JPH10282664A - Production of negative type planographic printing plate - Google Patents

Production of negative type planographic printing plate

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JPH10282664A
JPH10282664A JP9085327A JP8532797A JPH10282664A JP H10282664 A JPH10282664 A JP H10282664A JP 9085327 A JP9085327 A JP 9085327A JP 8532797 A JP8532797 A JP 8532797A JP H10282664 A JPH10282664 A JP H10282664A
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JP
Japan
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acid
lithographic printing
printing plate
solution
group
Prior art date
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Pending
Application number
JP9085327A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsushi Kitatani
克司 北谷
Haruo Nakanishi
治雄 中西
Takashi Kikuchi
敬 菊池
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP9085327A priority Critical patent/JPH10282664A/en
Publication of JPH10282664A publication Critical patent/JPH10282664A/en
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process capable of stably and easily producing a plate material for a negative type planographic printing plate which is directly formable from digital data of a computer, etc., and has excellent stability in preservation and high sensitivity by recording the use of a solid laser for radiating IR rays and semiconductor laser. SOLUTION: The production of the negative paleographic printing plate including a stage of applying a photosensitive layer coating material contg. a novolak resin, acid generating agent, acid crosslinkable compd. and IR absorbent on a base is executed in this process. In such a case, the pH of the coating liquid is adjusted to a range of 3 to 7 in preparing the coating liquid. The pH of the coating liquid refers to the value obtd. by adding 10 wt.% pure water to the coating liquid and measuring the pH with an ordinary glass pH electrode.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材とし
て使用できる画像記録材料の製造方法に関するものであ
り、特にコンピュータ等のデジタル信号から赤外線レー
ザを用い直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能
な平版印刷用版材の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an image recording material which can be used as a lithographic printing plate material, and more particularly to a so-called lithographic plate capable of directly making a plate by using an infrared laser from a digital signal of a computer or the like. The present invention relates to a method for manufacturing a printing plate material.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色または緑色を発光するレーザを用い露光す
る光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層し
たもの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。しかしながらの電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。の光重合系による
ものでは、青色や緑色の光に対して高感度な版材である
ため、明室での取扱いが難しくなる。、の方法では
銀塩を使用するため現像等の処理が煩雑になり、さらに
当然ながら処理廃液中に銀が含まれる欠点がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a system for making a plate directly from digital data of a computer, an electrophotographic system, a photopolymerization system for exposing using a laser emitting blue or green light, and a silver salt on a photosensitive resin are known. Laminated ones, silver salt diffusion transfer methods, and the like have been proposed. However, in the case of using the electrophotographic method, an image forming process such as charging, exposure, and development is complicated, and the apparatus is complicated and large. In the photopolymerization system, since the plate material is highly sensitive to blue or green light, it is difficult to handle in a bright room. In the methods (1) and (2), processing such as development is complicated since a silver salt is used, and furthermore, there is a disadvantage that silver is contained in the processing waste liquid.

【0003】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小型の
ものが容易に入手できる様になっている。コンピュータ
等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源とし
て、これらのレーザは非常に有用である。しかし、実用
上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が760nm
以下の可視光域であるため、これらの赤外線レーザでは
画像記録できない。このため、赤外線レーザで記録可能
な材料が望まれている。
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have become easily available in high power and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. However, many photosensitive recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength of 760 nm.
Because of the following visible light range, these infrared lasers cannot record images. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0004】このような赤外線レーザにて記録可能な記
録材料としては、特開昭56−69193号に開示され
ている、レゾール型フェノール樹脂、カーボンブラック
を含む感熱記録材料、特開平7−20629号に記載さ
れている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤より成る記録材料がある。また、
特開平7−271029号には、ハロアルキル置換され
たs−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、及
び赤外線吸収剤より成る記録材料が記載されている。こ
れらの記録材料では画像露光により発生した酸の存在
下、加熱する事により架橋を起こさせ、画像を形成して
おり、感光層を構成する樹脂類、架橋剤、酸発生剤等の
組み合わせの最適化が検討されている。ところが、好適
な組み合わせの感光層の塗布液を調製して記録材料を調
製しても、配合された塗布液は塗布乾燥時の系のpHや
乾燥温度に影響を受けやすく、記録材料の製造条件が不
安定になってしまい、例えば、工業的な規模にスケール
アップして製造すると、予期されない感度低下や感光層
の不均一な部分を生じる場合があることが見いだされ
た。
[0004] As such a recording material recordable with an infrared laser, a heat-sensitive recording material containing a resol type phenol resin and carbon black disclosed in JP-A-56-69193, and JP-A-7-20629. And a recording material comprising an onium salt, a resol resin, a novolak resin, and an infrared absorber. Also,
JP-A-7-271029 describes a recording material comprising a haloalkyl-substituted s-triazine, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber. In these recording materials, crosslinking is caused by heating in the presence of an acid generated by image exposure to form an image, and an optimal combination of a resin, a crosslinking agent, an acid generator, and the like constituting a photosensitive layer is optimal. Is being considered. However, even if the recording material is prepared by preparing a suitable combination of photosensitive layer coating solutions, the compounded coating solution is easily affected by the pH and drying temperature of the system at the time of coating and drying. Has been found to be unstable, for example, when scaled up and manufactured on an industrial scale, unexpected decrease in sensitivity and unevenness of the photosensitive layer may occur.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピュータ等のデジタルデ
ータから直接製版可能であり、さらに保存時の安定性に
優れ、感度の高いネガ型平版印刷用版材を工業的なスケ
ールにおいても安定的に簡便に製造し得る製造方法を提
供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to make a plate directly from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light, and furthermore, it is possible to obtain a stable image when storing. It is an object of the present invention to provide a production method capable of stably and easily producing a negative type lithographic printing plate material having excellent properties and high sensitivity even on an industrial scale.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的は、ノボラック
樹脂、酸発生剤、酸架橋性化合物、赤外線吸収剤を含有
するネガ平版印刷材料の製造に当たって、塗布液のpH
を3〜7の範囲に調節する事により達成された。本発明
のネガ型画像記録材料による画像形成は以下の連鎖的メ
カニズムによるものである。即ち、赤外線吸収剤が、
(1) 赤外線レ−ザを吸収して熱を発生させ、(2) 次に、
この熱により、熱の作用により酸を発生する化合物が酸
を発生させ、(3) 更に、発生した酸により架橋する性質
を有する化合物が架橋することによりネガ型画像が形成
される。本発明は上記メカニズムにより、赤外線レ−ザ
により直接製版可能な記録材料を得るものであるが、こ
の感光層の塗布液を調製する際に、そのpHを3〜7の
範囲とすることにより、塗布液中の各成分の架橋反応、
分解や発生する酸の無効化などの望ましくない反応が防
止されることにより保存安定性が向上し、スケールアッ
プした条件や塗布液を保存後に塗布する場合において
も、各種の配合された化合物の特性を損なうことなく、
安定的に感度の高いネガ型平版印刷用版材を製造方法す
ることができると推定される。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a negative lithographic printing material containing a novolak resin, an acid generator, an acid-crosslinkable compound, and an infrared absorber.
Was adjusted in the range of 3-7. The image formation using the negative type image recording material of the present invention is based on the following chain mechanism. That is, the infrared absorbent,
(1) Absorb infrared laser to generate heat, (2) Next,
Due to this heat, a compound that generates an acid by the action of heat generates an acid, and (3) a compound having a property of being cross-linked by the generated acid is cross-linked to form a negative image. According to the present invention, a recording material that can be directly made by an infrared laser is obtained by the mechanism described above. When preparing a coating solution for the photosensitive layer, the pH is adjusted to a range of 3 to 7, Crosslinking reaction of each component in the coating solution,
Prevention of undesired reactions such as decomposition and invalidation of generated acid improves storage stability, and the characteristics of various compounded compounds even under scaled-up conditions and when applying coating solutions after storage Without compromising
It is presumed that a method for producing a negative type lithographic printing plate material having high sensitivity stably can be produced.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のネガ平版印刷材料の製造方法は、ノボラック樹
脂、酸発生剤、酸架橋性化合物、赤外線吸収剤を含有す
る感光層塗布液(以下、適宜、塗布液と称する)を調製
する工程、該感光性塗布液を支持体に塗布する工程を含
むものであり、該感光層塗布液を調製する工程におい
て、そのpHを3〜7の範囲に調節することを特徴とす
るが、まず、感光層塗布液の各構成成分、即ち、ノボラ
ック樹脂、酸発生剤、酸架橋性化合物、赤外線吸収剤及
びその他の任意成分を常法により配合し、その後、pH
を所定の範囲に調節することが好ましい。なお、本発明
における感光層塗布液は樹脂成分等を含有し、pHの測
定が困難なため、本発明において塗布液のpHとは、塗
布液に10重量%の純水を加え、通常のガラスpH電極
で測定した値を指すものとする。従って、以下、本発明
におけるpHは、特に断りのない限りはこの条件で測定
したものを指す。塗布液のpHは3〜7であることを要
し、得られる感光層の感度の観点からはpHは3〜5で
あることが好ましい。塗布液のpHが3未満であると、
現像不良を起こしやすく好ましくない。さらに、配合成
分として比較的酸に弱い赤外線吸収染料を用いた場合に
は赤外線吸収染料が分解し、感度低下を引き起こす虞が
でるなど、使用しうる成分が制限される。また、塗布液
のpHが7を超えた場合もまた、感度低下を引き起こ
し、いずれも好ましくない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The method for producing a negative lithographic printing material of the present invention comprises a step of preparing a coating solution for a photosensitive layer containing a novolak resin, an acid generator, an acid crosslinking compound, and an infrared absorber (hereinafter, appropriately referred to as a coating solution), The method includes a step of applying a photosensitive coating solution to a support. In the step of preparing the photosensitive layer coating solution, the pH is adjusted to a range of 3 to 7. Each component of the coating solution, that is, a novolak resin, an acid generator, an acid crosslinkable compound, an infrared absorber and other optional components are blended by a conventional method, and then the pH is adjusted.
Is preferably adjusted to a predetermined range. In addition, since the photosensitive layer coating solution of the present invention contains a resin component and the like, and it is difficult to measure the pH, the pH of the coating solution in the present invention is defined as 10% by weight of pure water added to the coating solution, It refers to the value measured with a pH electrode. Accordingly, hereinafter, the pH in the present invention refers to a value measured under these conditions unless otherwise specified. The coating solution needs to have a pH of 3 to 7, and from the viewpoint of the sensitivity of the obtained photosensitive layer, the pH is preferably 3 to 5. When the pH of the coating solution is less than 3,
Developing defects are likely to occur, which is not preferable. Further, when an infrared absorbing dye which is relatively weak to acid is used as a compounding component, usable components are limited, for example, the infrared absorbing dye may be decomposed to cause a decrease in sensitivity. Further, when the pH of the coating solution exceeds 7, the sensitivity is also lowered, and both are not preferable.

