JPH11216964A - Laser direct drawing type lithographic printing plate material - Google Patents

Laser direct drawing type lithographic printing plate material

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Publication number
JPH11216964A
JPH11216964A JP10023292A JP2329298A JPH11216964A JP H11216964 A JPH11216964 A JP H11216964A JP 10023292 A JP10023292 A JP 10023292A JP 2329298 A JP2329298 A JP 2329298A JP H11216964 A JPH11216964 A JP H11216964A
Authority
JP
Japan
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group
printing plate
lithographic printing
binder
acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP10023292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsushi Kitatani
克司 北谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP10023292A priority Critical patent/JPH11216964A/en
Publication of JPH11216964A publication Critical patent/JPH11216964A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser direct drawing type lithographic printing plate material which has a high sensitivity, and is excellent in preservation stability, and also, excellent in printing property by a method wherein an alkali soluble binder, a substance which reduces the alkali solubility of this binder, and an infrared ray absorbing dye which does not reduce the alkali solubility, are used. SOLUTION: A positive type lithographic printing plate material by which a direct plate making is possible, is manufactured by containing an alkali soluble binder, a substance which substantially reduces the alkali solubility of the binder, and an infrared ray absorbing dye which does not substantially reduce the alkali solubility of the binder. As the infrared ray absorbing dye which does not substantially reduce the alkali solubility of the binder, one having a salt structure wherein the existing location of a coupled ion is limited in the same molecule, is preferable. In addition, an infrared ray absorbing dye which substantially reduces the alkali solubility of the binder may be contained. By this method, the range of an amount which can be added of the infrared ray absorbing dye is expanded, and a laser direct drawing lithographic printing plate material of a high sensitivity is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材とし
て使用できる画像記録材料に関するものであり、特にコ
ンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを用い直
接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なポジ型の
平版印刷版材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material which can be used as a lithographic printing plate material, and more particularly to a so-called direct lithographic, positive type lithographic plate which can directly make a plate by using an infrared laser from a digital signal of a computer or the like. Related to printing plate materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放
射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小型
のものが容易に入手できる様になっている。コンピュー
タ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源と
して、これらのレーザは非常に有用であり、830nm
付近に発光する半導体レーザ、及び、1064nmに発
光するYAGレーザを用いた、レーザ製版機が上市され
ている。しかし、実用上有用な多くの感光性記録材料
は、感光波長が760nm以下の可視光域であるため、
これらの赤外線レーザでは画像記録できない。このた
め、赤外線レーザで記録可能な材料が望まれている。
2. Description of the Related Art Lasers have been remarkably developed in recent years. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers which emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have become easily available in high power and small size. These lasers are very useful as a recording light source when directly making a plate from digital data of a computer or the like.
Laser plate making machines using a semiconductor laser that emits light in the vicinity and a YAG laser that emits light at 1064 nm are on the market. However, many photosensitive recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength in the visible light range of 760 nm or less.
Images cannot be recorded with these infrared lasers. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0003】このような赤外線レーザにて記録可能な記
録材料としては、特開昭56−69193号に開示され
ている、レゾール型フェノール樹脂、カーボンブラック
を含む感熱記録材料、特開平7−20629号に記載さ
れている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤より成る記録材料がある。また、
特開平7−271029号には、ハロアルキル置換され
たs−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、及
び赤外線吸収剤より成る記録材料が記載されている。し
かし、これらの記録材料は、感度、保存安定性、印刷適
性の観点より十分なものではなく、更なる改良が望まれ
ていた。
As a recording material recordable with such an infrared laser, a heat-sensitive recording material containing a resol type phenol resin and carbon black disclosed in JP-A-56-69193 and JP-A-7-20629 are disclosed. And a recording material comprising an onium salt, a resol resin, a novolak resin, and an infrared absorber. Also,
JP-A-7-271029 describes a recording material comprising a haloalkyl-substituted s-triazine, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber. However, these recording materials are not sufficient from the viewpoints of sensitivity, storage stability and printability, and further improvement has been desired.

【0004】平版印刷版材料において、赤外線吸収染料
は、レーザに対する感度を上げる為、ある程度多量の添
加量を必要とする。一方、該赤外線吸収染料を添加し過
ぎると、却って感度を低下させたり、印刷汚れを引き起
こしてしまう場合があり、最適な添加量に調整する必要
があるが、目標とする高感度が得られる最適な添加量領
域を見出すことができない場合もあった。
In a lithographic printing plate material, an infrared absorbing dye requires a certain amount of addition in order to increase the sensitivity to laser. On the other hand, if the infrared absorbing dye is added too much, the sensitivity may be lowered or printing smear may be caused, and it is necessary to adjust the addition amount to the optimum value. In some cases, it was not possible to find a suitable addition amount region.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピュータ等のデジタルデ
ータから直接製版可能であり、高感度であり、保存安定
性に優れ、かつ印刷適性に優れるレーザ直描型平版印刷
版材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to make a plate directly from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light, to provide high sensitivity, An object of the present invention is to provide a laser direct-writing type lithographic printing plate material having excellent storage stability and excellent printability.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的は、鋭意研究の
結果、以下の本発明により達成された。即ち本発明は、 (1)アルカリ可溶性バインダーと、該バインダーのア
ルカリ可溶性を実質的に低下させる物質と、前記バイン
ダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させない赤外線吸
収染料と、を含むことを特徴とするレーザ直描型平版印
刷版材料である。 (2)前記バインダーのアルカリ可溶性を実質的に低下
させない赤外線吸収染料が、対イオンの存在位置が同一
分子内に限られる塩構造を有することを特徴とする
(1)に記載のレーザ直描型平版印刷版材料である。 (3)更に前記バインダーのアルカリ可溶性を実質的に
低下させる赤外線吸収染料を含むことを特徴とする
(1)又は(2)に記載のレーザ直描型平版印刷版材料
である。
The above objects have been achieved by the present invention as a result of intensive studies. That is, the present invention is characterized by comprising (1) an alkali-soluble binder, a substance that substantially reduces the alkali solubility of the binder, and an infrared absorbing dye that does not substantially lower the alkali solubility of the binder. It is a laser direct drawing type planographic printing plate material. (2) The laser direct-writing type according to (1), wherein the infrared-absorbing dye that does not substantially reduce the alkali solubility of the binder has a salt structure in which the counter ion is located in the same molecule. It is a lithographic printing plate material. (3) The lithographic printing plate material according to (1) or (2), further comprising an infrared absorbing dye which substantially reduces the alkali solubility of the binder.

【0007】本発明者らは、鋭意研究の結果、赤外線吸
収染料の添加量過剰に伴う感度の低下は、赤外線吸収染
料自身が、バインダーのアルカリ可溶性を実質的に低下
させる作用を有する場合に起こることを突き止め、本発
明を完成するに至ったものである。即ち、バインダーの
アルカリ可溶性を実質的に低下させない赤外線吸収染料
を用いることにより、赤外線吸収染料の添加可能な量の
範囲を広げ、高感度なレーザ直描型平版印刷版材料を得
ることができる。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that a decrease in sensitivity due to excessive addition of an infrared absorbing dye occurs when the infrared absorbing dye itself has an action of substantially reducing the alkali solubility of a binder. This has led to the completion of the present invention. That is, by using an infrared-absorbing dye that does not substantially reduce the alkali solubility of the binder, the range of the amount in which the infrared-absorbing dye can be added is widened, and a highly sensitive laser direct-drawing lithographic printing plate material can be obtained.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明で用いられるバインダーのアルカリ可溶性
を実質的に低下させない赤外線吸収染料について説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
First, an infrared absorbing dye that does not substantially reduce the alkali solubility of the binder used in the present invention will be described.

【0009】〔バインダーのアルカリ可溶性を実質的に
低下させない赤外線吸収染料〕本発明で用いられるバイ
ンダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させない赤外線
吸収染料とは、それを用いてレーザ直描型平版印刷版材
料(以下、単に「平版印刷版材料」という場合があ
る。)を作製した時に、同時に用いられるアルカリ可溶
性バインダーの有するアルカリ可溶性を低下させること
のない、あるいは、僅かに低下させたとしても、平版印
刷版材料に要求されるバインダーとして十分なアルカリ
可溶性を保持し得る赤外線吸収染料をいう。
[Infrared absorbing dye which does not substantially reduce alkali solubility of binder] The infrared absorbing dye which does not substantially reduce alkali solubility of the binder used in the present invention is a laser direct drawing type lithographic printing plate using the same. When a material (hereinafter sometimes simply referred to as a "lithographic printing plate material") is prepared, the alkali solubility of an alkali-soluble binder used at the same time is not reduced, or even if it is slightly reduced, the lithographic printing plate material is used. An infrared absorbing dye capable of maintaining sufficient alkali solubility as a binder required for a printing plate material.

【0010】赤外線吸収染料の、アルカリ可溶性バイン
ダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させる性質の有無
は、特定のアルカリ可溶性バインダーを代表させて測定
することで、判断することができる。従って、本発明に
おいては、以下の判断指標により当該性質の有無を判断
することとする。
Whether or not the infrared absorbing dye has the property of substantially reducing the alkali solubility of the alkali-soluble binder can be determined by measuring a specific alkali-soluble binder as a representative. Therefore, in the present invention, the presence or absence of the property is determined based on the following determination index.

【0011】「赤外線吸収染料の、アルカリ可溶性バイ
ンダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させる性質の有
無の判断指標」以下に示す組成の試験塗布液を調製す
る。
"Indicator for judging whether infrared absorbing dye has property of substantially reducing alkali solubility of alkali-soluble binder" A test coating solution having the composition shown below is prepared.

【0012】 (試験塗布液の組成) ・アルカリ可溶性バインダー(クレゾールとホルムアルデヒ ドから得られるノボラック樹脂(メタ:パラ比=6:4、 重量平均分子量1,800) 2.00g ・測定対象となる赤外線吸収染料 0.20g ・メチルエチルケトン 20 g ・メチルアルコール 7 g(Composition of test coating solution) ・ Alkali-soluble binder (Novolak resin obtained from cresol and formaldehyde (meta: para ratio = 6: 4, weight average molecular weight 1,800) 2.00 g ・ Infrared to be measured Absorptive dye 0.20 g ・ Methyl ethyl ketone 20 g ・ Methyl alcohol 7 g

【0013】上記試験塗布液をポリエステルフィルムへ
塗布し、乾燥して試験フィルムXを得る。さらに、上記
試験塗布液から赤外線吸収染料を除いた対照塗布液を調
製し、同様に、ポリエステルフィルムへ塗布し、乾燥し
て対照フィルムBを得る。この試験フィルムXについ
て、それぞれUV光(400nm)の吸収量を測定した
(X1)。さらに、試験フィルムXおよび対照フィルム
Bを下記組成の現像液Aに30秒間浸漬する。
The test coating solution is applied to a polyester film and dried to obtain a test film X. Further, a control coating solution from which the infrared absorbing dye was removed from the test coating solution was prepared, applied to a polyester film in the same manner, and dried to obtain a control film B. About this test film X, the absorption amount of UV light (400 nm) was measured (X1). Further, the test film X and the control film B are immersed in a developer A having the following composition for 30 seconds.

