JP4505388B2 - Image forming material - Google Patents

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本発明は画像形成材料に関し、より詳細には、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ光を走査することにより直接製版ができる、所謂ダイレクト製版可能なポジ型平版印刷版として好適な画像形成材料に関する。   The present invention relates to an image forming material, and more specifically, an image forming material suitable for a so-called positive type lithographic printing plate capable of direct plate making, which can be directly made by scanning infrared laser light based on a digital signal of a computer or the like. About.

近年、画像形成技術の発展に伴い、細くビームを絞ったレーザ光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させ、フイルム原稿を用いず直接製版することが可能となっている。このような直接製版に用いられる版材としては、所謂、サーマルポジ型の平版印刷版原版などが挙げられる。サーマルポジ型の平版印刷版原版は、レーザ光照射により感光層中で光熱変換を起こすことによって、感光層のアルカリ可溶化を引き起こしポジ画像を形成するものであるが、画像形成原理としてレーザ露光による感光層中のバインダーの分子間相互作用の微妙な変化を利用しているために、露光/未露光部分のアルカリ可溶性のディスクリミネーションが小さく、現像ラチチュード(使用条件による現像安定性)が不充分になるという問題があった。   In recent years, with the development of image forming technology, it is possible to scan a plate with a narrowly focused laser beam and form a text document, an image document, etc. directly on the plate surface, and directly make a plate without using a film document. It has become. Examples of the plate material used for such direct plate-making include a so-called thermal positive type lithographic printing plate precursor. A thermal positive type lithographic printing plate precursor forms a positive image by causing photothermal conversion in the photosensitive layer by laser light irradiation, thereby causing alkali solubilization of the photosensitive layer. Due to the subtle changes in the intermolecular interaction of the binder in the photosensitive layer, the alkali-soluble discrimination in exposed / unexposed areas is small, and the development latitude (development stability depending on usage conditions) is insufficient. There was a problem of becoming.

このため、実用に耐える明確な露光/未露光部分のアルカリ溶解性の現像ラチチュードを広げる目的で、画像記録層がアルカリ溶解性の高い樹脂(海部)とアルカリ溶解性の低い樹脂(島部)とが海島構造を成すような、所謂、相分離構造を形成する画像記録層が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、このような画像記録層が相分離構造をとる画像形成材料は、画像記録層自体の膜強度が不充分であり、改良が望まれていた。
Therefore, in order to widen the alkali-soluble development latitude of clear exposed / unexposed portions that can be practically used, the image recording layer is made of a resin having a high alkali solubility (sea portion) and a resin having a low alkali solubility (island portion). There has been proposed an image recording layer that forms a so-called phase separation structure in which a sea-island structure is formed (see, for example, Patent Document 1).
However, an image forming material in which such an image recording layer has a phase separation structure has insufficient film strength of the image recording layer itself, and improvement has been desired.

また、露光部と未露光部とのコントラスト向上を目的として、特定のフェノール系樹脂と、酸発色性色素とを含有する感光層を備えたポジ型平版印刷版が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。このような感光性組成物は、色素とフェノール性樹脂との相互作用により耐アルカリ現像性に優れ、且つ、色素を十分な量含むため、感光層の検版性にも優れるという利点があるが、耐アルカリ現像液性向上効果を発現させるために十分な量を添加した場合、露光部の現像性を低下させる傾向があるという問題があった。   Further, for the purpose of improving the contrast between the exposed area and the unexposed area, a positive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a specific phenolic resin and an acid color-forming dye has been proposed (for example, a patent). Reference 2). Such a photosensitive composition is advantageous in that it has excellent alkali development resistance due to the interaction between the dye and the phenolic resin, and also contains a sufficient amount of the dye, so that the plate inspection of the photosensitive layer is also excellent. In addition, when a sufficient amount is added to develop the alkali developer resistance improving effect, there is a problem that the developability of the exposed area tends to be lowered.

赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料は、UV露光により製版するポジ型平版印刷版材料と比べ、バインダー樹脂として、アルカリ現像液に対する溶解性の高い樹脂にせざるを得ないため、印刷物に汚れが発生した時に用いるプレートクリーナーに対する耐性が低く、該クリーナーで版面を拭いた時に感光性組成物が溶出してしまう問題もあった。   The positive lithographic printing plate material for infrared lasers must be a resin that is highly soluble in an alkaline developer as a binder resin, compared to positive lithographic printing plate materials that are made by UV exposure. There is also a problem that the resistance to the plate cleaner used is low and the photosensitive composition is eluted when the plate surface is wiped with the cleaner.

このような耐クリーナー性、耐刷性を向上する目的で、側鎖に尿素結合を有するポリマーを用いる技術が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。このポリマーの使用により、未露光部の耐刷性向上効果は得られるものの、実用的にはさらなる向上が望まれるとともに、露光部の現像性の観点からは、ディスクリミネーション向上の点でなお改良の余地があった。
特開平11−44956号公報 特開平11−190903号公報 特開2000−330265公報
In order to improve such cleaner resistance and printing durability, a technique using a polymer having a urea bond in a side chain has been proposed (for example, see Patent Document 3). Although the effect of improving the printing durability of the unexposed area can be obtained by using this polymer, further improvement is desired practically, and from the viewpoint of developability of the exposed area, it is still improved in terms of improving discrimination. There was room for.
JP 11-44956 A JP-A-11-190903 JP 2000-330265 A

本発明は、前記従来技術の欠点を克服するべくなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、現像ラチチュードが広く、且つ、画像部の耐刷性、耐薬品性に優れた、赤外線レーザ用のポジ型平版印刷版原版として有用な画像形成材料を提供することを目的とする。   The present invention has been made to overcome the drawbacks of the prior art, and it is an object of the present invention to achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide an image forming material which is useful as a positive lithographic printing plate precursor for an infrared laser having a wide development latitude and excellent printing durability and chemical resistance of an image area. To do.

本発明者は検討の結果、画像記録層中に特定の2種のアルカリ可溶性樹脂を特定の比率で含有させ、一方により分散相を形成させることで、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の画像形成材料は、支持体上に、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、及び(C)光熱変換剤を含有する画像記録層を有し、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂との重量比が6:1〜19:1の範囲であり、且つ、該画像記録層中で、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂とが相分離構造を形成することを特徴とする。
As a result of the study, the present inventors have found that the above object can be achieved by containing a specific two kinds of alkali-soluble resins in a specific ratio in the image recording layer and forming a dispersed phase by one of them. It came to be completed.
That is, the image forming material of the present invention contains (A) an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain, (B) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, and (C) a photothermal conversion agent on the support. The weight ratio of (A) the alkali-soluble resin having a urea bond to the side chain and (B) the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group is in the range of 6: 1 to 19: 1. In the image recording layer, (A) an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain and (B) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group form a phase separation structure.

前記画像記録層中における相分離構造としては、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂が分散媒、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が分散相を形成する海島構造であることが好ましい。
また、画像記録層に含まれる(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂との重量比は好ましくは8:1〜19:1の範囲である。
また、これら2種のアルカリ可溶性樹脂のうち、分散媒を形成する(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂のアルカリ性現像液に対する溶解速度が、分散相を形成する(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂のアルカリ性現像液に対する溶解速度の2倍以上であることが好ましい態様である。
The phase separation structure in the image recording layer is (A) a sea-island structure in which an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain forms a dispersion medium, and (B) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group forms a dispersed phase. It is preferable.
The weight ratio of (A) the alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain and (B) the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group contained in the image recording layer is preferably in the range of 8: 1 to 19: 1. is there.
Of these two types of alkali-soluble resins, (A) the dissolution rate of an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain, which forms a dispersion medium, in an alkaline developer forms a dispersed phase. (B) a phenolic hydroxyl group It is a preferable aspect that it is 2 times or more of the dissolution rate with respect to the alkaline developing solution of alkali-soluble resin which has this.

本発明の作用は明確ではないが、以下のように推測される。
即ち、本発明における画像記録層は、前記(A),(B)2種のアルカリ可溶性樹脂を特定のブレンド比で含有し、この2種のアルカリ可溶性樹脂による相分離構造、好ましくは、そのうちの少なくとも1種により分散相が他の1種により分散媒(マトリックス相)が形成されることで相分離構造としての海島構造が形成されることをその特徴の一つとしている。このような構造を有する画像記録層中に、(C)光熱変換剤を添加した場合、光熱変換剤は相分離構造の分散相或いはマトリックス相のいずれかに偏在化するが、特に分散相を形成している特定ポリマーB中に偏在する傾向がある。光熱変換剤が偏在する分散相は、その構造により現像性が低下しやすくなるが、露光部においては、この部分で光熱変換が効率よく行われ、熱が集中的に発生するために、ポジ型記録層を形成する相互作用が速やかに解除され、高感度で溶解抑制作用の解除が行われるものと考えられる。また、光熱変換剤が分散相に偏在するために、マトリックス相における現像性の低下は生じることなく、アルカリ可溶性樹脂の持つ優れたアルカリ現像液溶解性により、画像記録層は分散相ごと速やかに除去され、アルカリ現像性を向上しうるものと考えられる。
一方、未露光部では、光熱変換剤が偏在する、現像性の低下した微細な分散相がマトリックス相中に均一に分散して存在するために、画像記録層全体のアルカリ性現像液に対する現像性が低下しやすくなり、これにより、本発明においては、画像記録層は、未露光部では優れた耐アルカリ現像液性、特定ポリマーAが本来有する耐薬品性が発現し、露光部においては、光熱変換剤に起因する現像性の低下が抑制され、アルカリ現像液に対する優れた溶解性が発現するためディスクリミネーションが大きくなり、現像ラチチュードについても拡大したものと推測される。
Although the operation of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
That is, the image recording layer in the present invention contains the two types of alkali-soluble resins (A) and (B) in a specific blend ratio, and a phase separation structure by these two types of alkali-soluble resins, One of the features is that a disperse phase is formed by at least one type and a dispersion medium (matrix phase) is formed by the other type to form a sea-island structure as a phase separation structure. When the (C) photothermal conversion agent is added to the image recording layer having such a structure, the photothermal conversion agent is unevenly distributed in either the dispersed phase or the matrix phase of the phase separation structure, but particularly forms a dispersed phase. There is a tendency to be unevenly distributed in the specific polymer B. The disperse phase in which the photothermal conversion agent is unevenly distributed tends to deteriorate in developability due to its structure, but in the exposed portion, photothermal conversion is efficiently performed in this portion, and heat is generated intensively. It is considered that the interaction forming the recording layer is quickly released, and the dissolution inhibiting action is released with high sensitivity. In addition, since the photothermal conversion agent is unevenly distributed in the dispersed phase, the developability in the matrix phase does not deteriorate, and the image recording layer is quickly removed together with the dispersed phase due to the excellent alkali developer solubility of the alkali-soluble resin. Thus, it is considered that alkali developability can be improved.
On the other hand, in the unexposed area, the photothermal conversion agent is unevenly distributed, and the fine dispersed phase with reduced developability is uniformly dispersed in the matrix phase. As a result, in the present invention, the image recording layer exhibits excellent alkali developer resistance in the unexposed area and chemical resistance inherent in the specific polymer A. In the exposed area, photothermal conversion occurs. It is presumed that the decrease in the developability due to the agent is suppressed, and the excellent solubility in the alkaline developer is exhibited, so that the discrimination is increased and the development latitude is expanded.

