JPH10284803A - 光源装置 - Google Patents

光源装置

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JPH10284803A
JPH10284803A JP8813797A JP8813797A JPH10284803A JP H10284803 A JPH10284803 A JP H10284803A JP 8813797 A JP8813797 A JP 8813797A JP 8813797 A JP8813797 A JP 8813797A JP H10284803 A JPH10284803 A JP H10284803A
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JP
Japan
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lens
base
light source
source device
semiconductor laser
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8813797A
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English (en)
Inventor
Yasuhiro Naoe
康弘 直江
Hiroyuki Okuwaki
浩之 奥脇
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 構成部品数が少なく、組立時に位置ズレを生
じるおそれがなく、コリメータレンズを光硬化型の接着
剤を用いて接着することができ、温度環境による特性変
化が少なく、ビーム間隔の再調整が容易な、安価にして
高精度な光源装置を提供する。 【解決手段】 ベースは第1のベース1と該第1のベー
ス1と別部材の第2のベース4とを備えてなり、第1の
ベース1は、少なくとも1つのビーム光軸を形成する嵌
合孔1a、嵌合孔1aに嵌着される半導体レーザ2a、
半導体レーザ2aの光軸と同軸のコリメータレンズ3a
及び半導体レーザ2aと同軸のレンズ支持部1cを有
し、第2のベース4は、他のビーム光軸を形成する嵌合
孔4a、嵌合孔4aに嵌着される半導体レーザ2b、半
導体レーザ2bの光軸と同軸のコリメータレンズ3b及
び半導体レーザ2bと同軸のレンズ支持部4cを有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル複写機や
レーザプリンタ等に使用される半導体レーザを用いた光
源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザを用いた光源装置において
は、その光学特性として、光源装置より射出されるレー
ザ光の方向性(光軸特性)と光束の平行性(コリメート
特性)が要求される。このような理由により、光源装置
は、半導体レーザの発光点とコリメータレンズの相対位
置を3軸(x軸,y軸,z軸)方向に調整するのが通常
であり、その位置精度はミクロン以下が要求されてい
る。したがって、半導体レーザとコリメータレンズを有
する光源装置においては、3軸方向の位置調整および調
整された位置での固定が可能な構造でなければならな
い。
【0003】コリメータレンズを接着剤で固定する場
合、硬化時に接着剤の収縮が発生するので、収縮による
光学特性への悪影響をなるべく少なくすることが理想で
ある。特に、光源装置ではz軸方向(光軸方向)の要求
精度が高いため、その収縮方向がz軸方向に発生しない
ように構成することが望ましい。そのため、接着層は光
軸とほぼ平行な方向(z軸に平行な方向)に設定するの
が普通であり、他の軸方向(x軸,y軸方向)について
も、調整を容易とするために、なるべく収縮方向がx軸
またはy軸方向の1方向となるように構成することが望
ましい。
【0004】更にデジタル複写機やレーザプリンタにお
いて、印字の高速化や画素密度切り替えの目的で複数行
を同時に走査する光源装置では当然のことながら、複数
個の半導体レーザやコリメータレンズにより、複数本の
レーザ光を発生し、その方向性のビーム間隔精度(行方
向、すなわちy軸方向の光軸特性ピッチ精度)が要求さ
れる。したがって、接着層の収縮がy軸方向に発生しな
い様に構成することが望ましく、ビーム間隔が調整可能
な構成が望ましい。
【0005】ここでまず、1本のレーザ光を発生させる
光源装置に関して従来の技術を説明する。図3に、従来
の光源装置(特開平5−88061号)の一例を示す。
この光源装置は、本出願人が先に出願したものであっ
て、図示するように、保持部材たるベース11に設けら
れた段付き孔12に、レーザ光を照射する半導体レーザ
13が圧入固定されている。2本のねじ14,14によ
ってベース11に取り付けられたフランジには、段付き
孔12と相対する位置に嵌合孔16が形成されており、
この嵌合孔16の左端部には、嵌合孔16よりも0.1
mm程度大径の入口部16aが形成されている。
【0006】前記嵌合孔16には、嵌合孔16と0.0
1〜0.03mm程度のクリアランスを有して筒状のレ
ンズホルダ17が嵌入されており、このレンズホルダ1
7内に、レーザ光を平行光束に変換するためのコリメー
タレンズ18が保持されている。
【0007】一方、プリント基板19に穿設された位置
決め孔には、前記ベース11の端面から突出されたガイ
ドピン21が嵌入され、このガイドピン21の先端部分
