JP2003149799A - Planographic printing plate for infrared laser - Google Patents
Planographic printing plate for infrared laserInfo
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- JP2003149799A JP2003149799A JP2002226317A JP2002226317A JP2003149799A JP 2003149799 A JP2003149799 A JP 2003149799A JP 2002226317 A JP2002226317 A JP 2002226317A JP 2002226317 A JP2002226317 A JP 2002226317A JP 2003149799 A JP2003149799 A JP 2003149799A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版を主用途とする赤外線レ
ーザ用の平版印刷版用原版に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material that can be used as an offset printing master, and particularly for a planographic printing plate for an infrared laser mainly used for so-called direct plate making which can be made directly from digital signals of a computer or the like. Regarding the original edition.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型のレーザー発振装置が容
易に入手できるようになっている。これらのレーザの露
光光源を用いて、コンピュータ等で加工されたディジタ
ルデータの原稿を印刷原版上に画像記録し、版下工程を
省略して製版するCTP(コンピュータ・トウ・プレー
ト)方式などのダイレクト簡易整版・印刷は、原稿作成
から整版までの工程の短縮と操作の簡易化が図られ、き
わめて有用な印刷方式である。2. Description of the Related Art The development of lasers in recent years has been remarkable, especially solid-state lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared.
As for the semiconductor laser, a high-power and small-sized laser oscillator is easily available. Direct exposure such as CTP (Computer Toe Plate) method, in which an original of digital data processed by a computer is recorded as an image on a printing original plate using the exposure light source of these lasers, and the plate making process is omitted. Simplified printing / printing is a very useful printing method because it shortens the process from original preparation to printing and simplifies the operation.
【0003】このダイレクト整版方式に適合する印刷原
版は、赤外線レーザ用ポジ型の平版印刷版材料であり、
この材料は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂
と、光を吸収し熱を発生する光熱変換性の赤外線染料
(以後IR染料とも呼ぶ)等とを必須成分とし、IR染
料等が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との
相互作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下
させる溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)で
は、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との
相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷
版を形成する。A printing original plate suitable for this direct plate making method is a positive type lithographic printing plate material for infrared laser,
This material contains a binder resin that is soluble in an alkaline aqueous solution and a photothermal conversion infrared dye (hereinafter also referred to as IR dye) that absorbs light and generates heat, and the like. Part) acts as a dissolution inhibitor that substantially reduces the solubility of the binder resin due to the interaction with the binder resin, and in the exposed part (non-image part), the IR dye etc. and the binder resin interact with each other due to the heat generated. The action is weakened and dissolved in an alkali developing solution to form a lithographic printing plate.
【0004】また、赤外線レーザ用の平版印刷版用原版
の表面のすべり性を上げ、キズ抑制効果、即ち耐傷性を
有することを目的として、赤外線レーザ用の平版印刷版
用原版の画像形成層においてWAX剤の添加することが
検討されている。しかしながら、画像形成層にWAX剤
を有する印刷版原版のを長期保存すると、経時に耐傷性
が低下するという問題を抱えていた。Further, in order to improve the surface slipperiness of the lithographic printing plate precursor for infrared laser and to have a scratch suppressing effect, that is, scratch resistance, in the image forming layer of the lithographic printing plate precursor for infrared laser. The addition of a WAX agent is under consideration. However, when the printing plate precursor having a WAX agent in the image forming layer is stored for a long period of time, there is a problem that the scratch resistance decreases with time.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
技術の欠点を克服しようとするものであり、その目的
は、キズの経時安定性に優れた赤外線レーザ用平版印刷
版を提供しようとするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to overcome the above-mentioned drawbacks of the prior art, and an object thereof is to provide a lithographic printing plate for infrared laser, which is excellent in the stability of scratches over time. To do.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進めた結果、感熱層に特定のWAX剤を添加すること
により、上記目的が達成されることを見出し、本発明を
完成するに到った。即ち、本発明は、下記構成により達
成される。As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by adding a specific WAX agent to the heat-sensitive layer, and complete the present invention. Came to. That is, the present invention is achieved by the following configurations.
【0007】(1)(A)光を吸収し熱を発生する物
質、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液
可溶性樹脂、(C)下記一般式(I)で表される基を2
〜12個有する化合物を含有する感熱層を設けたことを
特徴とする赤外線レーザ用平版印刷版。(1) (A) a substance that absorbs light to generate heat, (B) an alkaline aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, (C) a group represented by the following general formula (I):
A lithographic printing plate for infrared laser, which is provided with a heat-sensitive layer containing a compound having 12 to 12.
【0008】 −R1−Y−CO−X−R2 一般式(I)—R 1 —Y—CO—X—R 2 General formula (I)
【0009】(式中、XはO、SまたはNR3を表し、
YはNR3または単結合を表し、R1は炭素数1〜32の
アルキレン基またはアリーレン基を表し、R2、R3は水
素原子、または、炭素数1〜18のアルキル基、アルケ
ニル基、もしくはアリール基を表す。)(Wherein X represents O, S or NR 3 ,
Y represents NR 3 or a single bond, R 1 represents an alkylene group having 1 to 32 carbon atoms or an arylene group, R 2 and R 3 are hydrogen atoms, or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, Alternatively, it represents an aryl group. )
【0010】(2) 前記感熱層を、支持体上に(A)
光を吸収し熱を発生する物質と(B)アルカリ水溶液可
溶性樹脂とを含有する第1の感熱層の上に、第2の感熱
層として有することを特徴とする前記(1)に記載の赤
外線レーザ用平版印刷版。(2) The heat-sensitive layer is provided on the support (A).
Infrared ray according to (1) above, which has a second heat-sensitive layer on the first heat-sensitive layer containing a substance that absorbs light and generates heat and (B) an alkali aqueous solution-soluble resin. Planographic printing plate for laser.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
[感熱層]はじめに感熱層について述べる。感熱層として
は、上記したように、(A)光を吸収し熱を発生する物
質と、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶
液可溶性樹脂と、(C)上記一般式(I)で表され基を
2〜12個有する化合物を含有するが、まず本発明の特
徴成分である(C)成分について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. [Heat-sensitive layer] First, the heat-sensitive layer will be described. As described above, the heat-sensitive layer is represented by (A) a substance that absorbs light to generate heat, (B) an alkaline aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, and (C) represented by the general formula (I). Although it contains a compound having 2 to 12 groups, the component (C), which is a characteristic component of the present invention, will be described first.
【0012】(C)上記一般式(I)で表される基を2
〜12個有する化合物((C)成分または(C)の化合
物ともいう)
本発明の前記一般式(I)で表される基を2〜12個有
する化合物は、いわゆるワックスと呼ばれる炭素数の大
きな脂肪酸誘導体や炭素数の大きなアルコール誘導体で
ある。(C) The group represented by the above general formula (I) is 2
Compound having 12 to 12 (also referred to as component (C) or compound of (C)) The compound having 2 to 12 groups represented by the general formula (I) of the present invention has a large number of carbon atoms called so-called wax. It is a fatty acid derivative or an alcohol derivative having a large number of carbon atoms.
【0013】式中、R1は炭素数1〜32のアルキレン
基またはアリーレン基を表す。アルキレン基またはアリ
ーレン基は分岐を有していてもよく、アルキレン基とし
ては、例えば、メチレン基、エチレン基、n−プロピレ
ン基、n−ブチレン基、n−ペンチレン基、n−ヘキシ
レン基、n−ヘプチレン基、n−オクチレン基、n−ノ
ニレン基、n−デシレン基、n−ウンデシレン基等の直
鎖アルキレン基、14−メチルペンタデシレン基、16
−メチルヘプタデシレン基等の分岐を有するアルキレン
基が挙げられる。また、アリーレン基としては、フェニ
レン基、ビフェニレン基、1,3'−ジメチルビフェニ
レン基等が挙げられる。この中でも、塗布溶剤に対する
溶解性の点で、炭素数25以下のアルキレン基、アリー
レン基が好ましい。In the formula, R 1 represents an alkylene group having 1 to 32 carbon atoms or an arylene group. The alkylene group or the arylene group may have a branch, and examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, an n-pentylene group, an n-hexylene group, and an n-hexene group. Linear alkylene groups such as heptylene group, n-octylene group, n-nonylene group, n-decylene group, and n-undecylene group, 14-methylpentadecylene group, 16
Examples include branched alkylene groups such as a methylheptadecylene group. Further, examples of the arylene group include a phenylene group, a biphenylene group, a 1,3′-dimethylbiphenylene group and the like. Among these, an alkylene group having 25 or less carbon atoms and an arylene group are preferable from the viewpoint of solubility in the coating solvent.