【0008】本発明の方法における塗布液pHの調整
は、ノボラック樹脂、酸発生剤、酸架橋性化合物、赤外
線吸収剤を含有するネガ平版印刷材料の製造において有
効であるが、その中でも酸架橋性化合物としてメチロー
ル系化合物を用いる場合に特に有効である。メチロール
系化合物としてはレゾール樹脂、低分子メチロール化合
物が挙げられる。更に特に有効な例としてアルコキシメ
チル基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物
を架橋剤として用いる場合を挙げられる。
The adjustment of the pH of the coating solution in the method of the present invention is effective in producing a negative lithographic printing material containing a novolak resin, an acid generator, an acid-crosslinkable compound and an infrared absorber. This is particularly effective when a methylol compound is used as the compound. Examples of the methylol-based compound include a resole resin and a low molecular weight methylol compound. A particularly effective example is a case where an aromatic compound and a heterocyclic compound poly-substituted with an alkoxymethyl group are used as a crosslinking agent.

【0009】塗布液pHの調整は任意の方法で行うこと
ができる。例えば、(a) 調製後の塗布液に、該塗布液に
溶解しうる酸性もしくは塩基性物質を添加する方法、
(b) 塗布液成分を予め液が中性〜弱酸性になるように選
択・設定して、調製後の塗布液そのもののpHを3〜7
の範囲内におさめるようにする方法、(c) バッファー溶
液系を組んでpHを3〜7に調節する方法などを例示で
きる。
The pH of the coating solution can be adjusted by any method. For example, (a) a method of adding an acidic or basic substance soluble in the coating solution to the prepared coating solution,
(b) The components of the coating solution are previously selected and set so that the solution becomes neutral to weakly acidic, and the pH of the prepared coating solution itself is adjusted to 3 to 7
And (c) adjusting the pH to 3 to 7 by assembling a buffer solution system.

【0010】具体的には、例えば、(a) の方法において
は、調製後の塗布液のpHを所定の方法で測定した後、
その測定値に応じて添加する酸性物質、塩基性物質の種
類及び量を検討して塗布液を攪拌しながら徐々に添加
し、その後サンプルを採取して10重量%の純水を加
え、pHが3〜7の範囲にあることを確認するのが好適
である。ここで使用し得る酸性物質、塩基性物質は塗布
液中の化合物に影響を与えない物質を選択するとよい。
一般的に用いられる酸性物質、塩基性物質としては、p
−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンス
ルホン酸等の有機酸、硫酸、塩酸等の無機酸、トリエチ
ルアミン、ピリジン等の有機塩基、p−トルエンスルホ
ン酸のトリエチルアミン塩等の塩類などを挙げることが
できる。(b) の方法においては、使用する塗布液成分の
各化合物溶液のpHを予め測定して、配合量とのバラン
スを検討すればよく、すべての塗布液成分の溶液が中性
〜弱酸性のものを選択するのが最も簡易な方法である。
また、(c) のバッファー溶液系を組む方法は、具体的に
は、トリス(ヒドロキシメチル)と塩酸の組み合わせを
用いる”Anal. Chem.第28巻、第1322
頁(1956年)”に記載のBaltes−Bower
の方法等が挙げられる。
Specifically, for example, in the method (a), after measuring the pH of the prepared coating solution by a predetermined method,
Consider the type and amount of the acidic substance and the basic substance to be added according to the measured value, gradually add the coating liquid with stirring, then collect a sample and add 10% by weight of pure water to adjust the pH. It is preferable to confirm that it is in the range of 3 to 7. As the acidic substance and the basic substance that can be used here, a substance that does not affect the compound in the coating solution may be selected.
Commonly used acidic and basic substances include p
-Organic acids such as toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and methanesulfonic acid; inorganic acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid; organic bases such as triethylamine and pyridine; and salts such as triethylamine salt of p-toluenesulfonic acid. . In the method (b), the pH of each compound solution of the coating solution components to be used may be measured in advance, and the balance with the compounding amount may be examined, and the solutions of all the coating solution components are neutral to weakly acidic. Selecting the one is the easiest way.
The method of assembling the buffer solution system of (c) specifically uses a combination of tris (hydroxymethyl) and hydrochloric acid, "Anal. Chem. Vol. 28, No. 1322.
(1956) ".
And the like.

