JP4709104B2 - Photosensitive lithographic printing plate precursor - Google Patents

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Description

本発明は感光性平版印刷版原版に関し、詳細には、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ光を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な感光性平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate precursor, and more particularly to a photosensitive lithographic printing plate precursor capable of direct plate making by scanning with infrared laser light based on a digital signal from a computer or the like.

近年におけるレーザの発展は目覚しく、特に近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ固体レーザや半導体レーザでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。
前述の近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ赤外線レーザを露光光源として使用する赤外線レーザ用平版印刷版原版としては、バインダー樹脂と光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須成分とするものが一般的である。このような赤外線レーザ用平版印刷版原版を赤外線レーザで露光すると、ポジ型の記録層を有する版材の場合、未露光部(画像部)では記録層中のIR染料などが、前記バインダー樹脂との相互作用により前記バインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働く。一方、露光部(非画像部)では、前記IR染料等が光を吸収して熱を発生するため、該IR染料等と前記バインダー樹脂との相互作用が弱くなる。したがって現像時には、前記露光部(非画像部)がアルカリ現像液に溶解して除去されることにより平版印刷版が形成される。
In recent years, the development of lasers has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared region have been increasing in output and size. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data such as a computer.
An infrared laser lithographic printing plate precursor using an infrared laser having a light emitting region from the near infrared to the infrared region as an exposure light source includes a binder resin and an IR dye that absorbs light and generates heat as essential components. Things are common. When such a lithographic printing plate precursor for infrared laser is exposed with an infrared laser, in the case of a plate material having a positive recording layer, in the unexposed portion (image portion), the IR dye and the like in the recording layer are mixed with the binder resin. It acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin by the above interaction. On the other hand, in the exposed portion (non-image portion), the IR dye or the like absorbs light and generates heat, so that the interaction between the IR dye or the like and the binder resin is weakened. Therefore, at the time of development, the exposed portion (non-image portion) is dissolved in an alkaline developer and removed to form a lithographic printing plate.

このような赤外線レーザ用平版印刷版原版においては、耐薬品性向上、耐傷性向上が技術課題としてあげられる。このうち耐薬品性向上については、例えばポリビニルアセタールを使用することが提案されている(例えば、特許文献1参照)が、耐傷性との両立という観点では不十分である。また、平版印刷版原版の樹脂層の構造を2層以上にすることが、耐薬品性と耐傷性との両立に有用であると考えられ、例えば下層にマレイミド化合物を構成単位とする高分子化合物を使用することが提案されているが(例えば、特許文献2参照)、下層と上層との密着性が必ずしも十分ではなく、さらなるレベルアップが望まれていた。
米国公開特許2004/0020484号明細書 米国公開特許2004/0067432号明細書
In such a lithographic printing plate precursor for infrared laser, improvement in chemical resistance and improvement in scratch resistance are given as technical problems. Among these, for improving chemical resistance, for example, it has been proposed to use polyvinyl acetal (see, for example, Patent Document 1), but it is insufficient from the viewpoint of compatibility with scratch resistance. In addition, it is considered that the resin layer structure of the lithographic printing plate precursor having two or more layers is useful for achieving both chemical resistance and scratch resistance. For example, a polymer compound having a maleimide compound as a constituent unit in the lower layer Has been proposed (see, for example, Patent Document 2), but the adhesion between the lower layer and the upper layer is not always sufficient, and further level-up has been desired.
US Published Patent No. 2004/0020484 US Published Patent No. 2004/0067432

上記従来技術の欠点を克服すべくなされた本発明の目的は、耐薬品性と耐傷性とに優れ、更に得られる平版印刷版の耐刷性にも優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することにある。   The object of the present invention, which has been made to overcome the above-mentioned drawbacks of the prior art, is a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared lasers which is excellent in chemical resistance and scratch resistance, and also in the printing durability of the resulting lithographic printing plate. Is to provide.

本発明者は鋭意研究の結果、上述した課題目的が、下記赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版により達成されることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明の赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版は、親水性表面を有する支持体上に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物と赤外線吸収剤とを含有する下層と、(A)スチレンと(B)アルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを共重合性成分として少なくとも有する高分子化合物を含有する上層とをこの順に設けたことを特徴とする。
As a result of diligent research, the present inventor has found that the above-described object can be achieved by the following photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, and has completed the present invention.
That is, the photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser of the present invention comprises, on a support having a hydrophilic surface, a lower layer containing a polymer compound having a phenolic hydroxyl group and an infrared absorber, (A) styrene, (B) An upper layer containing a polymer compound having at least a polymerizable monomer having an alkylene oxide group as a copolymerizable component is provided in this order.

本発明の感光性平版印刷版原版を前記構成とすることにより、形成される画像部の耐刷性に優れ、更に耐薬品性と耐傷性とがいずれも優れる感光性平版印刷版原版とすることができる。   By forming the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention in the above-described configuration, the photosensitive lithographic printing plate precursor is excellent in printing durability of an image portion to be formed, and further excellent in both chemical resistance and scratch resistance. Can do.

また、本発明の請求項2に係る赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版は、前記上層に含有される高分子化合物が共重合性成分として更に(C)(メタ)アクリロニトリルを有することを特徴とする。 The photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser according to claim 2 of the present invention is characterized in that the polymer compound contained in the upper layer further has (C) (meth) acrylonitrile as a copolymerizable component. To do.

このように、前記共重合体に共重合性成分として、(A)及び(B)に加え、更に(C)(メタ)アクリロニトリルを更に有する高分子化合物を用いることにより、耐薬品性、耐傷性を向上させることができる。
ここで(メタ)アクリロニトリルとはアクリロニトリルおよびメタクリロニトリルの双方或いはいずれかを指す。
Thus, in addition to (A) and (B) as a copolymerizable component, a polymer compound further having (C) (meth) acrylonitrile is used as the copolymerizable component in the copolymer, thereby providing chemical resistance and scratch resistance. Can be improved.
Here, (meth) acrylonitrile refers to either or both of acrylonitrile and methacrylonitrile.

なお、ここで「順に設けた」とは、親水性表面を有する支持体上に、少なくとも前記下層と上層とを、この順に設けたことを意味し、所望により設けられる他の層、例えば、下塗り層、保護層、バックコート層などの存在を否定するものではない。   Here, “provided in order” means that at least the lower layer and the upper layer are provided in this order on a support having a hydrophilic surface, and other layers provided as desired, for example, undercoat The existence of layers, protective layers, backcoat layers, etc. is not denied.

本発明の作用は明確ではないが、上層において用いるスチレンとアルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを共重合成分として少なくとも有する高分子化合物により形成される被膜の強度、耐薬品性が優れているため、これを用いて得られた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版の耐傷性・耐薬品性を優れたものとすることができると推測している。さらに、また、下層にフェノール性水酸基を有する高分子化合物を含有することで、上層の前記高分子化合物の側鎖とフェノール基との間に相互作用が生じ、上層と下層との密着性向上により赤外線レーザ用感光性平版印刷版の耐刷性が向上したものと推測している。   Although the action of the present invention is not clear, the strength and chemical resistance of the coating formed by a polymer compound having at least styrene and a polymerizable monomer having an alkylene oxide group as a copolymerization component used in the upper layer are excellent. Therefore, it is presumed that the photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser obtained by using this can be excellent in scratch resistance and chemical resistance. Furthermore, by containing a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the lower layer, an interaction occurs between the side chain of the polymer compound in the upper layer and the phenol group, thereby improving the adhesion between the upper layer and the lower layer. It is presumed that the printing durability of the photosensitive lithographic printing plate for infrared laser has been improved.

本発明によれば、耐薬品性と耐傷性とに優れ、更に得られる平版印刷版の耐刷性にも優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser which is excellent in chemical resistance and scratch resistance, and further excellent in printing durability of the obtained lithographic printing plate.

〔赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版〕
本発明の赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版(以下、平版印刷版原版ともいう。)は、親水性表面を有する支持体上に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物と赤外線吸収剤とを含有する下層と、(A)スチレンと(B)アルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを共重合性成分として少なくとも有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に設けたことを特徴とする。
前記上層及び下層にそれぞれ異なる高分子化合物を含有させる上記構成とすることにより、耐薬品性と耐傷性とが両立して優れ、更に耐刷性に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することができる。
以下に、本発明の平版印刷版原版の各項目について順次説明する。
[Photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser]
The photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser of the present invention (hereinafter also referred to as a lithographic printing plate precursor) contains a polymer compound having a phenolic hydroxyl group and an infrared absorber on a support having a hydrophilic surface. And a lower layer containing at least a polymer compound having at least (A) a styrene and (B) a polymerizable monomer having an alkylene oxide group as a copolymerizable component.
By adopting the above-described constitution in which different polymer compounds are contained in the upper layer and the lower layer, respectively, a photosensitive lithographic printing plate precursor for an infrared laser having both excellent chemical resistance and scratch resistance and excellent printing durability is obtained. Can be provided.
Hereinafter, each item of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in order.