本発明によれば、現像ラチチュードが広く、且つ、画像部の耐刷性、耐薬品性に優れた、赤外線レーザ用のポジ型平版印刷版原版として有用な画像形成材料を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an image forming material useful as a positive planographic printing plate precursor for an infrared laser having a wide development latitude and excellent printing durability and chemical resistance of an image area.

本発明について詳細に説明する。
本発明の画像形成材料は、支持体上に、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂(以下、適宜、特定ポリマーAと称する)、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂(以下、適宜、特定ポリマーBと称する)、及び(C)光熱変換剤を含有する画像記録層を有し、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂との重量比が6:1〜19:1の範囲であり、且つ、該画像記録層中で、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂とが相分離構造を形成することを特徴とする。
以下、本発明の構成要素について詳述する。まず、本発明の特徴的な成分である(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂について説明する。
The present invention will be described in detail.
The image-forming material of the present invention comprises, on a support, (A) an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain (hereinafter appropriately referred to as a specific polymer A), and (B) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group ( (Hereinafter referred to as a specific polymer B) and (C) an image recording layer containing a photothermal conversion agent, (A) an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain, and (B) a phenolic hydroxyl group The weight ratio to the alkali-soluble resin is in the range of 6: 1 to 19: 1, and (A) the alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain and (B) the phenolic hydroxyl group in the image recording layer. The alkali-soluble resin has a phase separation structure.
Hereinafter, the components of the present invention will be described in detail. First, the alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain (A), which is a characteristic component of the present invention, will be described.

〔(A)側鎖に尿素結合を有するポリマー(特定ポリマーA)〕
本発明に用いられる(A)特定ポリマーとしては、側鎖に尿素結合を有するポリマーであれば特に制限はないが、中でも、水に不溶性且つアルカリ水溶液に可溶性のポリマーを用いることが好ましい。そのようなポリマーとしては、公知のものを用いることができる。特に、印刷薬品を使用しながら印刷する際の耐薬品性の観点から、下記一般式(1−a)から(1−c)のいずれかで表される構成単位を有するビニル重合系又は縮重合系の高分子化合物、又は側鎖に尿素結合を有するノボラック樹脂が、特に好適に挙げられる。さらに、側鎖に、尿素結合に加え、アルカリ水溶液可溶性に寄与するような官能基が存在することが、感度の向上という観点から好ましい。
[(A) Polymer having urea bond in side chain (specific polymer A)]
The (A) specific polymer used in the present invention is not particularly limited as long as it is a polymer having a urea bond in the side chain, but among them, it is preferable to use a polymer that is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution. As such a polymer, a known polymer can be used. In particular, from the viewpoint of chemical resistance when printing using a printing chemical, a vinyl polymerization system or a condensation polymerization having a structural unit represented by any one of the following general formulas (1-a) to (1-c) Particularly preferred are high molecular weight compounds or novolak resins having a urea bond in the side chain. Furthermore, it is preferable from the viewpoint of improving sensitivity that the side chain has a functional group that contributes to solubility in an alkaline aqueous solution in addition to the urea bond.

Figure 0004505388
Figure 0004505388

前記一般式(1−a)〜(1−c)において、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、又はそれらの塩を表す。R3は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。Xは、2価の連結基を表し、例えば置換基を有してもよいアルキレン基又はフェニレン基等が好適に挙げられる。Yは置換基を有してもよい2価の芳香族基を表し、例えば、置換基を有してもよいフェニレン基又はナフチレン基等が好適に挙げられる。 In the general formulas (1-a) to (1-c), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, or a salt thereof. R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group. X represents a divalent linking group, and an alkylene group or a phenylene group which may have a substituent, for example, is preferable. Y represents a divalent aromatic group that may have a substituent, and examples thereof include a phenylene group or a naphthylene group that may have a substituent.

前記一般式(1−a)〜(1−c)のいずれかで表される構成単位の、(A)特定ポリマーにおける含有量としては、仕込み比で10〜80モル%含まれる共重合体であることが好ましく、15〜70モル%がより好ましく、20〜60モル%が特に好ましい。
前記含有量が、10モル%未満の場合には、耐薬品性に乏しく、80モル%を超える場合には、アルカリ水溶液への溶解性が低く、低感度となることがある。
The content of the structural unit represented by any one of the general formulas (1-a) to (1-c) in the specific polymer (A) is a copolymer contained in a charge ratio of 10 to 80 mol%. It is preferably 15 to 70 mol%, more preferably 20 to 60 mol%.
When the content is less than 10 mol%, the chemical resistance is poor, and when it exceeds 80 mol%, the solubility in an alkaline aqueous solution is low and the sensitivity may be low.

前記一般式(1−a)〜(1−c)のいずれかで表される構成単位を有する高分子化合物の製造方法としては、特に制限はなく、公知の種々の方法で製造することが可能であり、例えば、重合性単量体を、重合開始剤を用いて溶媒中で重合する方法等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the high molecular compound which has a structural unit represented by either of the said general formula (1-a)-(1-c), It can manufacture by a well-known various method. Examples thereof include a method of polymerizing a polymerizable monomer in a solvent using a polymerization initiator.

前記重合性単量体を、重合開始剤を用いて溶媒中で重合する方法において、前記重合性単量体としては、1分子中に1以上の尿素結合と、1以上の重合可能な不飽和結合とを有する単量体であり、例えば、下記一般式(1−d)で表される化合物等が好適に挙げられる。   In the method of polymerizing the polymerizable monomer in a solvent using a polymerization initiator, the polymerizable monomer includes one or more urea bonds and one or more polymerizable unsaturated groups in one molecule. Preferred examples include a compound having a bond, such as a compound represented by the following general formula (1-d).

Figure 0004505388
Figure 0004505388

一般式(1−d)において、R4は、水素原子又はアルキル基を表す。Xは2価の連結基を表し、例えば、置換基を有してもよいアルキレン基又はフェニレン基が挙げられる。Yは、置換基を有してもよい2価の芳香族基を表し、例えば、置換基を有してもよいフェニレン基又はナフチレン基等が挙げられる。 In the general formula (1-d), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group. X represents a divalent linking group, and examples thereof include an alkylene group or a phenylene group which may have a substituent. Y represents a divalent aromatic group which may have a substituent, and examples thereof include a phenylene group or a naphthylene group which may have a substituent.

前記一般式(1−d)で表される化合物としては、例えば、1−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、2−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、4−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N'−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N'−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)ブチルアクリレートの如きアクリレート誘導体:1−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、2−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、4−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレートのようなメタクリレート誘導体等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the compound represented by the general formula (1-d) include 1- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) methyl acrylate and 1- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) methyl. Acrylate, 1- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N ′-(2-hydroxy) -5-methylphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N '-(5-hydroxynaphthyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N'-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) methyl acrylate, 2 -(N '-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N'-(3-hydroxyphenyl) uree De) ethyl acrylate, 2- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-( 2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) ethyl Acrylate, 4- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) Butyl acrylate, 4- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) butyl acrylate 4- (N ′-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(2-hydroxy) Acrylate derivatives such as -5-phenylphenyl) ureido) butyl acrylate: 1- (N '-(4-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N'-(3-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1 -(N '-(2-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N'-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N '-(2-hydroxy-5- Methylphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ure Id) methyl methacrylate, 1- (N ′-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) methyl methacrylate, 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-( 3-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(2-hydroxy-5-phenyl) Phenyl) ureido) ethyl methacrylate, 4- (N ′-(4-hydroxyphenyl) Raid) butyl methacrylate, 4- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(3-hydroxy-) 4-methylphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) butyl methacrylate, 4- And methacrylate derivatives such as (N ′-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) butyl methacrylate. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記重合性単量体は、尿素結合に基づく赤外線吸収スペクトルの1600〜1700cm-1に特性吸収を持つため、赤外線吸収スペクトルの測定により、同定することができる。また、融点、プロトンNMR等での同定も可能である。
例えば、前述の具体例中、2−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレートは、融点が131〜133℃であり、水酸基及び前記尿素結合に基づくIRスペクトルの吸収から同定可能である。
Since the polymerizable monomer has characteristic absorption at 1600 to 1700 cm −1 of an infrared absorption spectrum based on a urea bond, it can be identified by measuring the infrared absorption spectrum. Moreover, identification by melting | fusing point, proton NMR, etc. is also possible.
For example, in the above specific examples, 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate has a melting point of 131 to 133 ° C. and can be identified from the absorption of the IR spectrum based on the hydroxyl group and the urea bond. is there.

また、前記一般式(1−d)で表される化合物以外にも、例えば、2−(N'−(4−カルボキシルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(4−スルファモイルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(4−スルホフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(4−ホスホノフェニル)ウレイド)エチルアクリレート等のような酸性基を有するアクリレート類:2−(N'−(4−カルボキシルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(4−スルファモイルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(4−スルホフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(4−ホスホノフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート等のような酸性基を有するメタクリレート類:2−(N'−メチルウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−プロピルウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−フェニルウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(4−メチルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(2−メチルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−ナフチルウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(2−フェニルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート等のような酸性基を有していないアクリレート類:2−(N'−メチルウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−プロピルウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−フェニルウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(4−メチルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(2−メチルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−ナフチルウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(2−フェニルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート等のような酸性基を有していないメタクリレート類等の重合性単量体が好ましく挙げられる。   In addition to the compound represented by the general formula (1-d), for example, 2- (N ′-(4-carboxylphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(4-sulfamoyl) Phenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(4-sulfophenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(4-phosphonophenyl) ureido) ethyl acrylate and other acrylates having acidic groups Class: 2- (N ′-(4-carboxylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(4-sulfamoylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(4-sulfophenyl) Meta having acidic groups such as ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(4-phosphonophenyl) ureido) ethyl methacrylate Relates: 2- (N′-methylureido) ethyl acrylate, 2- (N′-propylureido) ethyl acrylate, 2- (N′-phenylureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(4-methylphenyl) ) Ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(2-methylphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N′-naphthylureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(2-phenylphenyl) ureido) ethyl Acrylates having no acidic group such as acrylate: 2- (N′-methylureido) ethyl methacrylate, 2- (N′-propylureido) ethyl methacrylate, 2- (N′-phenylureido) ethyl methacrylate 2- (N ′-(4-methylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-( 2-methylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N′-naphthylureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(2-phenylphenyl) ureido) ethyl methacrylate and other methacrylates having no acidic group Preferred examples thereof include polymerizable monomers.

