JPH11288093A - Positive type photosensitive composition for infrared laser - Google Patents
Positive type photosensitive composition for infrared laserInfo
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- JPH11288093A JPH11288093A JP9314398A JP9314398A JPH11288093A JP H11288093 A JPH11288093 A JP H11288093A JP 9314398 A JP9314398 A JP 9314398A JP 9314398 A JP9314398 A JP 9314398A JP H11288093 A JPH11288093 A JP H11288093A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ
型感光性組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material which can be used as an offset printing master, and more particularly to a positive type photosensitive composition for an infrared laser for so-called direct plate making which can be directly made from digital signals of a computer or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。2. Description of the Related Art In recent years, lasers have been remarkably developed.
2. Description of the Related Art Semiconductor lasers are easily available in small size with high output. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like.
【0003】赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版材料は、
アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し
熱を発生するIR染料等とを必須成分とし、IR染料等
が、非露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互
作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させ
る溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発
生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作
用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平板印刷版を形成
する。しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型
平板印刷版材料には、現像前の状態が不安定であり、取
扱い時に表面に触れる等により、わずかに表面状態が変
動した場合にも、現像時に非露光部(画像部)が溶解し
てしまうという問題があった。このような問題は、赤外
線レーザ用ポジ型平板印刷版材料とUV露光により製版
するポジ型平板印刷版材料との製版メカニズムの本質的
な相違に由来する。すなわち、UV露光により製版する
ポジ型平板印刷版材料では、アルカリ水溶液可溶性のバ
インダー樹脂と、オニウム塩やキノンジアジド化合物類
とを必須成分とするが、このオニウム塩やキノンジアジ
ド化合物類は、非露光部(画像部)でバインダー樹脂と
の相互作用により溶解阻止剤として働くだけでなく、露
光部(非画像部)では、光によって分解して酸を発生
し、溶解促進剤として働くという二つの役割を果たすも
のである。これに対し、赤外線レーザ用ポジ型平板印刷
版材料におけるIR染料等は、非露光部(画像部)の溶
解阻止剤として働くのみで、露光部(非画像部)の溶解
を促進するものではない。従って、赤外線レーザ用ポジ
型平板印刷版材料において、非露光部と露光部との溶解
性の差を出すためには、バインダー樹脂として、あらか
じめアルカリ現像液に対する溶解性の高いものを使用せ
ざるを得ず、現像前の状態が不安定なものとなるのであ
る。[0003] Positive lithographic printing plate materials for infrared lasers are:
An essential component is an alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an IR dye or the like that absorbs light and generates heat. The IR dye or the like dissolves in the non-exposed area (image area) by interaction with the binder resin. In the exposed area (non-image area), the interaction between the IR dye etc. and the binder resin is weakened by the heat generated in the exposed area (non-image area), dissolving in the alkaline developer to form a lithographic printing plate. I do. However, such a positive lithographic printing plate material for an infrared laser has an unstable state before development. Even if the surface state slightly changes due to touching the surface during handling, etc., it is not exposed to light during development. There is a problem that the part (image part) is dissolved. Such a problem stems from an essential difference in the plate making mechanism between the positive lithographic printing plate material for infrared laser and the positive lithographic printing plate material made by UV exposure. That is, in a positive lithographic printing plate material made by UV exposure, a binder resin soluble in an aqueous alkali solution and an onium salt or a quinonediazide compound are essential components. In the image area), not only does it act as a dissolution inhibitor due to the interaction with the binder resin, but also in the exposed area (non-image area), it is decomposed by light to generate acid and acts as a dissolution promoter. Things. On the other hand, the IR dye or the like in the positive type lithographic printing plate material for an infrared laser only functions as a dissolution inhibitor in a non-exposed part (image part) and does not promote dissolution in an exposed part (non-image part). . Therefore, in order to obtain a difference in solubility between the non-exposed portion and the exposed portion in the infrared laser positive lithographic printing plate material, a binder resin having high solubility in an alkali developing solution must be used in advance. As a result, the state before development becomes unstable.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、現像前の状態が安定であり、取扱い性に優れるダイ
レクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物を提
供することである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a positive photosensitive composition for an infrared laser for direct plate making, which has a stable state before development and is excellent in handleability.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意研究
を重ねた結果、特定のフッ素含有ポリマーを赤外線レー
ザ用ポジ型感光性組成物に添加することにより、これか
ら得られたポジ型平板印刷版材料の現像前の状態が安定
化することを見出し、本発明を完成するに到った。即
ち、本発明は下記(a)〜(c)を含有する赤外線レー
ザ用ポジ型感光性組成物である。(a)光を吸収し熱を
発生する物質、(b)フェノール性水酸基を有するアル
カリ水溶液可溶性樹脂、(c)少なくとも下記(1)〜
(3)を共重合成分として含むフッ素含有ポリマー、
(1)炭素原子上の水素原子がフッ素原子で置換されて
いるフルオロ脂肪族基を側鎖に有する付加重合可能なフ
ッ素含有モノマー、(2)下記の構造〔1〕乃至〔4〕
で示されるモノマー、Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that by adding a specific fluorine-containing polymer to a positive photosensitive composition for infrared laser, a positive plate obtained therefrom is obtained. It has been found that the state of the printing plate material before development is stabilized, and the present invention has been completed. That is, the present invention is a positive photosensitive composition for an infrared laser containing the following (a) to (c). (A) a substance that absorbs light to generate heat; (b) a resin soluble in an aqueous alkaline solution having a phenolic hydroxyl group; (c) at least the following (1) to
A fluorine-containing polymer containing (3) as a copolymer component,
(1) an addition-polymerizable fluorine-containing monomer having a fluoroaliphatic group in which a hydrogen atom on a carbon atom is replaced by a fluorine atom in a side chain; (2) the following structures [1] to [4]
A monomer represented by
【0006】[0006]
【化3】 Embedded image
【0007】〔式中、A1 は水素原子、ハロゲン原子又
はアルキル基を示し、Wは酸素、又は−NR1 −であ
り、R1 は水素原子、アルキル基、アリール基を表し、
R2 は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
有していてもよいアリール基を示し、R3 はアルキル
基、アリール基を表し、Uはシアノ基、アリール基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシメチル
基、窒素原子を含むヘテロ環、若しくは−CH2 OCO
R3 (R3 は上記と同義)を表す〕(3)酸性水素原子
を持ち、該酸性水素原子が窒素原子に結合した酸性基を
有する付加重合可能なモノマー また、バインダー樹脂として、フェノール性水酸基を有
するアルカリ水溶液可溶性樹脂と、下記(4)〜(6)
のうち少なくとも一つを共重合成分として10モル%以
上含む共重合体とを併用した場合には、前記フッ素含有
ポリマーの添加の効果が顕著である。 (4)1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基を有するモノマー (5)1分子中に、下記の式で表される活性イミノ基を
有するモノマーWherein A 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, W represents oxygen or —NR 1 —, and R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group;
R 2 represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent; R 3 represents an alkyl group or an aryl group; U is a cyano group, an aryl group, or an alkoxy group; , An aryloxy group, an acyloxymethyl group, a heterocycle containing a nitrogen atom, or —CH 2 OCO
R 3 (R 3 is as defined above)] (3) An addition-polymerizable monomer having an acidic hydrogen atom and having an acidic group in which the acidic hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom. Further, a phenolic hydroxyl group is used as a binder resin. An alkaline aqueous solution-soluble resin having the following formulas (4) to (6):
When a copolymer containing at least one of them as a copolymer component in an amount of 10 mol% or more is used in combination, the effect of adding the fluorine-containing polymer is remarkable. (4) A monomer having a sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom in one molecule. (5) A monomer having an active imino group represented by the following formula in one molecule.
【0008】[0008]
【化4】 Embedded image
【0009】(6)それぞれフェノール性水酸基を有す
るアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エス
テル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレ
ン(6) Acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, or hydroxystyrene each having a phenolic hydroxyl group
【0010】本発明において、前記フッ素含有ポリマー
を添加することにより、これから得られたポジ型平板印
刷版材料の現像前の状態が安定化する理由は定かではな
いが、添加しない場合と比較して、得られたポジ型平板
印刷版材料表面の静摩擦係数が低下することから、本発
明の感光性組成物を支持体上に塗布・乾燥した状態で
は、前記フッ素含有ポリマーが、得られたポジ型平板印
刷版材料の表面に浮き出て、被膜を形成し、これが保護
膜としての役割を果たしているものと推察される。In the present invention, the reason why the addition of the above-mentioned fluorine-containing polymer stabilizes the state of the positive-working lithographic printing plate material obtained before development before development is not clear, but compared with the case where it is not added. Since the static friction coefficient of the surface of the obtained positive type lithographic printing plate material is reduced, the fluorine-containing polymer is coated with the photosensitive composition of the present invention on a support and dried. It is presumed that the film emerges on the surface of the lithographic printing plate material to form a film, which functions as a protective film.