を熱溶融して仮想線で示すように潰すことにより、ベー
ス11とプリント基板19を固定している。半導体レー
ザ13のリード線22は、プリント基板19に形成され
たリード線挿通孔に通され、プリント基板裏面側におい
て配線用の導電パターンに半田付けされている。
【0008】前記フランジは、半導体レーザ13の発光
点がコリメータレンズ18の光軸上に一致するようにx
軸,y軸方向に位置調整した後、ねじ14によってベー
ス11に固定される。
【0009】ベース11に取り付けられたフランジに
は、入口部16aにつながる切欠部23が形成されてお
り、半導体レーザ13の光源位置がコリメータレンズ1
8の焦点位置と一致するようにレンズホルダ17をz軸
方向に位置調整した後、この切欠部23から接着剤を注
入して内部に浸透させることにより、レンズホルダ17
をフランジに固定している。
【0010】アパーチャ形成部材24は、コリメータレ
ンズ18を透過した光束中の中央部付近の平行光束を取
り出して整形するための遮蔽キャップであって、光束選
択用の孔からなるアパーチャ24aと、フランジに嵌着
するための突起24bを有しており、この突起24bを
フランジの切欠部23に嵌着することにより、アパーチ
ャ形成部材24をフランジに固定している。
【0011】なお、前記光源装置をデジタル複写機やレ
ーザプリンタ本体に取り付ける場合、フランジの光軸に
垂直な平面aが基準面となり、光学特性の調整もこの平
面aを基準に行われる。
【0012】次に複数本(2本)の場合の従来技術に関
して説明を行う。図4は本出願人が先に出願した特開平
7−181410号及び特開平7−181412号に記
載した光源装置である。図4に示すように、2つのベー
ス31,31には図3のベース11と同様な段付き孔が
設けられ、レーザ光を照射する2つの半導体レーザ3
3,33が圧入固定される。ベース31は4本のねじ3
4によってフランジ35に取り付けられる。フランジ3
5には、半導体レーザ33,33の各々に相対する位置
に嵌合孔36,36が形成されている。前記嵌合孔3
6,36には、嵌合孔36と0.01〜0.03mm程
度のクリアランスを有する筒状のレンズホルダ37,3
7が嵌入され、このレンズホルダ37内にレーザ光を平
行光束に変換するためのコリメータレンズ38,38が
保持されている。
【0013】前記ベース31,31は、半導体レーザ3
3,33の各々の発光点が相対するコリメータレンズ3
8,38の光軸上に一致するように、x軸,y軸方向に
位置調整した後、各々2本のねじ34,34によってフ
ランジ35に固定される。
【0014】フランジ35の嵌合孔36,36には切欠
部36aが形成されており、半導体レーザ33,33の
発光点がコリメータレンズ38,38の焦点位置と一致
するようにレンズホルダ37,37を各々z軸方向に位
置調整した後、この切欠部36から接着剤を注入して、
内部に浸透させることにより、レンズホルダ37,37
をフランジ35に固定する。
【0015】アパーチャ形成部材39はコリメータレン
ズ38,38の中央付近の平行光束を取り出して整形す
るための部材であって、光束選択用の孔からなるアパー
チャ39a,39aが設けてあり、各々のコリメータレ
ンズ38,38の中央付近にアパーチャ39a,39a
が各々の光軸に一致する様に設定される。アパーチャ3
9a,39aから出射される平行光束はビーム合成プリ
ズム40により、ほぼ同軸上のビーム41,41に合成
され、その後に設置されてある画像書き込みのための走
査光学系へと導かれる。この際、2本のビーム41,4
1のビーム間隔は画像書き込み面上の副走査方向(画像
書き込み上の列方向、つまり2行同時書き込みの場合の
行間隔方向)の間隔が所望の値になるように出射光軸の
角度が微調整される。この方法は前述した、ベース31
のy軸方向の位置調整に相当する。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の光源装置にも次のような問題があった。第1の
問題として、コリメータレンズの外周方向の全周にわた
り接着層が存在するので、コリメータレンズをz軸方向
に調整(コリメート特性)した後接着固定する場合にお
いて、x軸,y軸方向の全てに対して硬化収縮による位
置ズレが発生する虞があり、硬化後にx軸,y軸方向の
位置精度(光軸特性)が変化する虞がある。したがっ
て、2本のビームの間隔を更に高精度に調整する場合は
コリメータレンズを接着固定後に、どちらか一方のベー
スのねじを緩め、x軸,y軸方向(特にy軸方向)の位
置を再調整し、再ネジ締めによりベースをフランジに固
定する必要がある。しかしこの際、前述したように、z
軸方向(コリメート特性、つまり焦点方向の調整位置)
の要求精度はμm以下であり、ネジ締め時の応力がz軸
方向に発生し、μmオーダーでz軸方向位置にずれを生
じる。したがって、この方法によれば、ビーム間隔は精
度よく調整可能であっても、z軸方向(コリメート特
性、つまり焦点方向の調整位置)の精度はおちることに
なる。すなわち、光源装置以外の光学部品のばらつき等
により、像面でのビーム間隔にずれが発生した場合で光
源装置でのビーム間隔再調整をした場合はz軸方向精度
(コリメート特性、つまり焦点方向の調整位置)精度が
悪くなる。
【0017】第2の問題点として、x軸,y軸方向の調
整部(光軸特性の調整部)と、z軸方向の調整部(コリ
メート特性すなわち焦点方向の調整部)が別々の構造と
なっているため、光源装置の構成部品点数が多く、製品
がコスト高になる。