〔下層に用いるフェノール性水酸基を有する高分子化合物〕
フェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、公知のノボラック樹脂、キシレノール樹脂、レゾール樹脂等が使用できる。
具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール樹脂、キシレノール/フェノール混合樹脂、キシレノール/ノボラック混合樹脂、キシレノール/ノボラック/フェノール混合樹脂、およびピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。
また、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた高分子化合物を挙げることもでき、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等を共重合成分とした高分子化合物が挙げられる。
[Polymer compound having phenolic hydroxyl group used for lower layer]
As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group, known novolak resins, xylenol resins, resol resins and the like can be used.
Specifically, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / p-mixed) , M- / o-mixed and o- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4 Examples thereof include xylenol, 3,5-xylenol resin, xylenol / phenol mixed resin, xylenol / novolak mixed resin, xylenol / novolak / phenol mixed resin, and polycondensation polymer of pyrogallol and acetone.
In addition, a polymer compound obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be mentioned, and acrylamide, methacrylamide, acrylic ester or methacrylic ester having a phenol group, hydroxystyrene or the like is used as a copolymer component. High molecular compounds.

これらのうち好ましくは、ノボラック樹脂であり、中でもフェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール混合ホルムアルデヒド樹脂、をあげることができる。   Among these, a novolak resin is preferable, and among them, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol mixed formaldehyde resin can be mentioned. .

本発明で用いるフェノール性水酸基を有する高分子化合物は、下層中に10〜99質量%の割合で含まれることが耐刷性向上の観点から好ましく、20〜95質量%がより好ましい。
下層中に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物を10〜99質量%の割合で含有することにより、上層の高分子化合物との相互作用に起因すると推測される耐刷性の向上の点で好ましい。
The polymer compound having a phenolic hydroxyl group used in the present invention is preferably contained in the lower layer in a proportion of 10 to 99% by mass from the viewpoint of improving printing durability, and more preferably 20 to 95% by mass.
By containing the polymer compound having a phenolic hydroxyl group in a proportion of 10 to 99% by mass in the lower layer, it is preferable in terms of improving printing durability presumed to be caused by the interaction with the upper layer polymer compound. .

〔上層に用いる高分子化合物(ビニル系共重合体)〕
本発明において、上層に用いる高分子化合物(以下、特定ビニル系共重合体ともいう。)は(A)スチレンと(B)アルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを共重合性成分として少なくとも有する高分子化合物を含有することを特徴とする。
また、(C)(メタ)アクリロニトリルを共重合成分として有することが耐傷性・耐薬品性向上の点から好ましい。
[High molecular compound used in the upper layer (vinyl copolymer)]
In the present invention, the polymer compound used for the upper layer (hereinafter also referred to as a specific vinyl copolymer) is a high compound having at least (A) styrene and (B) a polymerizable monomer having an alkylene oxide group as a copolymerizable component. It contains a molecular compound.
Further, (C) (meth) acrylonitrile is preferably used as a copolymerization component from the viewpoint of improving scratch resistance and chemical resistance.

前記(B)アルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーにおけるアルキレンとしては、耐傷性・耐薬品性・現像性が向上する点で、炭素数2〜10が好ましく、炭素数2〜4がより好ましい。   The alkylene in the polymerizable monomer (B) having an alkylene oxide group preferably has 2 to 10 carbon atoms, and more preferably 2 to 4 carbon atoms in terms of improving scratch resistance, chemical resistance, and developability.

更に、前記(B)アルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーのうち、下記のエチレンオキサイド基を有する重合性モノマーである一般式(II)で表される化合物が好ましい。   Furthermore, the compound represented by general formula (II) which is a polymerizable monomer having the following ethylene oxide group among the polymerizable monomers having the (B) alkylene oxide group is preferable.

Figure 0004709104
Figure 0004709104

一般式(II)中、Rは水素原子又はメチル基を表す。またRは水素原子、炭素数1から6までのアルキル基又はフェニル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。またnは1から100までの整数を表し、好ましくは1〜30である。
このようなビニルモノマーの例としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、を挙げることができる。
In general formula (II), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. N 1 represents an integer of 1 to 100, preferably 1-30.
Examples of such vinyl monomers include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, polyethylene glycol methacrylate, and polyethylene glycol methyl ether methacrylate.

前記特定ビニル系共重合体の(B)成分は、該当する2種類以上の成分を構成単位としても良い。
また、特定ビニル系共重合体は、上述の構成単位(A)、(B)、(C)以外の別の構成単位を有する共重合体でもよい。共重合成分としては、これらの構成単位と共重合しうるモノマーであれば特に指定はなく、アクリル基やメタクリル基を持つ各種の化合物を挙げることができる。
The component (B) of the specific vinyl copolymer may have two or more corresponding components as structural units.
The specific vinyl copolymer may be a copolymer having another structural unit other than the above-described structural units (A), (B), and (C). The copolymer component is not particularly specified as long as it is a monomer that can be copolymerized with these structural units, and examples thereof include various compounds having an acrylic group or a methacryl group.

本発明に使用できる好適なビニル共重合体としては、例えば、(1)スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメタクリレート、(2)スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、(3)スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、(4)スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]トリメチルアンモニウムクロライド、(5)スチレン/ポリエチレングリコールメタクリレート、(6)スチレン/ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリエチレングリコールメタクリレートを挙げることができる。   Examples of suitable vinyl copolymers that can be used in the present invention include (1) styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol methacrylate, (2) styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol methyl ether methacrylate, and (3) styrene / acrylonitrile / 2-hydroxy. Ethyl methacrylate / polyethylene glycol methyl ether methacrylate, (4) styrene / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate / [2- (methacryloyloxy) ethyl] trimethylammonium chloride, (5) styrene / polyethylene glycol methacrylate, (6) styrene / hydroxy Mention may be made of ethyl methacrylate / polyethylene glycol methacrylate.

前記特定ビニル系共重合体における構成成分のモル%は、耐刷性と現像性の両立の観点から、(A)は10〜95モル%、(B)は5〜90モル%であることが好ましく、(A)は20〜90モル%、(B)は10〜80モル%がより好ましい。
(A)を10〜95モル%、(B)を5〜90モル%含有することにより、耐刷性と現像性とが両立することができる。
The mol% of the constituent components in the specific vinyl copolymer is 10 to 95 mol% and (B) 5 to 90 mol% from the viewpoint of achieving both printing durability and developability. Preferably, (A) is 20 to 90 mol%, and (B) is more preferably 10 to 80 mol%.
By containing 10 to 95 mol% of (A) and 5 to 90 mol% of (B), both printing durability and developability can be achieved.

また、更に(C)を構成成分として含む場合は、(A)は10〜95モル%、(B)は5〜90モル%、(C)は1〜50モル%であることが好ましく、(A)は20〜90モル%、(B)は10〜80モル%、(C)は5〜35モル%であることがより好ましい。
前記特定ビニル系共重合体における構成成分のモル比率(モル%)を、(A)は10〜95モル%、(B)は5〜90モル%、(C)は1〜50モル%とすることにより、耐薬品性及び強度に優れたビニル共重合体とすることができ、用いて作成される平版印刷版原版の耐薬品性、耐傷性に優れたものとすることができる。
Further, when (C) is further included as a constituent component, (A) is preferably 10 to 95 mol%, (B) is preferably 5 to 90 mol%, and (C) is preferably 1 to 50 mol%, More preferably, A) is 20 to 90 mol%, (B) is 10 to 80 mol%, and (C) is 5 to 35 mol%.
The molar ratio (mol%) of the constituent components in the specific vinyl copolymer is (A) 10 to 95 mol%, (B) 5 to 90 mol%, and (C) 1 to 50 mol%. Thus, a vinyl copolymer having excellent chemical resistance and strength can be obtained, and the lithographic printing plate precursor prepared by using it can be excellent in chemical resistance and scratch resistance.

また、特定ビニル系共重合体の重量平均分子量としては、強度及び耐薬品性の観点から、1,000以上が好ましく、1,000〜500,000がより好ましい。   Further, the weight average molecular weight of the specific vinyl copolymer is preferably 1,000 or more, and more preferably 1,000 to 500,000, from the viewpoint of strength and chemical resistance.

本発明で用いる特定ビニル系共重合体は、上層中に10〜99質量%の割合で含まれることが耐薬品性や強度の点で好ましく、単独で用いられる場合は、50〜99質量%が特に好ましい。また、上層中に前記特定ビニル系共重合体を10〜50質量%の割合で含む場合は、前記特定ビニル系共重合体以外の他の高分子化合物を併用することが好ましい。   The specific vinyl copolymer used in the present invention is preferably contained in the upper layer in a proportion of 10 to 99% by mass in terms of chemical resistance and strength, and when used alone, it is 50 to 99% by mass. Particularly preferred. Moreover, when the said specific vinyl type copolymer is included in the ratio of 10-50 mass% in an upper layer, it is preferable to use together other high molecular compounds other than the said specific vinyl type copolymer.