【0014】 (現像液Aの組成) ・[SiO2 ]/[K2 O]モル比0.98で、SiO2 が2.0重量%の珪酸ナトリウム水溶液 99.8重量% ・ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸) 5Na塩 0.2重量%(Composition of Developer A) 99.8% by weight of an aqueous solution of sodium silicate containing 2.0% by weight of SiO 2 at a molar ratio of [SiO 2 ] / [K 2 O] of 0.98. Diethylene triamine penta (methylene) Phosphonic acid) 5Na salt 0.2% by weight

【0015】現像液Aに浸漬後の試験フィルムXおよび
対照フィルムBを水洗し、乾燥した後、それぞれUV光
(400nm)の吸収量を測定する(X2およびB
2)。この時、対照フィルムBには赤外線吸収剤が含ま
れないので、アルカリ可溶性バインダー本来のアルカリ
可溶性により、アルカリ性を示す現像液Aで表面の試験
塗布液の膜がほぼ全て除去される。これに対し、赤外線
吸収剤を含む試験フィルムXは、赤外線吸収剤の影響を
受けて、表面の試験塗布液の膜が一部残存する場合があ
る。この試験塗布液の残存率(%)は、即ちアルカリ可
溶性バインダーの残存率(%)であり、これはUV光の
吸収量の変化量で見ることができ、以下の式で表すこと
ができる。
After the test film X and the control film B immersed in the developing solution A are washed with water and dried, the absorption amounts of UV light (400 nm) are measured respectively (X2 and B).
2). At this time, since the control film B contains no infrared absorber, almost all of the film of the test coating solution on the surface is removed by the developer A showing alkalinity due to the alkali solubility inherent in the alkali-soluble binder. On the other hand, the test film X containing the infrared absorbing agent may be partially affected by the infrared absorbing agent, with a part of the surface of the test coating liquid remaining on the surface. The residual ratio (%) of the test coating solution is the residual ratio (%) of the alkali-soluble binder, which can be seen from the change in the amount of absorption of UV light and can be expressed by the following equation.

【0016】[0016]

【数1】 (Equation 1)

【0017】本発明において、こうして得られた残存率
(%)の値が5%を超えるものをアルカリ可溶性が実質
的に低下したとみなす。従って、本発明にいう「バイン
ダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させない赤外線吸
収染料」とは、上記判断指標の試験によって得られる残
存率の値が、5%以下のものをいう。
In the present invention, those having a residual ratio (%) exceeding 5% are regarded as having substantially reduced alkali solubility. Therefore, the term "infrared absorbing dye which does not substantially reduce the alkali solubility of the binder" in the present invention refers to a dye having a residual ratio of 5% or less obtained by the test of the above judgment index.

【0018】バインダーのアルカリ可溶性を実質的に低
下させない赤外線吸収染料としては、該染料の対イオン
の存在位置が同一分子内に限られる塩構造(以下、「分
子内塩型」という)が好ましい。バインダーのアルカリ
可溶性を実質的に低下させない赤外線吸収染料として
は、ヘスペリジンスクアリリウム色素、スクアリリウム
色素、クロコニウム色素、中性のメロシアニン色素、分
子内塩型のシアニン色素、フタロシアニン色素等が挙げ
られ、これらの中でも好ましくはヘスペリジンスクアリ
リウム色素であり、特に下記一般式(1)の化合物が好
ましい。一般式(1)
As the infrared absorbing dye which does not substantially reduce the alkali solubility of the binder, a salt structure in which the counter ion of the dye is located within the same molecule (hereinafter referred to as "intramolecular salt type") is preferable. Examples of the infrared absorbing dye that does not substantially reduce the alkali solubility of the binder include hesperidin squarylium dye, squarylium dye, croconium dye, neutral merocyanine dye, inner salt cyanine dye, and phthalocyanine dye. Hesperidin squarylium dye is preferred, and a compound represented by the following general formula (1) is particularly preferred. General formula (1)

【0019】[0019]

【化1】 Embedded image

【0020】上記一般式(1)中、R1 、R2 、R3
4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R 9 、R10、R11およ
びR12は、それぞれ水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基またはアシル基を表し、R1 とR2 、R3
4 、R5 とR6 、R7 とR8 、R9 とR10、R11とR
12、R2 とR3 、R6 とR7 、および、R10とR11から
選ばれる組み合わせのうち1つ以上が、それぞれ互いに
結合し5員環あるいは6員環を形成してもよい。nは0
もしくは1〜6の整数を表す。X1 、X2 およびX3
各々水素原子または1価の基を表し、mは1〜3の整数
を表す。
In the general formula (1), R1, RTwo, RThree,
RFour, RFive, R6, R7, R8, R 9, RTen, R11And
And R12Represents a hydrogen atom, an alkyl group,
Kill group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group,
A alkynyl group or an acyl group;1And RTwo, RThreeWhen
RFour, RFiveAnd R6, R7And R8, R9And RTen, R11And R
12, RTwoAnd RThree, R6And R7, And RTenAnd R11From
One or more of the selected combinations
They may combine to form a 5- or 6-membered ring. n is 0
Alternatively, it represents an integer of 1 to 6. X1, XTwoAnd XThreeIs
Each represents a hydrogen atom or a monovalent group, and m is an integer of 1 to 3
Represents

【0021】詳しくは、一般式(1)においてR1 から
12で表されるアルキル基としては、炭素数1〜20、
より好ましくは1〜12のアルキル基(例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ウンデシ
ル)である。また、ハロゲン原子(例えば、F、Cl、
Br)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル)、ヒドロキシ、アルコキ
シ(例えば、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、イソブ
トキシ)、カルボキシル、スルホまたはアシルオキシ
(例えば、アセチルオキシ、ブチリルオキシ、ヘキシリ
ルオキシ、ベンゾイルオキシ)等で置換されていてもよ
い。R1 からR12で表されるシクロアルキル基として
は、シクロペンチル、シクロへキシル等を挙げることが
でき、上記アルキル基で述べた置換基で置換されていて
もよい。
More specifically, in the general formula (1), the alkyl group represented by R 1 to R 12 has 1 to 20 carbon atoms.
More preferably, they are 1-12 alkyl groups (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, undecyl). Further, a halogen atom (for example, F, Cl,
Br), alkoxycarbonyl (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), hydroxy, alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, phenoxy, isobutoxy), carboxyl, sulfo or acyloxy (eg, acetyloxy, butyryloxy, hexylyloxy, benzoyloxy) And so on. Examples of the cycloalkyl group represented by R 1 to R 12 include cyclopentyl, cyclohexyl, and the like, and may be substituted with the substituent described for the alkyl group.

【0022】R1 からR12で表されるアリール基として
は、炭素数6〜12のものが好ましく、例えばフェニル
基またはナフチル基等が挙げられる。アリール基は、置
換されていてもよい。置換基としては、炭素数1〜8の
アルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル)、炭素
数1〜6のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキ
シ)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、p−ク
ロロフェノキシ)、ハロゲン原子(例えば、F、Cl、
Br)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル)、シアノ基、ニトロ
基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ
基、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、プロピ
オニルアミノ等)およびアシルオキシ基(例えば、アセ
チルオキシ、ブチリルオキシ等)が含まれる。
The aryl group represented by R 1 to R 12 preferably has 6 to 12 carbon atoms, such as a phenyl group or a naphthyl group. Aryl groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl, ethyl and butyl), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy and ethoxy), and an aryloxy group (for example, phenoxy and p-chloro). Phenoxy), halogen atoms (eg, F, Cl,
Br), an alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a cyano group, a nitro group, a sulfo group, a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, an acylamino group (for example, acetylamino, propionylamino and the like) and an acyloxy group ( For example, acetyloxy, butyryloxy, etc.) are included.

【0023】R1 からR12で表されるアラルキル基とし
ては、炭素数7〜12のアラルキル基が好ましく(例え
ば、ベンジル、フェニルエチル)、置換基(例えば、メ
チル、メトキシ、クロル原子)を有していてもよい。R
1 からR12で表されるアルケニル基としては、2−ペン
テニル、2−ブテニル、1−プロペニルおよび2−プロ
ペニル等を挙げることができる。R1 からR12で表され
るアルキニル基としては、エチニルおよび2−プロピニ
ル等を挙げることができる。R1 からR12で表されるア
シル基としては、アセチル、プロピオニルおよびベンゾ
イル等を挙げることができ、環を形成していてもよい。
一般式(1)においてX1 、X2 およびX3 で表される
1価の基としては、上記アリール基で述べた置換基が挙
げられる。
The aralkyl group represented by R 1 to R 12 is preferably an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl, phenylethyl), and has a substituent (eg, a methyl, methoxy, chloro atom). It may be. R
1 The alkenyl group represented by R 12, 2-pentenyl, 2-butenyl, may be mentioned 1-propenyl and 2-propenyl. Examples of the alkynyl group represented by R 1 to R 12 include ethynyl and 2-propynyl. Examples of the acyl group represented by R 1 to R 12 include acetyl, propionyl, benzoyl, and the like, and may form a ring.
In the general formula (1), examples of the monovalent group represented by X 1 , X 2 and X 3 include the substituents described above for the aryl group.

【0024】一般式(1)において、nは0あるいは1
〜6の整数を表し、各化合物は単独であっても混合物で
あっても構わない。混合物の場合には、nが0と1の混
合物、nが1と2の混合物、nが2と3の混合物、nが
3と4の混合物、nが0、1および2の混合物、nが
1、2および3の混合物、nが0、1、2および3の混
合物、nが0、1、2、3および4の混合物等あらゆる
組み合わせであってもよい。
In the general formula (1), n is 0 or 1
Represents an integer of from 6 to 6, and each compound may be used alone or in a mixture. In the case of a mixture, n is a mixture of 0 and 1, n is a mixture of 1 and 2, n is a mixture of 2 and 3, n is a mixture of 3 and 4, n is a mixture of 0, 1 and 2, n is Any combination such as a mixture of 1, 2, and 3, n is 0, 1, 2, and 3, and n is 0, 1, 2, 3, and 4 may be used.

【0025】本発明において、好適に用いられる上記一
般式(1)で表されるヘスペリジンスクアリリウム色素
(ジヒドロペリミジンスクアリリウム化合物)の具体例
を以下に示す。
Specific examples of the hesperidin squarylium dye (dihydroperimidine squarylium compound) preferably used in the present invention and represented by the above general formula (1) are shown below.

