JP2010078686A - Lithographic printing plate precursor - Google Patents

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JP2010078686A JP2008244418A JP2008244418A JP2010078686A JP 2010078686 A JP2010078686 A JP 2010078686A JP 2008244418 A JP2008244418 A JP 2008244418A JP 2008244418 A JP2008244418 A JP 2008244418A JP 2010078686 A JP2010078686 A JP 2010078686A
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Akira Nagashima
彰 永島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate precursor which enables image formation with an infrared laser, can form a strong film excellent in the chemical and scratch resistances of an image area, has good developability and development latitude in a non-image area, and improves printing durability when heat-treated at a high temperature after development. <P>SOLUTION: The lithographic printing plate precursor includes, on a support in the following order, a lower layer containing (A) a polymer compound having a (meth)acrylamide structural unit having a hydroxy group in a side chain, and (B) a recording layer containing (B) a polymer compound having a maleimide structural unit having a carboxy group in a side chain and (C) a compound which absorbs light and generates heat. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、露光などのエネルギー付与によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が向上するポジ型平版印刷版原版に関し、詳細には、コンピュータ等のデジタル信号に基づいてレーザ光を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なポジ型平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a positive type lithographic printing plate precursor whose solubility in an alkaline aqueous solution is improved by applying energy such as exposure, and in particular, it can be directly made by scanning with a laser beam based on a digital signal from a computer or the like. The present invention relates to a positive lithographic printing plate precursor capable of direct plate making.

近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ固体レーザや半導体レーザでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。   In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared region to the infrared region have been increasing in output and size. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data such as a computer.

前述の赤外線領域に発光領域を持つ赤外線レーザを露光光源として使用する、赤外線レーザ用平版印刷版原版は、通常、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生する赤外線吸収染料等とを含有する記録層を有する。このような赤外線レーザ用平版印刷版原版を赤外線レーザ露光すると、ポジ型記録層を有する場合、未露光部(画像部)では赤外線レーザ用平版印刷版原版中のIR染料等が、前記バインダー樹脂との相互作用により該バインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、前記IR染料等が光を吸収して熱を発生するため、IR染料等とバインダー樹脂との相互作用が低下する。したがって、現像時には、前記露光部(非画像部)が、アルカリ現像液に溶解、除去されて、平版印刷版が形成される。
しかし、このような赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料においては、UV露光により製版するポジ型平版印刷版材料と比べ、バインダー樹脂として、アルカリ現像液等の溶剤に対する溶解性の高い樹脂にせざるを得ないため、印刷中にインクの付きが悪くなった時に用いるプレートクリーナーなどの薬品に対する耐性が低く、該クリーナーで版面を拭いた時に記録層を構成する感光性組成物が溶出してしまう問題があった。
The lithographic printing plate precursor for infrared laser, which uses an infrared laser having a light emitting region in the infrared region as an exposure light source, is usually an alkaline aqueous solution-soluble binder resin, an infrared absorbing dye that absorbs light, and generates heat. A recording layer containing When such a lithographic printing plate precursor for infrared laser is subjected to infrared laser exposure, if it has a positive recording layer, the IR dye or the like in the lithographic printing plate precursor for infrared laser in the unexposed portion (image portion) and the binder resin It acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin by the interaction of the above, and in the exposed area (non-image area), the IR dye absorbs light and generates heat. And the interaction between the binder resin and the binder resin are reduced. Therefore, at the time of development, the exposed portion (non-image portion) is dissolved and removed in the alkaline developer to form a lithographic printing plate.
However, in such a positive lithographic printing plate material for infrared laser, compared to a positive lithographic printing plate material made by UV exposure, a resin having high solubility in a solvent such as an alkali developer must be used as a binder resin. Therefore, there is a problem that the photosensitive composition constituting the recording layer is eluted when the plate surface is wiped with the cleaner. there were.

上述のように種々の印刷薬品への耐性を向上させることが重要となる。例えば、記録層表面の薬品耐性が低いと、印刷時の薬品飛散、あるいは薬品使用後の拭き残しにより画像部が変質あるいは溶解することで、印刷途中に画像部にインキがつかなく領域ができ、印刷物に白ヌケなど発生するため、好ましくない。また、画像部表面の耐傷性が低い場合、自動で露光や現像を行う際、表面に接触する部材で擦られ傷つくことで、本来の画像部が磨耗し、この場合にも画像部に欠陥が生じるという問題がある。
形成された印刷版で高画質の印刷物を多数枚印刷する場合、これら耐薬品性、耐傷性の向上が不可欠である。これら課題に対し、これまで種々の検討がなされている。例えば、耐薬品性に優れたアルカリ可溶性樹脂を有する記録層を形成する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、この記録層は耐薬品性の向上は見られるものの、現像前に入った僅かな傷の周辺が現像時に溶解し易く、画像部に白ヌケが発生するという問題があった。
また、平版印刷版の樹脂層の構造を2層以上にすることが、耐薬品性と耐傷性の両立に有用であると考えられており、重層の記録層の下層にマレイミド化合物を構造単位とする高分子化合物を使用することが提案されている(例えば、特許文献2参照)。この記録層は耐薬品性の向上は見られるものの、下層とそれに隣接して設けられる上部の記録層との密着が必ずしも十分ではなく、この点については、更なる向上が求められてきた。
特開2005−62875号公報 米国公開特許2004/0067432号公報
As described above, it is important to improve resistance to various printing chemicals. For example, if the chemical resistance of the surface of the recording layer is low, the image area may be altered or dissolved due to chemical splashing during printing, or wiping residue after use of the chemical, so that there is no ink in the image area during printing, This is not preferable because white spots are generated on the printed matter. In addition, when the image surface has low scratch resistance, the original image portion is worn away by rubbing and being scratched by a member in contact with the surface when performing exposure and development automatically. There is a problem that arises.
When a large number of high-quality prints are printed on the formed printing plate, it is essential to improve these chemical resistance and scratch resistance. Various studies have been made on these issues. For example, a technique for forming a recording layer having an alkali-soluble resin excellent in chemical resistance has been proposed (see, for example, Patent Document 1). However, although this recording layer is improved in chemical resistance, there is a problem that the periphery of a slight scratch that has entered before development is easily dissolved during development, and white spots are generated in the image area.
In addition, it is considered that making the structure of the resin layer of the lithographic printing plate two or more layers is useful for achieving both chemical resistance and scratch resistance, and a maleimide compound is used as a structural unit in the lower layer of the multi-layer recording layer. It has been proposed to use a high molecular compound (for example, see Patent Document 2). Although this recording layer is improved in chemical resistance, the adhesion between the lower layer and the upper recording layer provided adjacent thereto is not always sufficient, and further improvement has been demanded in this respect.
JP 2005-62875 A US Published Patent No. 2004/0067432

上記従来技術の欠点を克服すべくなされた本発明の目的は、赤外線レーザによる画像形成が可能であり、画像部の耐薬品性、耐傷性に優れた強固な被膜を形成しうるとともに、非画像部における現像性が良好な平版印刷版原版を提供することにある。
また、本発明のさらなる目的は、現像後に高温で加熱処理した場合に、著しく耐刷性が向上する平版印刷版原版を提供することにある。
An object of the present invention, which has been made to overcome the above-mentioned drawbacks of the prior art, is that an image can be formed by an infrared laser, and a strong film excellent in chemical resistance and scratch resistance of the image area can be formed. An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having good developability in part.
A further object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor whose printing durability is remarkably improved when it is heat-treated at a high temperature after development.

本発明者は鋭意研究の結果、特定の共重合成分を含む2種のポリマーの一方を下層に、他方を上部記録層に用いることにより、上記課題目的が達成されることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される構造単位を有する高分子化合物(以下、適宜、(A)特定ポリマーと称する。)を含有する下層と、(B)下記一般式(II)で表される構造単位を有する高分子化合物(以下、適宜、(B)特定ポリマーと称する。)、及び(C)光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層と、を順次備えることを特徴とする。
As a result of diligent research, the present inventor has found that the above object can be achieved by using one of two kinds of polymers containing a specific copolymerization component as a lower layer and the other as an upper recording layer. completed.
That is, the lithographic printing plate precursor according to the invention has (A) a polymer compound having a structural unit represented by the following general formula (I) on a support (hereinafter, referred to as (A) a specific polymer as appropriate). (B) a polymer compound having a structural unit represented by the following general formula (II) (hereinafter, appropriately referred to as (B) specific polymer), and (C) absorbing light. And a recording layer containing a compound that generates heat.

Figure 2010078686
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[前記一般式(I)中、R、は水素原子又はメチル基を表す。Rは炭素数1〜4のアルキレン基を表す。] [In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. ]

Figure 2010078686
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[一般式(II)中、Xはアルキレン基、アリーレン基、アリレン基、及びこれらの少なくとも1つを含んで構成される2価の連結基を表す。nは1〜3の整数を表す。]
ここで、前記(A)一般式(I)で表される構造単位を有する高分子化合物の含有量が、下層を構成する全固形分中20質量%〜95質量%であり、前記(B)一般式(II)で表される構造単位を有する高分子化合物の含有量が、上部記録層を構成する全固形分中3質量%〜40質量%であることが好ましい態様である
[In General Formula (II), X 1 represents an alkylene group, an arylene group, an arylene group, and a divalent linking group including at least one of them. n represents an integer of 1 to 3. ]
Here, (A) Content of the high molecular compound which has a structural unit represented by general formula (I) is 20 mass%-95 mass% in the total solid which comprises a lower layer, Said (B) In a preferred embodiment, the content of the polymer compound having the structural unit represented by the general formula (II) is 3% by mass to 40% by mass in the total solid content constituting the upper recording layer.

なお、ここで前記各層を「順次備える」とは、支持体上に、少なくとも前記下層と上部記録層とを、この順に設けた層構成を有することを意味するが、所望により設けられる他の層、例えば、下塗り層、保護層、バックコート層などの存在を否定するものではない。   Here, “sequentially comprising each of the layers” means having a layer structure in which at least the lower layer and the upper recording layer are provided in this order on a support, but other layers provided as desired. For example, the existence of an undercoat layer, a protective layer, a backcoat layer, etc. is not denied.