【0014】R2、R3は、水素原子、または、炭素数1
〜18のアルキル基、アルケニル基、もしくはアリール
基を表す。アルキル基、アルケニル基は分岐を有してい
てもよく、また、置換基を有していてもよい。このよう
なアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−ヘキ
シル基、n−ノニル基、ベンジル基、シクロヘキシルメ
チル基等が挙げられ、アルケニル基としては、プロピレ
ニル基、1−ブテニル基、1−イソブテニル基、1−ペ
ンテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、1−ヘキセ
ニル基、1−オクテニル基等が挙げられる。アリール基
は、置換基を有していてもよく、アリール基としては、
フェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、シクロヘキシ
ルフェニル基等が挙げられる。XはO、S、またはNR
3を表し、YはNR3または単結合を表す。R 2 and R 3 are hydrogen atoms or have 1 carbon atom.
To 18 alkyl groups, alkenyl groups, or aryl groups. The alkyl group and alkenyl group may have a branch or may have a substituent. Examples of such an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-hexyl group, an n-nonyl group, a benzyl group and a cyclohexylmethyl group, and an alkenyl group includes a propylenyl group, a 1-butenyl group and a 1-butenyl group. Examples thereof include isobutenyl group, 1-pentenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 1-hexenyl group, 1-octenyl group and the like. The aryl group may have a substituent, and as the aryl group,
Examples thereof include a phenyl group, a 4-hydroxyphenyl group and a cyclohexylphenyl group. X is O, S, or NR
3 , Y represents NR 3 or a single bond.
【0015】即ち、前記(C)の化合物は、分子中に複
数のエステル基を含有する化合物、複数のチオエステル
基を含有する化合物、複数のアミド基を含有する化合
物、複数のウレタン基を含有する化合物等を表す。That is, the compound (C) contains a compound containing a plurality of ester groups in the molecule, a compound containing a plurality of thioester groups, a compound containing a plurality of amide groups, and a plurality of urethane groups. Indicates a compound or the like.
【0016】前記(C)の化合物の具体例を挙げると、
ジエステル化合物として、ジエナント酸、ジカプリル
酸、ジペラルゴン酸、ジカプリン酸、ジウンデシル酸、
ジラウリン酸、ジトリデシル酸、ジミリスチン酸、ジペ
ンタデシル酸、ジパルミチン酸、ジヘプタデシル酸、ジ
ステアリン酸、ジノナデカン酸、ジアラキン酸、ジベヘ
ン酸、ジリグノセリン酸、ジセロチン酸、ジヘプタコサ
ン酸、ジモンタン酸、ジメリシン酸、ジラクセル酸、ジ
ウンデシレン酸、ジオレイン酸、ジエライジン酸、ジセ
トレイン酸、ジエルカ酸、ジブラシジン酸、チオジプロ
ピオン酸、チオジブタン酸等のメチルエステル、エチル
エステル、プロピルエステル、ブチルエステル、ドデシ
ルエステル、フェニルエステル、ナフチルエステル等が
挙げられる。Specific examples of the compound (C) will be given below.
As the diester compound, dienanthic acid, dicaprylic acid, dipelargonic acid, dicapric acid, diundecyl acid,
Dilauric acid, ditridecylic acid, dimyristic acid, dipentadecyl acid, dipalmitic acid, diheptadecyl acid, distearic acid, dinonadecanoic acid, diarachidic acid, dibehenic acid, dilignoceric acid, diserotic acid, diheptacosanoic acid, dimontanic acid, dimericinic acid, dilaccelic acid, Diundecylenic acid, dioleic acid, dielaidic acid, dicetrainic acid, dierucic acid, dibrassidic acid, thiodipropionic acid, thiodibutanoic acid and other methyl esters, ethyl esters, propyl esters, butyl esters, dodecyl esters, phenyl esters, naphthyl esters, etc. Can be mentioned.
【0017】ジチオエステル化合物としては、これらの
脂肪酸のメチルチオエステル、ブチルチオエステル、ベ
ンジルチオエステルが挙げられる。トリエステル化合物
としては、グリセリンなどの3価アルコールと脂肪酸と
のエステルやトリカルボン酸とアルコールとのエステル
が挙げられる。同様にテトラエステル化合物としては、
4価のアルコールと脂肪酸とのエステルや4価の脂肪酸
とアルコールとのエステルが挙げられる。更に単糖類や
二糖類と脂肪酸との多価エステル等が挙げられる。多価
アミド化合物としては、前記の脂肪酸のアミド等が挙げ
られ、また多価ウレタン化合物としては、多価アルコー
ルとイソシアネートとの縮合物、多価イソシアネートと
アルコールとの縮合物等が挙げられる。Examples of the dithioester compound include methylthioester, butylthioester and benzylthioester of these fatty acids. Examples of triester compounds include esters of trihydric alcohols such as glycerin with fatty acids and esters of tricarboxylic acids with alcohols. Similarly, as a tetraester compound,
Examples thereof include esters of tetravalent alcohol and fatty acid and esters of tetravalent fatty acid and alcohol. Furthermore, polyvalent esters of monosaccharides and disaccharides and fatty acids can be mentioned. Examples of the polyvalent amide compound include amides of the above fatty acids, and examples of the polyvalent urethane compound include a condensation product of a polyhydric alcohol and an isocyanate and a condensation product of a polyvalent isocyanate and an alcohol.
【0018】また、本発明の(C)成分としては、上記
一般式(I)で表される基を2〜12個有する化合物で
あれば何れでも良いが、上記一般式(I)で表される基
を2〜6個有する化合物が好ましく、上記一般式(I)
で表される基を2〜4個有する化合物が更に好ましい。The component (C) of the present invention may be any compound having 2 to 12 groups represented by the general formula (I), and is represented by the general formula (I). A compound having 2 to 6 groups represented by the general formula (I)
Compounds having 2 to 4 groups represented by are more preferable.
【0019】前記(C)の化合物はそれぞれ1種あるい
は2種以上を組み合わせて使用しても良く、前記(C)
の化合物として前記一般式(I)で表される基のR2成
分が異なるものを同一分子中に含有するものであっても
良い。前記(C)の化合物が、前記一般式(I)で表さ
れる基のR2成分が異なるものを同一分子中に含有する
ものであれば、感熱層中における該化合物の泣き出しや
結晶化をより効果的に防止できる点で好ましい。また、
前記(C)は全印刷版材料固形分中、通常0.02〜1
0重量%、好ましくは0.1〜5重量%、より好ましく
は0.5〜5重量%の添加量で用いられる。前記(C)
の化合物の添加量が0.02重量%未満であると外傷に
対する現像安定性が不十分となり、逆に10重量%以上
添加すると現像液中でカスが発生するトラブルを生じ
る。The compounds (C) may be used alone or in combination of two or more.
The compound of the formula (I) may have different R 2 components of the group represented by the general formula (I) in the same molecule. When the compound (C) contains compounds having different R 2 components of the group represented by the general formula (I) in the same molecule, weeping or crystallization of the compound in the heat-sensitive layer Is preferable because it can be effectively prevented. Also,
The above (C) is usually 0.02-1 in the total solid content of the printing plate material.
It is used in an amount of 0% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.5 to 5% by weight. (C)
If the addition amount of the compound is less than 0.02% by weight, the development stability against external damage becomes insufficient, and conversely, if it is added in an amount of 10% by weight or more, a problem that dust is generated in the developer occurs.