【0011】次に、本発明の製造方法を適用し得るネガ
型平版印刷材料(以下、適宜、平版印刷材料と称する)
の各成分について説明する。 [赤外線吸収剤]本発明に係るネガ型平版印刷材料に使
用される赤外線吸収剤は、赤外線を吸収して発熱する化
合物を指し、具体的には、波長760nmから1200
nmの赤外線を有効に吸収する染料又は顔料であり、好
ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極大
を有する染料又は顔料である。染料としては、市販の染
料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭
和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利
用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、
ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシア
ニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチ
ン染料、シアニン染料、金属チオレート錯体等の染料が
挙げられる。好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許第434,875号記載のシアニン染料等を挙
げることができる。また、米国特許第5,156,93
8号記載の近赤外線吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号に開示されて
いるピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染
料の好ましい別の例として米国特許第4,756,99
3号に式(I)、(II)として記載されている近赤外線
吸収染料を挙げることができる。これらの染料のうち特
に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウ
ム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げ
られる。
Next, a negative type lithographic printing material to which the production method of the present invention can be applied (hereinafter referred to as a lithographic printing material as appropriate).
Each component will be described. [Infrared absorber] The infrared absorber used in the negative type lithographic printing material according to the present invention refers to a compound that absorbs infrared rays and generates heat, and specifically, has a wavelength of 760 nm to 1200.
dyes or pigments that effectively absorb infrared rays of 10 nm, preferably dyes or pigments having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm. As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as "Dye Handbook" (edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes,
Dyes such as a pyrazolone azo dye, an anthraquinone dye, a phthalocyanine dye, a carbonium dye, a quinone imine dye, a methine dye, a cyanine dye, and a metal thiolate complex are exemplified. Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent No. 434,875 and the like can be mentioned. No. 5,156,93.
The near-infrared absorption sensitizer described in No. 8 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75 pentamethine thiopyrylium salt and the pyrylium compounds disclosed in JP-B-5-13514 and JP-A-5-19702 are also preferably used. Another preferred example of the dye is disclosed in U.S. Pat.
No. 3 includes near infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II). Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0012】ここで、使用される顔料としては、市販の
顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新
顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)に記
載されている顔料で赤外から近赤外域に吸収を持つもの
が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表
面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹
脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着
させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング
剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表
面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方
法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷イ
ンキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔
料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載され
ている。
The pigments used here include commercially available pigments and color index (CI) handbook, "Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977),
"Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986),
Pigments described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) having absorption in the infrared to near infrared region can be used. The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black. These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). I have.

【0013】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。これ
らの赤外線吸収剤は、平版印刷材料の全固形分に対し
0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜10重量
%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量%、顔
料の場合特に好ましくは3.1〜10重量%の割合で平
版印刷材料中に添加することができる。赤外線吸収剤の
添加量が0.01重量%未満であると感度が低くなり、
また50重量%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生
する。また機上現像を容易にし、印刷機を汚染しないと
いう観点からは、赤外線吸収剤として染料を用いること
が望ましい。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the photosensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the image recording layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. As the disperser, an ultrasonic disperser,
Sand mills, attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, dispersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three-roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986). These infrared absorbers are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight in the case of dyes, based on the total solid content of the lithographic printing material. In particular, it can be particularly preferably added to the lithographic printing material in a ratio of 3.1 to 10% by weight. If the added amount of the infrared absorber is less than 0.01% by weight, the sensitivity becomes low,
On the other hand, if it exceeds 50% by weight, stains occur in the non-image area during printing. From the viewpoint of facilitating on-press development and not contaminating the printing press, it is desirable to use a dye as the infrared absorber.

【0014】[酸発生剤]本発明に係る平版印刷材料に
使用される酸発生剤は熱若しくは光により酸を発生する
化合物であり、一般的には、光カチオン重合の光開始
剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光
変色剤、マイクロレジスト等に使用されている公知の光
により酸を発生する化合物及びそれらの混合物等を挙げ
ることができ、これらを適宜選択して使用することがで
きる。例えば、S.I.Schlesinger, Photogr. Sci. Eng.,
18,387(1974) 、T.S.Bal etal., Polymer, 21,423(198
0) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140,140 号等に記載のア
ンモニウム塩、D.C.Necker et al., Macromolecules, 1
7,2468(1984)、C.S.Wen et al., Teh, Proc. Conf. Ra
d. Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct(1988) 、米国特許
第4,069,055 号、同4,069,056 号等に記載のホスホニウ
ム塩、J.V.Crivello et al., Macromolecules, 10(6),1
307(1977) 、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31(1988)
、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049 号、同
第410,201 号、特開平2-150,848 号、特開平2-296,514
号等に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al., P
olymerJ. 17, 73(1985)、J.V.Crivello et al., J.Org.
Chem., 43,3055(1978)、W.R.Watt et al., J.Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789(1984)、J.V.Crive
llo et al., Polymer Bull., 14,279(1985)、J.V.Crive
llo et al., Macromolecules, 14(5), 1141(1981)、J.
V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17,2877(1979) 、欧州特許第370,693 号、米国特許
第3,902,114 号、欧州特許第233,567 号、同297,443
号、同297,442 号、米国特許第4,933,377 号、同410,20
1 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444
号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,60
4,580 号、同3,604,581 号等に記載のスルホニウム塩、
J.V.Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 1307(1
977)、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,1047(1979) 等に記載のセレノニウム
塩、C.S.Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing A
SIA,p478, Tokyo, Oct(1988) 等に記載のアルソニウム
塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,815 号、特公昭46
-4605 号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開
昭60-239736 号、特開昭61-169835 号、特開昭61-16983
7 号、特開昭62-58241号、特開昭62-212401 号、特開昭
63-70243号、特開昭63-298339 号等に記載の有機ハロゲ
ン化合物、K.Meier et al., J.Rad. Curing, 13(4),26
(1986) 、T.P.Gill et al., Inorg. Chem., 19,3007(19
80)、D.Astruc, Acc. Chem. Res., 19(12), 377(189
6)、特開平2-161445号等に記載の有機金属/有機ハロゲ
ン化物、S.Hayase et al., J.Polymer Sci., 25,753(19
87) 、E.Reichman et al., J.PolymerSci., Poliymer C
hem. Ed., 23,1(1985) 、Q.Q.Zhu et al., J.Photoche
m., 36, 85, 39, 317(1987) 、B.Amit et al., Tetrahe
dron Lett., (24)2205(1973)、D.H.R.Barton et al.,
J.Chem. Soc., 3571(1965) 、P.M.Collins et al., J.C
hem. Soc., Perkin I,1695(1975) 、M. Rudinstein et
al., Tetrahedron Lett.,(17), 1445(1975)、J.W.Walke
r et al., J. Am. Chem. Soc., 110,7170(1988)、S.C.B
usman et al., J. Imaging Technol., 11(4), (1985)
、H.M.Houlihan etal., Macromolecules, 21,2001(198
8)、P.M.Collins et al., J.Chem. Soc., Chem. Commu
n., 532(1972)、S.Hayase et al., Macromolecules, 1
8,1799(1985),E.Reichmanis et al., J.Electrochem. S
oc., Solid State Sci. Technol., 130(6) 、F.M.Houli
han et al., Macromolecules, 21,2001(1988)、欧州特
許第0290,750号、同046,083 号、同156,535 号、同271,
851 号、同0,388,343 号、米国特許第3,901,710 号、同
4,181,531 号、特開昭60-198538 号、特開昭53-133022
号等に記載の0-ニトロベンジル型保護基を有する光酸発
生剤、TUNOOKA et al., Polymer Preprints Japan, 35
(8)、G.Berner et al., J.Rad. Curing, 13(4) 、W.J.M
ijs et al., Coating Technol., 55(697), 45(1983), A
kzo、H.Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3)、欧州特許第0199,672号、同84515 号、同199,672
号、同044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,618,55
4 号、同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64-181
43号、特開平2-245756号、特開平3-140109号等に記載の
イミノスルホネート等に代表される光分解してスルホン
酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号等に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。
[Acid Generator] The acid generator used in the lithographic printing material according to the present invention is a compound which generates an acid by heat or light, and is generally a photoinitiator for photocationic polymerization and a photoradical. Photoinitiators for polymerization, photodecolorants for pigments, photochromic agents, known compounds used for microresist, which generate an acid by light, and mixtures thereof, and the like can be appropriately selected. Can be used. For example, SI Schlesinger, Photogr. Sci. Eng.,
18,387 (1974), TSBal et al., Polymer, 21,423 (198
0) etc., U.S. Pat.No.4,069,055
No. 4,069,056, ammonium salts described in JP-A-3-140,140, etc., DCNecker et al., Macromolecules, 1
7,2468 (1984), CSWen et al., Teh, Proc. Conf.Ra.
d.Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, phosphonium salts described in JVCrivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1
307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988)
, European Patent No. 104,143, U.S. Patent No. 339,049, No. 410,201, JP-A-2-150,848, JP-A-2-296,514
No., etc., JVCrivello et al., P
olymer J. 17, 73 (1985), JVCrivello et al., J. Org.
Chem., 43, 3055 (1978), WRWatt et al., J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984), JVCrive
llo et al., Polymer Bull., 14,279 (1985), JVCrive
llo et al., Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J.
V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17,2877 (1979), EP 370,693, U.S. Pat.No. 3,902,114, EP 233,567, 297,443
Nos. 297,442; U.S. Pat.Nos. 4,933,377; 410,20
No. 1, 339,049, 4,760,013, 4,734,444
No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,60
Nos. 4,580 and 3,604,581, etc.
JVCrivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1
977), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17, 1047 (1979), etc., selenonium salts, CSWen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing A
Onium salts such as arsonium salts described in SIA, p478, Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.No. 3,905,815, JP-B-46
-4605, JP-A-48-36281, JP-A-55-32070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169835, JP-A-61-16983
No. 7, JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-62-212401
63-70243, organic halogen compounds described in JP-A-63-298339, etc., K. Meier et al., J. Rad.Curing, 13 (4), 26
(1986), TPGill et al., Inorg. Chem., 19, 3007 (19
80), D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19 (12), 377 (189
6), organometallics / organic halides described in JP-A-2-14145, S. Hayase et al., J. Polymer Sci., 25, 753 (19
87), E. Reichman et al., J. PolymerSci., Poliymer C
hem. Ed., 23, 1 (1985), QQZhu et al., J. Photoche.
m., 36, 85, 39, 317 (1987), B. Amit et al., Tetrahe
dron Lett., (24) 2205 (1973), DHR Barton et al.,
J. Chem. Soc., 3571 (1965), PMCollins et al., JC
hem. Soc., Perkin I, 1695 (1975), M. Rudinstein et.
al., Tetrahedron Lett., (17), 1445 (1975), JWWalke
r et al., J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988), SCB
usman et al., J. Imaging Technol., 11 (4), (1985)
, HM Houlihan et al., Macromolecules, 21, 2001 (198
8), PMCollins et al., J. Chem. Soc., Chem. Commu
n., 532 (1972), S. Hayase et al., Macromolecules, 1
8,1799 (1985), E. Reichmanis et al., J. Electrochem. S
oc., Solid State Sci. Technol., 130 (6), FMHouli
han et al., Macromolecules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083, 156,535, and 271,
Nos. 851, 0,388,343, U.S. Pat.
4,181,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022
TUNOOKA et al., Polymer Preprints Japan, 35
(8), G. Berner et al., J. Rad. Curing, 13 (4), WJM
ijs et al., Coating Technol., 55 (697), 45 (1983), A
kzo, H. Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3), European Patent Nos. 0199,672, 84515, and 199,672
No. 044,115, No. 0101,122, U.S. Pat.No. 4,618,55
No. 4, No. 4,371,605, No. 4,431,774, JP-A-64-181
No. 43, compounds disclosed in JP-A-2-245756, JP-A-3-140109, etc., which generate sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonates, and disulfones described in JP-A-61-166544. Compounds can be mentioned.