〔他の高分子化合物〕
本発明における下層、上層には、前述の高分子化合物以外に、他の高分子化合物を併用することができ、併用する他の高分子化合物は1種類でも2種類以上でもよい。また、前記下層、上層に他の高分子化合物を用いる場合、それぞれ異なる他の高分子化合物であることが好ましい。
ここでは、これらの高分子化合物について記載する。
本発明で用いることができる他の高分子化合物は、アルカリ性水溶液に可溶もしくは膨潤性の高分子化合物であることが好ましい。このような高分子化合物としては、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有する高分子化合物を挙げることができる。
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SONH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SONHCOR、−SONHSOR、−CONHSOR〕
(4)カルボン酸基(−COH)
(5)スルホン酸基(−SOH)
(6)リン酸基(−OPO
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する他の高分子化合物としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
[Other polymer compounds]
In the lower layer and the upper layer in the present invention, in addition to the above-described polymer compound, another polymer compound can be used in combination, and the other polymer compound used in combination may be one type or two or more types. Moreover, when using another high molecular compound for the said lower layer and upper layer, it is preferable that it is another different high molecular compound, respectively.
Here, these polymer compounds are described.
The other polymer compound that can be used in the present invention is preferably a polymer compound that is soluble or swellable in an alkaline aqueous solution. Examples of such a polymer compound include polymer compounds having the acidic groups listed in the following (1) to (6) in the main chain and / or side chain of the polymer.
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)
In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent.
Examples of the other polymer compound having an acidic group selected from the above (1) to (6) include the following.

(1)フェノール基を有する高分子化合物としては、ノボラック樹脂、キシレノール樹脂、レゾール樹脂等が挙げられ、具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂、1,2−キシレノール、1,3−キシレノール、1,4−キシレノール、1,5−キシレノール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール樹脂、キシレノール/フェノール混合樹脂、キシレノール/ノボラック混合樹脂、キシレノール/ノボラック/フェノール混合樹脂、およびピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。また、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた高分子化合物を挙げることもでき、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等を共重合成分とした高分子化合物が挙げられる。   (1) Examples of the polymer compound having a phenol group include novolak resins, xylenol resins, and resole resins. Specifically, phenol formaldehyde resins, m-cresol formaldehyde resins, p-cresol formaldehyde resins, m− / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / p-mixed, m- / o-mixed and o- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, 1,2-xylenol, 1,3-xylenol, 1,4-xylenol, 1,5-xylenol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3, 4-xylenol, 3,5-xylenol resin, xylenol / phenol mixed resin, Shirenoru / novolac mixed resin, may be mentioned xylenol / novolak / phenol mixed resin, and the condensation polymer of pyrogallol and acetone. In addition, a polymer compound obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be mentioned, and acrylamide, methacrylamide, acrylic ester or methacrylic ester having a phenol group, hydroxystyrene or the like is used as a copolymer component. High molecular compounds.

(2)スルホンアミド基を有する高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子の化合物が好ましく、例えば、下記式(i)〜式(v)で表される化合物が挙げられる。   (2) Examples of the polymer compound having a sulfonamide group include a polymer composed of a minimum structural unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main structural unit. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among these, low molecular weight compounds having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule are preferable. For example, the following formulas (i) to (v ).

Figure 0004709104
Figure 0004709104

(式中、X、Xは、それぞれ独立に−O−または−NRを表す。R、Rは、それぞれ独立に水素原子又は−CHを表す。R、R、R、R12、及び、R16は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R、R、及び、R13は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R、R17は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CHを表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合又は炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y、Yは、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。上記アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としてはアルキル基である。) (In the formula, X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7. R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3. R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each independently represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and R 3 , R 7 and R 13 each independently represent Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and R 6 and R 17 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group or an aryl group. R 8 , R 10 and R 14 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 , R 11 and R 15 each independently represents a single bond or an alkylene having 1 to 12 carbon atoms. Group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group Y 1 and Y 2 each independently represents a single bond or CO. The above alkylene group, cycloalkylene group, arylene group, aralkylene group, alkyl group, cycloalkyl The group, aryl group, or aralkyl group may have a substituent, and a preferred substituent is an alkyl group.)

式(i)〜式(v)で表される化合物のうち、本発明の重層感材型印刷版原版では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by formulas (i) to (v), in the multilayer sensitive material type printing plate precursor of the present invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有する高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) As a high molecular compound which has an active imide group, the polymer which makes the minimum structural unit derived from the compound which has an active imide group the main structural unit can be mentioned, for example. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 0004709104
Figure 0004709104

具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有する高分子化合物としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。本発明の重層感材型印刷版原版では、特に、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸を好適に使用することができる。 (4) As a high molecular compound having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is a main structural unit. A polymer can be mentioned. Acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and itaconic acid can be particularly preferably used in the multilayer sensitive material type printing plate precursor of the present invention.

(5)スルホン酸基を有する高分子化合物としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。 (5) As a high molecular compound having a sulfonic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one sulfonic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main structural unit. A polymer can be mentioned.

(6)リン酸基を有する高分子化合物としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。 (6) As a high molecular compound having a phosphoric acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphoric acid group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main structural unit. A polymer can be mentioned.

上述以外にも、(1)〜(6)の酸性基を側鎖に有し、連結基として尿素結合を有する不飽和化合物を用いた重合体も使用可能である。   In addition to the above, a polymer using an unsaturated compound having an acidic group of (1) to (6) in the side chain and a urea bond as a linking group can also be used.

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する高分子化合物の中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基、(3)活性イミド基および(4)カルボン酸基を有する高分子化合物が好ましく、特に、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基または(4)カルボン酸基を有する高分子化合物が、最も好ましい。   Among the polymer compounds having an acidic group selected from (1) to (6) above, (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group, (3) an active imide group, and (4) a carboxylic acid group Molecular compounds are preferred, and in particular, a polymer compound having (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group or (4) a carboxylic acid group is most preferred.

また前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、または異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。
高分子化合物が共重合体である場合は、共重合させる(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に3モル%以上含まれているものが好ましく、5モル%以上含まれているものがより好ましい。3モル%未満であると、実質的に溶剤を含まないアルカリ性現像液への溶解性が低下してしまう。
Moreover, the minimum structural unit having an acidic group selected from the above (1) to (6) is not particularly limited to one kind, and two or more minimum structural units having the same acidic group are used, or different acidic groups are used. What copolymerized 2 or more types of the minimum structural unit which has can also be used.
In the case where the polymer compound is a copolymer, it is preferable that a compound having an acidic group selected from (1) to (6) to be copolymerized is contained in an amount of 3 mol% or more in the copolymer. % Is more preferable. If it is less than 3 mol%, the solubility in an alkaline developer containing substantially no solvent will decrease.

前記酸性基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、例えば、下記(m1)〜(m11)に挙げるモノマーを用いることができるが、これらに限定されるものではない。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
As the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having an acidic group, for example, monomers listed in the following (m1) to (m11) can be used, but are not limited thereto.
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.

(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.

(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.

本発明において他の高分子化合物は、異なる2種以上の他の高分子化合物を併用しても良い。   In the present invention, other polymer compounds may be used in combination with two or more different polymer compounds.

以上例示した他の高分子化合物のうち、下層で併用することができる他の高分子化合物としては、スルホンアミド基および/またはカルボン酸基を有する共重合体であることが好ましく、共重合成分としては、アルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N−フェニルマレイミドをあげることができる。   Among the other polymer compounds exemplified above, the other polymer compound that can be used in the lower layer is preferably a copolymer having a sulfonamide group and / or a carboxylic acid group, Can include alkyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, and N-phenylmaleimide.

また、上層に用いることができる他の高分子化合物としては、ノボラック樹脂、キシレノール樹脂が好適に用いられ、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール樹脂、キシレノール/フェノール混合樹脂、キシレノール/ノボラック混合樹脂、キシレノール/ノボラック/フェノール混合樹脂等をあげることができる。   As other polymer compounds that can be used in the upper layer, novolac resins and xylenol resins are preferably used, such as phenol formaldehyde resins, m-cresol formaldehyde resins, p-cresol formaldehyde resins, m- / p-mixed cresols. Formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / p-mixed, m- / o-mixed and o- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, 2,3-xylenol 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol resin, xylenol / phenol mixed resin, xylenol / novolak mixed resin, xylenol / novolak / phenol mixed Examples thereof include resins.

本発明において、下層に用いるフェノール性水酸基を有する前記高分子化合物がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等のアルデヒドを用いた共縮合型の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。
下層に用いるフェノール性水酸基を有する前記高分子化合物がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等のアルデヒドを用いた共縮合型の樹脂以外の高分子化合物の場合は、重量平均分子量は2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましく、更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
In the present invention, when the polymer compound having a phenolic hydroxyl group used in the lower layer is a cocondensation type resin using an aldehyde such as a phenol formaldehyde resin or a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to 20,000. The number average molecular weight is preferably 200 to 10,000.
When the polymer compound having a phenolic hydroxyl group used in the lower layer is a polymer compound other than a cocondensation resin using an aldehyde such as phenol formaldehyde resin or cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 2,000 or more, several Those having an average molecular weight of 500 or more are preferable, and more preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight). Is 1.1-10.

