JP2002229186A - Original plate of planographic printing plate - Google Patents

Original plate of planographic printing plate

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JP2002229186A
JP2002229186A JP2001029890A JP2001029890A JP2002229186A JP 2002229186 A JP2002229186 A JP 2002229186A JP 2001029890 A JP2001029890 A JP 2001029890A JP 2001029890 A JP2001029890 A JP 2001029890A JP 2002229186 A JP2002229186 A JP 2002229186A
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alkali
lithographic printing
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Tomoyoshi Mitsumoto
知由 光本
Kaoru Iwato
薫 岩戸
Akihisa Oda
晃央 小田
Hideo Miyake
秀夫 三宅
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive original plate of a planographic printing plate for an IR laser for direct plate making excellent in latitude and scuffing resis tance in image formation by development and capable of forming an image of superior image quality. SOLUTION: The original plate is obtained by disposing a positive recording layer containing (A) a water-insoluble and alkali-soluble resin, (B) an IR absorber and (C) an organic quaternary ammonium salt and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by exposure with infrared laser light on a base. A compound having at least one of aryl and carbonyl groups in its molecule is preferably used as (C) the organic quaternary ammonium salt.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ
型平版印刷版原版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material usable as an offset printing master, and more particularly to a positive type lithographic printing plate precursor for an infrared laser for so-called direct plate making that can be directly made from a digital signal of a computer or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。
2. Description of the Related Art In recent years, lasers have been remarkably developed.
2. Description of the Related Art Semiconductor lasers are easily available in small size with high output. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like.

【0003】赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版材料は、
アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し
熱を発生するIR染料等とを必須成分とし、IR染料等
が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互
作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させ
る溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発
生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作
用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平板印刷版を形成
する。しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型
平板印刷版材料では、様々な使用条件における未露光部
(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光部(非画
像部)の溶解性との間の差が未だ十分とは言えず、使用
条件の変動による現像過剰や現像不良が起きやすいとい
う問題があった。また、取扱い時に表面に触れる等によ
りわずかに表面状態が変動した場合にも、現像時に未露
光部(画像部)が溶解してキズ跡状となり、耐刷の劣化
や着肉性不良を引き起こすという問題があった。
[0003] Positive lithographic printing plate materials for infrared lasers are:
An essential component is an alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an IR dye or the like that absorbs light and generates heat. The IR dye or the like dissolves in the unexposed area (image area) by interaction with the binder resin. In the exposed area (non-image area), the generated heat weakens the interaction between the IR dye and the binder resin and dissolves in the alkaline developer to form a lithographic printing plate in the exposed area (non-image area). I do. However, in such a positive type lithographic printing plate material for an infrared laser, the solubility between the unexposed portion (image portion) in the developing solution and the solubility in the exposed portion (non-image portion) under various use conditions is reduced. However, there is a problem that excessive development or poor development is likely to occur due to fluctuations in use conditions. In addition, even when the surface condition slightly changes due to touching the surface during handling, the unexposed portion (image portion) dissolves during development to form scratch marks, which causes deterioration of printing durability and poor adhesion. There was a problem.

【0004】このような問題は、赤外線レーザ用ポジ型
平板印刷版材料とUV露光により製版するポジ型平板印
刷版材料との製版メカニズムの本質的な相違に由来す
る。すなわち、UV露光により製版するポジ型平板印刷
版材料では、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂
と、オニウム塩やキノンジアジド化合物類とを必須成分
とするが、このオニウム塩やキノンジアジド化合物類
は、未露光部(画像部)でバインダー樹脂との相互作用
により溶解阻止剤として働くだけでなく、露光部(非画
像部)では、光によって分解して酸を発生し、溶解促進
剤として働くという二つの役割を果たすものである。こ
れに対し、赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版材料におけ
るIR染料等は、未露光部(画像部)の溶解阻止剤とし
て働くのみで、露光部(非画像部)の溶解を促進するも
のではない。従って、赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版
材料において、未露光部と露光部との溶解性の差を出す
ためには、バインダー樹脂として、あらかじめアルカリ
現像液に対する溶解性の高いものを使用せざるを得ず、
現像前の状態が不安定なものとなるのである。
[0004] Such a problem stems from an essential difference in the plate making mechanism between the positive lithographic printing plate material for infrared laser and the positive lithographic printing plate material made by UV exposure. That is, in a positive lithographic printing plate material made by UV exposure, a binder resin soluble in an aqueous alkali solution and an onium salt or a quinonediazide compound are essential components. In the image area), not only does it act as a dissolution inhibitor due to the interaction with the binder resin, but in the exposed area (non-image area), it is decomposed by light to generate acid and acts as a dissolution promoter. Things. On the other hand, the IR dye or the like in the positive type lithographic printing plate material for an infrared laser only acts as a dissolution inhibitor in an unexposed portion (image portion) and does not promote dissolution in an exposed portion (non-image portion). . Therefore, in order to obtain a difference in solubility between the unexposed portion and the exposed portion in the infrared laser positive lithographic printing plate material, a binder resin having high solubility in an alkali developing solution must be used in advance. Not get
The state before development becomes unstable.

【0005】耐現像性を向上させるための溶解抑制剤は
種々提案されているが、露光により速やかに抑制効果を
解除しうるものは少ない。露光部(非画像部)の現像性
を低下させず未露光部(画像部)の現像液に対する耐溶
解性とを上げる目的で、例えば、EP950517号に
は、シロキサン系の界面活性剤を用いる方法が提案され
おり、特開平10−26851号公報には、溶解抑制剤
としてスルホン酸エステル類等を用いる方法が開示され
ている。これらは記録層画像部の耐現像性向上にある程
度寄与するものの、現像液の活性変動に係わらず鮮鋭で
良好な画像形成を行いうるほどには、充分な未露光部と
露光部との溶解性の差を達成しているとは言い難い。
Various dissolution inhibitors for improving the development resistance have been proposed, but there are few which can quickly release the suppression effect by exposure. For the purpose of increasing the solubility of an unexposed portion (image portion) in a developing solution without lowering the developability of an exposed portion (non-image portion), for example, EP 950517 discloses a method using a siloxane-based surfactant. And Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-26851 discloses a method using a sulfonic acid ester or the like as a dissolution inhibitor. These contribute to improving the development resistance of the image portion of the recording layer to some extent, but have sufficient solubility between the unexposed portion and the exposed portion so that a sharp and good image can be formed regardless of fluctuations in the activity of the developer. It is hard to say that the difference has been achieved.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、現像
による画像形成時のラチチュード及び耐キズ性に優れ、
優れた画質の画像を形成しうるダイレクト製版用の赤外
線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide excellent latitude and scratch resistance during image formation by development,
An object of the present invention is to provide a positive lithographic printing plate precursor for infrared laser for direct plate making which can form an image of excellent quality.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
重ねた結果、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と同一層
に溶解抑制剤として有機四級アンモニウム塩を共存させ
ることにより、現像ラチチュードに優れる平版印刷版を
得られることを見出し、本発明を完成するに到った。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies, and as a result, have developed an excellent development latitude by coexisting an organic quaternary ammonium salt as a dissolution inhibitor in the same layer as a water-insoluble and alkali-soluble resin. They have found that a lithographic printing plate can be obtained, and have completed the present invention.

【0008】即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体
上に、(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、(B)
赤外線吸収剤及び、(C)有機4級アンモニウム塩を含
み、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する
溶解性が増大するポジ型記録層を設けてなることを特徴
とする。ここで用いられる(C)有機4級アンモニウム
塩として、分子内にアリール基及びカルボニル基より選
択される少なくともひとつの基を有するものが、効果の
観点から好ましい。
That is, the lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises: (A) a water-insoluble and alkali-soluble resin;
A positive recording layer containing an infrared absorbent and (C) an organic quaternary ammonium salt and having increased solubility in an alkaline aqueous solution by exposure to an infrared laser is provided. As the organic quaternary ammonium salt (C) used herein, those having at least one group selected from an aryl group and a carbonyl group in the molecule are preferable from the viewpoint of effects.

【0009】本発明の作用機構は明らかではないが、記
録層において(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂
(以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する)と(C)
有機4級アンモニウム塩とを同一層に共存させること
で、エネルギー的に安定な状態、即ち、両化合物間で相
互作用が働いた状態で乾膜を形成する。未露光部では、
この相互作用の形成によりアルカリ溶解抑制効果が得ら
れるため、(A)アルカリ可溶性樹脂単独の場合に比較
して、優れた耐アルカリ現像性を発現する。一方、露光
部においては、(C)有機4級アンモニウム塩は化学構
造上、窒素カチオン周辺が立体構造的に込み入ってお
り、(A)アルカリ可溶性樹脂との相互作用力そのもの
は比較的小さいため、赤外レーザの露光により(B)赤
外線吸収剤が発熱した領域では、効率的に相互作用が解
除される。加えて、用いられる(C)有機4級アンモニ
ウム塩はそれ自体が低分子化合物であるため、相互作用
が解除された状態では容易にアルカリ性水溶液に分散さ
れ、溶解促進性も得られる。このような理由により
(C)有機4級アンモニウム塩を用いることで、アルカ
リ現像液に対する未露光部と露光部との溶解性の差異が
大きく、現像液の濃度に係わらず良好な画像形成が可能
となるものと推察される。
Although the mechanism of action of the present invention is not clear, the recording layer contains (A) a water-insoluble and alkali-soluble resin (hereinafter, appropriately referred to as an alkali-soluble resin) and (C)
By allowing the organic quaternary ammonium salt to coexist in the same layer, a dry film is formed in an energy-stable state, that is, in a state in which interaction between both compounds works. In the unexposed area,
Since the alkali dissolution suppressing effect is obtained by the formation of this interaction, excellent alkali development resistance is exhibited as compared with the case of using (A) the alkali-soluble resin alone. On the other hand, in the exposed area, (C) the organic quaternary ammonium salt has a three-dimensional structure around the nitrogen cation due to its chemical structure, and (A) the interaction force itself with the alkali-soluble resin is relatively small. In the region where (B) the infrared absorbing agent generates heat by exposure to the infrared laser, the interaction is efficiently released. In addition, since the (C) organic quaternary ammonium salt used is itself a low molecular compound, it can be easily dispersed in an alkaline aqueous solution in a state where the interaction is released, and the dissolution accelerating property can be obtained. For this reason, by using (C) an organic quaternary ammonium salt, there is a large difference in solubility between an unexposed portion and an exposed portion in an alkali developing solution, and a good image can be formed regardless of the concentration of the developing solution. It is assumed that

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明の平版印刷版原版は記録層に(A)水不溶性且つア
ルカリ可溶性樹脂、(B)赤外線吸収剤及び(C)有機
4級アンモニウム塩を含有することを要する。以下に、
記録層を構成する成分について順次説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The lithographic printing plate precursor according to the invention needs to contain (A) a water-insoluble and alkali-soluble resin, (B) an infrared absorber and (C) an organic quaternary ammonium salt in the recording layer. less than,
Components constituting the recording layer will be described sequentially.

