】この時、ブラックマトリクス層３の膜厚が
１．５μｍのものと２．０μｍのものとの２通りを作成
した。また、いずれのものもブラックマトリクス層３の
パターンーピッチは１１０μｍ、幅は３０μｍであっ
た。

【００２７】このブラックマトリクス付き基板の上に、
ブラックマトリクス層３を形成した時と同様のフォトリ
ソグラフィー法を用いて、赤、緑、青のカラーフィルタ
ー層２ａ、２ｂ、２ｃを形成した（図５の（ｅ）参
照）。このカラーフィルター層２のパターン幅は１１０
μｍであり、両端の１５μｍずつがブラックマトリクス
膜３に重なるように形成した。

【００２８】次に、図５の（ｆ）に示すように、スピン
コータを用いてエポキシ樹脂系オーバーコート膜４を膜
厚２μｍで塗布し、２００℃、２時間の加熱処理を行っ
てカラーフィルター基板を得た。

【００２９】このカラーフィルター基板にスパッタリン
グ法で透明電極８を製膜するとともに配向膜９を設けた
後、ＴＦＴアレイ基板１２を貼り合わせ、液晶材料を注
入することにより液晶層７を形成して、図４に示したＴ
ＦＴ液晶パネルＡ（Ａ−１，Ａ−２）を作成した。な
お、ここで、ＴＦＴ液晶パネルＡ−１はブラックマトリ
クス層３の膜厚が１．５μｍのもの、ＴＦＴ液晶パネル
Ａ−２はブラックマトリクス層３の膜厚が２．０μｍの
ものであり、その厚みの差は図示していない。

【００３０】このように、カラーフィルター層２の表面
やオーバーコート層４の表面を凹型に形成することによ
り、表示画素領域内で液晶層７の層厚が連続的に変化す
る。この液晶パネルに電圧を印可した場合、電圧を印可
した表示画素領域１内で上下の透明電極８間に印可する
電圧が一定であっても、液晶層７の厚みが異なるので液
晶分子７ａに加えられる電界が異なることとなり、この
結果、液晶分子７ａのティルト角が一定の範囲内でばら
つきを有する状態で分布し、観察方向による光学特性の
差異が緩和される。

【００３１】また、ブラックマトリクス層３およびカラ
ーフィルター層２を覆うようにオーバーコート層４を形
成することで、カラーフィルター層２がブラックマトリ
クス層３に重なった領域と重ならない領域との境界付近
での表面段差をなくすことができて、表面形状を連続的
に変化させるようにでき、表面段差による配向乱れを防
止できる。

【００３２】また、図６〜図１１に基づいて、本発明の
他の実施の形態について説明する。なお、上記の実施の
形態と同機能のものには同符号を付す。図６，図７に示
すように、このカラーフィルター基板においては、ブラ
ックマトリクス層３により囲まれた表示の最小単位であ
る表示画素領域１の表面を、平面でなく凸型に形成して
いる。

【００３３】すなわち、図６に示すように、ガラス基板
１における表示画素領域１の中央部に透明樹脂膜３１が
形成され、この透明樹脂膜３１に重なるようにしてカラ
ーフィルター層２が形成されて、カラーフィルター層２
（２ａ，２ｂ，２ｃ）の表面が凸型に形成されている。
また、図７に示すように、同様にしてカラーフィルター
層２（２ａ，２ｂ，２ｃ）の表面を凸型に形成するとと
もに、この表面形状を維持するように、カラーフィルタ
ー層２の上にさらにオーバーコート層４を形成してもよ
い。

【００３４】そして、このカラーフィルター基板が採用
されている液晶パネルは、図８，図９に示すように、こ
のカラーフィルター基板のオーバーコート層４の上に、
透明電極８や配向膜９が設けられているとともに、別途
の透明電極１０や配向膜１１，ガラス基板１３を有する
ＴＦＴアレイ基板１２との間に液晶層７が設けられた構
成とされている。

【００３５】このカラーフィルター基板および液晶パネ
ルは、以下のようにして製造される。図１０の（ａ），
（ｂ）に示すように、既にクロム製のブラックマトリク
ス層３がパターン形成されているガラス基板５にスピン
コータを用いて感光性の透明樹脂膜３１を塗布して８０
℃、３０分間のプリベークを施す。次に、図１０の
（ｃ）に示すように、所望のパターンのマスク２２を介
して１平方センチメートル当り３０ｍｗのエネルギーで
露光を行った後、アルカリ系の現像液中での現像処理
と、２００℃、２時間の加熱処理とを行い、透明樹脂膜
３１のパターン形成を行った（図１０の（ｄ）参照）。

【００３６】この時、透明樹脂膜３１はその膜厚が１．
３μｍのものと１．８μｍのものとの２通りのものを作
成した。またこの時の透明樹脂膜３１のパターンは、図
１１に示すように、表示画素領域１の中央にその面積が
表示画素領域１の１／３以下になるように形成した。