本発明における他の高分子化合物の添加量としては、上層及び下層のいずれもそれぞれ30〜99質量%、好ましくは50〜99質量%、特に好ましくは65〜99質量%の添加量で用いられる。高分子化合物の添加量が前記の範囲内であると前記上層及び下層感熱層の耐久性が高く、感度が高くなるため好ましい。   As the addition amount of the other polymer compound in the present invention, both the upper layer and the lower layer are used in an addition amount of 30 to 99% by mass, preferably 50 to 99% by mass, particularly preferably 65 to 99% by mass. It is preferable that the addition amount of the polymer compound is within the above range because the upper layer and the lower layer thermosensitive layer have high durability and high sensitivity.

〔赤外線吸収剤〕
本発明の平版印刷版原版は、下層の高い記録感度及び均一性・耐久性のため、下層に赤外線吸収剤を含有する。
赤外線吸収剤としては、公知の種々の顔料や染料等が好適に挙げられる。前記顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。
[Infrared absorber]
The lithographic printing plate precursor according to the invention contains an infrared absorber in the lower layer for high recording sensitivity and uniformity / durability of the lower layer.
As the infrared absorber, known various pigments and dyes are preferably exemplified. Examples of the pigment include a commercially available pigment and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “ Examples thereof include pigments described in "Printing Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984).

前記顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like.

前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこして用いてもよい。該表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   The pigment may be used without being subjected to a surface treatment or may be used after being subjected to a surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (for example, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The surface treatment method is described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Sachibo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). .

前記顔料の粒径としては、0.01〜10μmが好ましく、0.05〜1μmがより好ましく、0.1〜1μmが特に好ましい。前記顔料の粒径が、前記の範囲内にあると塗布液が安定であり、均一な下層(感光層)が得られる。
顔料の粒径は、公知の測定方法を用いて測定することができ、本明細書においては、光学顕微鏡、電子顕微鏡等による観察により粒径を複数測定し、それらの平均値をとったものである。
The particle diameter of the pigment is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 1 μm, and particularly preferably 0.1 to 1 μm. When the particle size of the pigment is within the above range, the coating solution is stable and a uniform lower layer (photosensitive layer) can be obtained.
The particle diameter of the pigment can be measured using a known measurement method. In this specification, a plurality of particle diameters are measured by observation with an optical microscope, an electron microscope, and the like, and an average value thereof is taken. is there.

前記顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。前記分散には、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等の分散機が用いられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. For the dispersion, a disperser such as an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, or a pressure kneader is used. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

前記染料としては、市販の染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。   Examples of the dye include commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970). For example, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes. And dyes such as dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes.

前記顔料、又は染料のうち赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料・染料が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で、特に好ましい。   Among the pigments or dyes, pigments and dyes that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.

前記赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料としては、カーボンブラックが好適に用いられる。   Carbon black is preferably used as the pigment that absorbs the infrared light or near infrared light.

また、前記赤外光、又は近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等の公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
また、前記染料としては、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物、Epolight III−178、EpolightIII−130、Epolight III−125、EpolightV−176A等は特に好ましく用いられる。
また、前記染料として、特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料が挙げられる。
Examples of the dye that absorbs the infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Cyanine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc. -112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Naphthoquinone dyes, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and cyanine dyes described in British Patent 434,875.
Further, as the dye, a near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (described in US Pat. No. 3,881,924) Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranyl compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US Pat. The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 283,475 and the pyrilylation disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Things, Epolight III-178, EpolightIII-130, Epolight III-125, EpolightV-176A or the like is used particularly preferably.
Moreover, as said dye, as another especially preferable example, the near-infrared absorptive dye described as U.S. Pat. No. 4,756,993 as the formulas (I) and (II) can be mentioned.

赤外線吸収剤である前記顔料又は染料の添加量としては、前記下層の全固形分に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。
前記染料の場合には、0.5〜10質量%が特に好ましく、顔料の場合には、3.1〜10質量%が特に好ましい。
前記顔料又は染料の添加量が前記の範囲内にあると高い記録感度が得られ、下層(感光層)の均一性、耐久性が高い点で好ましい。
The amount of the pigment or dye that is an infrared absorber is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content of the lower layer.
In the case of the said dye, 0.5-10 mass% is especially preferable, and in the case of a pigment, 3.1-10 mass% is especially preferable.
When the amount of the pigment or dye added is within the above range, high recording sensitivity can be obtained, and the lower layer (photosensitive layer) is highly uniform and durable.

赤外線吸収剤は、感度向上のため上層に含有させてもよい。その場合の赤外線吸収剤含有量としては、前記上層の全固形分に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜30質量%がより好ましい。   An infrared absorber may be contained in the upper layer for improving sensitivity. In that case, the infrared absorber content is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, based on the total solid content of the upper layer.

〔その他の成分〕
本発明の平版印刷版原版に設けられる層には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
例えば、前記平版印刷版原版に設けられる層の溶解性を調節するために、他のオニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等、添加するとアルカリ水可溶性高分子(アルカリ可溶性樹脂)の現像液への溶解阻止機能を向上させるいわゆる溶解抑止剤を添加することが好ましく、中でも、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性を制御できる点で好ましい。
[Other ingredients]
Various additives can be further added to the layer provided on the lithographic printing plate precursor according to the invention, if necessary.
For example, in order to adjust the solubility of the layer provided on the lithographic printing plate precursor, other onium salts, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, polyfunctional amine compounds, and the like can be added to the alkaline water-soluble polymer. It is preferable to add a so-called dissolution inhibitor that improves the function of preventing dissolution of (alkali-soluble resin) in the developer. Among them, onium salts, o-quinonediazide compounds, sulfonic acid alkyl esters, and the like are thermally decomposable and decomposed. In such a state, it is preferable to use a substance that substantially lowers the solubility of the alkali-soluble resin in terms of controlling the dissolution inhibition of the image area in the developer.

本発明において用いることができるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばS.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。   Preferable examples of onium salts that can be used in the present invention include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, US Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, JP-A-3-140140 Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581, sulfonium salts described in J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び4級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)で示されるジアゾニウム塩や特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また4級アンモニウム塩としては、特開2002−229186号公報に記載の(化1)及び(化2)中の(1)〜(10)に示される4級アンモニウム塩が好ましい。   Among these onium salts, diazonium salts and quaternary ammonium salts are particularly preferable from the viewpoints of dissolution inhibition ability and thermal decomposability. In particular, the diazonium salt is preferably a diazonium salt represented by the general formula (I) described in JP-A-5-158230 or a diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064. The diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064 having a small absorption wavelength in the visible light region is most preferable. Moreover, as a quaternary ammonium salt, the quaternary ammonium salt shown by (1)-(10) in (Chemical Formula 1) and (Chemical Formula 2) of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-229186 is preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いることができるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。
本発明に用いることができるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound that can be used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance.
Examples of the o-quinonediazide compound that can be used in the present invention include J.P. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものをあげることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/または、o−キノンジアジド化合物の添加量は好ましくは前記平版印刷版原版に設けられる各層のそれぞれの全固形分に対し、1〜10質量%、更に好ましくは1〜5質量%、特に好ましくは1〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0.1〜5質量%、更に好ましくは0.1〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。本発明に係る添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。
The addition amount of the onium salt and / or o-quinonediazide compound which is a degradable dissolution inhibitor is preferably 1 to 10% by mass, more preferably based on the total solid content of each layer provided in the lithographic printing plate precursor Is in the range of 1 to 5% by weight, particularly preferably 1 to 2% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass. The additive and binder according to the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

また、本発明の平版印刷版原版には、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、および可塑剤も、本発明においてポジ型記録層として機能する下層、更には所望により上層にも使用することができる。   In the lithographic printing plate precursor according to the invention, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. Further, a surfactant, an image colorant, and a plasticizer, which will be described later, can also be used in the lower layer functioning as a positive recording layer in the present invention, and further in the upper layer if desired.

環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。   Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-4-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used.

フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。   As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 "-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like.

更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、及びカルボン酸類などが挙げられる。   Furthermore, examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942, JP-A-2-96755, and the like. Etc.

上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の平版印刷版原版の前記上層又は下層中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。   The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols, and organic acids in the upper layer or lower layer of the lithographic printing plate precursor is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, Especially preferably, it is 0.1-10 mass%.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び本発明者らが先に提案した特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。   In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group described in JP-A-8-276558, and the inventors previously proposed. A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-11-160860 can be appropriately added depending on the purpose.

また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。
具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Further, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt.
Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

前記画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
これらの染料は、前記上層又は下層の全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で上層又は下層中に添加することができる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the aforementioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.
These dyes can be added to the upper layer or the lower layer in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the upper layer or the lower layer.

更に、本発明の平版印刷版原版には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。
例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
Furthermore, a plasticizer is added to the planographic printing plate precursor according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film.
For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

〔塗布溶剤及び塗布方法〕
本発明の平版印刷版原版は、前述の下層及び上層に含有される高分子化合物及び赤外線吸収剤等の成分を溶媒に溶かした塗布液を調製して、親水性表面を有する支持体上に下層用塗布液、上層用塗布液の順に塗布することにより、前記支持体上に下層、上層を製造形成することができる。
また、目的に応じて、後述する保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
[Coating solvent and coating method]
The lithographic printing plate precursor of the present invention is prepared by preparing a coating solution in which components such as the polymer compound and infrared absorber contained in the lower layer and the upper layer described above are dissolved in a solvent, and forming a lower layer on a support having a hydrophilic surface. The lower layer and the upper layer can be manufactured and formed on the support by applying the coating liquid for coating and the coating liquid for upper layer in this order.
Further, depending on the purpose, a protective layer, a resin intermediate layer, a backcoat layer and the like, which will be described later, can be formed in the same manner.

ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
前記塗布液中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, and the like. It is not limited to. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

また、塗布、乾燥後に得られる支持体上の固形分塗布量は、上層は0.05〜2.0g/m、下層は0.3〜5.0g/mがそれぞれ好ましく、より好ましくは上層は0.1〜1.0g/m、下層は0.5〜3.0g/mの範囲である。また上層と下層との塗布量の比(上層/下層)は、0.05〜1が好ましく、より好ましくは0.1〜0.8の範囲である。 The coating, solid coating amount on the support obtained after drying, the top layer 0.05 to 2.0 g / m 2, the lower layer is preferably each 0.3 to 5.0 g / m 2, more preferably The upper layer is in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 , and the lower layer is in the range of 0.5 to 3.0 g / m 2 . Moreover, 0.05-1 are preferable, and, as for ratio (upper layer / lower layer) of the coating amount of an upper layer and a lower layer, More preferably, it is the range of 0.1-0.8.

前記上下層の各塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。   Various methods can be used as a method for applying the upper and lower layer coating solutions. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll Application etc. can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film deteriorate.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、親水性表面を有するものを用いる。
[Support]
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a support having a hydrophilic surface is used.

支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフイルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフイルム等が挙げられる。   The support is a dimensionally stable plate-like material and is not particularly limited as long as it satisfies physical properties such as necessary strength and flexibility. For example, paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, Paper laminated with polystyrene, etc., metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene) Terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with metal as described above, or vapor-deposited paper, or plastic film.

平版印刷版原版に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。
好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板又は微量の異元素を含むアルミニウムを主成分とした合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。
前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
As a support that can be applied to a lithographic printing plate precursor, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable.
A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate mainly composed of aluminum containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited.
Examples of the different elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass.
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.

このように本発明に適用できるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.12mm〜0.4mmである。   As described above, the composition of the aluminum plate applicable to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.12 mm to 0.4 mm.

アルミニウム板は粗面化し、表面を親水性処理して用いるが、粗面化するに先立ち、所望により表面の圧延油を除去するため、例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。   The aluminum plate is roughened and used with a hydrophilic surface. Prior to the roughening, the surface of the aluminum plate is removed if desired. For example, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed. Done.

アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。
このうち、少なくとも塩酸電解液中で粗面化する工程を含むことが好ましい。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of
As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can also be used.
Among these, it is preferable to include a step of roughening at least in a hydrochloric acid electrolyte.

この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/mより少ないと耐刷性が不充分であったり、平版印刷版原版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface.
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used.
The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable.
When the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate precursor is easily scratched, and ink adheres to the scratched part during printing. The so-called “scratch stain” is likely to occur.

陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。   After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

〔下塗り層〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に先述したような下層を設けたものであるが、必要に応じて支持体と下層との間に下塗り層を設けることができる。
この下塗り層を設けることで、支持体と下層との間の下塗り層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。
また、本発明に係る下層は、この下塗り層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
なお、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である下層自体が下塗り層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられる。
また、露光部においては、溶解抑制能が解除された下層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、さらには、支持体に隣接して存在するこの下塗り層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この下塗り層は有用であると考えられる。
(Undercoat layer)
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a lower layer as described above on a support, but an undercoat layer can be provided between the support and the lower layer as necessary.
By providing this undercoat layer, the undercoat layer between the support and the lower layer functions as a heat insulating layer, and heat generated by the exposure of the infrared laser does not diffuse to the support and is used efficiently. There is an advantage that sensitivity can be improved.
In addition, since the lower layer according to the present invention is located on the exposed surface or in the vicinity thereof even when the undercoat layer is provided, the sensitivity to the infrared laser is favorably maintained.
In the unexposed area, the lower layer itself, which is impermeable to the alkaline developer, functions as a protective layer for the undercoat layer, so that an image with excellent development stability and excellent discrimination is formed. In addition, it is considered that stability over time is also ensured.
In the exposed area, the lower layer component whose dissolution inhibiting ability is released is quickly dissolved and dispersed in the developer, and further, the undercoat layer itself adjacent to the support is made of an alkali-soluble polymer. Therefore, the solubility in the developer is good.For example, even when a developer with reduced activity is used, it dissolves quickly without the formation of a residual film, contributing to the improvement of the developability. This subbing layer is considered useful.

下塗り層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。   Various organic compounds are used as the undercoat layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine Hydroxy groups such as Selected from hydrochloride of the amine to be, but may be used by mixing two or more.

さらに下記式で示される構造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む下塗り層も好ましい。   Furthermore, an undercoat layer containing at least one compound selected from the group of organic polymer compounds having a structural unit represented by the following formula is also preferred.

Figure 0004709104
Figure 0004709104

式中、R11は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−OR14、−COOR15、−CONHR16、−COR17若しくは−CNを表す。尚、R12及びR13が結合して環を形成してもよい。R14〜R17はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、Xは水素原子、金属原子、NR18192021を表し、R18〜R21はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール基を表すか、又はR18及びR19が結合して環を形成してもよく、mは1〜3の整数を表す。 In the formula, R 11 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, -OR 14, -COOR 15, represents a -CONHR 16, -COR 17 or -CN. R 12 and R 13 may combine to form a ring. R 14 to R 17 each independently represents an alkyl group or an aryl group, X represents a hydrogen atom, a metal atom, or NR 18 R 19 R 20 R 21 , and R 18 to R 21 each independently represents a hydrogen atom , An alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, or R 18 and R 19 may be bonded to form a ring, and m represents an integer of 1 to 3.

また、本発明における好適な下塗層成分として、特開2000−241962号公報に記載の酸基を有する構成単位とオニウム基を有する構成単位とを有する高分子化合物を挙げることができる。
具体的には、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。
酸基として好ましいのは酸解離指数(pKa)が7以上の酸基であり、より好ましくは−COOH、−SOH、−OSOH、−PO、―OPO、―CONHSO―、または−SONHSO−であり、特に好ましくは−COOHである。
酸基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、上記酸基を有するスチレンなどが挙げられる。
オニウム基として好ましいのは、周期表V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子から成るオニウム基であり、特に好ましくは窒素原子から成るオニウム基である。オニウム基を有するモノマーの具体例としては、側鎖にアンモニウム基を有するメタクリレート、メタクリルアミド、第4級アンモニウム基などのオニウム基を含む置換基などのオニウム基を含む置換基を有するスチレン等が挙げられる。
さらに、特開2000−108538号公報、特願2002−257484号公報、特願2003−78699号公報、等に記載されているような化合物についても、必要に応じて用いることができる。
Moreover, as a suitable undercoat layer component in the present invention, there can be mentioned a polymer compound having a structural unit having an acid group and a structural unit having an onium group, as described in JP-A No. 2000-241962.
Specific examples include a copolymer of a monomer having an acid group and a monomer having an onium group.
The acid group is preferably an acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or more, more preferably —COOH, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , — CONHSO 2 — or —SO 2 NHSO 2 —, particularly preferably —COOH.
Specific examples of the monomer having an acid group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and styrene having the acid group.
Preferred as the onium group is an onium group composed of Group V or Group VI atoms, more preferably an onium group composed of nitrogen, phosphorus or sulfur atoms, and particularly preferably an onium group composed of nitrogen atoms. It is a group. Specific examples of the monomer having an onium group include styrene having a substituent containing an onium group such as a methacrylate having an ammonium group in the side chain, a methacrylamide, a substituent containing an onium group such as a quaternary ammonium group, and the like. It is done.
Furthermore, compounds described in JP-A No. 2000-108538, Japanese Patent Application No. 2002-257484, Japanese Patent Application No. 2003-78699, and the like can be used as necessary.

これらの下塗り層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける方法である。   These undercoat layers can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washed and dried with water or the like to provide an undercoat layer.

前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。
また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。
また、下塗り層には画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods.
In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid.
In addition, a yellow dye can be added to the undercoat layer in order to improve the tone reproducibility of the image recording material.

下塗り層の被覆量は、2〜200mg/mが適当であり、好ましくは5〜100mg/mである。上記の被覆量が2mg/mよりも少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、200mg/mより大きくても同様である。 The coating amount of the undercoat layer, 2 to 200 mg / m 2 are suitable, and preferably from 5 to 100 mg / m 2. If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same applies greater than 200 mg / m 2.

〔露光〕
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、波長700〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光により画像形成される。
熱記録ヘッド等による直接画像様記録、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いることもできる。
赤外線レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましく、平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜500mJ/cmであることが好ましい。
〔exposure〕
The planographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by heat. Specifically, an image is formed by exposure with a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm.
Direct image-like recording by a thermal recording head or the like, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure can also be used.
The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec, and the energy applied to the lithographic printing plate precursor is preferably 10 to 500 mJ / cm 2 .