【0020】(B)フェノール性水酸基を有するアルカ
リ水溶液可溶性樹脂
本発明で使用するフェノール性水酸基を有するアルカリ
水溶液可溶性樹脂(以下、「フェノール性水酸基を有す
る樹脂」という。)としては、例えばフェノールホルム
アルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−
混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/ク
レゾール(m−,p−,またはm−/p−混合のいずれ
でもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック
樹脂を挙げることができる。(B) Alkaline Aqueous Solution Soluble Resin Having Phenolic Hydroxyl Group Examples of the alkaline aqueous solution soluble resin having a phenolic hydroxyl group (hereinafter referred to as "resin having a phenolic hydroxyl group") used in the present invention include, for example, phenol formaldehyde resin. , M-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-
Mention may be made of novolak resins such as mixed cresol formaldehyde resins, phenol / cresol (m-, p-, or m- / p-mixed) mixed formaldehyde resins.
【0021】これらのフェノール性水酸基を有する樹脂
は、重量平均分子量が500〜20000で数平均分子
量が200〜10000のものが好ましい。更に、米国
特許第4123279号明細書に記載されているよう
に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オク
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数
3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。かかる
フェノール性水酸基を有する樹脂は、1種類あるいは2
種類以上を組み合わせて使用してもよい。The resin having a phenolic hydroxyl group preferably has a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000. Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, a condensate of formaldehyde with a phenol having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. You may use together. The resin having such a phenolic hydroxyl group may be one type or two types.
You may use it in combination of 2 or more types.
【0022】本発明では、前記フェノール性水酸基を有
する樹脂と、下記(a)から(c)のうち少なくとも一
つを共重合成分として10モル%以上含む共重合体(以
下、「特定の共重合体」という。)とを併用するのが好
ましい。In the present invention, a copolymer containing the above-mentioned resin having a phenolic hydroxyl group and 10 mol% or more of at least one of the following (a) to (c) as a copolymerization component (hereinafter referred to as "specific copolymer It is preferable to use together with ".
【0023】(a)1分子中に、窒素原子上に少なくと
も一つの水素原子が結合したスルホンアミド基を有する
モノマー
(b)1分子中に、下記の式で表される活性イミノ基を
有するモノマー(A) Monomer having a sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom in one molecule (b) Monomer having an active imino group represented by the following formula in one molecule
【0024】[0024]
【化1】 [Chemical 1]
【0025】(c)それぞれフェノール性水酸基を有す
るアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エス
テル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレ
ン(C) Acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, or hydroxystyrene each having a phenolic hydroxyl group.
【0026】本発明の特定の共重合体は、前記(a)か
ら(c)のうち少なくとも一つを共重合成分として10
モル%以上含んでいることが必要とされ、20モル%以
上含むものがより好ましい。10モル%より少ないと、
フェノール性水酸基を有する樹脂との相互作用が不十分
となり現像ラチチュードが低下する。また、前記(a)
から(c)以外の他の共重合成分を含んでいてもよい。The specific copolymer of the present invention comprises at least one of (a) to (c) as a copolymer component.
It is necessary that the content is 20 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. If it is less than 10 mol%,
The interaction with the resin having a phenolic hydroxyl group becomes insufficient, and the development latitude decreases. In addition, the above (a)
From (c) to (c) may be included.
【0027】(a)に該当するモノマーとは、1分子中
に、窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合した
スルホンアミド基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ
一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーである。
その中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロ
キシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基ま
たは置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が
好ましい。このような化合物としては、例えば、下記一
般式(I)〜(V)で示される化合物が挙げられる。The monomer corresponding to (a) is a low molecular weight compound having at least one sulfonamide group having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom and at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule. It is a monomer consisting of.
Among them, a low molecular weight compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of such a compound include compounds represented by the following general formulas (I) to (V).
【0028】[0028]
【化2】 [Chemical 2]
【0029】式中、X1 、X2はそれぞれ−O−又は−
NR10−を示す。R4、R7はそれぞれ水素原子又は−C
H3を表す。R5、R8、R12、R15、R19はそれぞれ置
換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレ
ン基を表す。R6、R10、R16は水素原子、それぞれ置
換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示
す。また、R9、R20は、それぞれ置換基を有していて
もよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。R11、R13、R
17は水素原子又は−CH3を表す。R14、R18はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1、Y2はそれぞれ単結合ま
たは−CO−を表す。In the formula, X 1 and X 2 are each --O-- or-
NR 10 − is shown. R 4, R 7 each is a hydrogen atom or a -C
Represents H 3 . R 5 , R 8 , R 12 , R 15 , and R 19 each represent an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, which may have a substituent, a cycloalkylene group, an arylene group, or an aralkylene group. R 6 , R 10 and R 16 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
A cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group is shown. R 9 and R 20 each represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group which may have a substituent. R 11 , R 13 , R
17 represents a hydrogen atom or -CH 3. R 14 and R 18 are each a single bond or a carbon atom which may have a substituent.
Represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1, Y 2 each represent a single bond or -CO-.
【0030】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.
【0031】(b)に該当するモノマーとは、1分子中
に、前記式で表される活性イミノ基と、重合可能な不飽
和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる
モノマーである。このような化合物としては、具体的に
は、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルイミ
ド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルイミド等
を好適に使用することができる。The monomer corresponding to (b) is a monomer composed of a low molecular weight compound having one or more active imino groups represented by the above formula and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. As such a compound, specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylimide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylimide, or the like can be preferably used.
【0032】(c)に該当するモノマーとは、それぞれ
フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、またはヒドロキシスチレンからなるモノマーであ
る。このような化合物としては、具体的には、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシ
フェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリ
レート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒ
ドロキシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェ
ニルメタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリ
レート、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチ
レン、p−ヒドロキシスチレン等を好適に使用すること
ができる。The monomer corresponding to (c) is a monomer composed of acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, or hydroxystyrene each having a phenolic hydroxyl group. Specific examples of such a compound include N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxy Phenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene and the like can be preferably used.
【0033】他の共重合成分としては、例えば、下記
(1)〜(12)に挙げるモノマーを用いることができ
る。
(1)2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル
類。
(2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。
(3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。
(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。
(5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。As the other copolymerization component, for example, the following monomers (1) to (12) can be used. (1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylate such as acrylate. (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl. Alkyl methacrylate such as methacrylate. (4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-
Hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-
Acrylamide or methacrylamide such as phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide. (5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether.
【0034】(6)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類。
(7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。
(9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。
(10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。
(11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。
(12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。(6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene and chloromethylstyrene. (8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (12) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid.
【0035】本発明の特定の共重合体は、重量平均分子
量が2000以上、数平均分子量が1000以上のもの
が好ましく用いられる。さらに好ましくは、重量平均分
子量が5000〜300000、数平均分子量が200
0〜250000であり、分散度(重量平均分子量/数
平均分子量)が1.1〜10のものである。The specific copolymer of the present invention preferably has a weight average molecular weight of 2000 or more and a number average molecular weight of 1000 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000 and the number average molecular weight is 200.
It is 0 to 250,000 and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.
【0036】かかる特定の共重合体は、1種類あるいは
2種類以上を組み合わせて使用してもよい。The specific copolymer may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0037】前記フェノール性水酸基を有する樹脂と前
記特定の共重合体との配合重量比は50:50から5:
95の範囲にあることが好ましく、40:60から1
0:90の範囲にあることがより好ましい。これより前
記フェノール性水酸基を有する樹脂の配合量が多くなる
と、海島構造が逆転し、耐溶剤性等を改善することが困
難となる。逆に、これより前記共重合体の配合量が多く
なると、前記フェノール性水酸基を有する樹脂による表
面層が薄くなり過ぎ、現像ラチチュードの向上が不十分
となる。The compounding weight ratio of the resin having a phenolic hydroxyl group to the specific copolymer is 50:50 to 5: 5.