本発明の作用は明確ではないが、次のように推測される。
本発明の平版印刷版原版において用いられる(A)特定ポリマーは、一般式(I)で表される構造単位を含むことで、耐溶剤性に優れ、また、(B)特定ポリマーもまた、耐溶剤性に優れ、且つ、耐アルカリ現像性に優れた皮膜を形成しうるために、これらをそれぞれ含む層を重層させることで、下層には優れた耐薬品性が付与され、上部記録層においても耐薬品性が向上し、且つ、下層とは独立に(B)特定ポリマーと光熱変換剤との相互作用により表面の耐傷性を制御することが可能となる。また、下層に含まれる(A)特定ポリマーは熱により架橋反応する部分構造を有し、この部分構造は上層に含まれる(B)特定ポリマーやアルカリ可溶性のバインダーポリマーが含む官能基との架橋効率が良好なため、現像後に高温で加熱処理した場合、所定時間加熱されることにより上部記録層と下層との間に架橋構造が形成され、これに起因して著しく耐刷性が向上できるものと考えられる。
このため、このようなポジ型記録層を有する平版印刷版原版は、未露光部は、耐アルカリ現像液性、耐薬品性に優れた強固な皮膜を維持するとともに、例えば、赤外線レーザ露光部においては、高エネルギーにより短時間の露光であるために上記架橋反応は生じることなく相互作用が解除され、相互作用の解除により下層の(A)特定ポリマーが有するアルカリ可溶性が発現されて露光部の記録層が速やかに除去され、優れた画像形成性を有するものと考えられる。
Although the operation of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
The (A) specific polymer used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention includes a structural unit represented by the general formula (I), so that it has excellent solvent resistance. In order to form a film excellent in solvent resistance and excellent in alkali resistance, it is possible to form a layer containing each of these layers, thereby providing excellent chemical resistance in the lower layer, and even in the upper recording layer. The chemical resistance is improved, and the scratch resistance of the surface can be controlled by the interaction between the specific polymer (B) and the photothermal conversion agent independently of the lower layer. The (A) specific polymer contained in the lower layer has a partial structure that undergoes a crosslinking reaction by heat, and this partial structure is crosslinked with the functional group contained in the (B) specific polymer or alkali-soluble binder polymer contained in the upper layer. Therefore, when heat treatment is performed at a high temperature after development, a cross-linked structure is formed between the upper recording layer and the lower layer by heating for a predetermined time, and this can significantly improve printing durability. Conceivable.
For this reason, the lithographic printing plate precursor having such a positive recording layer maintains an unexposed portion with a strong film excellent in alkali developer resistance and chemical resistance, and, for example, in an infrared laser exposure portion. Is a short exposure due to high energy, so that the above-mentioned cross-linking reaction is not caused and the interaction is released, and the release of the interaction reveals the alkali solubility of the specific polymer (A) in the lower layer, thereby recording the exposed area. It is considered that the layer is removed quickly and has excellent image forming properties.

本発明によれば、赤外線レーザによる画像形成が可能であり、画像部の耐薬品性、耐傷性に優れた強固な被膜を形成しうるとともに、非画像部における現像性が良好な平版印刷版原版を提供することができる。
また、本発明の平版印刷版原版は、現像後に高温で加熱処理した場合に、著しく耐刷性が向上するという利点をも有する。
According to the present invention, a lithographic printing plate precursor capable of forming an image with an infrared laser, capable of forming a strong film excellent in chemical resistance and scratch resistance in an image area, and having good developability in a non-image area. Can be provided.
The lithographic printing plate precursor according to the invention also has an advantage that the printing durability is remarkably improved when heat treatment is performed at a high temperature after development.

本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される構造単位を有する高分子化合物を含有する下層と、(B)下記一般式(II)で表される構造単位を有する高分子化合物、及び(C)光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層と、を順次備えることを特徴とする。
以下、本発明の平版印刷版原版の下層及び上部記録層(以下、単に「記録層」と称する場合がある。)に含まれる各成分について順次説明する。
The lithographic printing plate precursor according to the invention comprises, on a support, (A) a lower layer containing a polymer compound having a structural unit represented by the following general formula (I), and (B) the following general formula (II): And a recording layer containing a polymer compound having a structural unit represented, and (C) a compound that absorbs light and generates heat.
Hereinafter, each component contained in the lower layer and the upper recording layer (hereinafter sometimes simply referred to as “recording layer”) of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be sequentially described.

<(A)下記一般式(I)で表される構造単位を有する高分子化合物を含有する下層>
本発明においては、親水性の支持体表面に下層を備え、下層は、下記(A)特定ポリマー及び所望により用いられる添加剤を含有する。
〔(A)特定ポリマー〕
本発明において下層に用いられる(A)特定ポリマーは、下記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマーである。
<(A) Lower layer containing a polymer compound having a structural unit represented by the following general formula (I)>
In the present invention, a hydrophilic support surface is provided with a lower layer, and the lower layer contains the following (A) specific polymer and an additive used as desired.
[(A) Specific polymer]
The (A) specific polymer used in the lower layer in the present invention is a polymer having a structural unit represented by the following general formula (I).

Figure 2010078686
Figure 2010078686

前記一般式(I)中、R、は水素原子又はメチル基を表す。Rは炭素数1〜4のアルキレン基を表す。
ここで、R及びRは、好ましくはそれぞれが水素原子である態様である。Rは炭素数1〜2のアルキレン基であることが好ましく、より好ましくはメチレン基である。
(A)特定ポリマーは、一般式(I)で表される構造単位を1種のみ含むものでもよく、2種以上を含んでいてもよい。
(A)特定ポリマーにおける一般式(I)で表される構造単位の含有量は、1〜50モル%が好ましく、5〜45モル%がより好ましく、10〜40モル%が更に好ましい。
In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
Here, R 1 and R 3 are each preferably an embodiment in which each is a hydrogen atom. R 2 is preferably an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms, more preferably a methylene group.
(A) The specific polymer may contain only one type of structural unit represented by the general formula (I), or may contain two or more types.
(A) As for content of the structural unit represented by general formula (I) in a specific polymer, 1-50 mol% is preferable, 5-45 mol% is more preferable, and 10-40 mol% is still more preferable.

(A)特定ポリマーは、上記構造単位に加えて、さらに酸基を有する構造単位を含む共重合体であることが好ましい。
ここで、共重合成分として好ましく用いられる酸基を有する構造単位としては、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を有するモノマー由来の構造単位を挙げることができる。
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SONH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SONHCOR、−SONHSOR、−CONHSOR〕
(4)カルボン酸基(−COH)
(5)スルホン酸基(−SOH)
(6)リン酸基(−OPO
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するモノマーとしては、例えば、以下のものを挙げることができる。
(A) It is preferable that a specific polymer is a copolymer containing the structural unit which has an acid group in addition to the said structural unit.
Here, examples of the structural unit having an acid group that is preferably used as a copolymerization component include structural units derived from monomers having an acidic group listed in the following (1) to (6).
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) sulfonic acid group (-SO 3 H)
(6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)
In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent. .
As a monomer which has an acidic group chosen from said (1)-(6), the following can be mentioned, for example.

(1)フェノール基を有する構造単位としては、ノボラック樹脂、キシレノール樹脂、レゾール樹脂等に含まれる構造単位が挙げられる。
また、フェノール基を側鎖に有する化合物を挙げることもでき、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等が挙げられる。
(1) Examples of the structural unit having a phenol group include structural units contained in novolak resins, xylenol resins, resol resins and the like.
Moreover, the compound which has a phenol group in a side chain can also be mentioned, such as acrylamide, methacrylamide, acrylic ester or methacrylic ester having a phenol group, or hydroxystyrene.

(2)スルホンアミド基を有する構造単位としては、スルホンアミド基を有するモノマーに由来する構造単位を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子の化合物が好ましく、例えば、下記式(i)〜式(v)で表される化合物由来の構造単位が挙げられる。   (2) Examples of the structural unit having a sulfonamide group include structural units derived from a monomer having a sulfonamide group. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among these, low molecular weight compounds having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule are preferable. For example, the following formulas (i) to (v ) -Derived structural units.

Figure 2010078686
Figure 2010078686

(式中、X、Xは、それぞれ独立に−O−または−NRを表す。R、Rは、それぞれ独立に水素原子又は−CHを表す。R、R、R、R12、及び、R16は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R、R、及び、R13は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R、R17は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CHを表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合又は炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y、Yは、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。上記アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としてはアルキル基である。) (In the formula, X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7. R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3. R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each independently represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and R 3 , R 7 and R 13 each independently represent Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and R 6 and R 17 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group or an aryl group. R 8 , R 10 and R 14 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 , R 11 and R 15 each independently represents a single bond or an alkylene having 1 to 12 carbon atoms. Group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group Y 1 and Y 2 each independently represents a single bond or CO. The above alkylene group, cycloalkylene group, arylene group, aralkylene group, alkyl group, cycloalkyl The group, aryl group, or aralkyl group may have a substituent, and a preferred substituent is an alkyl group.)

式(i)〜式(v)で表される化合物のうち、本発明の重層構造の記録層を有する平版印刷版原版では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by the formulas (i) to (v), in the lithographic printing plate precursor having the recording layer having the multilayer structure of the present invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) ) Methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有する構造単位としては。例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する構造単位を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) As a structural unit having an active imide group. For example, the structural unit derived from the compound which has an active imide group can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 2010078686
Figure 2010078686

具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有する構造単位としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する構造単位を挙げることができる。本発明においては、特に、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸を好適に使用することができる。
(5)スルホン酸基を有する構造単位としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する構造単位を挙げることができる。
(4) Examples of the structural unit having a carboxylic acid group include a structural unit derived from a compound having one or more carboxylic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule. In the present invention, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and itaconic acid can be preferably used.
(5) Examples of the structural unit having a sulfonic acid group include a structural unit derived from a compound having one or more sulfonic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

(6)リン酸基を有する構造単位としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構造単位を主要構造単位とする重合体を挙げることができる。 (6) As the structural unit having a phosphate group, for example, a weight having a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphate group and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule as a main structural unit is used. Coalescence can be mentioned.

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する構造単位の中でも、(4)カルボン酸基を有する構造単位を含むものが最も好ましい。
本発明の(A)特定ポリマーに含まれる酸性基の量としては、ポリマーの酸価が10〜35meq/gの範囲になる量が好ましい。
Among the structural units having an acidic group selected from the above (1) to (6), those containing (4) a structural unit having a carboxylic acid group are most preferable.
The amount of acidic groups contained in the specific polymer (A) of the present invention is preferably an amount in which the acid value of the polymer is in the range of 10 to 35 meq / g.

また、(A)特定ポリマーには、更に、前記構造単位以外の共重合成分を含んでいてもよい。
そのような構造単位としては、本願で用いる(A)特定ポリマーの他の成分と共重合しうるモノマー由来の構造単位であれば特に指定はないが、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、スチレン系化合物、マレイミド類、由来の構造単位を挙げることができる。
より具体的には、例えば、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、N-メトキシメチルメタアクリルアミド、メトキシメチルメタアクリレート、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、スチレン、p-メチルスチレン、メタクリルアミド、アクリルアミド、アクリロニトリル、無水マレイン酸、アリルアクリレートなどのモノマーに由来する構造単位が挙げられる。
Further, (A) the specific polymer may further contain a copolymer component other than the structural unit.
Such a structural unit is not particularly specified as long as it is a structural unit derived from a monomer that can be copolymerized with other components of the specific polymer (A) used in the present application, but (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile , Styrenic compounds, maleimides, and derived structural units.
More specifically, for example, methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl methacrylate, N-methoxymethyl methacrylate, methoxymethyl methacrylate, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, benzylmaleimide, styrene, p-methyl Examples include structural units derived from monomers such as styrene, methacrylamide, acrylamide, acrylonitrile, maleic anhydride, and allyl acrylate.