前述の具体例中、2−(N'−(4−カルボキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレートは、分解温度が220℃であり、カルボキシ基及び前記尿素結合に基づくIRスペクトルの吸収から同定可能である。   Among the specific examples described above, 2- (N ′-(4-carboxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate has a decomposition temperature of 220 ° C. and can be identified from absorption of IR spectrum based on the carboxy group and the urea bond.

前記重合性単量体の製造方法については、特に制限はなく、例えば、下記一般式(1−e)で表されるイソシアネート化合物と、下記一般式(1−f)で表されるアミン化合物とを反応させる公知の製造方法等が好適に挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular about the manufacturing method of the said polymerizable monomer, For example, the amine compound represented by the following general formula (1-e), the amine compound represented by the following general formula (1-f), and A known production method in which is reacted is preferably used.

Figure 0004505388
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一般式(1−e)において、R5は、水素原子又はアルキル基を表す。Xは前記一般式(1−d)と同様である。一般式(1−f)において、R6は、水素原子、又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。Yは、前記一般式(1−d)と同様である。Zは、水酸基、カルボキシ基、又はスルホンアミド基を表す。 In the general formula (1-e), R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group. X is the same as in the general formula (1-d). In General Formula (1-f), R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group that may have a substituent. Y is the same as in the general formula (1-d). Z represents a hydroxyl group, a carboxy group, or a sulfonamide group.

前記製造方法において、前記一般式(1−e)の化合物と、前記一般式(1−f)で、Zが水酸基、R6が、水素原子である化合物とを用いることにより、前記一般式(1−d)で表される重合性単量体を好適に得ることができる。 In the production method, the compound represented by the general formula (1-e) and the compound represented by the general formula (1-f) in which Z is a hydroxyl group and R 6 is a hydrogen atom are used. The polymerizable monomer represented by 1-d) can be suitably obtained.

前記製造方法においては、一般式(1−f)におけるアミノ基は、水酸基、カルボキシ基、又は−NH−CO−基等に比べ、イソシアネート基に対する活性が高いため、容易に前記一般式(1−d)で表されるような重合成単量体を得ることができる。
また、所望により、前記一般式(1−f)で表されるアミン化合物を過剰にし、これに、徐々に前記一般式(1−e)で表されるイソシアネート化合物を加えることにより、より有効に反応を進めることができる。
In the said manufacturing method, since the amino group in General formula (1-f) has high activity with respect to an isocyanate group compared with a hydroxyl group, a carboxy group, or -NH-CO- group etc., the said general formula (1- A polysynthetic monomer represented by d) can be obtained.
Further, if desired, the amine compound represented by the general formula (1-f) is excessively added, and the isocyanate compound represented by the general formula (1-e) is gradually added to the amine compound. The reaction can proceed.

前記溶媒としては、公知の有機溶媒であれば特に制限はないが、活性水素原子を有しないものが好適に挙げられ、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロパノールアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、1−エトキシ−2−プロピルアセテート、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジオキサン等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The solvent is not particularly limited as long as it is a known organic solvent, and examples thereof preferably include those having no active hydrogen atom, such as ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether. , Ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propanol acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, 1-ethoxy Examples include 2-propyl acetate, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, and dioxane. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記反応の時間としては、前記一般式(1−e)で表されるイソシアネート化合物が無くなるまで、又は、尿素結合の量が一定量となるまで行えばよく、通常は、15分〜24時間である。
また、前記反応の温度としては、0〜40℃が好ましい。
The reaction time may be performed until the isocyanate compound represented by the general formula (1-e) disappears or until the amount of urea bond becomes a constant amount, and is usually 15 minutes to 24 hours. is there.
Moreover, as the temperature of the said reaction, 0-40 degreeC is preferable.

前記重合性単量体は、前記一般式(1−f)で表されるアミン化合物の過剰系で反応させた場合の未反応の原料成分や副生成物を除去する目的で、所望により、希塩酸等の酸性化合物で中和して、一般式(1−f)で表されるアミン化合物を塩とした後、水洗、濾過、真空乾燥することにより、高純度とすることができる。   The polymerizable monomer may be diluted with dilute hydrochloric acid for the purpose of removing unreacted raw material components and by-products when reacted with an excess of the amine compound represented by the general formula (1-f). It can be made highly pure by neutralizing with an acidic compound such as the above to form a salt of the amine compound represented by the general formula (1-f), followed by washing with water, filtration, and vacuum drying.

本発明に係る(A)特定ポリマーは、前記尿素結合を含む各重合性単量体(例えば、前記一般式(1−a)〜(1−c)で表される単量体など)の単独重合体又は2種以上の共重合体であってもよいが、1以上の重合可能な不飽和結合を有し、かつ尿素結合を含まない化合物との共重合体であることが、耐刷性の観点から好ましい。該共重合体としては、ブロック体、ランダム体、又はグラフト体等のいずれの構造であってもよい。   The specific polymer (A) according to the present invention is a single polymerizable monomer containing the urea bond (for example, the monomers represented by the general formulas (1-a) to (1-c)). It may be a polymer or two or more kinds of copolymers, but it should be a copolymer with a compound having one or more polymerizable unsaturated bonds and not containing urea bonds. From the viewpoint of The copolymer may have any structure such as a block body, a random body, or a graft body.

前記共重合体は、前記重合性単量体と、1以上の重合可能な不飽和結合を有し且つ尿素結合を含まない化合物と、の合計量の100モル%に対し、前記重合性単量体を10〜80モル%用いて共重合させたものが好ましい。   The copolymer is composed of 100% by mole of the polymerizable monomer and 100% by mole of the total amount of the polymerizable monomer and the compound having at least one polymerizable unsaturated bond and no urea bond. Those obtained by copolymerizing 10 to 80 mol% of the body are preferred.

前記1以上の重合可能な不飽和結合を有し、かつ尿素結合を含まない化合物としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸-t-オクチル、クロロエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、テトラヒドロアクリレートの如きアクリル酸エステル類:フェニルアクリレート、フルフリルアクリレートの如きアリールアクリレート類:メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレートヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートの如きメタクリル酸エステル類:フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートの如きアリールメタクリレート類:アクリルアミドまたはその誘導体としてはN−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N−ヘプチルアクリルアミド、N−オクチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミドの如きN−アルキルアクリルアミド類:N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−ナフチルアクリルアミド、N−ヒドロキシフェニルアクリルアミドの如きN−アリールアクリルアミド類:N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、N,N−ジイソブチルアクリルアミド、N,N−ジエチルヘキシルアクリルアミド、N,N−ジシクロヘキシルアクリルアミドの如きN,N−ジアルキルアクリルアミド類:N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミドの如きN,N−アリールアクリルアミド類:メタクリルアミドまたはその誘導体としてはN−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−t−ブチルメタクリルアミド、N−エチルヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドリキシエチルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミドの如きN−アルキルメタクリルアミド類:   Examples of the compound having at least one polymerizable unsaturated bond and not containing a urea bond include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, Octyl acrylate, tert-octyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate Acrylates such as tetrahydroacrylate: aryl acrylates such as phenyl acrylate and furfuryl acrylate: methyl methacrylate, ethyl Tacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, amyl methacrylate hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate, Methacrylic acid esters such as trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate: aryl methacrylates such as phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate: acrylamide As derivatives thereof, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N-heptylacrylamide, N-octylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N- N-alkyl acrylamides such as benzyl acrylamide: N-phenyl acrylamide, N-tolyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-naphthyl acrylamide, N-aryl acrylamides such as N-hydroxyphenyl acrylamide: N, N-dimethyl acrylamide N, N-diethylacrylamide, N, N-dibutylacrylamide, N, N-dibutylacrylamide, N, N-diisobutylacrylamide, N, -N, N-dialkylacrylamides such as diethylhexylacrylamide and N, N-dicyclohexylacrylamide: N-methyl-N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide, N-2-acetamidoethyl-N-acetyl N, N-arylacrylamides such as acrylamide: methacrylamide or derivatives thereof include N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, Nt-butylmethacrylamide, N-alkyl methacrylamides such as N-ethylhexyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacrylamide, N-cyclohexyl methacrylamide:

N−フェニルメタクリルアミド、N−ナフチルメタクリルアミドの如きN−アリールメタクリルアミド類:N,N−ジエチルメタクリルアミド、N,N−ジプロピルメタクリルアミド、N,N−ジブチルメタクリルアミドの如きN,N−ジアルキルメタクリルアミド類:N,N−ジフェニルメタクリルアミドの如きN,N−ジアリールメタクリルアミド類:N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドの如きメタクリルアミド誘導体:酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルチミン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、アリルオキシエタノールの如きアリル化合物類:ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテルの如きビニルエーテル類:ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルの如きビニルエステル類: N-aryl methacrylamides such as N-phenylmethacrylamide and N-naphthylmethacrylamide: N, N- such as N, N-diethylmethacrylamide, N, N-dipropylmethacrylamide and N, N-dibutylmethacrylamide Dialkylmethacrylamides: N, N-diarylmethacrylamides such as N, N-diphenylmethacrylamide: N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-ethyl-N- Methacrylamide derivatives such as phenylmethacrylamide: ants such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, allyloxyethanol Compounds: hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol Vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, vinyl Vinyl ethers such as luanthranyl ether: vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl Vinyl esters such as acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinylcyclohexylcarboxylate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate:

メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ドデシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレンの如きスチレン類:クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、クロトン酸、グリセリンモノクロトネートの如きクロトン酸エステル類:イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルの如きイタコン酸ジアルキル類:ジメチルマレート、ジブチルフマレートの如きマレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類:マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−2−メチルフェニルマレイミド、N−2,6−ジエチルフェニルマレイミド、N−2−クロロフェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ラウリルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミドの如きマレイミド類:その他、N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらの化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, dodecyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, Methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene, dimethoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, 2-bromo-4- Styrenes such as trifluoromethylstyrene and 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene: butyl crotonic acid, Crotonic acid esters such as hexyl rotonic acid, crotonic acid, glycerin monocrotonate: dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dialkyl itaconates such as dibutyl itaconate: maleic acid such as dimethyl malate, dibutyl fumarate or fumaric acid Dialkyls of: maleimide, N-phenylmaleimide, N-2-methylphenylmaleimide, N-2,6-diethylphenylmaleimide, N-2-chlorophenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-hydroxyphenyl Maleimides such as maleimide: Other examples include N-vinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. These compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

これらの化合物のうち、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、マレイミド類、(メタ)アクリロニトリル類が特に好ましい。   Of these compounds, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, maleimides, and (meth) acrylonitriles are particularly preferable.

なお、本明細書において、アクリレート及びメタアクリレートの双方又はいずれかを指す場合、(メタ)アクリレートと記載することがある。同様に、アクリル酸及びメタクリル酸の双方又はいずれかを(メタ)アクリル酸と、アクリロニトリル及びメタクリロニトリルの双方又はいずれかを(メタ)アクリロニトリルと、アクリルアミド及びメタクリルアミドの双方又はいずれかを(メタ)アクリルアミドをそれぞれ称することがある。   In addition, in this specification, when referring to both or one of acrylate and methacrylate, it may be described as (meth) acrylate. Similarly, acrylic acid and / or methacrylic acid or both of (meth) acrylic acid, acrylonitrile and / or methacrylonitrile or both (meth) acrylonitrile and / or acrylamide and / or methacrylamide (meth) ) Sometimes referred to as acrylamide.