〔現像〕
本発明においては、平版印刷版原版は、実質的に有機溶剤を含まないpH12以上のアルカリ性水溶液で現像されることが好ましい。ここで「実質的に有機溶剤を含まない」とは、環境衛生、安全性、作業性等の観点からみて不都合を生じる程度までは有機溶剤を含有しない、の意味であるが、本発明においては現像液中の有機溶剤の割合が0.5重量%以下であることをいい、好ましくは0.3重量%以下、全く含有しないのが最も好ましい。またpHは12.0以上であるが、より好ましくは12.0〜14.0である。
〔developing〕
In the present invention, the lithographic printing plate precursor is preferably developed with an alkaline aqueous solution having a pH of 12 or higher that does not substantially contain an organic solvent. Here, “substantially free of organic solvent” means that it does not contain an organic solvent to the extent of causing inconvenience in terms of environmental health, safety, workability, etc. The ratio of the organic solvent in the developer is 0.5% by weight or less, preferably 0.3% by weight or less, and most preferably not contained at all. Moreover, although pH is 12.0 or more, More preferably, it is 12.0-14.0.

現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、いわゆる「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液で、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base, or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. Another more preferable developer, which is an aqueous solution called “silicate developer” having a pH of 12 or more, does not contain an alkali silicate, and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Silicate developer ".

前記シリケート現像液においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiOとアルカリ金属酸化物MOの比率(一般に〔SiO〕/〔MO〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO/NaOのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO〕/〔NaO〕が1.0〜1.5)であって、SiOの含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO〕/〔MO〕が1.0〜1.5)であって、SiOの濃度が1〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the silicate developer, the aqueous solution of alkali metal silicate is a ratio of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O (generally [SiO 2 ] / [M 2 O], which is a component of silicate). The developability can be adjusted by adjusting the density and the density. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O is 1.0 to 1. 5 (ie, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4% by mass, or Japanese Patent Publication No. 57-7427. [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (that is, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5) , the concentration of SiO 2 is from 1 to 4 wt%, and the developing solution is present therein That total alkali metal based on the gram atoms containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」の場合、pHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖を含有することが好ましい。
非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。
In the case of a so-called “non-silicate developer” that does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base, it is preferable to contain a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH.
Non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducibility, trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded, and glycosides in which reducing groups of saccharides are combined with non-saccharides. , And sugar alcohols reduced by hydrogenation of sugars, any of which can be used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なpH領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。
これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記の含有量が0.1〜30質量%の範囲内であると、適切な緩衝作用が得られ、また高濃縮化及び原価低減の点で好ましい。
Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit, allozulcit and the like. . Further, maltitol hydrogenated to disaccharide maltose, reduced form obtained by hydrogenation of oligosaccharide (reduced water candy), and the like are preferable. Among these non-reducing sugars, trehalose-type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose, reduced syrup, etc. are preferable in that they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.
These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more.
The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass. When the content is in the range of 0.1 to 30% by mass, an appropriate buffer action is obtained, and it is preferable in terms of high concentration and cost reduction.

また、前記非還元糖と組合せて用いられる塩基としては、従来より公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。
有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。
前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。
Examples of the base used in combination with the non-reducing sugar include conventionally known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents. Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, Examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate.
Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanol. Examples include amine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine.
The said base may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. In the present invention, as the non-silicate developer, a non-reducing sugar alkali metal salt as a main component can be used instead of the non-reducing sugar and the base.

また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergmon Press 社発行のIonization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution 等に記載されているものから選択できる。
具体的には、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール−1、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(、ピリジン−4−アルデヒド(等のアルデヒド類、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、3,4−ジヒドロキシスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール、o−、m−,p−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物、アセトキシム、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類、アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質、その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。
In addition, an alkaline buffer composed of a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developer. The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and can be selected from, for example, those described in Ionization Constants of Organic Acids Solution issued by Pergmon Press.
Specifically, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1, trifluoroethanol, and trichloroethanol, pyridine-2-aldehyde (, aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (such as salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, catechol, gallic acid, sulfosalicylic acid, 3,4-dihydroxysulfonic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, hydroquinone (11.56), pyrogallol, o-, m-, p -Compounds having a phenolic hydroxyl group such as cresol, resorsonol, oximes such as acetoxime, 2-hydroxybenzaldehyde oxime, dimethylglyoxime, ethanediamide dioxime, acetophenone oxime, adenosine, inosine, guanine, cytosine, hypoxanthine, chitosan Nucleic acid-related substances such as Nchin, other, diethylaminomethyl acid, benzimidazole, and the like barbituric acid is preferably exemplified.

前記現像液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散または、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。   Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as necessary for the purpose of promoting or suppressing developability, dispersing development residue, or improving ink affinity of the printing plate image area. As the surfactant, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants are preferable. Furthermore, in the developer, if necessary, a reducing agent such as sodium salt or potassium salt of inorganic acid such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, or bisulfite, and further organic carboxylic acid, antifoaming agent, water softener, etc. Can be added.

前記現像液を用いて現像処理された平版印刷版原版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。前記画像形成材料を印刷版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えた現像液を用いることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
上記現像液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
The lithographic printing plate precursor developed using the developer is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinse solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As the post-treatment when the image forming material is used as a printing plate, these treatments can be used in various combinations.
Further, when developing using an automatic developing machine, the developer in the developing tank is replaced for a long time by using a developer obtained by adding an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developer to the developer. It is known that a large amount of PS plate can be processed without any problems. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.
The printing plate developed with the developer is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. The processing liquid is sprayed from the spray nozzle and developed. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明の平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版原版に不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, an image portion unnecessary for the lithographic printing plate precursor obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, film edge trace of the original film). Etc.), the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版原版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版原版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版原版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版原版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版原版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate precursor obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired, but if it is desired to make a lithographic printing plate precursor with a higher printing durability, A burning process is performed if desired.
When burning a lithographic printing plate precursor, it is described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 before burning. It is preferable to treat with a surface conditioning liquid.
As a method thereof, a method of applying the lithographic printing plate precursor with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, or immersing and applying the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate precursor coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版原版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様な処理によって得られた平版印刷版原版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The lithographic printing plate precursor that has been burned can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. In such a case, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate precursor obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

[実施例1]
−赤外線レーザ感光性平版印刷原版−
<合成例1:特定ビニル系共重合体(1)の合成>
500ccの3つ口フラスコに、80gのアセトンと80gのトルエンを入れ軽く混ぜ、そこに9.4gのスチレン、1.6gのアクリロニトリル、28.8gのポリエチレングリコールメタクリレート(ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均20)、および0.3gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを投入し、窒素還流下で撹拌しながら60℃に加熱し6時間反応させた。そのまま0.3gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを追加で投入し、さらに60℃で6時間反応させた。その後室温まで冷却し、目的の共重合体を得た。重量平均分子量は3万であった。なおこの共重合体は、溶液の状態で感光性平版印刷版の作成に用いた。
[Example 1]
-Infrared laser photosensitive lithographic printing plate-
<Synthesis Example 1: Synthesis of Specific Vinyl Copolymer (1)>
In a 500 cc three-necked flask, 80 g of acetone and 80 g of toluene were mixed and lightly mixed, and then 9.4 g of styrene, 1.6 g of acrylonitrile, 28.8 g of polyethylene glycol methacrylate (the average number of polyethylene glycol repeating units was 20). ), And 0.3 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile were added, heated to 60 ° C. with stirring under nitrogen reflux, and reacted for 6 hours. As it was, 0.3 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was additionally added, and the mixture was further reacted at 60 ° C. for 6 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature to obtain the desired copolymer. The weight average molecular weight was 30,000. This copolymer was used for preparing a photosensitive lithographic printing plate in the form of a solution.

(支持体の作製)
厚さ0.3mmのJIS−A−1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
上述のアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
次に温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸濃度7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。また、電流密度は電流のピーク値で25A/dm、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で450C/dmであった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(Production of support)
The support body was produced by processing through the process shown below using a JIS-A-1050 aluminum plate with a thickness of 0.3 mm.
The above aluminum plate was sprayed with an aqueous NaOH solution (concentration: 26 mass%, aluminum ion concentration: 6.5 mass%) at a temperature of 70 ° C., and the aluminum plate was dissolved at 6 g / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.
Next, a desmut treatment was performed by spraying with an aqueous solution of nitric acid having a concentration of 1% by mass (containing 0.5% by mass of aluminum ions) at a temperature of 30 ° C., and then washed with water using well water.
An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid concentration of 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type. The current density was 25 A / dm 2 at the current peak value, and the amount of electricity was 450 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.

