JP2008076516A - Lithographic printing plate precursor - Google Patents

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Yuichi Shiraishi
裕一 白石
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive lithographic printing plate precursor for an infrared laser having excellent film forming property and film strength, high sensitivity, excellent developability and printing durability. <P>SOLUTION: The photosensitive lithographic printing plate precursor for an infrared laser has a recording layer containing a high molecular compound having a phenolic hydroxyl group, an infrared absorbent, a quaternary salt compound of a nitrogen-containing heterocycle and a vinyl copolymer having a polymerizable monomer having styrene and an ethylene oxide group as a constituent unit on a surface of a support having hydrophilicity. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は平版印刷版原版に関し、詳細には、コンピュータ等から出力されたデジタル信号に基づいて赤外線レーザ光を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な感光性平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a photosensitive lithographic printing plate precursor capable of direct plate making by scanning with an infrared laser beam based on a digital signal output from a computer or the like.

近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる様になっている。コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。   In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer.

赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須成分とし、IR染料等が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。   The positive type lithographic printing plate material for infrared laser has an alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an IR dye that absorbs light and generates heat as an essential component. In the unexposed part (image part), Acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin through interaction with the binder resin. In the exposed area (non-image area), the interaction between the IR dye and the binder resin is weakened by the generated heat, resulting in an alkali. A lithographic printing plate is formed by dissolving in a developer.

ポジ型平版印刷版材料におけるアルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂としては、ノボラック樹脂等のフェノール性水酸基を有する高分子化合物が好適に用いられる。しかしながら、ノボラック樹脂等を用いたポジ型平版印刷版原版の記録層においては、皮膜形成性及び皮膜強度の点で不充分な場合があり改善が望まれていた。
皮膜強度を向上することを目的に、光熱変換物質及びアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性組成物に、更にポリアクリル酸を併用した例が示されている(例えば、特許文献1参照)が、感光層の更なる高感度化を考慮すると、皮膜強度の更なる改善が望まれる。
As the alkaline aqueous solution-soluble binder resin in the positive planographic printing plate material, a polymer compound having a phenolic hydroxyl group such as a novolak resin is preferably used. However, the recording layer of a positive lithographic printing plate precursor using a novolak resin or the like may be insufficient in terms of film forming properties and film strength, and an improvement has been desired.
For the purpose of improving the film strength, an example in which polyacrylic acid is further used in combination with a positive photosensitive composition containing a photothermal conversion substance and an alkali-soluble resin is shown (for example, see Patent Document 1). Considering further enhancement of the sensitivity of the photosensitive layer, further improvement of the film strength is desired.

また、光熱変換物質及びノボラック樹脂を含有するポジ型感光性組成物に、更にメタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体を併用した例も示されている(例えば、特許文献2参照)が、感度を維持しつつ皮膜強度を向上する点で未だ不充分なレベルである。
さらに、ポリビニルアルコールをベースとしたポリビニルアセタールは、機械的性質、フィルム形成特性に優れ、耐磨耗性が非常に良好であり、耐薬品性が良好であることが知られている。そこでこのようなポリビニルアセタールを用いた感光性記録材料の例が示されている(例えば、特許文献3参照)が、感度が低くまた現像性が不十分であり、改良が望まれていた。
特開平10−282643号公報 特開2001−324808公報 特表2003−530581公報
Moreover, an example in which methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer is further used in combination with a positive photosensitive composition containing a photothermal conversion substance and a novolak resin is also shown (for example, see Patent Document 2). However, it is still inadequate in terms of improving film strength while maintaining sensitivity.
Furthermore, polyvinyl acetal based on polyvinyl alcohol is known to have excellent mechanical properties and film forming properties, very good wear resistance, and good chemical resistance. Thus, an example of a photosensitive recording material using such polyvinyl acetal is shown (for example, see Patent Document 3). However, the sensitivity is low and the developability is insufficient, and improvement has been desired.
JP-A-10-282463 JP 2001-324808 A Special table 2003-530581 gazette

従って、本発明の目的は、優れた皮膜形成性及び皮膜強度を有し、高感度でかつ現像性、耐刷性に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser having excellent film forming properties and film strength, high sensitivity, and excellent developability and printing durability.

本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、ある一定の条件を満たした化合物を含有し、さらに特定の構成成分よりなるビニル系共重合体を含有する記録層を設けた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版により、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに到った。
本発明はすなわち、親水性を有する支持体の表面に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物、赤外線吸収剤、含窒素複素環の4級塩化合物、及びスチレンとエチレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを構成単位として有するビニル系共重合体、を含有する記録層を備える、赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版である。
なお、スチレンとエチレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを構成単位として有するビニル系共重合体を形成した場合、該エチレンオキサイド基はビニル系共重合体の側鎖に位置することとなる。
As a result of extensive research, the present inventor has developed a photosensitive lithographic plate for infrared lasers, which includes a compound satisfying a certain condition and further includes a recording layer containing a vinyl copolymer comprising a specific constituent component. It has been found that the above problems can be solved by using a printing plate precursor, and the present invention has been completed.
That is, the present invention includes a polymer compound having a phenolic hydroxyl group, an infrared absorber, a nitrogen-containing heterocyclic quaternary salt compound, and a polymerizable monomer having a styrene and ethylene oxide group on the surface of a hydrophilic support. A photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, comprising a recording layer containing a vinyl copolymer having as a structural unit.
When a vinyl copolymer having styrene and a polymerizable monomer having an ethylene oxide group as a structural unit is formed, the ethylene oxide group is located in the side chain of the vinyl copolymer.

本発明の作用は明確ではないが、以下のように推定される。即ち、本発明においては記録層にビニル系共重合体を用いることで、該高分子化合物により優れた被膜形成性と被膜強度とが得られ、さらに、フェノール性水酸基を有する高分子化合物と含窒素4級塩化合物とを併用することで、ビニル系共重合体とこれらの成分とがそれぞれ互いに相互作用を形成することで未露光部におけるさらなる被膜強度の向上が達成され、結果として優れた耐刷性が得られるものと考えられる。また、露光部においては、これらの相互作用が速やかに解除されると、含窒素4級塩化合物やビニル共重合体中に含まれるエチレンオキサイド基に起因して優れた現像性が得られるものと考えている。   Although the operation of the present invention is not clear, it is estimated as follows. That is, in the present invention, by using a vinyl copolymer in the recording layer, excellent film forming properties and film strength can be obtained by the polymer compound, and further, a polymer compound having a phenolic hydroxyl group and a nitrogen-containing compound can be obtained. By using a quaternary salt compound in combination, the vinyl copolymer and these components interact with each other to achieve further improvement in film strength in the unexposed areas, resulting in excellent printing durability. It is thought that sex is obtained. In the exposed area, when these interactions are quickly released, excellent developability can be obtained due to the ethylene oxide group contained in the nitrogen-containing quaternary salt compound or vinyl copolymer. thinking.

本発明により、優れた皮膜形成性及び皮膜強度を有し、高感度で画像形成ができ、かつ現像性、耐刷性に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, there can be provided a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser which has excellent film forming properties and film strength, can form an image with high sensitivity, and is excellent in developability and printing durability.

本発明の赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版は、親水性を有する支持体の表面に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物、赤外線吸収剤、含窒素複素環の4級塩化合物、及びスチレンとエチレンオキサイド基を有する重合性モノマーを構成単位として有するビニル系共重合体、を含有する記録層を備える赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版である。
以下に、各項目について順次説明する。
The photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser of the present invention comprises a polymer compound having a phenolic hydroxyl group, an infrared absorbent, a nitrogen-containing heterocyclic quaternary salt compound, and styrene on the surface of a hydrophilic support. A photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, comprising a recording layer containing a vinyl copolymer having a polymerizable monomer having an ethylene oxide group as a constituent unit.
Below, each item is demonstrated one by one.