(A)特定ポリマーとして好ましい態様を以下に挙げるが、これに限定されるものではない。
(1) N-メトキシメチルメタアクリルアミド/メタクリル酸/アクリロニトリル=40/30/30(モル比)、重量平均分子量6万の共重合体
(2) N-メトキシメチルメタアクリルアミド/メタクリル酸/ベンジルメタクリレート=50/25/25(モル比)、重量平均分子量7万の共重合体
(3) N-メトキシエチルメタアクリルアミド/メタクリル酸/N−フェニルマレイミド=65/20/15(モル比)、重量平均分子量4万の共重合体
(4) N-メトキシエチルメタアクリルアミド/4-ヒドロキシフェニルメタアクリルアミド/アクリロニトリル=30/25/45(モル比)、重量平均分子量5万の共重合体
(5) メトキシメチルメタアクリレート/メタクリル酸/p−ヒドロキシスチレン/アクリロニトリル=40/20/5/35(モル比)、重量平均分子量7万の共重合体
(6) メトキシメチルメタアクリレート/メタクリル酸/N−フェニルマレイミド/アクリロニトリル=25/25/10/40(モル比)、重量平均分子量7万の共重合体
(A) Although a preferable aspect is mentioned as a specific polymer below, it is not limited to this.
(1) N-methoxymethylmethacrylamide / methacrylic acid / acrylonitrile = 40/30/30 (molar ratio), copolymer having a weight average molecular weight of 60,000
(2) N-methoxymethylmethacrylamide / methacrylic acid / benzyl methacrylate = 50/25/25 (molar ratio), copolymer having a weight average molecular weight of 70,000
(3) N-methoxyethylmethacrylamide / methacrylic acid / N-phenylmaleimide = 65/20/15 (molar ratio), copolymer having a weight average molecular weight of 40,000
(4) N-methoxyethylmethacrylamide / 4-hydroxyphenylmethacrylamide / acrylonitrile = 30/25/45 (molar ratio), copolymer having a weight average molecular weight of 50,000
(5) Copolymer of methoxymethyl methacrylate / methacrylic acid / p-hydroxystyrene / acrylonitrile = 40/20/5/35 (molar ratio), weight average molecular weight 70,000
(6) Copolymer having methoxymethyl methacrylate / methacrylic acid / N-phenylmaleimide / acrylonitrile = 25/25/10/40 (molar ratio) and weight average molecular weight 70,000

本発明における(A)特定ポリマーは、重量平均分子量が、300〜150000であることが好ましく、より好ましくは10000〜60000である。
重量平均分子量は、ポリスチレンを標準サンプルとして、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを使用する方法で測定することができる。
このような(A)特定ポリマーは、米国特許第7144661号明細書に記載の方法で合成することができる。
The weight average molecular weight of the specific polymer (A) in the present invention is preferably 300 to 150,000, more preferably 10,000 to 60000.
The weight average molecular weight can be measured by a method using gel permeation chromatography using polystyrene as a standard sample.
Such (A) specific polymer can be synthesized by the method described in US Pat. No. 7,144,661.

本発明においては、(A)特定ポリマーの1種又は2種以上を適宜混合して用いることができる。
本発明の平版印刷版原版の下層おける(A)特定ポリマーの含有量は、バーニング耐刷性及び耐傷性の効果発現の観点から、下層を構成する組成物の全固形分に対して、20脂質量%〜95質量%の範囲であることが好ましく、60質量%〜90質量%の範囲であることがより好ましい。
下層に含まれ得る他の成分については以下に述べる。
In the present invention, (A) one type or two or more types of specific polymers can be appropriately mixed and used.
The content of the specific polymer (A) in the lower layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is 20 lipids relative to the total solid content of the composition constituting the lower layer from the viewpoint of the effects of burning printing durability and scratch resistance. The amount is preferably in the range of 95% by mass to 95% by mass, and more preferably in the range of 60% by mass to 90% by mass.
Other components that can be included in the lower layer are described below.

<(B)下記一般式(II)で表される構造単位を有する高分子化合物、及び(C)光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層>
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、前記下層を備え、その上にさらに(B)一般式(II)で表される構造単位を有する高分子化合物、及び(C)光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層(本明細書では、適宜、上部記録層と称する)を備える。
<(B) Recording layer containing a polymer compound having a structural unit represented by the following general formula (II) and (C) a compound that absorbs light and generates heat>
The lithographic printing plate precursor according to the invention includes the lower layer on a support, and further has (B) a polymer compound having a structural unit represented by the general formula (II), and (C) absorbing light. And a recording layer containing a compound that generates heat (referred to as an upper recording layer in this specification as appropriate).

〔(B)特定ポリマー〕
(B)特定ポリマーは、下記一般式(II)で表される構造単位を有するポリマーである。
[(B) Specific polymer]
(B) The specific polymer is a polymer having a structural unit represented by the following general formula (II).

Figure 2010078686
Figure 2010078686

一般式(II)中、Xはアルキレン基、アリーレン基、アリレン基、及びこれらのうち少なくとも1つを含んで構成される2価の連結基を表す。nは1〜3の整数を表す。
nは1又は2であることが好ましく、さらに好ましくは1である。
ここで、Xとしては、例えば、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリレン基、アルキレンアリーレン基、アルキレンオキシアリーレン基、アリーレンオキシアリーレン基、アルキレンオキシアリレン基などが挙げられ、これらの連結基は、無置換でもよく、本発明の効果を損なわない限りさらに置換基を有するものであってもよい。
好ましくは、アルキレン基、アリーレン基、アリレン基、アルキレンアリレン基、アリレンアリレン基であり、さらに好ましくは、置換もしくは未置換のフェニレン基であり、特に、nが1の場合には、Xはフェニレン基であることが好ましい。
In the general formula (II), X 1 represents an alkylene group, an arylene group, an arylene group, and a divalent linking group including at least one of them. n represents an integer of 1 to 3.
n is preferably 1 or 2, and more preferably 1.
Here, examples of X 1 include an alkylene group, an arylene group, an alkylene arylene group, an alkylene arylene group, an alkyleneoxyarylene group, an aryleneoxyarylene group, and an alkyleneoxyarylene group, and these linking groups are Further, it may be unsubstituted, and may further have a substituent unless the effects of the present invention are impaired.
Preferred are an alkylene group, an arylene group, an arylene group, an alkylenearylene group, and an arylenearylene group, more preferably a substituted or unsubstituted phenylene group. In particular, when n is 1, X 1 is phenylene. It is preferably a group.

本発明における(B)特定ポリマーは、耐傷性、現像性の観点から、上記一般式(II)で表される構造単位を3〜15モル%含有することが好ましく、5〜15モル%含有することがさらに好ましい。   The specific polymer (B) in the present invention preferably contains 3 to 15 mol%, more preferably 5 to 15 mol% of the structural unit represented by the general formula (II) from the viewpoint of scratch resistance and developability. More preferably.

また、(B)特定ポリマーには、更に、前記構造単位以外の共重合成分を含んでいてもよい。
そのような構造単位としては、本願で用いる(B)特定ポリマーの他の成分と共重合しうるモノマー由来の構造単位であれば特に指定はないが、具体的には、例えば、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸エチル、N-メトキシメチルメタアクリルアミド、メトキシメチルメタアクリレート、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、スチレン、p-メチルスチレン、メタクリルアミド、アクリルアミド、アクリロニトリル、無水マレイン酸、アリルアクリレートなどのモノマーに由来する構造単位が挙げられる。
これら、他の構造単位は、(B)特定ポリマー中に、85〜97モル%含まれることが好ましく、85〜95モル%含まれることがさらに好ましい。
The specific polymer (B) may further contain a copolymer component other than the structural unit.
Such a structural unit is not particularly specified as long as it is a structural unit derived from a monomer that can be copolymerized with other components of the specific polymer (B) used in the present application. Specifically, for example, methyl methacrylate, Methyl acrylate, ethyl methacrylate, ethyl acrylate, N-methoxymethyl methacrylate, methoxymethyl methacrylate, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, benzylmaleimide, styrene, p-methylstyrene, methacrylamide, acrylamide, acrylonitrile , Structural units derived from monomers such as maleic anhydride and allyl acrylate.
These other structural units are preferably contained in the specific polymer (B) in an amount of 85 to 97 mol%, more preferably 85 to 95 mol%.

本発明に用いうる(B)特定ポリマーとしては、例えば、N−(4−カルボキシフェニル)マレイミドと メタクリル酸メチルの共重合体、N−(4−カルボキシフェニル)マレイミドとアクリル酸エチルの共重合体などが挙げられるが本発明はこれに制限されない。
このような(B)特定ポリマーは、米国特許第7169518号明細書に記載の方法で合成することができる。
Examples of the (B) specific polymer that can be used in the present invention include a copolymer of N- (4-carboxyphenyl) maleimide and methyl methacrylate, and a copolymer of N- (4-carboxyphenyl) maleimide and ethyl acrylate. However, the present invention is not limited to this.
Such (B) specific polymer can be synthesized by the method described in US Pat. No. 7,169,518.

本発明における(B)特定ポリマーの重量平均分子量(Mw)は1,000〜150,000の範囲であることが好ましく、より好ましくは10,000〜100,000の範囲であり、最も好ましくは場合30,000〜80,000の範囲である。
重量平均分子量は、ポリスチレンを標準サンプルとして、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用する方法で測定することができる。
In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) of the (B) specific polymer is preferably in the range of 1,000 to 150,000, more preferably in the range of 10,000 to 100,000, and most preferably It is in the range of 30,000-80,000.
The weight average molecular weight can be measured by a method using gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard sample.

なお、本発明においては、(B)特定ポリマーの1種又は2種以上を適宜混合して用いることができる。   In the present invention, one type or two or more types of (B) specific polymer can be appropriately mixed and used.

本発明における(B)特定ポリマーの含有量は、耐傷性、耐薬品性の観点から、上部記録を構成する組成物の全固形分に対して、3質量%〜40質量%の範囲であることが好ましく、5質量%〜20質量%の範囲であることがより好ましい。   In the present invention, the content of the specific polymer (B) is in the range of 3% by mass to 40% by mass with respect to the total solid content of the composition constituting the upper recording from the viewpoint of scratch resistance and chemical resistance. Is preferable, and the range of 5% by mass to 20% by mass is more preferable.

〔(C)光を吸収して熱を発生する化合物〕
本発明に係る上部記録層には、上記(B)特定ポリマーに加え、(C)光を吸収して熱を発生する化合物(以下、適宜、光熱変換剤と称する。)を含有することを要する。
本発明に用いうる光熱変換剤は、画像形成に用いる光源の露光により発熱する化合物であればいずれも用いることができるが、本発明の平版印刷版原版が赤外線レーザ露光により画像形成されることから、700nm以上、好ましくは750〜1200nmの赤外域に光吸収域を有し、この範囲の波長域の光により、光/熱変換能を発現する赤外線吸収剤を用いることが好ましく、具体的には、上記波長域の光を吸収し熱を発生する種々の染料又は顔料を用いることができる。
[(C) Compound that absorbs light and generates heat]
The upper recording layer according to the present invention needs to contain (C) a compound that absorbs light and generates heat (hereinafter, appropriately referred to as a photothermal conversion agent) in addition to the specific polymer (B). .
As the photothermal conversion agent that can be used in the present invention, any compound that generates heat upon exposure to a light source used for image formation can be used. However, the lithographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by infrared laser exposure. It is preferable to use an infrared absorber that has a light absorption region in the infrared region of 700 nm or more, preferably 750 to 1200 nm, and expresses light / heat conversion ability by light in this wavelength range, specifically, Various dyes or pigments that absorb light in the above wavelength range and generate heat can be used.

染料としては、市販の染料、例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes, for example, known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes And dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A 59-73996, JP-A 60-52940, JP-A 60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A 58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明の平版印刷版原版のポジ型記録層に使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because they are excellent in photothermal conversion efficiency. Particularly, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is preferably a positive electrode of the lithographic printing plate precursor according to the invention. When used in the mold recording layer, it is most preferable because it gives a high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.

Figure 2010078686
Figure 2010078686

一般式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、−X−L又は以下に示す基を表す。ここで、Xは酸素原子又は、硫黄原子を示し、Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , —X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.