【0026】[0026]

【化2】 Embedded image

【0027】[0027]

【化3】 Embedded image

【0028】[0028]

【化4】 Embedded image

【0029】[0029]

【化5】 Embedded image

【0030】[0030]

【化6】 Embedded image

【0031】以下に、前記「赤外線吸収染料のアルカリ
可溶性バインダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させ
る性質の有無の判断指標」の試験によって得られる具体
的な残存率(%)の値の一例を示す。
The following is an example of specific values of the residual ratio (%) obtained by the test of the above-mentioned "index for judging the presence or absence of the property of substantially reducing the alkali solubility of the alkali-soluble binder of the infrared absorbing dye". .

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】本発明において、好適に用いられる上記一
般式(1)表されるジヒドロペリミジンスクアリリウム
化合物の合成は、以下の反応式に従って合成することが
できる。また、反応式中のnは、スクアリン酸の仕込量
で調整することができる。
In the present invention, the dihydroperimidine squarylium compound represented by the general formula (1), which is suitably used, can be synthesized according to the following reaction formula. Further, n in the reaction formula can be adjusted by the charged amount of squaric acid.

【0034】[0034]

【化7】 Embedded image

【0035】本発明において、好適に用いられる上記一
般式(1)で表されるジヒドロペリミジンスクアリリウ
ム化合物は、具体的には以下のようにして合成すること
ができる。
In the present invention, the dihydroperimidine squarylium compound represented by the above general formula (1), which is suitably used, can be specifically synthesized as follows.

【0036】(化合物1の合成)1,8−ジアミノナフ
タレン39.6g、ジペンチルカルボニルオキシメチル
ケトン71.5gおよびp−トルエンスルホン酸ソーダ
1水和物30mgをスチームバスで3時間加熱攪拌し、
メチルアルコール150mlを加え析出した結晶を濾過
し、2,2−ジペンチルカルボニルオキシメチル−2,
3−ジヒドロペリミジン(a)を97.3g得た。上記
で得た(a)2.13g、スクアリン酸0.57g、n
−ブチルアルコール10mlおよびトルエン10mlの
混合物を、生成する水を除去しながら外温130℃で5
時間加熱した。メチルアルコール20mlを加え、析出
した結晶を濾別した。その後、シリカゲルとクロロホル
ムを用いてカラムクロマトグラフィーで化合物1を分取
した(収量:0.5g、λmax :948.2nm(アセ
トン)、ε:2.19×105 )。
(Synthesis of Compound 1) 39.6 g of 1,8-diaminonaphthalene, 71.5 g of dipentylcarbonyloxymethyl ketone and 30 mg of sodium p-toluenesulfonate monohydrate were heated and stirred in a steam bath for 3 hours.
After adding 150 ml of methyl alcohol, the precipitated crystals were filtered and 2,2-dipentylcarbonyloxymethyl-2,
97.3 g of 3-dihydroperimidine (a) was obtained. 2.13 g of (a) obtained above, 0.57 g of squaric acid, n
A mixture of 10 ml of butyl alcohol and 10 ml of toluene at an external temperature of 130 ° C. while removing the water formed.
Heated for hours. 20 ml of methyl alcohol was added, and the precipitated crystals were separated by filtration. Thereafter, Compound 1 was fractionated by column chromatography using silica gel and chloroform (yield: 0.5 g, λ max : 948.2 nm (acetone), ε: 2.19 × 10 5 ).

【0037】(化合物2の合成)上記(化合物1の合
成)で得られた(a)17.5g、スクアリン酸2.1
g、n−ブチルアルコール100mlおよびトルエン1
00mlの混合物を、生成する水を除去しながら外温1
30℃で3時間加熱攪拌した。放冷後、メチルアルコー
ル50mlを加え結晶を濾別し、シリカゲルとクロロホ
ルムを用いてカラムクロマトグラフィーで化合物(c)
を得た。上記で得た化合物(c)3.2g、スクアリン
酸0.178g、n−ブチルアルコール30mlおよび
トルエン30mlを外温140℃で加熱した。アセトン
30mlを加え、析出した結晶を濾別した後、メチレン
クロライド−アセトンで再結晶を行い、化合物2を8.
9g得た(収量:0.55g、λmax :1070.5n
m(CH2 Cl2 )、ε:1.69×105 )。
(Synthesis of Compound 2) 17.5 g of (a) obtained in the above (Synthesis of Compound 1), squaric acid 2.1
g, n-butyl alcohol 100 ml and toluene 1
00 ml of the mixture at an external temperature of 1 while removing the water formed.
The mixture was heated and stirred at 30 ° C. for 3 hours. After allowing to cool, 50 ml of methyl alcohol was added, the crystals were filtered off, and the compound (c) was subjected to column chromatography using silica gel and chloroform.
I got 3.2 g of the compound (c) obtained above, 0.178 g of squaric acid, 30 ml of n-butyl alcohol and 30 ml of toluene were heated at an external temperature of 140 ° C. 30 ml of acetone was added, and the precipitated crystals were separated by filtration and then recrystallized from methylene chloride-acetone to give Compound 2 as 8.
9 g (yield: 0.55 g, λ max : 1070.5 n)
m (CH 2 Cl 2 ), ε: 1.69 × 10 5 ).

【0038】(化合物9の合成)2−メチル−2−ウン
デシル−2,3−ジヒドロペリミジン84.5g、スク
アリン酸22.3g、n−ブチルアルコール500ml
およびトルエン500mlを外温140℃で4時間加熱
攪拌した。析出した結晶を濾別し、アセトンで洗い、化
合物9を50g得た。 λmax :810nm(1.0)、991.6nm(1.
25)、1120.4nm(1.36)、1200nm
(0.9)、溶媒=CH2 Cl2 。なお、上記カッコ内
の数値はεであり、n=0の吸光度を1とした場合の相
対値で示してある。
(Synthesis of Compound 9) 84.5 g of 2-methyl-2-undecyl-2,3-dihydroperimidine, 22.3 g of squaric acid, 500 ml of n-butyl alcohol
And 500 ml of toluene was heated and stirred at an external temperature of 140 ° C. for 4 hours. The precipitated crystals were separated by filtration and washed with acetone to obtain 50 g of Compound 9. λ max : 810 nm (1.0), 991.6 nm (1.
25), 1120.4 nm (1.36), 1200 nm
(0.9), solvent = CH 2 Cl 2. The numerical value in parentheses is ε, and is shown as a relative value when the absorbance at n = 0 is 1.

【0039】また、本発明において、好適に用いられる
上記一般式(2)で表されるジヒドロペリミジンスクア
リリウム化合物は、具体的には以下のようにして合成す
ることができる。
In the present invention, the dihydroperimidine squarylium compound represented by the general formula (2), which is suitably used, can be specifically synthesized as follows.

【0040】(化合物26の合成)前記化合物1の合成
において得られた2,2−ジペンチルカルボニルオキシ
メチル−2,3−ジヒドロペリミジン(a)17.5
g、スクアリン酸2.1g、n−ブチルアルコール10
0mlおよびトルエン100mlの混合物を、生成する
水を除去しながら外温130℃で3時間加熱攪拌した。
放冷後、メチルアルコール50mlを加え、析出した結
晶を濾別した。その後、シリカゲルとクロロホルムを用
いてカラムクロマトグラフィーで化合物26を得た(収
量:10.9g、λmax :796nm(CH2
2 )、ε:1.2×105 )。
(Synthesis of Compound 26) 17.5 of 2,2-dipentylcarbonyloxymethyl-2,3-dihydroperimidine (a) obtained in the synthesis of Compound 1 described above.
g, squaric acid 2.1 g, n-butyl alcohol 10
A mixture of 0 ml and 100 ml of toluene was heated and stirred at an external temperature of 130 ° C. for 3 hours while removing generated water.
After cooling, 50 ml of methyl alcohol was added, and the precipitated crystals were separated by filtration. Thereafter, compound 26 was obtained by column chromatography using silica gel and chloroform (yield: 10.9 g, λ max : 796 nm (CH 2 C
l 2 ), ε: 1.2 × 10 5 ).

【0041】[0041]

【化8】 Embedded image

【0042】上記合成例で挙げた以外のジヒドロペリミ
ジンスクアリリウム化合物についても同様な方法で合成
することができる。合成したジヒドロペリミジンスクア
リリウム化合物のλmax を表2に示す。
Dihydroperimidine squarylium compounds other than those mentioned in the above synthesis examples can be synthesized in the same manner. Table 2 shows λ max of the synthesized dihydroperimidine squarylium compound.

【0043】[0043]

【表2】 [Table 2]

【0044】〔アルカリ可溶性を実質的に低下させる赤
外線吸収染料〕本発明においては、アルカリ可溶性を実
質的に低下させる赤外線吸収染料を、前記アルカリ可溶
性を実質的に低下させない赤外線吸収染料と共に用いて
もよい。アルカリ可溶性を実質的に低下させるか否かの
指標は、「アルカリ可溶性を実質的に低下させない赤外
線吸収染料」の場合と同様である。即ち、前述の判断指
標の試験において、残存率が(%)の値が5%を超える
ものを本発明におけるアルカリ可溶性を実質的に低下さ
せる赤外線吸収染料という。アルカリ可溶性を実質的に
低下させる赤外線吸収染料としては、シアニン染料、ア
ミニウム染料やジインモニウム染料等が挙げられる。シ
アニン染料としては、例えば下記一般式(2)に示すよ
うなものが挙げられる。
[Infrared absorbing dye which substantially reduces alkali solubility] In the present invention, an infrared absorbing dye which substantially lowers alkali solubility can be used together with the infrared absorbing dye which does not substantially lower alkali solubility. Good. The index of whether or not alkali solubility is substantially reduced is the same as that of the "infrared absorbing dye which does not substantially reduce alkali solubility". That is, in the test of the above-mentioned judgment index, those having a residual ratio (%) of more than 5% are referred to as infrared absorbing dyes that substantially reduce alkali solubility in the present invention. Examples of the infrared absorbing dye that substantially reduces alkali solubility include a cyanine dye, an aminium dye, and a diimmonium dye. Examples of the cyanine dye include those represented by the following general formula (2).