〔ビニル系共重合体〕
本発明において記録層に用いるビニル系共重合体は、スチレンとエチレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを構成単位として有する重合体であることを特徴とする。
ここで、エチレンオキサイド基を有する重合性モノマーは、次の一般式(I)で表される。
[Vinyl copolymer]
The vinyl copolymer used for the recording layer in the present invention is a polymer having styrene and a polymerizable monomer having an ethylene oxide group as structural units.
Here, the polymerizable monomer having an ethylene oxide group is represented by the following general formula (I).

Figure 2008076516
Figure 2008076516

一般式(I)中、Rは水素原子又はメチル基を表す。Rは水素原子、炭素数1から6までのアルキル基又はフェニル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。
は1から1000までの整数を表す。
アルキル基、フェニル基はさらに置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としてはハロゲン、アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基が挙げられる。
In general formula (I), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
n 1 represents an integer of 1 to 1000.
The alkyl group and the phenyl group may further have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a halogen, an alkyl group, a hydroxy group, and a hydroxyalkyl group.

このようなビニルモノマーの例としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、を挙げることができる。   Examples of such vinyl monomers include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, polyethylene glycol methacrylate, and polyethylene glycol methyl ether methacrylate.

ビニル系共重合体におけるスチレンモノマー及びエチレンオキサイド基を有するモノマーの含有量は、スチレンモノマーが10〜95質量%、エチレンオキサイド基を有する重合性モノマーが5〜75質量%であることが好ましい。より好ましくはスチレンモノマーが20〜90質量%、エチレンオキサイド基を有する重合性モノマーが10〜60質量%である。   The content of the styrene monomer and the monomer having an ethylene oxide group in the vinyl copolymer is preferably 10 to 95% by mass for the styrene monomer and 5 to 75% by mass for the polymerizable monomer having the ethylene oxide group. More preferably, the styrene monomer is 20 to 90% by mass, and the polymerizable monomer having an ethylene oxide group is 10 to 60% by mass.

ビニル系共重合体は、さらに別の構成単位を有することが好ましい。共重合成分としては、これらの構成単位と共重合しうるモノマーであれば特に制限はなく、アクリル基やメタクリル基を持つ各種の化合物をあげることができる。中でもアクリロニトリル、メタクリロニトリルは好適に用いられる。   It is preferable that the vinyl copolymer further has another structural unit. The copolymer component is not particularly limited as long as it is a monomer that can be copolymerized with these structural units, and various compounds having an acrylic group or a methacryl group can be exemplified. Of these, acrylonitrile and methacrylonitrile are preferably used.

またビニル系共重合体の重量平均分子量は、1,000以上が好ましく、1,000〜500,000がより好ましい。
ビニル系共重合体の含有量は、記録層全量に対して5〜70質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜50質量%である。
The weight average molecular weight of the vinyl copolymer is preferably 1,000 or more, more preferably 1,000 to 500,000.
The content of the vinyl copolymer is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 10 to 50% by mass with respect to the total amount of the recording layer.

本発明に使用できるビニル系共重合体としては、例えば、(1)スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート、(2)スチレン/アクリロニトリル/2−メトキシエチルメタクリレート、(3)スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメタクリレート、(4)スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、(5) スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリエチレングリコールメタクリレート、(6)スチレン/ポリエチレングリコールメタクリレートなどを挙げることができる。   Examples of vinyl copolymers that can be used in the present invention include (1) styrene / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate, (2) styrene / acrylonitrile / 2-methoxyethyl methacrylate, and (3) styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol. Examples include methacrylate, (4) styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol methyl ether methacrylate, (5) styrene / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate / polyethylene glycol methacrylate, and (6) styrene / polyethylene glycol methacrylate.

このうち、(3)スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメタクリレートの合成例を以下に示す。
(合成例1)
500ccの3つ口フラスコに、80gのアセトンと80gのトルエンを入れ軽く混ぜ、そこに18gのスチレン、20gのアクリロニトリル、2gのポリエチレングリコールメタクリレート(エチレングリコール鎖の繰り返し単位は平均50)、および0.25gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを投入し、窒素還流下で撹拌しながら60℃に加熱し6時間反応させた。そのまま0.3gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを追加で投入し、さらに60℃で6時間反応させた。その後室温まで冷却し、目的の共重合体を得た。重量平均分子量は6万であった。なおこの共重合体は、溶液の状態で感光性平版印刷版原版の作成に用いた。
上述した他の共重合体(1)〜(6)についても、合成例1に準じた方法で合成することができる。
Among these, the synthesis example of (3) styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol methacrylate is shown below.
(Synthesis Example 1)
In a 500 cc three-necked flask, add 80 g of acetone and 80 g of toluene, and mix lightly. 18 g of styrene, 20 g of acrylonitrile, 2 g of polyethylene glycol methacrylate (average repeat unit of ethylene glycol chain is 50), and 0. 25 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added, and the mixture was heated to 60 ° C. with stirring under nitrogen reflux and reacted for 6 hours. As it was, 0.3 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was additionally added, and the mixture was further reacted at 60 ° C. for 6 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature to obtain the desired copolymer. The weight average molecular weight was 60,000. This copolymer was used for preparing a photosensitive lithographic printing plate precursor in the form of a solution.
Other copolymers (1) to (6) described above can also be synthesized by a method according to Synthesis Example 1.

〔フェノール性水酸基を有する高分子化合物〕
フェノール系水酸基を有する高分子化合物としては、公知のノボラック樹脂、キシレノール樹脂、レゾール樹脂等が使用できる。具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール樹脂、キシレノール/フェノール混合樹脂、キシレノール/ノボラック混合樹脂、キシレノール/ノボラック/フェノール混合樹脂、およびピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。また、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた高分子化合物を挙げることもでき、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等を共重合成分とした高分子化合物が挙げられる。
これらフェノール性水酸基を有する高分子化合物は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
[Polymer compound having phenolic hydroxyl group]
As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group, known novolak resins, xylenol resins, resol resins and the like can be used. Specifically, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / p-mixed) , M- / o-mixed and o- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4 Examples thereof include xylenol, 3,5-xylenol resin, xylenol / phenol mixed resin, xylenol / novolak mixed resin, xylenol / novolak / phenol mixed resin, and polycondensation polymer of pyrogallol and acetone. In addition, a polymer compound obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be mentioned, and acrylamide, methacrylamide, acrylic ester or methacrylic ester having a phenol group, hydroxystyrene or the like is used as a copolymer component. High molecular compounds.
These polymer compounds having a phenolic hydroxyl group may be used alone or in admixture of two or more.

これらのうち好ましくは、ノボラック樹脂であり、中でもフェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール混合ホルムアルデヒド樹脂、が好ましい。   Of these, preferred are novolak resins, and among them, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, and phenol / cresol mixed formaldehyde resin are preferable.

ノボラック樹脂の重量平均分子量は500〜20,000であり、より好ましくは1,000〜15,000である。
ノボラック樹脂の含有量は、記録層全量に対して20〜95質量%であることが好ましく、30〜90質量%であることがより好ましい。
The novolak resin has a weight average molecular weight of 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000.
The content of the novolak resin is preferably 20 to 95% by mass and more preferably 30 to 90% by mass with respect to the total amount of the recording layer.