Figure 2010078686
Figure 2010078686

前記式中、Xaは、後述するZaと同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 R及びRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、RとRとは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 In the above formula, Xa - has Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y、Yは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、但し、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。好ましいZaは、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリ−ルスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開2001−133969明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638明細書の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360明細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A-2001-133969. And those described in paragraph numbers [0012] to [0038] of JP-A No. 2002-40638 and paragraph numbers [0012] to [0023] of JP-A No. 2002-23360.

Figure 2010078686
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前記一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Zbは対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Na、K、Li)などが挙げられる。R〜R14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R〜R14及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。 In the general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, the methine chain may have a substituent, and the substituents are bonded to each other to form a ring structure. Also good. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Na + , K + , Li + ) and the like. R 9 to R 14 and R 15 to R 20 are each independently a hydrogen atom or halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group Or a substituent selected from amino groups, or a combination of two or three of these, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in the general formula (b), those in which L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms and those in which R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms are readily available. From the viewpoint of the effect.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   Specific examples of the dye represented by formula (b) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below.

Figure 2010078686
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Figure 2010078686
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前記一般式(c)中、Y及びYは、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Zaは対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZaと同義である。 In the general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms. R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different, and are each a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, thio Represents a group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Further, wherein Za - include a counter anion, Za in the general formula (a) - it is synonymous.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2010078686
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Figure 2010078686
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前記一般式(d)中、R29〜R32は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に0〜4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又はR30はR33と、また、R31及び/又はR32はR34と結合して環を形成してもよく、更に、R33或いはR34が複数存在する場合に、R33同士或いはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。X及びXは各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、X及びXの少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zcは対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZaと同義である。 In the general formula (d), R 29 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 33 and R 34 each independently represents an alkyl group, a substituted oxy group, or a halogen atom. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. R 29 and R 30 , or R 31 and R 32 may be bonded to each other to form a ring, R 29 and / or R 30 is R 33 , and R 31 and / or R 32 is R 34. To form a ring, and when there are a plurality of R 33 or R 34 , R 33 or R 34 may be bonded to each other to form a ring. X 2 and X 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and at least one of X 2 and X 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure together with a divalent organic group. Zc - represents a counter anion, Za in the general formula (a) - synonymous.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by the general formula (d) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2010078686
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Figure 2010078686
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前記一般式(e)中、R35〜R50はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。 In the general formula (e), R 35 to R 50 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a hydroxyl group, or a carbonyl group that may have a substituent. Group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group, amino group, and onium salt structure. M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, and an oxymetal group, and the metal atoms contained therein are IA, IIA, IIIB, IVB group atoms of the periodic table, first, second, second Three-period transition metals and lanthanoid elements can be mentioned, among which copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, and vanadium are preferable.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2010078686
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前記顔料としては、市販の顔料又はカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)及び「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment include a commercially available pigment or color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), and “ The pigments described in “Printing Ink Technology”, published by CMC Publishing, 1984) can be used.

前記顔料の種類としては、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラックを用いることができる。   Examples of the pigment include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, and polymer-bonded dye. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments A quinophthalone pigment, a dyed lake pigment, an azine pigment, a nitroso pigment, a nitro pigment, a natural pigment, a fluorescent pigment, an inorganic pigment, or carbon black can be used.

これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート)を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment method include a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate) to the pigment surface. It is done. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、分散物の塗布液中での安定性、及び、記録層の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoint of the stability of the dispersion in the coating liquid and the uniformity of the recording layer. More preferably, it is particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの顔料若しくは染料(光熱変換剤)は、感度と、被膜の均一性や耐久性とのバランスの観点から、上部記録層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。
なお、光熱変換剤は、感度向上を目的として、さらに、下層に含有させてもよい。その場合の光熱変換剤含有量としては、前記下層の全固形分に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。
These pigments or dyes (light-to-heat conversion agents) are 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content constituting the upper recording layer, preferably from the viewpoint of the balance between sensitivity, film uniformity and durability, preferably 0.1 to 10% by mass, particularly preferably in the case of a dye, 0.5 to 10% by mass, and particularly in the case of a pigment, 0.1 to 10% by mass can be added.
The photothermal conversion agent may be further contained in the lower layer for the purpose of improving sensitivity. In this case, the content of the photothermal conversion agent is preferably 0.01 to 50% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total solid content of the lower layer.

〔その他の成分〕
本発明の平版印刷版原版に備えられる下層及び上部記録層中には、前記下層における必須成分である(A)特定ポリマー、前記上部記録層における必須成分である(B)特定ポリマー及び(C)光熱変換剤に加え、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の化合物を併用することができる。
[Other ingredients]
In the lower layer and the upper recording layer provided in the lithographic printing plate precursor according to the invention, (A) a specific polymer as an essential component in the lower layer, (B) a specific polymer as an essential component in the upper recording layer, and (C) In addition to the photothermal conversion agent, various compounds can be used in combination as required as long as the effects of the present invention are not impaired.

例えば、上記の2層には、それぞれ(A)特定ポリマー、(B)特定ポリマー以外の、他のアルカリ水溶液可溶性樹脂を必要に応じて記録層中に含有させることができる。この場合、他のアルカリ可溶性樹脂としては、特に限定されないが、汎用のノボラック樹脂が好ましい。   For example, the two layers can contain other aqueous solution-soluble resins other than (A) specific polymer and (B) specific polymer, if necessary, in the recording layer. In this case, the other alkali-soluble resin is not particularly limited, but a general-purpose novolac resin is preferable.

ノボラック樹脂としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合及びo−/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the novolak resin include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / p -Any of mixing, m- / o-mixing and o- / p-mixing.) Mixed formaldehyde resins are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのノボラック樹脂としては、重量平均分子量は1,500以上、数平均分子量が300以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が3,000〜300,000で、数平均分子量が500〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。   These novolak resins preferably have a weight average molecular weight of 1,500 or more and a number average molecular weight of 300 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 3,000 to 300,000, the number average molecular weight is 500 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .

また、併用しうる好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、上記酸性基に関して詳述した酸性基を有する構造単位である、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有する高分子化合物が挙げられる。
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SONH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SONHCOR、−SONHSOR、−CONHSOR〕
(4)カルボン酸基(−COH)
(5)スルホン酸基(−SOH)
(6)リン酸基(−OPO
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
Moreover, as a preferable alkali-soluble resin that can be used in combination, the acidic group listed in the following (1) to (6), which is a structural unit having an acidic group described in detail with respect to the acidic group, is the main chain and / or side of the polymer. Examples thereof include a polymer compound contained in the chain.
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) sulfonic acid group (-SO 3 H)
(6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)
In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent. .

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。   Among the alkali-soluble resins having an acidic group selected from the above (1) to (6), (1) an alkali-soluble resin having a phenol group, (2) a sulfonamide group, and (3) an active imide group is preferable. An alkali-soluble resin having (1) a phenol group or (2) a sulfonamide group is most preferred from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
(1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、又はm−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの縮重合体等の、先に挙げたノボラック樹脂に包含されるものが挙げられ、また、ピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。更に、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
As alkali-soluble resin which has an acidic group chosen from said (1)-(6), the following can be mentioned, for example.
(1) Examples of the alkali-soluble resin having a phenol group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, m− / p. -The novolak resin mentioned above, such as a condensation polymer of mixed cresol and formaldehyde, a condensation polymer of phenol and cresol (any of m-, p-, or m- / p-mixed) and formaldehyde. What is included is mentioned, The condensation polymer of pyrogallol and acetone can be mentioned. Furthermore, the copolymer which copolymerized the compound which has a phenol group in a side chain can also be mentioned. Alternatively, a copolymer obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be used.

フェノール基を有する化合物としては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。   Examples of the compound having a phenol group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenol group.

(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構造単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、前記一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物が挙げられる。   (2) Examples of the alkali-soluble resin having a sulfonamide group include a polymer composed of a minimum structural unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main constituent component. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule is preferable. For example, the general formula (i) to the general formula ( and a compound represented by v).

前記一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物のうち、本発明の平版印刷版原版では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by the general formula (i) to the general formula (v), in the lithographic printing plate precursor according to the invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構造単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) Examples of the alkali-soluble resin having an active imide group include a polymer composed of a minimum structural unit derived from a compound having an active imide group as a main constituent component. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 2010078686
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具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構造単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構造単位を主要構造単位とする重合体を挙げることができる。
(6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構造単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(4) As an alkali-soluble resin having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.
(5) Examples of the alkali-soluble polymer having a sulfonic acid group include a minimum structural unit derived from a compound having at least one sulfonic acid group and a polymerizable unsaturated group in the molecule as a main structural unit. Can be mentioned.
(6) As an alkali-soluble resin having a phosphate group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphate group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.

前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構造単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構造単位を2種以上、又は異なる酸性基を有する最小構造単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。   The minimum structural unit having an acidic group selected from the above (1) to (6) is not particularly limited to one kind, and two or more minimum structural units having the same acidic group or different acidic groups are included. What copolymerized 2 or more types of the minimum structural unit can also be used.

前記共重合体は、共重合させる(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に3(10)モル%以上含まれているものが好ましく、5(20)モル%以上含まれているものがより好ましい。上記含有量の範囲であれば、実質的に溶剤を含まないアルカリ性現像液への溶解性を確保することができ、現像ラチチュードを十分に向上させることができる。   The copolymer preferably contains 3 (10) mol% or more of a compound having an acidic group selected from (1) to (6) to be copolymerized in the copolymer. % Is more preferable. If it is the range of the said content, the solubility to the alkaline developing solution which does not contain a solvent substantially can be ensured, and a development latitude can fully be improved.

前記酸性基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、例えば、下記(m1)〜(m11)に挙げるモノマーを用いることができるが、これらに限定されるものではない。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
As the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having an acidic group, for example, monomers listed in the following (m1) to (m11) can be used, but are not limited thereto.
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.

(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.

(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.

本発明において他の高分子化合物は、異なる2種以上の他の高分子化合物を併用しても良い。   In the present invention, other polymer compounds may be used in combination with two or more different polymer compounds.

以上例示した他の高分子化合物のうち、下層で併用することができる他の高分子化合物としては、スルホンアミド基および/またはカルボン酸基を有する共重合体であることが好ましく、共重合成分としては、アルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N−フェニルマレイミドをあげることができる。   Among the other polymer compounds exemplified above, the other polymer compound that can be used in the lower layer is preferably a copolymer having a sulfonamide group and / or a carboxylic acid group, Can include alkyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, and N-phenylmaleimide.

また、上層に用いることができる他の高分子化合物としては、ノボラック樹脂、キシレノール樹脂が好適に用いられ、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール樹脂、キシレノール/フェノール混合樹脂、キシレノール/ノボラック混合樹脂、キシレノール/ノボラック/フェノール混合樹脂等をあげることができる。   As other polymer compounds that can be used in the upper layer, novolac resins and xylenol resins are preferably used, such as phenol formaldehyde resins, m-cresol formaldehyde resins, p-cresol formaldehyde resins, m- / p-mixed cresols. Formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / p-mixed, m- / o-mixed and o- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, 2,3-xylenol 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol resin, xylenol / phenol mixed resin, xylenol / novolak mixed resin, xylenol / novolak / phenol mixed Examples thereof include resins.