【0011】本発明によれば、前記フッ素含有ポリマー
の添加により、現像前の状態が安定であり、取扱い性に
優れるダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型感光性
組成物が提供される。According to the present invention, there is provided a positive photosensitive composition for an infrared laser for direct plate making, which is stable in a state before development and excellent in handleability by adding the fluorine-containing polymer.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。 〔フッ素含有ポリマー〕本発明で使用される(c)フッ
素含有ポリマーは、少なくとも下記(1)〜(3)を共
重合成分として含む。成分(1)である、炭素原子上の
水素原子がフッ素原子で置換されているフルオロ脂肪族
基とは、通常飽和されかつ一般に1価、2価の脂肪族基
である。これは直鎖、分岐鎖、及び環式のものを含む。
フルオロ脂肪族基は本発明の目的において十分な効果を
発揮するためには、3〜20、好ましくは6〜12の炭
素原子を有し、かつフッ素含有モノマーの全量を基礎と
したときに40重量%以上、好ましくは50重量%以上
の、炭素原子に結合したフッ素を有する。好適なフルオ
ロ脂肪族基は、CnF2n+1−(nは1以上好ましくは3
以上の整数)のように実質上完全にまたは十分にフッ素
化されたパーフルオロ脂肪族基(以下、Rf基とも略
す)である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. [Fluorine-containing polymer] The (c) fluorine-containing polymer used in the present invention contains at least the following (1) to (3) as a copolymer component. The component (1), a fluoroaliphatic group in which a hydrogen atom on a carbon atom is substituted with a fluorine atom, is usually a saturated and generally monovalent or divalent aliphatic group. This includes linear, branched and cyclic.
The fluoroaliphatic group must have from 3 to 20, preferably from 6 to 12, carbon atoms in order to achieve a satisfactory effect for the purposes of the present invention, and have a weight of 40% based on the total amount of fluorine-containing monomer. %, Preferably at least 50% by weight of fluorine bonded to carbon atoms. Suitable fluoroaliphatic groups are C n F 2n + 1- (n is one or more, preferably 3
A perfluoroaliphatic group (hereinafter also abbreviated as Rf group) substantially completely or sufficiently fluorinated as in the above integer.
【0013】成分(1)として示される炭素原子上の水
素原子がフッ素原子で置換されているフルオロ脂肪族基
を有する付加重合可能なモノマーにおける付加重合性部
としてはラジカル重合可能な不飽和基を持つビニル及び
その誘導体が用いられる。付加重合性部のうち好ましい
ものはアクリレート、メタクリレート、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、スチレン、ビニル及びこれらの
誘導体である。フルオロ脂肪族基が結合したアクリレー
ト,メタクリレートの具体例としては、例えば、Rf−
R′−OOC−C(R″)=CH2(ここでR′は、例
えば、単結合、アルキレン、スルホンアミドアルキレ
ン、またはカルボンアミドアルキレンであり、R″は水
素原子、メチル基、ハロゲン原子、またはパーフルオロ
脂肪族基)で表される化合物が挙げられる。The addition-polymerizable monomer in the addition-polymerizable monomer having a fluoroaliphatic group in which a hydrogen atom on a carbon atom is replaced by a fluorine atom, which is represented by the component (1), may be a radically polymerizable unsaturated group. Vinyl and its derivatives are used. Preferred among the addition-polymerizable parts are acrylate, methacrylate, acrylamide, methacrylamide, styrene, vinyl and derivatives thereof. Specific examples of acrylates and methacrylates to which a fluoroaliphatic group is bonded include, for example, Rf-
R'-OOC-C (R " ) = CH 2 ( wherein R ', for example, a single bond, alkylene, sulfonamido alkylene or carbonamido alkylene,, R" is a hydrogen atom, a methyl group, a halogen atom, Or a perfluoroaliphatic group).
【0014】これらの具体例としては例えば米国特許第
2803615号、同第2642416号、同第282
6564号、同第3102103号、同第328290
5号、及び同第3304278号、特開平6−2562
89号、特開昭62−1116号、特開昭62−487
72号、特開昭63−77574号、特開昭62−36
657号に記載のもの及び日本化学会誌1985(No.
10)1884〜1888頁記載のものを挙げることが
できる。またこれらのフルオロ脂肪族基結合モノマーの
ほかにも、Reports Res. Lab.Asahi Glass Co. Ltd.,
34巻1984年27〜34頁記載のフルオロ脂肪族基
結合マクロマーを優位に用いることができる。またフル
オロ脂肪族基結合モノマーとしては、下記構造式の様な
パーフルオロアルキル基の長さの異なる混合物も用いる
ことができる。Specific examples of these are disclosed in US Pat. Nos. 2,803,615, 2,642,416, and 282.
No. 6564, No. 3102103, No. 328290
No. 5, No. 3,304,278, JP-A-6-2562.
No. 89, JP-A-62-1116, JP-A-62-487
No. 72, JP-A-63-77574, JP-A-62-36
657 and the Chemical Society of Japan 1985 (No.
10) Those described on pages 1884-1888. In addition to these fluoroaliphatic group-bonding monomers, Reports Res.Lab.Asahi Glass Co. Ltd.,
34, 1984, pp. 27-34, can be used to advantage. Further, as the fluoroaliphatic group-bonding monomer, a mixture having different lengths of perfluoroalkyl groups represented by the following structural formula can also be used.
【0015】[0015]
【化5】 Embedded image
【0016】本発明で用いられるフッ素含有ポリマー中
に用いられるこれらのフルオロ脂肪族基含有モノマーの
量は、該ポリマーの重量に基づいて3〜70重量%であ
り、好ましくは7〜40重量%の範囲である。The amount of these fluoroaliphatic group-containing monomers used in the fluorine-containing polymer used in the present invention is 3 to 70% by weight, preferably 7 to 40% by weight based on the weight of the polymer. Range.
【0017】成分(2)として用いられるモノマーは、
下記構造〔1〕〜〔4〕で示される。The monomer used as the component (2) is
The following structures [1] to [4] are shown.
【0018】[0018]
【化6】 Embedded image
【0019】式中、A1 は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を示し、Wは酸素、又は−NR1 −であり、
R1 は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。R2
は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基を示し、R3 はアルキル基、ア
リール基を表し、Uはシアノ基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アシルオキシメチル基、窒素
原子を含むヘテロ環、若しくは−CH2 OCOR3 (R
3 は上記と同義)を表す。構造〔1〕〜〔4〕で示され
るモノマーの好ましい範囲としては、A1 は水素原子、
ハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、W
は酸素、又は−NR1 −であり、R1 は水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基
を表す。R2 は置換基を有していてもよい炭素数1〜8
のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール
基、R3 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜2
0のアリール基を表す。Uはシアノ基、アリール基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシメチル
基、窒素原子を含むヘテロ環、若しくは−CH2 OCO
R3 (R3 は上記と同義)を表す。In the formula, A 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, W is oxygen or —NR 1 —,
R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 2
Represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, R 3 represents an alkyl group or an aryl group, and U represents a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryl group. An oxy group, an acyloxymethyl group, a heterocycle containing a nitrogen atom, or —CH 2 OCOR 3 (R
3 is the same as defined above). As a preferable range of the monomer represented by the structure [1] to [4], A 1 is a hydrogen atom,
A halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
Is oxygen or —NR 1 —, and R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. R 2 has 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent.
R 3 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group which may have a substituent,
Represents an aryl group of 0. U is a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxymethyl group, a heterocycle containing a nitrogen atom, or —CH 2 OCO
R 3 (R 3 is as defined above).
【0020】R2 が置換基を有していてもよいアルキル
基のとき、その置換基としてはフッ素、クロロ、ブロモ
などのハロゲン原子、水酸基、メトキシ、エトキシなど
のアルコキシ基、フェノキシなどのアリールオキシ基、
シアノ基、アセトアミドなどのアミド基、エトキシカル
ボニル基のようなアルコキシカルボニル基などを挙げる
ことができる。R2 が置換基を有していてもよいアリー
ル基のときその置換基としては上記の他、メチル基を挙
げることができる。When R 2 is an alkyl group which may have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom such as fluorine, chloro and bromo; a hydroxyl group; an alkoxy group such as methoxy and ethoxy; and an aryloxy group such as phenoxy. Group,
Examples include an amide group such as a cyano group and acetamide, and an alkoxycarbonyl group such as an ethoxycarbonyl group. When R 2 is an aryl group which may have a substituent, examples of the substituent include a methyl group in addition to the above.