〔含窒素複素環の4級塩化合物〕
本発明において用いる、含窒素複素環の4級塩化合物は、含窒素複素環の4級カチオンと、有機もしくは無機のアニオンとの組み合わせより構成される。
有機カチオンとしては、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロロリジニウムカチオンを例示することができ、好ましくは、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオンである。
またアニオンとしては、メチルスルホン酸塩、トリフルオロメチルスルホン酸塩、臭化物、塩化物、硝酸塩、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、メチル硫酸塩、を例示することができ、好ましくはテトラフルオロボレートである。テトラフルオロボレートは融点を低くする傾向があるからである。
[Quaternary salt compound of nitrogen-containing heterocycle]
The nitrogen-containing heterocyclic quaternary salt compound used in the present invention is composed of a combination of a nitrogen-containing heterocyclic quaternary cation and an organic or inorganic anion.
Examples of the organic cation include an imidazolium cation, a pyridinium cation, and a pyrrolidinium cation, and preferably an imidazolium cation and a pyridinium cation.
Examples of the anion include methyl sulfonate, trifluoromethyl sulfonate, bromide, chloride, nitrate, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, and methyl sulfate, preferably tetrafluoroborate. . This is because tetrafluoroborate tends to lower the melting point.

このようなオニウム塩としては、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムブロマイド、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムニトレート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメチルスルホネート、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムブロマイド、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムクロライド、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムニトレート、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムブロマイド、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムニトレート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムブロマイド、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムニトレート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムブロマイド、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムニトレート、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムブロマイド、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムクロライド、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムニトレート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1−ブチル−4−メチルピリジニウムブロマイド、1−ブチル−4−メチルピリジニウムクロライド、1−ブチル−4−メチルピリジニウムニトレート、1−ブチル−4−メチルピリジニウムテトラフルオロボレート、1−ブチル−4−メチルピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムメチルサルフェート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムメチルスルホネート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド、等を例示することができる。   Examples of such onium salts include 1-ethyl-3-methylimidazolium bromide, 1-ethyl-3-methylimidazolium chloride, 1-ethyl-3-methylimidazolium nitrate, 1-ethyl-3-methylimidazole. Rium tetrafluoroborate, 1-ethyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethylsulfonate, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium bromide, 1-ethyl-2 , 3-Dimethylimidazolium chloride, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium nitrate, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium tetrafluoroborate, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium hexafluoro Phosphate, 1 Butyl-3-methylimidazolium bromide, 1-butyl-3-methylimidazolium chloride, 1-butyl-3-methylimidazolium nitrate, 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-butyl-3 -Methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-hexyl-3-methylimidazolium bromide, 1-hexyl-3-methylimidazolium chloride, 1-hexyl-3-methylimidazolium nitrate, 1-hexyl-3-methylimidazole Rium tetrafluoroborate, 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-octyl-3-methylimidazolium bromide, 1-octyl-3-methylimidazolium chloride, 1-octyl-3-methyl Imidazolium nitrate, 1-octyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-octyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-methyl-3-octylimidazolium bromide, 1-methyl-3-octylimidazo Lithium chloride, 1-methyl-3-octylimidazolium nitrate, 1-methyl-3-octylimidazolium tetrafluoroborate, 1-methyl-3-octylimidazolium hexafluorophosphate, 1-butyl-4-methylpyridinium bromide 1-butyl-4-methylpyridinium chloride, 1-butyl-4-methylpyridinium nitrate, 1-butyl-4-methylpyridinium tetrafluoroborate, 1-butyl-4-methylpyridinium hex Examples include safluorophosphate, 1-butyl-3-methylimidazolium methyl sulfate, 1-butyl-3-methylimidazolium methylsulfonate, 1-butyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, and the like. be able to.

本発明において用いることができる含窒素複素環の4級塩化合物の融点は80℃以下であり、更に好ましくは融点50℃以下である。融点が低い4級塩化合物を使用すると、現像性が向上するという利点以外に、カス析出の懸念がない、相溶性が向上する、という利点がある。   The melting point of the quaternary salt compound of nitrogen-containing heterocyclic ring that can be used in the present invention is 80 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower. When a quaternary salt compound having a low melting point is used, there are advantages that there is no concern about residue precipitation and compatibility is improved in addition to the advantage that developability is improved.

本発明の含窒素複素環の4級塩化合物の含有量は、記録層全量に対して0.1〜20質量%であることが好ましく、0.5〜15質量%であることがより好ましい。これらの範囲内であると、現像性及び相溶性が良好となる。   The content of the quaternary salt compound of the nitrogen-containing heterocyclic ring of the present invention is preferably from 0.1 to 20% by mass, more preferably from 0.5 to 15% by mass, based on the total amount of the recording layer. Within these ranges, developability and compatibility are improved.

〔他の高分子化合物〕
本発明には、前述の高分子化合物以外にも他の高分子化合物を併用することができる。ここでは、これらの高分子化合物について記載する。
本発明で併用する高分子化合物は、アルカリ性水溶液に可溶もしくは膨潤性の高分子化合物であることが好ましい。このような高分子化合物としては、下記(a)〜(e)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有する高分子化合物を挙げることができる。
(a)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(b)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(c)カルボン酸基(−CO2H)
(d)スルホン酸基(−SO3H)
(e)リン酸基(−OPO32
[Other polymer compounds]
In the present invention, in addition to the above-described polymer compounds, other polymer compounds can be used in combination. Here, these polymer compounds are described.
The polymer compound used in combination in the present invention is preferably a polymer compound that is soluble or swellable in an alkaline aqueous solution. Examples of such a polymer compound include polymer compounds having the acidic groups listed in the following (a) to (e) in the main chain and / or side chain of the polymer.
(A) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(B) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(C) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(D) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(E) Phosphate group (-OPO 3 H 2 )

上記(a)、(b)中、Rは水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を表す。
上記(a)〜(e)より選ばれる酸性基を有する高分子化合物としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
In the above (a) and (b), R represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group.
Examples of the polymer compound having an acidic group selected from the above (a) to (e) include the following.

(a)スルホンアミド基を有する高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記式(i)〜(v)で表される化合物が挙げられる。   (A) As a high molecular compound which has a sulfonamide group, the polymer comprised by making the minimum structural unit derived from the compound which has a sulfonamide group into a main structural unit can be mentioned, for example. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule is preferable. For example, in the following formulas (i) to (v) And the compounds represented.

Figure 2008076516
Figure 2008076516

(式(i)〜(v)中、X1 およびX2 は、それぞれ独立に−O−又は−NR7 を表す。R1 およびR4 は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3 を表す。
2 、R5 、R9 、R12 、及び、R16 は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基およびアラルキレン基はさらに置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、ハロゲン、アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基が挙げられる。
3 、R7 、及び、R13 は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。アルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基はさらに置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としてはハロゲン、アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基が挙げられる。
6およびR17は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。アルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基はさらに置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としてはハロゲン、アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基が挙げられる。
8、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。
11、R15は、それぞれ独立に単結合、炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基およびアラルキレン基はさらに置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としてはハロゲン、アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基が挙げられる。
1、Y2は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。)
(In formulas (i) to (v), X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7. R 1 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 .
R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each independently represent an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. The alkylene group, cycloalkylene group, arylene group and aralkylene group may further have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a halogen, an alkyl group, a hydroxy group, and a hydroxyalkyl group.
R 3 , R 7 and R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. The alkyl group, cycloalkyl group, aryl group and aralkyl group may further have a substituent, and examples of the substituent which can be introduced include a halogen, an alkyl group, a hydroxy group and a hydroxyalkyl group.
R 6 and R 17 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. The alkyl group, cycloalkyl group, aryl group and aralkyl group may further have a substituent, and examples of the substituent which can be introduced include a halogen, an alkyl group, a hydroxy group and a hydroxyalkyl group.
R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 .
R 11 and R 15 each independently represents a single bond, an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. The alkylene group, cycloalkylene group, arylene group and aralkylene group may further have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a halogen, an alkyl group, a hydroxy group, and a hydroxyalkyl group.
Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO. )

式(i)〜(v)で表される化合物のうち、本発明の感光性平版印刷版原版では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by formulas (i) to (v), in the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (P-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(b)活性イミド基を有する高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (B) As a high molecular compound which has an active imide group, the polymer which makes the minimum structural unit derived from the compound which has an active imide group the main structural unit can be mentioned, for example. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 2008076516
Figure 2008076516

具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(c)カルボン酸基を有する高分子化合物としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。本発明の感光性平版印刷版原版では、特に、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸を好適に使用することができる。   (C) As a high molecular compound having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main structural unit. A polymer can be mentioned. In the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and itaconic acid can be preferably used.