【００３７】次に、上記実施の形態における液晶パネル
Ａ−１，Ａ−２のカラーフィルター基板を作成した時と
同様に、フォトリソグラフィー法を用いて、赤、緑、青
のカラーフィルター層２ａ、２ｂ、２ｃを形成した（図
１０の（ｅ）参照）。この場合は、クロムのブラックマ
トリクス層３を用いているので、カラーフィルター層２
の両端とブラックマトリクス層３との重なり具合につい
ては特に注意する必要は無い。樹脂製のブラックマトリ
クス層３を用いる場合には、その膜厚に応じてカラーフ
ィルター層２の両端と、ブラックマトリクス層３との重
なりに具合いついて調整が必要になってくるが、本質的
には本発明の目的は達成可能である。

【００３８】次に、スピンコータを用いてエポキシ樹脂
系オーバーコート膜４を膜厚２μｍで塗布し、２００
℃、２時間の加熱処理を行って、カラーフィルター基板
を得た（図１０の（ｆ）参照）。

【００３９】このカラーフィルター基板にスパッタリン
グ法で透明電極８を製膜するとともに配向膜９を設けた
後、ＴＦＴアレイ基板１２を貼り合わせ、液晶材料を注
入することにより液晶層７を形成して、図９に示したＴ
ＦＴ液晶パネルＢ（Ｂ−１，Ｂ−２）を作成した。な
お、ここで、ＴＦＴ液晶パネルＢ−１は透明樹脂膜３１
の膜厚が１．３μｍのもの、ＴＦＴ液晶パネルＢ−２は
透明樹脂膜３１の膜厚が１．８μｍのものであり、その
厚みの差は図示していない。

【００４０】このように、カラーフィルター層２の表面
やオーバーコート層４の表面を凸型に形成することによ
っても、表示画素領域内で液晶層７の層厚が連続的に変
化する。したがって、この液晶パネルに電圧を印可した
場合、電圧を印可した表示画素領域１内で上下の透明電
極８間に印可する電圧が一定であっても、液晶層７の厚
みが異なるので液晶分子７ａに加えられる電界が異なる
こととなり、この結果、液晶分子７ａのティルト角が一
定の範囲内でばらつきを有する状態で分布し、観察方向
による光学特性の差異が緩和される。

【００４１】また、ブラックマトリクス層３およびカラ
ーフィルター層２を覆うようにオーバーコート層４を形
成することで、カラーフィルター層２がブラックマトリ
クス層３に重なった領域と重ならない領域との境界付近
での表面段差をなくすことができて、表面形状を連続的
に変化させるようにでき、表面段差による配向乱れを防
止できる。

【００４２】また、本発明のこれらの実施形態例では、
液晶パネルＡ，Ｂを作成するときそのカラーフィルター
層２の形成はフォトリソグラフィー法を用いて行ってい
るが、印刷法その他の方法を用いても同様に作成でき
る。

【００４３】以上の方法で作成した液晶パネルＡ−１、
Ａ−２、Ｂ−１、Ｂ−２、およびリファレンス例として
同時に作成した従来技術を用いた液晶パネルＣについて
視角特性の測定を行った。このデータを表１に示す。視
角特性の比較は、正面コントラストおよび、コントラス
ト１０以上となるか、または明暗反転する上下左右の仰
角の比較によって行った。

【００４４】

【表１】

【００４５】（表１）に示すように、本発明の構成の液
晶パネルでは、上下左右いずれの方向からの視角特性を
も改善することができる。この時、正面方向からのコン
トラスト比は多少低下するが、実用上問題の無い範囲で
ある。

【００４６】この視角特性の改善は、表示画素領域９の
表面の段差が大きくなるほど効果があるが、その場合、
逆に正面方向のコントラストを犠牲にしなければならな
い事が判明した。なお、表示画素領域１の中央部分と周
辺部分との表面の高低差が０．２μｍよりも小さい場合
は、視角特性があまり改善されなかった。

【００４７】また、表示画素領域１の表面形状が凹型の
もの（Ａタイプ）と凸型のもの（Ｂタイプ）では光学特
性上は顕著な差は認められなかった。しかし、図５およ
び図１０で示した本発明のカラーフィルター基板の製造
方法によれば、凸型タイプは透明樹脂膜３１のパターン
形成という新たな工程を追加しなければならないが、凹
型タイプでは従来の製造方法と工数の点では何ら変わる
ことなく有利である。また、凸型タイプで工数を削減す
るためには、例えばカラーフィルター層２を印刷工法で
形成し、その際使用するインキの粘度を調整する等の新
たな工夫が必要である。