【0011】〔(C)有機4級アンモニウム塩〕本発明
で用いられる(C)有機4級アンモニウム塩には、特に
制限はなく、公知の有機基を有する4級アンモニウム塩
を適宜選択して用いることができる。本発明に好適な4
級アンモニウム塩は、低分子量化合物であり、モノマー
乃至オリゴマーである。なかでも、効果の観点から、有
機基として、分子内にアリール基、カルボニル基の少な
くともひとつを有するものが好ましく、さらに、アリー
ル基、カルボニル基の双方を含むものが好ましい。本発
明で好適に用い得る有機4級アンモニウム塩化合物とし
ては、下記一般式(I)で表されるものが挙げられる。
[(C) Organic quaternary ammonium salt] The (C) organic quaternary ammonium salt used in the present invention is not particularly limited, and a quaternary ammonium salt having a known organic group is appropriately selected and used. be able to. 4 suitable for the present invention
The quaternary ammonium salt is a low molecular weight compound and is a monomer or an oligomer. Above all, from the viewpoint of the effect, the organic group preferably has at least one of an aryl group and a carbonyl group in the molecule, and more preferably has both the aryl group and the carbonyl group. Examples of the organic quaternary ammonium salt compound that can be suitably used in the present invention include those represented by the following general formula (I).

【0012】[0012]

【化1】 Embedded image

【0013】式中、R1、R2、R3、R4はそれぞれ独立
に炭素原子を1以上有する有機基であり、これらは互い
に連結して環を形成していてもよい。一般式(I)で示
される有機4級アンモニウム塩の好ましい態様として、
1、R2、R3、R4、のうち少なくともひとつが以下に
示す部分構造を有する官能基である化合物が挙げられ
る。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently an organic group having at least one carbon atom, and these may be linked to each other to form a ring. As a preferred embodiment of the organic quaternary ammonium salt represented by the general formula (I),
A compound in which at least one of R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 is a functional group having a partial structure shown below.

【0014】[0014]

【化2】 Embedded image

【0015】式中、Ar1はアリール基を示し、R5、R
6、R7はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子を1以
上有する有機基を示し、これらのうち少なくとも2つは
水素原子ではない有機基から選択される。R5、R6、R
7は互いに連結して環を形成していてもよい。一般式
(I)で示される有機4級アンモニウム塩の他の好まし
い態様として、R1、R2、R3、R4、のうち少なくとも
ひとつが以下に示す官能基群(A群と称する)から選択
される化合物が挙げられる。
[0015] In the formula, Ar 1 represents an aryl group, R 5, R
6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or an organic group having at least one carbon atom, at least two of which are selected from organic groups that are not hydrogen atoms. R 5 , R 6 , R
7 may be linked to each other to form a ring. In another preferred embodiment of the organic quaternary ammonium salt represented by the general formula (I), at least one of R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 is selected from the following functional group (hereinafter referred to as group A). The compound selected is mentioned.

【0016】[0016]

【化3】 Embedded image

【0017】式中、R8、R9、R10はそれぞれ独立に、
水素原子又は炭素原子を1以上有する有機基を示し、こ
れらのうち少なくとも2つは水素原子ではない有機基か
ら選択される。R8、R9、R10は互いに連結して環を形
成していてもよい。一般式(I)で示される有機4級ア
ンモニウム塩のさらに好ましい態様として、R1、R2
3、R4、のうち少なくともひとつが以下に示す官能基
群(B群と称する)から選択される化合物が挙げられ
る。
Wherein R 8 , R 9 and R 10 are each independently
An organic group having at least one hydrogen atom or carbon atom, at least two of which are selected from organic groups that are not hydrogen atoms; R 8 , R 9 and R 10 may be linked to each other to form a ring. As more preferred embodiments of the organic quaternary ammonium salt represented by the general formula (I), R 1 , R 2 ,
A compound in which at least one of R 3 and R 4 is selected from the following functional group (referred to as group B) is exemplified.

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】式中、Ar2はアリール基を示し、R11
12はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子を1以上
有する有機基を示し、Ar2、R11、R12は互いに連結
して環を形成していてもよい。R13、R14、R15はそれ
ぞれ独立に、水素原子又は炭素原子を1以上有する有機
基を示し、これらのうち少なくとも1つが、非芳香族環
状置換基であるか、又は、R13、R14、R15のうち隣接
する2つが互いに連結して環を形成した態様である。一
般式(I)で示される有機4級アンモニウム塩の最も好
ましい態様としては、前記A群の官能基中、R8がアリ
ール基である化合物、及び、R1、R2、R3、R4、のう
ち少なくとも2つが上記A群及びB群から選択される官
能基である化合物が挙げられ、さらに好ましくは、A群
より選択される官能基とB群より選択される官能基とを
それぞれ1つずつ有する化合物が挙げられる。本発明に
用い得る好ましい有機4級アンモニウム塩の具体例を以
下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではな
い。
In the formula, Ar 2 represents an aryl group, R 11 ,
R 12 each independently represents a hydrogen atom or an organic group having at least one carbon atom, and Ar 2 , R 11 and R 12 may be linked to each other to form a ring. R 13 , R 14 , and R 15 each independently represent a hydrogen atom or an organic group having at least one carbon atom, and at least one of them is a non-aromatic cyclic substituent, or R 13 , R 15 In this embodiment, two adjacent ones of R 15 and R 15 are connected to each other to form a ring. As the most preferred embodiment of the organic quaternary ammonium salt represented by the general formula (I), a compound in which R 8 is an aryl group in the functional group of Group A, and R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 , At least two of which are functional groups selected from the group A and the group B, and more preferably, a functional group selected from the group A and a functional group selected from the group B are each 1 Compounds having one by one. Specific examples of preferred organic quaternary ammonium salts that can be used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0020】[0020]

【化5】 Embedded image

【0021】[0021]

【化6】 Embedded image

【0022】これらの(C)有機4級アンモニウム塩は
ポジ型記録層の全固形分中、0.1〜40重量%含有さ
れることが好ましく、特に0.5〜10重量%の範囲で
あることが好ましい。含有量が少なすぎると本発明の効
果が得がたく、含有量が多すぎると併用するアルカリ可
溶性樹脂の含有量が相対的に低下し、印刷時の耐磨耗性
が低下する可能性がでてくる。
These organic quaternary ammonium salts (C) are preferably contained in an amount of 0.1 to 40% by weight, and particularly in a range of 0.5 to 10% by weight, based on the total solid content of the positive recording layer. Is preferred. If the content is too small, the effect of the present invention is hardly obtained, and if the content is too large, the content of the alkali-soluble resin used in combination is relatively reduced, and the abrasion resistance during printing may be reduced. Come.

【0023】〔(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹
脂〕本発明で使用される水不溶性且つアルカリ可溶性樹
脂としては、従来公知のものであれば特に制限はない
が、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド
基、(3)活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に
有する高分子化合物であることが好ましい。本発明に好
適に使用しうるアルカリ可溶性高分子としては、例え
ば、以下のものが例示されるが、これらに限定されるも
のではない。
[(A) Water-insoluble and alkali-soluble resin] The water-insoluble and alkali-soluble resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is a conventionally known one. It is preferable that the polymer compound has a functional group of either 2) sulfonamide group or (3) active imide group in the molecule. Examples of the alkali-soluble polymer that can be suitably used in the present invention include, for example, the following, but are not limited thereto.

【0024】(1)フェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、2,3−キシレノールホルム
アルデヒド樹脂、2,5−キシレノールホルムアルデヒ
ド樹脂、3,5−キシレノールホルムアルデヒド樹脂、
フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−
混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂、フ
ェノール/キシレノール混合ホルムアルデヒド樹脂、キ
シレノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−
混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂、或
いは、フェノール/クレゾール/キシレノール混合ホル
ムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、ピロガロールア
セトン樹脂が挙げられる。
(1) Examples of the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, 2,3-xylenol Formaldehyde resin, 2,5-xylenol formaldehyde resin, 3,5-xylenol formaldehyde resin,
Phenol / cresol (m-, p- or m- / p-
Mixed formaldehyde resin, phenol / xylenol mixed formaldehyde resin, xylenol / cresol (m-, p-, or m- / p-
Novolak resin such as mixed formaldehyde resin, phenol / cresol / xylenol mixed formaldehyde resin, and pyrogallol acetone resin.

【0025】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第4,123,
279号明細書に記載されているように、t−ブチルフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル
基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体が挙げられる。フェノール性水酸基を有す
る高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール性
水酸基を有する高分子化合物を用いることが好ましい。
側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物として
は、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合をそれ
ぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマ
ーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマー
を共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
Further, as the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, US Pat. No. 4,123,
As described in the specification of JP-A-279, a condensation polymer of phenol having a C3-8 alkyl group as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin, and formaldehyde can be mentioned. As the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group, a high molecular compound having a phenolic hydroxyl group in a side chain is preferably used.
As the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular compound having at least one unsaturated bond capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group may be homopolymerized, or another polymerizable monomer may be used. Examples include a polymer compound obtained by copolymerizing a monomer.