Preferably in the range of 95, 40:60 to 1
More preferably, it is in the range of 0:90. When the compounding amount of the resin having a phenolic hydroxyl group is larger than this, the sea-island structure is reversed and it becomes difficult to improve the solvent resistance and the like. On the contrary, when the amount of the copolymer added is larger than this, the surface layer of the resin having the phenolic hydroxyl group becomes too thin, and the development latitude is insufficiently improved.
【0038】これらフェノール性水酸基を有する樹脂と
特定の共重合体とからなるアルカリ可溶性の高分子化合
物は、それぞれ1種類あるいは2種類以上を組み合わせ
て使用してもよく、全印刷版材料固形分中、30〜99
重量%、好ましくは40〜95重量%、特に好ましくは
50〜90重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶
性の高分子化合物の添加量が30重量%未満であると記
録層の耐久性が悪化し、また、99重量%を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。These alkali-soluble polymer compounds composed of a resin having a phenolic hydroxyl group and a specific copolymer may be used either individually or in combination of two or more, and they may be used in the total solid content of the printing plate material. , 30-99
It is used in an amount of 50% by weight, preferably 40 to 95% by weight, particularly preferably 50 to 90% by weight. When the amount of the alkali-soluble polymer compound added is less than 30% by weight, the durability of the recording layer deteriorates, and when it exceeds 99% by weight, both the sensitivity and the durability are unfavorable.
【0039】(A)光を吸収し熱を発生する物質(光熱
変換剤ともいう)
本発明において、光を吸収し熱を発生する物質としては
種々の顔料もしくは染料を用いる事ができる。顔料とし
ては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.
I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、
1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、
1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、19
84年刊)に記載されている顔料が利用できる。(A) Substance that Absorbs Light and Generates Heat (also referred to as Photothermal Converter) In the present invention, various pigments or dyes can be used as the substance that absorbs light and generates heat. As the pigment, commercially available pigments and color indexes (C.I.
I. ) Handbook, "Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association,
1977), "Latest pigment application technology" (CMC Publishing,
1986), "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 19
The pigments described in 1984) can be used.
【0040】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。The types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer bound dyes may be mentioned. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments,
Quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
【0041】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、界
面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シラ
ンカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネー
ト等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上
記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、198
6年刊)に記載されている。These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment method is described in "Characteristics and Applications of Metal Soap" (Koushobo), "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 198).
6 years).
【0042】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.
It is preferably in the range of. Particle size of pigment is 0.01μ
When it is less than m, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the coating liquid for the photosensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the photosensitive layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production or the like can be used. As the disperser, ultrasonic disperser, sand mill, attritor, pearl mill, super mill,
A ball mill, an impeller, a despather, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three roll mill, a pressure kneader and the like can be mentioned. For details, see "Latest Pigment Application Technology."
(CMC Publishing, published in 1986).
【0043】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。As the dye, commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, "Dye Handbook" edited by the Society of Organic Synthetic Chemistry, published in 1945) can be used. Specific examples include dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in a laser that emits infrared light or near infrared light.
【0044】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭58−112792号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載
のシアニン染料等を挙げることができる。Carbon black is preferably used as a pigment that absorbs such infrared light or near infrared light. Examples of dyes that absorb infrared light or near infrared light include JP-A-58-125246 and JP-A-59.
-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787 and the like,
JP-A-58-173696, JP-A-58-18169
No. 0, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58.
-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, and JP-A-58-112792. Examples thereof include squarylium dyes and cyanine dyes described in British Patent 434,875.
【0045】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、Epolight III−1
78、Epolight III−130、Epoligh
t III−125等は特に好ましく用いられる。Further, as a dye, US Pat. No. 5,156,
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, JP-A-57-1.
No. 42645 (US Pat. No. 4,327,169), a trimethine thiapyrylium salt, JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363.
No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, and the pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
Cyanine dye described in US Pat. No. 4,283,4
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt, etc., and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Examined Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702, Epolight III-1.
78, Epolight III-130, Epolight
t III-125 and the like are particularly preferably used.
【0046】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、印
刷版材料全固形分に対し0.01〜50重量%、好まし
くは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で印刷版材料中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満
であると感度が低くなり、また50重量%を越えると感
光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。こ
れらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加し
てもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の
層とする場合、後述する熱分解性でありかつ分解しない
状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質を
含む層に隣接する層へ添加するのが望ましい。また、染
料もしくは顔料と結着樹脂は同一の層が好ましいが、別
の層でも構わない。Further, as another particularly preferable example of the dye, there can be mentioned near infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, and particularly preferably 0.5 to 10% by weight, in the case of pigments, based on the total solid content of the printing plate material. Particularly preferably 3.1
It can be added to the printing plate material in a proportion of from 10 to 10% by weight. If the amount of the pigment or dye added is less than 0.01% by weight, the sensitivity will be low, and if it exceeds 50% by weight, the uniformity of the photosensitive layer will be lost and the durability of the recording layer will be poor. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided separately. When it is formed as a separate layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to a layer containing a substance which is to be described later and is a substance which substantially decomposes the solubility of the binder in the state of being thermally decomposable and not decomposed. The dye or pigment and the binder resin are preferably in the same layer, but may be in different layers.
【0047】〔その他の成分〕前記の感熱層を形成する
にあたっては、上記の成分の他、本発明の効果を損なわ
ない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を
添加することができる。例えばオニウム塩、o−キノン
ジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホ
ン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状
態ではアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的
に低下させる物質を併用することは、画像部の現像液へ
の溶解阻止性の向上を図る点では、好ましい。オニウム
塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニ
ウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウ
ム塩、アルソニウム塩等を挙げる事ができる。[Other Components] In forming the heat-sensitive layer, various additives may be added, if necessary, in addition to the components described above, as long as the effects of the present invention are not impaired. . For example, an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonic acid ester compound, or the like, which is thermally decomposable, is used in combination with a substance that substantially reduces the solubility of the alkaline water-soluble polymer compound when not decomposed. Doing so is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developing solution. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like.
【0048】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Co
nf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、
J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5)、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,
1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同410,
201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444
号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,60
4,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J.
V. Crivello et al, Macromorecules,10(6), 1307 (19
77)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem.Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム
塩、C. S. Wen et al, Teh,Proc.Conf. Rad. Curing AS
IA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等
があげられる。オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩
が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩とし
ては特開平5−158230号公報記載のものがあげら
れる。Suitable onium salts used in the present invention are, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et a
l, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
Diazonium salt described in U.S. Pat. No. 4,069,055
No. 4,069,056, ammonium salts described in JP-A-3-140140, DC Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, Teh, Proc. Co
nf.Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31.
(1988), European Patent 104,143, U.S. Patent 339,049.
No. 410,201, JP-A No. 2-150848, and JP-A No. 2-2965.
Iodonium salt described in No. 14, JVCrivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985), JV Crivello et al. J.
Org. Chem., 43, 3055 (1978), WR Watt et al, J. P.
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984),
JV Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5), JV Crivello et al, Macromorecules, 14 (5),
1141 (1981), JV Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), European Patent 37
0,693, 233,567, 297,443, 297,442
U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 3,902,114, 410,
No. 201, No. 339,049, No. 4,760,013, No. 4,734,444
No. 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,60
Sulfonium salts described in 4,580 and 3,604,581, J.
V. Crivello et al, Macromorecules, 10 (6), 1307 (19
77), JV Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem. Ed., 17, 1047 (1979), selenonium salt, CS Wen et al, Teh, Proc.Conf. Rad. Curing AS
Examples include arsonium salts described in IA, p478 Tokyo, Oct (1988). Among the onium salts, the diazonium salt is particularly preferable. Further, particularly preferable diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.
【0049】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。As the counter ion of the onium salt, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Examples thereof include benzoyl-benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. Among these, alkylaromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.