【0045】[0045]

【化9】 Embedded image

【0046】前記一般式(2)中、R1 〜R4 は、それ
ぞれ独立に水素原子、置換基を有しても良い炭素数1〜
12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シク
ロアルキル基、アリール基を表し、R1 とR2 、R3
4 はそれぞれ結合して環構造を形成していてもよい。
ここで、R1 〜R4 としては、具体的には、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られる。また、これらの基が置換基を有する場合、その
置換基としては、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ
基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、カル
ボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられる。
5 〜R10は、それぞれ独立に置換基を有しても良い炭
素数1〜12のアルキル基を表し、ここで、R5 〜R10
としては、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル
基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シ
クロヘキシル基等が挙げられる。また、これらの基が置
換基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原
子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル
基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸
エステル等が挙げられる。
In the general formula (2), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 4 which may have a substituent.
12 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and R 1 and R 2 , and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring structure.
Here, as R 1 to R 4 , specifically, a hydrogen atom,
Examples include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group. When these groups have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.
R 5 to R 10 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, wherein R 5 to R 10
Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group. When these groups have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.

【0047】R11〜R13は、それぞれ独立に水素原子、
ハロゲン原子、置換基を有しても良い炭素数1〜8のア
ルキル基を表し、ここで、R12は、R11又はR13と結合
して環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複
数のR12同士が結合して環構造を形成していてもよい。
11〜R13としては、具体的には、塩素原子、シクロヘ
キシル基、R12同士が結合してなるシクロペンチル環、
シクロヘキシル環等が挙げられる。また、これらの基が
置換基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原
子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル
基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸
エステル等が挙げられる。また、mは1〜8の整数を表
し、好ましくは1〜3である。R14〜R15は、それぞれ
独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良い
炭素数1〜8のアルキル基を表し、R14はR15と結合し
て環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数
のR14同士が結合して環構造を形成していてもよい。R
14〜R15しては、具体的には、塩素原子、シクロヘキシ
ル基、R14同士が結合してなるシクロペンチル環、シク
ロヘキシル環等が挙げられる。また、これらの基が置換
基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。また、mは1〜8の整数を表し、
好ましくは1〜3である。
R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom,
Represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, wherein R 12 may be bonded to R 11 or R 13 to form a ring structure, and m> In the case of 2, a plurality of R 12 may be bonded to each other to form a ring structure.
As R 11 to R 13 , specifically, a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring in which R 12 is bonded to each other,
And a cyclohexyl ring. When these groups have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester. M represents an integer of 1 to 8, and preferably 1 to 3. R 14 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and R 14 is bonded to R 15 to form a ring structure. When m> 2, a plurality of R 14 may be bonded to each other to form a ring structure. R
Specific examples of 14 to R 15 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring and a cyclohexyl ring formed by bonding R 14 to each other. When these groups have a substituent, the substituent may be a halogen atom,
Carbonyl group, nitro group, nitrile group, sulfonyl group,
Examples thereof include a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester. M represents an integer of 1 to 8,
Preferably it is 1-3.

【0048】前記一般式(2)において、X- で示され
るアニオンの具体例としては、過塩素酸、四フッ化ホウ
酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−ス
ルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−
ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホ
ン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカ
プリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ
−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン
酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができ
る。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適で
ある。
[0048] In the general formula (2), X - Specific examples of the anion is represented by, perchloric acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropyl naphthalenesulfonic acid, 5-nitro -o -Toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-
Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl -Benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.

【0049】前記一般式(2)で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこの具体例に制限されるも
のではない。
Specific examples of the compound represented by the general formula (2) are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples.

【0050】[0050]

【化10】 Embedded image

【0051】アルカリ可溶性を実質的に低下させる赤外
線吸収染料に用いることができるアミニウム染料および
ジインモニウム染料としては、下記一般式(3)および
(4)で表される染料(化合物)が挙げられる。
Aminium dyes and diimmonium dyes which can be used as the infrared absorbing dye which substantially reduces alkali solubility include dyes (compounds) represented by the following general formulas (3) and (4).

【0052】[0052]

【化11】 Embedded image

【0053】上記式中、Aは、In the above formula, A is

【0054】[0054]

【化12】 Embedded image

【0055】(kは、1または2を表す。)を表し、B
は、
(K represents 1 or 2), and B
Is

【0056】[0056]

【化13】 Embedded image

【0057】(kは、1または2を表す。)を表し、芳
香族環は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
原子または水酸基によって置換されていてもよい。R21
〜R28は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置
換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換の
アルケニル基、置換もしくは未置換のアラルキル基、置
換もしくは未置換のアルキニル基であり、R21とR22
23とR24、R25とR26或いはR27とR28の組み合わせ
でNとともに置換もしくは未置換の5員環、置換もしく
は未置換の6員環、置換もしくは未置換の7員環を形成
してもよい。X-は、一般式(29で示したものと同じ
く、陰イオンを表す。
(K represents 1 or 2), and the aromatic ring may be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen atom or a hydroxyl group. R 21
To R 28 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, R 21 And R 22 ,
R 23 and R 24 , R 25 and R 26 or R 27 and R 28 together with N form a substituted or unsubstituted 5-membered ring, substituted or unsubstituted 6-membered ring, substituted or unsubstituted 7-membered ring. May be. X represents an anion as in the general formula (29).

【0058】上記一般式(3)または(4)で表される
化合物は、公知の化合物であり、例えば米国特許第35
75871号や米国特許第3557012号等に記載さ
れている。
The compound represented by the general formula (3) or (4) is a known compound, for example, US Pat.
No. 75871 and U.S. Pat. No. 3,557,012.

【0059】その他、アルカリ可溶性を実質的に低下さ
せる赤外線吸収染料に用いることができる市販品として
は、エポライトIV−62B、エポライト III−178、
エポライト III−130(以上、エポリン社製)、IR
G−022、IRG−002、IRG−003(以上、
日本化薬社製)等が挙げられる。
Other commercially available products which can be used for infrared absorbing dyes which substantially reduce alkali solubility include Epolite IV-62B, Epolite III-178,
Epolite III-130 (from Eporin), IR
G-022, IRG-002, IRG-003 (above,
Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).

【0060】〔アルカリ可溶性バインダー〕本発明で使
用されるアルカリ可溶性バインダーとしては、ノボラッ
ク樹脂、ポリヒドロキシスチレン、アクリル樹脂等を挙
げることができる。本発明で使用されるノボラック樹脂
は、フェノール類とアルデヒド類を、酸性条件下で縮合
させて得られる樹脂である。好ましいノボラック樹脂と
しては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得
られるノボラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデ
ヒドから得られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホ
ルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、o−クレ
ゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られ
るノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルム
アルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール/
クレゾール(o−、m−、p−又はm−/p−、m−/
o−、o−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホ
ルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂等が挙げら
れる。これらのノボラック樹脂は、重量平均分子量が8
00〜200,000で、数平均分子量が400〜6
0,000のものが好ましい。
[Alkali-Soluble Binder] Examples of the alkali-soluble binder used in the present invention include novolak resin, polyhydroxystyrene, and acrylic resin. The novolak resin used in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolak resins include, for example, a novolak resin obtained from phenol and formaldehyde, a novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde, a novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, a novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, Novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol /
Cresol (o-, m-, p- or m- / p-, m- /
o- or o- / p-mixture) and a novolak resin obtained from formaldehyde. These novolak resins have a weight average molecular weight of 8
With a number average molecular weight of 400-6
000 is preferred.

【0061】本発明において使用されるノボラック樹脂
以外のアルカリ可溶性バインダーとしては、例えばポリ
ヒドロキシスチレン類、ヒドロキシスチレン−N−置換
マレイミド共重合体、ヒドロキシスチレン−無水マレイ
ン酸共重合体、アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポ
リマー、アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリマー
等が挙げられる。ここでアルカリ可溶性基としてはカル
ボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、ホス
ホン酸基、イミド基等が挙げられる。
Examples of the alkali-soluble binder other than the novolak resin used in the present invention include polyhydroxystyrenes, hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymers, hydroxystyrene-maleic anhydride copolymers, and alkali-soluble groups. Acrylic polymer having the same, a urethane type polymer having an alkali-soluble group, and the like. Here, examples of the alkali-soluble group include a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, and an imide group.

【0062】また、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ポ
リ−m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン
−N−置換マレイミド共重合体、p−ヒドロキシスチレ
ン−無水マレイン酸共重合体等のヒドロキシスチレン系
ポリマーを用いる場合には重量平均分子量が2,000
〜500,000、さらに、4,000〜300,00
0のものが好ましい。
Further, hydroxystyrene-based polymers such as poly-p-hydroxystyrene, poly-m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymer and p-hydroxystyrene-maleic anhydride copolymer are used. When used, the weight average molecular weight is 2,000
~ 500,000, and 4,000 ~ 300,00
0 is preferred.

【0063】アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポリ
マーの例としては、メタクリル酸−ベンジルメタクリレ
ート共重合体、ポリ(ヒドロキシフェニルメタクリルア
ミド)、ポリ(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエ
チルアクリレート)、ポリ(2、4−ジヒドロキシフェ
ニルカルボニルオキシエチルアクリレート)や、特願平
8−211731明細書に記載のポリマー等が挙げられ
る。これらのアクリル系ポリマーは重量平均分子量が
2,000〜500,000、好ましくは4,000〜
300,000のものが好ましい。
Examples of the acrylic polymer having an alkali-soluble group include methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer, poly (hydroxyphenyl methacrylamide), poly (hydroxyphenylcarbonyloxyethyl acrylate), poly (2,4-dihydroxy Phenylcarbonyloxyethyl acrylate), and the polymers described in Japanese Patent Application No. Hei 8-211731. These acrylic polymers have a weight average molecular weight of 2,000 to 500,000, preferably 4,000 to 500,000.
300,000 are preferred.

【0064】アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリ
マーの例としては、ジフェニルメタンジイソシアネート
とヘキサメチレンジイソシアネート、テトラエチレング
リコール、2、2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオ
ン酸を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。これら
のアルカリ可溶性ポリマーのうち、ヒドロキシスチレン
系ポリマーおよびアルカリ可溶性基を有するアクリル系
共重合体は現像性の点で好ましい。
Examples of urethane-type polymers having an alkali-soluble group include resins obtained by reacting diphenylmethane diisocyanate with hexamethylene diisocyanate, tetraethylene glycol, and 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid. Among these alkali-soluble polymers, a hydroxystyrene-based polymer and an acrylic copolymer having an alkali-soluble group are preferred from the viewpoint of developability.

【0065】本発明において、これらのアルカリ可溶性
バインダーは全平版印刷版材料固形分中、10〜90重
量%、好ましくは20〜85重量%、特に好ましくは3
0〜80重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性
の高分子化合物の添加量が10重量%未満であると記録
層の耐久性が悪化し、また、90重量%を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。また、これらのアル
カリ可溶性バインダーは、1種類のみで使用しても良い
し、あるいは2種類以上を組み合わせて使用しても良
い。
In the present invention, these alkali-soluble binders are used in an amount of 10 to 90% by weight, preferably 20 to 85% by weight, particularly preferably 3 to 90% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material.
It is used in an amount of 0 to 80% by weight. If the amount of the alkali-soluble polymer compound is less than 10% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated, and if it exceeds 90% by weight, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability. These alkali-soluble binders may be used alone or in combination of two or more.