以下に、本発明に係る特定ポリマーAの好ましい例を、その構成単位、重合モル比により、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)とともに挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。   Hereinafter, preferred examples of the specific polymer A according to the present invention will be given together with the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) depending on the structural unit and the polymerization molar ratio, but the present invention is limited to these. is not.

Figure 0004505388
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本発明に係る(A)特定ポリマーの分子量としては、重量平均分子量では、2000以上が好ましく、3000〜50万がより好ましい。また、数平均分子量では、1000以上が好ましく、2000〜40万がより好ましい。   The molecular weight of the specific polymer (A) according to the present invention is preferably 2000 or more, more preferably 3000 to 500,000 in terms of weight average molecular weight. Moreover, in number average molecular weight, 1000 or more are preferable and 2000-400,000 are more preferable.

本発明に係る画像記録層における(A)特定ポリマーAの含有量は、画像記録層を構成する組成物の全固形分に対し、50〜94質量%であることが好ましく、70〜90質量%であることがさらに好ましく、75〜90質量%であることがより好ましい。   The content of the (A) specific polymer A in the image recording layer according to the present invention is preferably 50 to 94% by mass, and 70 to 90% by mass with respect to the total solid content of the composition constituting the image recording layer. Is more preferable, and it is more preferable that it is 75-90 mass%.

〔(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂(特定ポリマーB)〕
本発明における画像記録層は、前記特定ポリマーAとこの特定ポリマーBという、少なくとも2種のアルカリ可溶性樹脂を含有しており、該2種のアルカリ可溶性樹脂に起因した相分離構造を形成していることを特徴とする。
画像記録層中に、相分離構造、好ましくは、分散相とマトリックス相とからなる海島構造が形成されるためには、分散相及び分散媒(マトリックス相)となるアルカリ可溶性樹脂が互いに相溶しないことが条件である。本発明においては、前記特定ポリマーAに対して、この条件を満たし、且つ、ポジ型画像記録層を構成するのに好適なポリマーとしてフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が選択された。
[(B) Alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group (specific polymer B)]
The image recording layer in the invention contains at least two types of alkali-soluble resins, the specific polymer A and the specific polymer B, and forms a phase separation structure resulting from the two types of alkali-soluble resins. It is characterized by that.
In order to form a phase separation structure, preferably a sea-island structure composed of a dispersed phase and a matrix phase, in the image recording layer, the alkali-soluble resin serving as the dispersed phase and the dispersion medium (matrix phase) are not compatible with each other. Is a condition. In the present invention, for the specific polymer A, an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group is selected as a polymer that satisfies this condition and is suitable for forming a positive image recording layer.

本発明に用いられる好ましい特定ポリマーBとしては、その構造内に下記(1)で表されるフェノール性水酸基を有し、アルカリ性現像液に可溶であれば特に制限はなく用いることができる。
(1)フェノール性水酸基(−Ar−OH)
(Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を示す。)
The preferred specific polymer B used in the present invention is not particularly limited as long as it has a phenolic hydroxyl group represented by the following (1) in its structure and is soluble in an alkaline developer.
(1) Phenolic hydroxyl group (-Ar-OH)
(Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent.)

特定ポリマーBとして好ましくは、ノボラック樹脂、キシレノール樹脂、レゾール樹脂等が挙げられ、中でも、ノボラック樹脂、キシレノール樹脂がより好ましく、特に好ましくは、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合及びo−/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂、1、2−キシレノール、1、3−キシレノール、1、4−キシレノール、1、5−キシレノール、2、3−キシレノール、2、4−キシレノール樹脂、キシレノール/フェノール混合樹脂、キシレノール/ノボラック混合樹脂、キシレノール/ノボラック/フェノール混合樹脂等が挙げられる。
また、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等も用いることができる。
これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Preferred examples of the specific polymer B include novolak resins, xylenol resins, and resole resins. Among these, novolak resins and xylenol resins are more preferable, and phenol formaldehyde resins, m-cresol formaldehyde resins, and p-cresol formaldehyde resins are particularly preferable. , M- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (any of m-, p-, o-, m- / p-mix, m- / o-mix and o- / p-mix) Mixed formaldehyde resin, 1,2-xylenol, 1,3-xylenol, 1,4-xylenol, 1,5-xylenol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol resin, xylenol / phenol mixed resin, xylenol / novolak Mixed resin, xylenol Novolak / phenol mixed resin, and the like.
Further, acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, hydroxystyrene or the like having a phenolic hydroxyl group can also be used.
These may be used alone or in combination of two or more.

上述したようなフェノール性樹脂としては、画像形成性の観点から、重量平均分子量が1,500以上、数平均分子量が300以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が3,000〜300,000で、数平均分子量が500〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。   As the above-mentioned phenolic resin, those having a weight average molecular weight of 1,500 or more and a number average molecular weight of 300 or more are preferable from the viewpoint of image forming properties. More preferably, the weight average molecular weight is 3,000 to 300,000, the number average molecular weight is 500 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .

本発明に係る画像記録層における(B)特定ポリマーBの好ましい含有量は、画像記録層を構成する組成物の全固形分に対し、2〜14質量%であり、2〜10質量%であることがさらに好ましく5〜10質量%であることがより好ましい。   A preferable content of (B) the specific polymer B in the image recording layer according to the present invention is 2 to 14% by mass and 2 to 10% by mass with respect to the total solid content of the composition constituting the image recording layer. More preferably, it is more preferable that it is 5-10 mass%.

−相構成−
本発明における画像記録層は、既述したように、含有される(A)、(B)2種のアルカリ可溶性樹脂の中のうち、特定ポリマーBが分散相を形成する構成、即ち、アルカリ溶解性の高い樹脂(海部)とアルカリ溶解性の低い樹脂(島部)とが海島構造を成すような、所謂、相分離構造を形成することを特徴とする。このような相分離構造の詳細は、例えば、特開平11−44956号公報に記載されている通りである。
相分離構造(海島構造)は、互いに相溶して均一相とならない樹脂を少なくとも2種類組合せて使用することにより形成することができ、この場合において、分散媒を構成するアルカリ可溶性樹脂(特定ポリマーA)と分散相を構成するアルカリ可溶性樹脂(特定ポリマーB)との好ましいブレンド比(重量比)は、海島構造の形成性の観点から、6:1〜19:1であり、より好ましいブレンド比は8:1〜19:1である。
以下に詳述する(C)光熱変換剤は、画像記録層形成時に、2種のアルカリ可溶性樹脂のうち特定ポリマーBに偏在して含有され、相分離構造の分散相に多く含まれることになる。
-Phase composition-
As described above, the image recording layer in the present invention has a configuration in which the specific polymer B forms a dispersed phase among the two types of alkali-soluble resins (A) and (B) contained therein, that is, alkali dissolution. A so-called phase separation structure is formed in which a highly soluble resin (sea portion) and a low alkali-soluble resin (island portion) form a sea-island structure. The details of such a phase separation structure are, for example, as described in JP-A-11-44956.
The phase-separated structure (sea-island structure) can be formed by using a combination of at least two types of resins that are compatible with each other and do not form a homogeneous phase. In this case, an alkali-soluble resin (specific polymer) that constitutes the dispersion medium. A preferred blend ratio (weight ratio) between the A) and the alkali-soluble resin (specific polymer B) constituting the dispersed phase is 6: 1 to 19: 1 from the viewpoint of sea-island structure formation, and a more preferred blend ratio. Is 8: 1 to 19: 1.
The (C) photothermal conversion agent described in detail below is contained unevenly in the specific polymer B among the two alkali-soluble resins when forming the image recording layer, and is contained in a large amount in the dispersed phase having a phase separation structure. .

また、このような相分離構造の利点を十分に発現されるといった観点からは、海(分散媒)を形成する(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂のアルカリ性現像液に対する溶解速度が、島(分散相)を形成する(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂のアルカリ性現像液に対する溶解速度の2倍以上であることが好ましい。
このとき、アルカリ性現像液に対する溶解速度は以下に記載する方法により測定することができる。溶解速度の比較は、特定ポリマーA及び特定ポリマーBそれぞれに対し、同一のアルカリ性現像液を用い、同一条件で測定した値により行われる。
本発明における溶解速度は以下の測定方法で求めた値を採用している。
ポリエチレンテレフタレート(PET)シートを基材とし、その表面にサンプルとなるポリマーを該ポリマーに適する有機溶剤に溶解し、塗布・乾燥する。乾燥後の塗布量を4g/m2になるように溶液濃度などを調整する。該PET基材上に塗布されたポリマー皮膜を、25℃において3.5重量%の珪酸カリウム水溶液(SiO2/K2Oのモル比:1.16)に時間を変えて浸漬し水洗する。皮膜が溶解してなくなる浸漬時間をもって、溶解速度とする。
Further, from the viewpoint that the advantages of such a phase separation structure are sufficiently expressed, the dissolution rate of an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain (A) forming the sea (dispersion medium) in an alkaline developer is high. The dissolution rate of the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group (B) that forms an island (dispersed phase) in an alkaline developer is preferably twice or more.
At this time, the dissolution rate in the alkaline developer can be measured by the method described below. The comparison of the dissolution rates is performed based on values measured under the same conditions using the same alkaline developer for each of the specific polymer A and the specific polymer B.
The dissolution rate in the present invention employs a value obtained by the following measurement method.
A polyethylene terephthalate (PET) sheet is used as a base material, and a sample polymer is dissolved on an organic solvent suitable for the polymer on the surface, followed by coating and drying. The solution concentration and the like are adjusted so that the coating amount after drying is 4 g / m 2 . The polymer film coated on the PET substrate is immersed in a 3.5 wt% potassium silicate aqueous solution (SiO 2 / K 2 O molar ratio: 1.16) at 25 ° C. for different times and washed with water. The soaking speed is determined by the soaking time that the film is not dissolved.

(その他のアルカリ可溶性樹脂)
また、本発明における画像記録層には、前記2種のアルカリ可溶性樹脂以外のアルカリ可溶性樹脂を、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。このようなアルカリ可溶性樹脂としては、下記(2)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有する樹脂が挙げられる。
(Other alkali-soluble resins)
In the image recording layer of the present invention, alkali-soluble resins other than the two types of alkali-soluble resins can be used as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such alkali-soluble resins include resins having the acidic groups listed in the following (2) to (6) in the main chain and / or side chain of the polymer.

(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO32
上記(2)〜(6)中、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )
In said (2)-(6), R represents the hydrocarbon group which may have a hydrogen atom or a substituent.