上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
続いて、温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
次いで陽極酸化処理を行った。電解液は、硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。また、電流密度はともに約30A/dmであった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/mであった。
更にその後、0.5%のポリビニルホスホン酸水溶液を60℃に加熱した液に、陽極酸化処理したアルミニウム板を5秒間浸漬し、スプレーにて水洗した。以上のようにして、感光性平版印刷版用の支持体Aを得た。
The aluminum plate obtained above was etched by spraying at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, the aluminum plate was dissolved at 0.10 g / m 2, and the previous stage AC was used. Thus, the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during the electrochemical surface roughening treatment was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.
Subsequently, desmutting treatment was performed by spraying with an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 25% by mass (containing 0.5% by mass of aluminum ions) at a temperature of 60 ° C., followed by washing with water using well water.
Subsequently, anodizing treatment was performed. The electrolytic solution had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a temperature of 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water. Both current densities were about 30 A / dm 2 . The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .
Further, an anodized aluminum plate was immersed for 5 seconds in a solution obtained by heating a 0.5% polyvinylphosphonic acid aqueous solution to 60 ° C., and washed with water by spraying. Thus, a support A for a photosensitive lithographic printing plate was obtained.

(平版印刷版原版の作製)
上記で得られた支持体の親水性表面上に、下記組成の下層用塗布液Aをワイヤーバーで塗布したのち、140℃に設定した乾燥用オーブンで50秒間乾燥して下層を形成した。乾燥後の塗布量は1.2g/mであった。
(Preparation of lithographic printing plate precursor)
On the hydrophilic surface of the support obtained above, a lower layer coating solution A having the following composition was coated with a wire bar, and then dried in a drying oven set at 140 ° C. for 50 seconds to form a lower layer. The coating amount after drying was 1.2 g / m 2 .

<下層用塗布液A>
・m−クレゾール/p−クレゾール=60/40(モル比)のノボラック樹脂1
(重量平均分子量8,000) 0.80g
・シアニン染料P(下記構造) 0.15g
・エチルバイオレット 0.05g
・F−780−F(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤) 0.05g
・メチルエチルケトン 5.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.00g
・γ−ブチロラクトン 10.00g
<Coating liquid A for lower layer>
-Novolak resin 1 with m-cresol / p-cresol = 60/40 (molar ratio)
(Weight average molecular weight 8,000) 0.80g
・ Cyanine dye P (the following structure) 0.15g
・ Ethyl violet 0.05g
F-780-F (Dainippon Ink & Chemicals, Inc. fluorine-based surfactant) 0.05 g
・ Methyl ethyl ketone 5.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.00g
・ Γ-Butyrolactone 10.00g

Figure 0004709104
Figure 0004709104

<上層用塗布液B>
・合成例1により得られた特定ビニル系共重合体(1)(スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメタクリレート=60/20/20(モル比)、ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均20、重量平均分子量 3万)の溶液 2.00g
・シアニン染料P(前記構造) 0.05g
・F−780−F(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤) 0.05g
・メチルエチルケトン 10.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.00g
<Upper layer coating solution B>
-Specific vinyl copolymer (1) obtained in Synthesis Example 1 (styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol methacrylate = 60/20/20 (molar ratio)), polyethylene glycol repeating units average 20 and weight average molecular weight 30,000 ) Solution 2.00g
・ Cyanine dye P (the above structure) 0.05 g
F-780-F (Dainippon Ink & Chemicals, Inc. fluorine-based surfactant) 0.05 g
・ Methyl ethyl ketone 10.00g
1-methoxy-2-propanol 10.00g

上記のようにして得られた下層の上に、下記組成の上層用塗布液Bをカーテンコーターで塗布したのち、130℃に設定した乾燥用オーブンで60秒間乾燥して上層を形成し、感光性平版印刷版原版1を得た。乾燥後の塗布量は0.4g/mであった。 On the lower layer obtained as described above, an upper layer coating solution B having the following composition was coated with a curtain coater, and then dried in a drying oven set at 130 ° C. for 60 seconds to form an upper layer. A lithographic printing plate precursor 1 was obtained. The coating amount after drying was 0.4 g / m 2 .

[実施例2]
実施例1の上層塗布液Bにおいて、特定ビニル系共重合体(1)の代わりに、合成例1と同様にして合成した特定ビニル系共重合体(2)を用いた以外は、実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版2を得た。
上記特定ビニル系共重合体(2)は、実施例1の特定ビニル系共重合体(1)の合成方法と同様の方法で合成した。この特定ビニル系共重合体(2)は、スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート=60/30/10(モル比)、重量平均分子量は10,000であった。また、ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均12のものを使用した。
[Example 2]
Example 1 except that in the upper layer coating solution B of Example 1, the specific vinyl copolymer (2) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used instead of the specific vinyl copolymer (1). In the same manner as described above, a photosensitive lithographic printing plate precursor 2 was obtained.
The specific vinyl copolymer (2) was synthesized by the same method as the method for synthesizing the specific vinyl copolymer (1) of Example 1. This specific vinyl copolymer (2) had a styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol methyl ether methacrylate = 60/30/10 (molar ratio) and a weight average molecular weight of 10,000. The average number of polyethylene glycol repeating units was 12.

[実施例3]
実施例1の上層塗布液Bにおいて、特定ビニル系共重合体(1)の代わりに、合成例1と同様にして合成した特定ビニル系共重合体(5)を用いた以外は、実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版3を得た。
上記特定ビニル系共重合体(5)は、実施例1の特定ビニル系共重合体(1)の合成方法と同様の方法で合成した。この特定ビニル系共重合体(5)は、スチレン/ポリエチレングリコールメタクリレート=80/20(モル比)、重量平均分子量は20,000であった。また、ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均12のものを使用した。
[Example 3]
Example 1 except that in the upper layer coating solution B of Example 1, the specific vinyl copolymer (5) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used instead of the specific vinyl copolymer (1). In the same manner as above, a photosensitive lithographic printing plate precursor 3 was obtained.
The specific vinyl copolymer (5) was synthesized by the same method as the method for synthesizing the specific vinyl copolymer (1) of Example 1. The specific vinyl copolymer (5) had a styrene / polyethylene glycol methacrylate = 80/20 (molar ratio) and a weight average molecular weight of 20,000. The average number of polyethylene glycol repeating units was 12.

[実施例4]
実施例1の上層塗布液Bにおいて、特定ビニル系共重合体(1)の代わりに、合成例1と同様にして合成した特定ビニル系共重合体(3)を用いた以外は、実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版4を得た。
この特定ビニル系共重合体(3)は、スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート=40/40/10/10(モル比)で仕込み、得られたビニル系共重合体(3)の重量平均分子量は20,000であった。また、ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均12のものを使用した。
[Example 4]
Example 1 except that in the upper layer coating solution B of Example 1, the specific vinyl copolymer (3) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used instead of the specific vinyl copolymer (1). In the same manner as above, a photosensitive lithographic printing plate precursor 4 was obtained.
This specific vinyl copolymer (3) was charged with styrene / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate / polyethylene glycol methyl ether methacrylate = 40/40/10/10 (molar ratio), and the resulting vinyl copolymer was obtained. The weight average molecular weight of (3) was 20,000. The average number of polyethylene glycol repeating units was 12.

[実施例5]
実施例1の上層塗布液Bにおいて、特定ビニル系共重合体(1)の代わりに、合成例1と同様にして合成した特定ビニル系共重合体(4)を用いた以外は、実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版5を得た。
この特定ビニル系共重合体(4)は、スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]トリメチルアンモニウムクロライド=20/60/15/5(モル比)で仕込み、得られた特定ビニル系共重合体(4)の重量平均分子量は50,000であった。
[Example 5]
Example 1 except that the specific vinyl copolymer (4) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used in place of the specific vinyl copolymer (1) in the upper layer coating solution B of Example 1. In the same manner as described above, a photosensitive lithographic printing plate precursor 5 was obtained.
This specific vinyl copolymer (4) was prepared by charging with styrene / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate / [2- (methacryloyloxy) ethyl] trimethylammonium chloride = 20/60/15/5 (molar ratio). The specific vinyl copolymer (4) thus obtained had a weight average molecular weight of 50,000.

[実施例6]
実施例1の上層塗布液Bにおいて、特定ビニル系共重合体(1)の量を1.50gにし、さらにフェノール/m−クレゾール/p−クレゾール=50/30/20(モル比)のノボラック樹脂2(重量平均分子量6,000)を0.2g使用した以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版6を得た。
[Example 6]
In the upper layer coating solution B of Example 1, the amount of the specific vinyl copolymer (1) is 1.50 g, and further a novolak resin of phenol / m-cresol / p-cresol = 50/30/20 (molar ratio). A photosensitive lithographic printing plate precursor 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.2 g of 2 (weight average molecular weight 6,000) was used.

[実施例7]
実施例1の下層塗布液Aにおいて、ノボラック樹脂1の量を0.40gにし、さらにN−フェニルマレイミド/メタクリルアミド/メタクリル酸=45/35/20(モル比)の共重合体(重量平均分子量50,000)を0.40g使用した以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版7を得た。
[Example 7]
In the lower layer coating solution A of Example 1, the amount of the novolak resin 1 was 0.40 g, and a copolymer of N-phenylmaleimide / methacrylamide / methacrylic acid = 45/35/20 (molar ratio) (weight average molecular weight) 50,000) was used in the same manner as in Example 1 except that 0.40 g was used to obtain a photosensitive lithographic printing plate precursor 7.