【0066】〔バインダーのアルカリ可溶性を実質的に
低下させる物質〕本発明において、以上の赤外線吸収剤
が赤外線を吸収して発生する熱により、アルカリ可溶性
バインダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させる物質
の作用が消失し、ポジ画像が形成される。この物質の当
該機能により初めて本発明の平版印刷版材料に画像形成
が可能となる。この物質におけるアルカリ可溶性を実質
的に低下させるか否かの指標は、前述の赤外線吸収剤の
場合と同様の判断指標が用いられる。
[Substance that Substantially Reduces Alkali-Soluble of Binder] In the present invention, the substance that substantially reduces the alkali-solubility of the alkali-soluble binder by the heat generated by the infrared absorber absorbing infrared rays is used. The effect disappears and a positive image is formed. Only by this function of this substance can an image be formed on the lithographic printing plate material of the present invention. As the index for determining whether or not the alkali solubility in this substance is substantially reduced, the same determination index as in the case of the above-mentioned infrared absorbent is used.

【0067】バインダーのアルカリ可溶性を実質的に低
下させる物質の具体例としては、例えば、S.I.Schlesin
ger, Photogr. Sci. Eng., 18,387(1974) 、T.S.Bal et
al., Polymer, 21,423(1980) 等に記載のジアゾニウム
塩、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号、特開平
3-140,140 号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Neckeret
al., Macromolecules, 17,2468(1984)、C.S.Wen et a
l., Teh, Proc. Conf.Rad. Curing ASIA, p478, Tokyo,
Oct(1988) 、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056
号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al., M
acromolecules,10(6),1307(1977) 、Chem. & Eng. New
s, Nov. 28, p31(1988) 、欧州特許第104,143 号、米国
特許第339,049 号、同第410,201 号、特開平2-150,848
号、特開平2-296,514 号等に記載のヨードニウム塩、J.
V.Crivello et al., Polymer J.17, 73(1985)、J.V.Cri
vello et al., J.Org. Chem., 43,3055(1978)、W.R.Wat
tet al., J.Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 17
89(1984)、J.V.Crivelloet al., Polymer Bull., 14,27
9(1985)、J.V.Crivello et al., Macromolecules, 14
(5), 1141(1981)、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sc
i., Polymer Chem.Ed., 17,2877(1979) 、欧州特許第37
0,693 号、米国特許第3,902,114 号、欧州特許第233,56
7 号、同297,443 号、同297,442 号、米国特許第4,933,
377 号、同410,201 号、同339,049 号、同4,760,013
号、同4,734,444 号、同2,833,827 号、独国特許第2,90
4,626 号、同3,604,580 号、同3,604,581 号等に記載の
スルホニウム塩、J.V.Crivello et al., Macromolecule
s, 10(6), 1307(1977)、J.V.Crivello et al., J.Polym
er Sci., Polymer Chem. Ed., 17,1047(1979) 等に記載
のセレノニウム塩、C.S.Wen et al., Teh, Proc. Conf.
Rad. Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct(1988) 等に記載
のアルソニウム塩等のオニウム塩、
Specific examples of substances which substantially reduce the alkali solubility of the binder include, for example, SISchlesin
ger, Photogr. Sci. Eng., 18,387 (1974), TSBal et
al., Polymer, 21,423 (1980), etc., U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056,
Ammonium salts described in 3-140, 140, etc., DCNeckeret
al., Macromolecules, 17,2468 (1984), CSWen et a
l., Teh, Proc. Conf.Rad. Curing ASIA, p478, Tokyo,
Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056
No., etc., JVCrivello et al., M
acromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. New
s, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, U.S. Patent Nos. 339,049 and 410,201, JP-A-2-150,848
Iodonium salts described in JP-A-2-296,514 and the like.
V. Crivello et al., Polymer J. 17, 73 (1985), JVCri
vello et al., J. Org.Chem., 43, 3055 (1978), WRWat
tet al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 17
89 (1984), JVCrivello et al., Polymer Bull., 14, 27
9 (1985), JVCrivello et al., Macromolecules, 14
(5), 1141 (1981), JVCrivello et al., J. Polymer Sc
i., Polymer Chem.Ed., 17,2877 (1979), European Patent No. 37
0,693, U.S. Patent 3,902,114, European Patent 233,56
No. 7, 297,443, 297,442, U.S. Pat.
No. 377, No. 410,201, No. 339,049, No. 4,760,013
Nos. 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2,90
Nos. 4,626, 3,604,580 and 3,604,581, sulfonium salts described in JVCrivello et al., Macromolecule
s, 10 (6), 1307 (1977), JVCrivello et al., J. Polym
er Sci., Polymer Chem.Ed., 17,1047 (1979), etc., and CSWen et al., Teh, Proc. Conf.
Onium salts such as arsonium salts described in Rad. Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct (1988), etc.

【0068】米国特許第3,905,815 号、特公昭46-4605
号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-2
39736 号、特開昭61-169835 号、特開昭61-169837 号、
特開昭62-58241号、特開昭62-212401 号、特開昭63-702
43号、特開昭63-298339 号等に記載の有機ハロゲン化合
物、K.Meier et al., J.Rad. Curing, 13(4),26(198
6)、T.P.Gill et al., Inorg. Chem., 19,3007(1980)、
D.Astruc, Acc. Chem. Res., 19(12), 377(1896)、特開
平2-161445号等に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、
S.Hayase et al., J.Polymer Sci., 25,753(1987) 、E.
Reichman et al., J.Polymer Sci., Poliymer Chem. E
d., 23,1(1985) 、Q.Q.Zhu et al., J.Photochem., 36,
85, 39, 317(1987) 、B.Amit et al., Tetrahedron Le
tt., (24)2205(1973)、D.H.R.Barton et al., J.Chem.
Soc., 3571(1965) 、P.M.Collins et al., J.Chem. So
c., Perkin I,1695(1975) 、M. Rudinstein et al., Te
trahedron Lett.,(17), 1445(1975)、J.W.Walker et a
l., J. Am. Chem. Soc., 110,7170(1988)、S.C.Busman
et al., J. Imaging Technol., 11(4), (1985) 、H.M.H
oulihan et al., Macromolecules, 21,2001(1988)、P.
M.Collins et al., J.Chem.Soc., Chem. Commun., 532
(1972)、S.Hayase et al., Macromolecules, 18,1799(1
985), E.Reichmanis et al., J.Electrochem. Soc., So
lid State Sci. Technol., 130(6) 、F.M.Houlihan et
al., Macromolecules, 21,2001(1988)、欧州特許第029
0,750号、同046,083 号、同156,535 号、同271,851
号、同0,388,343 号、米国特許第3,901,710 号、同4,18
1,531 号、特開昭60-198538 号、特開昭53-133022 号等
に記載の0-ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生
剤、TUNOOKA etal., Polymer Preprints Japan, 35
(8)、G.Berner et al., J.Rad. Curing, 13(4) 、W.J.M
ijs et al., Coating Technol., 55(697), 45(1983), A
kzo、H.Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3)、欧州特許第0199,672号、同84515 号、同199,672
号、同044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,618,55
4 号、同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64-181
43号、特開平2-245756号、特開平3-140109号等に記載の
イミノスルホネート等に代表される光分解してスルホン
酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号等に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。
US Pat. No. 3,905,815, JP-B-46-4605
No., JP-A-48-36281, JP-A-55-32070, JP-A-60-2
39736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837,
JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-63-702
No. 43, organic halogen compounds described in JP-A-63-298339, etc., K. Meier et al., J. Rad.Curing, 13 (4), 26 (198
6), TPGill et al., Inorg. Chem., 19,3007 (1980),
D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19 (12), 377 (1896), organometallics / organic halides described in JP-A-2-14145 and the like,
S. Hayase et al., J. Polymer Sci., 25, 753 (1987), E.
Reichman et al., J. Polymer Sci., Poliymer Chem. E
d., 23, 1 (1985), QQZhu et al., J. Photochem., 36,
85, 39, 317 (1987), B. Amit et al., Tetrahedron Le
tt., (24) 2205 (1973), DHR Barton et al., J. Chem.
Soc., 3571 (1965), PMCollins et al., J. Chem. So
c., Perkin I, 1695 (1975), M. Rudinstein et al., Te
trahedron Lett., (17), 1445 (1975), JWWalker et a
l., J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988), SCBusman
et al., J. Imaging Technol., 11 (4), (1985), HMH
oulihan et al., Macromolecules, 21, 2001 (1988), P.
M. Collins et al., J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532
(1972), S. Hayase et al., Macromolecules, 18,1799 (1
985), E. Reichmanis et al., J. Electrochem. Soc., So
lid State Sci. Technol., 130 (6), FMHoulihan et
al., Macromolecules, 21, 2001 (1988), EP 029.
0,750, 046,083, 156,535, 271,851
No. 0,388,343, U.S. Pat.Nos. 3,901,710, 4,18
No. 1,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022, etc., a photoacid generator having a 0-nitrobenzyl-type protecting group, TUNOOKA et al., Polymer Preprints Japan, 35
(8), G. Berner et al., J. Rad. Curing, 13 (4), WJM
ijs et al., Coating Technol., 55 (697), 45 (1983), A
kzo, H. Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3), European Patent Nos. 0199,672, 84515, and 199,672
No. 044,115, No. 0101,122, U.S. Pat.No. 4,618,55
No. 4, No. 4,371,605, No. 4,431,774, JP-A-64-181
No. 43, compounds disclosed in JP-A-2-245756, JP-A-3-140109, etc., which generate sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonates, and disulfones described in JP-A-61-166544. Compounds can be mentioned.

