JP4762604B2 - Planographic printing plate precursor - Google Patents

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JP4762604B2 JP2005152513A JP2005152513A JP4762604B2 JP 4762604 B2 JP4762604 B2 JP 4762604B2 JP 2005152513 A JP2005152513 A JP 2005152513A JP 2005152513 A JP2005152513 A JP 2005152513A JP 4762604 B2 JP4762604 B2 JP 4762604B2
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Description

本発明は平版印刷版原版に関し、より詳細には、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ光を走査することにより直接製版できる所謂ダイレクト製版が可能なポジ型平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a positive lithographic printing plate precursor capable of so-called direct plate making that can be directly made by scanning infrared laser light based on a digital signal from a computer or the like.

近年画像形成技術の発展に伴い、細くビームを絞ったレーザ光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させることで、フイルム原稿を用いずに直接製版することが可能となった。   Along with the development of image forming technology in recent years, it is possible to directly make a plate without using a film manuscript by scanning a finely focused laser beam on the plate to form a character manuscript, an image manuscript, etc. directly on the plate. Became possible.

サーマルポジ型の平版印刷版原版は、レーザ光照射により感熱層中で光熱変換を起こすことによって、記録層のアルカリ可溶化を引き起こしポジ画像を形成する画像形成材料である。このようなサーマルポジ型の平版印刷版原版においては、レーザ露光による記録層中のバインダーの分子間相互作用の微妙な変化を、画像形成原理として利用しているために、露光/未露光部分のアルカリ可溶性のディスクリミネーションが小さくなり、現像ラチチュード(使用条件による現像安定性)が不充分になるという問題があり、実用に耐え得ない場合があった。   A thermal positive type lithographic printing plate precursor is an image forming material that forms a positive image by causing alkali solubilization of a recording layer by causing photothermal conversion in a heat sensitive layer by laser light irradiation. In such a thermal positive type lithographic printing plate precursor, a subtle change in the intermolecular interaction of the binder in the recording layer due to laser exposure is used as an image forming principle. There is a problem that the alkali-soluble discrimination becomes small and the development latitude (development stability depending on the use conditions) becomes insufficient, and it may not be practically used.

上記のような問題に対し、現像ラチチュードを広げ、記録層の画像形成性を実用に耐え得る程度に改善する目的で重層構造の記録層を設けた画像記録材料が提案されている。例えば、特許文献1には、記録層の最上層として現像液に対する表面難溶化層を設け、下層として現像液に対して溶解性の高い層を設け、未露光部の現像性を抑え且つ露光部の現像性を高めるようにした画像形成材料が開示されている。   In order to solve the above problems, an image recording material provided with a recording layer having a multi-layer structure has been proposed for the purpose of widening the development latitude and improving the image forming property of the recording layer to a level that can be practically used. For example, in Patent Document 1, a surface poorly soluble layer with respect to a developer is provided as the uppermost layer of the recording layer, and a layer having a high solubility in the developer is provided as a lower layer, thereby suppressing the developability of the unexposed portion and exposing portions An image forming material is disclosed which has improved developability.

しかしながら、このように記録層が重層構造をとる画像形成材料では、下層のアルカリ可溶性が高いことから、露光部の現像性は向上するものの、ハイライト部の画像形成性(網点や細線などの小面積画像部の再現性)には、なお改良の余地があった。   However, in such an image forming material in which the recording layer has a multi-layer structure, the developability of the exposed portion is improved because the alkali solubility of the lower layer is high, but the image forming property (such as halftone dots and fine lines) of the highlighted portion is improved. There was still room for improvement in the reproducibility of the small area image area.

一方、単層構造で露光部の溶解性の向上を図る技術として、アセタール単位をペンダント基として有するポリビニルアルコールで構成された高分子化合物を有するポジ型作用組成物が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。しかし、このような組成物を、ポジ型画像形成材料に適用した場合には、露光部のみならず未露光部についても溶解性が高くなり、現像ラチチュードが狭くなることから、画像形成性の点で問題があった。
特開平11−218914号公報 特表2003−530581号公報
On the other hand, a positive working composition having a polymer compound composed of polyvinyl alcohol having an acetal unit as a pendant group has been proposed as a technique for improving the solubility of an exposed portion with a single layer structure (for example, a patent) Reference 2). However, when such a composition is applied to a positive-type image-forming material, not only the exposed area but also the unexposed area is highly soluble, and the development latitude is narrowed. There was a problem.
JP 11-218914 A Japanese translation of PCT publication No. 2003-530581

上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、コンピュータ等からのデジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、ハイライト部の画像形成性に優れ、且つ現像ラチチュードの広いポジ型平版印刷版原版を提供することにある。 The object of the present invention, which has been made in consideration of the drawbacks of the above-mentioned conventional techniques, is that direct plate-making by scanning exposure based on digital signals from a computer or the like is possible, and it has excellent image formability in highlight areas and development latitude. Is to provide a wide positive type lithographic printing plate precursor.