【0018】第3の問題点として、光源装置で使用する
半導体レーザ13のレーザ光は一定の広がりを有し、す
べてのレーザ光がコリメータレンズ18に入射するとは
限らない。半導体レーザは人体に対する安全性から法的
な基準があり、レーザ光が光軸方向以外の外部に漏れな
いことが望ましい。これは、使用中に限らず、製造工程
における調整時においても同様であって、フランジやベ
ース11はレーザ光が外部に漏れない材質であることが
必要である。
【0019】一方、レンズホルダ17の固定に使用する
接着剤は、短時間で任意に硬化させることのできる紫外
線硬化型の接着剤が生産タクトの短縮に有利であり、信
頼性にも優れている。しかしながら、前記先願の光源装
置のようにベース11やフランジを紫外線が通過しない
材質とした場合には、紫外線硬化型の接着剤を充填した
隙間を通して紫外線を照射しても、充填した接着剤全体
をまんべんなく照射することができず、硬化むらや未硬
化部が生じる。このため、硬化収縮による歪みが不均等
に作用し、レンズホルダ17の位置ずれや構成部材の割
れなどの不具合を生じる。
【0020】レーザ光源13から射出される赤外線や赤
色光などのレーザ光を透過させない材質は、それよりも
波長の短い紫外線も透過させない。このため、紫外線の
みを透過させようとすると、特殊なフィルタを付加する
か、あるいはフランジ自体に特殊なコーティングを施さ
なければならず、コストが大幅に高くなるという問題が
ある。したがって、コリメータレンズ18を固定するた
めの接着剤として、紫外線硬化型の接着剤を使用するこ
とができなかった。
【0021】第4の問題点として、接着層がレンズホル
ダ17の全周面、即ち、x軸,y軸の全方向に存在する
ので、x軸,y軸方向における接着剤の硬化収縮方向が
定まらず、x軸,y軸方向の位置精度にばらつきが発生
する。接着後の位置精度の確保にはある程度の収縮量を
見込んで初期位置をオフセットすることも必要となる
が、接着層の収縮方向が一定でないと、オフセットを与
えることが困難であり、レーザの方向性(光軸特性)の
精度が低下する場合がある。
【0022】第5の問題点として、x軸,y軸方向の調
整後にねじ14を緊締してフランジをベース11に固定
する方式を採用しているため、ねじ14の緊締時に、ベ
ース11の端面のねじ座とフランジの噛み付きにより、
x軸,y軸方向の位置ずれを発生する場合があり、レー
ザの方向性(光軸特性)の精度が低くなる場合がある。
【0023】第6の問題点として、接着剤を切欠部23
から流入する方式であるため、流入過程における部分的
な固化収縮や、流入の仕方のばらつきにより、光軸方向
(z軸方向)に歪みが発生し、位置精度にバラツキが発
生する。
【0024】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたもので、構成部品数が少なく、組立時に位
置ズレを生じるおそれがなく、コリメータレンズを光硬
化型の接着剤を用いて接着することができ、温度環境に
よる特性変化が少なく、ビーム間隔の再調整が容易な、
安価にして高精度な光源装置を提供することを目的とす
るものである。
【0025】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の光源装置では、表裏に貫通する複数の嵌合
孔を有するベースと、該ベース裏面側に位置して前記嵌
合孔にそれぞれ嵌着される複数の半導体レーザと、前記
嵌合孔のベース表面側のレンズ支持部に、前記半導体レ
ーザの光軸と各々同軸に接着固定された複数のコリメー
タレンズと、前記コリメータレンズより出射されるレー
ザ光を整形する複数のアパーチャと、前記レーザ光をほ
ぼ同軸に合成するためのビーム合成手段とを有し、前記
各々のレンズ支持部の中心線は前記複数のコリメータレ
ンズから出射されるビームピッチ方向に対して、ほぼ直
交方向に位置する光源装置において、前記ベースは第1
のベースと該第1のベースと別部材の第2のベースとを
備えてなり、前記第1のベースは、少なくとも1つのビ
ーム光軸を形成する嵌合孔、該嵌合孔に嵌着される半導
体レーザ、該半導体レーザの光軸と同軸のコリメータレ
ンズ及び前記半導体レーザと同軸のレンズ支持部を有
し、前記第2のベースは、他のビーム光軸を形成する嵌
合孔、該嵌合孔に嵌着される半導体レーザ、該半導体レ
ーザの光軸と同軸のコリメータレンズ及び前記半導体レ
ーザと同軸のレンズ支持部を有することを特徴とする。
【0026】この構成では、光源装置以外の光学部品の
ばらつき等により、画像書き込み面上でビーム間隔精度
が所望の値にならない場合に光源装置のz軸方向特性
(コリメート特性)を変化させることなしに、ビーム間
隔の調整ができるので、良好な画像品質を得られる光源
装置を提供できる。
【0027】また、請求項2の光源装置では、請求項1
記載の光源装置において、前記複数のコリメータレンズ
は、光硬化型接着剤を用いて前記ベースに一体成形され
たレンズ支持部に、各々直接固定されていることを特徴
とする。
【0028】この構成では、コリメータレンズをベース
に一体成形したレンズ支持部に直接固定するように構成
しているので、光源装置の部品点数を削減することがで
き、光源装置を安価に提供することができる。さらに、
コリメータレンズとレンズ支持部との間にホルダー等の
介在物がないので、介在物の製造誤差等の影響を受ける
ことがなく、高精度に固定することができる。また、コ
リメータレンズをベースに一体成形したレンズ支持部に
直接固定するように構成しているので、ねじなどの締め