【0069】また、これらの酸発生剤等の物質をポリマ
ーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、M.E.Wood
house et al., J. Am. Chem. Soc., 104, 5586(1982)、
S.P.Pappas et al., J.Imaging Sci., 30(5), 218(198
6) 、S. Kondo et al., Makromol. Chem. Rapid Commu
n., 9,625(1988) 、Y.Yamada et al., Makromol, Chem.
152, 153,163(1972) 、J.V.Crivello et al., J.Polyme
r Sci., Polymer Chem.Ed., 17,3845(1979) 、米国特許
第3,849,137 号、独国特許第3914407 、特開昭63-26653
号、特開昭55-164824 号、特開昭62-69263号、特開昭63
-14603号、特開昭63-163452 号、特開昭62-153853 号、
特開昭63-146029 号等に記載の化合物を用いることがで
きる。さらに、V.N.R.Pillai, Synthesis, (1),1(198
0)、A. Abad et al., Tetrahedron Lett., (47)4555(19
71) 、D.H.R.Barton et al., J.Chem. Soc., (C), 329
(1970) 、米国特許第3,779,778 号、欧州特許第126,712
号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用する
ことができる。
Compounds obtained by introducing these substances such as an acid generator into the main chain or side chain of a polymer, for example, MEWood
house et al., J. Am. Chem. Soc., 104, 5586 (1982),
SPPappas et al., J. Imaging Sci., 30 (5), 218 (198
6), S. Kondo et al., Makromol. Chem. Rapid Commu
n., 9,625 (1988), Y.Yamada et al., Makromol, Chem.
152, 153, 163 (1972), JVCrivello et al., J. Polyme
r Sci., Polymer Chem.Ed., 17,3845 (1979), U.S. Pat.No. 3,849,137, German Patent 3914407, JP-A-63-26653
No., JP-A-55-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63
-14603, JP-A-63-163452, JP-A-62-153853,
The compounds described in JP-A-63-146029 can be used. Furthermore, VNRPillai, Synthesis, (1), 1 (198
0), A. Abad et al., Tetrahedron Lett., (47) 4555 (19
71), DHRBarton et al., J. Chem. Soc., (C), 329
(1970), U.S. Pat.No. 3,779,778, European Patent 126,712
Compounds that generate an acid by the light described in the above item can also be used.

【0070】上記の化合物の中で、特に有効に用いられ
る化合物を以下に示す。 (1)トリハロメチル基が置換した下記一般式(PAG
1)で表されるオキサゾール誘導体又は一般式(PAG
2)で表されるs−トリアジン誘導体。
Among the above-mentioned compounds, the compounds which are used particularly effectively are shown below. (1) The following general formula (PAG) substituted with a trihalomethyl group
The oxazole derivative represented by 1) or the general formula (PAG)
An s-triazine derivative represented by 2).

【0071】[0071]

【化14】 Embedded image

【0072】式中、R1 は置換若しくは無置換のアリー
ル基又はアルケニル基、R2 は置換若しくは置換のアリ
ール基、アルケニル基又はアルキル基、又は−CY3
示す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。具体的には以
下の化合物を挙げることができるがこれらに限定される
ものではない。
In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group or alkenyl group, R 2 represents a substituted or substituted aryl group, alkenyl group or alkyl group, or —CY 3 . Y represents a chlorine atom or a bromine atom. Specific examples include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0073】[0073]

【化15】 Embedded image

【0074】[0074]

【化16】 Embedded image

【0075】(2)下記の一般式(PAG3)で表され
るヨードニウム塩、又は一般式(PAG4)で表される
スルホニウム塩。
(2) An iodonium salt represented by the following formula (PAG3) or a sulfonium salt represented by the following formula (PAG4).

【0076】[0076]

【化17】 Embedded image

【0077】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換
又は無置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、
アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基
及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及びR5
各々独立に、置換若しくは無置換のアルキル基又はアリ
ール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリール
基、炭素数1〜8のアルキル基及びそれらの置換誘導体
である。好ましい置換基としては、アリール基に対して
は炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキ
ル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基および
ハロゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数1〜
8のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基である。
In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Preferred substituents include an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group,
Aryl group, alkoxy group, nitro group, carboxy group,
Examples include an alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a mercapto group, and a halogen atom. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Preferred are an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and substituted derivatives thereof. Preferred substituents are an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group and a halogen atom for the aryl group, and a substituent for the alkyl group. Carbon number 1
8 is an alkoxy group, a carboxyl group, or an alkoxycarbonyl group.

【0078】Z- は対アニオンを示し、例えば、B
4 、AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、Si
6 2- 、ClO4 - 、CF3 SO3 - 等のパーフルオロ
アルカンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼン
スルホン酸アニオン、ナフタレン−1−スルホン酸アニ
オン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、アントラ
キノンスルホン酸アニオン、9,10−ジメトキシアン
トラセン−2−スルホン酸アニオン、スルホン酸基含有
染料等を挙げることができるがこれらに限定されるもの
ではない。また、R3 、R4 及びR5 のうちの2つ並び
にAr1 及びAr2 はそれぞれの単結合又は置換基を介
して結合してもよい。
Z-Represents a counter anion, for example, B
FFour, AsF6 -, PF6 -, SbF6 -, Si
F6 2-, ClOFour -, CFThreeSOThree -Perfluoro such as
Alkanesulfonic acid anion, pentafluorobenzene
Sulfonic acid anion, naphthalene-1-sulfonic acid ani
Condensed polynuclear aromatic sulfonate anions such as on
Quinone sulfonate anion, 9,10-dimethoxyan
Toracene-2-sulfonic acid anion, containing sulfonic acid group
Dyes and the like can be mentioned, but are not limited to these
is not. Also, RThree, RFourAnd RFiveTwo of them
Ar1And ArTwoIs through each single bond or substituent
May be combined.

【0079】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

【0080】[0080]

【化18】 Embedded image

【0081】[0081]

【化19】 Embedded image

【0082】一般式(PAG3)又は(PAG4)で示
される上記オニウム塩は公知であり、例えば、J.W.Knap
czyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91,145(1969)、A.L.
Maycok et al., J.Org. Chem., 35,2532,(1970) 、E.Go
ethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg., 73,546,(196
4) 、H.M.Leicester 、J. Ame. Chem. Soc., 51,3587(1
929) 、J.V.Crivello et al., J.Polym. Chem. Ed., 1
8,2677(1980)、米国特許第2,807,648 号及び同4,247,47
3 号、特開昭53-101,331号等に記載の方法により合成す
ることができる。 (3)下記一般式(PAG5)で表されるジスルホン誘
導体又は一般式(PAG6)で表されるイミノスルホネ
ート誘導体。
The above-mentioned onium salts represented by the general formula (PAG3) or (PAG4) are known, for example, JWKnap
czyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), AL
Maycok et al., J. Org.Chem., 35, 2532, (1970), E. Go
ethas et al., Bull.Soc.Chem.Belg., 73,546, (196
4), HM Leicester, J. Ame.Chem. Soc., 51, 3587 (1
929), JVCrivello et al., J. Polym. Chem. Ed., 1
8,2677 (1980); U.S. Pat.Nos. 2,807,648 and 4,247,47
No. 3, JP-A-53-101,331 and the like. (3) Disulfone derivatives represented by the following general formula (PAG5) or iminosulfonate derivatives represented by the following general formula (PAG6).

【0083】[0083]

【化20】 Embedded image

【0084】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換
又は無置換のアリール基を示す。R 6 は置換若しくは無
置換のアルキル基又はアリール基を示す。Aは置換若し
くは無置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリー
レン基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
In the formula, ArThreeAnd ArFourAre replaced independently
Or an unsubstituted aryl group. R 6Is replaced or nothing
It represents a substituted alkyl group or an aryl group. A is replacement
Or unsubstituted alkylene group, alkenylene group or aryl
Represents a len group. Specific examples include the compounds shown below.
However, the present invention is not limited to these.

【0085】[0085]

【化21】 Embedded image

【0086】[0086]

【化22】 Embedded image

【0087】これらの化合物の添加量は、平版印刷版材
料の全固形分を基準として通常0.001〜40重量%
の範囲で用いられ、好ましくは0.01〜20重量%、
さらに好ましくは0.1〜5重量%の範囲で使用され
る。
The amount of these compounds is usually 0.001 to 40% by weight based on the total solids of the lithographic printing plate material.
Is used in a range of preferably 0.01 to 20% by weight,
More preferably, it is used in the range of 0.1 to 5% by weight.

【0088】〔その他の成分〕本発明の平版印刷版材料
には、必要に応じて上記以外に種々の化合物を添加して
も良い。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画
像の着色剤として使用することができる。具体的にはオ
イルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイ
ルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルー
BOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上
オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブル
ー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチ
ルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレッ
ト、ローダミンB(CI145170B)、マラカイト
グリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI5
2015)など、あるいは特開昭62−293247号
公報に記載されている染料を挙げることができる。これ
らの染料は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつ
きやすいので、添加する方が好ましい。尚、添加量は、
平版印刷版材料全固形分に対し、0.01〜10重量%
の割合である。
[Other Components] The lithographic printing plate material of the present invention may contain various compounds other than those described above, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY,
Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000) , Methylene blue (CI5
2015) or the dyes described in JP-A-62-293247. These dyes are preferably added because the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is
0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the lithographic printing plate material
Is the ratio of

【0089】また、本発明にかかる平版印刷版材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アル
キルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノ
エチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシ
エチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ンやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の平
版印刷版材料中に占める割合は、0.05〜15重量%
が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Further, in the lithographic printing plate material according to the present invention, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 62-251740 and 3-208514 are used in order to widen the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149.
An amphoteric surfactant such as that described in JP-A No. 2-211 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the lithographic printing plate material is 0.05 to 15% by weight.
And more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0090】更に本発明にかかる平版印刷版材料中には
必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が
加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジへキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸またはメタアクリル酸のオリゴマーおよびポリ
マー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the planographic printing plate material according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butyl phthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or Oligomers and polymers of methacrylic acid are used.

【0091】これら以外にも、エポキシ化合物、ビニル
エーテル類、さらには特願平7−18120号に記載の
ヒドロキシメチル基を持つフェノール化合物、アルコキ
シメチル基を有するフェノール化合物等を添加しても良
い。
In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having a hydroxymethyl group and phenol compounds having an alkoxymethyl group described in Japanese Patent Application No. 7-18120 may be added.

【0092】本発明にかかる平版印刷版材料は、通常上
記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する
ことにより製造することができる。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−
メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセ
テート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメ
トキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエ
ン、水等をあげることができるがこれに限定されるもの
ではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用さ
れる。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃
度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾
燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途に
よって異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的
に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法と
しては、種々の方法を用いることができるが、例えば、
バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少な
くなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録
膜の皮膜特性は低下する。
The lithographic printing plate material according to the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone,
Methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-
Methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N- Examples thereof include, but are not limited to, methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, toluene, water and the like. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred for a lithographic printing plate material. As a method of applying, various methods can be used, for example,
Examples include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, and the like. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0093】本発明における平版印刷版材料中には、塗
布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−
170950号公報に記載されているようなフッ素系界
面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、
全平版印刷版材料固形分中0.01〜1重量%さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the lithographic printing plate material according to the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a surfactant described in
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-170950 can be added. The preferred amount is
It is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material.

【0094】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネートもしくは蒸着された、紙もしくはプラスチッ
クフィルム等が含まれる。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited.

【0095】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.8mmである。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.8 mm.

【0096】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, a method combining both of them can be used as disclosed in JP-A-54-63902. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid,
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0097】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号および第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまた
は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報
に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国
特許第3,276,868号、同第4,158,461
号、同第4,689,272号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,158,461.
And the method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A No. 4,689,272.