【0021】成分(2)の好ましい具体的化合物を以下
に示す。例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アク
リレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、
オクチル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メ
タ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシルプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシブチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)
アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート、テト
ラヒドロフリル(メタ)アクリレート、フェニル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリ
レート、クレジル(メタ)アクリレート、ナフチル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メ
トキシベンジル(メタ)アクリレート等の(メタ)アク
リル酸エステル類;(メタ)アクリルアミド、N−エチ
ル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アク
リルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−
ヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−オクチル(メ
タ)アクリルアミド、N−シクロヘキシル(メタ)アク
リルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、
N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ベ
ンジル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)
アクリルアミド、N−ニトロフェニル(メタ)アクリル
アミド、N−トリル(メタ)アクリルアミド、N−ヒド
ロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メ
タ)アクリルアミド、N,N−ジシクロヘキシル(メ
タ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類;N
−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−プロ
ピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−ペンチル
マレイミド、N−n−ヘキシルマレイミド、N−ラウリ
ルマレイミド、N−ステアリルマレイミド、N−シクロ
ヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−ク
ロロフェニルマレイミド、N−トリルマレイミド、N−
ヒドロキシマレイミド、N−ベンジルマレイミド等のN
−置換マレイミド類;酢酸アリル、カプロン酸アリル、
ステアリン酸アリル、アリルオキシエタノール等のアリ
ル化合物;エチルビニルエーテル、プロピルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテ
ル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビ
ニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテ
ル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル、トリルビニルエーテル、ジエチルアミ
ノエチルビニルエーテル等のビニルエーテル類:ビニル
アセテート、ビニルブチレート、ビニルカプロエート、
ビニルクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、
ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、
安息香酸ビニル、クロル安息香酸ビニル等のビニルエス
テル類;スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、クロルメチルスチレン、エトキ
シメチルスチレン、ヒドロキシスチレン、クロルスチレ
ン、ブロムスチレン等のスチレン類;N−ビニルピロリ
ドン、N−ビニルピリジン、アクリロニトリル等が挙げ
られる。これらの成分(2)のうち特に好ましいのは、
構造〔1〕又は〔3〕で示されるモノマーである。Preferred specific compounds of the component (2) are shown below. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate,
Octyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-
Hydroxylpropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-
Phenoxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth)
Acrylate, furfuryl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, hydroxyphenyl (meth) acrylate, cresyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, methoxybenzyl (meth) ) (Meth) acrylic esters such as acrylates; (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-
Hexyl (meth) acrylamide, N-octyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide,
N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth)
Acrylamide, N-nitrophenyl (meth) acrylamide, N-tolyl (meth) acrylamide, N-hydroxyphenyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, (Meth) acrylamides such as N-dicyclohexyl (meth) acrylamide; N
-Methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-butylmaleimide, N-pentylmaleimide, Nn-hexylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-stearylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide , N-chlorophenylmaleimide, N-tolylmaleimide, N-
N such as hydroxymaleimide and N-benzylmaleimide
-Substituted maleimides; allyl acetate, allyl caproate,
Allyl compounds such as allyl stearate and allyloxyethanol; ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, Vinyl ethers such as phenyl vinyl ether, tolyl vinyl ether and diethylaminoethyl vinyl ether: vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl caproate,
Vinyl chloroacetate, vinyl methoxyacetate,
Vinylphenyl acetate, vinyl acetoacetate,
Vinyl esters such as vinyl benzoate and vinyl chlorobenzoate; styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, dimethylstyrene, chloromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, hydroxystyrene, chlorostyrene, and bromostyrene; Vinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, acrylonitrile and the like. Particularly preferred of these components (2) are
It is a monomer represented by the structure [1] or [3].
【0022】成分(3)である、酸性水素原子を持ち、
該酸性水素原子が窒素原子に結合した酸性基としては、
文献公知の酸性基のいずれも用いることが出来る。酸性
基の公知文献としては、J.A.Dean ed., Lange's Handbo
ok of Chemistry 3rd. ed. 1985 McGraw-Hill Book Co.
を挙げることが出来る。これらの酸性基のうち酸性水
素原子が窒素原子に結合した酸性基の部分構造の具体的
なものとして、下記〔A〕〜〔G〕で表されるものを挙
げることが出来る。 −SO2 NH2 〔A〕 −SO2 NH− 〔B〕 −CONHSO2 − 〔C〕 −CONHCO− 〔D〕 −SO2 NHSO2 − 〔E〕 −CONHSO2 NH− 〔F〕 −NHCONHSO2 − 〔G〕 またこれらの構造以外にも特開平7−248628号公
報記載のカップラー構造を有する窒素含有ヘテロ環構造
も含まれる。これらの窒素含有ヘテロ環構造の例として
は下記〔H〕,〔I〕で表されるものを挙げることがで
きる。Having an acidic hydrogen atom which is a component (3);
As the acidic group in which the acidic hydrogen atom is bonded to the nitrogen atom,
Any of the acidic groups known in the literature can be used. Known literature on acidic groups includes JADean ed., Lange's Handbo
ok of Chemistry 3rd.ed.1985 McGraw-Hill Book Co.
Can be mentioned. Specific examples of the partial structure of an acidic group in which an acidic hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom among these acidic groups include those represented by the following [A] to [G]. -SO 2 NH 2 (A) -SO 2 NH- (B) -CONHSO 2 - (C) -CONHCO- [D] -SO 2 NHSO 2 - (E) -CONHSO 2 NH- [F] -NHCONHSO 2 - [G] In addition to these structures, a nitrogen-containing heterocyclic structure having a coupler structure described in JP-A-7-248628 is also included. Examples of these nitrogen-containing heterocyclic structures include those represented by the following [H] and [I].
【0023】[0023]
【化7】 Embedded image
【0024】成分(3)として示される酸性水素原子を
持ち、該酸性水素原子が窒素原子に結合した酸性基を有
する付加重合可能なモノマーにおける付加重合性部とし
てはラジカル重合可能な不飽和基を持つビニル及びその
誘導体が用いられる。付加重合性部のうち好ましいもの
はアクリレート、メタクリレート、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、スチレン、ビニル及びこれらの誘導体
である。酸性水素原子を持ち、該酸性水素原子が窒素原
子に結合した酸性基含有モノマーの好ましい構造の例と
しては下記の一般式〔5〕、〔6〕もしくは〔7〕で示
される構造単位を有するモノマーを挙げることが出来
る。The addition-polymerizable moiety in the addition-polymerizable monomer having an acidic hydrogen atom represented by the component (3) and having the acidic hydrogen atom bonded to a nitrogen atom includes a radically polymerizable unsaturated group. Vinyl and its derivatives are used. Preferred among the addition-polymerizable parts are acrylate, methacrylate, acrylamide, methacrylamide, styrene, vinyl and derivatives thereof. Preferred examples of the acidic group-containing monomer having an acidic hydrogen atom and the acidic hydrogen atom bonded to a nitrogen atom include monomers having a structural unit represented by the following general formula [5], [6] or [7] Can be mentioned.
【0025】[0025]
【化8】 Embedded image
【0026】式中、A2 は水素原子、ハロゲン原子また
は炭素数1〜4のアルキル基を表す。Bはアリーレン基
を表す。Xは−CO−、または−SO2−を表す。Xが
−SO2−のとき、Yは水素原子、アルキル基、アリー
ル基、−CO−R4 、または−SO2−R4を表す。また
Xが−CO−のとき、Yは−CO−R4または−SO2−
R4を表す。Zは−NH−、−NR4−、−O−を表す。
Eはアリーレン基、またはアルキレン基を表す。R5は
水素原子、アルキル基、アリール基を表す。mおよびs
は0または1を表すが、mおよびsが共に0であること
はない。R4はアルキル基、アリール基を表す。また、
BとY、あるいはEとR5とは連結して非金属原子から
なる環を形成しても良い。In the formula, A 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. B represents an arylene group. X is -CO-, or -SO 2 - represents a. X is -SO 2 - when, Y represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, -CO-R 4 or -SO 2 -R 4,. Also when X is -CO-, Y is -CO-R 4 or -SO 2 -
Represents R 4 . Z is -NH -, - NR 4 -, - represents a O-.
E represents an arylene group or an alkylene group. R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. m and s
Represents 0 or 1, but m and s are not both 0. R 4 represents an alkyl group or an aryl group. Also,
B and Y, or E and R 5 may be linked to form a ring composed of a nonmetal atom.