上記(2)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(2)スルホンアミド基および(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から併用成分としては好ましい。   Among the alkali-soluble resins having an acidic group selected from (2) to (6) above, (2) a sulfonamide group and (3) an alkali-soluble resin having an active imide group are preferable, and in particular, (2) a sulfonamide group. Alkali-soluble resins having the above are preferable as a combination component from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.

上記(2)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物が挙げられる。
As alkali-soluble resin which has an acidic group chosen from said (2)-(6), the following can be mentioned, for example.
(2) As an alkali-soluble resin having a sulfonamide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule is preferable. For example, the following general formula (i) to general formula ( and a compound represented by v).

Figure 0004505388
Figure 0004505388

上記一般式(i)〜(v)中、X1、X2は、それぞれ独立に−O−または−NR7を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及び、R16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及び、R13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。 In the general formulas (i) to (v), X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7 . R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 , and R 16 each independently represent an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group, or an aralkylene group. . R 3 , R 7 , and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. R 6 and R 17 each independently represents a C 1-12 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group which may have a substituent. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each independently represents a single bond or a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a substituent. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物のうち、本発明に用いうるアルカリ可溶性樹脂としては、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by the general formula (i) to the general formula (v), examples of the alkali-soluble resin that can be used in the present invention include m-aminosulfonylphenyl methacrylate and N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide. N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) As an alkali-soluble resin having an active imide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having an active imide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 0004505388
Figure 0004505388

具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
(6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(4) As an alkali-soluble resin having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.
(5) As the alkali-soluble polymer having a sulfonic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one sulfonic acid group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is a main structural unit. Can be mentioned.
(6) As an alkali-soluble resin having a phosphate group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphate group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.

前記(2)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、または異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。   The minimum structural unit having an acidic group selected from the above (2) to (6) is not particularly limited to one kind, and two or more minimum structural units having the same acidic group or different acidic groups are included. What copolymerized 2 or more types of minimum structural units can also be used.

本発明において使用しうるアルカリ可溶性樹脂は、(2)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物を10モル%以上含む(共)重合体が好ましく、このような酸性基を20モル%以上含むものがより好ましい。10モル%未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させることができない傾向がある。   The alkali-soluble resin that can be used in the present invention is preferably a (co) polymer containing 10 mol% or more of a compound having an acidic group selected from (2) to (6), and such an acidic group is contained in an amount of 20 mol% or more. The inclusion is more preferable. If it is less than 10 mol%, the development latitude tends to be insufficiently improved.

前記(2)〜(6)で示される酸性基を有する重合性モノマーと共重合させる(千世紀を有しない)モノマー成分としては、例えば、下記(m1)〜(m12)に挙げるモノマーを用いることができるが、これらに限定されるものではない。   As the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having an acidic group represented by the above (2) to (6) (having no thousand centuries), for example, the monomers listed in the following (m1) to (m12) are used. However, it is not limited to these.

(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体が好ましく、特にm−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等の、スルホンアミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体のものが好ましい。また重量平均分子量は2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。また、本発明においてアルカリ可溶性樹脂がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。   The alkali-soluble resin in the present invention is preferably a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group or a homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having an active imide group, and particularly m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- ( A homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having a sulfonamide group such as p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide or N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide is preferred. The weight average molecular weight is preferably 2,000 or more and the number average molecular weight is 500 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. . In the present invention, when the alkali-soluble resin is a resin such as a phenol formaldehyde resin or a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to 20,000, and the number average molecular weight is preferably 200 to 10,000. .

なお、録層中には、必須成分である特定ポリマーA、特定ポリマーB及び所望により併用される少なくとも2種の相分離構造を形成しうる樹脂を含有することを要するが、これらアルカリ可溶性樹脂の総添加量としては、画像記録層全固形分中、30〜99質量%、好ましくは40〜95質量%、特に好ましくは50〜90質量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添加量が30質量%未満であると画像記録層の耐久性が悪化し、また、99質量%を超えると、後述する「(C)光熱変換剤」の添加量が減少するため、感度が低下し、好ましくない。   In addition, the recording layer needs to contain a specific polymer A, a specific polymer B, which are essential components, and a resin capable of forming at least two kinds of phase-separated structures used together as desired. The total addition amount is 30 to 99% by mass, preferably 40 to 95% by mass, and particularly preferably 50 to 90% by mass in the total solid content of the image recording layer. When the addition amount of the alkali-soluble resin is less than 30% by mass, the durability of the image recording layer deteriorates. When the addition amount exceeds 99% by mass, the addition amount of “(C) photothermal conversion agent” described later decreases. Sensitivity decreases, which is not preferable.

〔(C)光熱変換剤〕
本発明に係る画像記録層には、露光波長に吸収を有し、この範囲の波長域の光により、光/熱変換能を発現する物光熱変換剤が含まれる。一般には、700nm以上、好ましくは750〜1200nmの赤外域に光吸収域を有し、この範囲の波長域の光を吸収し熱を発生する種々の赤外線吸収染料または赤外線吸収顔料を用いることができる。
[(C) Photothermal conversion agent]
The image recording layer according to the present invention includes an object-to-light heat conversion agent that has absorption at an exposure wavelength and exhibits light / heat conversion ability by light in this wavelength range. Generally, various infrared absorbing dyes or infrared absorbing pigments having a light absorption region in the infrared region of 700 nm or more, preferably 750 to 1200 nm, and absorbing light in the wavelength region within this range to generate heat can be used. .

染料としては、市販の染料、例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレ−ト錯体、オキソノ−ル染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes, for example, known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, Examples thereof include oxonol dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A 59-73996, JP-A 60-52940, JP-A 60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A 58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリ−ルベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Further, near infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924 Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A Nos. 57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363, 59- 84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 And the pyrylium compounds disclosed in JP-B-5-13514 and JP-A-5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノ−ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレ−ト錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に、下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明の画像形成材料で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because they are excellent in photothermal conversion efficiency. In particular, the cyanine dyes represented by the following general formula (a) are used in the image forming material of the present invention. In this case, it is most preferable because it gives a high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.

Figure 0004505388
Figure 0004505388

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.

Figure 0004505388
Figure 0004505388

上記式中、Xa-は、後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリ−ル基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 In the above formula, Xa - has Za described later - is defined as for, Ra represents a hydrogen atom, an alkyl group, ant - represents a group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom . R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the image recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring. Alternatively, it is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、但し、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェ−トイオン、及びアリ−ルスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the image recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638号公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360号公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be preferably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. And those described in paragraph numbers [0012] to [0038] of JP-A No. 2002-40638 and paragraph numbers [0012] to [0023] of JP-A No. 2002-23360.

Figure 0004505388
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一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨ−ドニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Na+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、一般式(b)中、Lが共役炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。 In the general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, the methine chain may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring structure. Good. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Na + , K + , Li + ) and the like. R 9 to R 14 and R 15 to R 20 are each independently a hydrogen atom or halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, This represents a substituent selected from an oxy group or an amino group, or a combination of two or three of these, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in general formula (b), those in which L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms and those in which R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms are easily available. It is preferable from the viewpoint of effect.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   Specific examples of the dye represented by formula (b) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below.

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一般式(c)中、Y3及びY4は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Za-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms. R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group. Represents a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Further, wherein Za - include a counter anion, Za in the general formula (a) - it is synonymous.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) that can be suitably used include those exemplified below.

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一般式(d)中、R29ないしR31は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリ−ル基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に0ないし4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合して環を形成しても良く、さらに、R33或いはR34が複数存在する場合に、R33同士あるいはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。X2及びX3は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリ−ル基であり、X2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In general formula (d), R 29 to R 31 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 33 and R 34 each independently represents an alkyl group, a substituted oxy group, or a halogen atom. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. R 29 and R 30 , or R 31 and R 32 may be bonded to each other to form a ring, and R 29 and / or R 30 is R 33 and R 31 and / or R 32 is R 34 A ring may be bonded to each other, and when there are a plurality of R 33 or R 34 , R 33 or R 34 may be bonded to each other to form a ring. X 2 and X 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and at least one of X 2 and X 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure together with a divalent organic group. Zc represents a counter anion and has the same meaning as Za in the general formula (a).

本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by the general formula (d) that can be suitably used include those exemplified below.

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一般式(e)中、R35〜R50はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。 In general formula (e), R 35 to R 50 are each independently a hydrogen atom, halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxyl group, which may have a substituent, A carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, an amino group, and an onium salt structure are shown. M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, and an oxymetal group, and the metal atoms contained therein include IA, IIA, IIIB, IVB group atoms of the periodic table, first, second, second Three-period transition metals and lanthanoid elements can be mentioned, among which copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, and vanadium are preferable.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) that can be suitably used include those exemplified below.

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前記顔料としては、市販の顔料またはカラ−インデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)および「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment include commercially available pigments or color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), and The pigments described in “Printing Ink Technology” published by CMC (published in 1984) can be used.

前記顔料の種類としては、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、ポリマ−結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレ−キ顔料、縮合アゾ顔料、キレ−トアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレ−キ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カ−ボンブラックを用いることができる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bonded pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isotopic pigments Indolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, and carbon black can be used.

これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コ−トする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネ−ト)を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. As the surface treatment method, a method of surface coating of resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate) to the pigment surface Etc. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、分散物の塗布液中での安定性、及び、画像記録層の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, and preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoint of the stability of the dispersion in the coating liquid and the uniformity of the image recording layer. More preferably, it is preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナ−製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライタ−、パ−ルミル、ス−パ−ミル、ボ−ルミル、インペラ−、デスパ−ザ−、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロ−ルミル、加圧ニ−ダ−等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, par mills, super mills, ball mills, impellers, desperzers, KD mills, colloid mills, Dynatrons, three-rollers Lumil, pressure kneader and the like. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの光熱変換剤は、感度と、画像記録層の均一性や耐久性とのバランスの観点から、画像記録層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   These photothermal conversion agents are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1%, based on the total solid content constituting the image recording layer, from the viewpoint of balance between sensitivity and uniformity and durability of the image recording layer. In the case of a dye, particularly preferably in the case of a dye, 0.5 to 10% by mass, and particularly in the case of a pigment, it can be added in a proportion of preferably 0.1 to 10% by mass.