本発明において、下層に用いるフェノール性水酸基を有する前記高分子化合物がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等のアルデヒドを用いた共縮合型の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。
下層に用いるフェノール性水酸基を有する前記高分子化合物がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等のアルデヒドを用いた共縮合型の樹脂以外の高分子化合物の場合は、重量平均分子量は2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましく、更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
In the present invention, when the polymer compound having a phenolic hydroxyl group used in the lower layer is a cocondensation type resin using an aldehyde such as a phenol formaldehyde resin or a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to 20,000. The number average molecular weight is preferably 200 to 10,000.
When the polymer compound having a phenolic hydroxyl group used in the lower layer is a polymer compound other than a cocondensation resin using an aldehyde such as phenol formaldehyde resin or cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 2,000 or more, several Those having an average molecular weight of 500 or more are preferable, and more preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight). Is 1.1-10.

本発明における他の高分子化合物の添加量としては、上層及び下層のいずれもそれぞれ30〜99質量%、好ましくは50〜99質量%、特に好ましくは65〜99質量%の添加量で用いられる。高分子化合物の添加量が前記の範囲内であると前記上層及び下層感熱層の耐久性が高く、感度が高くなるため好ましい。   As the addition amount of the other polymer compound in the present invention, both the upper layer and the lower layer are used in an addition amount of 30 to 99% by mass, preferably 50 to 99% by mass, particularly preferably 65 to 99% by mass. It is preferable that the addition amount of the polymer compound is within the above range because the upper layer and the lower layer thermosensitive layer have high durability and high sensitivity.

〔溶解抑止剤〕
また、記録層の溶解性を調節するために、他のオニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等、添加するとアルカリ水可溶性高分子(アルカリ可溶性樹脂)の現像液への溶解阻止機能を向上させるいわゆる溶解抑止剤を添加することが好ましく、中でも、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。
[Dissolution inhibitor]
Further, in order to adjust the solubility of the recording layer, when other onium salts, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, polyfunctional amine compounds, etc. are added, development of an alkali water-soluble polymer (alkali-soluble resin) is performed. It is preferable to add a so-called dissolution inhibitor that improves the dissolution inhibition function in the liquid, and among them, onium salts, o-quinonediazide compounds, sulfonic acid alkyl esters and the like are thermally decomposable, and in a state where they are not decomposed, alkali-soluble resins It is preferable to use a substance that substantially lowers the solubility in terms of improving the solubility of the image area in the developer.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばS.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び4級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)で示されるジアゾニウム塩や特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また4級アンモニウム塩としては、特開2002−229186号公報における〔化5〕、〔化6〕中に(1)〜(10)として記載される4級アンモニウム塩が好ましい。
Preferred examples of the onium salt used in the present invention include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581, sulfonium salts described in J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt, C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).
Among these onium salts, diazonium salts and quaternary ammonium salts are particularly preferable from the viewpoints of dissolution inhibition ability and thermal decomposability. In particular, the diazonium salt is preferably a diazonium salt represented by the general formula (I) described in JP-A-5-158230 or a diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064. The diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064 having a small absorption wavelength in the visible light region is most preferable. Moreover, as a quaternary ammonium salt, the quaternary ammonium salt described as (1)-(10) in [Chemical 5] and [Chemical 6] in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-229186 is preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

更にナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/又は、o−キノンジアジド化合物の添加量は好ましくは、前記平版印刷版原版に設けられる各層のそれぞれの全固形分に対し、1〜10質量%、更に好ましくは1〜5質量%、特に好ましくは1〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   The addition amount of the onium salt and / or the o-quinonediazide compound that is a degradable dissolution inhibitor is preferably 1 to 10% by mass with respect to the total solid content of each layer provided in the lithographic printing plate precursor, Preferably it is 1-5 mass%, Most preferably, it is the range of 1-2 mass%. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0.1〜5質量%、更に好ましくは0.1〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。本発明に係る添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass. The additive and binder according to the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

また、下層及び上部記録層に使用される好ましい添加剤としては、感度を向上の観点から、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類などを挙げることができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、及び可塑剤も、前記下層又は上部記録層の添加剤として使用することができる。
環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、及びカルボン酸類などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の前記各層中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
Moreover, as a preferable additive used for a lower layer and an upper recording layer, cyclic acid anhydrides, phenols, organic acids, etc. can be mentioned from a viewpoint of improving a sensitivity. Further, a surfactant, an image colorant, and a plasticizer, which will be described later, can also be used as additives for the lower layer or the upper recording layer.
Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-4-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like. Examples thereof include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755.
The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols, and organic acids in each layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0.1 to 0.1% by mass. 10% by mass.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び本発明者らが先に提案した特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。   In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group described in JP-A-8-276558, and the inventors previously proposed. A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-11-160860 can be appropriately added depending on the purpose.

また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Further, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、前記各層の全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of each layer.

更に、本発明に係る平版印刷版原版の記録層のうち下層及び上部記録層には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the lower recording layer and the upper recording layer of the recording layer of the planographic printing plate precursor according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

〔平版印刷版原版の製造〕
(塗布溶剤及び塗布方法)
本発明の平版印刷版原版は、前述の下層及び上部記録層に含有される各特定ポリマー、光熱変換剤等の成分を溶媒に溶かした塗布液を調製して、親水性表面を有する支持体上に下層用塗布液、上部記録層用塗布液の順に塗布することにより、前記支持体上に下層、上部記録層を形成することができる。
また、目的に応じて、後述する保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
ここで使用する塗布溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独或いは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
[Manufacture of lithographic printing plate precursors]
(Coating solvent and coating method)
The lithographic printing plate precursor of the present invention is prepared on a support having a hydrophilic surface by preparing a coating solution in which components such as each specific polymer and photothermal conversion agent contained in the lower layer and the upper recording layer are dissolved in a solvent. The lower layer and the upper recording layer can be formed on the support by applying the lower layer coating solution and the upper recording layer coating solution in this order.
Further, depending on the purpose, a protective layer, a resin intermediate layer, a backcoat layer and the like which will be described later can be formed in the same manner.
As the coating solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, Examples include dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene. It is not limited to. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.

また、塗布、乾燥後に得られる支持体上の固形分塗布量は、上層は0.05〜2.0g/m、下層は0.3〜5.0g/mがそれぞれ好ましく、より好ましくは上層は0.1〜1.0g/m、下層は0.5〜3.0g/mの範囲である。また上層と下層との塗布量の比(上層/下層)は、0.05〜1が好ましく、より好ましくは0.1〜0.8の範囲である。 The coating, solid coating amount on the support obtained after drying, the top layer 0.05 to 2.0 g / m 2, the lower layer is preferably each 0.3 to 5.0 g / m 2, more preferably The upper layer is in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 , and the lower layer is in the range of 0.5 to 3.0 g / m 2 . Moreover, 0.05-1 are preferable, and, as for ratio (upper layer / lower layer) of the coating amount of an upper layer and a lower layer, More preferably, it is the range of 0.1-0.8.

前記上下層の各塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、それぞれの層の皮膜特性は低下する。   Various methods can be used as a method for applying the upper and lower layer coating solutions. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll Application etc. can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of each layer decrease.

<支持体>
本発明に係る平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフイルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフイルム等が挙げられる。
また、非画像部の汚れ防止の観点からは、親水性表面を有する支持体が好ましく、これら支持体の基材、例えば、アルミニウム板などに、後述するような親水性の表面処理を行ったものなどを用いることができる。
<Support>
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material, and is not particularly limited as long as it satisfies the required properties such as strength and flexibility. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with or vapor-deposited metal as described above, or plastic film.
In addition, from the standpoint of preventing non-image areas from being stained, a support having a hydrophilic surface is preferable, and a base material of these supports, for example, an aluminum plate or the like is subjected to a hydrophilic surface treatment as described later. Etc. can be used.

本発明に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であることが好ましい。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.12mm〜0.4mmである。
As the support applicable to the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film in which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and a conventionally known and publicly available aluminum plate can be used as appropriate.
The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.12 mm to 0.4 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can also be used. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to an anodization treatment to enhance the water retention and wear resistance of the surface as desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は1.0g/mより少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなったりして、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general, but in general, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate is likely to be scratched. A so-called “scratch stain” that adheres easily occurs. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

<下塗層>
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に前記下層及び上部記録層を設けたものであるが、必要に応じて支持体と下層との間に下塗層を設けることができる。この下塗層を設けることで、支持体と記録層との間の下塗層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。
また、本発明に係る下層は、この下塗層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
なお、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である記録層自体が下塗層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光部においては、溶解抑制能が解除された記録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの下塗層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この下塗層は有用であると考えられる。
<Undercoat layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the lower layer and the upper recording layer are provided on a support, and an undercoat layer can be provided between the support and the lower layer, if necessary. By providing this undercoat layer, the undercoat layer between the support and the recording layer functions as a heat insulating layer, and the heat generated by the infrared laser exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently. Therefore, there is an advantage that high sensitivity can be achieved.
Moreover, since the lower layer according to the present invention is located on the exposed surface or in the vicinity thereof even when the undercoat layer is provided, the sensitivity to the infrared laser is maintained well.
In the unexposed area, the recording layer itself that is impermeable to the alkaline developer functions as a protective layer for the undercoat layer, so that the development stability is good and the image is excellent in discrimination. In the exposed area, the components of the recording layer whose dissolution-inhibiting ability is released are quickly dissolved and dispersed in the developer. Since the undercoat layer itself, which is adjacent to the support, is made of an alkali-soluble polymer, it has good solubility in a developer, for example, even when a developer with reduced activity is used. It is considered that this undercoat layer is useful because it dissolves rapidly without the formation of a film and the like and contributes to the improvement of developability.

下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。   Various organic compounds are used as the primer layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid which may have a substituent Organic phosphonic acids such as naphthyl phosphonic acid, alkyl phosphonic acid, glycero phosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenyl phosphoric acid which may have a substituent, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid, glycerophosphinic acid and other organic phosphinic acids, glycine and β-alanine amino acids, and triethanolamine hydrochloric acid Has a hydroxy group such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

さらに下記式で示される構造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む下塗り層も好ましい。   Furthermore, an undercoat layer containing at least one compound selected from the group of organic polymer compounds having a structural unit represented by the following formula is also preferred.

Figure 2010078686
Figure 2010078686

式中、R11は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−OR14、−COOR15、−CONHR16、−COR17若しくは−CNを表す。尚、R12及びR13が結合して環を形成してもよい。R14〜R17はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、Xは水素原子、金属原子、NR18192021を表し、R18〜R21はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール基を表すか、又はR18及びR19が結合して環を形成してもよく、mは1〜3の整数を表す。 Wherein, R 11 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, R 12 and R 13 each independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, -OR 14, -COOR 15, represents a -CONHR 16, -COR 17 or -CN. R 12 and R 13 may combine to form a ring. R 14 to R 17 each independently represents an alkyl group or an aryl group, X represents a hydrogen atom, a metal atom, or NR 18 R 19 R 20 R 21 , and R 18 to R 21 each independently represents a hydrogen atom , An alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, or R 18 and R 19 may be bonded to form a ring, and m represents an integer of 1 to 3.