【0098】本発明にかかる平版印刷版材料は、必要に
応じて支持体上に下塗層を設けることができる。下塗層
成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カ
ルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガ
ム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有す
るホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホ
ン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリ
セロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレン
ジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有しても
よいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸
およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有し
てもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩な
どのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれ
るが、2種以上混合して用いてもよい。有機下塗層の被
覆量は、2〜200mg/m2 が適当である。
In the lithographic printing plate material according to the present invention, an undercoat layer can be provided on the support, if necessary. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphinic acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Hydroxy such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines having a group may be used in combination of two or more. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 .

【0099】以上のようにして、本発明にかかる平版印
刷版材料を用いた平版印刷用版材を作製することができ
る。この平版印刷用版材は、波長760nmから120
0nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光される。本発明においては、レーザ照射
後すぐに現像処理を行っても良いが、必要に応じてレー
ザ照射工程と現像工程の間に加熱処理を行うこともでき
る。加熱処理の条件は、80℃〜150℃の範囲内で1
0秒〜5分間行うことが好ましい。この加熱処理によ
り、レーザ照射時、記録に必要なレーザエネルギーを減
少させることができる場合がある。
As described above, a lithographic printing plate using the lithographic printing plate material according to the present invention can be produced. This lithographic printing plate material has a wavelength of 760 nm to 120.
Image exposure is performed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit 0-nm infrared light. In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the laser irradiation, but if necessary, a heating treatment may be performed between the laser irradiation step and the developing step. The conditions of the heat treatment are as follows.
It is preferably performed for 0 seconds to 5 minutes. This heat treatment may reduce the laser energy required for recording during laser irradiation.

【0100】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
にかかる平版印刷版材料はアルカリ性水溶液にて現像さ
れる。本発明にかかる平版印刷版材料の現像液および補
充液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使
用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3
リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン
酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう
酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、
水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウ
ムおよび水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。こ
れらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせ
て用いられる。
After performing a heat treatment as required, the lithographic printing plate material according to the present invention is developed with an alkaline aqueous solution. As the developer and replenisher for the lithographic printing plate material according to the present invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, sodium triphosphate, potassium triphosphate, third
Ammonium phosphate, dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, boric acid Ammonium,
And inorganic alkali salts such as sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

【0101】これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現
像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸
塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化
珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物M2 Oの比率と濃度
によって現像性の調節が可能となるためであり、例え
ば、特開昭54−62004号公報、特公昭57−74
27号に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が
有効に用いられる。
Among these alkaline agents, particularly preferred developers are aqueous solutions of silicates such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and the concentration of the silicon oxide SiO 2 and the alkali metal oxide M 2 O which are the components of the silicate. For example, JP-A-54-62004 discloses Tokiko 57-74
An alkali metal silicate described in No. 27 is effectively used.

【0102】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材を処理
できることが知られている。本発明においてもこの補充
方式が好ましく適用される。現像液および補充液には現
像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部
の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤があげられる。更に現像液および補充液には
必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、
亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩
等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤
を加えることもできる。上記現像液および補充液を用い
て現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂
化液で後処理される。本発明にかかる平版印刷版材料を
印刷用版材として使用する場合の後処理としては、これ
らの処理を種々組み合わせて用いることができる。
In the case of further developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of lithographic printing plate material can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as required for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, if necessary, the developer and replenisher may be hydroquinone, resorcin, sulfurous acid,
A reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener can also be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. When the lithographic printing plate material according to the present invention is used as a printing plate material, these processes can be used in various combinations as a post-treatment.

【0103】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。
In recent years, in the plate making and printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally consists of a developing section and a post-processing section, and consists of a device for transporting printing plate material, each processing solution tank and a spray device, and pumps the exposed printing plate horizontally while pumping it. Each processing liquid is sprayed from a spray nozzle to perform development processing.
Recently, a method has been known in which a printing plate material is immersed and transported by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid, and the processing is performed. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0104】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、バーニング処理面を、
特公昭61−2518号、同55−28062号、特開
昭62−31859号、同61−159655号の各公
報に記載されているような整面液で処理することが好ま
しい。その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポ
ンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液
を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法
や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、
塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラー
で、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果
を与える。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g
/m2 (乾燥重量)が適当である。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum if desired, but when it is desired to obtain a lithographic printing plate having a higher printing durability. Is subjected to a burning process. If you plan to burn the lithographic printing plate,
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-B-61-2518, JP-B-55-28062, JP-A-62-31859 and JP-A-61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Also,
Making the amount of the coating uniform with a squeegee or a squeegee roller after the coating gives more preferable results. The application amount of surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g
/ M 2 (dry weight) is appropriate.

【0105】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従
来より行われている処理を施こすことができるが水溶性
高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には
ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することが
できる。この様な処理によって得られた平版印刷版はオ
フセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられ
る。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried, if necessary, and then heated to a high temperature by a burning processor (for example, BP-1300, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 180 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred. The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface conditioning liquid containing a water-soluble polymer compound or the like is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0106】[0106]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例1 厚さ0.30mmのアルミニウム板(材質1050)を
トリクロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラ
シと400メッシュのパミストン−水懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てし、よく水で洗浄した。この板を45
℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエ
ッチングを行い水洗後、更に2%HNO 3 により20秒
間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面のエッチン
グ量は約3g/m2 であった。次にこの板を7%H2
4 を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/m
2 の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。次に
このアルミニウム板に下記下塗り液を塗布し、80℃、
30秒乾燥した。乾燥後の被覆量は10mg/m2 であ
った。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these.Example 1 0.30mm thick aluminum plate (material 1050)
After washing with trichlorethylene and degreasing,
And a 400 mesh pumicestone-water suspension.
Was grained and washed well with water. 45
Dipped in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide for 9 seconds.
After washing with water, further 2% HNO Three20 seconds
It was immersed in water for washing. Etching on the grained surface at this time
Approximately 3 g / mTwoMet. Next, this plate isTwoS
OFourCurrent density 15A / dmTwo3g / m
Two, And then washed with water and dried. next
The following undercoating liquid is applied to this aluminum plate,
Dry for 30 seconds. The amount of coating after drying is 10 mg / mTwoIn
Was.

【0107】(下塗り液) ・β−アラニン 0.1 g ・フェニルホスホン酸 0.05g ・メタノール 40 g ・純水 60 g 更にこのアルミニウム板に下記感光液を塗布し、ポジ型
平版印刷版を作製した。
(Undercoat solution) 0.1 g of β-alanine 0.05 g of phenylphosphonic acid 40 g of methanol 60 g of pure water Further, the following photosensitive solution was applied to this aluminum plate to prepare a positive type lithographic printing plate. did.

【0108】 (感光液) ・赤外線吸収染料(前記化合物1) 0.10g ・ナフトキノン−1,2−ジアジド−スルホニルクロリドとピ ロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特許 第3,635,709号明細書実施例1に記載されてい るもの) 0.90g ・クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 (メタ:パラ比=6:4、重量平均分子量1800) 2.00g ・p−オクチルフェノール−ホルムアルデヒドノボラック 0.02g ・ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホニルクロリド 0.01g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・4−(p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミ ノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s −トリアジン 0.02g ・4−(p−N−(p−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェニ ル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア ジン 0.02g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン −スルホン酸にした染料 0.03g ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系界面活性剤) 0.06g ・メチルエチルケトン 20 g ・メチルアルコール 7 g(Photosensitive solution) ・ Infrared absorbing dye (compound 1) 0.10 g ・ Esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin (US Pat. No. 3,635,709) Novolak resin obtained from cresol and formaldehyde (meta: para ratio = 6: 4, weight average molecular weight 1800) 2.00 g p-octylphenol-formaldehyde novolak 0 .02 g Naphthoquinone-1,2-diazido-4-sulfonyl chloride 0.01 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.05 g 4- (pN, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl) -2,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 g pN- (p-hydroxybenzoyl) aminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 g Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0 0.03 g-Megafac F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) 0.06 g-Methyl ethyl ketone 20 g-Methyl alcohol 7 g

【0109】得られたポジ型平版印刷用版材を、版面出
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写真
フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス
液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処
理した。感度は、90mJ/cm2 であった。次いで富
士写真フイルム(株)製ガムGU−7(1:1)で版面
を処理し、ハイデルKOR−D機で印刷した。非画像部
に汚れのない良好な印刷物が70,000枚得られた。
The obtained positive type lithographic printing plate material was exposed with a YAG laser adjusted to a plate surface output of 2 W, and then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8), rinse solution FR -3 (1: 7) through an automatic processor. The sensitivity was 90 mJ / cm 2 . Subsequently, the plate surface was treated with gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and printing was performed with a Heidel KOR-D machine. 70,000 good prints without stains on the non-image area were obtained.

【0110】次に、前記ポジ型平版印刷用版材を温度4
5℃、相対湿度75%の耐久環境下で3日間放置し、上
記同様、露光、処理および印刷を行ったが、かかる耐久
環境下に放置しない場合と同様に、非画像部に汚れのな
い、良好な印刷物が得られた。
Next, the positive type lithographic printing plate material was heated at a temperature of 4 ° C.
It was left for 3 days in a durable environment of 5 ° C. and 75% relative humidity, and was exposed, processed and printed in the same manner as described above. Good printed matter was obtained.

【0111】比較例1 赤外線吸収染料として、IRG−022(日本化薬社製
ジインモニウム染料)0.20gを用いるほかは、実施
例1と同様の操作をして、ポジ型平版印刷版を作製し
た。実施例1と同様のレーザ露光、現像処理を行ったと
ころ、300mJ/cm2の感度を示し、非画像部に残
色が生じた。この版を実施例1と同様の条件で印刷した
ところ、非画像部に印刷汚れを生じた。
Comparative Example 1 A positive type lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.20 g of IRG-022 (a diimmonium dye manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used as the infrared absorbing dye. . When the same laser exposure and development processing as in Example 1 were performed, the sensitivity was 300 mJ / cm 2 , and a residual color was generated in the non-image portion. When this plate was printed under the same conditions as in Example 1, printing stains occurred on the non-image area.

【0112】実施例2 赤外線吸収染料として、前記化合物1を0.10gとI
RG−022(日本化薬社製ジインモニウム染料)0.
10gとの混合物を用いるほかは、実施例1と同様の操
作をして、ポジ型平版印刷版を作製した。実施例1と同
様のレーザ露光、現像処理を行ったところ、100mJ
/cm2の感度を示した。この版は、印刷時の耐久性に
優れており、実施例1と同様の条件で印刷を行ったとこ
ろ、非画像部に汚れのない良好な印刷物が80,000
枚得られた。
Example 2 As an infrared absorbing dye, 0.10 g of Compound 1 was added to
RG-022 (a diimmonium dye manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
A positive planographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture with 10 g was used. When the same laser exposure and development processing as in Example 1 were performed, 100 mJ
/ Cm 2 . This plate was excellent in durability at the time of printing. When printing was performed under the same conditions as in Example 1, a good printed matter having no stain on the non-image portion was 80,000.
Were obtained.