(d)スルホン酸基を有する高分子化合物としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。   (D) As a high molecular compound having a sulfonic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having one or more sulfonic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule is used as a main structural unit. A polymer can be mentioned.

(e)リン酸基を有する高分子化合物としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。   (E) As a high molecular compound having a phosphoric acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphoric acid group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main structural unit. A polymer can be mentioned.

上述以外にも、(a)〜(e)の酸性基を側鎖に有し、連結基として尿素結合を有する不飽和化合物を用いた重合体も使用可能である。
上記(a)〜(e)より選ばれる酸性基を有する高分子化合物の中でも、(a)スルホンアミド基、(b)活性イミド基および(c)カルボン酸基を有する高分子化合物が好ましく、特に、(a)スルホンアミド基または(c)カルボン酸基を有する高分子化合物が、最も好ましい。
In addition to the above, a polymer using an unsaturated compound having an acidic group (a) to (e) in the side chain and a urea bond as a linking group can also be used.
Among the polymer compounds having an acidic group selected from the above (a) to (e), (a) a polymer compound having a sulfonamide group, (b) an active imide group and (c) a carboxylic acid group is preferable. The polymer compound having (a) a sulfonamide group or (c) a carboxylic acid group is most preferred.

また前記(a)〜(e)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2以上、または異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。
高分子化合物が共重合体である場合は、共重合させる(a)〜(e)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に3モル%以上含まれているものが好ましく、5モル%以上含まれているものがより好ましい。3モル以上とすることで、アルカリ現像液への溶解性を高めることができる。
Further, the minimum structural unit having an acidic group selected from the above (a) to (e) is not particularly limited to one kind, and the minimum structural unit having the same acidic group is two or more, or has different acidic groups. What copolymerized 2 or more types of minimum structural units can also be used.
In the case where the polymer compound is a copolymer, it is preferable that a compound having an acidic group selected from (a) to (e) to be copolymerized is contained in an amount of 3 mol% or more. % Is more preferable. By setting it as 3 mol or more, the solubility to an alkali developing solution can be improved.

前記酸性基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、例えば、下記(m1)〜(m11)に挙げるモノマーを用いることができるが、これらに限定されるものではない。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
As the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having an acidic group, for example, monomers listed in the following (m1) to (m11) can be used, but are not limited thereto.
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.

(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.

(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.

本発明における高分子化合物は、単独で又は併用して用いてもよく、異なる2種以上の高分子化合物を併用してもよい。
本発明の感光性平版印刷版原版の記録層は、積層構造とすることも可能である。
記録層を積層構造とした場合の下層に用いる高分子化合物としては、スルホンアミド基および/またはカルボン酸基を有する共重合体であることが好ましく、共重合成分としては、アルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N−フェニルマレイミドをあげることができる。
The polymer compound in the present invention may be used alone or in combination, and two or more different polymer compounds may be used in combination.
The recording layer of the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention may have a laminated structure.
The polymer compound used in the lower layer when the recording layer has a laminated structure is preferably a copolymer having a sulfonamide group and / or a carboxylic acid group, and the copolymer component includes alkyl (meth) acrylate, (Meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, N-phenylmaleimide can be mentioned.

また、ノボラック樹脂も好適に用いられ、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂、が好ましい。   Also, novolak resins are preferably used, such as phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, m Any of-/ p-mixing, m- / o-mixing and o- / p-mixing.) Mixed formaldehyde resins are preferred.

また、積層構造の上層に用いる高分子化合物としては、ノボラック樹脂、キシレノール樹脂が好適に用いられ、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール樹脂、キシレノール/フェノール混合樹脂、キシレノール/ノボラック混合樹脂、キシレノール/ノボラック/フェノール混合樹脂等をあげることができる。   In addition, novolak resin and xylenol resin are preferably used as the polymer compound used in the upper layer of the laminated structure, and phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m / p-mixed cresol formaldehyde resin. Phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / p-mixed, m- / o-mixed and o- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, 2,3-xylenol, 2 , 4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol resin, xylenol / phenol mixed resin, xylenol / novolak mixed resin, xylenol / novolak / phenol mixed resin, etc. Can give.

高分子化合物がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。より好ましくは重量平均分子量が1,000〜15,000であり、数平均分子量が500〜8,000である。   When the polymer compound is a novolak resin such as a phenol formaldehyde resin or a cresol formaldehyde resin, a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000 are preferred. More preferably, the weight average molecular weight is 1,000 to 15,000, and the number average molecular weight is 500 to 8,000.

フェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂以外の高分子化合物の場合は、重量平均分子量は2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましく、更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。   In the case of polymer compounds other than novolak resins such as phenol formaldehyde resin and cresol formaldehyde resin, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more are preferable, and more preferably, the weight average molecular weight is 5, 000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.

高分子化合物(フェノール性水酸基を有する高分子化合物および他の高分子化合物の全量)の含有量としては、記録層全量に対して30〜99質量%であり、好ましくは50〜99質量%、特に好ましくは65〜99質量%である。高分子化合物の含有量が前記の範囲内であると、感熱層の耐久性が高く感度が良好となる。   The content of the polymer compound (the total amount of the polymer compound having a phenolic hydroxyl group and other polymer compounds) is 30 to 99% by mass, preferably 50 to 99% by mass, particularly with respect to the total amount of the recording layer. Preferably it is 65-99 mass%. When the content of the polymer compound is within the above range, the heat-sensitive layer has high durability and good sensitivity.

〔赤外線吸収剤〕
赤外線吸収剤としては、公知の種々の顔料や染料等が好適に挙げられる。前記顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。
前記顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。
[Infrared absorber]
As the infrared absorber, known various pigments and dyes are preferably exemplified. Examples of the pigment include a commercially available pigment and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “ Examples thereof include pigments described in "Printing Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984).
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like.

前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこして用いてもよい。該表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   The pigment may be used without being subjected to a surface treatment or may be used after being subjected to a surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (for example, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The surface treatment method is described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Sachibo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). .

前記顔料の粒径としては、0.01〜10μmが好ましく、0.05〜1μmがより好ましく、0.1〜1μmが特に好ましい。前記顔料の粒径が、前記の範囲内にあると塗布液が安定であり、均一な記録層が得られる。
前記顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。前記分散には、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等の分散機が用いられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
The particle diameter of the pigment is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 1 μm, and particularly preferably 0.1 to 1 μm. When the particle size of the pigment is within the above range, the coating solution is stable and a uniform recording layer can be obtained.
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. For the dispersion, a disperser such as an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, or a pressure kneader is used. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

前記染料としては、市販の染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。前記顔料、又は染料のうち赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料・染料が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で、特に好ましい。   Examples of the dye include commercially available dyes and known dyes described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970), such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azos. And dyes such as dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among the pigments or dyes, pigments and dyes that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.