また、本発明における好適な下塗層成分として、特開2000−241962号公報に記載の酸基を有する構造単位とオニウム基を有する構造単位とを有する高分子化合物を挙げることができる。
具体的には、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。
酸基として好ましいのは酸解離指数(pKa)が7以上の酸基であり、より好ましくは−COOH、−SOH、−OSOH、−PO、―OPO、―CONHSO―、または−SONHSO−であり、特に好ましくは−COOHである。
酸基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、上記酸基を有するスチレンなどが挙げられる。
オニウム基として好ましいのは、周期表V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子から成るオニウム基であり、特に好ましくは窒素原子から成るオニウム基である。オニウム基を有するモノマーの具体例としては、側鎖にアンモニウム基を有するメタクリレート、メタクリルアミド、第4級アンモニウム基などのオニウム基を含む置換基などのオニウム基を含む置換基を有するスチレン等が挙げられる。
さらに、特開2000−108538号公報、特願2002−257484号公報、特願2003−78699号公報、等に記載されているような化合物についても、必要に応じて用いることができる。
Moreover, as a suitable undercoat layer component in the present invention, there can be mentioned a polymer compound having a structural unit having an acid group and a structural unit having an onium group, as described in JP-A No. 2000-241962.
Specific examples include a copolymer of a monomer having an acid group and a monomer having an onium group.
The acid group is preferably an acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or more, more preferably —COOH, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , — CONHSO 2 — or —SO 2 NHSO 2 —, particularly preferably —COOH.
Specific examples of the monomer having an acid group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and styrene having the acid group.
Preferred as the onium group is an onium group composed of Group V or Group VI atoms, more preferably an onium group composed of nitrogen, phosphorus or sulfur atoms, and particularly preferably an onium group composed of nitrogen atoms. It is a group. Specific examples of the monomer having an onium group include styrene having a substituent containing an onium group such as a methacrylate having an ammonium group in the side chain, a methacrylamide, a substituent containing an onium group such as a quaternary ammonium group, and the like. It is done.
Furthermore, compounds as described in JP-A No. 2000-108538, Japanese Patent Application No. 2002-257484, Japanese Patent Application No. 2003-78699, and the like can be used as necessary.

これらの下塗り層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける方法である。   These undercoat layers can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washed and dried with water or the like to provide an undercoat layer.

前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。
また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。
また、下塗り層には画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods.
In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid.
In addition, a yellow dye can be added to the undercoat layer in order to improve the tone reproducibility of the image recording material.

下塗り層の被覆量は、2〜200mg/mが適当であり、好ましくは5〜100mg/mである。被覆量が上記範囲において十分な耐刷性能向上効果を得ることができる。 The coating amount of the undercoat layer, 2 to 200 mg / m 2 are suitable, and preferably from 5 to 100 mg / m 2. When the coating amount is in the above range, a sufficient effect of improving printing durability can be obtained.

<平版印刷版原版の製版>
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。即ち、記録層の加熱領域におけるアルカリ可溶性が増大し、現像により除去されて、インク受容性の画像部(未露光部)と現像により支持体の親水性表面が露出した湿し水受容性の非画像部(露光部)が形成され、平版印刷版が得られる。
(露光)
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、波長700〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光により画像形成される。
熱記録ヘッド等による直接画像様記録、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いることもできる。
赤外線レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましく、平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜500mJ/cmであることが好ましい。
<Plate making of lithographic printing plate precursor>
The planographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by heat. That is, the alkali solubility in the heated region of the recording layer is increased and removed by development, and the ink-receptive image area (unexposed area) and the hydrophilic surface of the support are exposed by development. An image portion (exposed portion) is formed, and a lithographic printing plate is obtained.
(exposure)
The planographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by heat. Specifically, an image is formed by exposure with a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm.
Direct image-like recording by a thermal recording head or the like, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure can also be used.
The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec, and the energy applied to the lithographic printing plate precursor is preferably 10 to 500 mJ / cm 2 .

〔現像〕
本発明においては、平版印刷版原版は、実質的に有機溶剤を含まないpH12以上のアルカリ性水溶液で現像されることが好ましい。ここで「実質的に有機溶剤を含まない」とは、環境衛生、安全性、作業性等の観点からみて不都合を生じる程度までは有機溶剤を含有しない、の意味であるが、本発明においては現像液中の有機溶剤の割合が0.5重量%以下であることをいい、好ましくは0.3重量%以下、全く含有しないのが最も好ましい。またpHは12.0以上であるが、より好ましくは12.0〜14.0である。
現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
〔developing〕
In the present invention, the lithographic printing plate precursor is preferably developed with an alkaline aqueous solution having a pH of 12 or higher that does not substantially contain an organic solvent. Here, “substantially free of organic solvent” means that it does not contain an organic solvent to the extent of causing inconvenience in terms of environmental health, safety, workability, etc. The ratio of the organic solvent in the developer is 0.5% by weight or less, preferably 0.3% by weight or less, and most preferably not contained at all. Moreover, although pH is 12.0 or more, More preferably, it is 12.0-14.0.
A known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as a developer including a replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液で、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. Another more preferable developer, which is an aqueous solution called “silicate developer” having a pH of 12 or more, does not contain an alkali silicate, and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Silicate developer ".

前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiOとアルカリ金属酸化物MOの比率(一般に〔SiO〕/〔MO〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO/NaOのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO〕/〔NaO〕が1.0〜1.5)であって、SiOの含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO〕/〔MO〕が1.0〜1.5)であって、SiOの濃度が1〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the former, the aqueous solution of alkali metal silicate is a ratio of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O which is a component of silicate (generally expressed as a molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]. ) And the density, the developability can be adjusted. For example, as disclosed in JP-A No. 54-62004, the SiO 2 / Na 2 O molar ratio is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4% by mass is disclosed in JP-B-57-7427. As described, [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and SiO 2 The total alkali gold in which the concentration of the developer is 1 to 4% by mass and the developer is present therein And the gram atom based containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」が、本発明の平版印刷版原版の現像に適用するのには一層好ましい。この現像液を用いて、平版印刷版原版の現像処理を行うと、ポジ型記録層の表面を劣化させることがなく、かつポジ型記録層の着肉性を良好な状態に維持することができる。また、平版印刷版原版は、一般には現像ラチチュードが狭く、現像液pHによる画線幅等の変化が大きいが、ノンシリケート現像液にはpHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖が含まれているため、シリケートを含む現像処理液を用いた場合に比べて有利である。更に、非還元糖は、シリケートに比べて液活性度を制御するための電導度センサーやpHセンサー等を汚染し難いため、この点でも、ノンシリケート現像液は有利である。また、ディスクリミネーション向上効果が顕著である。これは、本発明において重要な現像液との接触(浸透)がマイルドとなり、露光部及び未露光部の差が出やすくなっているためと推定される。   In addition, a so-called “non-silicate developer” which does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base is more preferable for application to the development of a lithographic printing plate precursor according to the present invention. When the development of the planographic printing plate precursor is performed using this developer, the surface of the positive recording layer is not deteriorated, and the inking property of the positive recording layer can be maintained in a good state. . In addition, the lithographic printing plate precursor generally has a narrow development latitude and a large change in the image line width due to the developer pH, but the non-silicate developer contains a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH. Therefore, it is more advantageous than the case where a developing processing solution containing silicate is used. Furthermore, since non-reducing sugars are less likely to contaminate conductivity sensors, pH sensors and the like for controlling liquid activity compared to silicates, non-silicate developers are advantageous in this respect as well. Further, the effect of improving discrimination is remarkable. This is presumably because the contact (penetration) with the developer which is important in the present invention is mild, and the difference between the exposed and unexposed areas is likely to occur.

前記非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において好適に用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。   The non-reducing sugar is a saccharide that does not have a free aldehyde group or a ketone group and does not exhibit reducibility, and is a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bonded to each other. And sugar alcohols reduced by hydrogenation of saccharides and sugars, both of which can be suitably used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なpH領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。   Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit, allozulcit and the like. . Further, maltitol hydrogenated to disaccharide maltose, reduced form obtained by hydrogenation of oligosaccharide (reduced water candy), and the like are preferable. Among these non-reducing sugars, trehalose-type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose, reduced syrup, etc. are preferable in that they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.

これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記含有量が、0.1質量%未満であると十分な緩衝作用が得られなくなる傾向があり、30質量%を越えると高濃縮化し難く、また原価も高くなる傾向がある。   These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass. If the content is less than 0.1% by mass, a sufficient buffering effect tends to be not obtained, and if it exceeds 30% by mass, it is difficult to achieve high concentration and the cost tends to increase.

また、前記非還元糖と組み合わせて用いられる塩基としては、公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the base used in combination with the non-reducing sugar include known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents. Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, Examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate.

有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。
前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。
Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanol. Examples include amine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine.
The said base may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. In the present invention, as the non-silicate developer, a non-reducing sugar alkali metal salt as a main component can be used instead of the non-reducing sugar and the base.

また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergmon Press 社発行のIonization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution 等に記載されているものから選択できる。   In addition, an alkaline buffer composed of a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developer. The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and can be selected from, for example, those described in Ionization Constants of Organic Acids Solution issued by Pergmon Press.

具体的には、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール−1、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(、ピリジン−4−アルデヒド(等のアルデヒド類、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、3,4−ジヒドロキシスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール、o−、m−,p−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物、アセトキシム、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類、アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質、その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。   Specifically, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1, trifluoroethanol, and trichloroethanol, pyridine-2-aldehyde (, aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (such as salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, catechol, gallic acid, sulfosalicylic acid, 3,4-dihydroxysulfonic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, hydroquinone (11.56), pyrogallol, o-, m-, p -Compounds having a phenolic hydroxyl group such as cresol, resorsonol, oximes such as acetoxime, 2-hydroxybenzaldehyde oxime, dimethylglyoxime, ethanediamide dioxime, acetophenone oxime, adenosine, inosine, guanine, cytosine, hypoxanthine, chitosan Nucleic acid-related substances such as Nchin, other, diethylaminomethyl acid, benzimidazole, and the like barbituric acid is preferably exemplified.

前記現像液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散または、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。   Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as necessary for the purpose of promoting or suppressing developability, dispersing development residue, or improving ink affinity of the printing plate image area. As the surfactant, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants are preferable. Furthermore, in the developer, if necessary, a reducing agent such as sodium salt or potassium salt of inorganic acid such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, or bisulfite, and further organic carboxylic acid, antifoaming agent, water softener, etc. Can be added.

前記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As post-processing, these processes can be used in various combinations.

更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明に係る印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than that of the developer is added to the developer, so that a large amount of the developer can be obtained without replacing the developer in the developer tank for a long time. It is known that PS plates can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area.
Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. If necessary, the developer and replenisher may contain reducing agents such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, bisulfite, and other inorganic acids such as sodium salts and potassium salts, organic carboxylic acids, antifoaming agents, and hard water softeners. It can also be added.
The printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with water-washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, a desensitizing solution containing gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the printing plate precursor according to the present invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. A developing solution is sprayed from a spray nozzle. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明に係る平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, image portions unnecessary for the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, film edge traces of the original film). Etc.), the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if it is desired to make a lithographic printing plate with a higher printing durability, if desired, Burning process is performed.
In the case of burning a lithographic printing plate, the preparation as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859 and JP-A-61-159655 is performed before burning. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method of applying the printing plate by dipping in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.