【0026】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルア
クリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、
m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、
2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、2種類以上を組み合わせて
使用してもよい。更に、米国特許第4,123,279
号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。
Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group. Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3 -Hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate,
m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene,
m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2
-(2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate,
2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate and the like can be suitably used. Such resins having a phenolic hydroxyl group may be used in combination of two or more. No. 4,123,279.
As described in the specification, a condensation polymer of phenol and formaldehyde having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin, may be used in combination. Good.

【0027】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性樹脂としては、スルホンアミド基を有する重合性
モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モ
ノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられ
る。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとして
は、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの水素原
子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2 −と、重
合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化
合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その中で
も、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、
置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホ
ニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。この
ような化合物としては、例えば、下記一般式(a)〜一
般式(e)で示される化合物が挙げられる。
(2) Examples of the alkali-soluble resin having a sulfonamide group include a polymer compound obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. Can be Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include, in one molecule, at least one sulfonamide group —NH—SO 2 — in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom, and at least one polymerizable unsaturated bond. And a polymerizable monomer composed of a low-molecular compound. Among them, acryloyl group, allyl group, or vinyloxy group,
Low molecular weight compounds having a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group are preferred. Examples of such a compound include compounds represented by the following general formulas (a) to (e).

【0028】[0028]

【化7】 Embedded image

【0029】式中、X1及びX2は、それぞれ−O−又は
−NR7−を示す。R1及びR4は、それぞれ水素原子又
は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12及びR16は、そ
れぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラ
ルキレン基を表す。R3、R7及びR13は、水素原子、そ
れぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル
基を表す。また、R6及びR17は、それぞれ置換基を有
していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。R8
10及びR14は、水素原子又は−CH3を表す。R11
びR15は、それぞれ単結合又は置換基を有していてもよ
い炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1及び
2は、それぞれ単結合又は−CO−を表す。具体的に
は、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N
−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルア
ミド等を好適に使用することができる。
In the formula, X 1 and X 2 each represent —O— or —NR 7 —. R 1 and R 4 each represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each represent an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. R 3 , R 7 and R 13 each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 8 ,
R 10 and R 14 represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each represent a single bond or an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1 and Y 2 each represent a single bond or —CO—. Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N
-(P-Aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0030】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性樹脂は、下記式で表される活性イミド基を分子内に有
するものが好ましく、この高分子化合物としては、1分
子中に、下記式で表わされる活性イミド基と、重合可能
な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物か
らなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに
他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合
物が挙げられる。
(3) The alkali-soluble resin having an active imide group is preferably a resin having an active imide group represented by the following formula in the molecule. Active imide group, and a polymerizable monomer obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer comprising a low molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond, or by copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. No.

【0031】[0031]

【化8】 Embedded image

【0032】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
As such a compound, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0033】本発明のアルカリ可溶性樹脂としては、ノ
ボラック樹脂が好ましい。また、前記フェノール性水酸
基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する
重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合性モノ
マーのうちの2種以上を重合させた高分子化合物、或い
はこれら2種以上の重合性モノマーに他の重合性モノマ
ーを共重合させて得られる高分子化合物を使用すること
が好ましい。フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーに、スルホンアミド基を有する重合性モノマー及び/
又は活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合させ
る場合には、これら成分の配合重量比は50:50から
5:95の範囲にあることが好ましく、40:60から
10:90の範囲にあることが特に好ましい。
The alkali-soluble resin of the present invention is preferably a novolak resin. Further, a polymer compound obtained by polymerizing two or more of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, and the polymerizable monomer having an active imide group, or a polymer compound of these two or more types It is preferable to use a polymer compound obtained by copolymerizing a polymerizable monomer with another polymerizable monomer. A polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group and / or
Alternatively, when a polymerizable monomer having an active imide group is copolymerized, the compounding weight ratio of these components is preferably in the range of 50:50 to 5:95, and is in the range of 40:60 to 10:90. Is particularly preferred.

【0034】本発明において、アルカリ可溶性樹脂が前
記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホ
ンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基
を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの共
重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモノ
マーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル%
以上含むものがより好ましい。共重合成分が10モル%
より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、
現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないことが
ある。
In the present invention, the alkali-soluble resin is a copolymer of a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group, and another polymerizable monomer. In the case of coalescence, it is preferable that the monomer for imparting alkali solubility is contained in an amount of 10 mol% or more, and 20 mol% or more.
Those containing the above are more preferable. 10 mol% copolymer component
If less, alkali solubility tends to be insufficient,
The effect of improving the development latitude may not be sufficiently achieved.

【0035】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、例えば、下記(m1)〜(m1
2)に挙げるモノマーを用いることができるが、これら
に限定されるものではない。 (m1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エ
ステル類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート
等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレ
ート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。 (m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類。
Examples of the monomer components to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group include the following (m1) to (m1)
The monomers described in 2) can be used, but are not limited thereto. (M1) For example, acrylates and methacrylates having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (M2) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate,
Alkyl acrylates such as hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate and N-dimethylaminoethyl acrylate; (M3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2-
Alkyl methacrylates such as chloroethyl, glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate; (M4) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N
Acrylamide or methacrylamide such as -phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, and N-ethyl-N-phenylacrylamide. (M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.

【0036】(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。 (m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル等。 (m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (M10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

【0037】本発明においてアルカリ可溶性樹脂が、前
記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホ
ンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基
を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体の
場合、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子量
が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量
平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分
子量が800〜250,000であり、分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものであ
る。また、本発明においてアルカリ可溶性樹脂がフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂
等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜2
0,000であり、数平均分子量が200〜10,00
0のものが好ましい。
In the present invention, when the alkali-soluble resin is a homopolymer or copolymer of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group, Those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more are preferred. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. . In the present invention, when the alkali-soluble resin is a resin such as a phenol formaldehyde resin and a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to 2
000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000.
0 is preferred.

【0038】これらアルカリ可溶性樹脂は、それぞれ1
種類或いは2種類以上を組み合わせて使用してもよく、
前記記録層全固形分中、30〜99重量%、好ましくは
40〜95重量%、特に好ましくは50〜90重量%の
添加量で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添加量が3
0重量%未満であると記録層の耐久性が悪化し、また、
99重量%を超えると感度、耐久性の両面で好ましくな
い。
Each of these alkali-soluble resins is 1
May be used in combination of two or more types,
It is used in an amount of 30 to 99% by weight, preferably 40 to 95% by weight, particularly preferably 50 to 90% by weight, based on the total solid content of the recording layer. 3 alkali-soluble resin added
If the content is less than 0% by weight, the durability of the recording layer deteriorates.
If it exceeds 99% by weight, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability.

【0039】〔(B)赤外線吸収剤〕本発明において用
いられる赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発
生する物質であれば特に制限はなく、赤外線吸収染料或
いは赤外線吸収顔料として知られる種々の顔料もしくは
染料を用いる事ができる。顔料としては、市販の顔料及
びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便
覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔
料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷イ
ンキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されてい
る顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、
黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色
顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、そ
の他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不
溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレー
トアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系
顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔
料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソイ
ンドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ
顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。
[(B) Infrared absorbing agent] The infrared absorbing agent used in the present invention is not particularly limited as long as it is a substance that absorbs infrared light and generates heat, and is known as an infrared absorbing dye or an infrared absorbing pigment. Various pigments or dyes can be used. Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by The Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “printing”. Pigments described in "Ink Technology" published by CMC, 1984) can be used. As pigment types, black pigments,
Yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, violet pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bound pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like.

【0040】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。顔料の粒径は0.01μm〜10μm
の範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの
範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1
μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.0
1μm未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soaps" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986). Pigment particle size is 0.01 μm to 10 μm
And more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, particularly 0.1 μm to 1 μm.
It is preferably in the range of μm. Pigment particle size is 0.0
If it is less than 1 μm, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the recording layer, and if it exceeds 10 μm, the uniformity of the recording layer is not preferred. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. As the disperser, an ultrasonic disperser,
Sand mills, attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, dispersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three-roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0041】染料としては、市販の染料及び文献(例え
ば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)
に記載されている公知のものが利用できる。具体的に
は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。
As the dye, commercially available dyes and literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970)
The known ones described in (1) can be used. Specific examples include dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0042】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭58−112792号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載
のシアニン染料等を挙げることができる。
As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black is preferably used. Dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787 and the like.
JP-A-58-173696, JP-A-58-18169
0, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58-112793.
Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744; And the cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

【0043】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポ
リン社製のEpolight III−178、Epoli
ght III−130、Epolight III−125等
が、特に好ましく用いられる。
Also, US Pat.
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169);
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, pyrylium compounds and the like, as commercial products, Epolin III-178 manufactured by Eporin, Epoli
Ght III-130, Epollight III-125 and the like are particularly preferably used.

【0044】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、印
刷版材料全固形分に対し0.01〜50重量%、好まし
くは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で印刷版材料中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満
であると感度が低くなり、また50重量%を越えると記
録層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。こ
れらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加し
てもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の
層とする場合、本発明の熱分解性でありかつ分解しない
状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質を
含む層に隣接する層へ添加するのが望ましい。また、染
料もしくは顔料と結着樹脂は同一の層が好ましいが、別
の層でも構わない。
Another particularly preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight, in the case of dyes, Particularly preferred is 3.1.
It can be added to the printing plate material at a ratio of 10 to 10% by weight. If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered, and if it exceeds 50% by weight, the uniformity of the recording layer is lost and the durability of the recording layer is deteriorated. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or a separate layer may be provided and added thereto. If it is a separate layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to the layer containing a substance which substantially reduces the solubility of the binder when it is thermally decomposable and does not decompose. The dye or pigment and the binder resin are preferably in the same layer, but may be in different layers.