付け部が排除され、締め付け時の部品のずれがなくな
り、高精度の光源装置を提供することができる。
【0029】また、請求項3の光源装置では、請求項1
〜2の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部は、ビームピッチ方向に直交する線に対して線対称
に構成されていることを特徴とする。
【0030】この構成では、ビームピッチ方向の硬化収
縮による歪みは相殺され、硬化収縮の方向はビームピッ
チ方向に直交する方向に限定されるので、硬化収縮の方
向性がさらに向上し、より高精度に位置調整することが
できる。
【0031】また、請求項4の光源装置では、請求項1
〜3の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部は、コリメータレンズの外周円よりもわずかに径の
大きな断面円弧状に形成されていることを特徴とする。
【0032】この構成では、レンズ支持部をコリメータ
レンズの外周円よりもわずかに径の大きな断面円弧状に
形成したので、レンズ支持部とコリメータレンズとを同
心に配置することにより、コリメータレンズとレンズ支
持部の間に形成される接着層が均一の厚さになる。この
ため、接着層の全面が均一に固化されるので、硬化むら
がなくなり、コリメータレンズの位置ずれが防止され
る。
【0033】また、請求項5の光源装置では、請求項1
〜3の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部は、前記コリメータレンズの外周円の曲率半径より
ほぼ接着層厚分曲率半径が大きい断面円弧状に形成され
ていることを特徴とする。
【0034】この構成では、レンズ支持部をコリメータ
レンズの外周円の曲率半径よりほぼ接着層厚分曲率半径
が大きい断面円弧状に形成したので、レンズ支持部とコ
リメータレンズとを同心に配置することにより、コリメ
ータレンズとレンズ支持部の間に形成される接着層が所
望の接着層厚で均一の厚さになる。このため、接着層の
全面が均一に固化されるので、硬化むらがなくなり、コ
リメータレンズの位置ずれが防止される。
【0035】また、請求項6の光源装置では、請求項4
〜5の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部の断面は、半円以下の円弧であることを特徴とす
る。
【0036】この構成では、接着層はコリメータレンズ
外周の半分以下を覆うだけとなり、接着剤の硬化収縮に
方向性が出てくるので、接着剤の収縮量を見込んでコリ
メータレンズの初期位置をオフセットすることが可能と
なり、硬化後の位置精度を向上することができる。さら
に、レンズ支持部の開口側からコリメータレンズの側面
に向けて硬化用光線を照射することができ、硬化むらが
より一層解消される。
【0037】また、請求項7の光源装置では、請求項1
〜6の何れかに記載の光源装置において、前記コリメー
タレンズと前記ベースとの光軸方向の間に非接着部が形
成されていることを特徴とする。
【0038】この構成では、ベース壁面とコリメータレ
ンズとの間に形成された非接着部の存在により、たとえ
多量の接着剤が充填されたとしても、はみ出た接着剤が
ベース壁面に直接付着するようなことがなくなり、ベー
ス壁面に付着して硬化した接着剤による光軸方向(z軸
方向)への強力な硬化収縮力がコリメータレンズに作用
するようなこともなくなる。このため、光軸方向の位置
精度を向上することができる。
【0039】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は本発明の光源装置の分解斜
視図であり、図2はそのコリメータレンズを接着する場
合のレンズ支持部を含む略示正面図である。第1のベー
ス部材である第1ベース1は嵌合孔1aと貫通孔1bと
を有する。嵌合孔1aの裏面側には、レーザ光を照射す
る半導体レーザ2aが圧入固定される。第1ベース1は
コリメータレンズ3aを直接接着固定するために、前記
嵌合孔1aの前面に位置して、コリメータレンズ3aの
外周面よりわずかに径の大きな(例えば0.2mm程
度)断面円弧状のレンズ支持部1cが半導体レーザ2a
の光軸と同心に一体成形されている。このレンズ支持部
1cの光軸方向(z軸方向)は接着剤が余分に充填され
た場合でも他の部分に付着することがないように、コリ
メータレンズ3aの光軸方向(z軸方向)のレンズ厚よ
りも長くとられている。
【0040】また、正面からみた時の形状は半円以下の
断面円弧状とされている。第2ベース4は嵌合孔4aと
円形段部4bを有する。嵌合孔4aの裏面側には、レー
ザ光を照射する半導体レーザ2bが圧入固定される。ベ
ース4はコリメータレンズ3bを直接接着固定するため
に、前記嵌合孔4aの前面に位置して、コリメータレン
ズ3bの外周円よりわずかに径の大きな(例えば0.2
mm程度)断面円弧状のレンズ支持部4cが半導体レー
ザ2bの光軸と同心に一体成形されている。このレンズ
支持部4cの光軸方向(z軸方向)は接着剤が余分に充
填された場合でも他の部分に付着することがないよう
に、コリメータレンズ3bの光軸方向(z軸方向)のレ
ンズ厚よりも長くとられている。また、正面からみた時
の形状は半円以下の断面円弧状とされている。第2ベー
ス4は第1ベース1の貫通孔1bとベース4の円形段部
4bにより仮位置決めされ、2本のねじ5、5と丸孔4
d,4d及びねじ孔1d,1dにより第1ベース1に固
定される。
【0041】なお、正面から見たときの形状は、位置調