〔その他の成分〕
画像記録層中には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
例えば、画像記録層の溶解性を調節するために、他のオニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等、添加するとアルカリ水可溶性高分子(アルカリ可溶性樹脂)の現像液への溶解阻止機能を向上させるいわゆる溶解抑止剤を添加することが好ましく、中でも、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。
[Other ingredients]
Various additives can be further added to the image recording layer as necessary.
For example, in order to adjust the solubility of the image recording layer, when other onium salts, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, polyfunctional amine compounds, etc. are added, an alkali water-soluble polymer (alkali-soluble resin) is added. It is preferable to add a so-called dissolution inhibitor that improves the dissolution inhibiting function in the developer. Among them, an onium salt, an o-quinonediazide compound, a sulfonic acid alkyl ester and the like are thermally decomposable, and in an undecomposed state, an alkali-soluble resin. It is preferable to use a substance that substantially lowers the solubility of the toner in terms of improving the dissolution inhibition of the image area in the developer.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばS.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。   Preferred examples of the onium salt used in the present invention include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581, sulfonium salts described in J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び4級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)で示されるジアゾニウム塩や特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また4級アンモニウム塩としては、特開2002−229186号公報に記載[化23][化24]中の(1)〜(10)に示される4級アンモニウム塩が好ましい。   Among these onium salts, diazonium salts and quaternary ammonium salts are particularly preferable from the viewpoints of dissolution inhibition ability and thermal decomposability. In particular, the diazonium salt is preferably a diazonium salt represented by the general formula (I) described in JP-A-5-158230 or a diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064. The diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064 having a small absorption wavelength in the visible light region is most preferable. Moreover, as a quaternary ammonium salt, the quaternary ammonium salt shown by (1)-(10) in [Chemical Formula 23] [Chemical Formula 24] described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-229186 is preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものをあげることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/または、o−キノンジアジド化合物の添加量は好ましくは画像記録層の全固形分に対し、1〜10質量%、更に好ましくは1〜5質量%、特に好ましくは1〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   The amount of the onium salt and / or o-quinonediazide compound that is a degradable dissolution inhibitor is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, particularly preferably the total solid content of the image recording layer. Preferably it is the range of 1-2 mass%. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0.1〜5質量%、更に好ましくは0.1〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。本発明に係る添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass. The additive and binder according to the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

また、本発明における画像記録層に使用される添加剤としては、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、および可塑剤も、本発明におけるポジ型画像記録層に使用することができる。
環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4'−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4',4"−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4',3",4"−テトラヒドロキシ−3,5,3',5'−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、及びカルボン酸類などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の画像記録層中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
Moreover, as an additive used for the image recording layer in the present invention, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. Further, a surfactant, an image colorant, and a plasticizer, which will be described later, can also be used for the positive image recording layer in the present invention.
Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-4-tetrahydrophthalic anhydride, and tetrachlorophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. , Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane, etc. Further, organic acids include Examples thereof include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755.
The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols, and organic acids in the image recording layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0.1. -10 mass%.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び本発明者らが先に提案した特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。   In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group described in JP-A-8-276558, and the inventors previously proposed. A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-11-160860 can be appropriately added depending on the purpose.

また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Further, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像記録層全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で記録層中に添加することができる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added to the recording layer in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.

更に、本発明の画像形成材料の最上層には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the uppermost layer of the image forming material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

(塗布溶剤及び塗布方法)
本発明における画像記録層は、画像記録層塗布液を構成する各成分を溶媒に溶かし、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。また、目的に応じて、後述する保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般に、乾燥後の塗膜量が0.5〜5.0mg/m2となる量が好ましく、0.6〜2.0mg/m2となる量がより好ましい。
(Coating solvent and coating method)
The image recording layer in the present invention can be formed by dissolving each component constituting the image recording layer coating solution in a solvent and coating the solution on a suitable support. Further, depending on the purpose, a protective layer, a resin intermediate layer, a backcoat layer and the like, which will be described later, can be formed in the same manner.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene. It is not limited. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.
Further, the coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but in general, the coating amount after drying is preferably 0.5 to 5.0 mg / m 2. An amount of 6 to 2.0 mg / m 2 is more preferable.

画像記録層塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。   Various methods can be used as a method for applying the image recording layer coating solution. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, etc. Can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film deteriorate.

(支持体)
本発明の画像形成材料に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフイルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフイルム等が挙げられる。
本発明に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
(Support)
The support used in the image forming material of the present invention is a dimensionally stable plate-like material, and is not particularly limited as long as it satisfies the physical properties such as required strength and flexibility. Paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, butyric acid) Cellulose, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited, or plastic film.
As the support applicable to the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can also be used. The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. When the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the planographic printing plate is easily damaged, and ink adheres to the damaged part during printing. So-called “scratch stains” easily occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

(下塗層)
本発明の画像形成材料は、支持体上に先述したような画像記録層を設けたものであるが、必要に応じて支持体と画像記録層との間に下塗層を設けることができる。この下塗層を設けることで、支持体と画像記録層との間の下塗層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。また、本発明に係る画像記録層は、この下塗層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
なお、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である画像記録層自体が下塗層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光部においては、溶解抑制能が解除された画像記録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、さらには、支持体に隣接して存在するこの下塗層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この下塗層は有用であると考えられる。
(Undercoat layer)
The image forming material of the present invention is provided with an image recording layer as described above on a support, and an undercoat layer can be provided between the support and the image recording layer as necessary. By providing this undercoat layer, the undercoat layer between the support and the image recording layer functions as a heat insulating layer, and the heat generated by the infrared laser exposure does not diffuse to the support and is used efficiently. Therefore, there is an advantage that high sensitivity can be achieved. In addition, the image recording layer according to the present invention is located on the exposed surface or in the vicinity thereof even when the undercoat layer is provided, so that the sensitivity to the infrared laser is well maintained.
In the unexposed area, the image recording layer itself, which is impermeable to the alkaline developer, functions as a protective layer for the undercoat layer. Therefore, the development stability is improved and the discrimination is excellent. It is considered that an image is formed and stability over time is secured, and in the exposed portion, the components of the image recording layer whose dissolution inhibiting ability is released are quickly dissolved and dispersed in the developer, Since the undercoat layer itself that is adjacent to the support is made of an alkali-soluble polymer, it has good solubility in a developer, for example, even when a developer with reduced activity is used. It is considered that this undercoat layer is useful because it dissolves quickly without generating a residual film and contributes to improvement of developability.

下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。   Various organic compounds are used as the primer layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid which may have a substituent Organic phosphonic acids such as naphthyl phosphonic acid, alkyl phosphonic acid, glycero phosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenyl phosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid, glycerophosphinic acid and other organic phosphinic acids, glycine and β-alanine amino acids, and triethanolamine hydrochloric acid Has a hydroxy group such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

さらに、下記式で示される構造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む下塗層も好ましい。   Furthermore, an undercoat layer containing at least one compound selected from the group of organic polymer compounds having a structural unit represented by the following formula is also preferred.

Figure 0004505388
Figure 0004505388

11は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−OR14、−COOR15、−CONHR16、−COR17若しくは−CNを表すか、又はR12及びR13が結合して環を形成してもよく、R14〜R17はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、Xは水素原子、金属原子、NR18192021を表し、R18〜R21はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール基を表すか、又はR18及びR19が結合して環を形成してもよく、mは1〜3の整数を表す。 R 11 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, —OR 14. , -COOR 15 , -CONHR 16 , -COR 17 or -CN, or R 12 and R 13 may be bonded to form a ring, and R 14 to R 17 are each independently an alkyl group or Represents an aryl group, X represents a hydrogen atom, a metal atom, or NR 18 R 19 R 20 R 21 , and R 18 to R 21 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl. Represents a group, or R 18 and R 19 may combine to form a ring, and m represents an integer of 1 to 3.

また、本発明における好適な下塗層成分として、特開2000−241962号公報に記載の酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成分とを有する高分子化合物を挙げることができる。具体的には、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。酸基として好ましいのは酸解離指数(pKa)が7以上の酸基であり、より好ましくは−COOH、−SO3H、−OSO3H、−PO32、―OPO32、―CONHSO2―、またはーSO2NHSO2−であり、特に好ましくは−COOHである。酸基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、上記酸基を有するスチレンなどが挙げられる。オニウム塩として好ましいのは、周期表V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子から成るオニウム塩であり、特に好ましくは窒素原子から成るオニウム塩である。オニウム塩を有するモノマーの具体例としては、側鎖にアンモニウム基を有するメタクリレート、メタクリルアミド、第4級アンモニウム基などのオニウム基を含む置換基などのオニウム基を含む置換基を有するスチレン等が挙げられる。
さらに、特開2000−108538号公報、特願2002−257484号公報、特願2003−78699号公報、等に記載されているような化合物についても、必要に応じて用いることができる。
Moreover, as a suitable undercoat layer component in the present invention, there can be mentioned a polymer compound having a component having an acid group and a component having an onium group, as described in JP-A No. 2000-241962. Specific examples include a copolymer of a monomer having an acid group and a monomer having an onium group. An acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or more is preferred as the acid group, and more preferably —COOH, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , — CONHSO 2 — or —SO 2 NHSO 2 —, particularly preferably —COOH. Specific examples of the monomer having an acid group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and styrene having the acid group. Preferred as the onium salt is an onium group composed of Group V or Group VI atoms, more preferably an onium salt composed of nitrogen, phosphorus or sulfur atoms, and particularly preferably an onium salt composed of nitrogen atoms. Salt. Specific examples of the monomer having an onium salt include styrene having a substituent containing an onium group such as a methacrylate having an ammonium group in the side chain, a methacrylamide, a substituent containing an onium group such as a quaternary ammonium group, and the like. It is done.
Furthermore, compounds as described in JP-A No. 2000-108538, Japanese Patent Application No. 2002-257484, Japanese Patent Application No. 2003-78699, and the like can be used as necessary.

これらの下塗層は、次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。また、画像形成材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと充分な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大きくても同様である。 These undercoat layers can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, then washed with water or the like and dried to provide an undercoat layer. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the image forming material. The coating amount of the undercoat layer is suitably 2 to 200 mg / m 2 , preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. Moreover, even if it is larger than 200 mg / m 2, it is the same.

〔平版印刷版原版への応用〕
上記のようにして作製された本発明の画像形成材料は、平版印刷版原版として好適に用いられ、通常、像露光、現像処理を施される。以下、本発明の画像形成材料を平版印刷版原版に用いた場合の画像記録方法について説明する。
[Application to lithographic printing plate precursor]
The image forming material of the present invention produced as described above is suitably used as a lithographic printing plate precursor and is usually subjected to image exposure and development treatment. Hereinafter, an image recording method when the image forming material of the present invention is used for a lithographic printing plate precursor will be described.

本発明が適用される平版印刷版原版は、熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。   The lithographic printing plate precursor to which the present invention is applied is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head, scanning exposure using an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, and the like are used, but a semiconductor that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm. Exposure by a solid high-power infrared laser such as a laser or a YAG laser is suitable.

レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましく、記録材料に照射されるエネルギーは10〜500mJ/cm2であることが好ましい。 The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec, and the energy applied to the recording material is preferably 10 to 500 mJ / cm 2 .

本発明に適用することのできる現像液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   The developer that can be applied to the present invention is a developer having a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A conventionally known alkaline aqueous solution can be used for the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液で、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. Another more preferable developer, which is an aqueous solution called “silicate developer” having a pH of 12 or more, does not contain an alkali silicate, and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Silicate developer ".

