JPH10288276A - 高温用弁 - Google Patents
高温用弁Info
- Publication number
- JPH10288276A JPH10288276A JP9782497A JP9782497A JPH10288276A JP H10288276 A JPH10288276 A JP H10288276A JP 9782497 A JP9782497 A JP 9782497A JP 9782497 A JP9782497 A JP 9782497A JP H10288276 A JPH10288276 A JP H10288276A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- inner cylinder
- valve box
- shaft hole
- shaft
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 弁軸周りの内部ガスのリークを防止できる高
温用弁を提供する。 【解決手段】 弁軸４の周囲の弁箱１と内筒２との間隙
を閉塞する筒状のベローズ１０を、弁箱１の軸穴１ｂ周
囲部と内筒２の軸穴２ｂ周囲部とに固定して設け、弁箱
ボス７における軸受８より軸穴１ｂ寄りの位置にガス供
給口７ａを貫設し、このガス供給口７ａに、ベローズ１
０の内部へ向けてパージガスＰＧを供給し、ベローズ１
０を固定した軸穴２ｂを通じて内部流路５内へ噴出させ
るガス供給管１３を接続する。
温用弁を提供する。 【解決手段】 弁軸４の周囲の弁箱１と内筒２との間隙
を閉塞する筒状のベローズ１０を、弁箱１の軸穴１ｂ周
囲部と内筒２の軸穴２ｂ周囲部とに固定して設け、弁箱
ボス７における軸受８より軸穴１ｂ寄りの位置にガス供
給口７ａを貫設し、このガス供給口７ａに、ベローズ１
０の内部へ向けてパージガスＰＧを供給し、ベローズ１
０を固定した軸穴２ｂを通じて内部流路５内へ噴出させ
るガス供給管１３を接続する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高温の流体に対し
て使用される高温用弁に関する。
て使用される高温用弁に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の高温用弁として、たとえば図２に
示すような、二重管構造を有するものがある。この弁で
は、弁箱１と内筒２とを、それぞれに突設した突起部１
ａ，２ａをボルトナット止めすることにより一体化し、
内筒２の内側に弁体３を配設しており、弁軸４を操作し
て弁体３を弁軸４の軸心回りに回転させることにより、
内部流路５を開閉するようにしている。
示すような、二重管構造を有するものがある。この弁で
は、弁箱１と内筒２とを、それぞれに突設した突起部１
ａ，２ａをボルトナット止めすることにより一体化し、
内筒２の内側に弁体３を配設しており、弁軸４を操作し
て弁体３を弁軸４の軸心回りに回転させることにより、
内部流路５を開閉するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たような内外二重構造の高温用弁では、図示したよう
に、弁軸４を挿通した内筒２の軸穴２ｂから内部ガスＧ
が微少量リークする恐れがあり、そのような場合、内部
ガスＧ中にダストが含まれていると弁軸４の周囲部分に
エロージョンを起こす危険性がある。
たような内外二重構造の高温用弁では、図示したよう
に、弁軸４を挿通した内筒２の軸穴２ｂから内部ガスＧ
が微少量リークする恐れがあり、そのような場合、内部
ガスＧ中にダストが含まれていると弁軸４の周囲部分に
エロージョンを起こす危険性がある。
【０００４】内部ガスＧのリークを防止するために、図
３に示したように、軸穴２ｂを閉塞するパッキン６を設
ける構造が考えられるが、９００℃程度あるいはそれよ
り高温の酸化雰囲気中で使用可能なパッキンは現在のと
ころ見い出せない。
３に示したように、軸穴２ｂを閉塞するパッキン６を設
ける構造が考えられるが、９００℃程度あるいはそれよ
り高温の酸化雰囲気中で使用可能なパッキンは現在のと
ころ見い出せない。
【０００５】本発明は上記問題を解決するもので、弁軸
周囲からの内部ガスのリークを防止することができ、ダ
ストによるエロージョンや弁の作動不良を防止できる高
温用弁を提供することを目的とするものである。
周囲からの内部ガスのリークを防止することができ、ダ
ストによるエロージョンや弁の作動不良を防止できる高
温用弁を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に、本発明の高温用弁は、弁箱の内部に内筒を遊嵌し、
内筒の内側に形成される内部流路を開閉する弁体を固定
した弁軸を、弁箱と内筒のそれぞれに貫設した軸穴に挿
通し、弁箱ボス内の軸受で支承した高温用弁において、
前記弁軸周囲の弁箱と内筒との間隙を閉塞する筒状のベ