整と接着作業の容易性から、図2に示すように各々のレ
ンズ支持部1c,4cにおいて、60度程度開いた各々
左右対称な断面円弧状とするのが望ましい。更に、レン
ズ支持部1cの断面円弧の中心線C1、及びレンズ支持
部4cの断面円弧の中心線C2はコリメータレンズ3
a,3bより出射されたビームの副走査ピッチ方向(y
軸方向)に対してほぼ直角に設定されている。
【0042】コリメータレンズ3a及び3bは、紫外線
を透過可能な材質で作られている。このような材質のレ
ンズとしてはプラスチックレンズやガラスレンズが考え
られるが、光学特性に優れたガラスレンズのほうが望ま
しい。コリメータレンズ3a,3bはその組立に際し、
図2に示すように、3軸(x軸,y軸,z軸)方向に位
置調整可能なチャック7,7で把持され、レンズ支持部
1c,4c上に半導体レーザ2a,2bの各々の光軸と
同心に配置される。
【0043】そして、レンズ支持部1cの接着面1eと
コリメータレンズ3aの外周面との間に形成される隙間
に紫外線硬化型の接着剤6aを充填した後、図示しない
検査装置によって、光学特性を検査しながらコリメータ
レンズ3aの位置を微調し、所望の光学特性が得られる
位置が決定したら当該チャック7,7を固定し、図2に
示すように、コリメータレンズ3aの上方から接着剤6
aに向けて紫外線照射器8aより、紫外線L1を照射す
る。紫外線照射器8aより照射された紫外線L1はコリ
メータレンズ3aを透過して接着剤6aに照射され、接
着剤6a全体を均等に硬化させる。
【0044】この接着剤硬化はもう一方のレンズ支持部
4c、接着面4e、コリメータレンズ3b、及び紫外線
照射器8b、紫外線L2において硬化する接着剤6bに
おいても同等に実施される。
【0045】したがって、レンズ支持部1cの接着面1
eとコリメータレンズ3aとの間にはその隙間寸法(約
0.2mm)からなる厚さ均一で左右対称で、厚さ方向
が副走査ピッチ方向(y軸方向)とほぼ直角な接着層6
aが形成され、また、レンズ支持部4cの接着面4eと
コリメータレンズ3bとの間にもその隙間寸法(約0.
2mm)からなる厚さ均一で左右対称で、厚さ方向が副
走査ピッチ方向(y軸方向)とほぼ直角な接着層6bが
形成される。その結果、コリメータレンズ3a,3bは
この接着層6a,6bによってレンズ支持部1c,4c
上に所定の光学特性を維持した状態で固定される。即
ち、レンズ支持部1c、4cは、ビームピッチ方向に直
交する線に対して線対称に構成されている。
【0046】特に、図2に示すように、レンズ支持部1
c及び4cを60度程度開いた左右対称な断面円弧状と
した場合には、チャック7,7によるコリメータレンズ
3a,3bの支持が簡単かつ確実に行えるとともに、紫
外線照射器8a,8bから照射した紫外線L1,L2を
コリメータレンズ3a,3bを通して接着面1e,4e
の各々全面に照射可能であり、接着剤の硬化を均等かつ
完全に行うことができる。このため、完全に固化した均
一な接着層がえられ、硬化ムラや未硬化部に基づくコリ
メータレンズ3a,3bの位置ズレなどの発生をなくす
ことができる。また、接着剤の硬化収縮による歪みは、
y軸方向には各々左右対称に発生するので、相殺され、
x軸方向の1方向のみに限定される。このx軸方向の歪
みは硬化収縮量を見込んで微少にオフセットすることが
可能である。したがって、2つのコリメータレンズより
出射されるビームの方向性(光軸特性)はy軸方向には
非常に優れ、当然、2つのビーム間隔精度(y軸方向間
隔精度、つまり画像書き込み面上の副走査ピッチ精度)
にも優れる。また、環境温度におけるy軸方向のレンズ
間隔の変化は、接着層が各々左右対称(y軸方向に対
称)な形状になっているので、接着層の伸縮はy軸方向
には相殺され、変化せず、x軸方向のみに限定される。
したがって、この点においても2つのビーム間隔精度は
優れたものになる。
【0047】また、第2ベース4は、コリメータレンズ
3bを接着固定したあとに、ねじ5,5を緩めて、x
軸,y軸方向(特にy軸方向)に位置調整することが可
能であり、光源装置以外のばらつきにより、画像書き込
み面上のビーム間隔が所望特性が得られない場合は、こ
のx軸,y軸方向の調整によりビーム間隔を再調整する
ことができる。
【0048】以上、第2ベース4を先に第1ベース1に
ねじ締め固定した場合の例に関して説明したが、第2ベ
ース4単独で上記コリメータレンズ3bの接着を実施し
た後に、コリメータレンズ3aが固定された第1ベース
1に固定し、この際2本のビーム間隔を調整してもよ
い。
【0049】アパーチャ形成部材9はコリメータレンズ
3a,3bの中央付近の平行光束を取り出して整形する
ための部材であって、光束選択用の孔からなるアパーチ
ャ9a,9bが設けてあり、各々のコリメータレンズ3
a,3bの中央付近にアパーチャ9a,9bが各々の光
軸に一致する様に設定される。アパーチャ9a,9bか
ら出射される平行光束はビーム合成プリズム10によ
り、ほぼ同軸上のビームに合成され、その後に設置され
てある画像書き込みのための走査光学系(図示しない)
へと導かれる。この際、2本のビームの間隔は画像書き
込み面上の副走査方向(画像書き込み上の列方向、つま
り2行同時書き込みの場合の行間隔方向)の間隔が所望
の値になるように出射光軸のビーム間隔が微調される。
この方法は前述した、コリメータレンズの位置調整にお
けるy軸方向の位置調整に相当する。
【0050】なお、アパーチャ形成部材9及びビーム合
成プリズム10は取付部材(図示しない)により第1ベ
ース1に取り付けられる。この際、第1ベース1の円形