【0027】[0027]
【化9】 Embedded image
【0028】F、Gはフェニレン基またはアルキレン基
を表す。Tは−O−CO−、−CO−、もしくは−SO
2−を表す。p、p′、q、q′は0、もしくは1を表
すが、q、q′が同時に0になることはない。前記一般
式〔5〕、および〔6〕において、A2 の好ましいもの
としては水素原子、またはメチル基である。Y、R4も
しくはR5で表される好ましいアルキル基としてはメチ
ル、エチル、イソプロピルなどの炭素数1〜20のアル
キル基があり、Y、R4もしくはR5で表される好ましい
アリール基としてはフェニル、ナフチルなどの炭素数6
〜18のアリール基がある。BもしくはEで表される好
ましいアリーレン基としてはフェニレン、ナフチレンな
どのを挙げることができ、Eで表される好ましいアルキ
レン基としてはメチレン、エチレンなどの炭素数1〜2
0のアルキレン基がある。F and G each represent a phenylene group or an alkylene group. T is -O-CO-, -CO-, or -SO
Represents 2- . p, p ', q and q' represent 0 or 1, but q and q 'do not become 0 at the same time. In the general formulas [5] and [6], A 2 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. Preferred alkyl groups represented by Y, R 4 or R 5 include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl and isopropyl, and preferred aryl groups represented by Y, R 4 or R 5 6 carbon atoms such as phenyl and naphthyl
There are 1818 aryl groups. Preferred arylene groups represented by B or E include phenylene and naphthylene, and preferred alkylene groups represented by E have a carbon number of 1 to 2 such as methylene and ethylene.
There are 0 alkylene groups.
【0029】Y、R4もしくはR5で表されるアルキル
基、アリール基、およびBもしくはEで表されるアリー
レン基、アルキレン基は置換基を有していても良く、置
換基としてはフッ素、クロロ、ブロモなどのハロゲン原
子、メトキシ、エトキシ、などのアルコキシ基、フェノ
キシなどのアリールオキシ基、シアノ基、アセトアミド
などのアミド基、エトキシカルボニル基のようなアルコ
キシカルボニル基などのほか炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数6〜18のアリール基などを挙げることがで
きる。前記一般式〔7〕において、F、Gの好ましいも
のとしてはBもしくはEで用いたものと同義のものを挙
げることができる。なお、前記一般式〔5〕〜〔7〕に
おいて、〔5〕及び〔6〕のモノマーがより好ましい。
本発明で用いられるフッ素含有ポリマー中に用いられる
これらの酸性基含有モノマーの量は、該ポリマーの重量
に基づいて5〜80重量%であり、好ましくは10〜7
0重量%の範囲である。次に本発明に用いられる酸性水
素原子が窒素原子に結合した酸性基含有モノマーの具体
的な構造の例を以下に示す。The alkyl group and the aryl group represented by Y, R 4 or R 5 and the arylene group and the alkylene group represented by B or E may have a substituent, such as fluorine, Halogen atoms such as chloro and bromo; alkoxy groups such as methoxy and ethoxy; aryloxy groups such as phenoxy; cyano groups; amide groups such as acetamide; alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl; And an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. In the general formula [7], preferred examples of F and G include the same as those used for B or E. In the general formulas [5] to [7], the monomers [5] and [6] are more preferable.
The amount of these acidic group-containing monomers used in the fluorine-containing polymer used in the present invention is from 5 to 80% by weight, preferably from 10 to 7% by weight, based on the weight of the polymer.
The range is 0% by weight. Next, specific examples of the structure of the acidic group-containing monomer having an acidic hydrogen atom bonded to a nitrogen atom used in the present invention are shown below.
【0030】[0030]
【化10】 Embedded image
【0031】[0031]
【化11】 Embedded image
【0032】[0032]
【化12】 Embedded image
【0033】[0033]
【化13】 Embedded image
【0034】[0034]
【化14】 Embedded image
【0035】本発明のフッ素含有ポリマーは公知慣用の
方法で製造することができる。例えばフルオロ脂肪族基
を有する(メタ)アクリレート、脂肪族基もしくは芳香
族基を有する(メタ)アクリレートおよび酸性水素原子
が窒素原子に結合した酸性基含有ビニル単量体とを、有
機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、熱重合
させることにより製造できる。もしくは場合によりその
他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ
方法にて製造することができる。The fluorine-containing polymer of the present invention can be produced by a known and commonly used method. For example, a (meth) acrylate having a fluoroaliphatic group, a (meth) acrylate having an aliphatic group or an aromatic group and a vinyl monomer having an acidic hydrogen atom bonded to a nitrogen atom are commonly used in an organic solvent. Can be produced by adding a radical polymerization initiator of the formula (1) and thermally polymerizing the same. Alternatively, if necessary, another addition-polymerizable unsaturated compound can be added to produce the compound in the same manner as described above.
【0036】また場合により用いられるその他の付加重
合不飽和化合物としては、PolymerHandbook 2nd ed.,
J.Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2 Pa
ge 1〜483記載のものを用いることが出来る。これらの
例としてはたとえば、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、グリシジル(メタ)アクリレート、などの(メ
タ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド、N−エ
チル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)ア
クリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミ
ド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−(p−ヒ
ドロキシフェニル)−メタ−アクリルアミドなどの(メ
タ)アクリルアミド類、酢酸アリル、カプロン酸アリ
ル、アリルオキシエタノール等のアリル化合物;エチル
ビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニ
ルエーテル、オクチルビニルエーテル、メトトキシエチ
ルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、2
−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニ
ルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフ
ルフリルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、ト
リルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエー
テル等のビニルエーテル類;ビニルアセテート、ビニル
ブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテ
ート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセ
テート、ビニルアセトアセテート、安息香酸ビニル、ク
ロル安息香酸ビニル等のビニルエステル類;スチレン、
α−メチルスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレ
ン、クロルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、
ヒドロキシスチレン、クロルスチレン、ブロムスチレン
等のスチレン類;メチルビニルケトン、エチルビニルケ
トン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等
のビニルケトン類;イソブチレン、ブタジエン、イソプ
レン等のオレフィン類;その他、クロトン酸ブチル、イ
タコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジ
メチル、フマル酸ジエチル、N−ビニルピロリドン、N
−ビニルピリジン、アクリロニトリル等が挙げられる。Other optional addition-polymerized unsaturated compounds include Polymer Handbook 2nd ed.,
J. Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2 Pa
ge 1 to 483 can be used. Examples of these are, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth)
(Meth) acrylates such as acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-methylol ( (Meth) acrylamides such as (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) -meth-acrylamide, allyl acetate, allyl caproate, Allyl compounds such as allyloxyethanol; ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether,
-Vinyl ethers such as chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, phenyl vinyl ether, tolyl vinyl ether and diethylaminoethyl vinyl ether; vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate Vinyl esters such as, vinylphenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl benzoate, vinyl chlorobenzoate; styrene,
α-methylstyrene, methylstyrene, dimethylstyrene, chloromethylstyrene, ethoxymethylstyrene,
Styrenes such as hydroxystyrene, chlorostyrene, and bromostyrene; vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone; olefins such as isobutylene, butadiene, and isoprene; and others, butyl crotonate and itacone Acid dimethyl, diethyl itaconate, dimethyl maleate, diethyl fumarate, N-vinylpyrrolidone, N
-Vinyl pyridine, acrylonitrile and the like.
【0037】またこれらのモノマーの他、特開昭62−
226143号、特開平3−172849号公報記載の
ポリオキシアルキレン(メタ)アクリレートを用いるこ
とが出来る。以下、本発明によるフッ素含有ポリマーの
具体的な構造の例を示す。なお式中の数字は各モノマー
成分のモル比率を示す。Further, in addition to these monomers,
Polyoxyalkylene (meth) acrylates described in JP-A-226143 and JP-A-3-172849 can be used. Hereinafter, specific examples of the structure of the fluorine-containing polymer according to the present invention will be described. The numbers in the formula indicate the molar ratio of each monomer component.
【0038】[0038]
【化15】 Embedded image
【0039】[0039]
【化16】 Embedded image
【0040】[0040]
【化17】 Embedded image
【0041】[0041]
【化18】 Embedded image
【0042】本発明で用いるフッ素含有ポリマーの分子
量の範囲は平均分子量として3000〜200,000
までのものであり、好ましくは6,000〜100,0
00までのものを用いることができる。また本発明で用
いるフッ素含有ポリマーの添加量は、溶媒を除く全組成
分に対して、0.001〜10重量%の範囲であり、よ
り好ましくは0.01〜5重量%の範囲である。The molecular weight of the fluorine-containing polymer used in the present invention ranges from 3,000 to 200,000 as an average molecular weight.
And preferably from 6,000 to 100,0
Up to 00 can be used. The amount of the fluorine-containing polymer used in the present invention is in the range of 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight, based on the total composition except for the solvent.