【0113】次に、前記ポジ型平版印刷用版材を温度4
5℃、相対湿度75%の耐久環境下で3日間放置し、上
記同様、露光、処理および印刷を行ったが、かかる耐久
環境下に放置しない場合と同様に、非画像部に汚れのな
い、良好な印刷物が得られた。
Next, the positive type lithographic printing plate material was heated at a temperature of 4 ° C.
It was left for 3 days in a durable environment of 5 ° C. and 75% relative humidity, and was exposed, processed and printed in the same manner as described above. Good printed matter was obtained.

【0114】実施例3 赤外線吸収染料として、前記化合物26を用いるほか
は、実施例1と同様の操作をして、ポジ型平版印刷版を
作製した。得られたポジ型平版印刷用版材を、ヒートモ
ードレーザとしての半導体レーザ(波長825nm、ビ
ーム径:1/e2 =6μm)を用い、線速度8m/se
cで版面出力110mWに調節し、露光した。露光後1
10℃で1分間加熱処理した後、富士写真フイルム
(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス液FR−
3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処理した。
感度は、100mJ/cm2 であった。次いで富士写真
フイルム(株)製ガムGU−7(1:1)で版面を処理
し、ハイデルKOR−D機で印刷した。非画像部に汚れ
のない良好な印刷物が65,000枚得られた。
Example 3 A positive type lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound 26 was used as an infrared absorbing dye. Using a semiconductor laser (wavelength: 825 nm, beam diameter: 1 / e 2 = 6 μm) as a heat mode laser, the obtained positive type lithographic printing plate material was subjected to a linear velocity of 8 m / sec.
The exposure was adjusted to a plate output of 110 mW with c. After exposure 1
After a heat treatment at 10 ° C. for 1 minute, a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8), a rinsing solution FR-
3 (1: 7) through an automatic processor.
The sensitivity was 100 mJ / cm 2 . Subsequently, the plate surface was treated with gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and printing was performed with a Heidel KOR-D machine. 65,000 good prints with no stain on the non-image area were obtained.

【0115】次に、前記ポジ型平版印刷用版材を温度4
5℃、相対湿度75%の耐久環境下で3日間放置し、上
記同様、露光、処理および印刷を行ったが、かかる耐久
環境下に放置しない場合と同様に、非画像部に汚れのな
い、良好な印刷物が得られた。
Next, the positive type lithographic printing plate was heated at a temperature of 4 ° C.
It was left for 3 days in a durable environment of 5 ° C. and 75% relative humidity, and was exposed, processed and printed in the same manner as described above. Good printed matter was obtained.

【0116】実施例4 厚さ0.24mmのアルミニウム板をナイロンブラシと
400メッシュのパミストン−水濁液を用いその表面を
砂目立てした後、よく水で洗浄して基板[I]を用意し
た。基板[I]を10%水酸化ナトリウムに70℃で2
0秒間浸漬してエッチングした後流水で水洗後、20%
HNO3 で中和洗浄、水洗し、12.7Vの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて0.7%硝酸水溶液中で4
00クーロン/dm2 の電気量で電解粗面化処理を行
い、水洗して基板[II]を用意した。
Example 4 An aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was grained with a nylon brush and a 400-mesh pumistone-water suspension, and then thoroughly washed with water to prepare a substrate [I]. Substrate [I] was placed in 10% sodium hydroxide at 70 ° C for 2 hours.
After immersion for 0 seconds and etching, after washing with running water, 20%
Neutralized washing with HNO 3 , washing with water, and 4% in 0.7% nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at 12.7 V
Electrolytic surface roughening treatment was performed at an amount of electricity of 00 coulomb / dm 2 , and the substrate was washed with water to prepare a substrate [II].

【0117】この基板[II]を10%水酸化ナトリウム
水溶液中で表面の溶解量が0.9g/m2 になるように
処理した。水洗後、20%硝酸溶液中で中和、洗浄して
デスマットを行った後、18%硝酸水溶液中で、酸化皮
膜量が3g/m2 になるように陽極酸化処理した。次に
下記感光液を調製し、上記の陽極酸化されたアルミニウ
ム板上に塗布し、100℃で2分間乾燥してポジ型平版
印刷版を作製した。この時の塗布量は乾燥重量で2.3
g/m2 であった。
The substrate [II] was treated in a 10% aqueous sodium hydroxide solution so that the amount of the surface dissolved was 0.9 g / m 2 . After washing with water, neutralization and washing were performed in a 20% nitric acid solution to perform desmutting, and then anodizing was performed in an 18% nitric acid aqueous solution so that the amount of the oxide film was 3 g / m 2 . Next, the following photosensitive solution was prepared, applied on the anodized aluminum plate, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to prepare a positive type lithographic printing plate. The coating amount at this time was 2.3 in dry weight.
g / m 2 .

【0118】 (感光液の組成) ・2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノ ン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリドとのエ ステル化物(エステル化率:90mol%) 0.45 g ・N−(p−アミノスルフォニルフェニル)メタクリルアミ ドとメタクリル酸メチルの共重合体(ヨーロッパ特許第 330,239(A2 )号明細書の実施例1に記載され ているもの) 1.70 g ・ナフタレン−2−スルホン酸 0.007g ・クレゾール(メタ体60%、オルト体40%)−ホルムア ルデヒド樹脂(重量平均分子量;4,000) 0.70 g ・2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロ ロメチル)−s−トリアジン 0.02 g ・ナフトキノン−1,2−ジアジド−スルホニルクロリド 0.01 g ・ビクトリアピュアブル−BOH(保土谷化学(株)製の染 料) 0.015g ・赤外線吸収染料(前記化合物1) 0.2 g ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.004g ・ジメチルホルムアミド 4 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 9 g ・メチルエチルケトン 7 g(Composition of Photosensitive Solution) Esterified product of 2,3,4-trihydroxybenzophenone and naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride (esterification ratio: 90 mol%) 0.45 g · N-(p-amino sulfonyl phenyl) copolymer of methacrylic Ami de and methyl methacrylate (described in example 1 of European Patent No. 330,239 (a 2) Pat) 1.70 g・ Naphthalene-2-sulfonic acid 0.007 g ・ Cresol (meta form 60%, ortho form 40%)-formaldehyde resin (weight average molecular weight; 4,000) 0.70 g ・ 2- (p-methoxyphenyl)- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 g naphthoquinone-1,2-diazide-sulfonyl chloride 1 g ・ Victoria Pureable-BOH (Dye manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.015 g ・ Infrared absorbing dye (compound 1) 0.2 g ・ MegaFac F-177 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Fluorinated surfactant) 0.004 g ・ Dimethylformamide 4 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 9 g ・ Methyl ethyl ketone 7 g

【0119】得られたポジ型平版印刷版を版面出力2W
に調整したYAGレーザで露光し、DP−4(商品名:
富士写真フイルム(株)製)の8倍希釈水溶液で25℃
において60秒間浸漬現像した。感度は、90mJ/c
2 であった。
The obtained positive type lithographic printing plate was subjected to plate surface output 2 W
Exposure with a YAG laser adjusted to DP-4 (trade name:
25 ° C with an 8-fold diluted aqueous solution of Fuji Photo Film Co., Ltd.)
For 60 seconds. Sensitivity is 90mJ / c
m 2 .

【0120】得られた平版印刷版の耐刷力は、UVイン
キ使用時45,000枚、油性インキ使用時90,00
0枚と優れたものであった。またこの平版印刷版はUV
インキ用洗浄液耐性に優れたものであった。
The printing durability of the obtained lithographic printing plate was 45,000 when using UV ink and 90,000 when using oil-based ink.
It was excellent at 0 sheets. This lithographic printing plate is UV
It was excellent in resistance to the cleaning liquid for ink.

【0121】次に、前記ポジ型平版印刷用版材を温度4
5℃、相対湿度75%の耐久環境下で3日間放置し、上
記同様、露光、処理および印刷を行ったが、かかる耐久
環境下に放置しない場合と同様に、非画像部に汚れのな
い、良好な印刷物が得られた。
Next, the positive type lithographic printing plate material was heated at a temperature of 4 ° C.
It was left for 3 days in a durable environment of 5 ° C. and 75% relative humidity, and was exposed, processed and printed in the same manner as described above. Good printed matter was obtained.

【0122】[0122]

【発明の効果】本発明では、上記特定の赤外線吸収染料
を用いることにより、コンピュータ等のディジタルデー
タから直接製版可能であり、高感度で、保存安定性に優
れ、印刷適性に優れ、かつ印刷汚れの出ないレーザ直描
型平版印刷版材料を提供することができる。
According to the present invention, plate making can be made directly from digital data of a computer or the like by using the above-mentioned specific infrared-absorbing dye, high sensitivity, excellent storage stability, excellent printability, and excellent printing stains. The present invention can provide a laser direct drawing type lithographic printing plate material which does not produce any problem.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルカリ可溶性バインダーと、該バイン
ダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させる物質と、前
記バインダーのアルカリ可溶性を実質的に低下させない
赤外線吸収染料と、を含むことを特徴とするレーザ直描
型平版印刷版材料。
1. A laser direct drawing comprising an alkali-soluble binder, a substance that substantially reduces the alkali solubility of the binder, and an infrared absorbing dye that does not substantially lower the alkali solubility of the binder. Lithographic printing plate material.
【請求項2】 前記バインダーのアルカリ可溶性を実質
的に低下させない赤外線吸収染料が、対イオンの存在位
置が同一分子内に限られる塩構造を有することを特徴と
する請求項1に記載のレーザ直描型平版印刷版材料。
2. The laser direct dye according to claim 1, wherein the infrared absorbing dye which does not substantially reduce the alkali solubility of the binder has a salt structure in which the counter ion is located within the same molecule. Lithographic printing plate material.
【請求項3】 更に前記バインダーのアルカリ可溶性を
実質的に低下させる赤外線吸収染料を含むことを特徴と
する請求項1又は2に記載のレーザ直描型平版印刷版材
料。
3. The lithographic printing plate material according to claim 1, further comprising an infrared absorbing dye which substantially reduces the alkali solubility of the binder.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000171975A (en) * 1998-12-02 2000-06-23 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate
WO2007091683A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-16 Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. Bissquarylium compound

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000171975A (en) * 1998-12-02 2000-06-23 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate
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