【0050】好適なキノンジアジド類としてはo−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個の
o−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第339〜352頁に
記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させ
たo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号公
報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジ
アジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロ
ール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,12
0 号及び同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノ
ン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナ
フトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸ク
ロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエス
テルも好適に使用される。Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide assists the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder by thermal decomposition and the effect of changing o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include those described in J. The compounds described on pages 339 to 352 of "Light-Sensitive Systems" (John Wiley & Sons. Inc.) by Coser can be used, but in particular, they have been reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. -Sulfonic acid esters or sulfonic acid amides of quinonediazide are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,3) as described in JP-B-43-28403.
2) -Diazido-5-sulfonic acid chloride ester with pyrogallol-acetone resin, US Pat. No. 3,046,12
0 and benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chlorides or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chlorides and esters of phenol-formaldehyde resins described in No. 3,188,210 It is preferably used.
【0051】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−96
575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、特
公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481
号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、同
第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものをあげることができる。Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride and a phenol formaldehyde resin or a cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-
Esters of 4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin are likewise preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, and JP-A-48-96.
575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481
U.S. Pat.Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495.
No. 3,785,825, British Patent No. 1,227,602, No.
1,251,345, 1,267,005, 1,329,888,
Examples thereof include those described in each specification such as the above-mentioned 1,330,932 and German Patent No. 854,890.
【0052】o−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50質量%、更
に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜3
0質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。The amount of the o-quinonediazide compound added is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 3% by mass based on the total solid content of the printing plate material.
It is in the range of 0 mass%. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
【0053】また、感度を更に向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無
水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、
α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロ
メリット酸などが使用できる。フェノール類としては、
ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキ
シフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、
4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリ
ヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″
−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチ
ルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸
類としては、特開昭60−88942 号、特開平2−96755 号
公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン
酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル
類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トル
エンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−ト
ルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン
酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジ
フェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−
トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、
テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フ
ェノール類及び有機酸類の印刷版材料中に占める割合
は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは
0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量
%である。Further, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids may be used in combination for the purpose of further improving the sensitivity. Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, and anhydride described in U.S. Pat. No. 4,115,128. Maleic acid, chloromaleic anhydride,
α-Phenyl maleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic dianhydride, etc. can be used. As phenols,
Bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone,
4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,4', 3", 4 "
-Tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like. Further, as organic acids, sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfates, phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids and the like described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755 are mentioned. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethylsulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, Adipic acid, p-
Toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid,
Examples thereof include terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid and ascorbic acid. The proportion of the above cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the printing plate material is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0.1 to 0.1% by mass. It is 10% by mass.
【0054】また、本発明に係る印刷版材料中には、現
像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62
−251740号公報や特開平3−208514号公報
に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭5
9−121044号公報、特開平4−13149号公報
に記載されているような両性界面活性剤、EP9505
17公報に記載されているようなシロキサン系化合物、
特開平11−288093号公報に記載されているよう
なフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができ
る。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられ
る。両性活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノ
エチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン
塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒ
ドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラ
デシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモー
ゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。シロキ
サン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアル
キレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例
として、(株)チッソ社製、DBE−224,DBE−6
21,DBE−712,DBP−732,DBP−53
4、独Tego社製、Tego Glide100等の
ポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることが
出来る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の
印刷版材料中に占める割合は、0.05〜15質量%が
好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。Further, in the printing plate material according to the present invention, in order to broaden the stability of processing under developing conditions, JP-A-62-62 is used.
Nonionic surfactants such as those described in JP-A-251740 and JP-A-3-208514;
Amphoteric surfactants as described in JP-A-9-121044 and JP-A-4-13149, EP9505.
17, a siloxane-based compound as described in
A fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A No. 11-288093 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride and polyoxyethylene nonylphenyl ether. Specific examples of the amphoteric activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Examples include molds (for example, trade name “Amorgen K”: manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.). As the siloxane compound, a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide is preferable, and specific examples thereof include DBE-224 and DBE-6 manufactured by Chisso Corporation.
21, DBE-712, DBP-732, DBP-53
4. Polyalkylene oxide-modified silicone such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany can be mentioned. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the printing plate material is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.
【0055】本発明における印刷版材料中には、露光に
よる加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼
き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出す
る化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組
合せを代表として挙げることができる。具体的には、特
開昭50−36209号、同53−8128号の各公報
に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スル
ホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開
昭53−36223号、同54−74728号、同60
−3626号、同61−143748号、同61−15
1644号及び同63−58440号の各公報に記載さ
れているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組
合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合
物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合
物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出
し画像を与える。In the printing plate material of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure and a dye or pigment as an image colorant can be added. A typical example of the print-out agent is a combination of a compound that releases an acid when heated by exposure (photo-acid releasing agent) and an organic dye capable of forming a salt. Specifically, a combination of an o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, and JP-A-53 / 1983. -36223, 54-74728, 60
-3626, 61-143748, 61-15
Examples thereof include combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 1644 and 63-58440. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent stability over time and give a clear printout image.
【0056】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に本発明の
印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl. Violet (CI42535), ethyl violet, Rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201).
5) etc. can be mentioned. In addition, JP-A-62-2
The dyes described in Japanese Patent No. 93247 are particularly preferable. These dyes are added in an amount of 0.
It can be added to the printing plate material in a proportion of 01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass. Further, a plasticizer is added to the printing plate material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid. Oligomers and polymers are used.
【0057】本発明の平版印刷版用原版は、通常上記各
成分を含有する版材の感熱層組成物を溶媒に溶かして、
適当な支持体上に塗布することにより製造することがで
きる。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることがで
きるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は
単独あるいは混合して使用される。塗布溶剤の選択にあ
たっては、上部記録層、下部記録層の2層構造を有する
ものについては、隣接して設けられる場合に互いの層の
界面における相溶を防止するため、上部記録層の塗布溶
媒は、下部記録層を実質的に溶解しないものを選択する
ことが好ましい。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固
形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。In the lithographic printing plate precursor of the invention, the heat-sensitive layer composition of a plate material containing the above components is usually dissolved in a solvent to prepare a lithographic printing plate precursor,
It can be produced by coating on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2.
-Propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N,
N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-
Examples thereof include methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene, but are not limited thereto. These solvents may be used alone or as a mixture. In selecting the coating solvent, for those having a two-layer structure of the upper recording layer and the lower recording layer, in order to prevent mutual compatibility at the interface between the layers when they are provided adjacent to each other, the coating solvent for the upper recording layer It is preferable to select a material that does not substantially dissolve the lower recording layer. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.
【0058】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。本発明
における感光性層中には、塗布性を良化するための界面
活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載
されているようなフッ素系界面活性剤を添加することが
できる。好ましい添加量は、記録層全固形分中0.01
〜1質量%、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%
である。Various methods can be used for coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. You can As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate. In the photosensitive layer according to the present invention, a surfactant for improving the coatability, for example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 in the total solid content of the recording layer.
~ 1 mass%, more preferably 0.05-0.5 mass%
Is.
【0059】尚、本発明の版材の感熱層を2層構造とし
てもよい。その場合、支持体上に光熱変換剤とアルカリ
水溶液可溶性樹脂と含有する第1の感熱層を設け、その
上に上述の組成の感熱層を第2の感熱層として設けるこ
とが好ましい。The heat-sensitive layer of the plate material of the present invention may have a two-layer structure. In that case, it is preferable that a first heat-sensitive layer containing a photothermal conversion agent and an alkali aqueous solution-soluble resin is provided on a support, and a heat-sensitive layer having the above-mentioned composition is provided thereon as a second heat-sensitive layer.
【0060】〔支持体〕本発明に使用される支持体とし
ては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状
物が挙げられ、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミ
ネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜
鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が含まれる。[Support] The support used in the present invention includes a dimensionally stable plate-like material having necessary strength and durability, and examples thereof include paper and plastic (eg, polyethylene, Paper laminated with polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate) , Polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal and the like), paper laminated with the above metal or vapor-deposited, or a plastic film.
【0061】本発明に用いる支持体としては、ポリエス
テルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中で
も寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板
は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニ
ウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を
含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもし
くは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミ
ニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々10質量%以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられるア
ルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。As the support used in the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a slight amount of a foreign element, and may be a plastic film in which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in terms of refining technology, and thus may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly known aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.