前記赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料としては、カーボンブラックが好適に用いられる。また、前記赤外光、又は近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
また、前記染料としては、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物、EpolightIII−178、EpolightIII−130、Epolight III−125、EpolightV−176A等は特に好ましく用いられる。
Carbon black is preferably used as the pigment that absorbs the infrared light or near infrared light. Examples of the dye that absorbs the infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Cyanine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, methine dyes described in JP-A-58-112793, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples thereof include squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and cyanine dyes described in British Patent 434,875.
Further, as the dye, a near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (described in US Pat. No. 3,881,924) Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranyl compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US Pat. The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 283,475 and the pyrilylation disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Things, EpolightIII-178, EpolightIII-130, Epolight III-125, EpolightV-176A or the like is used particularly preferably.

また、前記染料として、特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料が挙げられる。   Moreover, as said dye, as another especially preferable example, the near-infrared absorptive dye described as U.S. Pat. No. 4,756,993 as the formulas (I) and (II) can be mentioned.

前記顔料又は染料の添加量としては、記録層全固形分に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。また前記染料の場合には、0.5〜10質量%が特に好ましく、顔料の場合には、3.1〜10質量%が特に好ましい。前記の範囲内にあると高い感度が得られ、均一な記録層が維持でき記録層の耐久性が高い。   The amount of the pigment or dye added is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content of the recording layer. Moreover, in the case of the said dye, 0.5-10 mass% is especially preferable, and in the case of a pigment, 3.1-10 mass% is especially preferable. Within the above range, high sensitivity can be obtained, a uniform recording layer can be maintained, and the durability of the recording layer is high.

〔その他の成分〕
また本発明に係る平版印刷版原版には、支持体の親水性表面と記録層との間に必要に応じて中間層を設けることができる。
中間層を設けることで、露光によりアルカリ現像液への溶解性が向上する赤外線感光層が露光面或いはその近傍に設けられることになり、赤外線レーザに対する感度がより良好になる。また、支持体と赤外線感光層との間に高分子からなる中間層を設けると、該中間層が断熱層として機能するために、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず効率良く画像形成に使用され、高感度化も図れるという利点を有する。
[Other ingredients]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an intermediate layer can be provided between the hydrophilic surface of the support and the recording layer as necessary.
By providing the intermediate layer, an infrared photosensitive layer whose solubility in an alkali developer is improved by exposure is provided on the exposed surface or in the vicinity thereof, and the sensitivity to the infrared laser becomes better. In addition, if an intermediate layer made of a polymer is provided between the support and the infrared photosensitive layer, the intermediate layer functions as a heat insulating layer, so that the heat generated by the infrared laser exposure is not diffused to the support and is efficient. It has the advantage that it is often used for image formation and can achieve high sensitivity.

また、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である記録層自体が中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像を形成することができ、且つ経時的な安定性も確保されるものと考えられる。
さらに、中間層はアルカリ可溶性高分子を主成分とした層として構成され、現像液に対する溶解性が極めて良好な層であることから、このような中間層を支持体に隣接して設けることにより、例えば活性の低下した現像液などを用いた場合であっても、露光により溶解抑制能が解除された記録層の成分が現像液に溶解・分散する際に、残膜などが発生することなく速やかに露光部が除去される。このことが現像性の向上にも寄与するものと考えられる。以上の理由から中間層は有用であると考えられる。
In the unexposed area, the recording layer itself that is impermeable to the alkali developer functions as a protective layer for the intermediate layer, so that an image with excellent development stability and excellent discrimination is obtained. It can be formed and stability over time is also ensured.
Furthermore, since the intermediate layer is configured as a layer mainly composed of an alkali-soluble polymer and has a very good solubility in a developer, by providing such an intermediate layer adjacent to the support, For example, even when a developer with reduced activity is used, when the components of the recording layer whose dissolution-inhibiting ability has been released by exposure are dissolved and dispersed in the developer, no residual film or the like is generated promptly. The exposed portion is removed. This is considered to contribute to the improvement of developability. For these reasons, the intermediate layer is considered useful.

中間層は、上述のごとく、アルカリ可溶性高分子を主成分とした層として構成されるが、記録層と中間層の境界を明瞭にするためには、中間層に用いられるアルカリ可溶性樹脂は記録層に用いられるアルカリ可溶性樹脂と異なるものを主成分として用いることが好ましい。   As described above, the intermediate layer is configured as a layer mainly composed of an alkali-soluble polymer. In order to clarify the boundary between the recording layer and the intermediate layer, the alkali-soluble resin used for the intermediate layer is a recording layer. It is preferable to use, as a main component, a different one from the alkali-soluble resin used in the above.

本発明に関する塗布層には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
例えば、記録層の溶解性を調節するために、他のオニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等、添加することによりアルカリ水可溶性高分子(アルカリ可溶性樹脂)の現像液への溶解阻止機能を向上させるいわゆる溶解抑止剤を添加することが好ましい。中でも、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性を有するものが好ましく、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性を制御できる点で好ましい。
Various additives can be further added to the coating layer according to the present invention as necessary.
For example, in order to adjust the solubility of the recording layer, other onium salts, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, polyfunctional amine compounds, and the like can be added to add an alkaline water-soluble polymer (alkali-soluble resin). It is preferable to add a so-called dissolution inhibitor that improves the dissolution inhibiting function of the developer in the developer. Among them, those having thermal decomposability such as onium salts, o-quinonediazide compounds, sulfonic acid alkyl esters and the like are preferable, and it is possible to use in combination with a substance that substantially reduces the solubility of the alkali-soluble resin when not decomposed. Is preferable in that it can control the dissolution inhibiting property of the developer in the developer.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばS.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。   Preferred examples of the onium salt used in the present invention include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. , 14, 279 (1985), J. et al. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581, sulfonium salts described in J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び4級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)で示されるジアゾニウム塩や特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また4級アンモニウム塩としては、特開2002−229186号公報に記載の(化1)及び(化2)中の(1)〜(10)に示される4級アンモニウム塩が好ましい。   Among these onium salts, diazonium salts and quaternary ammonium salts are particularly preferable from the viewpoints of dissolution inhibition ability and thermal decomposability. In particular, the diazonium salt is preferably a diazonium salt represented by the general formula (I) described in JP-A-5-158230 or a diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064. The diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064 having a small absorption wavelength in the visible light region is most preferable. Moreover, as a quaternary ammonium salt, the quaternary ammonium salt shown by (1)-(10) in (Chemical Formula 1) and (Chemical Formula 2) of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-229186 is preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance.

本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。
その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものをあげることができる。
Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used.
Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/または、o−キノンジアジド化合物の含有量は好ましくは記録層全量に対し、1〜10質量%、更に好ましくは1〜5質量%、特に好ましくは1〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単独で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の含有量は、好ましくは0.1〜5質量%、更に好ましくは0.1〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。
The content of the onium salt and / or o-quinonediazide compound, which is a degradable dissolution inhibitor, is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, and particularly preferably 1 to 5% by mass with respect to the total amount of the recording layer. The range is 2% by mass. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
The content of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

また、本発明の感光性平版印刷版原版には、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を含有させることができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、および可塑剤も、本発明のポジ型記録層に使用することができる。
環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、及びカルボン酸類などが挙げられる。
Moreover, the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention may contain cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids for the purpose of improving sensitivity. Further, a surfactant, an image colorant, and a plasticizer described later can also be used in the positive recording layer of the present invention.
Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-4-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like. Examples thereof include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755.