【0043】〔フェノール性水酸基を有するアルカリ水
溶液可溶性樹脂〕本発明で使用するフェノール性水酸基
を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂(以下、「フェノー
ル性水酸基を有する樹脂」という。)としては、例えば
フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、
フェノール/クレゾール(m−,p−,またはm−/p
−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂な
どのノボラック樹脂を挙げることができる。[Aqueous Alkaline Aqueous Soluble Resin Having Phenolic Hydroxyl Group] Examples of the aqueous solution of phenolic hydroxyl group-containing alkaline aqueous solution (hereinafter referred to as “resin having a phenolic hydroxyl group”) used in the present invention include phenol formaldehyde resin. m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin,
Phenol / cresol (m-, p-, or m- / p
Novolak resin such as mixed formaldehyde resin.
【0044】これらのフェノール性水酸基を有する樹脂
は、重量平均分子量が500〜20000で数平均分子
量が200〜10000のものが好ましい。更に、米国
特許第4123279号明細書に記載されているよう
に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オク
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数
3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。かかる
フェノール性水酸基を有する樹脂は、1種類あるいは2
種類以上を組み合わせて使用してもよい。The resin having a phenolic hydroxyl group preferably has a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000. Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, a condensate of phenol having a C3-8 alkyl group as a substituent and formaldehyde, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. May be used in combination. The resin having such a phenolic hydroxyl group may be one type or two types.
A combination of more than two types may be used.
【0045】本発明では、前記フェノール性水酸基を有
する樹脂と、前記(4)から(6)のうち少なくとも一
つを共重合成分として10モル%以上含む共重合体(以
下、「特定の共重合体」という。)とを併用するのが好
ましい。本発明の特定の共重合体は、前記(4)から
(6)のうち少なくとも一つを共重合成分として10モ
ル%以上含んでいることが必要とされ、20モル%以上
含むものがより好ましい。10モル%より少ないと、フ
ェノール性水酸基を有する樹脂との相互作用が不十分と
なり現像ラチチュードが低下する。また、前記(4)か
ら(6)以外の他の共重合成分を含んでいてもよい。In the present invention, the resin having a phenolic hydroxyl group and a copolymer containing at least one of the above (4) to (6) as a copolymer component in an amount of 10 mol% or more (hereinafter referred to as a “specific copolymer”) It is preferable to use them together. The specific copolymer of the present invention is required to contain at least one of the above (4) to (6) as a copolymer component in an amount of 10 mol% or more, and more preferably 20 mol% or more. . If the amount is less than 10 mol%, the interaction with the resin having a phenolic hydroxyl group becomes insufficient, and the development latitude decreases. Further, other copolymer components other than the above (4) to (6) may be contained.
【0046】(4)に該当するモノマーとは、1分子中
に、窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合した
スルホンアミド基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ
一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーである。
その中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロ
キシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基ま
たは置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が
好ましい。このような化合物としては、例えば、下記一
般式(I)〜(V)で示される化合物が挙げられる。The monomer corresponding to (4) is a low molecular weight compound having, in one molecule, a sulfonamide group having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated bonds. Is a monomer consisting of
Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of such compounds include compounds represented by the following general formulas (I) to (V).
【0047】[0047]
【化19】 Embedded image
【0048】式中、X1 、X2 はそれぞれ−O−又は−
NR22−を示す。R6 、R9 、R12、R14、R18はそれ
ぞれ水素原子又は−CH3 を表す。R7 、R10、R13、
R16、R20はそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基又はアラルキレン基を表す。R8 、R17、R22は
水素原子、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1
〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又
はアラルキル基を示す。また、R11、R21は、それぞれ
置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を示
す。R15、R19はそれぞれ単結合又は置換基を有してい
てもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキ
レン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。
Y1 、Y2 はそれぞれ単結合または−CO−を表す。In the formula, X 1 and X 2 are each —O— or —
NR 22 -is shown. It represents a R 6, R 9, R 12 , R 14, R 18 each represents a hydrogen atom or -CH 3. R 7 , R 10 , R 13 ,
R 16, R 20 each represent an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. R 8 , R 17 and R 22 each represent a hydrogen atom, each having 1 carbon atom which may have a substituent;
To 12 alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups or aralkyl groups. R 11 and R 21 each represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. R 15 and R 19 each represent a single bond or an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group.
Y 1 and Y 2 each represent a single bond or —CO—.
【0049】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.
【0050】(5)に該当するモノマーとは、1分子中
に、下記の式で表される活性イミノ基と、重合可能な不
飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物からな
るモノマーである。このような化合物としては、具体的
には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルイミ
ド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルイミド等
を好適に使用することができる。The monomer corresponding to (5) is a monomer composed of a low-molecular compound having an active imino group represented by the following formula and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. . As such a compound, specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylimide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylimide and the like can be suitably used.
【0051】(6)に該当するモノマーとは、それぞれ
フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、またはヒドロキシスチレンからなるモノマーであ
る。このような化合物としては、具体的には、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシ
フェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリ
レート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒ
ドロキシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェ
ニルメタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリ
レート、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチ
レン、p−ヒドロキシスチレン等を好適に使用すること
ができる。The monomer corresponding to (6) is a monomer composed of acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate or hydroxystyrene each having a phenolic hydroxyl group. As such a compound, specifically, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxy Phenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene and the like can be suitably used.
【0052】他の共重合成分としては、例えば、下記
(7)〜(18)に挙げるモノマーを用いることができ
る。 (7)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレートまた
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸
エステル類。 (8)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (9)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (10)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (11)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類。As the other copolymer components, for example, the following monomers (7) to (18) can be used. (7) Acrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, and methacrylic esters. (8) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates; (9) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate. (10) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N
Acrylamide or methacrylamide such as -phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide; (11) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
【0053】(12)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。 (13)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (14)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (15)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (16)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (17)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (18)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。(12) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (13) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (14) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone. (15) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (16) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (17) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (18) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid;
【0054】本発明の特定の共重合体は、重量平均分子
量が2000以上、数平均分子量が1000以上のもの
が好ましく用いられる。さらに好ましくは、重量平均分
子量が5000〜300000、数平均分子量が200
0〜250000であり、分散度(重量平均分子量/数
平均分子量)が1.1〜10のものである。As the specific copolymer of the present invention, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 1,000 or more are preferably used. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, and the number average molecular weight is 200
0 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.
【0055】かかる特定の共重合体は、1種類あるいは
2種類以上を組み合わせて使用してもよい。These specific copolymers may be used alone or in combination of two or more.
【0056】前記フェノール性水酸基を有する樹脂と前
記特定の共重合体との配合重量比は50:50から5:
95の範囲にあることが必要であり、40:60から1
0:90の範囲にあることがより好ましい。これより前
記フェノール性水酸基を有する樹脂の配合量が多くなる
と、海島構造が逆転し、耐溶剤性等を改善することがで
きない。逆に、これより前記共重合体の配合量が多くな
ると、前記フェノール性水酸基を有する樹脂による表面
層が薄くなり過ぎ、現像ラチチュードの向上が不十分と
なる。The compounding weight ratio of the resin having a phenolic hydroxyl group to the specific copolymer is 50:50 to 5: 5.
95: 40:60 to 1
More preferably, it is in the range of 0:90. When the amount of the resin having a phenolic hydroxyl group is increased, the sea-island structure is reversed, and the solvent resistance and the like cannot be improved. Conversely, when the amount of the copolymer is larger than this, the surface layer of the resin having the phenolic hydroxyl group becomes too thin, and the improvement in development latitude becomes insufficient.
【0057】これらフェノール性水酸基を有する樹脂と
特定の共重合体とからなるアルカリ可溶性の高分子化合
物は、それぞれ1種類あるいは2種類以上を組み合わせ
て使用してもよく、全印刷版材料固形分中、30〜99
重量%、好ましくは40〜95重量%、特に好ましくは
50〜90重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶
性の高分子化合物の添加量が30重量%未満であると記
録層の耐久性が悪化し、また、99重量%を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。These alkali-soluble polymer compounds composed of a resin having a phenolic hydroxyl group and a specific copolymer may be used alone or in combination of two or more. , 30-99
% By weight, preferably 40 to 95% by weight, particularly preferably 50 to 90% by weight. If the amount of the alkali-soluble polymer compound is less than 30% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated, and if it exceeds 99% by weight, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability.
【0058】〔光を吸収し熱を発生する物質〕本発明に
おいて、光を吸収し熱を発生する物質としては種々の顔
料もしくは染料を用いる事ができる。顔料としては、市
販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。[Substance that Absorbs Light and Generates Heat] In the present invention, as the substance that absorbs light and generates heat, various pigments or dyes can be used. As pigments, commercially available pigments and Color Index (C.I.) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used.
【0059】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。The pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments,
Quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dye lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
【0060】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
"Printing ink technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.
【0061】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in a photosensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the photosensitive layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills, super mills,
Examples include a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, see “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986).
【0062】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.
【0063】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭58−112792号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載
のシアニン染料等を挙げることができる。As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black is preferably used. Dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787 and the like.