前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the former, the aqueous solution of alkali metal silicate is a ratio of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide M 2 O (generally expressed as a molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]. ) And the density, the developability can be adjusted. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the SiO 2 / Na 2 O molar ratio is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4 mass% is disclosed in JP-B-57-7427. As described, [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and SiO 2 The developer is based on gram atoms of all alkali metals present in the developer. A manner containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」が、本発明の平版印刷版材料の現像に適用するのには一層好ましい。この現像液を用いて、平版印刷版原版の現像処理を行うと、画像記録層の表面を劣化させることがなく、かつ記録層の着肉性を良好な状態に維持することができる。また、平版印刷版原版は、一般には現像ラチチュードが狭く、現像液pHによる画線幅等の変化が大きいが、ノンシリケート現像液にはpHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖が含まれているため、シリケートを含む現像処理液を用いた場合に比べて有利である。更に、非還元糖は、シリケートに比べて液活性度を制御するための電導度センサーやpHセンサー等を汚染し難いため、この点でも、ノンシリケート現像液は有利である。また、ディスクリミネーション向上効果が顕著である。これは、本発明において重要な現像液との接触(浸透)がマイルドとなり、露光部及び未露光部の差が出やすくなっているためと推定される。   Further, a so-called “non-silicate developer” which does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base is more preferable for application to the development of the lithographic printing plate material of the present invention. When the development processing of the lithographic printing plate precursor is performed using this developer, the surface of the image recording layer is not deteriorated and the thickness of the recording layer can be maintained in a good state. In addition, the lithographic printing plate precursor generally has a narrow development latitude and a large change in the image line width due to the developer pH, but the non-silicate developer contains a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH. Therefore, it is more advantageous than the case where a developing processing solution containing silicate is used. Furthermore, since non-reducing sugars are less likely to contaminate conductivity sensors, pH sensors and the like for controlling liquid activity compared to silicates, non-silicate developers are advantageous in this respect as well. Further, the effect of improving discrimination is remarkable. This is presumably because the contact (penetration) with the developer which is important in the present invention is mild, and the difference between the exposed and unexposed areas is likely to occur.

前記非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において好適に用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。   The non-reducing sugar is a saccharide that does not have a free aldehyde group or a ketone group and does not exhibit reducibility, and is a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bonded to each other, or a glycoside in which a reducing group and a non-saccharide are bonded to each other. And sugar alcohols reduced by hydrogenation of saccharides and sugars, both of which can be suitably used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なpH領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。   Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit, allozulcit and the like. . Further, maltitol hydrogenated to disaccharide maltose, reduced form obtained by hydrogenation of oligosaccharide (reduced water candy), and the like are preferable. Among these non-reducing sugars, trehalose-type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose, reduced syrup, etc. are preferable in that they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.

これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記含有量が、0.1質量%未満であると十分な緩衝作用が得られなくなる傾向があり、30質量%を越えると高濃縮化し難く、また原価も高くなる傾向がある。   These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass. If the content is less than 0.1% by mass, a sufficient buffering effect tends to be not obtained, and if it exceeds 30% by mass, it is difficult to achieve high concentration and the cost tends to increase.

また、前記非還元糖と組み合わせて用いられる塩基としては、従来より公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the base used in combination with the non-reducing sugar include conventionally known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents. Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, Examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate.

有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。   Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanol. Examples include amine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine.

前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。   The said base may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. In the present invention, as the non-silicate developer, a non-reducing sugar alkali metal salt as a main component can be used instead of the non-reducing sugar and the base.

また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergmon Press 社発行のIonization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution 等に記載されているものから選択できる。   In addition, an alkaline buffer composed of a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developer. The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and can be selected from, for example, those described in Ionization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution published by Pergmon Press.

具体的には、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノ−ル−1、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(、ピリジン−4−アルデヒド(等のアルデヒド類、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、3,4−ジヒドロキシスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール、o−、m−,p−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物、アセトキシム、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類、アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質、その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。   Specifically, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1, trifluoroethanol and trichloroethanol, pyridine-2-aldehyde (, aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (and the like) , Salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, catechol, gallic acid, sulfosalicylic acid, 3,4-dihydroxysulfonic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, hydroquinone (11.56), pyrogallol, o-, m Compounds having a phenolic hydroxyl group such as-, p-cresol, resorsonol, oximes such as acetoxime, 2-hydroxybenzaldehyde oxime, dimethylglyoxime, ethanediamide dioxime, acetophenone oxime, adenosine, inosine, guanine, cytosine, hypoxanthine , Ki Nucleic acid-related substances such as Nchin, other, diethylaminomethyl acid, benzimidazole, and the like barbituric acid is preferably exemplified.

前記現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散または、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液及び補充液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。   To the developer and replenisher, various surfactants and organic solvents are added as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, or improving ink affinity of the printing plate image area. it can. As the surfactant, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants are preferable. Further, the developer and replenisher may contain a reducing agent such as sodium salt and potassium salt of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, and bisulfite, as well as organic carboxylic acid, antifoaming agent, hard water, if necessary. Softeners and the like can be added.

前記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版原版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。前記画像形成材料を印刷版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate precursor developed using the developer and replenisher is post-treated with a desensitizing solution containing rinsing water containing a washing water, a surfactant and the like, gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment when the image forming material is used as a printing plate, these treatments can be used in various combinations.

更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があげられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明のに係る印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than that of the developer is added to the developer, so that a large amount of developer can be obtained without replacing the developer in the developer tank for a long time. It is known that PS plates can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area.
Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. If necessary, the developer and replenisher may contain reducing agents such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, bisulfite, and other inorganic acids such as sodium salts and potassium salts, organic carboxylic acids, antifoaming agents, and hard water softeners. It can also be added.
The printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with water-washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, a desensitizing solution containing gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the printing plate precursor according to the present invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. The processing liquid is sprayed from the spray nozzle and developed. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor, there is an image portion unnecessary for the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, a film edge mark of the original film). In that case, the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if it is desired to obtain a lithographic printing plate with a higher printing durability, it is desired. The burning process is performed.
In the case of burning a lithographic printing plate, the preparation as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859 and JP-A-61-159655 is performed before burning. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.

整面液の塗布量は、一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。 In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as water washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like was used. In some cases, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
[実施例1〜5、比較例1〜5]
(支持体の作製)
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A 1050)を苛性ソーダ濃度30g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温60℃で10秒間エッチング処理を行い、流水で水洗し、10g/l硝酸で中和洗浄後、水洗した。これを印加電圧Va=20Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、塩化水素濃度15g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温30℃の水溶液中で、400C/dm2の電気量で電化化学的な粗面化処理を行い、水洗した。次に、苛性ソーダ濃度30g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温40℃で10秒間エッチング処理を行い、流水で水洗した。次に、硫酸濃度15質量%、液温30℃の硫酸水溶液中でデスマット処理を行い、水洗した。さらに、液温20℃の10質量%硫酸水溶液中、直流にて電流密度6A/dm2の条件下で、陽極酸化皮膜両が2.5g/m2相当となるように陽極酸化処理し、水洗、乾燥した。その後、ケイ酸ナトリウム1.0質量%水溶液で30℃において10秒間処理し、親水性処理した支持体(a)を作製した。
この支持体(a)の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.43μmであった。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.
[Examples 1-5, Comparative Examples 1-5]
(Production of support)
An aluminum plate (material: JIS A 1050) with a thickness of 0.3 mm is etched for 10 seconds at a caustic soda concentration of 30 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l, and a liquid temperature of 60 ° C., washed with running water, and washed with 10 g / l nitric acid. After neutralizing and washing with water. This was applied with an electric current of 400 C / dm 2 in an aqueous solution having a hydrogen chloride concentration of 15 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l and a liquid temperature of 30 ° C. using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of applied voltage Va = 20V. Electrochemical roughening treatment was carried out in an amount and washed with water. Next, etching treatment was performed for 10 seconds at a caustic soda concentration of 30 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l, and a liquid temperature of 40 ° C., and washed with running water. Next, desmut treatment was performed in a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 15% by mass and a liquid temperature of 30 ° C., followed by washing with water. Furthermore, in a 10% by mass sulfuric acid aqueous solution at a liquid temperature of 20 ° C., an anodizing treatment was performed under a condition of a current density of 6 A / dm 2 by direct current so that both anodic oxide coatings would be equivalent to 2.5 g / m 2 , and washing with water. , Dried. Then, it processed for 10 second at 30 degreeC with the sodium silicate 1.0 mass% aqueous solution, and produced the support body (a) which carried out the hydrophilic process.
When the center line average roughness (Ra) of the support (a) was measured using a needle having a diameter of 2 μm, it was 0.43 μm.

〔下塗り層の形成〕
このようにして得られた支持体(a)に、下記下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥して下塗り層を設けた。下塗り層の乾燥塗布量は17mg/m2であった。
(下塗り液組成)
・下記化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
(Formation of undercoat layer)
The following undercoat liquid was applied to the support (a) thus obtained, and dried at 80 ° C. for 30 seconds to provide an undercoat layer. The dry coating amount of the undercoat layer was 17 mg / m 2 .
(Undercoat liquid composition)
・ The following compound 0.3g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 0004505388
Figure 0004505388

(感光層の形成)
次に、上記で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の塗布液Aをワイヤーバーで塗布した。塗布後140℃60秒間の乾燥を行い、総塗布量を2.00g/m2として実施例1〜4のポジ型平版印刷版原版を得た。
(Formation of photosensitive layer)
Next, the coating liquid A having the following composition was applied to the support with the undercoat layer obtained above with a wire bar. After coating, drying was performed at 140 ° C. for 60 seconds to obtain a positive planographic printing plate precursor of Examples 1 to 4 with a total coating amount of 2.00 g / m 2 .

<塗布液A>
・表1記載の(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂 表1記載の量
(表中に、「特定ポリマーA」と記載)
・表1記載の(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂 表1記載の量
(表中に、「特定ポリマーB」と記載)
・(C)シアニン染料X(下記構造) 0.05g
・エチルバイオレット 0.015g
・メチルエチルケトン 20g
<Coating liquid A>
・ Alkaline-soluble resin having urea bond on side chain (A) described in Table 1 Amount described in Table 1 (In the table, described as “specific polymer A”)
-(B) Alkali-soluble resin having phenolic hydroxyl group described in Table 1 Amount described in Table 1 (In the table, described as "specific polymer B")
・ (C) Cyanine dye X (the following structure) 0.05g
・ Ethyl violet 0.015g
・ Methyl ethyl ketone 20g

なお、表1記載の(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の詳細は以下の通りである。
(b−1):m−クレゾール/p−クレゾール(モル比:60/40)
ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量平均分子量;4000)
(b−2):m−クレゾール/p−クレゾール(モル比:40/60)
ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量平均分子量;10000)
In addition, the detail of (B) alkali-soluble resin which has phenolic hydroxyl group of Table 1 is as follows.
(B-1): m-cresol / p-cresol (molar ratio: 60/40)
Formaldehyde novolac resin (weight average molecular weight; 4000)
(B-2): m-cresol / p-cresol (molar ratio: 40/60)
Formaldehyde novolac resin (weight average molecular weight; 10,000)

Figure 0004505388
Figure 0004505388

〔平版印刷版原版の評価〕
次に、実施例1〜5、及び、比較例1〜5のポジ型平版印刷版原版の性能評価を行った。なお、評価試験は上記感光層塗布後25℃で14日間保存したものについて行った。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
Next, performance evaluation of the positive type lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 was performed. The evaluation test was conducted on the sample stored at 25 ° C. for 14 days after the photosensitive layer was applied.