【0062】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。Prior to roughening the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment for removing the rolling oil on the surface is carried out, for example, with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution. Roughening treatment of the surface of the aluminum plate,
Various methods are used, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution.
Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can be used. The thus roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to anodizing treatment if desired to enhance the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid,
Oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
【0063】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分
であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、ア
ルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本
発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,
714,066号、同第3,181,461号、第3,
280,734号及び第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は
電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に
開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許
第3,276,868号、同第4,153,461号、
同第4,689,272号に開示されているようなポリ
ビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because they vary depending on the electrolyte used, but generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C.
A current density of 5 to 60 A / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , printing durability is insufficient, or the non-image area of the planographic printing plate is easily scratched, and ink adheres to the scratched portion during printing. So-called "scratch stains" tend to occur. After being subjected to anodizing treatment, the aluminum surface is optionally subjected to hydrophilic treatment. Examples of the hydrophilic treatment used in the present invention include US Pat.
No. 714,066, No. 3,181,461, No. 3,
There are alkali metal silicate (eg sodium silicate aqueous solution) processes such as those disclosed in 280,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolyzed. In addition, potassium fluorozirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,153,461,
For example, the method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed in the above-mentioned No. 4,689,272 is used.
【0064】本発明の平版印刷版用原版においては、支
持体上に感熱層を単層又は2層以上積層して設けたもの
であるが、必要に応じて支持体と感熱層(重層構成の場
合、下部感熱層)との間に下塗層を設けることができ
る。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、
例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、
アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミ
ノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェ
ニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホ
ン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及び
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基
を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフ
ィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン
酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンな
どのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩な
どのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれ
るが、2種以上混合して用いてもよい。In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the heat-sensitive layer is provided on the support in a single layer or in a laminate of two or more layers. In this case, an undercoat layer can be provided between the lower heat-sensitive layer). Various organic compounds are used as the undercoat layer component,
For example, carboxymethyl cellulose, dextrin,
Gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid Organic phosphonic acid such as acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, phenylphosphinic acid which may have a substituent, naphthylphosphinic acid, It is selected from organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as triethanolamine hydrochloride. You may use it.
【0065】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied onto an aluminum plate and dried, and an organic solvent such as water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied. Is a method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved to adsorb the above compound, followed by washing with water or the like and drying to provide an organic undercoat layer. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10 mass% of the above organic compound can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass.
And the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5
The temperature is 0 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted within the range of 1 to 12 by using a basic substance such as triethylamine and potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid and phosphoric acid. Further, a yellow dye may be added to improve the tone reproducibility of the image recording material. The coating amount of the organic undercoat layer is appropriately 2 to 200 mg / m 2 , and preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same applies when the amount is larger than 200 mg / m 2 .
【0066】[製版・印刷]上記のようにして作成された
平版印刷版用原版は、通常、像露光、現像処理を施され
る。像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤
外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体
レーザ、半導体レーザが好ましい。発光波長としては、
760〜1080nmが好ましい。[Plate making / printing] The lithographic printing plate precursor prepared as described above is usually subjected to image exposure and development. As a light source of actinic rays used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser and a semiconductor laser are preferable. As the emission wavelength,
760 to 1080 nm is preferable.
【0067】本発明の赤外線レーザ用平版印刷版の現像
液及び補充液としては、従来より知られているアルカリ
性水溶液を使用すればよい。本発明の方法に適用可能な
公知のアルカリ水溶液に用いられるアルカリ化合物とし
ては、例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機
アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ
剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは2
種以上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤
の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ
酸塩の成分である酸化珪素SiO2とアルカリ金属酸化
物M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能とな
るためであり、例えば、特開昭54−62004号公
報、特公昭57−7427号に記載されているようなア
ルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。As the developer and replenisher for the planographic printing plate for infrared laser of the present invention, a conventionally known alkaline aqueous solution may be used. Examples of the alkaline compound used in the known alkaline aqueous solution applicable to the method of the present invention include sodium silicate, potassium potassium, sodium triphosphate, potassium phosphate, ammonium phosphate, dibasic sodium phosphate, potassium phosphate, and the like. Same ammonium, sodium carbonate, same potassium, same ammonium, sodium hydrogencarbonate, same potassium, same ammonium, sodium borate, same potassium, same ammonium, sodium hydroxide,
Examples thereof include inorganic alkali salts such as ammonium, potassium and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine,
Organic alkaline agents such as diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine are also used. To be These alkaline agents may be used alone or 2
Used in combination of two or more species. Among these alkaline agents, a particularly preferable developer is an aqueous silicate solution such as sodium silicate or potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide M 2 O. For example, JP-A-54-62004, An alkali metal silicate as described in JP-B-57-7427 is effectively used.
【0068】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版を処理でき
ることが知られている。本発明においてもこの補充方式
が好ましく適用される。現像液および補充液には、現像
性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の
親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤が挙げられる。更に現像液および補充液には
必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸や
亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩やカリウム塩
等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤
を加えることもできる。Further, when developing using an automatic processor, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developer.
It is known that a large amount of lithographic printing plate can be processed without changing the developing solution in the developing tank for a long time by adding the above-mentioned to the developing solution. Also in the present invention, this replenishment system is preferably applied. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the development residue and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, in the developing solution and the replenishing solution, if necessary, a reducing agent such as hydroquinone, resorcin, sodium salt or potassium salt of an inorganic acid such as sulfurous acid or bisulfite, an organic carboxylic acid, a defoaming agent, and a water softening agent. It can also be added.
【0069】上記現像液及び補充液を用いて現像処理さ
れた印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用す
る場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。The printing plate developed using the above-mentioned developing solution and replenishing solution is post-treated with washing water, a rinse solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-treatment when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, various combinations of these treatments can be used.
【0070】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate, each processing liquid tank and a spraying device, which conveys an exposed printing plate horizontally while pumping it up with each pump. The processing liquid is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid for processing. In such automatic processing, it is possible to perform processing while supplementing each processing solution with a replenishing solution according to the processing amount, operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing liquid can be applied.
【0071】本発明の平版印刷版用原版においては、画
像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガ
ム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例え
ば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合に
は、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このよう
な消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載さ
れているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのま
ま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう
方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に
記載されているようなオプティカルファイバーで導かれ
た活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法
も利用できる。In the lithographic printing plate precursor of the present invention, an unnecessary image portion (for example, of an original image film) obtained by image exposure, development, washing with water and / or rinsing and / or gumming is obtained. If there is a film edge mark or the like), the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed, for example, by applying an erasing liquid as described in Japanese Patent Publication No. 2-13293 to the unnecessary image portion, leaving it as it is for a predetermined time, and then rinsing with water. It is also possible to use a method described in Japanese Patent Laid-Open No. 59-174842, in which an actinic ray guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed.
【0072】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum, if desired, but when a lithographic printing plate having higher printing durability is desired. Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before printing
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-adjusting solution as described in JP-A-1859 and JP-A-61-159655. As the method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting solution, it is applied on the lithographic printing plate, or by immersing the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting solution, Application by an automatic coater is applied. Further, making the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating gives more preferable results.
【0073】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。The amount of the surface conditioning solution applied is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is suitable. The planographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then a burning processor (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: “BP-130”).
0 ") and so on. The heating temperature and time in this case depend on the types of components forming the image,
The range of 180 to 300 ° C. and the range of 1 to 20 minutes are preferable.
【0074】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。The lithographic printing plate which has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface-adjusting solution containing a water-soluble polymer compound or the like. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.
【0075】[0075]
【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The scope of the invention is not limited to these examples.