JP-A-58-173696, JP-A-58-18169
0, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58-112793.
Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like; And the cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.
【0064】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、Epolight III−1
78、Epolight III−130、Epoligh
t III−125等は特に好ましく用いられる。As a dye, US Pat.
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and pyrilium compounds disclosed in Japanese Examined Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, Epollight III-1
78, Epollight III-130, Epollight
t III-125 and the like are particularly preferably used.
【0065】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、印
刷版材料全固形分に対し0.01〜50重量%、好まし
くは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で印刷版材料中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満
であると感度が低くなり、また50重量%を越えると感
光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。こ
れらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加し
てもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の
層とする場合、本発明の熱分解性でありかつ分解しない
状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質を
含む層に隣接する層へ添加するのが望ましい。また、染
料もしくは顔料と結着樹脂は同一の層が好ましいが、別
の層でも構わない。Another particularly preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight, in the case of dyes, Particularly preferred is 3.1.
It can be added to the printing plate material at a ratio of 10 to 10% by weight. If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered. If the amount exceeds 50% by weight, the uniformity of the photosensitive layer is lost and the durability of the recording layer is deteriorated. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or a separate layer may be provided and added thereto. If it is a separate layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to the layer containing a substance which substantially reduces the solubility of the binder when it is thermally decomposable and does not decompose. The dye or pigment and the binder resin are preferably in the same layer, but may be in different layers.
【0066】〔その他の成分〕本発明のポジ型感光性組
成物には更に必要に応じて、種々の添加剤を添加するこ
とができる。例えばオニウム塩、o−キノンジアジド化
合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステ
ル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではアル
カリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低下させ
る物質を併用することは、画像部の現像液への溶解阻止
性の向上を図る点では、好ましい。オニウム塩としては
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨ
ードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アル
ソニウム塩等を挙げる事ができる。[Other Components] Various additives can be further added to the positive photosensitive composition of the present invention, if necessary. For example, a thermally decomposable substance such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonic acid ester compound, and a substance that substantially lowers the solubility of an alkali water-soluble polymer compound when not decomposed is used in combination. This is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developer. Examples of the onium salt include a diazonium salt, an ammonium salt, a phosphonium salt, an iodonium salt, a sulfonium salt, a selenonium salt, and an arsonium salt.
【0067】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Co
nf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、
J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5) 、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5)
,1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sc
i., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許
第370,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,44
2 号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同41
0,201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,44
4 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,
604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、
J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6), 1307
(1977)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Pol
ymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウ
ム塩、C. S. Wen et al, Teh,Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム
塩等があげられる。Suitable onium salts used in the present invention include, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et a
1, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
No. 4,069,055 diazonium salt described in U.S. Pat.
No. 4,069,056, ammonium salt described in the specification of JP-A-3-140140, DC Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, Teh, Proc. Co.
nf.Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, phosphonium salts described in JVCrivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31.
(1988), EP 104,143, U.S. Patent 339,049
No. 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-2-2965
Iodonium salt described in No. 14, JVCrivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985), JV Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978), WR Watt et al, J. P.
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984),
JV Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5), JV Crivello et al, Macromorecules, 14 (5)
, 1141 (1981), JV Crivello et al, J. Polymer Sc
i., Polymer Chem.Ed., 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,44
No. 2, U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 3,902,114, 41
0,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,44
No. 4, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,
Nos. 604,580 and 3,604,581, sulfonium salts,
JV Crivello et al, Macromorecules, 10 (6), 1307
(1977), JV Crivello et al, J. Polymer Sci., Pol
selenonium salt described in ymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), CS Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).
【0068】本発明において、ジアゾニウム塩が特に好
ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開
平5−158230号公報記載のものがあげられる。好
適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合
物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノ
ンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジア
ジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性
を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることが
できる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結
着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自
身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果
により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo
−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサ
ー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wil
ey & Sons. Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が
使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物
あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジ
アジドのスルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドが
好適である。また、特公昭43−28403 号公報に記載され
ているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホ
ン酸クロライドまたはナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセ
トン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120 号および
同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノン−
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフ
トキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロ
ライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ルも好適に使用される。In the present invention, diazonium salts are particularly preferred. Particularly preferred diazonium salts include those described in JP-A-5-158230. Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and can be a compound having various structures. In other words, o-quinonediazide helps the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the fact that o-quinonediazide itself changes to an alkali-soluble substance. O used in the present invention
Examples of the quinonediazide compound include: "Wright-Sensitive Systems" by Coser (John Wil
ey & Sons. Inc.) pp. 339-352 can be used. Particularly, sulfonic esters or sulfonic amides of o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds can be used. It is suitable. Also, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403. Esters of the benzoquinones described in U.S. Patents 3,046,120 and 3,188,210
Esters of (1,2) -diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride with a phenol-formaldehyde resin are also suitably used.
【0069】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−96
575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、特
公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481
号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、同
第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものをあげることができる。Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-
Esters of 4-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin are likewise preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96
No. 575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481
U.S. Pat.Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, and 3,674,495
No. 3,785,825; British Patent No. 1,227,602;
Nos. 1,251,345, 1,267,005, 1,329,888,
No. 1,330,932, and German Patent No. 854,890, etc. can be mentioned.
【0070】o−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50重量%、更
に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜3
0重量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 3% by weight, based on the total solids of the printing plate material.
The range is 0% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
【0071】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。As the counter ion of the onium salt, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.
【0072】o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好ましくは
5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%であ
る。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させるこ
とが好ましい。The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight. It is preferable that the additive and the binder of the present invention are contained in the same layer.
【0073】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−
エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平2
−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類およびカルボン酸類などがあり、具体的に
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類および有機酸類の印刷版材
料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好まし
く、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好ましく
は0.1〜10重量%である。For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be used in combination. Cyclic acid anhydride include US Patent has been and phthalic anhydride described in 4,115,128 Pat, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-oxy - [delta 4 - tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride Acid, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-nitrophenol
Ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "
-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ',
3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-
Tetramethyltriphenylmethane and the like can be mentioned. Further, as organic acids, JP-A-60-88942,
Sulfonic acids, such as those described in
There are sulfinic acids, alkyl sulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters and carboxylic acids, and specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-
Examples thereof include 1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the printing plate material is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, and particularly preferably 0.1 to 15% by weight. 10% by weight.
【0074】また、本発明における印刷版材料中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62
−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されて
いるような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公
報、特開平4−13149 号公報に記載されているような両
性界面活性剤を添加することができる。非イオン界面活
性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、
ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレー
ト、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレン
ノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の
具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシ
ン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N
−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一
工業(株)製)等が挙げられる。 上記非イオン界面活
性剤および両性界面活性剤の印刷版材料中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.
1〜5重量%である。In the printing plate material of the present invention,
To expand the stability of processing under development conditions, see
Nonionic surfactants described in JP-A-25251740 and JP-A-3-208514, and amphoteric surfactants described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 An activator can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate,
Sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like can be mentioned. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N
-Betaine type (for example, trade name "Amogen K": manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the printing plate material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight.
1 to 5% by weight.
【0075】本発明における印刷版材料中には、露光に
よる加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼
き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出す
る化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組
合せを代表として挙げることができる。具体的には、特
開昭50−36209 号、同53−8128号の各公報に記載されて
いるo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲ
ニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223
号、同54−74728 号、同60−3626号、同61−143748号、
同61−151644号および同63−58440 号の各公報に記載さ
れているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組
合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合
物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合
物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出
し画像を与える。In the printing plate material of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, a combination of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, −36223
No. 54-74728, No. 60-3626, No. 61-143748,
Combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A-61-151644 and JP-A-63-58440 can be exemplified. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.
【0076】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。これら
の染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.01〜10
重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で印刷版材
料中に添加することができる。更に本発明の印刷版材料
中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可
塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチ
レングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよび
ポリマー等が用いられる。As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, JP-A-62-2932
The dyes described in JP-B-47 are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.01 to 10 based on the total solid content of the printing plate material.
% By weight, preferably 0.1 to 3% by weight, can be added to the printing plate material. Further, a plasticizer is added to the printing plate material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility and the like to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate,
An oligomer or polymer of trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid, or the like is used.
【0077】本発明の画像記録材料は、通常上記各成分
を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することによ
り製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等
をあげることができるがこれに限定されるものではな
い。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、
好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に
得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって
異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に0.5
〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法としては、
種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコー
ター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、デ
ィップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール
塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつ
れて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は
低下する。本発明における感光性層中には、塗布性を良
化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公
報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加す
ることができる。好ましい添加量は、全印刷版材料の
0.01〜1重量%さらに好ましくは0.05〜0.5
重量%である。The image recording material of the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene and the like can be mentioned. It is not limited. These solvents are used alone or as a mixture.