段部1fは位置決めに利用され、4つの孔1gは取り付
けに利用される。
【0051】以上の光源装置によれば、表裏に貫通する
複数の貫通孔1a、1bを有するベース1、4と、ベー
ス裏面側に位置して貫通孔1a、1bにそれぞれ嵌着さ
れる複数の半導体レーザ2a、2bと、貫通孔1a、1
bのベース表面側のレンズ支持部1c、4cに、半導体
レーザ2a、2bの光軸と各々同軸に接着固定された複
数のコリメータレンズ3a、3bと、コリメータレンズ
3a、3bより出射されるレーザ光を整形する複数のア
パーチャ9a、9bと、レーザ光をほぼ同軸に合成する
ためのビーム合成プリズム10とを有し、各々のレンズ
支持部1c、4cの中心線C1、C2は複数のコリメー
タレンズ3a、3bから出射されるビームピッチ方向に
対して、ほぼ直交方向に位置する光源装置であって、ベ
ース1、4は第1のベース1と第1のベース1と別部材
の第2のベース4とを備えてなり、第1のベース1は、
少なくとも1つのビーム光軸を形成する嵌合孔1a、嵌
合孔1aに嵌着される半導体レーザ2a、半導体レーザ
2aの光軸と同軸のコリメータレンズ3a及び半導体レ
ーザ2aと同軸のレンズ支持部1cを有し、第2のベー
ス4は、他のビーム光軸を形成する嵌合孔4a、嵌合孔
4aに嵌着される半導体レーザ2b、半導体レーザ2b
の光軸と同軸のコリメータレンズ3b及び半導体レーザ
2bと同軸のレンズ支持部4cを有するので、光源装置
以外の光学部品のばらつき等により、画像書き込み面上
でビーム間隔精度が所望の値にならない場合に光源装置
のz軸方向特性(コリメート特性)を変化させることな
しに、ビーム間隔の調整ができるので、良好な画像品質
を得られる光源装置を提供できる。
【0052】また、複数のコリメータレンズ3a、3b
を、紫外線硬化型接着剤6a、6bを用いてベース1、
4にそれぞれ一体成形されたレンズ支持部1c、4c
に、各々直接固定したので、光源装置の部品点数を削減
することができ、光源装置を安価に提供することができ
る。さらに、コリメータレンズ3a、3bとレンズ支持
部1c、4cとのそれぞれの間にホルダー等の介在物が
ないので、介在物の製造誤差等の影響を受けることがな
く、高精度に固定することができる。また、コリメータ
レンズ3a、3bを、ベース1、4にそれぞれ一体成形
したレンズ支持部1c、4cに直接固定するように構成
しているので、ねじなどの締め付け部が排除され、締め
付け時の部品のずれがなくなり、高精度の光源装置を提
供することができる。
【0053】また、レンズ支持部1c、4cを、ビーム
ピッチ方向に直交する線に対して線対称に構成したの
で、ビームピッチ方向の硬化収縮による歪みは相殺さ
れ、硬化収縮の方向はビームピッチ方向に直交する方向
に限定されるので、硬化収縮の方向性がさらに向上し、
より高精度に位置調整することができる。
【0054】また、レンズ支持部1c、4cを、コリメ
ータレンズ3a、3bの外周円よりもわずかに径の大き
な断面円弧状に形成したので、レンズ支持部1c、4c
とコリメータレンズ3a、3bとを同心に配置すること
により、コリメータレンズ3a、3bとレンズ支持部1
c、4cの間に形成される接着層が均一の厚さになる。
このため、接着層の全面が均一に固化されるので、硬化
むらがなくなり、コリメータレンズの位置ずれが防止さ
れる。
【0055】また、レンズ支持部1c、4cを、コリメ
ータレンズ3a、3bの外周円の曲率半径よりほぼ接着
層厚分曲率半径が大きい断面円弧状に形成したので、レ
ンズ支持部1c、4cとコリメータレンズ3a、3bと
を同心に配置することにより、コリメータレンズ3a、
3bとレンズ支持部1c、4cの間に形成される接着層
が所望の接着層厚で均一の厚さになる。このため、接着
層の全面が均一に固化されるので、硬化むらがなくな
り、コリメータレンズ3a、3bの位置ずれが防止され
る。
【0056】また、レンズ支持部1c、4cの断面を、
半円以下の円弧としたので、接着層はコリメータレンズ
3a、3bの外周の半分以下を覆うだけとなり、接着剤
の硬化収縮に方向性が出てくるため、接着剤の収縮量を
見込んでコリメータレンズ3a、3bの初期位置をオフ
セットすることが可能となり、硬化後の位置精度を向上
することができる。さらに、レンズ支持部1c、4cの
開口側からコリメータレンズ3a、3bの側面に向けて
硬化用光線を照射することができ、硬化むらがより一層
解消される。
【0057】また、コリメータレンズ3a、3bとベー
ス1、4との光軸方向の間に接着剤が連架するのを防止
する隙間、溝等の非接着部を形成したので、ベース1、
4壁面とコリメータレンズ3a、3bとの間に形成され
た非接着部の存在により、たとえ多量の接着剤6a、6
bが充填されたとしても、はみ出た接着剤6a、6bが
ベース1、4壁面に直接付着するようなことがなくな
り、ベース1、4壁面に付着して硬化した接着剤6a、
6bによる光軸方向(z軸方向)への強力な硬化収縮力
がコリメータレンズ3a、3bに作用するようなことも
なくなる。このため、光軸方向の位置精度を向上するこ
とができる。
【0058】また、コリメータレンズ3a、3bとベー
ス1、4との光軸方向の間に非接着部が形成されている
ので、たとえ多量の接着剤が充填されたとしても、はみ
出た接着剤がベース壁面に直接付着するようなことがな
くなり、ベース壁面に付着して硬化した接着剤による光
軸方向(z軸方向)への強力な硬化収縮力がコリメータ
レンズ3a、3bに作用するようなこともなくなる。こ
のため、光軸方向の位置精度を向上することができる。