【0045】〔その他の成分〕本発明のポジ型記録層を
形成するにあたっては、更に必要に応じて、種々の添加
剤を添加することができる。例えばオニウム塩、o−キ
ノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族ス
ルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しな
い状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下
させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶解
阻止性の向上を図る点では、好ましい。オニウム塩とし
てはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム
塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム
塩、アルソニウム塩等を挙げる事ができる。
[Other Components] In forming the positive recording layer of the present invention, various additives can be further added as necessary. For example, it is not possible to use a substance that is thermally decomposable, such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, and an aromatic sulfonic acid ester compound, and that substantially reduces the solubility of an alkali-soluble resin when not decomposed. This is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developer. Examples of the onium salt include a diazonium salt, an ammonium salt, a phosphonium salt, an iodonium salt, a sulfonium salt, a selenonium salt, and an arsonium salt.

【0046】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Co
nf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、
J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5)、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,
1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同410,
201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444
号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,60
4,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J.
V. Crivello et al, Macromorecules,10(6), 1307 (19
77)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem.Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム
塩、C. S. Wen et al, Teh,Proc.Conf. Rad. Curing AS
IA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等
があげられる。オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩
が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩とし
ては特開平5−158230号公報記載のものがあげら
れる。
Suitable onium salts used in the present invention include, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et a
1, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
No. 4,069,055 diazonium salt described in U.S. Pat.
No. 4,069,056, ammonium salt described in the specification of JP-A-3-140140, DC Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, Teh, Proc. Co.
nf.Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, phosphonium salts described in JVCrivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31.
(1988), EP 104,143, U.S. Patent 339,049
No. 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-2-2965
Iodonium salt described in No. 14, JVCrivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985), JV Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978), WR Watt et al, J. P.
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984),
JV Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5), JV Crivello et al, Macromorecules, 14 (5),
1141 (1981), JV Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), European Patent No. 37
0,693, 233,567, 297,443, 297,442
Nos. 4,933,377, 3,902,114, 410,
No. 201, No. 339,049, No. 4,760,013, No. 4,734,444
No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,60
Nos. 4,580 and 3,604,581, sulfonium salts described in J.
V. Crivello et al, Macromorecules, 10 (6), 1307 (19
77), JV Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem. Ed., 17, 1047 (1979), a selenonium salt, CS Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing AS
IA, p478 Tokyo, Oct (1988). Of the onium salts, diazonium salts are particularly preferred. Particularly preferred diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.

【0047】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
As the counter ion of the onium salt, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.

【0048】好適なキノンジアジド類としてはo−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個の
o−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第339〜352頁に
記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させ
たo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号公
報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジ
アジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロ
ール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,12
0 号及び同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノ
ン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナ
フトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸ク
ロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエス
テルも好適に使用される。
Preferred quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and can be a compound having various structures. In other words, o-quinonediazide assists the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder by thermal decomposition and the fact that o-quinonediazide itself changes to an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include those described in J. Am. The compounds described in "Light-Sensitive Systems" by John Coleyer (John Wiley & Sons. Inc.), pages 339-352, can be used, but are particularly suitable for reacting with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. Sulfonic acid esters or amides of quinonediazides are preferred. Also, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,1) described in JP-B-43-28403.
2) esters of -diazide-5-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin, U.S. Pat. No. 3,046,12
The esters of benzoquinone- (1,2) -diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin described in No. 0 and 3,188,210 are also used. It is preferably used.

【0049】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−96
575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、特
公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481
号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、同
第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものをあげることができる。
Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-
Esters of 4-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin are likewise preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96
No. 575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481
No. 2,797,213, No. 3,454,400, No. 3,544,323, No. 3,573,917, No. 3,674,495
No. 3,785,825; British Patent No. 1,227,602;
Nos. 1,251,345, 1,267,005, 1,329,888,
No. 1,330,932, and German Patent No. 854,890, etc. can be mentioned.

【0050】o−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50重量%、更
に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜3
0重量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。
The amount of the o-quinonediazide compound added is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 3% by weight, based on the total solids of the printing plate material.
The range is 0% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

【0051】o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好ましくは
5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%であ
る。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させるこ
とが好ましい。
The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight. It is preferable that the additive and the binder of the present invention are contained in the same layer.

【0052】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−
エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平2
−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的に
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の印刷版材料
中に占める割合は、0.05〜20重量%が好ましく、
より好ましくは0.1〜15重量%、特に好ましくは
0.1〜10重量%である。
For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be used in combination. Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride, and tetrachlorophthalic anhydride described in U.S. Pat. No. 4,115,128. , Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-nitrophenol
Ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "
-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ',
3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-
Tetramethyltriphenylmethane and the like can be mentioned. Further, as organic acids, JP-A-60-88942,
Sulfonic acids, such as those described in
There are sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters and carboxylic acids, and specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-
Examples thereof include 1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. The proportion of the above cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the printing plate material is preferably 0.05 to 20% by weight,
It is more preferably 0.1 to 15% by weight, particularly preferably 0.1 to 10% by weight.

【0053】また、本発明に係る記録層塗布液中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭6
2−251740号公報や特開平3−208514号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤、EP950
517公報に記載されているようなシロキサン系化合
物、特開平11−288093号公報に記載されている
ようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することが
できる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビ
タントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリ
ド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙
げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられ
る。シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサン
とポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好まし
く、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224,
DBE−621,DBE−712,DBP−732,D
BP−534、独Tego社製、Tego Glide
100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙
げることが出来る。上記非イオン界面活性剤及び両性界
面活性剤の印刷版材料中に占める割合は、0.05〜1
5重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%
である。
In the recording layer coating solution according to the present invention,
Japanese Patent Application Laid-Open No.
Nonionic surfactants as described in JP-A-2-251740 and JP-A-3-208514, and amphoteric as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. Surfactant, EP950
It is possible to add a siloxane compound as described in JP-A-517, and a fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A-11-288093. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate,
Sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like can be mentioned. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N
-Tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name “Amogen K”: manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. As the siloxane-based compound, a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide is preferable. Specific examples include DBE-224, manufactured by Chisso Corporation.
DBE-621, DBE-712, DBP-732, D
BP-534, manufactured by Tego, Germany, Tego Glide
And polyalkylene oxide-modified silicones such as 100. The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the printing plate material is 0.05 to 1
5% by weight is preferred, more preferably 0.1-5% by weight
It is.

【0054】本発明における記録層中には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
50−36209号、同53−8128号の各公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭5
3−36223号、同54−74728号、同60−3
626号、同61−143748号、同61−1516
44号及び同63−58440号の各公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せ
を挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。
In the recording layer of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128,
No. 3-36223, No. 54-74728, No. 60-3
No. 626, No. 61-143748, No. 61-1516
Nos. 44 and 63-58440, and combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent stability over time and give clear print-out images.

【0055】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に本発明の
印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No.
The dyes described in JP 93247 A are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.1 to the total solid content of the printing plate material.
It can be added to the printing plate material in a proportion of from 01 to 10% by weight, preferably from 0.1 to 3% by weight. Further, a plasticizer is added to the printing plate material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility and the like to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid Oligomers and polymers are used.

【0056】本発明の平版印刷版原版の記録層は、通常
上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布す
ることにより製造することができる。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチル
アセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、
トルエン等をあげることができるがこれに限定されるも
のではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用
される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の
濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、
乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途
によって異なるが、平版印刷版原版についていえば一般
的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。
The recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether,
1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate,
Dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-
Dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone,
Examples include, but are not limited to, toluene. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. Also apply,
The coating amount (solid content) on the support obtained after drying varies depending on the intended use, but generally, the lithographic printing plate precursor is preferably from 0.5 to 5.0 g / m 2 .

【0057】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。本発明
における感光性層中には、塗布性を良化するための界面
活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載
されているようなフッ素系界面活性剤を添加することが
できる。好ましい添加量は、記録層全固形分中0.01
〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%
である。
Various methods can be used for the coating, such as bar coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating and the like. Can be. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate. In the photosensitive layer according to the invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 can be added. A preferable addition amount is 0.01 to the total solid content of the recording layer.
To 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight
It is.

【0058】本発明の平版印刷版原版の記録層の構成
は、単層であっても、多層構造であってもよい。即ち、
支持体上に形成する記録層は、上述した(A)水不溶性
且つアルカリ可溶性樹脂、(B)赤外線吸収剤及び
(C)有機4級アンモニウム塩を含む本発明に係るポジ
型記録層1層のみからなる記録層であってもよく、ま
た、他の層と積層してなる2層以上の記録層であっても
よい。記録層の層構成は任意であり、例えば、(A)水
不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、(B)赤外線吸収剤及
び(C)有機4級アンモニウム塩を含むポジ型記録層を
2層以上積層した記録層、本発明に係るポジ型記録層と
公知の他の記録層とを積層した記録層、或いは、層自体
は赤外線レーザに感応しない、赤外線吸収剤などを含ま
ない(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を主成分と
する層等と積層した記録層とすることもできる。複数の
層構成を有する記録層においては、いずれの構成をとる
場合にも、本発明に係るポジ型記録層が良好な現像ラチ
チュードを達成しうる特性を有することから、本発明に
係るポジ型記録層を記録層中の最上層とすることが好ま
しい。記録層を多層構造とする場合、各層の塗布量は、
目的とする特性に応じて適宜選択できるが、一般的に
は、例えば2層構造をとる場合には、上層の塗布量は
0.05〜5g/cm2の範囲、下層の塗布量は0.5
〜5g/cm2の範囲であることが好ましい。
The structure of the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention may be a single layer or a multilayer structure. That is,
The recording layer formed on the support is only one positive recording layer according to the present invention containing the above-mentioned (A) a water-insoluble and alkali-soluble resin, (B) an infrared absorber and (C) an organic quaternary ammonium salt. Or a recording layer composed of two or more layers laminated with another layer. The layer configuration of the recording layer is arbitrary. For example, recording is performed by laminating two or more positive recording layers containing (A) a water-insoluble and alkali-soluble resin, (B) an infrared absorber, and (C) an organic quaternary ammonium salt. Layer, a recording layer obtained by laminating a positive recording layer according to the present invention and another known recording layer, or the layer itself is not sensitive to an infrared laser and does not contain an infrared absorber (A) water-insoluble and alkali-soluble It may be a recording layer laminated with a layer mainly composed of a resin. In the recording layer having a plurality of layer configurations, the positive recording layer according to the present invention has the property that the positive recording layer according to the present invention can achieve a good development latitude in any case. Preferably, the layer is the uppermost layer in the recording layer. When the recording layer has a multilayer structure, the coating amount of each layer is
Although it can be appropriately selected according to the desired characteristics, in general, for example, when a two-layer structure is adopted, the coating amount of the upper layer is in the range of 0.05 to 5 g / cm 2 , and the coating amount of the lower layer is 0.1 g / cm 2 . 5
It is preferably in the range of 5 to 5 g / cm 2 .