【0015】また、酸発生剤をポリマーの主鎖又は側鎖
に導入した化合物、例えば、M.E.Woodhouse et al., J.
Am. Chem. Soc., 104, 5586(1982)、S.P.Pappas et a
l., J.Imaging Sci., 30(5), 218(1986) 、S. Kondo et
al., Makromol. Chem. RapidCommun., 9,625(1988) 、
Y.Yamada et al., Makromol, Chem. 152, 153,163(197
2) 、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,3845(1979) 、米国特許第3,849,137
号、独国特許第3914407 、特開昭63-26653号、特開昭55
-164824 号、特開昭62-69263号、特開昭63-14603号、特
開昭63-163452 号、特開昭62-153853 号、特開昭63-146
029 号等に記載の化合物を用いることができる。さら
に、V.N.R.Pillai, Synthesis, (1),1(1980)、A. Abad
et al., Tetrahedron Lett., (47)4555(1971) 、D.H.R.
Barton et al., J.Chem. Soc., (C), 329(1970) 、米国
特許第3,779,778 号、欧州特許第126,712 号等に記載の
光により酸を発生する化合物も使用することができる。
Further, compounds having an acid generator introduced into the main chain or side chain of the polymer, for example, MEWoodhouse et al., J. Am.
Am. Chem. Soc., 104, 5586 (1982), SPPappas et a
l., J. Imaging Sci., 30 (5), 218 (1986), S. Kondo et.
al., Makromol. Chem. RapidCommun., 9,625 (1988),
Y. Yamada et al., Makromol, Chem. 152, 153, 163 (197
2), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,3845 (1979), U.S. Pat.
No., German Patent No. 3914407, JP-A-63-26653, JP-A-55
-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-14603, JP-A-63-163452, JP-A-62-153853, JP-A-63-146
Compounds described in No. 029 and the like can be used. Furthermore, VNRPillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A. Abad
et al., Tetrahedron Lett., (47) 4555 (1971), DHR
Compounds that generate an acid by light described in Barton et al., J. Chem. Soc., (C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, and EP 126,712 can also be used.

【0016】上記熱若しくは光により酸を発生する化合
物の中で、特に有効に用いられるものを以下に示す。 (1)トリハロメチル基が置換した下記一般式(PAG
1)で表されるオキサゾール誘導体又は一般式(PAG
2)で表されるS−トリアジン誘導体。
Among the above compounds which generate an acid by heat or light, those which are particularly effectively used are shown below. (1) The following general formula (PAG) substituted with a trihalomethyl group
The oxazole derivative represented by 1) or the general formula (PAG)
An S-triazine derivative represented by 2).

【0017】[0017]

【化1】 Embedded image

【0018】式中、R1 は置換若しくは無置換のアリー
ル基又はアルケニル基、R2 は置換若しくは置換のアリ
ール基、アルケニル基又はアルキル基、又は−CY3
示す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。具体的には以
下の化合物を挙げることができるがこれらに限定される
ものではない。
In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl or alkenyl group, R 2 represents a substituted or substituted aryl, alkenyl or alkyl group, or —CY 3 . Y represents a chlorine atom or a bromine atom. Specific examples include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0019】[0019]

【化2】 Embedded image

【0020】[0020]

【化3】 Embedded image

【0021】(2)下記の一般式(PAG3)で表され
るヨードニウム塩、又は一般式(PAG4)で表される
スルホニウム塩。
(2) An iodonium salt represented by the following general formula (PAG3) or a sulfonium salt represented by the following general formula (PAG4).

【0022】[0022]

【化4】 Embedded image

【0023】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換
又は無置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、
アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基
及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及びR5
各々独立に、置換若しくは無置換のアルキル基又はアリ
ール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリール
基、炭素数1〜8のアルキル基及びそれらの置換誘導体
である。好ましい置換基としては、アリール基に対して
は炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキ
ル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基および
ハロゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数1〜
8のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基である。
In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Preferred substituents include an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group,
Aryl group, alkoxy group, nitro group, carboxy group,
Examples include an alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a mercapto group, and a halogen atom. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Preferred are an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and substituted derivatives thereof. Preferred substituents are an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group and a halogen atom for the aryl group, and a substituent for the alkyl group. Carbon number 1
8 is an alkoxy group, a carboxyl group, or an alkoxycarbonyl group.