以上説明した例は、紫外線硬化型接着剤を用いたが、紫
外線硬化型の接着剤に限らず、光硬化型の接着剤であれ
ば使用可能である。また、2本のビームを発生させる光
源装置に限らず、3本以上の複数のビームを発生させる
光源装置であっても第2ベースの数は増やすことによ
り、同様に使用可能である。
【0059】
【発明の効果】以上の説明から明らかな如く請求項1の
光源装置によれば、表裏に貫通する複数の嵌合孔を有す
るベースと、該ベース裏面側に位置して前記嵌合孔にそ
れぞれ嵌着される複数の半導体レーザと、前記嵌合孔の
ベース表面側のレンズ支持部に、前記半導体レーザの光
軸と各々同軸に接着固定された複数のコリメータレンズ
と、前記コリメータレンズより出射されるレーザ光を整
形する複数のアパーチャと、前記レーザ光をほぼ同軸に
合成するためのビーム合成手段とを有し、前記各々のレ
ンズ支持部の中心線は前記複数のコリメータレンズから
出射されるビームピッチ方向に対して、ほぼ直交方向に
位置する光源装置において、前記ベースは第1のベース
と該第1のベースと別部材の第2のベースとを備えてな
り、前記第1のベースは、少なくとも1つのビーム光軸
を形成する嵌合孔、該嵌合孔に嵌着される半導体レー
ザ、該半導体レーザの光軸と同軸のコリメータレンズ及
び前記半導体レーザと同軸のレンズ支持部を有し、前記
第2のベースは、他のビーム光軸を形成する嵌合孔、該
嵌合孔に嵌着される半導体レーザ、該半導体レーザの光
軸と同軸のコリメータレンズ及び前記半導体レーザと同
軸のレンズ支持部を有するので、光源装置以外の光学部
品のばらつき等により、画像書き込み面上でビーム間隔
精度が所望の値にならない場合に光源装置のz軸方向特
性(コリメート特性)を変化させることなしに、ビーム
間隔の調整ができ、良好な画像品質を得られる光源装置
を提供できる。
【0060】また、請求項2の光源装置では、請求項1
記載の光源装置において、前記複数のコリメータレンズ
は、光硬化型接着剤を用いて前記ベースに一体成形され
たレンズ支持部に、各々直接固定されているので、請求
項1の効果に加えて、光源装置の部品点数を削減するこ
とができ、光源装置を安価に提供することができる。さ
らに、コリメータレンズとレンズ支持部との間にホルダ
ー等の介在物がないので、介在物の製造誤差等の影響を
受けることがなく、高精度に固定することができる。ま
た、コリメータレンズをベースに一体成形したレンズ支
持部に直接固定するように構成しているので、ねじなど
の締め付け部が排除され、締め付け時の部品のずれがな
くなり、高精度の光源装置を提供することができる。
【0061】また、請求項3の光源装置では、請求項1
〜2の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部は、ビームピッチ方向に直交する線に対して線対称
に構成されているので、請求項1〜2の何れかに記載の
光源装置の効果に加えて、ビームピッチ方向の硬化収縮
による歪みは相殺され、硬化収縮の方向はビームピッチ
方向に直交する方向に限定されるため、硬化収縮の方向
性がさらに向上し、より高精度に位置調整することがで
きる。
【0062】また、請求項4の光源装置では、請求項1
〜3の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部は、コリメータレンズの外周円よりもわずかに径の
大きな断面円弧状に形成されているので、請求項1〜3
の何れかに記載の光源装置の効果に加えて、レンズ支持
部とコリメータレンズとを同心に配置することにより、
コリメータレンズとレンズ支持部の間に形成される接着
層が均一の厚さになる。このため、接着層の全面が均一
に固化されるので、硬化むらがなくなり、コリメータレ
ンズの位置ずれが防止される。
【0063】また、請求項5の光源装置では、請求項1
〜3の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部は、前記コリメータレンズの外周円の曲率半径より
ほぼ接着層厚分曲率半径が大きい断面円弧状に形成され
ているので、請求項1〜3の何れかに記載の光源装置の
効果に加えて、レンズ支持部とコリメータレンズとを同
心に配置することにより、コリメータレンズとレンズ支
持部の間に形成される接着層が所望の接着層厚で均一の
厚さになる。このため、接着層の全面が均一に固化され
るので、硬化むらがなくなり、コリメータレンズの位置
ずれが防止される。
【0064】また、請求項6の光源装置では、請求項4
〜5の何れかに記載の光源装置において、前記レンズ支
持部の断面は、半円以下の円弧であるので、請求項4〜
5の何れかに記載の光源装置の効果に加えて、接着層は
コリメータレンズ外周の半分以下を覆うだけとなり、接
着剤の硬化収縮に方向性が出てくるので、接着剤の収縮
量を見込んでコリメータレンズの初期位置をオフセット
することが可能となり、硬化後の位置精度を向上するこ
とができる。さらに、レンズ支持部の開口側からコリメ
ータレンズの側面に向けて硬化用光線を照射することが
でき、硬化むらがより一層解消される。
【0065】また、請求項7の光源装置では、請求項1
〜6の何れかに記載の光源装置において、前記コリメー
タレンズと前記ベースとの光軸方向の間に非接着部が形
成されているので、請求項1〜6の何れかに記載の光源
装置の効果に加えて、ベース壁面とコリメータレンズと
の間に形成された非接着部の存在により、たとえ多量の
接着剤が充填されたとしても、はみ出た接着剤がベース