【0059】本発明においては、(C)有機4級アンモ
ニウム塩が(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂のア
ルカリ現像液溶解抑制剤として機能するため、記録層に
おいて、表面に近い部分にこのような(C)有機4級ア
ンモニウム塩を多く含み、深部では少ないという濃度傾
斜を持たせることも好ましい態様である。このような構
成を実現する手段として、例えば、本発明に係るポジ型
記録層を2層以上配置し、上部の層には溶解抑制剤とし
ての(C)有機4級アンモニウム塩を多く配合し、下部
の記録層に含まれる(C)有機4級アンモニウム塩を少
なくするという手段をとることもできる。また、一般的
なポジ型記録層や(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹
脂を主成分とする赤外線感応性を有しない層の上層に本
発明に係るポジ型記録層を設けた場合においても、上部
の記録層が未露光部においてアルカリ現像液の浸透抑制
層として機能するため、下部にどのような記録層を設け
る場合でも、本発明の効果である良好なラチチュードを
実現できる。
In the present invention, (C) the organic quaternary ammonium salt functions as (A) an inhibitor for dissolving an alkali-soluble resin in a water-insoluble and alkali-soluble resin. (C) It is also a preferable embodiment to have a concentration gradient such that the organic quaternary ammonium salt is contained in a large amount and is small in a deep portion. As means for realizing such a configuration, for example, two or more positive recording layers according to the present invention are arranged, and an upper layer contains a large amount of (C) an organic quaternary ammonium salt as a dissolution inhibitor, It is also possible to take measures to reduce the amount of the organic quaternary ammonium salt (C) contained in the lower recording layer. Further, even when the positive recording layer according to the present invention is provided on a general positive recording layer or (A) a layer having no infrared sensitivity which is mainly composed of a water-insoluble and alkali-soluble resin, Since the recording layer functions as a layer for suppressing the penetration of the alkali developing solution in the unexposed area, good latitude, which is the effect of the present invention, can be realized even if any recording layer is provided below.

【0060】〔支持体〕本発明に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラ
スチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例え
ば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィル
ム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のご
とき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしく
はプラスチックフィルム等が含まれる。本発明の支持体
としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が
好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価で
あるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウ
ム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明に
おいて特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであ
るが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困
難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素
材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本
発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1
mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.
4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmであ
る。
[Support] The support used in the present invention is a dimensionally stable plate, for example, paper or paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.). , Metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, Polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper as described above, or paper on which metal is laminated, or a plastic film. As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include:
Silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element.
As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1
mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.1 mm.
4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0061】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate
The method is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte.
Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus surface-roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as required, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid,
Oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0062】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号及び第3,902,734号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed or electrolytically treated with an aqueous solution of sodium silicate. Further, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 are disclosed. A method of treating with polyvinyl phosphonic acid as described above is used.

【0063】本発明の平版印刷版原版は、支持体上にポ
ジ型の記録層を設けたものであるが、必要に応じてその
間に下塗層を設けることができる。下塗層成分としては
種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチ
ルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミ
ノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸
類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチ
ルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン
酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸な
どの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリ
ン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリ
ン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフ
ィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン
酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びト
リエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有す
るアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して
用いてもよい。
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a positive recording layer provided on a support. An undercoat layer may be provided between the positive and negative recording layers if necessary. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent , Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Has hydroxy groups such as salts -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

【0064】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum plate and dried, and an organic solvent such as water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is used. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above-mentioned organic compound is dissolved to adsorb the above-mentioned compound, and then washed with water or the like and dried to form an organic undercoat layer. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
The immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5 ° C.
0 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted to a range of 1 to 12 with a basic substance such as triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the image recording material. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0065】上記のようにして作成されたポジ型平版印
刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露
光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、
電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。ま
たg線、i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム
(レーザービーム)も使用される。レーザービームとし
てはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、ク
リプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、K
rFエキシマレーザー等が挙げられる。本発明において
は、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好まし
く、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
The positive planographic printing plate precursor prepared as described above is usually subjected to image exposure and development processing. Examples of the light source of the actinic ray used for the image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, and the like. As radiation,
There are electron beams, X-rays, ion beams, far infrared rays, and the like. In addition, g-line, i-line, Deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are also used. Laser beams include helium / neon laser, argon laser, krypton laser, helium / cadmium laser, K
rF excimer laser and the like can be mentioned. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0066】本発明の画像形成材料の現像に用いる現像
液および補充液としては、従来から知られているアルカ
リ水溶液が使用できる。これらには、ケイ酸アルカリを
用い、二酸化ケイ素を含有する、所謂、「シリケート現
像液」と、非還元糖と、塩基とからなり、実質上、二酸
化ケイ素を含有しない「非シリケート現像液」がある。
なお、ここで「実質上」とは不可避の不純物及び副生成
物としての微量の二酸化ケイ素の存在を許容することを
意味する。アルカリ水溶液としては、特にpH12.5
〜13.5のものが好ましい。本発明の画像形成材料の
現像工程においては、前記現像液のいずれも適用するこ
とができるが、現像ラチチュード向上の観点からは、非
シリケート現像液を用いることが好ましい。塩基及び緩
衝作用を有する有機化合物を主成分とする「非シリケー
ト現像液」と無機化合物を主成分とする「シリケート現
像液」とでは感光層へ作用が異なると考えられる。本発
明の平版印刷版原版が特に非シリケート現像による場合
に、優れた効果を発現する機構について以下に説明す
る。本発明の平版印刷版原版の感熱層では、未露光部に
おいては、感熱層を構成するアルカリ可溶性樹脂及び有
機4級アンモニウム塩と現像液中の有機化合物の塩とが
主に水素結合などの相互作用を形成することにより、現
像液に対してより強い溶解抑制効果を発現し、高活性の
現像液に対しても耐アルカリ性向上効果を有することに
なる。同様に、表面に形成された傷によるダメージも現
像抑制効果により防止することが可能になる。一方、露
光部においては、上記の相互作用は発現し難く、発現し
ても溶解抑制効果は少なく、現像液に対して充分な溶解
性を示す。さらに、上述の有機化合物塩の効果は、赤外
線レーザ対応の感熱層の場合に、露光部の支持体に近い
部分において、支持体への熱拡散により溶解抑制作用の
解除が充分に行われず、溶解性が表面近傍に比較して低
くなるため、特に、感熱層の表面近傍においてアルカリ
可溶性樹脂及び有機4級アンモニウム塩化合物の濃度を
高めた場合に、より顕著に発現される。
As a developer and a replenisher used for developing the image forming material of the present invention, conventionally known aqueous alkali solutions can be used. These include, using an alkali silicate, containing silicon dioxide, a so-called "silicate developer", a non-reducing sugar, and a base, and a "non-silicate developer" substantially free of silicon dioxide. is there.
Here, “substantially” means that the presence of trace amounts of silicon dioxide as unavoidable impurities and by-products is allowed. As the alkaline aqueous solution, pH 12.5
~ 13.5 are preferred. In the developing step of the image forming material of the present invention, any of the above-mentioned developing solutions can be applied, but from the viewpoint of improving the developing latitude, it is preferable to use a non-silicate developing solution. It is considered that the action on the photosensitive layer is different between a “non-silicate developer” containing a base and an organic compound having a buffering action as a main component and a “silicate developer” containing an inorganic compound as a main component. The mechanism for exhibiting excellent effects when the lithographic printing plate precursor according to the invention is particularly non-silicate developed will be described below. In the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, in the unexposed area, the alkali-soluble resin and the organic quaternary ammonium salt constituting the heat-sensitive layer and the salt of the organic compound in the developer mainly interact with each other such as hydrogen bonds. By forming the action, a stronger dissolution inhibiting effect is exhibited for the developing solution, and an alkali resistance improving effect is also exhibited for a highly active developing solution. Similarly, damage due to scratches formed on the surface can be prevented by the development suppressing effect. On the other hand, in the exposed part, the above-mentioned interaction is hardly developed, and even if it is, the dissolution suppressing effect is small and the exposed part shows sufficient solubility in the developer. Furthermore, the effect of the organic compound salt described above is that, in the case of a heat-sensitive layer corresponding to an infrared laser, the dissolution suppressing effect is not sufficiently released due to heat diffusion to the support in a portion of the exposed portion close to the support, and Since the property is lower than that near the surface, it is more remarkably exhibited especially when the concentration of the alkali-soluble resin and the organic quaternary ammonium salt compound is increased near the surface of the heat-sensitive layer.

【0067】本発明に使用しうる現像液の詳細について
以下に説明する。まず、「シリケート現像液」について
述べる。前記ケイ酸アルカリとしては、水に溶解したと
きにアルカリ性を示すものであり、例えば、ケイ酸ナト
リウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム等のアルカリ
金属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。前
記ケイ酸アルカリは、1種単独でも、2種以上を組合わ
せて用いてもよい。前記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の
成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2
(Mは、アルカリ金属又はアンモニウム基を表す。)と
の混合比率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調
節することができ、例えば、特開昭54−62004号
公報、特公昭57−7427号公報に記載されているよ
うなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。前記ア
ルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケイ素SiO2とアル
カリ酸化物M2Oとの混合比率(SiO2/M2O:モル
比)が0.5〜3.0のものが好ましく、1.0〜2.
0のものがより好ましい。前記SiO2/M2Oが、0.
5未満であると、アルカリ強度が強くなっていくため、
平版印刷用原版の支持体として汎用のアルミニウム板等
をエッチングしてしまうといった弊害を生ずることがあ
り、3.0を超えると、現像性が低下することがある。
The details of the developer usable in the present invention are described below. First, the “silicate developer” will be described. The alkali silicate exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate, and ammonium silicate. The alkali silicate may be used alone or in combination of two or more. The aqueous alkaline solution contains silicon oxide SiO 2 as a component of silicate and alkali oxide M 2 O.
(M represents an alkali metal or ammonium group.) By adjusting the mixing ratio and concentration, the developability can be easily adjusted. An alkali metal silicate as described in JP-A-7427 is effectively used. Among the alkaline aqueous solutions, those having a mixing ratio (SiO 2 / M 2 O: molar ratio) of the silicon oxide SiO 2 and the alkali oxide M 2 O of 0.5 to 3.0 are preferable, and 1.0 to 1.0. 2.
0 is more preferred. When the SiO 2 / M 2 O is 0.
If it is less than 5, the alkali strength increases,
When a general-purpose aluminum plate or the like is etched as a support for a lithographic printing plate precursor, a problem may occur, and when it exceeds 3.0, developability may be reduced.