ローズを弁箱の軸穴周囲部と内筒の軸穴周囲部とに固定
して設け、前記弁箱ボスにおけるグランドパッキンより
弁箱軸穴寄りの位置にガス供給口を貫設し、このガス供
給口に、ベローズの内部へ向けてパージガスを供給し、
ベローズを固定した内筒の軸穴を通じて内部流路内へ噴
出させるガス供給手段を接続したものである。
に、本発明の高温用弁は、弁箱の内部に内筒を遊嵌し、
内筒の内側に形成される内部流路を開閉する弁体を固定
した弁軸を、弁箱と内筒のそれぞれに貫設した軸穴に挿
通し、弁箱ボス内の軸受で支承した高温用弁において、
前記弁軸周囲の弁箱と内筒との間隙を閉塞する筒状のベ
ローズを弁箱の軸穴周囲部と内筒の軸穴周囲部とに固定
して設け、前記弁箱ボスにおけるグランドパッキンより
弁箱軸穴寄りの位置にガス供給口を貫設し、このガス供
給口に、ベローズの内部へ向けてパージガスを供給し、
ベローズを固定した内筒の軸穴を通じて内部流路内へ噴
出させるガス供給手段を接続したものである。
【０００７】上記構成によれば、ベローズを固定した内
筒の軸穴を通じて内部流路内へパージガスが噴出するの
で、弁体上流側の内部ガスがベローズ内へ流入すること
はほぼ阻止されるとともに、弁軸周囲の弁箱と内筒との
間隙はベローズによって閉塞されているので、少量の内
部ガスがベローズ内部へ流入した時も弁箱と内筒との間
隙へ流入することはなく、弁体上流側の内部ガスの下流
側へのリーク量は低減され、内部ガス中に含まれるダス
ト等による弁軸周囲部材のエロージョンや弁の作動不良
等も防止される。このとき、熱膨張差または収縮差によ
って弁箱と内筒との距離が変化してもそれに応じてベロ
ーズが伸縮するので、上記した作用は、内部ガスの温度
に係わらず維持される。
筒の軸穴を通じて内部流路内へパージガスが噴出するの
で、弁体上流側の内部ガスがベローズ内へ流入すること
はほぼ阻止されるとともに、弁軸周囲の弁箱と内筒との
間隙はベローズによって閉塞されているので、少量の内
部ガスがベローズ内部へ流入した時も弁箱と内筒との間
隙へ流入することはなく、弁体上流側の内部ガスの下流
側へのリーク量は低減され、内部ガス中に含まれるダス
ト等による弁軸周囲部材のエロージョンや弁の作動不良
等も防止される。このとき、熱膨張差または収縮差によ
って弁箱と内筒との距離が変化してもそれに応じてベロ
ーズが伸縮するので、上記した作用は、内部ガスの温度
に係わらず維持される。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図１に示した高温用弁は、図２を
用いて説明した従来のものとほぼ同様に構成されてお
り、弁箱１と内筒２とが、弁箱１の内周面と内筒２の外
周面にそれぞれ突設された突起部１ａ，２ａをボルトナ
ット止めすることにより一体化されており、内筒２の内
側に形成される内部流路５を開閉する弁体３が弁軸４に
固定して設けられている。内筒２の内周面には、弁体３
の外周縁部が圧接する環状の弁箱シート（図示せず）が
設けられている。
に基づいて説明する。図１に示した高温用弁は、図２を
用いて説明した従来のものとほぼ同様に構成されてお
り、弁箱１と内筒２とが、弁箱１の内周面と内筒２の外
周面にそれぞれ突設された突起部１ａ，２ａをボルトナ
ット止めすることにより一体化されており、内筒２の内
側に形成される内部流路５を開閉する弁体３が弁軸４に
固定して設けられている。内筒２の内周面には、弁体３
の外周縁部が圧接する環状の弁箱シート（図示せず）が
設けられている。
【０００９】弁箱１の軸心方向中央部には軸穴１ｂが貫
設されるとともに筒状の弁箱ボス７が設けられており、
軸穴１ｂに対向する内筒２の中央部には軸穴２ｂが貫設
されており、弁軸４は、軸穴２ｂ，軸穴１ｂ，弁箱ボス
７の内部に挿通され、弁箱ボス７内の軸受８において支
承されている。９はグランドパッキンである。
設されるとともに筒状の弁箱ボス７が設けられており、
軸穴１ｂに対向する内筒２の中央部には軸穴２ｂが貫設
されており、弁軸４は、軸穴２ｂ，軸穴１ｂ，弁箱ボス
７の内部に挿通され、弁箱ボス７内の軸受８において支
承されている。９はグランドパッキンである。
【００１０】弁箱１，内筒２間の弁軸４の周囲には筒状
のベローズ１０が配置されている。ベローズ１０の一端
は軸穴１ｂに嵌入した環状の取付具１１によって固定さ
れており、ベローズ１０の他端は軸穴２ｂの周囲に配設
された環状の取付具１２によって固定されている。
のベローズ１０が配置されている。ベローズ１０の一端
は軸穴１ｂに嵌入した環状の取付具１１によって固定さ
れており、ベローズ１０の他端は軸穴２ｂの周囲に配設
された環状の取付具１２によって固定されている。
【００１１】弁箱ボス７には、グランドパッキン９より
軸穴１ｂ寄りの位置にガス供給口７ａが貫設されてお
り、このガス供給口７ａに、窒素ガスなどのパージガス
ＰＧを供給するガス供給管１３が接続されている。
軸穴１ｂ寄りの位置にガス供給口７ａが貫設されてお
り、このガス供給口７ａに、窒素ガスなどのパージガス