壁面に直接付着するようなことがなくなり、ベース壁面
に付着して硬化した接着剤による光軸方向(z軸方向)
への強力な硬化収縮力がコリメータレンズに作用するよ
うなこともなくなる。このため、光軸方向の位置精度を
向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光源装置の分解斜視図である。
【図2】コリメータレンズを接着する場合のレンズ支持
部を含む略示正面図である。
【図3】従来の光源装置の一例を示す図である。
【図4】従来の光源装置の他の例を示す図である。
【符号の説明】
1 第1ベース 1a 嵌合孔 1c レンズ支持部 2a 半導体レーザ 2b 半導体レーザ 4 第2ベース 4a 嵌合孔 4c レンズ支持部 10 ビーム合成プリズム C1 中心線 C2 中心線

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表裏に貫通する複数の嵌合孔を有するベ
    ースと、該ベース裏面側に位置して前記嵌合孔にそれぞ
    れ嵌着される複数の半導体レーザと、前記嵌合孔のベー
    ス表面側のレンズ支持部に、前記半導体レーザの光軸と
    各々同軸に接着固定された複数のコリメータレンズと、
    前記コリメータレンズより出射されるレーザ光を整形す
    る複数のアパーチャと、前記レーザ光をほぼ同軸に合成
    するためのビーム合成手段とを有し、前記各々のレンズ
    支持部の中心線は前記複数のコリメータレンズから出射
    されるビームピッチ方向に対して、ほぼ直交方向に位置
    する光源装置において、 前記ベースは第1のベースと該第1のベースと別部材の
    第2のベースとを備えてなり、前記第1のベースは、少
    なくとも1つのビーム光軸を形成する嵌合孔、該嵌合孔
    に嵌着される半導体レーザ、該半導体レーザの光軸と同
    軸のコリメータレンズ及び前記半導体レーザと同軸のレ
    ンズ支持部を有し、前記第2のベースは、他のビーム光
    軸を形成する嵌合孔、該嵌合孔に嵌着される半導体レー
    ザ、該半導体レーザの光軸と同軸のコリメータレンズ及
    び前記半導体レーザと同軸のレンズ支持部を有すること
    を特徴とする光源装置。
  2. 【請求項2】 前記複数のコリメータレンズは、光硬化
    型接着剤を用いて前記ベースに一体成形されたレンズ支
    持部に、各々直接固定されていることを特徴とする請求
    項1記載の光源装置。
  3. 【請求項3】 前記レンズ支持部は、ビームピッチ方向
    に直交する線に対して線対称に構成されていることを特
    徴とする請求項1〜2の何れかに記載の光源装置。
  4. 【請求項4】 前記レンズ支持部は、コリメータレンズ
    の外周円よりもわずかに径の大きな断面円弧状に形成さ
    れていることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載
    の光源装置。
  5. 【請求項5】 前記レンズ支持部は、前記コリメータレ
    ンズの外周円の曲率半径よりほぼ接着層厚分曲率半径が
    大きい断面円弧状に形成されていることを特徴とする請
    求項1〜3の何れかに記載の光源装置。
  6. 【請求項6】 前記レンズ支持部の断面は、半円以下の
    円弧であることを特徴とする請求項4〜5の何れかに記
    載の光源装置。
  7. 【請求項7】 前記コリメータレンズと前記ベースとの
    光軸方向の間に非接着部が形成されていることを特徴と
    する請求項1〜6の何れかに記載の光源装置。
JP8813797A 1997-04-07 1997-04-07 光源装置 Withdrawn JPH10284803A (ja)

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DE19815620A DE19815620B4 (de) 1997-04-07 1998-04-07 Lichtquellenvorrichtung
US09/055,902 US6097749A (en) 1997-04-07 1998-04-07 Light source device including semiconductor lasers
KR1019980012289A KR100299649B1 (ko) 1997-04-07 1998-04-07 반도체레이저를포함하는광원장치
US09/394,873 US6343092B1 (en) 1997-04-07 1999-09-13 Light source device including semiconductor lasers

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006065014A (ja) * 2004-08-27 2006-03-09 Sony Corp レンズ鏡筒および撮像装置
US7295225B2 (en) 2002-09-19 2007-11-13 Ricoh Company, Ltd. Light source and light beam scanning unit
JP2012208207A (ja) * 2011-03-29 2012-10-25 Casio Comput Co Ltd 光源装置及びプロジェクタ並びに光源装置の組込み方法

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