【0076】[アルカリ可溶性高分子化合物Aの製造]
攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モ
ル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及
びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で30分間混合物を攪拌した。この反応混合物に、
p−アミノベンゼンスルホンアミド51.7g(0.3
0モル)を加え、油浴にて70℃に温めながら混合物を
1時間攪拌した。反応終了後、この混合物を水1リット
ルにこの水を攪拌しながら投入し、30分間得られた混
合物を攪拌した。この混合物をろ過して析出物を取り出
し、これを水500mlでスラリーにした後、このスラ
リーをろ過し、得られた固体を乾燥することによりN−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの
白色固体が得られた(収量46.9g)。[Production of Alkali-Soluble Polymer Compound A]
A 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a cooling tube and a dropping funnel was charged with 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile, while cooling with an ice-water bath. The mixture was stirred. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was added dropwise with a dropping funnel over about 1 hour. After the dropping was completed, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. In this reaction mixture,
51.7 g of p-aminobenzenesulfonamide (0.3
0 mol) was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, this mixture was put into 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was slurried with 500 ml of water, and the slurry was filtered, and the obtained solid was dried to obtain N-.
A white solid of (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained (yield 46.9 g).
【0077】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.0
210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.0
180モル)、アクリロニトリル1.11g(0.02
1モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物に更にN−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04
g、メタクリル酸エチル2.05g、アクリロニトリル
1.11g、N,N−ジメチルアセトアミド20g及び
「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後更に65℃で2時間得
られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40g
を混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リット
ルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌
した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することに
より15gの白色固体を得た。重量平均分子量を測定し
たところ53,000であった。重量平均分子量(M
w)はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(ポリ
スチレン標準)により測定した。Next, in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, 5.04 g (0.0) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained.
210 mol), 2.05 g of ethyl methacrylate (0.0
180 mol), acrylonitrile 1.11 g (0.02
1 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C. in a hot water bath. Add "V-65" to this mixture (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
0.15 g was added and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 2 hours while maintaining the temperature at 65 ° C. The reaction mixture was further charged with N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide 5.04.
g, 2.05 g of ethyl methacrylate, 1.11 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of "V-65" were added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. After the dropping was completed, the obtained mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After the reaction, 40g of methanol
Was added to the mixture, the mixture was cooled, and the resulting mixture was added to 2 liters of water while stirring this water, the mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was taken out by filtration and dried to obtain 15 g of a white solid. Obtained. When the weight average molecular weight was measured, it was 53,000. Weight average molecular weight (M
w) was measured by gel permeation chromatography (polystyrene standard).
【0078】〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗
浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶
液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに
20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目
立て表面のエッチング量は約3g/m 2であった。次に
この板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm
2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、
乾燥し、さらに、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で
30℃で10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を
80℃で15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の被
覆量は15mg/m2であった。[Production of Substrate] Aluminum having a thickness of 0.3 mm
Wash the aluminum plate (material 1050) with trichlorethylene.
After degreasing with a nylon brush and 400 mesh
Grain this surface with a water-suspension and wash it thoroughly with water.
Clean 25% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ℃
Immerse in the liquid for 9 seconds to perform etching, wash with water, and then
It was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. The grain at this time
The amount of etching on the vertical surface is about 3g / m 2Met. next
This plate has a current density of 15 A / dm with 7% sulfuric acid as an electrolyte.
2At 3 g / m2After providing the DC anodized film of, washed with water,
Dried and then with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate
Treat at 30 ° C for 10 seconds, apply the following undercoat liquid, and apply the coating film
A substrate was obtained by drying at 80 ° C. for 15 seconds. Covering the coating after drying
Coverage is 15 mg / m2Met.
【0079】 下塗り液 下記化合物 0.3g メタノール 100g 水 1g[0079] Undercoat liquid 0.3 g of the following compound 100 g of methanol 1 g water
【0080】[0080]
【化3】 [Chemical 3]
【0081】実施例1上記のように得られた基板に以下
に示す感光液1を、乾燥後の塗布量が1.0g/m2と
なるように塗布したのちTABAI社製PERFECT OVEN PH200
にてWindControlを7に設定して140℃で50秒間乾燥
し、平版印刷版1を得た。Example 1 The substrate 1 obtained as described above was coated with the following photosensitive solution 1 so that the coating amount after drying was 1.0 g / m 2, and then PERFECT OVEN PH200 manufactured by TABAI.
The Wind Control was set to 7 and dried at 140 ° C. for 50 seconds to obtain a lithographic printing plate 1.
【0082】 感光液1 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量5000 ) 0.474g アルカリ可溶性高分子化合物A 2.37g シアニン染料A(下記構造) 0.155g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.03g テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.11g フッ素系界面活性剤(メガファックF177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF-312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g パラトルエンスルホン酸 0.008g ビス-p-ヒドロキシフェニルスルホン 0.13g WAX剤(表1に記載) 0.06g γ−ブチルラクトン 13g メチルエチルケトン 24g 1−メトキシ−2−プロパノール 11g[0082] Photosensitive liquid 1 m, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000 ) 0.474g Alkali-soluble polymer compound A 2.37 g Cyanine dye A (the following structure) 0.155 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene Diazonium hexafluorophosphate 0.03g Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g The counter ion of ethyl violet was 6-hydroxy-β- Naphthalene sulfonic acid 0.11g Fluorine-based surfactant (MegaFac F177, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.02g Fluorosurfactant (MegaFac MCF-312, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.05g Paratoluenesulfonic acid 0.008g Bis-p-hydroxyphenyl sulfone 0.13g WAX agent (listed in Table 1) 0.06 g γ-Butyl lactone 13g Methyl ethyl ketone 24g 1-methoxy-2-propanol 11g
【0083】[0083]
【化4】 [Chemical 4]
【0084】実施例2〜7
実施例1の感光液1で用いたWAX剤の代わりに表1に
記載のものを用いた以外は実施例1と同様にして平版印
刷版2〜7を得た。Examples 2 to 7 Lithographic printing plates 2 to 7 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the WAX agent used in the photosensitive solution 1 of Example 1 was replaced by the one shown in Table 1. .
【0085】比較例1
実施例1の感光液1で用いたWAX剤は添加せず、それ
以外は実施例1と同様に作成を行い、比較印刷版1を得
た。Comparative Example 1 A comparative printing plate 1 was obtained by the same procedure as in Example 1 except that the WAX agent used in the photosensitive solution 1 of Example 1 was not added.
【0086】比較例2
実施例1の感光液1で用いたWAX剤の代わりに、表1
に記載のものを用いた以外は実施例1と同様にして、比
較印刷版2を得た。Comparative Example 2 Instead of the WAX agent used in the photosensitive solution 1 of Example 1, Table 1 was used.
Comparative printing plate 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the one described in 1 was used.
【0087】実施例8
基板に以下の感光液2を乾燥後の塗布量が0.85g/
m2となるように塗布した後、タバイ社製PERFEC
T OVEN PH200にてWindControlを7に設定し
て140℃で50秒間乾燥した。続いて乾燥後の塗布量
が0.15g/m2となるように感光液3を塗布し、タ
バイ社製PERFECT OVEN PH200にてWind
Controlを7に設定して120℃で60秒間乾燥し、平
版印刷版8を得た。Example 8 A substrate was coated with the following photosensitive solution 2 at a coating amount of 0.85 g /
After coating so that it becomes m 2 , PERFEC manufactured by Tabai
Wind Control was set to 7 in TOVEN PH200 and dried at 140 ° C. for 50 seconds. Subsequently, the photosensitive solution 3 was applied so that the applied amount after drying would be 0.15 g / m 2, and was winded with PERFECT OVEN PH200 manufactured by Tabai.
Control was set to 7 and dried at 120 ° C. for 60 seconds to obtain a lithographic printing plate 8.