【0024】Z- は対アニオンを示し、例えば、B
4 、AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、Si
6 2- 、ClO4 - 、CF3 SO3 - 等のパーフルオロ
アルカンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼン
スルホン酸アニオン、ナフタレン−1−スルホン酸アニ
オン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、アントラ
キノンスルホン酸アニオン、9,10−ジメトキシアン
トラセン−2−スルホン酸アニオン、スルホン酸基含有
染料等を挙げることができるがこれらに限定されるもの
ではない。また、R3 、R4 及びR5 のうちの2つ並び
にAr1 及びAr2 はそれぞれの単結合又は置換基を介
して結合してもよい。
Z-Represents a counter anion, for example, B
FFour, AsF6 -, PF6 -, SbF6 -, Si
F6 2-, ClOFour -, CFThreeSOThree -Perfluoro such as
Alkanesulfonic acid anion, pentafluorobenzene
Sulfonic acid anion, naphthalene-1-sulfonic acid ani
Condensed polynuclear aromatic sulfonate anions such as on
Quinone sulfonate anion, 9,10-dimethoxyan
Toracene-2-sulfonic acid anion, containing sulfonic acid group
Dyes and the like can be mentioned, but are not limited to these
is not. Also, RThree, RFourAnd RFiveTwo of them
Ar1And ArTwoIs through each single bond or substituent
May be combined.

【0025】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

【0026】[0026]

【化5】 Embedded image

【0027】[0027]

【化6】 Embedded image

【0028】一般式(PAG3)又は(PAG4)で示
される上記オニウム塩は公知であり、例えば、J.W.Knap
czyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91,145(1969)、A.L.
Maycok et al., J.Org. Chem., 35,2532,(1970) 、E.Go
ethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg., 73,546,(196
4) 、H.M.Leicester 、J. Ame. Chem. Soc., 51,3587(1
929) 、J.V.Crivello et al., J.Polym. Chem. Ed., 1
8,2677(1980)、米国特許第2,807,648 号及び同4,247,47
3 号、特開昭53-101,331号等に記載の方法により合成す
ることができる。 (3)下記一般式(PAG5)で表されるジスルホン誘
導体又は一般式(PAG6)で表されるイミノスルホネ
ート誘導体。
The above-mentioned onium salts represented by the general formula (PAG3) or (PAG4) are known, for example, JWKnap
czyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), AL
Maycok et al., J. Org.Chem., 35, 2532, (1970), E. Go
ethas et al., Bull.Soc.Chem.Belg., 73,546, (196
4), HM Leicester, J. Ame.Chem. Soc., 51, 3587 (1
929), JVCrivello et al., J. Polym. Chem. Ed., 1
8,2677 (1980); U.S. Pat.Nos. 2,807,648 and 4,247,47
No. 3, JP-A-53-101,331 and the like. (3) Disulfone derivatives represented by the following general formula (PAG5) or iminosulfonate derivatives represented by the following general formula (PAG6).

【0029】[0029]

【化7】 Embedded image

【0030】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換
又は無置換のアリール基を示す。R 6 は置換若しくは無
置換のアルキル基又はアリール基を示す。Aは置換若し
くは無置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリー
レン基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
Where ArThreeAnd ArFourAre replaced independently
Or an unsubstituted aryl group. R 6Is replaced or nothing
It represents a substituted alkyl group or an aryl group. A is replacement
Or unsubstituted alkylene group, alkenylene group or aryl
Represents a len group. Specific examples include the compounds shown below.
However, the present invention is not limited to these.

【0031】[0031]

【化8】 Embedded image

【0032】[0032]

【化9】 Embedded image

【0033】これら酸発生剤の添加量は、平版印刷材料
の全固形分を基準として通常0.001〜40重量%の
範囲で用いられ、好ましくは0.01〜20重量%、さ
らに好ましくは0.1〜5重量%の範囲で使用される。
The amount of the acid generator is usually in the range of 0.001 to 40% by weight, preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0 to 20% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing material. It is used in the range of 0.1 to 5% by weight.

【0034】[酸架橋性化合物]本発明に係る平版印刷
材料に使用される酸架橋性化合物とは、酸の存在下で架
橋する化合物を指し、例えば、ヒドロキシメチル基、ア
セトキシメチル基、若しくはアルコキシメチル基でポリ
置換されている芳香族化合物及び複素環化合物が挙げら
れるが、その中でも好ましい例として、フェノール類と
アルデヒド類を塩基性条件下で縮合させた化合物が挙げ
られる。前記の化合物のうち好ましいものとしては、例
えば、フェノールとホルムアルデヒドを前記のように塩
基性条件下で縮合させた化合物、同様にして、m−クレ
ゾールとホルムアルデヒドから得られる化合物、ビスフ
ェノールAとホルムアルデヒドから得られる化合物、
4,4’−ビスフェノールとホルムアルデヒドから得ら
れる化合物、その他、GB第2,082,339号にレ
ゾール樹脂として開示された化合物等が挙げられる。こ
れらの酸架橋性化合物は、重量平均分子量が500〜1
00,000で数平均分子量が200〜50,000の
ものが好ましい。
[Acid-Crosslinkable Compound] The acid-crosslinkable compound used in the lithographic printing material according to the present invention refers to a compound which crosslinks in the presence of an acid, such as a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxy group. Aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted by a methyl group are mentioned, and a preferable example is a compound obtained by condensing phenols and aldehydes under basic conditions. Preferred among the above compounds are, for example, compounds obtained by condensing phenol and formaldehyde under basic conditions as described above, similarly, compounds obtained from m-cresol and formaldehyde, and compounds obtained from bisphenol A and formaldehyde. Compound,
Compounds obtained from 4,4'-bisphenol and formaldehyde, and other compounds disclosed as resol resins in GB 2,082,339 are exemplified. These acid crosslinking compounds have a weight average molecular weight of 500 to 1
Those having a number average molecular weight of 200,000 to 50,000 and a molecular weight of 00000, are preferred.

【0035】他の好ましい例としては、EP−A第0,
212,482号に開示されているアルコキシメチル又
はオキシラニルメチル基で置換された芳香族化合物、E
P−A第0,133,216号、DE−A第3,63
4,671号、DE第3,711,264号に開示され
た単量体及びオリゴマーメラミン−ホルムアルデヒド縮
合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A第
0,212,482号に開示されたアルコキシ置換化合
物等がある。さらに他の好ましい例は、例えば、少なく
とも2個の遊離N−ヒドロキシメチル、N−アルコキシ
メチル又はN−アシルオキシメチル基を有するメラミン
−ホルムアルデヒド誘導体である。このなかでは、N−
アルコキシメチル誘導体が特に好ましい。また、低分子
量又はオリゴマーシラノールは、ケイ素含有架橋剤とし
て使用できる。これらの例は、ジメチル−及びジフェニ
ル−シランジオール、並びに既に予備縮合され且つこれ
らの単位を含有するオリゴマーであり、例えば、EP−
A第0,377,155号に開示されたものを使用でき
る。
Another preferred example is EP-A No. 0,
An aromatic compound substituted with an alkoxymethyl or oxiranylmethyl group disclosed in U.S. Pat.
P-A No. 0,133,216, DE-A No. 3,63
4,671, monomer and oligomer melamine-formaldehyde condensates and urea-formaldehyde condensates disclosed in DE 3,711,264; alkoxy substitution disclosed in EP-A 0,212,482 Compounds. Still other preferred examples are, for example, melamine-formaldehyde derivatives having at least two free N-hydroxymethyl, N-alkoxymethyl or N-acyloxymethyl groups. Among them, N-
Alkoxymethyl derivatives are particularly preferred. Also, low molecular weight or oligomeric silanols can be used as silicon-containing crosslinkers. Examples of these are dimethyl- and diphenyl-silanediols and oligomers which have already been precondensed and contain these units, for example EP-
No. 0,377,155 can be used.

【0036】アルコキシメチル基でポリ置換された芳香
族化合物及び複素環化合物のなかでは、ヒドロキシル基
に隣接する位置にアルコキシメチル基を有し、且つその
アルコキシメチル基のアルコキシ基が炭素数18以下の
化合物を好ましい例として挙げることができ、特に好ま
しい例として、下記一般式(1)〜(4)の化合物を挙
げることができる。
Among the aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with an alkoxymethyl group, the compound has an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxyl group, and the alkoxy group of the alkoxymethyl group has 18 or less carbon atoms. Compounds can be mentioned as preferable examples, and particularly preferable examples include compounds represented by the following general formulas (1) to (4).