上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の含有量は記録層全量に対して、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び本発明者らが先に提案した特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。
The content of the cyclic acid anhydride, phenols, and organic acids is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0. 0% by mass, based on the total amount of the recording layer. 1 to 10% by mass.
In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group described in JP-A-8-276558, and the inventors previously proposed. A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-11-160860 can be appropriately added depending on the purpose.

また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Further, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
好適な顔料としては、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン、シリカ粒子などを挙げることができる。
As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.
Suitable pigments include phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, silica particles and the like.

上記染料の含有量は、記録層全量に対し、0.01〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜3質量%である。
また上記顔料の含有量は、記録層全量に対し、0.01〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜3質量%である。
The content of the dye is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total amount of the recording layer.
Further, the content of the pigment is preferably from 0.01 to 10% by mass, more preferably from 0.1 to 3% by mass, based on the total amount of the recording layer.

更に、本発明の感光性平版印刷版原版には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を含有することができる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   Furthermore, the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention may contain a plasticizer for imparting flexibility of the coating film, if necessary. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

〔塗布溶媒及び塗布方法〕
本発明の感光性組成物は、溶媒に溶かし適当な支持体上に塗布することにより記録層を製造することができる。また、目的に応じて、保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用することができる。
[Coating solvent and coating method]
A recording layer can be produced by dissolving the photosensitive composition of the present invention in a solvent and coating it on a suitable support. Further, depending on the purpose, a protective layer, a resin intermediate layer, a backcoat layer, and the like can be formed in the same manner.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, and the like. It is not limited to. These solvents can be used alone or in combination.

溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の含有量は、好ましくは1〜50質量%であり、より好ましくは3〜30質量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の固形分塗布量は0.3〜5.0g/m2が好ましく、より好ましくは0.5〜3.0g/m2である。
Content of the said component (total solid content including an additive) in a solvent becomes like this. Preferably it is 1-50 mass%, More preferably, it is 3-30 mass%.
Moreover, 0.3-5.0 g / m < 2 > is preferable and, as for the solid content coating amount on the support body obtained after application | coating and drying, More preferably, it is 0.5-3.0 g / m < 2 >.

記録層塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。   Various methods can be used for applying the recording layer coating liquid. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, etc. Can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film deteriorate.

〔支持体〕
本発明に係る感光性組成物を用いた平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフイルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフイルム等が挙げられる。
[Support]
The support used in the lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material that satisfies the required physical properties such as strength and flexibility. There is no particular limitation as long as it is, for example, paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (for example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, Cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited Etc.

平版印刷版原版に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。
アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。
合金中の異元素の含有量は10質量%以下が好ましく、5質量%以下がより好ましい。
As a support that can be applied to a lithographic printing plate precursor, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited.
Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium.
The content of the different elements in the alloy is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.12mm〜0.4mmである。
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.12 mm to 0.4 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。このうち、少なくとも塩酸電解液中で粗面化する工程を含むことが好ましい。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can also be used. Among these, it is preferable to include a step of roughening at least in a hydrochloric acid electrolyte.

この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不充分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte. The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable.
When the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image portion of the planographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged portion during printing. So-called “scratch stains” easily occur.

陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。   After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

〔露光〕
本発明の感光性組成物を用いた平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましく、記録材料に照射されるエネルギーは10〜500mJ/cmであることが好ましい。
〔exposure〕
The lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head, scanning exposure using an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, and the like are used, but a semiconductor that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm. Exposure by a solid high-power infrared laser such as a laser or a YAG laser is suitable.
The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec, and the energy irradiated to the recording material is preferably 10 to 500 mJ / cm 2 .

〔現像〕
本発明においては、露光された感光性平版印刷版原版は、実質的に有機溶剤を含まないpH12以上のアルカリ性水溶液で現像されることが好ましい。ここで「実質的に有機溶剤を含まない」とは、環境衛生、安全性、作業性等の観点からみて不都合を生じる程度までは有機溶剤を含有しない、の意味であるが、本発明においては現像液中の有機溶剤の割合が0.5質量%以下であることをいい、好ましくは0.3質量%以下、全く含有しないのが最も好ましい。またpHは12.0以上であるが、より好ましくは12.0〜14.0である。
〔developing〕
In the present invention, the exposed photosensitive lithographic printing plate precursor is preferably developed with an alkaline aqueous solution having a pH of 12 or more that does not substantially contain an organic solvent. Here, “substantially free of organic solvent” means that it does not contain an organic solvent to the extent of causing inconvenience in terms of environmental health, safety, workability, etc. The ratio of the organic solvent in the developer is 0.5% by mass or less, preferably 0.3% by mass or less, and most preferably not contained at all. Moreover, although pH is 12.0 or more, More preferably, it is 12.0-14.0.

現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、いわゆる「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液で、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base, or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. Another more preferable developer, which is an aqueous solution called “silicate developer” having a pH of 12 or more, does not contain an alkali silicate, and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Silicate developer ".

前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the former, the aqueous solution of alkali metal silicate is a ratio of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide M 2 O (generally expressed as a molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]. ) And the density, the developability can be adjusted. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the SiO 2 / Na 2 O molar ratio is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4 mass% is disclosed in JP-B-57-7427. As described, [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and SiO 2 The developer is based on gram atoms of all alkali metals present in the developer. A manner containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」も好適に使用できる。この場合、pHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖を含有することが好ましい。非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。   In addition, a so-called “non-silicate developer” that does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base can also be suitably used. In this case, it is preferable to contain a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH. Non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducibility, trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded, and glycosides in which reducing groups of saccharides are combined with non-saccharides. , And sugar alcohols reduced by hydrogenation of sugars, any of which can be used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なpH領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。   Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit, allozulcit and the like. . Further, maltitol hydrogenated to disaccharide maltose, reduced form obtained by hydrogenation of oligosaccharide (reduced water candy), and the like are preferable. Among these non-reducing sugars, trehalose-type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose, reduced syrup, etc. are preferable in that they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.

これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記の含有量範囲内であると、適切な緩衝作用が得られる。   These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass. When the content is within the above range, an appropriate buffer action is obtained.

また、前記非還元糖と組合せて用いられる塩基としては、従来より公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the base used in combination with the non-reducing sugar include conventionally known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents. Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, Examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate.

有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。   Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanol. Examples include amine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine.

前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
The said base may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable.

また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。
また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergmon Press 社発行のIonization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution 等に記載されているものから選択できる。
In the present invention, as the non-silicate developer, a non-reducing sugar alkali metal salt as a main component can be used instead of the non-reducing sugar and the base.
In addition, an alkaline buffer composed of a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developer. The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and can be selected from, for example, those described in Ionization Constants of Organic Acids Solution, published by Pergmon Press.

具体的には、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール−1、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド、ピリジン−4−アルデヒド等のアルデヒド類、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、3,4−ジヒドロキシスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール、o−、m−,p−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物、アセトキシム、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類、アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質、その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。   Specifically, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1, trifluoroethanol and trichloroethanol, aldehydes such as pyridine-2-aldehyde and pyridine-4-aldehyde, salicylic acid, 3- Hydroxy-2-naphthoic acid, catechol, gallic acid, sulfosalicylic acid, 3,4-dihydroxysulfonic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, hydroquinone (11.56), pyrogallol, o-, m-, p-cresol , Compounds having a phenolic hydroxyl group such as resorsonol, oximes such as acetoxime, 2-hydroxybenzaldehyde oxime, dimethylglyoxime, ethanediamide dioxime, acetophenone oxime, adenosine, inosine, guanine, cytosine, hypoxanthine, xanthine Nucleic acid-related substances such as down, the other, diethylaminomethyl acid, benzimidazole, and the like barbituric acid is preferably exemplified.