【0088】 感光液2 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量5000 ) 0.237g アルカリ可溶性高分子化合物A 2.37 g シアニン染料A(上記構造) 0.10 g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.01 g テトラヒドロ無水フタル酸 0.19 g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にした化合物 0.11 g フッ素系界面活性剤(メガファックF177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02 g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF-312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05 g p−トルエンスルホン酸 0.008g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.10 g γ−ブチルラクトン 13 g メチルエチルケトン 24 g 1−メトキシ−2−プロパノール 11 g[0088] Photosensitive liquid 2 m, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000 ) 0.237g Alkali-soluble polymer compound A 2.37 g Cyanine dye A (the above structure) 0.10 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene Diazonium hexafluorophosphate 0.01 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.19 g The counter ion of ethyl violet was 6-hydroxy-β- Compound made into naphthalene sulfonic acid 0.11 g Fluorine-based surfactant (MegaFac F177, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. 0.02 g Fluorosurfactant (MegaFac MCF-312, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.05 g p-toluenesulfonic acid 0.008 g Bis-p-hydroxyphenyl sulfone 0.10 g γ-butyl lactone 13 g Methyl ethyl ketone 24 g 1-methoxy-2-propanol 11 g
【0089】 感光液3 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量5000 ) 0.237g シアニン染料A (上記構造) 0.025g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.01 g フッ素系界面活性剤(メガファックF177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02 g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF-312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05 g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.003g メチルエチルケトン 15 g 1−メトキシ−2−プロパノール 8 g WAX剤(表1に記載) 0.06 g[0089] Photosensitive liquid 3 m, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5000 ) 0.237g Cyanine dye A (above structure) 0.025 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene Diazonium hexafluorophosphate 0.01 g Fluorine-based surfactant (MegaFac F177, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. 0.02 g Fluorosurfactant (MegaFac MCF-312, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.05 g Bis-p-hydroxyphenyl sulfone 0.003 g Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 8 g WAX agent (described in Table 1) 0.06 g
【0090】比較例3
実施例8の感光液3で用いたWAX剤の代わりに、表1
に記載のものを用いた以外は実施例8と同様にして、比
較印刷版3を得た。Comparative Example 3 Instead of the WAX agent used in the photosensitive solution 3 of Example 8, Table 1 was used.
Comparative printing plate 3 was obtained in the same manner as in Example 8 except that the one described in 1 was used.
【A001】実施例9〜11
実施例1の感光液1で用いたWAX剤の代わりに、表1
に記載のものを用いた以外は実施例1と同様にして、平
版印刷版9〜11を得た。ここで、Examples 9 to 11 Instead of the WAX agent used in the photosensitive solution 1 of Example 1, Table 1 was used.
Lithographic printing plates 9 to 11 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the one described in 1 was used. here,
【0091】[キズ性能の評価]得られた平版印刷版を
ロータリーアブレーションテスター(TOYOSEIK
I社製)を用い、250gの加重下、アブレーザーフェ
ルトCS5で50回摩耗した。その後、富士写真フイル
ム(株)製現像液DT−1(1:8で水道水希釈したも
の)を富士写真フイルム製PSプロセッサー900Hに
仕込み、液温30度、現像時間12秒にて現像した。な
おガム液としてFP−2W(1:1で水道水希釈したも
の)を使用した。得られた平版印刷版を観察し、摩耗し
た部分の感光膜の光学濃度が非摩耗部と比べて変化しな
かったものを○、摩耗した部分の感光膜の光学濃度が非
摩耗部に比べて大幅に低下したものを×とした。[Evaluation of Scratch Performance] The obtained lithographic printing plate was subjected to rotary ablation tester (TOYOSEIK).
(Manufactured by I Co., Ltd.), and was abraded 50 times with Abraser Felt CS5 under a load of 250 g. Then, Fuji Photo Film Co., Ltd. developer DT-1 (diluted with tap water at 1: 8) was charged into Fuji Photo Film PS processor 900H and developed at a liquid temperature of 30 ° C. for a development time of 12 seconds. FP-2W (diluted with tap water at 1: 1) was used as the gum solution. Observing the obtained lithographic printing plate, ○ that the optical density of the photosensitive film of the worn portion did not change compared to the non-wearing part ○, the optical density of the photosensitive film of the worn part compared to the non-wearing part Those that were significantly reduced were marked with x.
【0092】[経時安定性の評価]得られた平版印刷版
を劣悪な保管条件を想定し、室温35℃、相対湿度85
%の条件下にて、合紙と接着させた状態で2週間保管し
た。その後上記のキズ性能評価を行い、摩耗した部分の
感光膜の光学濃度が非摩耗部と比べて変化しなかったも
のを○、摩耗した部分の感光膜の光学濃度が非摩耗部に
比べて大幅に低下したものを×とした。結果を表1に示
す。[Evaluation of stability over time] The lithographic printing plate thus obtained was assumed to have poor storage conditions, and the room temperature was 35 ° C. and the relative humidity was 85.
%, And stored for 2 weeks in a state of being bonded to the interleaving paper. After that, the scratch performance was evaluated, and the optical density of the photosensitive film in the worn part did not change compared to the non-wearing part. ○, the optical density of the photosensitive film in the worn part was significantly larger than that in the non-wearing part. Those that fell to x were marked with x. The results are shown in Table 1.
【0093】[0093]
【表1】 [Table 1]
【0094】尚、表1において使用したWAX剤は、下
記の構造である。The WAX agent used in Table 1 has the following structure.
【0095】[0095]
【化5】 [Chemical 5]
【0096】表1より明らかであるが、本発明の特定の
WAX剤の添加により、キズの経時安定性に優れ、更に
キズ耐性にも優れた赤外線レーザ用平版印刷版を得るこ
とができる。また、本発明の赤外線レーザ用平版印刷版
が重層構造の感熱層を有していても優れた効果が得られ
ることがわかる。As is clear from Table 1, the addition of the specific WAX agent of the present invention makes it possible to obtain an infrared laser lithographic printing plate which is excellent in scratch stability over time and is also excellent in scratch resistance. Further, it is understood that even if the lithographic printing plate for infrared laser of the present invention has a heat-sensitive layer having a multilayer structure, excellent effects can be obtained.
【0097】[0097]
【発明の効果】本発明により、キズの経時安定性に優れ
る赤外線レーザ用平版印刷版を提供することができる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a lithographic printing plate for infrared laser which is excellent in stability of scratches over time.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 則章 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA11 AA13 AB03 AC08 AD03 CB13 CB29 CB42 CC05 CC11 CC20 DA13 FA17 2H096 AA06 BA09 EA04 EA23 GA08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Noriaki Watanabe Fuji-Sha, 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Shin Film Co., Ltd. F term (reference) 2H025 AA11 AA13 AB03 AC08 AD03 CB13 CB29 CB42 CC05 CC11 CC20 DA13 FA17 2H096 AA06 BA09 EA04 EA23 GA08
Claims (2)
(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶
性樹脂、(C)下記一般式(I)で表される基を2〜1
2個有する化合物を含有する感熱層を設けたことを特徴
とする赤外線レーザ用平版印刷版。 −R1−Y−CO−X−R2 一般式(I) (式中、XはO、SまたはNR3を表し、YはNR3また
は単結合を表し、R1は炭素数1〜32のアルキレン基
またはアリーレン基を表し、R2、R3は水素原子、また
は、炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、もし
くはアリール基を表す。)1. (A) A substance that absorbs light and generates heat,
(B) an alkaline aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, (C) a group represented by the following general formula (I),
A lithographic printing plate for infrared laser, comprising a heat-sensitive layer containing a compound having two compounds. -R 1 -Y-CO-X- R 2 Formula (I) (wherein, X represents O, and S or NR 3, Y represents NR 3 or a single bond, R 1 is 1 to 32 carbon atoms Represents an alkylene group or an arylene group, and R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, or an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group having 1 to 18 carbon atoms.)
収し熱を発生する物質と(B)アルカリ水溶液可溶性樹
脂とを含有する第1の感熱層の上に、第2の感熱層とし
て有することを特徴とする請求項1に記載の赤外線レー
ザ用平版印刷版。2. A heat-sensitive layer formed on a support, the first heat-sensitive layer containing (A) a substance that absorbs light to generate heat and (B) an alkali aqueous solution-soluble resin, and a second heat-sensitive layer. The lithographic printing plate for infrared laser according to claim 1, which has a heat-sensitive layer.
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- 2002-08-02 JP JP2002226317A patent/JP2003149799A/en active Pending
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