【0037】[0037]

【化10】 Embedded image

【0038】[0038]

【化11】 Embedded image

【0039】式中L1 〜L8 は同じであっても異なって
いてもよく、メトキシメチル、エトキシメチル等のよう
に炭素数18以下のアルコキシ基で置換された、アルコ
キシメチル基を示す。これらは架橋効率が高く、耐刷性
を向上させることができる点で好ましい。上記の熱によ
り架橋する化合物は、1種類のみで使用してもよいし、
2種類以上を組み合わせて使用してもよい。本発明に係
る酸架橋性化合物は平版印刷材料の全固形分中、5〜8
0重量%、好ましくは10〜75重量%、特に好ましく
は20〜70重量%の添加量で用いられる。酸架橋性化
合物の添加量が5重量%未満であると得られる平版印刷
材料の感光層の耐久性が悪化し、また、80重量%を越
えると保存時の安定性の点で好ましくない。
In the formula, L 1 to L 8 may be the same or different and represent an alkoxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like. These are preferred because they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability. The above compounds that are crosslinked by heat may be used alone,
Two or more types may be used in combination. The acid-crosslinkable compound according to the present invention accounts for 5 to 8 in the total solids of the lithographic printing material.
It is used in an amount of 0% by weight, preferably 10 to 75% by weight, particularly preferably 20 to 70% by weight. If the amount of the acid-crosslinkable compound is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the resulting lithographic printing material is deteriorated, and if it exceeds 80% by weight, the storage stability is not preferred.

【0040】[ノボラック樹脂]本発明に係る平版印刷
材料に使用されるノボラック樹脂は、フェノール類とア
ルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂である。好ま
しいノボラック樹脂としては、例えば、フェノールとホ
ルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレ
ゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドから
得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルム
アルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−/p−混
合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラッ
ク樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,o−又
はm−/p−,m−/o−,o−/p−混合のいずれで
もよい)の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボ
ラック樹脂等が挙げられる。これらのノボラック樹脂
は、重量平均分子量が800〜200,000で数平均
分子量が400〜60,000のものが好ましい。ま
た、これらのノボラック樹脂は1種類のみで使用しても
よいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。本
発明において、これらのノボラック樹脂は平版印刷材料
の全固形分中、5〜90重量%、好ましくは10〜85
重量%、特に好ましくは20〜80重量%の添加量で用
いられる。ノボラック樹脂の添加量が5重量%未満であ
ると感光層の耐久性が悪化し、また、90重量%を越え
ると感度及び耐久性の両面で好ましくない。
[Novolak resin] The novolak resin used in the lithographic printing material according to the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolak resins include, for example, a novolak resin obtained from phenol and formaldehyde, a novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde, a novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, a novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, Novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- / o-, o -/ P- mixture) and a novolak resin obtained from formaldehyde. These novolak resins preferably have a weight average molecular weight of 800 to 200,000 and a number average molecular weight of 400 to 60,000. These novolak resins may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, these novolak resins are 5 to 90% by weight, preferably 10 to 85% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing material.
%, Particularly preferably from 20 to 80% by weight. If the amount of the novolak resin is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer deteriorates, and if it exceeds 90% by weight, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability.

【0041】〔その他の成分〕本発明の製造方法を適用
し得る平版印刷材料は、上述の4つの成分が必須である
が、必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加して
も良い。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画
像の着色剤として使用することができる。 具体的には
オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505
(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュ
アブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)など、あるいは特開昭62−29
3247号公報に記載されている染料を挙げることがで
きる。これらの染料は、画像形成後、画像部と非画像部
の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。尚、
添加量は、平板印刷材料全固形分に対し、0.01〜1
0重量%の割合である。
[Other Components] In the lithographic printing material to which the production method of the present invention can be applied, the above-mentioned four components are essential, but various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black B
Y, oil black BS, oil black T-505
(Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc., or JP-A-62-29
Dyes described in Japanese Patent No. 3247 can be exemplified. These dyes are preferably added because the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. still,
The addition amount is 0.01 to 1 based on the total solid content of the lithographic printing material.
0% by weight.

【0042】また、本発明に係る平板印刷材料中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭6
2−251740号公報や特開平3−208514号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上
記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の平板印刷
材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好まし
く、より好ましくは0.1〜5重量%である。
In the lithographic printing material according to the present invention,
Japanese Patent Application Laid-Open No.
Nonionic surfactants as described in JP-A-2-251740 and JP-A-3-208514, and amphoteric as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. Surfactants can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N
-Tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo KK) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the lithographic printing material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0043】更に本発明に係る平板印刷材料中には必要
に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加え
られる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコ
ール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル
酸ジブチル、フタル酸ジへキシル、フタル酸ジオクチ
ル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸ト
リオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アク
リル酸またはメタアクリル酸のオリゴマーおよびポリマ
ー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the lithographic printing material according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butyl phthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or Oligomers and polymers of methacrylic acid are used.

【0044】これら以外にも、前述のオニウム塩やハロ
アルキル置換されたS−トリアジン、及びエポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらには特願平7−18120
に記載のヒドロキシメチル基を持つフェノール化合物、
アルコキシメチル基を有するフェノール化合物等を添加
しても良い。
Other than these, the above-mentioned onium salts, haloalkyl-substituted S-triazines, epoxy compounds, vinyl ethers, and Japanese Patent Application No. 7-18120.
A phenol compound having a hydroxymethyl group according to
A phenol compound having an alkoxymethyl group may be added.

【0045】本発明に係る平板印刷材料は、通常上記各
成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すること
により製造することができる。ここで使用する溶媒とし
ては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等をあげることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度
は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によ
って異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的に
0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布する方法として
は、種々の方法を用いることができるが、例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の
皮膜特性は低下する。
The lithographic printing material according to the present invention can be usually produced by dissolving the above-mentioned components in a solvent and applying the resulting solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene,
Water and the like can be given, but not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred for lithographic printing plates. As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0046】本発明における平板印刷材料中には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1
70950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全
平板印刷材料固形分中0.01〜1重量%さらに好まし
くは0.05〜0.5重量%である。
In the lithographic printing material of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-1
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-70950 can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing material.

【0047】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above.

【0048】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好
ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2
mm〜0.8mmである。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.4 mm.
mm to 0.8 mm.

【0049】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, a method combining both of them can be used as disclosed in JP-A-54-63902. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid,
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0050】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間1
0秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウ
ム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使
用される親水化処理としては、米国特許第2,714,
066号、同第3,181,461号、第3,280,
734号および第3,902,734号に開示されてい
るようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリ
ウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体が
ケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまたは電解
処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示
されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第
3,276,868号、同第4,158,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified unconditionally. Generally, however, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , voltage 1-100V, electrolysis time 1
A range of 0 seconds to 5 minutes is appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. So-called "scratch dirt" tends to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. The hydrophilic treatment used in the present invention includes, for example, US Pat.
No. 066, No. 3,181,461, No. 3,280,
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. Further, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,158,461 and 4,689,272 are disclosed. A method of treating with polyvinyl phosphonic acid as described above is used.

【0051】本発明に係る平板印刷材料は、必要に応じ
て支持体上に下塗層を設けることができる。下塗層成分
としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボ
キシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、
2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホ
スホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン
酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセ
ロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジ
ホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよ
いフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸お
よびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有して
もよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、
アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸など
の有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのア
ミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などの
ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる
が、2種以上混合して用いてもよい。有機下塗層の被覆
量は、2〜200mg/m2が適当である。
In the lithographic printing material according to the present invention, an undercoat layer can be provided on the support, if necessary. Various organic compounds are used as the undercoat layer component, for example, carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic,
Phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid Organic phosphonic acid, phenylphosphoric acid optionally having a substituent, naphthylphosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, phenylphosphinic acid optionally having a substituent, naphthylphosphinic acid,
Selected from organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as hydrochloride of triethanolamine. You may use it. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 .