〔感度の評価〕
実施例1〜5、及び、比較例1〜5のポジ型平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter800にて、ビーム強度を変えて露光を行い、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2の水希釈(1:8)を用いて現像を行った。このとき露光量を変えて露光し、同一現像条件下で露光部が十分に現像される最低露光量を感度と定義した。数値が小さいほど感度が高いと評価する。
[Evaluation of sensitivity]
The positive lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 were exposed by changing the beam intensity using a Trendsetter 800 manufactured by Creo, and developed by Fuji Photo Film Co., Ltd. DT-2 Development was performed using a 1: 8 dilution of water. At this time, exposure was performed while changing the exposure amount, and the minimum exposure amount at which the exposed portion was sufficiently developed under the same development conditions was defined as sensitivity. The smaller the value, the higher the sensitivity.

〔耐刷性、耐薬品性の評価〕
得られた実施例1〜5、及び、比較例1〜5のポジ型平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetterにてビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
その後、下記組成のアルカリ現像液を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温を30℃に保ち、現像時間20秒で現像した。得られた平版印刷版を小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。結果を下記表2に示す。
また、印刷の途中に5000枚印刷する毎に、クリーナー(富士写真フイルム社製、マルチクリーナー)で版面を拭く工程を加え、上記と同様に耐刷性を評価した。前者の耐刷性を通常耐刷性、後者の耐刷性をクリーナー耐刷性と称し、その結果を表2に示す。このクリーナー耐刷性が高いものほど、耐薬品性が良好であると評価する。
[Evaluation of printing durability and chemical resistance]
The obtained positive lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 were imaged in a test pattern with a beam intensity of 9 W and a drum rotation speed of 150 rpm with a Trend setter manufactured by Creo. It was.
Thereafter, using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., charged with an alkaline developer having the following composition, development was performed at a developing time of 20 seconds while maintaining the liquid temperature at 30 ° C. The obtained lithographic printing plate was printed with a DIC-GEOS (N) black ink manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. using a Lithrone printing machine manufactured by Komori Corporation. The printing durability was evaluated based on the number of printed sheets at the time recognized in (1). The results are shown in Table 2 below.
Further, every time 5000 sheets were printed during printing, a process of wiping the plate surface with a cleaner (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., multi-cleaner) was added, and printing durability was evaluated in the same manner as described above. The former printing durability is called normal printing durability, and the latter printing durability is called cleaner printing durability. The results are shown in Table 2. The higher the cleaner printing durability, the better the chemical resistance.

<アルカリ現像液組成>
・SiO2・K2O(K2O/SiO2 =1/1(モル比)) 4.0質量%
・クエン酸 0.5質量%
・ポリエチレングリコールラウリルエーテル(重量平均分子量;1,000)
0.5質量%
・水 95.0質量%
<Alkali developer composition>
・ SiO 2 · K 2 O (K 2 O / SiO 2 = 1/1 (molar ratio)) 4.0% by mass
・ Citric acid 0.5% by mass
・ Polyethylene glycol lauryl ether (weight average molecular weight; 1,000)
0.5% by mass
・ Water 95.0 mass%

〔現像ラチチュードの評価〕
得られた実施例1〜5、及び、比較例1〜5のポジ型平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter800にて、ビーム強度10.0W、ドラム回転速度250rpmの条件でテストパターンの画像状に描き込み(露光)を行った。
次に、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2Rの水希釈(1:9)にて、電導度が37mS/cmになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFG−1の水希釈(1:1)液を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサーLP−940HIIを用い、液温を30度に保って現像時間12秒で現像した。
その後、現像液にDT−2Rの水希釈(1:9)液を適量加え、電導度を39mS/cmに調整し、先ほどと同じくテストパターンを画像状に描き込んだ平版印刷版原版を現像した。更に電導度を2mS/cmずつ上げ、画像の現像による膜減りが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
[Evaluation of development latitude]
The obtained positive type lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 were formed into test pattern images on a Trendsetter 800 manufactured by Creo under the conditions of a beam intensity of 10.0 W and a drum rotation speed of 250 rpm. Draw (exposure).
Next, a solution in which carbon dioxide gas was blown into the developer DT-2R manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. with water dilution (1: 9) until the conductivity reached 37 mS / cm, and a finisher manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. Development was carried out using a PS processor LP-940HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., in which a FG-1 aqueous dilution (1: 1) solution was charged and the liquid temperature was kept at 30 ° C., and the development time was 12 seconds.
Thereafter, an appropriate amount of DT-2R diluted with water (1: 9) was added to the developer, the conductivity was adjusted to 39 mS / cm, and the lithographic printing plate precursor in which the test pattern was drawn in an image shape as before was developed. . Further, the electrical conductivity was increased by 2 mS / cm, and this operation was continued until a film loss due to image development was observed remarkably.

これら現像後の実施例及び比較例の版において、各電導度で現像した版を、現像不良の非画像部残膜に起因する汚れや着色がないかを50倍のルーペで確認し、良好に現像が行えた現像液の電導度を決定した。次に、未露光部の現像膜減りが起こらない電導度、具体的には、現像前のベタ部の画像濃度をGRETAG反射濃度計D196(GretagMacbeth社製)で測定して、この画像濃度から0.10以上少ない画像濃度となるベタ部が形成された現像液の電導度を決定した。
良好に現像が行えた現像液の電導度と現像膜減りが維持される限界の電導度の幅を現像ラチチュードとした。結果を表1に示す。
In the developed plates of Examples and Comparative Examples after development, the plates developed with each conductivity were checked with a magnifier of 50 times to see whether there was any stain or coloring due to poorly developed non-image area residual film. The conductivity of the developer that could be developed was determined. Next, the conductivity at which the developed film does not decrease in the unexposed area, specifically, the image density of the solid area before development is measured with a GRETAG reflection densitometer D196 (manufactured by GretagMacbeth), and 0 is determined from this image density. The electric conductivity of the developer having a solid portion having an image density of 10 or more was determined.
The development latitude was defined as the conductivity range of the developer that was able to be developed satisfactorily and the limit of conductivity at which the decrease in the developed film was maintained. The results are shown in Table 1.

(相分離構造の確認)
実施例1〜5、及び、比較例1〜5の平版印刷版原版の破断面を、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2の水希釈(1:8)液に10秒間浸漬した後、倍率3万倍のSEMで観測した。海島構造がみられたものを○、みられなかったものを×とした。結果を表1に示す。
(Confirmation of phase separation structure)
After immersing the fracture surfaces of the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 in a water diluted (1: 8) solution of developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. for 10 seconds And observed with a SEM at a magnification of 30,000. The case where the sea-island structure was seen was marked with ○, and the case where the sea-island structure was not seen was marked with ×. The results are shown in Table 1.

〔アルカリ可溶性樹脂の溶解速度比〕
PET基材表面にサンプルとなるポリマーを該ポリマーに適する有機溶剤に溶解し、塗布・乾燥する。乾燥後の塗布量を4g/m2になるように溶液濃度などを調整する。該PET基材上に塗布されたポリマー皮膜を、25℃において3.5重量%の珪酸カリウム水溶液(SiO2/K2Oのモル比:1.16)に時間を変えて浸漬し水洗する。皮膜が溶解してなくなる浸漬時間を測定する。この時間の逆数の比で、2種のアルカリ可溶性樹脂の溶解速度比を求める。結果を表1に示す。
[Solution rate ratio of alkali-soluble resin]
A sample polymer is dissolved on the surface of a PET substrate in an organic solvent suitable for the polymer, and is applied and dried. The solution concentration and the like are adjusted so that the coating amount after drying is 4 g / m 2 . The polymer film coated on the PET substrate is immersed in a 3.5 wt% potassium silicate aqueous solution (SiO 2 / K 2 O molar ratio: 1.16) at 25 ° C. for different times and washed with water. Measure the soaking time when the film is not dissolved. The ratio of the dissolution rates of the two alkali-soluble resins is determined by the ratio of the reciprocal of this time. The results are shown in Table 1.

Figure 0004505388
Figure 0004505388

以上、表1に示されるように、本発明の画像形成材料である実施例1〜5の平版印刷版原版は、現像ラチテュードが広く、且つ、耐刷性、耐薬品性に優れていることがわかった。
一方、2種のポリマーのうち、特定ポリマーAの含有比率が本発明の規定より多いか、或いは、特定ポリマーBを含まない比較例1、比較例3は、現像ラチチュードに劣り、特定ポリマーBの含有比率が本発明の規定より多いか、特定ポリマーAを含まない比較例2、比較例4は耐刷性、耐薬品性に劣ることがわかる。
As described above, as shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 5, which are image forming materials of the present invention, have a wide development latitude and are excellent in printing durability and chemical resistance. all right.
On the other hand, of the two types of polymers, the content ratio of the specific polymer A is greater than the regulation of the present invention, or Comparative Example 1 and Comparative Example 3 not including the specific polymer B are inferior in development latitude, It can be seen that Comparative Example 2 and Comparative Example 4 that have a content ratio higher than that of the present invention or do not contain the specific polymer A are inferior in printing durability and chemical resistance.

Claims (4)

支持体上に、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、及び(C)光熱変換剤を含有する画像記録層を有し、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂との重量比が6:1〜19:1の範囲であり、且つ、該画像記録層中で、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂とが相分離構造を形成することを特徴とする画像形成材料。   On the support, (A) an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain, (B) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, and (C) an image recording layer containing a photothermal conversion agent, (A The weight ratio of (B) the alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain to (B) the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group is in the range of 6: 1 to 19: 1, and in the image recording layer, An image-forming material, wherein A) an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain and (B) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group form a phase separation structure. 前記画像記録層中における相分離構造が、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂が分散媒、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が分散相を形成する海島構造であることを特徴とする請求項1に記載の画像形成材料。   The phase separation structure in the image recording layer is a sea-island structure in which (A) an alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain forms a dispersion medium, and (B) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group forms a dispersed phase. The image forming material according to claim 1. 前記画像記録層において、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂と(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂との重量比が8:1〜19:1の範囲であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の画像形成材料。   In the image recording layer, the weight ratio of (A) the alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain to (B) the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group is in the range of 8: 1 to 19: 1. The image forming material according to claim 1 or 2. 前記(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ可溶性樹脂のアルカリ性現像液に対する溶解速度が、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂のアルカリ性現像液に対する溶解速度の2倍以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の画像形成材料。   (A) The dissolution rate of the alkali-soluble resin having a urea bond in the side chain in the alkaline developer is at least twice the dissolution rate of the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group in the alkaline developer. The image forming material according to any one of claims 1 to 3.
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