[実施例8]
実施例1の下層塗布液Aにおいて、ノボラック樹脂1の量を0.30gにし、さらにN−フェニルマレイミド/メタクリルアミド/メタクリル酸=45/35/20(モル比)の共重合体(重量平均分子量50,000)を0.20g、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/メタクリル酸メチル/アクリルアミド=35/35/30(モル比)の共重合体(重量平均分子量80,000)を0.30g、それぞれ使用した以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版8を得た。
[Example 8]
In the lower layer coating solution A of Example 1, the amount of the novolak resin 1 was 0.30 g, and a copolymer of N-phenylmaleimide / methacrylamide / methacrylic acid = 45/35/20 (molar ratio) (weight average molecular weight) 50,000) 0.20 g, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / methyl methacrylate / acrylamide = 35/35/30 (molar ratio) copolymer (weight average molecular weight 80,000) 0 A photosensitive lithographic printing plate precursor 8 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 30 g was used.

[比較例1]
実施例1の上層塗布液Bにおいて、特定ビニル系共重合体(1)の代わりに、高分子化合物として実施例6記載のノボラック樹脂2を使用した以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版9を得た。
[Comparative Example 1]
In the upper layer coating solution B of Example 1, the same procedure as in Example 1 except that the novolak resin 2 described in Example 6 was used as the polymer compound instead of the specific vinyl copolymer (1). A printing plate precursor 9 was obtained.

[比較例2]
実施例1の下層塗布液Aにおいて、ノボラック樹脂1のかわりに、N−フェニルマレイミド/メタクリルアミド/メタクリル酸=45/35/20(モル比)の共重合体(重量平均分子量50,000)を使用した以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版10を得た。
[Comparative Example 2]
In the lower layer coating liquid A of Example 1, instead of the novolak resin 1, a copolymer (weight average molecular weight 50,000) of N-phenylmaleimide / methacrylamide / methacrylic acid = 45/35/20 (molar ratio) was used. A photosensitive lithographic printing plate precursor 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used.

[比較例3]
実施例1の下層塗布液Aにおいて、ノボラック樹脂1のかわりに、N−フェニルマレイミド/メタクリルアミド/メタクリル酸=45/35/20(モル比)の共重合体(重量平均分子量50,000)を使用し、さらに上層塗布液Bの特定ビニル系共重合体(1)のかわりに、高分子化合物として実施例6記載のノボラック樹脂2を使用した以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版11を得た。
[Comparative Example 3]
In the lower layer coating liquid A of Example 1, instead of the novolak resin 1, a copolymer (weight average molecular weight 50,000) of N-phenylmaleimide / methacrylamide / methacrylic acid = 45/35/20 (molar ratio) was used. In the same manner as in Example 1 except that the novolak resin 2 described in Example 6 was used as the polymer compound instead of the specific vinyl copolymer (1) in the upper layer coating solution B. A plate original 11 was obtained.

[感光性平版印刷版原版の評価]
〔耐刷性・耐薬品性の評価〕
上記で得られた感光性平版印刷版原版1〜11を、Creo社製Trendsetter3244にて、ビーム強度10.0W、ドラム回転速度250rpmの条件で、175lpi/2400dpiの網点面積率1〜99%のチャートが入ったテストパタ−ンの画像状に描き込み(露光)を行った。
次に、富士写真フイルム(株)製PSプロセッサーLP−940HIIを用い、現像液温を30℃、現像時間12秒で現像処理およびガム引き処理を行うことで、平版印刷版を得た。このとき、現像液としては富士写真フイルム(株)製現像液DT−2を水で1:8に希釈した液(pH=13.2、有機溶剤含有率0%、以下「現像液1」という。)を、またガム液としては、富士写真フイルム(株)製FG−1を水で1:1に希釈した液を用いた。
[Evaluation of photosensitive lithographic printing plate precursor]
[Evaluation of printing durability and chemical resistance]
The photosensitive lithographic printing plate precursors 1 to 11 obtained above were subjected to a Trendsetter 3244 manufactured by Creo Corporation under conditions of a beam intensity of 10.0 W and a drum rotation speed of 250 rpm, and a dot area ratio of 175 lpi / 2400 dpi of 1 to 99%. Drawing (exposure) was performed on an image of a test pattern containing a chart.
Next, using a PS processor LP-940HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., a lithographic printing plate was obtained by performing a developing process and a gumming process at a developer temperature of 30 ° C. and a developing time of 12 seconds. At this time, as a developer, a solution obtained by diluting a developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. 1: 8 with water (pH = 13.2, organic solvent content 0%, hereinafter referred to as “Developer 1”) As a gum solution, a solution obtained by diluting FG-1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. with water to 1: 1 was used.

このようにして得られた平版印刷版を用いて印刷を行なった。このとき、印刷機としては小森コーポレーション(株)製のリスロン印刷機を、インキとしては大日本インキ化学工業(株)製のバリウスGの墨インキを、湿し水としては富士写真フイルム(株)製のIF−102を水で4%の濃度に希釈した液を、それぞれ用い、また5000枚印刷するごとに、画像の一部を富士写真フイルム(株)製マルチクリーナーで版面を拭くことを行った。上質紙に印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性(クリーナーで版面を拭かなかった部分)、及び耐薬品性(クリーナーで版面を拭いた部分)を評価した。数値が大きいほど耐刷性、耐薬品性が良好であることを意味する。結果を表1に示す。   Printing was performed using the lithographic printing plate thus obtained. At this time, Lilithon printing machine manufactured by Komori Corporation was used as the printing machine, Varius G ink ink manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. as the ink, and Fuji Photo Film Co., Ltd. as the dampening water. Using IF-102 made by diluting IF-102 made with water to a concentration of 4%, and each time 5000 sheets were printed, part of the image was wiped with a multi-cleaner made by Fuji Photo Film Co., Ltd. It was. Depending on the number of copies printed when printing on high-quality paper and the solid image density began to fade, the printing durability (the part where the plate surface was not wiped with a cleaner) and chemical resistance (the plate surface was wiped with a cleaner) Were evaluated. Larger values mean better printing durability and chemical resistance. The results are shown in Table 1.

〔耐傷性の評価〕
得られた感光性平版印刷版原版1〜11を、TOYOSEIKI社製ロータリーアブレーションテスターを用い、250g重の荷重を加えたアブレーザーフェルトCS5で15回転摩擦した。
次にこの版を、現像液として上述の現像液1を用い、それ以外は上述の耐薬品性・耐刷性の評価と同じ方法で、現像処理を行った。
このようにして得られた版について、摩擦をかけた部分とかけていない部分をそれぞれマクベス社製濃度計で版面の濃度を測定し、その差の絶対値を算出した。結果を表1に示す。値が大きいほど摩擦による版面のダメージが大きかったことを意味する。
[Evaluation of scratch resistance]
The obtained photosensitive lithographic printing plate precursors 1 to 11 were rubbed 15 times with Abrazer felt CS5 to which a load of 250 g weight was applied using a rotary ablation tester manufactured by TOYOSEIKI.
Next, this plate was developed by the same method as the above-described evaluation of chemical resistance and printing durability, except that the above-described developer 1 was used as a developer.
For the plate thus obtained, the density of the plate surface was measured with a Macbeth densitometer on the part subjected to friction and the part not subjected to friction, and the absolute value of the difference was calculated. The results are shown in Table 1. The larger the value, the greater the damage to the plate due to friction.

Figure 0004709104
Figure 0004709104

表1に示すように、実施例1〜8の感光性平版印刷版原版において、耐刷性、耐薬品性の値は大きく、また耐傷性の値は小さいことから、いずれの特性も良好であることを示している。一方、比較例9〜11の感光性平版印刷版原版において、耐刷性、耐薬品性の値は小さく、また耐傷性の値は大きいことからいずれの特性も劣っていることを示している。
以上の実施例に示したように、耐刷性、耐薬品性と耐傷性のいずれにも優れた感光性平版印刷版原版を得ることが出来る。
As shown in Table 1, in the photosensitive lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 8, the printing durability and chemical resistance are large, and the scratch resistance is small, so all the characteristics are good. It is shown that. On the other hand, in the photosensitive lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 9 to 11, the printing durability and chemical resistance are small, and the scratch resistance is large, indicating that both properties are inferior.
As shown in the above examples, a photosensitive lithographic printing plate precursor having excellent printing durability, chemical resistance and scratch resistance can be obtained.

Claims (2)

親水性表面を有する支持体上に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物と赤外線吸収剤とを含有する下層と、(A)スチレンと(B)アルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを共重合性成分として少なくとも有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に設けたことを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。   On a support having a hydrophilic surface, a lower layer containing a polymer compound having a phenolic hydroxyl group and an infrared absorber, and (A) a styrene and (B) a polymerizable monomer having an alkylene oxide group are copolymerizable. A photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, comprising an upper layer containing at least a polymer compound as a component in this order. 前記上層に含有される高分子化合物が共重合性成分として更に(C)(メタ)アクリロニトリルを有することを特徴とする請求項1に記載の赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。 The photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser according to claim 1, wherein the polymer compound contained in the upper layer further has (C) (meth) acrylonitrile as a copolymerizable component.
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