前記現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散または、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液及び補充液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。   To the developer and replenisher, various surfactants and organic solvents are added as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, or improving ink affinity of the printing plate image area. it can. As the surfactant, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants are preferable. Further, the developer and replenisher may contain a reducing agent such as sodium salt and potassium salt of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, and bisulfite, as well as organic carboxylic acid, antifoaming agent, hard water, if necessary. Softeners and the like can be added.

前記現像液及び補充液を用いて現像処理された画像形成材料は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。前記画像形成材料を印刷版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
The image forming material developed using the developer and the replenisher is post-processed with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As the post-treatment when the image forming material is used as a printing plate, these treatments can be used in various combinations.
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than that of the developer is added to the developer, so that a large amount of developer can be obtained without replacing the developer in the developer tank for a long time. It is known that PS plates can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.

上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性組成物を用いた平版印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
The printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with water-washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, a desensitizing solution containing gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention, these treatments can be used in various combinations.
In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. The processing liquid is sprayed from the spray nozzle and developed. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明の感光性組成物を用いた平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention, an image portion unnecessary for the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, If there is a film edge mark of the original image film, the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if it is desired to make a lithographic printing plate with a higher printing durability, if desired, Burning process is performed.
In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid.

その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The lithographic printing plate that has been burned can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
厚さ0.3mmのJIS−A−1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
上述のアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
次に温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で450C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
次いで陽極酸化処理を行った。電解液は、硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
更にその後、0.5%のポリビニルホスホン酸水溶液を60℃に加熱した液に、陽極酸化処理したアルミニウム板を5秒間浸漬し、スプレーにて水洗した。
以上のようにして、感光性平版印刷版用の支持体を得た。
得られた支持体の親水性表面上に、以下の感光層液Aを塗布し、150℃のオーブンで1分乾燥することにより、乾燥膜厚が1.8g/mの感光層を有するポジ型平版印刷版原版を作製した。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.
[Example 1]
The support body was produced by processing through the process shown below using a JIS-A-1050 aluminum plate with a thickness of 0.3 mm.
The above aluminum plate was sprayed with an aqueous NaOH solution (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%) at a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate 6 g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed using well water.
Next, desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying.
An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 450 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.
The aluminum plate was etched by spraying at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, the aluminum plate was dissolved at 0.10 g / m 2 , and electrochemical using the previous AC. The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during the roughening treatment was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.
A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then water washing by spraying was performed using well water.
Subsequently, anodizing treatment was performed. The electrolytic solution had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a temperature of 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water.
Both current densities were about 30 A / dm 2 . The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .
Further, an anodized aluminum plate was immersed for 5 seconds in a solution obtained by heating a 0.5% polyvinylphosphonic acid aqueous solution to 60 ° C., and washed with water by spraying.
As described above, a support for a photosensitive lithographic printing plate was obtained.
On the hydrophilic surface of the obtained support, the following photosensitive layer solution A is applied and dried in an oven at 150 ° C. for 1 minute, whereby a positive layer having a photosensitive layer with a dry film thickness of 1.8 g / m 2 is obtained. A lithographic printing plate precursor was prepared.

<感光層液A>
・m−クレゾール/p−クレゾール=60/40(モル比)のノボラック樹脂1
(重量平均分子量6,000) 10.00g
・1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(融点:−75℃)
0.03g
・合成例1で得られた本文記載の共重合体(3)の溶液 15.00g
・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸にした染料
0.04g
・F−780−F(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤) 0.03g
・メチルエチルケトン 37.2g
・1−メトキシ−2−プロパノール 37.2g
・下記赤外線吸収剤(シアニン染料A) 0.50g
このようにして、感光性平版印刷版(A)を得た。
<Photosensitive layer solution A>
-Novolak resin 1 with m-cresol / p-cresol = 60/40 (molar ratio)
(Weight average molecular weight 6,000) 10.00 g
1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate (melting point: -75 ° C.)
0.03g
-15.00 g of a solution of the copolymer (3) described in the text obtained in Synthesis Example 1
・ Dye with Victoria Pure Blue BOH counter anion as 1-naphthalenesulfonic acid
0.04g
・ F-780-F (Dainippon Ink & Chemicals, Inc. fluorine-based surfactant) 0.03 g
・ Methyl ethyl ketone 37.2g
・ 37.2 g of 1-methoxy-2-propanol
・ The following infrared absorber (cyanine dye A) 0.50 g
In this way, a photosensitive lithographic printing plate (A) was obtained.

Figure 2008076516
Figure 2008076516

[実施例2]
実施例1で、感光層の共重合体(3)のかわりに、合成例1と同様にして合成した共重合体(1)を用いた。この共重合体(1)は、スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート=30/50/20(重量比)で仕込み、得られた共重合体の重量平均分子量は10,000であった。それ以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版(B)を得た。
[Example 2]
In Example 1, instead of the copolymer (3) of the photosensitive layer, a copolymer (1) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used. The copolymer (1) was charged with styrene / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate = 30/50/20 (weight ratio), and the weight average molecular weight of the obtained copolymer was 10,000. Other than that was carried out similarly to Example 1, and obtained the photosensitive lithographic printing plate (B).

[実施例3]
実施例1で、感光層の共重合体(3)のかわりに、合成例1と同様にして合成した共重合体(4)を用いた。この共重合体(4)は、スチレン/アクリロニトリル/ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート=60/30/10(重量比)で仕込み、得られた共重合体の重量平均分子量は50,000であった。ここで、ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均25のものを使用した。また、ノボラック樹脂1のかわりに、フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール=50/30/20(モル比)のノボラック樹脂2(重量平均分子量8,000)を使用した。それ以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版(C)を得た。
[Example 3]
In Example 1, a copolymer (4) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used instead of the copolymer (3) of the photosensitive layer. This copolymer (4) was charged with styrene / acrylonitrile / polyethylene glycol methyl ether methacrylate = 60/30/10 (weight ratio), and the weight average molecular weight of the obtained copolymer was 50,000. Here, an average of 25 repeating units of polyethylene glycol were used. Further, in place of the novolak resin 1, a novolak resin 2 (weight average molecular weight 8,000) of phenol / m-cresol / p-cresol = 50/30/20 (molar ratio) was used. Otherwise in the same manner as in Example 1, a photosensitive lithographic printing plate (C) was obtained.

[実施例4]
実施例1で、感光層の共重合体(3)のかわりに、合成例1と同様にして合成した共重合体(5)を用いた。この共重合体(5)は、スチレン/アクリロニトリル/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリエチレングリコールメタクリレート=50/35/10/5(重量比)で仕込み、得られた共重合体の重量平均分子量は60,000であった。ここで、ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均12のものを使用した。それ以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版(D)を得た。
[Example 4]
In Example 1, instead of the copolymer (3) of the photosensitive layer, the copolymer (5) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used. This copolymer (5) was charged with styrene / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate / polyethylene glycol methacrylate = 50/35/10/5 (weight ratio), and the resulting copolymer had a weight average molecular weight of 60, 000. Here, an average of 12 repeating units of polyethylene glycol was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and obtained the photosensitive lithographic printing plate (D).

[実施例5]
実施例1で、感光層の1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートのかわりに、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(融点:−88℃)を用いた。それ以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版(E)を得た。
[Example 5]
In Example 1, 1-methyl-3-octylimidazolium tetrafluoroborate (melting point: -88 ° C.) was used instead of 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate in the photosensitive layer. Otherwise in the same manner as in Example 1, a photosensitive lithographic printing plate (E) was obtained.