【0068】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の重量に対して1〜10重量%
が好ましく、3〜8重量%がより好ましく、4〜7重量
%が最も好ましい。前記濃度が、1重量%未満である
と、現像性、処理能力が低下することがあり、10重量
%を超えると、沈殿や結晶を生成しやすくなり、さらに
廃液時の中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支
障をきたすことがある。
The concentration of the alkali silicate in the developer is 1 to 10% by weight based on the weight of the aqueous alkali solution.
Is preferably 3 to 8% by weight, and most preferably 4 to 7% by weight. If the concentration is less than 1% by weight, the developability and processing capacity may be reduced. And the treatment of waste liquid may be hindered.

【0069】次に、「非シリケート現像液」について説
明する。この現像液は、前記したように、非還元糖と塩
基とからなるものであり、ここで、非還元糖とは、遊離
性のアルデヒド基やケトン基を持たないために、還元性
を有しない糖類を意味し、還元基同士の結合したトレハ
ロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖
体、糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類さ
れる。本発明においては、これらのいずれも好適に用い
ることができる。
Next, the “non-silicate developer” will be described. As described above, this developer is composed of a non-reducing sugar and a base, and the non-reducing sugar has no reducing property because it has no free aldehyde group or ketone group. It means a saccharide, and is classified into a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bonded to each other, a glycoside in which a reducing group of a saccharide is bonded to a non-saccharide, and a sugar alcohol reduced by hydrogenating a saccharide. In the present invention, any of these can be suitably used.

【0070】前記トレハロース型少糖類としては、例え
ば、サッカロースやトレハロースが挙げられ、前記配糖
体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖
体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコール
としては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キ
シリット、D,L−ソルビット、D,L−アンニット、
D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、ア
ロズルシット等が挙げられる。さらには、二糖類の水素
添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得
られる還元体(還元水あめ)等も好適に挙げることがで
きる。
The trehalose-type oligosaccharides include, for example, saccharose and trehalose, and the glycosides include, for example, alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, ribit, xylit, D, L-sorbit, D, L-annit,
D, L-idit, D, L-talit, zuricit, allozurcit and the like. Further, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reductant (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can also be preferably mentioned.

【0071】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが、適度なpH領域
に緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖
は、単独でも、二種以上を組合せてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30重量%が好ましく、
1〜20重量%がより好ましい。
Among the non-reducing sugars, sugar alcohols and saccharose are preferable, and D-sorbitol, saccharose, and reduced starch syrup are more preferable, since they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more, and the ratio in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight,
1-20% by weight is more preferred.

【0072】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を、従来公知のものの中から
適宜選択して組合せることができる。前記アルカリ剤と
しては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウ
ム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ
酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム等
の無機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリ
ウム、クエン酸ナトリウム等が挙げられる。さらに、モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
トリイソプロピルァミン、n−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソブロパノー
ルアミシ、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジ
ン等の有機アルカリ剤も好適に挙げることができる。こ
れらのアルカリ剤は、単独で用いても、二種以上を組合
わせて用いてもよい。
The alkali silicate or non-reducing sugar can be appropriately combined with an alkali agent as a base from conventionally known ones. Examples of the alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide,
Lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate And inorganic alkali agents such as ammonium bicarbonate, sodium borate, potassium borate and ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate, sodium citrate and the like. In addition, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine,
Monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine,
Organic alkali agents such as triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanol amici, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine can also be suitably mentioned. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more.

【0073】なかでも、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが好ましい。その理由は、非還元糖に対する添加量
を調整することにより、広いpH領域においてpH調整
が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、
リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等も
それ自身に緩衝作用があるので好ましい。
Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that adjusting the amount of addition to the non-reducing sugar enables pH adjustment in a wide pH range. Also, trisodium phosphate,
Tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, and the like are also preferable because they themselves have a buffering action.

【0074】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版を処理でき
ることが知られている。本発明においてもこの補充方式
が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の
促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親イン
キ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有
機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、ア
ニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤
があげられる。更に現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。上記現像液及び補充液を用いて現像処理
された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用す
る場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is used.
It is known that a large amount of a lithographic printing plate can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding the lithographic printing plate to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as needed for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and further include an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As a post-process when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, these processes can be used in various combinations.

【0075】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making and printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and transports the exposed printing plate horizontally while pumping each plate. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0076】本発明の平版印刷版原版においては、画像
露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム
引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば
原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合に
は、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このよう
な消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載さ
れているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのま
ま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう
方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に
記載されているようなオプティカルファイバーで導かれ
た活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法
も利用できる。
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, image portions unnecessary for the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, the film of the original film) If there is an edge trace), the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably carried out by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-129393 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing it with water. A method described in JP-A-59-174842, in which active light guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can be used.

【0077】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum if desired. Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 1859 and 61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.

【0078】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: "BP-130").
0 "). The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image,
The temperature is preferably in the range of 180 to 300 ° C. for 1 to 20 minutes.

【0079】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0080】[0080]

〔下塗り液〕(Undercoat liquid)

・下記化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g ・ 0.3g of the following compound ・ 100g of methanol ・ 1g of water

【0081】[0081]

【化9】 Embedded image

【0082】(実施例1)得られた基板に以下の感光液
1を塗布量が1.0g/m2になるよう塗布したのち、
TABAI社製、PERFECT OVEN PH20
0にてWindControlを7に設定して140度
で50秒間乾燥し、平版印刷版原版1を得た。
(Example 1) The following photosensitive solution 1 was applied to the obtained substrate so that the coating amount became 1.0 g / m 2 ,
TABAI's PERFECT OVEN PH20
At 0, WindControl was set to 7, and drying was performed at 140 ° C. for 50 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor 1.

【0083】 〔感光液1〕 アンモニウム塩(1) 0.04g m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 3500、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.474g 特開平11−288093記載の特定の共重合体1 2.37g シアニン染料A(下記構造) 0.155g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.03g テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.05g フッ素系界面活性剤(メガファックF176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g パラトルエンスルホン酸 0.008g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.063g ステアリン酸ドデシル 0.06g γ−ブチルラクトン 13g メチルエチルケトン 24g 1−メトキシ−2−プロパノール 11g[Photosensitive solution 1] Ammonium salt (1) 0.04 g m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,500, unreacted cresol 0.5% by weight) 0.474 g Specific copolymer 1 described in JP-A-11-288093 1. 2.37 g Cyanine dye A (the following structure) 0.155 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene diazonium hexafluorophosphate 0.03 g Tetrahydroanhydride phthalate Acid 0.19 g Ethyl violet counter ion converted to 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid 0.05 g Fluorosurfactant (MegaFac F176PF, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.035 g Fluorosurfactant Surfactant (MegaFac MCF-312, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ) 0.05 g paratoluenesulfonic acid 0.008 g bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.063 g dodecyl stearate 0.06 g γ-butyllactone 13 g methyl ethyl ketone 24 g 1-methoxy-2-propanol 11 g

【0084】[0084]

【化10】 Embedded image

【0085】(実施例2)得られた基板に以下の感光液
2を塗布量が1.6g/m2になるよう塗布したのち、
実施例1と同様の条件で乾燥し、平版印刷版原版2を得
た。 〔感光液2〕 アンモニウム塩(1) 0.025g m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 5000、未反応クレゾール0.5重量%含有) 2.25g シアニン染料A 0.105g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.03g テトラヒドロ無水フタル酸 0.10g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.063g フッ素系界面活性剤(メガファックF176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.13g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.08g メチルエチルケトン 16g 1−メトキシ−2−プロパノール 10g
Example 2 The following photosensitive solution 2 was applied to the obtained substrate so that the coating amount was 1.6 g / m 2 ,
Drying was performed under the same conditions as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate precursor 2. [Photosensitive solution 2] Ammonium salt (1) 0.025 g m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000, containing unreacted cresol 0.5% by weight) 2.25 g cyanine dye A 0.105 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene diazonium hexafluorophosphate 0.03 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.10 g A counter ion of ethyl violet converted to 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid 0 0.063 g Fluorosurfactant (Megafac F176PF, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.035 g Fluorosurfactant (Megafac MCF-312, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.13 g Bis-p-hydroxyphenyl sulfone 0.08 g methyl ethyl ketone 6 g 1-methoxy-2-propanol 10g