整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。 In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting liquid is dried if necessary and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, a burning processor sold by FUJIFILM Corporation: “BP-1300”). . In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

本発明においては、前述のように、(A)特定ポリマーを含有する下層と、(B)特定ポリマーと(C)光熱変換剤を含有する上部記録層とが隣接して設けられるが、下層に含まれる(A)特定ポリマーが、架橋構造を形成しうる部分構造を有するために、このバーニング処理により、膜性自体の向上のみならず、隣接する上部記録層に含まれる成分の特定官能基と相互に架橋構造を形成するために、下層と上部記録層との密着性も向上し、耐刷性が著しく向上することが特徴の一つである。   In the present invention, as described above, (A) the lower layer containing the specific polymer and (B) the specific polymer and (C) the upper recording layer containing the photothermal conversion agent are provided adjacent to each other. Since the (A) specific polymer contained has a partial structure capable of forming a crosslinked structure, this burning treatment not only improves the film properties itself but also the specific functional groups of the components contained in the adjacent upper recording layer. In order to form a cross-linked structure with each other, the adhesion between the lower layer and the upper recording layer is improved, and the printing durability is remarkably improved.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
本発明の平版印刷版原版はこのような処理によって平版印刷版となる。この平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。本発明の平版印刷版原版は、画像部の耐薬品性、耐刷性に優れ、現像ラチチュードが広く、画像再現性に優れるという利点を有する。
The lithographic printing plate that has been burned can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.
The lithographic printing plate precursor of the present invention becomes a lithographic printing plate by such treatment. This planographic printing plate is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets. The lithographic printing plate precursor of the present invention has the advantages of excellent chemical resistance and printing durability of the image area, wide development latitude, and excellent image reproducibility.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

(合成例1)
<(A)特定ポリマー1の合成>
(A)特定ポリマー1は、原料として、N−フェニルマレイミド 14.97g(30モル%)、メタクリルアミド 3.68g(15モル%)、メタクリル酸 4.96g(20モル%)、下記構造のRohamere 6852−0(デグッサ社製)22.84g(20モル%)、及び、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミド 8.29g(15モル%)を用い、常法により合成した。収量は36.26g、収率は71%であった。得られた(A)特定ポリマー1の、GPC法により測定した重量平均分子量は55000であった。
(Synthesis Example 1)
<(A) Synthesis of Specific Polymer 1>
(A) The specific polymer 1 contains N-phenylmaleimide 14.97 g (30 mol%), methacrylamide 3.68 g (15 mol%), methacrylic acid 4.96 g (20 mol%), and Rohamere having the following structure. It was synthesized by a conventional method using 6.84-0 (Degussa) 22.84 g (20 mol%) and N-hydroxymethylmethacrylamide 8.29 g (15 mol%). The yield was 36.26 g, and the yield was 71%. The weight average molecular weight of the obtained (A) specific polymer 1 measured by the GPC method was 55000.

Figure 2010078686
Figure 2010078686

(合成例2)
<(A)特定ポリマー2の合成>
(A)特定ポリマー2は、原料として、N−フェニルマレイミド 32.39g(41.5モル%)、メタクリル酸 8.15g(21モル%)、及び、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミド 32.43g(37.5モル%)を用い、常法により合成した。収量は58.21g、収率は97%であった。得られた(A)特定ポリマー2の重量平均分子量は60000であった。
(Synthesis Example 2)
<(A) Synthesis of specific polymer 2>
(A) The specific polymer 2 contains 32.39 g (41.5 mol%) of N-phenylmaleimide, 8.15 g (21 mol%) of methacrylic acid, and 32.43 g (37 of N-hydroxymethylmethacrylamide) as raw materials. .5 mol%) was synthesized by a conventional method. The yield was 58.21 g, and the yield was 97%. The weight average molecular weight of the obtained (A) specific polymer 2 was 60000.

(合成例3)
<(AC)比較ポリマーC1の合成>
(AC)比較ポリマーC1は、原料として、N−フェニルマレイミド 14.03g(30モル%)、メタクリルアミド 3.45g(15モル%)、メタクリル酸 4.65g(20モル%)、上記構造のRohamere 6852−0(デグッサ社製)21.41g(20モル%)、及び、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド 7.18g(15モル%)を用い、常法により合成した。収量は30.43g、収率は59%であった。このポリマーC1は、側鎖に本発明の如きアルコール性の水酸基ではなく、フェノール性の水酸基を有する比較ポリマーである。得られた比較特定ポリマーAC1の重量平均分子量は50000であった。
(Synthesis Example 3)
<Synthesis of (AC) Comparative Polymer C1>
(AC) Comparative polymer C1 is composed of N-phenylmaleimide 14.03 g (30 mol%), methacrylamide 3.45 g (15 mol%), methacrylic acid 4.65 g (20 mol%), and Rohamere having the above structure. It was synthesized according to a conventional method using 21.41 g (20 mol%) of 6852-0 (Degussa) and 7.18 g (15 mol%) of N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide. The yield was 30.43 g, and the yield was 59%. This polymer C1 is a comparative polymer having not a alcoholic hydroxyl group as in the present invention but a phenolic hydroxyl group in the side chain. The resulting comparative specific polymer AC1 had a weight average molecular weight of 50,000.

(合成例4)
<(B)特定ポリマー1の合成>
(B)特定ポリマー1を以下のように合成した。
攪拌装置を備えた三口の丸底フラスコに、窒素雰囲気下、メチルエチルケトン150g、ジメチルアセトアミド10gを投入し、80℃に加熱した。その後、この溶剤混合液に、メタクリレート46.55gN−(4−カルボキシフェニル)−マレイミド7.6gを加え、溶解した。その後、窒素雰囲気下、15分間ゆるやかに環流して、AIBN0.12gを加え、窒素ガス圧を低下させた。1時間反応した後、さらに、AIBN(アゾビスブチロニトリル)を0.7g加え、85℃で3時間反応させた。このよう液に、石油エーテル(Waschbenzin 135/180)600mlを加えて沈殿させた。沈殿物をろ別し、40℃のバキュームオーブン内で乾燥して(B)特定ポリマ−1を得た。得られた(B)特定ポリマーのGPC法により測定した重量平均分子量は45000であった。
(Synthesis Example 4)
<(B) Synthesis of specific polymer 1>
(B) The specific polymer 1 was synthesized as follows.
A three-necked round bottom flask equipped with a stirrer was charged with 150 g of methyl ethyl ketone and 10 g of dimethylacetamide in a nitrogen atmosphere and heated to 80 ° C. Then, 6.6 g of methacrylate 46.55 g N- (4-carboxyphenyl) -maleimide was added to this solvent mixed solution and dissolved. Thereafter, the mixture was gently refluxed for 15 minutes in a nitrogen atmosphere, and 0.12 g of AIBN was added to lower the nitrogen gas pressure. After reacting for 1 hour, 0.7 g of AIBN (azobisbutyronitrile) was further added and reacted at 85 ° C. for 3 hours. To this solution, 600 ml of petroleum ether (Washbenzin 135/180) was added and precipitated. The precipitate was filtered off and dried in a vacuum oven at 40 ° C. to obtain (B) specific polymer-1. The weight average molecular weight measured by GPC method of the obtained (B) specific polymer was 45000.

[実施例1、2]
〔支持体の作製〕
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A 1050)を苛性ソーダ濃度30g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温60℃で10秒間エッチング処理を行い、流水で水洗し、10g/l硝酸で中和洗浄後、水洗した。これを印加電圧Va=20Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、塩化水素濃度15g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温30℃の水溶液中で、400C/dmの電気量で電化化学的な粗面化処理を行い、水洗した。次に、苛性ソーダ濃度30g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温40℃で10秒間エッチング処理を行い、流水で水洗した。次に、硫酸濃度15質量%、液温30℃の硫酸水溶液中でデスマット処理を行い、水洗した。更に、液温20℃の10質量%硫酸水溶液中、直流にて電流密度6A/dmの条件下で、陽極酸化皮膜両が2.5g/m相当となるように陽極酸化処理し、水洗、乾燥した。その後、ケイ酸ナトリウム1.0質量%水溶液で30℃において10秒間処理し、親水性処理した支持体(a)を作製した。
この支持体(a)の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.48μmであった。
[Examples 1 and 2]
(Production of support)
An aluminum plate (material: JIS A 1050) with a thickness of 0.3 mm is etched for 10 seconds at a caustic soda concentration of 30 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l, and a liquid temperature of 60 ° C., washed with running water, and washed with 10 g / l nitric acid. After neutralizing and washing with water. Using an alternating waveform current of sine wave under the condition of applied voltage Va = 20 V, an electric current of 400 C / dm 2 in an aqueous solution having a hydrogen chloride concentration of 15 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l, and a liquid temperature of 30 ° C. Electrochemical roughening treatment was carried out in an amount and washed with water. Next, etching treatment was performed for 10 seconds at a caustic soda concentration of 30 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l, and a liquid temperature of 40 ° C., and washed with running water. Next, desmut treatment was performed in a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 15% by mass and a liquid temperature of 30 ° C., followed by washing with water. Furthermore, in a 10% by mass sulfuric acid aqueous solution at a liquid temperature of 20 ° C., an anodizing treatment was performed so that both of the anodized films corresponded to 2.5 g / m 2 under a condition of a current density of 6 A / dm 2 by direct current. , Dried. Then, it processed for 10 second at 30 degreeC with the sodium silicate 1.0 mass% aqueous solution, and produced the support body (a) which carried out the hydrophilic process.
When the center line average roughness (Ra) of the support (a) was measured using a needle having a diameter of 2 μm, it was 0.48 μm.

〔下塗り層の形成〕
このようにして得られた支持体(a)に、下記下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥して下塗り層を設けた。下塗り層の乾燥塗布量は17mg/mであった。
(Formation of undercoat layer)
The following undercoat liquid was applied to the support (a) thus obtained, and dried at 80 ° C. for 30 seconds to provide an undercoat layer. The dry coating amount of the undercoat layer was 17 mg / m 2 .

(下塗り液組成)
・下記化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
(Undercoat liquid composition)
・ The following compound 0.3g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 2010078686
Figure 2010078686

〔記録層の形成〕
前記のようにして得られた下塗り層を有する支持体(a)に、下記組成の下層用塗布液1を塗布量が0.85g/m2 になるようバーコーターで塗布したのち、160℃で44秒間乾燥し、直ちに17〜20℃の冷風で支持体の温度が35℃になるまで冷却した。
その後、形成された下層の表面に、下記組成の上部記録層用塗布液1を塗布量が0.22g/m2 になるようバーコーター塗布したのち、148℃で25分間乾燥し、更に20〜26℃の風で徐冷し、実施例の平版印刷版原版を得た。
[Formation of recording layer]
After applying the lower layer coating solution 1 having the following composition to the support (a) having the undercoat layer obtained as described above with a bar coater so that the coating amount becomes 0.85 g / m 2 , the temperature is 160 ° C. The substrate was dried for 44 seconds and immediately cooled with cold air of 17 to 20 ° C. until the temperature of the support became 35 ° C.
After that, the upper recording layer coating solution 1 having the following composition was applied to the surface of the formed lower layer with a bar coater so that the coating amount was 0.22 g / m 2 , and then dried at 148 ° C. for 25 minutes, and further 20 to The plate was gradually cooled with a wind of 26 ° C. to obtain a planographic printing plate precursor of the example.