【0052】以上のようにして、本発明に係る平板印刷
材料を用いた平版印刷用版材を作成することができる。
この平版印刷用版材は、波長760nmから1200nmの
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画
像露光される。本発明においては、レーザ照射後すぐに
現像処理を行っても良いが、レーザ照射工程と現像工程
の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件
は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分間行うこ
とが好ましい。この加熱処理により、レーザ照射時、記
録に必要なレーザエネルギーを減少させることができ
る。
As described above, a lithographic printing plate using the lithographic printing material according to the present invention can be prepared.
This lithographic printing plate material is image-exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the laser irradiation, but it is preferable to perform the heating treatment between the laser irradiation step and the developing step. The heat treatment is preferably performed in a range of 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0053】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
に係る平板印刷材料はアルカリ性水溶液にて現像され
る。本発明に係る平板印刷材料の現像液および補充液と
しては従来より知られているアルカリ水溶液が使用でき
る。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第3
リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3リン酸ア
ンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン酸カリウ
ム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、水酸化ナト
リウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウムおよび水
酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。ま
た、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピ
リジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのア
ルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用いら
れる。これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水
溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素
SiO2 とアルカリ金属酸化物M2 Oの比率と濃度によ
って現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特
開昭54−62004号公報、特公昭57−7427号
に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に
用いられる。
After performing a heat treatment as required, the lithographic printing material according to the present invention is developed with an alkaline aqueous solution. As the developer and replenisher for the lithographic printing material according to the present invention, conventionally known aqueous alkaline solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, third
Sodium phosphate, tribasic potassium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate And inorganic alkali salts such as ammonium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and the concentration of the silicon oxide SiO 2 and the alkali metal oxide M 2 O which are the components of the silicate. For example, JP-A-54-62004 discloses An alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.

【0054】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材版を処
理できることが知られている。本発明においてもこの補
充方式が好ましく適用される。現像液および補充液には
現像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像
部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面
活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤と
しては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両
性界面活性剤があげられる。更に現像液および補充液に
は必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫
酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟
化剤を加えることもできる。上記現像液および補充液を
用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を
含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不
感脂化液で後処理される。本発明に係る平板印刷材料を
印刷用版材として使用する場合の後処理としては、これ
らの処理を種々組み合わせて用いることができる。
In the case of performing development using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of lithographic printing plate material can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as required for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing when the lithographic printing material according to the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations.

【0055】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally consists of a developing section and a post-processing section, and consists of a device for transporting printing plate material, each processing solution tank and a spray device, and pumps the exposed printing plate horizontally while pumping it. Each processing liquid is sprayed from a spray nozzle to perform development processing.
Recently, a method has been known in which a printing plate material is immersed and transported by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid, and the processing is performed. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0056】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング面に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。整面
液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥重
量)が適当である。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum as required, but when a lithographic printing plate having a higher printing durability is desired to be obtained. Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, make sure that the burning surface is
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 1859 and 61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. In general, it is appropriate that the amount of the surface conditioning liquid applied is 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry weight).

【0057】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従
来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶
性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合に
はガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略すること
ができる。この様な処理によって得られた平版印刷版は
オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いら
れる。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then heated to a high temperature using a burning processor (for example, BP-1300, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 180 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred. The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary.However, a surface conditioning liquid containing a water-soluble polymer compound or the like is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0058】[0058]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 厚さ0.30mmのアルミニウム板(材質1050)をト
リクロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシ
と400メッシュのパミストン−水懸濁液を用いてその
表面を砂目立てし、よく水で洗浄した。この板を45℃
の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッ
チングを行い水洗後、更に2%HNO3により20秒間
浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング
量は約3g/m2であった。次にこの板を7%H2 SO4
を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/m2の直流
陽極酸化被膜を設けた後、水洗乾燥した。次にこのアル
ミニウム板に下記下塗り液を塗布し、80℃、30秒乾
燥した。乾燥後の被覆量は10mg/m2であった。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.30 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then its surface was grained using a nylon brush and a 400-mesh pumistone-water suspension, and washed well with water. did. 45 ℃
The substrate was immersed in a 25% aqueous sodium hydroxide solution for 9 seconds to perform etching, washed with water, and further immersed in 2% HNO 3 for 20 seconds to wash with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, the plate was placed in 7% H 2 SO 4
Was used as an electrolyte to form a 3 g / m 2 DC anodic oxide coating at a current density of 15 A / dm 2 , and then washed with water and dried. Next, the following undercoat liquid was applied to this aluminum plate, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coated amount after drying was 10 mg / m 2 .

【0059】 (下塗り液) β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g 更にこのアルミニウム板に、下記感光液をp−トルエン
スルホン酸のトリエチルアミン塩を添加してpH5.0
に調整した塗布液を塗布し、100℃で2分間乾燥して
ネガ型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布液重量は
2.0g/m2であった。なお、この感光液の調製前のp
Hは8.0であった。
(Undercoat solution) β-alanine 0.1 g Phenylphosphonic acid 0.05 g Methanol 40 g Pure water 60 g Further, the following photosensitive solution was added to this aluminum plate by adding triethylamine salt of p-toluenesulfonic acid to pH 5.0.
, And dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate. The weight of the coating liquid after drying was 2.0 g / m 2 . In addition, p before the preparation of this photosensitive solution
H was 8.0.

【0060】 (感光液) 赤外線吸収剤 0.1g (商品名:NK―2014、日本感光色素研究所(株)製) 4−(p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル) アミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル) −S−トリアジン 0.1g クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 1.2g (メタ:パラ比=8:2、重量平均分子量5800) ビスフェノールAとホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂 1.0g (重量平均分子量1600) ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 0.05g フッ素系界面活性剤 0.06g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 20g メチルアルコール 7g pH調製剤(p−トルエンスルホン酸トリエチルアミン塩) 0.01g(Photosensitive solution) Infrared absorbent 0.1 g (trade name: NK-2014, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories, Inc.) 4- (p-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl)- 2,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine 0.1 g Novolak resin obtained from cresol and formaldehyde 1.2 g (meta: para ratio = 8: 2, weight average molecular weight 5800) Resole obtained from bisphenol A and formaldehyde Resin 1.0 g (weight average molecular weight 1600) Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.05 g Fluorosurfactant 0.06 g (MegaFac F-177, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 20 g of methyl ethyl ketone 7 g of methyl alcohol pH adjuster (p -Toluenesulfonic acid triethylamine salt) 0.01 g

【0061】得られたネガ型平版印刷用版材を、ヒート
モードレーザとしての半導体レーザ(波長825nm、
ビーム径:1/e2 =6μm)を用い、線速度8m/s
ecで版面出力110mWに調節し、露光した。露光後
110℃で1分間加熱処理した後、富士写真フイルム
(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス液FR−
3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処理した。
次いで富士写真フイルム(株)製ガムGU−7(1:
1)で版面を処理し、ハイデルKOR−D機で印刷し
た。非画像部に汚れのない良好な印刷物が6万5千枚得
られた。
The obtained negative type lithographic printing plate was treated with a semiconductor laser (wavelength: 825 nm,
Beam diameter: 1 / e 2 = 6 μm) and a linear velocity of 8 m / s
The plate output was adjusted to 110 mW by ec, and exposure was performed. After a heat treatment at 110 ° C. for 1 minute after the exposure, a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8), a rinsing solution FR-
3 (1: 7) through an automatic processor.
Next, gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
The plate was processed in 1) and printed with a Heidel KOR-D machine. 65,000 good prints without stains on the non-image area were obtained.

【0062】比較例1 実施例1に於いて、感光液のpHを調節せずそのまま塗
布液として用いた。塗布液のpHを測定したところ8.
0であった。実施例1と同様の露光、加熱処理、現像及
びそれに続く処理を行い、印刷を行ったが、不明瞭な弱
々しい印刷画像しか得られなかった。
Comparative Example 1 In Example 1, the coating solution was used as it was without adjusting the pH of the photosensitive solution. 7. The pH of the coating solution was measured.
It was 0. Exposure, heat treatment, development and subsequent treatments were carried out in the same manner as in Example 1, and printing was performed. However, only indistinct and weak print images were obtained.