【００４８】また、本発明の実施の形態の場合はＴＦＴ
液晶パネルを用いて説明したが、ＴＮモードの液晶パネ
ルであれば、本質的に同じであり十分な効果が得られ
る。

【００４９】

【発明の効果】以上のように本発明のカラーフィルター
基板を用いれば、表示画素の領域の表面を凹型または凸
型に形成することにより、視角特性の広い表示品位の高
い液晶パネルを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板の断面図である。

【図２】本発明の第２の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板の断面図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板を用いている液晶パネルの断面図である。

【図４】本発明の第２の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板を用いている液晶パネルの断面図である。

【図５】（ａ）〜（ｆ）はそれぞれ本発明の第２の実施
の形態にかかるカラーフィルター基板を製造する製造工
程を示す断面図である。

【図６】本発明の第３の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板の断面図である。

【図７】本発明の第４の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板の断面図である。

【図８】本発明の第３の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板を用いている液晶パネルの断面図である。

【図９】本発明の第４の実施の形態にかかるカラーフィ
ルター基板を用いている液晶パネルの断面図である。

【図１０】（ａ）〜（ｆ）はそれぞれ本発明の第４の実
施の形態にかかるカラーフィルター基板を製造する製造
工程を示す断面図である。

【図１１】本発明の第４の実施の形態にかかるカラーフ
ィルター基板の平面図である。

【図１２】（ａ）および（ｂ）はそれぞれ従来のカラー
フィルター基板の断面図である。

【図１３】従来の液晶パネルの断面図である。

【図１４】従来の液晶パネルの断面図である。

【図１５】従来の液晶パネルの断面図である。

【図１６】従来の液晶パネルの断面図である。

【図１７】従来の液晶パネルの断面図である。

【符号の説明】

１ 表示画素領域 ２ カラーフィルター層 ３ ブラックマトリクス層 ４ オーバーコート層 ５ ガラス基板 ７ 液晶層 ７ａ 液晶分子 Ａ−１，Ａ−２，Ｂ−１，Ｂ−２ 液晶パネル

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ブラックマトリクスにより囲まれた表示
   の最小単位である表示画素の領域の表面が平面でなく、
   凹型または凸型に形成されているカラーフィルター基
   板。
2. 【請求項２】 表示画素領域の中央部分と周辺部分との
   表面の高低差が０．２μｍ以上である請求項１記載のカ
   ラーフィルター基板。
3. 【請求項３】 ガラス基板上にブラックマトリクス層を
   厚さ１．５μｍ以上形成した後、カラーフィルター層を
   その一部がブラックマトリクス層に重なるように形成し
   て、カラーフィルター層の表面におけるブラックマトリ
   クス層に重なった箇所とブラックマトリクス層に重なっ
   ていない箇所との高低差を生じさせてなるカラーフィル
   ター基板の製造方法。
4. 【請求項４】 ガラス基板上にブラックマトリクス層を
   厚さ１．５μｍ以上形成した後、カラーフィルター層を
   その一部がブラックマトリクス層に重なるように形成
   し、さらにブラックマトリクス層およびカラーフィルタ
   ー層を覆うようにオーバーコート層を形成して、オーバ
   ーコート層の表面におけるカラーフィルター層がブラッ
   クマトリクス層に重なった箇所とカラーフィルター層が
   ブラックマトリクス層に重なっていない箇所との高低差
   を生じさせてなるカラーフィルター基板の製造方法。
5. 【請求項５】 ブラックマトリクスを形成したガラス基
   板表面に感光性透明樹脂膜を塗布し、フォトリソグラフ
   ィー法を用いて画素中央部に透明樹脂層を形成した後、
   カラーフィルター層を形成して、カラーフィルター層の
   表面における透明樹脂層の形成部に対応する箇所と透明
   樹脂層の非形成部に対応する箇所との高低差を生じさせ
   てなるカラーフィルター基板の製造方法。
6. 【請求項６】 ブラックマトリクスを形成したガラス基
   板表面に感光性透明樹脂膜を塗布し、フォトリソグラフ
   ィー法を用いて画素中央部に透明樹脂層を形成した後、
   カラーフィルター層を形成し、さらにブラックマトリク
   ス層およびカラーフィルター層を覆うようにオーバーコ
   ート層を形成して、オーバーコート層の表面における透
   明樹脂層の形成部に対応する箇所と透明樹脂層の非形成
   部に対応する箇所との高低差を生じさせてなるカラーフ
   ィルター基板の製造方法。
7. 【請求項７】 画素中央部に形成する透明樹脂層の面積
   がブラックマトリクスで囲まれた表示画素面積の３分の
   １以下であり、層厚が０．２μｍ以上である請求項５ま
   たは６に記載のカラーフィルター基板の製造方法。
8. 【請求項８】 カラーフィルター基板を用いて組み立て
   られた液晶パネルであって、カラーフィルター基板は、
   ブラックマトリクスにより囲まれた表示の最小単位であ
   る表示画素の領域の表面が平面でなく、凹型または凸型
   に形成されている液晶パネル。