[実施例6]
実施例1で、感光層の共重合体(3)の量を10gにし、さらにN−フェニルマレイミド/メタクリルアミド/メタクリル酸=45/35/20(モル比)の共重合体(重量平均分子量50,000)を3g使用した。それ以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版(F)を得た。
[Example 6]
In Example 1, the amount of the copolymer (3) in the photosensitive layer was 10 g, and a copolymer of N-phenylmaleimide / methacrylamide / methacrylic acid = 45/35/20 (molar ratio) (weight average molecular weight 50). , 000) was used. Otherwise in the same manner as in Example 1, a photosensitive lithographic printing plate (F) was obtained.

[実施例7]
実施例1で、感光層の共重合体(3)のかわりに、合成例1と同様にして合成した共重合体(6)を用いた。この共重合体(6)は、スチレン/ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート=70/30(重量比)で仕込み、得られた共重合体の重量平均分子量は20,000であった。また、ポリエチレングリコールの繰り返し単位は平均12のものを使用した。それ以外は実施例1と同様にし、感光性平版印刷版(G)を得た。
[Example 7]
In Example 1, instead of the copolymer (3) of the photosensitive layer, the copolymer (6) synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 was used. The copolymer (6) was charged with styrene / polyethylene glycol methyl ether methacrylate = 70/30 (weight ratio), and the weight average molecular weight of the obtained copolymer was 20,000. The average number of polyethylene glycol repeating units was 12. Other than that was carried out similarly to Example 1, and obtained the photosensitive lithographic printing plate (G).

[比較例1]
実施例1で、感光層の共重合体(3)を添加せず、ノボラック樹脂1の量を15gにした。それ以外は実施例1と同様にして、感光性平版印刷版(H)を作製した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the copolymer (3) of the photosensitive layer was not added, and the amount of the novolak resin 1 was 15 g. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the photosensitive lithographic printing plate (H).

[比較例2]
実施例1で、感光層の1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートを添加しなかった。それ以外は実施例1と同様にして、感光性平版印刷版(I)を作製した。
[Comparative Example 2]
In Example 1, the photosensitive layer 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate was not added. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the photosensitive lithographic printing plate (I).

[平版印刷版原版の評価]
[感度の評価]
得られた平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetterにて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行った。
その後、富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温を30℃に保ち、現像時間20秒で現像した。このとき現像液としては、富士写真フイルム(株)製現像液DP−4と水道水とを所定の比率で混合し希釈したもの、および、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2と水道水とを混合し電導度が43mS/cmになるように希釈したものの2種類を使用し、またガム液としては、富士写真フイルム(株)製ガム液FP−2Wと水道水とを所定の比率で混合し希釈したものを使用した。この時、非画像部が完全に現像できる露光エネルギーを測定し、感度とした。数値が小さいほど高感度であることを意味する。結果を表1に示す。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor]
[Evaluation of sensitivity]
The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to drawing of a test pattern in an image by changing the exposure energy with a Trend setter manufactured by Creo.
Then, using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., the liquid temperature was kept at 30 ° C., and development was performed for 20 seconds. At this time, as the developer, a developer DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and tap water were mixed and diluted at a predetermined ratio, and a developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and tap water were used. Two types of water mixed with water and diluted to have an electric conductivity of 43 mS / cm are used. As the gum solution, a predetermined ratio of gum solution FP-2W manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and tap water is used. What was mixed and diluted with was used. At this time, the exposure energy at which the non-image area can be completely developed was measured and used as sensitivity. A smaller value means higher sensitivity. The results are shown in Table 1.

[現像性の評価]
露光エネルギーを300mJ/cm、使用する現像液を富士写真フイルム(株)製現像液DT−2と水道水とを混合し希釈したものを使用した以外は、感度の評価と同様にして処理を行った。このとき、現像液の希釈の度合いを変え45mS/cmから2mS/cmずつ低くし、現像できなくなった電導度を測定した。数値が小さいほど現像性が良好であることを意味する。結果を表1に示す。
[Evaluation of developability]
Except for using an exposure energy of 300 mJ / cm 2 and using a developer obtained by mixing and diluting a developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and tap water, the same processing as in the sensitivity evaluation was performed. went. At this time, the degree of dilution of the developer was changed and decreased from 45 mS / cm to 2 mS / cm, and the conductivity at which development could no longer be performed was measured. A smaller value means better developability. The results are shown in Table 1.

〔耐刷性の評価〕
露光エネルギーを300mJ/cm、使用する現像液を富士写真フイルム(株)製現像液DT−2と水道水とを混合し電導度が43mS/cmになるように希釈したものを使用した以外は、感度の評価と同様にして処理を行い、得られた平版印刷版を用いて印刷を行った。このとき、印刷機は小森コーポレーション社製のリスロン印刷機を、インキは大日本インキ化学工業社製のGEOS(N)墨を、湿し水は富士写真フイルム(株)のEU−3を1%とIPAを5%含有する水を、それぞれ用いた。上質紙に印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。数値が大きいほど耐刷性が良好であることを意味する。結果を表1に示す。
[Evaluation of printing durability]
Except that the exposure energy was 300 mJ / cm 2 , and the developer to be used was mixed with developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and tap water and diluted to have an electrical conductivity of 43 mS / cm. The treatment was performed in the same manner as the sensitivity evaluation, and printing was performed using the obtained lithographic printing plate. At this time, the printer is a Lislon printer manufactured by Komori Corporation, the ink is GEOS (N) ink manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, and the dampening water is 1% EU-3 from Fuji Photo Film Co., Ltd. And water containing 5% of IPA were used. Printing durability was evaluated based on the number of printed sheets when printed on high-quality paper and visually recognized that the density of the solid image started to decrease. It means that printing durability is so good that a numerical value is large. The results are shown in Table 1.

表1に示されるように、本発明の平版印刷版は、2種類いずれの現像液を用いた場合も、高感度であり、電導度の低い現像液でも現像可能で、しかも耐刷性に優れていることがわかった。
一方、比較例の平版印刷版は、感度、現像性、耐刷性の点で、本発明の平版印刷版に比べ劣ることがわかる。特定の構造を有する共重合体を含有しない比較例1は、特に耐刷性の点で大きく劣り、また含窒素複素環の4級塩化合物を含有しない比較例2は、特に感度と現像性の点で大きく劣った。
As shown in Table 1, the lithographic printing plate of the present invention has high sensitivity, can be developed with a developer with low conductivity, and has excellent printing durability when using any of two types of developers. I found out.
On the other hand, the lithographic printing plate of the comparative example is inferior to the lithographic printing plate of the present invention in terms of sensitivity, developability and printing durability. Comparative Example 1 not containing a copolymer having a specific structure is particularly inferior in terms of printing durability, and Comparative Example 2 not containing a nitrogen-containing heterocyclic quaternary salt compound is particularly sensitive and developable. It was greatly inferior in respect.

Figure 2008076516
Figure 2008076516

Claims (1)

親水性を有する支持体の表面に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物、赤外線吸収剤、含窒素複素環の4級塩化合物、及びスチレンとエチレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを構成単位として有するビニル系共重合体、を含有する記録層を備える、赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。   On the surface of a support having hydrophilicity, a polymer compound having a phenolic hydroxyl group, an infrared absorber, a quaternary salt compound of a nitrogen-containing heterocyclic ring, and a polymerizable monomer having a styrene and an ethylene oxide group are included as structural units. A photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, comprising a recording layer containing a vinyl copolymer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP2204698A1 (en) 2009-01-06 2010-07-07 FUJIFILM Corporation Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate
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