The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent,
Preferably it is 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally ranges from 0.5 to 0.5 for photosensitive printing plates.
-5.0 g / m < 2 > is preferable. As a method of applying,
Various methods can be used, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate. In the photosensitive layer according to the invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 can be added. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total printing plate material, more preferably 0.05 to 0.5%.
% By weight.
【0078】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。本発明の支持体としては、
ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、
その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミ
ニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純
アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量
の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミ
ネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は高々10重量%以下である。本発明において特
に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアル
ミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用
いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜
0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4m
m、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material, such as paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above. As the support of the present invention,
Polyester film or aluminum plate is preferred,
Among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon,
Examples include iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm ~
About 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 m
m, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.
【0079】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。この様に粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には
硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が
用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.
【0080】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,
066 号、同第3,181,461 号、第3,280,734 号および第3,
902,734 号に開示されているようなアルカリ金属シリケ
ート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この
方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸
漬処理されるかまたは電解処理される。他に特公昭36−
22063 号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ムおよび米国特許第3,276,868 号、同第4,153,461 号、
同第4,689,272 号に開示されているようなポリビニルホ
スホン酸で処理する方法などが用いられる。The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat.No. 2,714,
Nos. 066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in 902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. Also,
The potassium fluoride zirconate disclosed in 22063 and U.S. Pat.Nos. 3,276,868 and 4,153,461,
No. 4,689,272, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid and the like are used.
【0081】本発明の画像記録材料は、支持体上にポジ
型の印刷版材料を設けたものであるが、必要に応じてそ
の間に下塗層を設けることができる。下塗層成分として
は種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメ
チルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−ア
ミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン
酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフ
チルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホ
ン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン
酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニ
ルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリ
セロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフ
ェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキル
ホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホ
スフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸
類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロ
キシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種
以上混合して用いてもよい。The image recording material of the present invention is obtained by providing a positive printing plate material on a support. An undercoat layer may be provided between them, if necessary. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphinic acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Hydroxy such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines having a group may be used in combination of two or more.
【0082】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合
物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有
機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種
々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃
度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重
量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25
〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましく
は2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12
の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の
調子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2 が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。上
記の被覆量が2mg/m2 よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2 より大きくて
も同様である。This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. A method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound by immersing the aluminum plate, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. . In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25%.
To 50 ° C., and the immersion time is 0.1 seconds to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this is adjusted to pH 1 to 12 by a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
It can also be adjusted to the range. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the image recording material. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .
【0083】上記のようにして作成されたポジ型画像記
録材料は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光
に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、
電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。ま
たg線、i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム
(レーザービーム)も使用される。レーザービームとし
てはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、ク
リプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、K
rFエキシマレーザー等が挙げられる。本発明において
は、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好まし
く、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。The positive type image recording material prepared as described above is usually subjected to image exposure and development processing. Examples of the light source of the actinic ray used for the image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, and the like. As radiation,
There are electron beams, X-rays, ion beams, far infrared rays, and the like. In addition, g-line, i-line, Deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are also used. Laser beams include helium / neon laser, argon laser, krypton laser, helium / cadmium laser, K
rF excimer laser and the like can be mentioned. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.
【0084】本発明の画像記録材料の現像液および補充
液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用
できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もし
くは2種以上を組み合わせて用いられる。これらのアル
カリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理
由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金
属酸化物 M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能
となるためであり、例えば、特開昭54−62004 号公報、
特公昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金属
ケイ酸塩が有効に用いられる。As the developer and replenisher for the image recording material of the present invention, conventionally known aqueous alkaline solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, tertiary
Sodium phosphate, same potassium, same ammonium, second
Sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium And the like. Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine,
Organic alkaline agents such as diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O, which are silicate components.
An alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.
【0085】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には現像性の促
進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イン
キ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有
機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、ア
ニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性
剤があげられる。更に現像液および補充液には必要に応
じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水
素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。上記現像液および補充液を用いて現像処
理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用
する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。Further, in the case of developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of PS plates can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as required for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As a post-process when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, these processes can be used in various combinations.
【0086】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally comprises a developing section and a post-processing section, and comprises a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and while pumping the exposed printing plate horizontally, each pumped by a pump. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.
【0087】本発明の画像記録材料を感光性平版印刷版
として使用する場合について説明する。画像露光し、現
像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得
られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィル
ムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、その不必
要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例
えば特公平 2−13293 号公報に記載されているような消
去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置
したのちに水洗することにより行なう方法が好ましい
が、特開平59−174842号公報に記載されているようなオ
プティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像
部に照射したのち現像する方法も利用できる。The case where the image recording material of the present invention is used as a photosensitive lithographic printing plate will be described. If the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming has unnecessary image portions (for example, film edge marks of the original film), unnecessary portions are unnecessary. Erasing of the image portion is performed. Such erasing is preferably carried out by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293, to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then rinsing with water. A method described in JP-A-59-174842, in which active light guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can also be used.
【0088】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−
2518号、同55−28062 号、特開昭62−31859 号、同61−
159655号の各公報に記載されているような整面液で処理
することが好ましい。その方法としては、該整面液を浸
み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布
するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して
塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用さ
れる。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキー
ジローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好
ましい結果を与える。The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum if desired, but when it is desired to obtain a lithographic printing plate having even higher printing durability. Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
No. 2518, No. 55-28062, JP-A No. 62-31859, No. 61-
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in each publication of 159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.
【0089】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2 (乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: "BP-130").
0 "). The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image,
The temperature is preferably in the range of 180 to 300 ° C. for 1 to 20 minutes.
【0090】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. However, a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.
【0091】[0091]
【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The scope of the present invention is not limited to these examples.
【0092】〔フッ素含有ポリマーの合成〕 合成例1 2−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート4
6.6g、N−(4−スルファモイルフェニル)メタク
リルアミド28.8g、(n)−ノニルメタアクリレー
ト18.9gおよびジメチルアセトアミド180gを5
00mlの3口フラスコに取り窒素気流下攪拌しながら6
5℃に保った。2,2′−アゾビス(2,4−ジメチル
バレロニトリル)を3.73g加え攪拌を続けた。4時
間後68℃まで昇温し1時間保った。反応終了後、室温
にまで冷却し、反応液を400ml中の水中に注いだ。折
出した固体をろ取し、乾燥した。収率32.5g、GP
Cによりこの固体は重量平均分子量2.3万の高分子化
合物であった。 合成例2〜3 合成例1と同様の方法にして表1に示したポリマーを合
成した。また比較例用の化合物(ポリマー)も同様の方
法にて合成した。[Synthesis of Fluorine-Containing Polymer] Synthesis Example 1 2- (Perfluorooctyl) ethyl acrylate 4
6.6 g, 28.8 g of N- (4-sulfamoylphenyl) methacrylamide, 18.9 g of (n) -nonyl methacrylate and 180 g of dimethylacetamide
Place in a 00 ml three-necked flask and stir under nitrogen flow.
It was kept at 5 ° C. 3.73 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added and stirring was continued. After 4 hours, the temperature was raised to 68 ° C. and maintained for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the reaction solution was poured into 400 ml of water. The precipitated solid was collected by filtration and dried. Yield 32.5 g, GP
By C, this solid was a high molecular compound having a weight average molecular weight of 23,000. Synthesis Examples 2-3 The polymers shown in Table 1 were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1. Further, a compound (polymer) for a comparative example was synthesized in the same manner.
【0093】[0093]
【表1】 [Table 1]
【0094】〔特定の共重合体の合成〕合成例4(特定
の共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モ
ル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及
びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で30分間混合物を攪拌した。[Synthesis of Specific Copolymer] Synthesis Example 4
1) 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel. The mixture was stirred while cooling in an ice-water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After the addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
【0095】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。To the reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was then washed with 500 m of water.
Then, the slurry was filtered and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).
【0096】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.01
92モル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.02
58モル)、アクリロニトリル0.80g(0.015
モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61
g、メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル
0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及び「V−
65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルに
この水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの特定の共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
92 mol), and 2.94 g (0.02 g) of ethyl methacrylate.
58 mol), 0.80 g (0.015 g) of acrylonitrile
Mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. This mixture was mixed with “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
0.15 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61
g, 2.94 g of ethyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-dimethylacetamide and "V-
65 "and a mixture of 0.15 g was added dropwise with a dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was added to 2 liters of water while stirring the water, and the mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was taken out by filtration and dried. 15 g of a white solid was obtained. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of this specific copolymer 1 was determined by gel permeation chromatography to be 53,000.
It was 0.