ＰＧを供給するガス供給管１３が接続されている。
【００１２】以下、上記構成における作用を説明する。
内部流路５を開閉する際は、駆動装置などにより弁軸４
を回動させて、弁軸４に固定した弁体３を弁軸４の軸心
回りに回転させ、弁体３の外周縁部を内筒内周面の弁箱
シートに接離させる。
内部流路５を開閉する際は、駆動装置などにより弁軸４
を回動させて、弁軸４に固定した弁体３を弁軸４の軸心
回りに回転させ、弁体３の外周縁部を内筒内周面の弁箱
シートに接離させる。
【００１３】一方、ガス供給管１３よりパージガスＰＧ
をガス供給口７ａを通じて弁箱ボス７の内部へ供給し、
弁箱ボス７内よりベローズ１０の内部へ流入させ、内筒
２の軸穴２ｂを通じて内部流路５内へ噴出させる。
をガス供給口７ａを通じて弁箱ボス７の内部へ供給し、
弁箱ボス７内よりベローズ１０の内部へ流入させ、内筒
２の軸穴２ｂを通じて内部流路５内へ噴出させる。
【００１４】これにより、噴出するパージガスＰＧによ
って、内部ガスＧがベローズ１０内へ流入することはほ
ぼ阻止されるとともに、弁軸周囲の弁箱１と内筒２との
間隙はベローズ１０によって閉塞されているので、少量
の内部ガスＧがベローズ１０内へ流入した時も弁箱１と
内筒２との間隙を流れることは防止される。これらの結
果、弁体３の上流側の内部ガスＧの下流側へのリーク量
は低減され、また内部ガスＧ中に含まれるダスト等に起
因する弁軸周囲部材のエロージョンや軸受８などにおけ
る作動不良等も防止される。
って、内部ガスＧがベローズ１０内へ流入することはほ
ぼ阻止されるとともに、弁軸周囲の弁箱１と内筒２との
間隙はベローズ１０によって閉塞されているので、少量
の内部ガスＧがベローズ１０内へ流入した時も弁箱１と
内筒２との間隙を流れることは防止される。これらの結
果、弁体３の上流側の内部ガスＧの下流側へのリーク量
は低減され、また内部ガスＧ中に含まれるダスト等に起
因する弁軸周囲部材のエロージョンや軸受８などにおけ
る作動不良等も防止される。
【００１５】このとき弁箱１と内筒２とに熱膨張差また
は収縮差が生じ、両者間の距離が変化しても、ベローズ
１０がそれに応じて伸縮するので、上記した作用に影響
はない。
は収縮差が生じ、両者間の距離が変化しても、ベローズ
１０がそれに応じて伸縮するので、上記した作用に影響
はない。
【００１６】なお、上記した高温用弁はバタフライ弁で
あるが、同様の構造を有するボール弁なども本発明の範
囲に包含される。制御弁、仕切弁などの用途は問わな
い。弁箱１の取合部の形式や、弁箱１と内筒２との結合
形式などは単なる例示であって、種々の形式を使用でき
る。弁箱１と内筒２との間隙にグラスウール等の断熱材
を配設するなどの変更を加えてもよい。
あるが、同様の構造を有するボール弁なども本発明の範
囲に包含される。制御弁、仕切弁などの用途は問わな
い。弁箱１の取合部の形式や、弁箱１と内筒２との結合
形式などは単なる例示であって、種々の形式を使用でき
る。弁箱１と内筒２との間隙にグラスウール等の断熱材
を配設するなどの変更を加えてもよい。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、弁軸周
囲の弁箱と内筒との間隙を閉塞する筒状のベローズを設
けて、このベローズの内部へ向けてパージガスを供給
し、内部流路内へ噴出させるようにしたことにより、弁
箱と内筒とにおける熱膨張差または収縮差はベローズで
吸収しながら、内部ガスの弁軸周囲の間隙への流入を防
止することができ、下流側へのリーク量を低減できると
ともに、内部ガス中に含まれるダスト等による弁軸周囲
部材のエロージョンや作動不良等を防止できる。
囲の弁箱と内筒との間隙を閉塞する筒状のベローズを設
けて、このベローズの内部へ向けてパージガスを供給
し、内部流路内へ噴出させるようにしたことにより、弁
箱と内筒とにおける熱膨張差または収縮差はベローズで
吸収しながら、内部ガスの弁軸周囲の間隙への流入を防
止することができ、下流側へのリーク量を低減できると
ともに、内部ガス中に含まれるダスト等による弁軸周囲
部材のエロージョンや作動不良等を防止できる。
【図１】本発明の一実施形態における高温用弁の概略全
体構成を示した断面図である。
体構成を示した断面図である。
【図２】従来の高温用弁の概略全体構成を示した断面図
である。
である。
【図３】図２の高温用弁の弁軸周囲にパッキンを設けた
状態を示した要部断面図である。
状態を示した要部断面図である。
１ 弁箱 1b 軸穴 ２ 内筒 2b 軸穴 ３ 弁体 ４ 弁軸 ５ 内部流路 ７ 弁箱ボス 7a ガス供給口 ８ 軸受 10 ベローズ 7a ガス供給口 13 ガス供給管 Ｇ 内部ガス PG パージガス
Claims (1)
- 【請求項１】 弁箱の内部に内筒を遊嵌し、内筒の内側
に形成される内部流路を開閉する弁体を固定した弁軸
を、弁箱と内筒のそれぞれに貫設した軸穴に挿通し、弁
箱ボス内の軸受で支承した高温用弁において、前記弁軸