【0086】(実施例3)実施例1で用いた支持体に以
下の感光液3−Aを、乾燥後の塗布量が0.85g/m
2となるように塗布した後、タバイ社製PERFECT
OVEN PH200にてWindControlを
7に設定して140℃で50秒間乾燥した。続いて乾燥
後の塗布量が0.15g/m2となるように感光液3−
Bを塗布し、タバイ社製PERFECT OVEN P
H200にてWindControlを7に設定して1
20℃で60秒間乾燥し、平版印刷版原版3を得た。 〔感光液3−A〕 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 5000、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.237g 特開平11−288093記載の特定の共重合体 2.37g シアニン染料A 0.10g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にした化合物 0.05g フッ素系界面活性剤(メガファックF−176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g p−トルエンスルホン酸 0.008g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.06g γ−ブチルラクトン 13g メチルエチルケトン 24g 1−メトキシ−2−プロパノール 11g
(Example 3) The following photosensitive solution 3-A was applied to the support used in Example 1 and the coated amount after drying was 0.85 g / m2.
After applying so that it becomes 2 , PEBECT manufactured by Tabai
It was dried at 140 ° C. for 50 seconds with WindControl set to 7 using OVEN PH200. Subsequently, the photosensitive solution 3 was adjusted so that the coating amount after drying was 0.15 g / m 2.
B, and applied to Tabi's PERFECT OVEN P
Set WindControl to 7 in H200 and set 1
After drying at 20 ° C. for 60 seconds, a lithographic printing plate precursor 3 was obtained. [Photosensitive solution 3-A] m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000, containing unreacted cresol 0.5% by weight) 0.237 g Specific solution described in JP-A-11-288093 Copolymer 2.37 g Cyanine dye A 0.10 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene diazonium hexafluorophosphate 0.01 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.19 g The counter ion of ethyl violet was 6-hydroxy- Compound converted to β-naphthalenesulfonic acid 0.05 g Fluorosurfactant (MegaFac F-176PF, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.035 g Fluorosurfactant (MegaFac MCF-312, Dainippon Japan) Ink Chemical Industry Co., Ltd.) 0.05 g p-toluenesulfonic acid 0.008 g -p- hydroxyphenyl sulfone 0.06 g .gamma.-butyrolactone 13g methyl ethyl ketone 24 g 1-methoxy-2-propanol 11g

【0087】 〔感光液3−B〕 アンモニウム塩(1) 0.1g m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 5000、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.237g シアニン染料A 0.025g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.01g フッ素系界面活性剤(メガファックF−176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.003g ステアリン酸ドデシル 0.03g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 8g[Photosensitive solution 3-B] Ammonium salt (1) 0.1 gm, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000, unreacted cresol 0.5% by weight) 0 .237 g Cyanine dye A 0.025 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene diazonium hexafluorophosphate 0.01 g Fluorosurfactant (MegaFac F-176PF, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.035 g Fluorosurfactant (Megafac MCF-312, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.003 g Dodecyl stearate 0.03 g Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy -2-propanol 8g

【0088】(実施例4)実施例1で用いた支持体に上
記感光液3−Aを、乾燥後の塗布量が0.85g/m2
となるように塗布した後、タバイ社製PERFECT
OVEN PH200にてWindControlを7
に設定して140℃で50秒間乾燥した。続いて乾燥後
の塗布量が0.15g/m2となるように以下の感光液
4を塗布し、タバイ社製PERFECT OVEN P
H200にてWindControlを7に設定して1
20℃で60秒間乾燥し、平版印刷版原版4を得た。 〔感光液4〕 アンモニウム塩(1) 0.035g m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 5000、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.237g シアニン染料A 0.025g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.01g フッ素系界面活性剤(メガファックF−176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.003g ステアリン酸ドデシル 0.03g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 8g
Example 4 The above photosensitive solution 3-A was applied to the support used in Example 1 after drying, and the coated amount was 0.85 g / m 2.
After applying so that it becomes
7 WindControl at OVEN PH200
And dried at 140 ° C. for 50 seconds. Subsequently, the following photosensitive solution 4 was applied so that the application amount after drying was 0.15 g / m 2, and PERECT OVEN P manufactured by Tabai Co.
Set WindControl to 7 in H200 and set 1
After drying at 20 ° C. for 60 seconds, a lithographic printing plate precursor 4 was obtained. [Photosensitive solution 4] Ammonium salt (1) 0.035 g m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000, containing unreacted cresol 0.5% by weight) 0.237 g cyanine dye A 0.025 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene diazonium hexafluorophosphate 0.01 g Fluorinated surfactant (MegaFac F-176PF, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.035 g Fluorine Surfactant (Megafac MCF-312, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.003 g Dodecyl stearate 0.03 g Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 8 g

【0089】(実施例5)実施例1で用いた支持体に上
記感光液3−Aを、乾燥後の塗布量が0.85g/m2
となるように塗布した後、タバイ社製PERFECT
OVEN PH200にてWindControlを7
に設定して140℃で50秒間乾燥した。続いて乾燥後
の塗布量が0.15g/m2となるように以下の感光液
5を塗布し、タバイ社製PERFECT OVEN P
H200にてWindControlを7に設定して1
20℃で60秒間乾燥し、平版印刷版原版5を得た。 〔感光液5〕 アンモニウム塩(2) 0.017g m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 5000、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.237g シアニン染料A 0.025g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.01g フッ素系界面活性剤(メガファックF−176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.003g ステアリン酸ドデシル 0.03g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 8g
(Example 5) The photosensitive solution 3-A was applied to the support used in Example 1 after drying, and the coated amount was 0.85 g / m 2.
After applying so that it becomes
7 WindControl at OVEN PH200
And dried at 140 ° C. for 50 seconds. Subsequently, the following photosensitive solution 5 was applied so that the coating amount after drying was 0.15 g / m 2, and PERFECT OVEN P manufactured by Tabai Co., Ltd.
Set WindControl to 7 in H200 and set 1
After drying at 20 ° C. for 60 seconds, a lithographic printing plate precursor 5 was obtained. [Photosensitive solution 5] Ammonium salt (2) 0.017 g m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000, containing unreacted cresol 0.5% by weight) 0.237 g cyanine dye A 0.025 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene diazonium hexafluorophosphate 0.01 g Fluorinated surfactant (MegaFac F-176PF, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.035 g Fluorine Surfactant (Megafac MCF-312, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.003 g Dodecyl stearate 0.03 g Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 8 g

【0090】(実施例6〜14)前記実施例4の感光液
4において、アンモニウム塩(1)の代わりに下記表1
に示すアンモニウム塩を用いた以外は平版印刷版原版4
の作成と同様な手順で、平版印刷版原版6〜14を作成
した。
(Examples 6 to 14) In the photosensitive solution 4 of Example 4, the following Table 1 was used in place of the ammonium salt (1).
Lithographic printing plate precursor 4 except that the ammonium salt shown in
The lithographic printing plate precursors 6 to 14 were prepared in the same procedure as in the preparation of the lithographic printing plate precursors.

【0091】[0091]

【表1】 [Table 1]

【0092】(実施例15〜17)前記実施例1の感光
液1において、アンモニウム塩(1)の代わりに下記表
2に示すアンモニウム塩を用いた以外は平版印刷版原版
4の作成と同様な手順で、平版印刷版原版15〜17を
作成した。
(Examples 15 to 17) The same procedure as in the preparation of the lithographic printing plate precursor 4 except that the ammonium salt shown in Table 2 below was used in place of the ammonium salt (1) in the photosensitive solution 1 of Example 1 described above. By the procedure, planographic printing plate precursors 15 to 17 were prepared.

【0093】[0093]

【表2】 [Table 2]

【0094】(比較例1)実施例1の感光液1におい
て、アンモニウム塩(1)を添加しなかった以外は実施
例1と同様にして平版印刷版原版18を得た。
Comparative Example 1 A lithographic printing plate precursor 18 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ammonium salt (1) was not added to the photosensitive solution 1 of Example 1.

【0095】(比較例2)実施例2の感光液2におい
て、アンモニウム塩(1)を添加しなかった以外は実施
例2と同様にして、平版印刷版原版19を得た。
Comparative Example 2 A lithographic printing plate precursor 19 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the ammonium salt (1) was not added to the photosensitive solution 2 of Example 2.

【0096】(比較例3)実施例3の感光液3−Bにお
いて、アンモニウム塩(1)を添加しなかった以外は実
施例3と同様にして、平版印刷版原版20を得た。
Comparative Example 3 A lithographic printing plate precursor 20 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the ammonium salt (1) was not added to the photosensitive solution 3-B of Example 3.

【0097】[平版印刷版原版の評価] 〔耐キズ性能テスト(1)〕得られた本発明の平版印刷
版原版1〜14及び比較例の平版印刷版原版15〜17
をロータリー・アブレーション・テスター(TOYOS
EIKI社製)を用い、250gの加重下、アブレーザ
ーフェルトCS5で30回摩擦した。その後、富士写真
フイルム(株)製現像液DT−1もしくはDP−4
(1:8で水道水希釈したもの)を富士写真フイルム製
PSプロセッサー900Hに仕込み、液温30度、現像
時間12秒にて現像した。なお、ガム液としてFP−2
W(1:1で水道水希釈したもの)を使用した。なお、
現像液DT−1は所謂非シリケート現像液であり、DP
−4はシリケート含有現像液である。
[Evaluation of lithographic printing plate precursors] [Scratch resistance test (1)] The obtained lithographic printing plate precursors 1 to 14 of the present invention and lithographic printing plate precursors 15 to 17 of comparative examples were obtained.
To Rotary Ablation Tester (TOYOS
EIKI Co., Ltd.), and rubbed 30 times with Abrazelfelt CS5 under a load of 250 g. Thereafter, a developer DT-1 or DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
(Diluted in tap water at 1: 8) was charged into a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film and developed at a liquid temperature of 30 ° C. for a developing time of 12 seconds. FP-2 was used as a gum solution.
W (1: 1 diluted with tap water) was used. In addition,
The developer DT-1 is a so-called non-silicate developer, DP
-4 is a silicate-containing developer.

【0098】耐キズ性の評価は以下の基準により行っ
た。結果を下記表3に示す。通常、この条件で耐キズ性
に問題がないものは、実用上の性能を満たしているとい
える。 ○:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部と比べ
て変化しなかったもの ×:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部に比べ
て大幅に低下したもの
The scratch resistance was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 3 below. In general, those having no problem in scratch resistance under these conditions can be said to satisfy practical performance. :: The optical density of the photosensitive film at the rubbed portion did not change as compared with the non-frictional portion. ×: The optical density of the photosensitive film at the rubbed portion was significantly reduced as compared with the non-frictional portion.