【0097】〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗
浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶
液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに
20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目
立て表面のエッチング量は約3g/m 2 であった。次に
この板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm
2 で3g/m2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗
し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を9
0℃で1分乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg
/m2 であった。[Preparation of Substrate] Aluminum having a thickness of 0.3 mm
Plate (material 1050) is washed with trichlorethylene
Degreased, nylon brush and 400 mesh pumice
Use a water suspension to grain this surface and wash well with water.
Was cleaned. Put this plate in 25% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C.
Immerse in the solution for 9 seconds to perform etching, and after washing with water,
It was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. Grain at this time
The amount of etching on the standing surface is about 3 g / m TwoMet. next
This plate was subjected to a current density of 15 A / dm using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
Two3g / mTwoAfter the DC anodic oxide coating of
And dried, and then the following undercoating liquid was applied,
Dry at 0 ° C. for 1 minute. The amount of coating after drying is 10mg
/ MTwoMet.
【0098】下塗り液 β−アラニン 0.5g メタノール 95g 水 5g Undercoating liquid β-alanine 0.5 g Methanol 95 g Water 5 g
【0099】さらに、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶
液で30℃で10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗
膜を80℃で15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜
の被覆量は15mg/m2 であった。下塗り液 下記化合物 0.3g メタノール 100g 水 1gFurther, the substrate was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 10 seconds, the following undercoating solution was applied, and the coating film was dried at 80 ° C. for 15 seconds to obtain a substrate. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 . Undercoat liquid The following compound 0.3 g Methanol 100 g Water 1 g
【0100】[0100]
【化20】 Embedded image
【0101】(実施例1)以下の感光液1を調製した。
得られた基板に、この感光液1を塗布量が1.8g/m
2 になるよう塗布し、平版印刷版を得た。Example 1 The following photosensitive solution 1 was prepared.
The obtained substrate was coated with the photosensitive solution 1 at a coating amount of 1.8 g / m2.
2 to obtain a lithographic printing plate.
【0102】感光液1 フッ素含有ポリマーP−6 0.03g 特定の共重合体1 0.75g m,p−クレゾールノボラック(m,p比=6/4、重量平均分子量3,50 0、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.25g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g シアニン染料A(下記構造) 0.017g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオ ンにした染料 0.015g メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤)0.05g γ−ブチルラクトン 10g メチルエチルケトン 10g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g Photosensitive solution 1 Fluorine-containing polymer P-6 0.03 g Specific copolymer 1 0.75 g m, p-cresol novolak (m, p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,500, unreacted) Cresol 0.5% by weight) 0.25 g p-toluenesulfonic acid 0.003 g tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g cyanine dye A (the following structure) 0.017 g The counter ion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalenesulfonic acid anio 0.015 g Megafac F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine surfactant) 0.05 g γ-butyl lactone 10 g methyl ethyl ketone 10 g 1-methoxy-2-propanol 1 g
【0103】[0103]
【化21】 Embedded image
【0104】得られた平版印刷版について、外傷に対す
る現像安定性を評価した。評価結果を表2に示す。The resulting lithographic printing plate was evaluated for development stability against damage. Table 2 shows the evaluation results.
【0105】(外傷に対する現像安定性)得られた平版
印刷版を、出力500mW,波長830nm、ビーム径
17μm(1/e2 )の半導体レーザを用いて主走査速
度5m/秒にて露光した後、連続荷重式引掻強度試験器
「SB62型」(新東科学(株)製)を用い、引掻治具
の版上に当たる1cm角の正方形平面部分にアドバンテ
ック東洋社製の「No.5C」濾紙を張り付けて、10
0gの荷重を載せて、6cm/秒の速度で引っ掻き、富
士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8)で
30秒間現像した。評価は以下の基準により行った。 引掻いた部分の感光膜が完全に溶解している場合;× 引掻いた部分の感光膜が部分的に溶解している場合;△ 引掻いた部分の感光膜が全く溶解していない場合;○(Development Stability to Trauma) The obtained lithographic printing plate was exposed at a main scanning speed of 5 m / sec using a semiconductor laser having an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm (1 / e 2 ). Using a continuous load type scratch strength tester "SB62 type" (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), "No. 5C" manufactured by Advantech Toyosha Co., Ltd. was applied to a 1 cm square flat surface hitting the plate of a scratching jig. Paste the filter paper and add 10
With a load of 0 g, the film was scratched at a speed of 6 cm / sec, and developed with a developing solution DP-4 (1: 8) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. for 30 seconds. The evaluation was performed according to the following criteria. When the photosensitive film at the scratched portion is completely dissolved; × When the photosensitive film at the scratched portion is partially dissolved; 場合 When the photosensitive film at the scratched portion is not completely dissolved; ○
【0106】[0106]
【表2】 [Table 2]
【0107】(実施例2、3、比較例1、2)フッ素含
有ポリマーP−6の代わりにそれぞれフッ素含有ポリマ
ーP−2、P−5、R−1、R−2を使用した以外は実
施例1と同様にして、平版印刷版を得た。得られた平版
印刷版について、実施例1と同様に外傷に対する現像安
定性を評価した。評価結果を表2に示す。(Examples 2 and 3, Comparative Examples 1 and 2) Except that fluorine-containing polymers P-2, P-5, R-1, and R-2 were used instead of fluorine-containing polymer P-6, respectively. A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1. The resulting lithographic printing plate was evaluated for development stability against damage in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the evaluation results.
【0108】表2から、特定のフッ素含有ポリマーの添
加により、現像前の状態において、外傷に対する安定性
が顕著に向上していることが分かる。From Table 2, it can be seen that the stability against trauma in the state before development was significantly improved by the addition of the specific fluorine-containing polymer.
【0109】[0109]
【発明の効果】本発明によれば、現像前の状態が安定で
あり、取扱い性に優れるダイレクト製版用の赤外線レー
ザ用ポジ型感光性組成物が提供される。According to the present invention, there is provided a positive photosensitive composition for an infrared laser for direct plate making, which is stable in a state before development and excellent in handleability.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川村 浩一 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Koichi Kawamura 4,000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Inside Fujisha Shin Film Co., Ltd.
Claims (2)
ーザ用ポジ型感光性組成物。 (a)光を吸収し熱を発生する物質、 (b)フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶
性樹脂、 (c)少なくとも下記(1)〜(3)を共重合成分とし
て含むフッ素含有ポリマー、 (1)炭素原子上の水素原子がフッ素原子で置換されて
いるフルオロ脂肪族基を側鎖に有する付加重合可能なフ
ッ素含有モノマー、 (2)下記の構造〔1〕乃至〔4〕で示されるモノマ
ー、 【化1】 〔式中、A1 は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基
を示し、Wは酸素、又は−NR1 −であり、R1 は水素
原子、アルキル基、アリール基を表し、R2 は置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いアリール基を示し、R3 はアルキル基、アリール基を
表し、Uはシアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アシルオキシメチル基、窒素原子を含む
ヘテロ環、若しくは−CH2 OCOR3 (R3 は上記と
同義)を表す〕 (3)酸性水素原子を持ち、該酸性水素原子が窒素原子
に結合した酸性基を有する付加重合可能なモノマー1. A positive photosensitive composition for an infrared laser comprising the following (a) to (c). (A) a substance that absorbs light and generates heat; (b) a resin soluble in an aqueous alkali solution having a phenolic hydroxyl group; (c) a fluorine-containing polymer containing at least the following (1) to (3) as a copolymerization component; ) An addition-polymerizable fluorine-containing monomer having a fluoroaliphatic group in which a hydrogen atom on a carbon atom is substituted by a fluorine atom in a side chain, (2) a monomer represented by the following structures [1] to [4] Embedded image [In the formula, A 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, W represents oxygen or —NR 1 —, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R 2 represents a substituent. R 3 represents an alkyl group or an aryl group which may have an alkyl group or an aryl group which may have a substituent; U represents a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an acyloxy group; Represents a methyl group, a heterocycle containing a nitrogen atom, or —CH 2 OCOR 3 (R 3 is as defined above). (3) It has an acidic hydrogen atom, and the acidic hydrogen atom has an acidic group bonded to the nitrogen atom Addition polymerizable monomer
とも一つを共重合成分として10モル%以上含む共重合
体をさらに含有する請求項1の赤外線レーザ用ポジ型感
光性組成物。 (4)1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基を有するモノマー (5)1分子中に、下記の式で表される活性イミノ基を
有するモノマー 【化2】 (6)それぞれフェノール性水酸基を有するアクリルア
ミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、またはヒドロキシスチレン2. The positive photosensitive composition for an infrared laser according to claim 1, further comprising (d) a copolymer containing at least one of the following (4) to (6) as a copolymer component in an amount of 10 mol% or more. Stuff. (4) A monomer having a sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom in one molecule. (5) A monomer having an active imino group represented by the following formula in one molecule. ] (6) acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, or hydroxystyrene each having a phenolic hydroxyl group
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