〔下層用塗布液1〕
・(A)特定ポリマー(表1記載の化合物) 1.8g
・ノボラック樹脂A(m/p−クレゾール(6/4)、重量平均分子量;
7,000、未反応クレゾール;0.3重量%) 0.2g
・シアニン染料A((C)光熱変換剤:下記構造) 0.134g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒイドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.081g
・ポリマ-1(下記構造、Mw: ) 0.035g
・γ−ブチロラクトン 52.40g
・1−メトキシ−2−プロパノール 17.60g
[Lower layer coating solution 1]
-(A) Specific polymer (compound of Table 1) 1.8g
Novolak resin A (m / p-cresol (6/4), weight average molecular weight;
7,000, unreacted cresol; 0.3% by weight) 0.2 g
-Cyanine dye A ((C) photothermal conversion agent: the following structure) 0.134 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.032g
・ The counter ion of ethyl violet is changed to 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.081 g
・ Polymer-1 (the following structure, Mw:) 0.035 g
・ Γ-Butyrolactone 52.40g
・ 1-methoxy-2-propanol 17.60 g

Figure 2010078686
Figure 2010078686

〔上部記録層用塗布液1〕
・(B)特定ポリマー 0.0468g
(合成例4で得られた(B)特定ポリマー1)
・ノボラック樹脂B(m/p−クレゾール(6/4)、重量平均分子量;5,000、
未反応 クレゾール;0.8重量%) 0.3479g
・シアニン染料A(上記構造) 0.0192g
・ポリマー1(上記構造) 0.015g
・ポリマー2(下記構造) 0.00328g
・メチルエチルケトン 13.07g
・1−メトキシ−2−プロパノール 6.79g
[Upper recording layer coating solution 1]
・ (B) Specific polymer 0.0468g
((B) Specific polymer 1 obtained in Synthesis Example 4)
Novolak resin B (m / p-cresol (6/4), weight average molecular weight; 5,000,
Unreacted cresol; 0.8% by weight) 0.3479 g
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.0192 g
・ Polymer 1 (the above structure) 0.015 g
-Polymer 2 (the following structure) 0.00328g
・ Methyl ethyl ketone 13.07g
1-methoxy-2-propanol 6.79g

Figure 2010078686
Figure 2010078686

なお、下記表1に記載の本発明における(A)特定ポリマー、及び、(B)特定ポリマーは、前記合成例で得られた(A)特定ポリマー1〜(A)特定ポリマー2、(B)特定ポリマー1である。   In addition, (A) specific polymer and (B) specific polymer in this invention of following Table 1 were obtained in the said synthesis example, (A) specific polymer 1- (A) specific polymer 2, (B) Specific polymer 1.

[比較例1]
前記実施例1で用いられた上部記録層塗布液1において、(B)特定ポリマー1に代えて、ノボラック樹脂Bを同量用いた他は、実施例1と同様にして比較例1の平版印刷版原版を得た。
[比較例2]
前記実施例1で用いられた下層用塗布液1において、(A)特定ポリマー1に代えて、合成例3で得られた比較ポリマーAC1を同量用いた他は、同様にして比較例2の平版印刷版原版を得た。
[比較例3]
前記実施例1で用いられた下層塗布液1において、(A)特定ポリマー1に代えて、ノボラック樹脂Aを同量用いた他は、同様にして比較例3の平版印刷版原版を得た。
[比較例4]
前記実施例1で用いられた上部記録層塗布液1において、(B)特定ポリマー1に代えて、ノボラック樹脂Bを同量用い、下層塗布液1において、(A)特定ポリマー1に代えて、ノボラック樹脂Aを同量用いた他は、同様にして比較例4の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 1]
In the upper recording layer coating solution 1 used in Example 1, the lithographic printing of Comparative Example 1 was performed in the same manner as in Example 1 except that (B) the same amount of novolak resin B was used instead of the specific polymer 1. I got the original version.
[Comparative Example 2]
In the lower layer coating solution 1 used in Example 1, (A) In place of the specific polymer 1, the same amount of the comparative polymer AC1 obtained in Synthesis Example 3 was used. A lithographic printing plate precursor was obtained.
[Comparative Example 3]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 3 was obtained in the same manner except that (A) the same amount of novolak resin A was used in place of the specific polymer 1 in the lower layer coating solution 1 used in Example 1.
[Comparative Example 4]
In the upper recording layer coating solution 1 used in Example 1, the same amount of novolak resin B was used instead of (B) the specific polymer 1, and in the lower layer coating solution 1, (A) instead of the specific polymer 1, A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 4 was obtained in the same manner except that the same amount of novolak resin A was used.

〔平版印刷版原版の評価〕
(耐刷性の評価)
実施例及び比較例の平版印刷版原版をCreo社製Trendsetterにて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2(希釈して、電導度43mS/cmとしたもの)で現像した平版印刷版を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。枚数が多いほど耐刷性に優れるものと評価する。結果を以下の表1に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
(Evaluation of printing durability)
The lithographic printing plate precursors of the examples and comparative examples were drawn on a test pattern in the form of an image by changing the exposure energy with a Trend setter manufactured by Creo. After that, the lithographic printing plate developed with Fuji Photo Film Co., Ltd. developer DT-2 (diluted to have an electrical conductivity of 43 mS / cm) was continuously used using a printing machine Lithlon made by Komori Corporation. Printed. At this time, the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured visually to evaluate the printing durability. The larger the number, the better the printing durability. The results are shown in Table 1 below.

(耐薬品性の評価)
実施例及び比較例の平版印刷版原版を、上記耐刷性の評価と同様にして露光・現像および印刷を行った。この際、5,000枚印刷する毎に、クリーナー(富士写真フイルム社製、マルチクリーナー)で版面を拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。枚数が多いほど耐薬品性に優れるものと評価する。結果を以下の表1に示す。

(バーニング耐刷性の評価)
実施例及び比較例の平版印刷版原版を、上記耐刷性の評価と同様にして露光・現像を行なった後、富士フイルム(株)製整面液BC−7をスポンジで塗布後、富士フイルム(株)
製バーニングプロセッセサー;BP−1300で 260℃、6分間加熱し、バーニング処理を行なった。 この平版印刷版を上記耐刷性の評価と同様に印刷して評価した。結果を以下の表1に示す。
(耐傷性の評価)
実施例1〜2及び比較例1の感熱性平版印刷版をロータリー・アブレーション・テスター(TOYOSEIKI社製)を用い、250gの荷重下、アブレーザーフェルトCS5で15回摩擦した。
その後、富士写真フイルム(株)DT−2(水で希釈して電導度43mS/cmとしたもの)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー940HIIを用い、液温を30度に保ち、現像時間12sで現像した。耐傷性の評価は下記基準で行った。

<耐傷性の評価基準>
○:摩擦した部分の感光膜の光学濃度がまったく変化しなかったもの
△:摩擦した部分の感光膜の光学濃度低下が目視でわずかに観察されたもの
×:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部の2/3以下になったもの
(Evaluation of chemical resistance)
The lithographic printing plate precursors of Examples and Comparative Examples were exposed / developed and printed in the same manner as in the evaluation of printing durability. At this time, every time 5,000 sheets were printed, a process of wiping the plate surface with a cleaner (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., multi-cleaner) was added to evaluate chemical resistance. The larger the number, the better the chemical resistance. The results are shown in Table 1 below.

(Evaluation of burning durability)
The lithographic printing plate precursors of Examples and Comparative Examples were exposed and developed in the same manner as in the evaluation of printing durability, and then a surface-adjusting solution BC-7 manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was applied with a sponge, and then Fuji Film was used. (stock)
Burning processor manufactured: BP-1300 was heated at 260 ° C. for 6 minutes to perform the burning treatment. This lithographic printing plate was printed and evaluated in the same manner as in the evaluation of printing durability. The results are shown in Table 1 below.
(Scratch resistance evaluation)
The heat-sensitive lithographic printing plates of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were rubbed 15 times with Abrazer felt CS5 under a load of 250 g using a rotary ablation tester (manufactured by TOYOSEIKI).
Then, using a Fuji Photo Film Co., Ltd. PS processor 940HII charged with Fuji Photo Film Co., Ltd. DT-2 (diluted with water to a conductivity of 43 mS / cm), the liquid temperature was kept at 30 degrees, Developed with a development time of 12 s. The scratch resistance was evaluated according to the following criteria.

<Evaluation criteria for scratch resistance>
○: The optical density of the photosensitive film in the rubbed portion was not changed at all. Δ: The optical density drop of the photosensitive film in the rubbed part was slightly observed visually. Is less than 2/3 of the non-friction part

Figure 2010078686
Figure 2010078686

表1に明らかなように、本発明に係る実施例1及び2の平版印刷版原版は、いずれも通常の耐刷性のみならず、耐薬品性、バーニング耐刷性にも優れ、また、耐傷性も良好であることが分かる。
一方、重層構造の記録層を有していても、上部記録層に(B)特定ポリマーを含まない比較例1は表面の耐傷性に劣り、下層に(A)特定ポリマーを含まない比較例2,3は、耐刷性は良好であるが、バーニング耐刷性は不十分であり、表面の耐傷性も、やや劣るものであった。また、(A)特定ポリマー及び(B)特定ポリマーに変えてそれぞれノボラック樹脂A及びノボラック樹脂Bを用いた比較例4は、耐刷性、耐薬品性のいずれも著しく劣るものであった。
As is apparent from Table 1, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 and 2 according to the present invention are excellent not only in normal printing durability but also in chemical resistance and burning printing durability, and scratch resistance. It turns out that property is also favorable.
On the other hand, Comparative Example 1 in which the upper recording layer does not contain (B) the specific polymer is inferior in surface scratch resistance and the lower layer does not contain (A) the specific polymer even if it has a multi-layered recording layer. , 3 had good printing durability, but the burning printing durability was insufficient, and the scratch resistance of the surface was slightly inferior. Further, Comparative Example 4 using the novolak resin A and the novolak resin B in place of the (A) specific polymer and (B) specific polymer, respectively, was remarkably inferior in both printing durability and chemical resistance.

Claims (3)

支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される構造単位を有する高分子化合物を含有する下層と、(B)下記一般式(II)で表される構造単位を有する高分子化合物、及び(C)光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層と、を順次備える平版印刷版原版。
Figure 2010078686

[前記一般式(I)中、R、は水素原子又はメチル基を表す。Rは炭素数1〜4のアルキレン基を表す。]
Figure 2010078686

[一般式(II)中、Xはアルキレン基、アリーレン基、アリレン基、及びこれらの少なくとも1つを含んで構成される2価の連結基を表す。nは1〜3の整数を表す。]
On the support, (A) a lower layer containing a polymer compound having a structural unit represented by the following general formula (I), and (B) a polymer having a structural unit represented by the following general formula (II) A lithographic printing plate precursor comprising a compound and (C) a recording layer containing a compound that absorbs light and generates heat.
Figure 2010078686

[In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. ]
Figure 2010078686

[In General Formula (II), X 1 represents an alkylene group, an arylene group, an arylene group, and a divalent linking group including at least one of them. n represents an integer of 1 to 3. ]
前記(A)一般式(I)で表される構造単位を有する高分子化合物の含有量が、下層を構成する全固形分中20質量%〜95質量%である請求項1記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate according to claim 1, wherein the content of the polymer compound having the structural unit represented by (A) the general formula (I) is 20% by mass to 95% by mass in the total solid content constituting the lower layer. Original edition. 前記(B)一般式(II)で表される構造単位を有する高分子化合物の含有量が、上部記録層を構成する全固形分中3質量%〜40質量%である請求項1記載の平版印刷版原版。   2. The planographic plate according to claim 1, wherein the content of the polymer compound having the structural unit represented by (B) the general formula (II) is 3% by mass to 40% by mass in the total solid content constituting the upper recording layer. A printing plate master.
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