【0063】実施例2〜4 (架橋剤の合成)1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロ
キシフェニル)エチル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン20gを水酸化カ
リウム水溶液(10%)100mlに溶解させた。この反
応液にホルマリン(37%)60mlを室温で撹拌しなが
ら1時間かけて滴下した。反応液を室温にてさらに6時
間撹拌した後、硫酸水溶液中に投入し、晶析させた。得
られたペースト状沈殿をよく水洗した後、メタノール3
0mlを用いて再結晶することにより、白色粉末を得た。
収量20g。得られた化合物は、NMRにより1−〔α
−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕−
4−〔α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチ
ル〕ベンゼンのヘキサメチロール化物であることがわか
った。逆相HPLC(カラム:Shimpac CLC−ODS
(島津製作所製)、溶媒:メタノール/水=60/40
→90/10)によるヘキサメチロール化物の純度は9
2%であった。
Examples 2 to 4 (Synthesis of Crosslinking Agent) 20 g of 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene Was dissolved in 100 ml of aqueous potassium hydroxide solution (10%). 60 ml of formalin (37%) was added dropwise to this reaction solution over 1 hour while stirring at room temperature. After the reaction solution was further stirred at room temperature for 6 hours, it was poured into an aqueous sulfuric acid solution to cause crystallization. After thoroughly washing the obtained paste-like precipitate with water, methanol 3
Recrystallization using 0 ml gave a white powder.
Yield 20 g. The obtained compound was analyzed by NMR for 1- [α
-Methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl]-
It was found to be hexamethylolated 4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene. Reversed phase HPLC (column: Shimpac CLC-ODS
(Manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40
→ → 90/10) The purity of the hexamethylolated product is 9
2%.

【0064】このヘキサメチロ−ル化合物20gをメタ
ノール1000mlに加温溶解させ、濃硫酸1mlを加え1
2時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭酸カリウム2
gを加え、さらに撹拌後、濃縮し、酢酸エチル300ml
を加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、白色固体を得
た。収量22g。得られた化合物は、NMRにより1−
〔α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エチ
ル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
エチル〕ベンゼンのヘキサメトキシメチル化物であるこ
とがわかった。逆相HPLC(カラム:Shimpac CLC
−ODS(島津製作所製)、溶媒:メタノール/水=6
0/40→90/10)によるヘキサメトキシメチル化
物の純度は90%であった。
20 g of this hexamethylol compound was dissolved by heating in 1000 ml of methanol, and 1 ml of concentrated sulfuric acid was added thereto.
The mixture was heated under reflux for 2 hours. After cooling the reaction solution, potassium carbonate 2
g, and the mixture was further stirred and concentrated.
After washing with water and drying, the solvent was distilled off to obtain a white solid. Yield 22 g. The obtained compound was analyzed by NMR for 1-
[Α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl)
[Ethyl] benzene was found to be hexamethoxymethylated. Reversed phase HPLC (column: Shimpac CLC
-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 6
(0/40 → 90/10), the purity of the hexamethoxymethylated product was 90%.

【0065】(平版印刷版の製造)実施例1と同様に処
理し、下塗りしたアルミニウム板に、下記感光液をp−
トルエンスルホン酸のトリエチルアミン塩を添加して、
pHを3.0、4.0、5.0に調節した塗布液をそれ
ぞれ塗布し、100℃で2分間乾燥してネガ型感光性平
版印刷版A、B、Cを得て、それぞれ実施例2、3、4
とした。乾燥後の感光層重量は2.0g/m2であった。
この感光液の未調整のpHは2.5を示した。
(Production of a lithographic printing plate) The following photosensitive solution was applied to an undercoated aluminum plate treated in the same manner as in Example 1,
Add the triethylamine salt of toluenesulfonic acid,
Each of the coating solutions whose pH was adjusted to 3.0, 4.0 and 5.0 was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain negative photosensitive lithographic printing plates A, B and C, respectively. 2, 3, 4
And The weight of the photosensitive layer after drying was 2.0 g / m 2 .
The unadjusted pH of this photosensitive solution was 2.5.

【0066】 (感光液) 下記構造式を有する赤外線吸収色素 0.1g 前記架橋剤 0.21g フェノール−ホルムアルデヒドノボラック 2.1g (重量平均分子量12000) ジフェニルヨードニウム 9,10―ジメトキシ アントラセンスルホネート 0.02g フッ素系界面活性剤 0.06g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 15g 2−メトキシ−1−プロパノール 12g(Photosensitive solution) Infrared absorbing dye having the following structural formula 0.1 g Crosslinking agent 0.21 g Phenol-formaldehyde novolak 2.1 g (weight average molecular weight 12000) Diphenyliodonium 9,10-dimethoxy anthracene sulfonate 0.02 g Fluorine 0.06 g (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) methyl ethyl ketone 15 g 2-methoxy-1-propanol 12 g

【0067】[0067]

【化12】 Embedded image

【0068】得られたネガ型平版印刷版A、B、Cを実
施例1と同様の条件で処理し、印刷したところ、実施例
2〜4のいずれも非画像部に汚れのない良好な印刷物が
得られた。この際得られた印刷枚数は6万枚であった。
The obtained negative type lithographic printing plates A, B, and C were processed and printed under the same conditions as in Example 1, and all of Examples 2 to 4 showed good prints without stain on the non-image area. was gotten. The number of prints obtained at this time was 60,000.

【0069】比較例2〜3 実施例2における感光液のpHを調製せずにそのまま用
い(pH2.5)、ネガ型平版印刷版Dを得て比較例2
とした。また前記pH未調製の塗布液を1日保存した後
に同様の条件で塗布し、ネガ型平版印刷版Eを得て比較
例3とした。これらを実施例1と同様の条件で処理し、
印刷したところ、ネガ型平版印圧版Dでは非画像部に汚
れが生じ、良好な印刷物は得られなかった。また、ネガ
型平版印刷版Eでは感度が大きく低下しており、良好な
印刷物は得られなかった。
Comparative Examples 2 to 3 The negative type lithographic printing plate D was obtained by directly using the photosensitive solution in Example 2 without adjusting the pH (pH 2.5) without preparing the same.
And After storing the coating solution whose pH was not adjusted for one day, it was coated under the same conditions to obtain a negative type lithographic printing plate E, which was designated as Comparative Example 3. These were processed under the same conditions as in Example 1,
As a result of printing, the negative type lithographic printing plate D was stained in the non-image area, and a good printed matter was not obtained. In the case of the negative type lithographic printing plate E, the sensitivity was greatly reduced, and no good printed matter was obtained.

【0070】[0070]

【発明の効果】本発明では、塗布液のpHを所定の範囲
に調節することにより、コンピューター等のデジタルデ
ータから直接製版可能であり、さらに保存時の安定性に
優れ、かつ印刷時の耐刷性が良好であるネガ型平版印刷
用版材を安定的に製造し得る製造方法を提供できる。
According to the present invention, by adjusting the pH of the coating solution within a predetermined range, plate making can be directly performed from digital data of a computer or the like, and furthermore, the stability during storage is excellent, and the printing durability during printing is excellent. A method for stably producing a negative type lithographic printing plate material having good properties can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/004 506 G03F 7/004 506 7/16 7/16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/004 506 G03F 7/004 506 7/16 7/16

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノボラック樹脂、酸発生剤、酸架橋性化
合物、赤外線吸収剤を含有する感光層塗布液を支持体に
塗布する工程を含むネガ平版印刷材料の製造方法であっ
て、 該塗布液を調製する際にそのpHを3〜7の範囲に調節
することを特徴とするネガ型平版印刷材料の製造方法。
1. A method for producing a negative lithographic printing material, comprising a step of applying a coating solution for a photosensitive layer containing a novolak resin, an acid generator, an acid-crosslinkable compound, and an infrared absorber to a support. Wherein the pH is adjusted to a range of 3 to 7 when preparing the lithographic printing plate material.
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