【0099】〔耐キズ性能テスト(2)〕得られた平版
印刷版原版を連続加重式引掻強度試験機TYPE−HE
IDON−18(新東科学株式会社製)を用い、R=
0.4mmのダイヤ針、引掻速度50mm/秒の条件下
で、加重を変化させて引掻キズをつけた。その後、富士
写真フイルム(株)製現像液DT−1もしくはDP−4
(1:8で水道水希釈したもの)を富士写真フイルム製
PSプロセッサー900Hに仕込み、液温30度、現像
時間12秒にて現像した。なおガム液としてFP−2W
(1:1で水道水希釈したもの)を使用した。現像後の
版を目視で評価しキズがついていない最大加重量(g)
を引掻キズ強度とした。結果を下記表3に示す。通常、
最大荷重量5g以上で実用上問題のないレベルであり、
10g以上で耐キズ性に極めて優れ、過酷な取り扱いに
も耐えるものといえる。
[Scratch resistance test (2)] The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to a continuous load type scratch strength tester TYPE-HE.
Using IDON-18 (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), R =
Under a condition of a diamond needle of 0.4 mm and a scratching speed of 50 mm / sec, a scratch was made by changing a load. Thereafter, a developer DT-1 or DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
(Diluted in tap water at 1: 8) was charged into a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film and developed at a liquid temperature of 30 ° C. for a developing time of 12 seconds. In addition, FP-2W is used as a gum solution.
(1: 1 diluted with tap water) was used. The plate after development is visually evaluated and the maximum weight without scratches (g)
Was defined as the scratch resistance. The results are shown in Table 3 below. Normal,
With a maximum load of 5 g or more, there is no practical problem,
When it is 10 g or more, it can be said that it has extremely excellent scratch resistance and can withstand severe handling.

【0100】〔現像ラチチュード評価(1)〕得られた
本発明の平版印刷版原版1〜17及び比較例の平版印刷
版原版18〜20をCreo社製Trendsette
rにてビーム強度9w、ドラム回転速度150rpmで
テストパターンを赤外線レーザで画像状に描き込みを行
った。その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−
1もしくはDP−4(1:8で水道水希釈したもの)を
富士写真フイルム製PSプロセッサー900Hに仕込
み、液温30度、現像時間12秒にて現像した。なおガ
ム液としてFP−2W(1:1で水道水希釈したもの)
を使用した。この現像条件ではいずれの平版も露光部の
現像性は良好であった。次に現像液が濃縮した条件を想
定し、上記現像液の希釈度を(1:7で水道水希釈した
もの)に変更し、液温30度、現像時間12秒にて同様
に露光した平版印刷版を現像した。通常、この条件で現
像性に問題がないものは、実用上の性能を満たしている
といえる。現像後の平版印刷版において記録層非露光部
の光学濃度低下を目視評価することにより、濃縮された
現像液における画像形成性を以下の基準で判定した。結
果を下記表3に示す。なお、濃度低下が認められなかっ
たものは、より高い活性の現像液に対し、画像部が溶出
されなかったことを示しており、現像液の活性に対する
ラチチュードが広いといえる。 ○:濃度低下が観測されなかったもの ×:濃度低下が観測されたもの
[Development latitude evaluation (1)] The lithographic printing plate precursors 1 to 17 of the present invention and the lithographic printing plate precursors 18 to 20 of the comparative examples were prepared by Trendsette manufactured by Creo Corporation.
At r, a test pattern was drawn in the form of an image with an infrared laser at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm. Then, a developer DT- manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
1 or DP-4 (diluted with tap water 1: 8) was charged into a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and developed at a liquid temperature of 30 ° C. and a developing time of 12 seconds. FP-2W (1: 1 diluted with tap water) as a gum solution
It was used. Under these developing conditions, the developability of the exposed portions was good for all lithographic plates. Next, assuming that the developing solution was concentrated, the dilution of the developing solution was changed to (diluted with tap water 1: 7), and the lithographic plate was similarly exposed at a solution temperature of 30 ° C. and a developing time of 12 seconds. The printing plate was developed. Usually, those having no problem in developability under these conditions can be said to satisfy practical performance. In the lithographic printing plate after development, the image density of the concentrated developer was determined by visually evaluating the decrease in the optical density of the unexposed area of the recording layer according to the following criteria. The results are shown in Table 3 below. It should be noted that the case where no concentration decrease was observed indicates that the image portion was not eluted with respect to the developer having higher activity, and it can be said that the latitude with respect to the activity of the developer is wide. :: No decrease in concentration was observed ×: A decrease in concentration was observed

【0101】[0101]

【表3】 [Table 3]

【0102】表3に明らかなように、本発明の平版印刷
版原版は、比較例に比べ、耐キズ性に優れ、且つ、高濃
度の現像液を用いた場合においても画像部の濃度低下が
見られないことから、良好な現像ラチチュードを示すこ
とがわかった。
As is evident from Table 3, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has excellent scratch resistance as compared with the comparative example, and the density of the image area decreases even when a high-concentration developer is used. No development was observed, indicating good development latitude.

【0103】〔現像ラチチュード評価(2)〕次に、現
像液が濃縮したより過酷な条件を想定し、同様の評価を
行った。得られた本発明の平版印刷版原版1〜14及び
比較例の平版印刷版原版15〜17をCreo社製Tr
endsetterにてビーム強度9w、ドラム回転速
度150rpmでテストパターンを赤外線レーザで画像
状に描き込みを行った。次に、富士写真フイルム(株)
製現像液DT−1もしくはDP−4(1:6で水道水希
釈したもの)を富士写真フイルム製PSプロセッサー9
00Hに仕込み、液温30度、現像時間12秒にて現像
した。上記同様、現像後の平版印刷版において記録層非
露光部の光学濃度低下を目視評価することにより、より
高濃度の現像液における画像形成性を以下の基準で判定
した。結果を下記表4に示す。なお、表4には、現像ラ
チチュード評価(1)の結果も表記した。なお、濃度低
下が認められなかったものは、より高い活性の現像液に
対し、画像部が溶出されなかったことを示しており、現
像液の活性に対するラチチュードが極めて広いといえ
る。 ○:濃度低下が観測されなかったもの △:目視で検知できる若干の濃度低下が観測されたもの ×:明らかな濃度低下が観測されたもの
[Development latitude evaluation (2)] Next, the same evaluation was performed under the more severe conditions where the developer was concentrated. The resulting lithographic printing plate precursors 1 to 14 of the present invention and the lithographic printing plate precursors 15 to 17 of the comparative examples were prepared using Tr
A test pattern was drawn in an image shape with an infrared laser at an end setter at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm. Next, Fuji Photo Film Co., Ltd.
Developing solution DT-1 or DP-4 (diluted in tap water at 1: 6) with Fuji Photo Film PS processor 9
The solution was charged in 00H and developed at a liquid temperature of 30 ° C. and a developing time of 12 seconds. In the same manner as described above, the image forming property in a higher-density developer was determined based on the following criteria by visually evaluating the decrease in the optical density of the unexposed portion of the recording layer in the lithographic printing plate after development. The results are shown in Table 4 below. Table 4 also shows the results of the development latitude evaluation (1). It should be noted that the case where no concentration decrease was observed indicates that the image portion was not eluted with respect to the developing solution having higher activity, and it can be said that the latitude with respect to the activity of the developing solution is extremely wide. :: No decrease in density was observed. Δ: A slight decrease in density that could be visually detected was observed. X: A clear decrease in density was observed.

【0104】[0104]

【表4】 [Table 4]

【0105】表4及び前記表3に明らかなように、本発
明の平版印刷版原版は、特に非シリケート現像液を用い
て現像を行なった場合に、耐キズ性、現像ラチチュード
ともにその効果が著しいことがわかった。また、これら
の結果より、本発明の平版印刷版原版の中でも、記録層
にアリール基、カルボニル基を有する有機4級アンモニ
ウム塩を用いたもの、多層構造の記録層構成であって上
層に有機4級アンモニウム塩を多く含むものが、特に効
果に優れていることが確認された。
As is clear from Tables 4 and 3, the planographic printing plate precursor according to the present invention has remarkable effects on both scratch resistance and development latitude, especially when development is performed using a non-silicate developer. I understand. From these results, it can be seen that among the lithographic printing plate precursors of the present invention, those using an organic quaternary ammonium salt having an aryl group and a carbonyl group for the recording layer, a recording layer having a multilayer structure, and an organic It was confirmed that those containing a large amount of secondary ammonium salts were particularly excellent in effect.

【0106】[0106]

【発明の効果】本発明によれば、現像による画像形成時
のラチチュードに優れ、耐キズ性に優れるダイレクト製
版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する
ことができる。
According to the present invention, it is possible to provide a positive lithographic printing plate precursor for an infrared laser for direct plate making, which has excellent latitude during image formation by development and excellent scratch resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小田 晃央 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 三宅 秀夫 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA04 AA13 AB03 AC08 AD03 BG00 CB28 CB41 CB45 CB52 CC11 CC20 2H096 AA06 BA11 EA04 EA23 GA08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Akio Oda 4,000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Inside Fujisha Shin Film Co., Ltd. Incorporated F term (reference) 2H025 AA04 AA13 AB03 AC08 AD03 BG00 CB28 CB41 CB45 CB52 CC11 CC20 2H096 AA06 BA11 EA04 EA23 GA08

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、(A)水不溶性且つアルカ
リ可溶性樹脂、(B)赤外線吸収剤及び(C)有機4級
アンモニウム塩を含み、赤外レーザの露光によりアルカ
リ性水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を設
けてなるポジ型平版印刷版原版。
1. A support comprising (A) a water-insoluble and alkali-soluble resin, (B) an infrared absorber and (C) an organic quaternary ammonium salt, and having a solubility in an alkaline aqueous solution by exposure to an infrared laser. A positive-working lithographic printing plate precursor provided with an increasing positive-working recording layer.
【請求項2】 前記(C)有機4級アンモニウム塩が、
分子内にアリール基及びカルボニル基より選択される少
なくともひとつの基を有することを特徴とする請求項1
に記載のポジ型平版印刷版原版。
2. The (C) organic quaternary ammonium salt comprises:
2. The compound having at least one group selected from an aryl group and a carbonyl group in a molecule.
The positive type lithographic printing plate precursor described in 1.
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