周囲の弁箱と内筒との間隙を閉塞する筒状のベローズを
弁箱の軸穴周囲部と内筒の軸穴周囲部とに固定して設
け、前記弁箱ボスにおけるグランドパッキンより弁箱軸
穴寄りの位置にガス供給口を貫設し、このガス供給口
に、ベローズの内部へ向けてパージガスを供給し、ベロ
ーズを固定した内筒の軸穴を通じて内部流路内へ噴出さ
せるガス供給手段を接続したことを特徴とする高温用
弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09782497A JP3529239B2 (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 高温用弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09782497A JP3529239B2 (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 高温用弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10288276A true JPH10288276A (ja) | 1998-10-27 |
| JP3529239B2 JP3529239B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=14202484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09782497A Expired - Fee Related JP3529239B2 (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 高温用弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3529239B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6907892B2 (en) | 2001-02-07 | 2005-06-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Exhaust apparatus, semiconductor device manufacturing system and method for manufacturing semiconductor device |
| JP2011506856A (ja) * | 2008-03-28 | 2011-03-03 | 三菱重工業株式会社 | 二重配管装置 |
| KR20150076812A (ko) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
-
1997
- 1997-04-16 JP JP09782497A patent/JP3529239B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6907892B2 (en) | 2001-02-07 | 2005-06-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Exhaust apparatus, semiconductor device manufacturing system and method for manufacturing semiconductor device |
| US7329322B2 (en) | 2001-02-07 | 2008-02-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Exhaust apparatus, semiconductor device manufacturing system and method for manufacturing semiconductor device |
| JP2011506856A (ja) * | 2008-03-28 | 2011-03-03 | 三菱重工業株式会社 | 二重配管装置 |
| US8511333B2 (en) | 2008-03-28 | 2013-08-20 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Double pipe apparatus |
| KR20150076812A (ko) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3529239B2 (ja) | 2004-05-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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