本発明者は鋭意研究の結果、重層構造を有する記録層において、重層構造を有する記録層の下層に、特定の構造を有する高分子化合物を含有させることにより、上記目的が達成されること見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、下記一般式(I)で表される高分子化合物(以下、適宜「特定構造ポリマー」と称する。)を含有する下層と、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、4級アンモニウム塩である溶解抑止剤(但し、染料及び画像着色剤であるものを除く。)、及び赤外線吸収剤を含有する上層と、を含む記録層を有することを特徴とするポジ型平版印刷版原版である。
The present inventors as a result of intensive studies, Oite the recording layer having a multilayer structure, the lower layer of the recording layer having a multilayer structure, by incorporating a polymer compound having a specific structure, that the above object can be achieved The headline and the present invention were completed.
That is, the lithographic printing plate precursor according to the invention comprises a lower layer containing a polymer compound represented by the following general formula (I) (hereinafter referred to as “specific structure polymer” as appropriate) and an alkali-soluble compound having a phenolic hydroxyl group. A positive type comprising a recording layer comprising a resin, a quaternary ammonium salt dissolution inhibitor (excluding those that are dyes and image colorants), and an upper layer containing an infrared absorber A lithographic printing plate precursor.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

一般式(I)中、R1は炭化水素基、R2は水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。m=5〜40モル%、n=10〜60モル%、o=1〜20モル%、及び、p=5〜50モル%である。 In general formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group, and R 2 represents an aromatic group having a hydroxyl group as a substituent. m = 5-40 mol%, n = 10-60 mol%, o = 1-20 mol%, and p = 5-50 mol%.

本発明の作用は明確にはなっていないが、重層構造の記録層の層に、特定構造ポリマーを含有させたことで、未露光部においては、該特定構造ポリマーが、層中に含まれるアルカリ可溶性樹脂と水素結合等による強い相互作用を引き起こし、層同士が強い密着性を発揮するため、下層表面付近の横方向への現像が抑制され、その一方、露光部においては相互作用が解除され速やかに現像されるため、ハイライト部の画像形成性向上するものと推測される。未露光状態の上層表面部は現像液難溶層であるために、露光部における優れた溶解性と相俟って、層全体としてのディスクリミネーションが向上し、現像ラチチュードが広がったものと推測される。 Operation of the present invention is not in a clear, under layer of the recording layer of the multilayer structure, in that it contained a specific structure polymer in the unexposed area, the specific structure polymer, contained in the upper layer Cause strong interaction between the alkali-soluble resin and the hydrogen bond, and the layers exhibit strong adhesion, so lateral development near the surface of the lower layer is suppressed, while the interaction is released in the exposed area. Therefore, it is presumed that the image forming property of the highlight portion is improved because the image is rapidly developed. Since the upper surface portion of the unexposed state is a poorly soluble developer layer, combined with excellent solubility in the exposed area, it is estimated that the overall discrimination improved and the development latitude spread. Is done.

本発明によれば、コンピュータ等からのデジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、ハイライト部の画像形成性優れ、且つ現像ラチチュードの広いポジ型平版印刷版原版を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a positive lithographic printing plate precursor capable of direct plate making by scanning exposure based on a digital signal from a computer or the like, having excellent image forming properties in a highlight portion, and having a wide development latitude. it can.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、前記特定構造ポリマーを含有する下層と、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、4級アンモニウム塩である溶解抑止剤(但し、染料及び画像着色剤であるものを除く。)、及び赤外線吸収剤を含有する上層と、を含む記録層を有することを特徴とするポジ型平版印刷版原版である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor of the present invention comprises a support containing a lower layer containing the specific structural polymer, an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, and a dissolution inhibitor that is a quaternary ammonium salt (however, a dye and an image colorant) And a top layer containing an infrared absorber, and a positive lithographic printing plate precursor characterized by having a recording layer.

[記録層]
本発明の平版印刷版原版に係る重層構造の記録層は、その下層に特定構造ポリマーを必須成分として含有する。以下では、先ず、特定構造ポリマーについて詳細に説明する。
[Recording layer]
Recording layer having a multilayer structure according to the lithographic printing plate precursor of the present invention contains as an essential ingredient a specific structure polymer in the lower layer. In the following, first, the specific structure polymer will be described in detail.

(特定構造ポリマー)
本発明の平版印刷版原版において、記録層に用いられる特定構造ポリマーは、下記一般式(I)で表される高分子化合物である。この特定構造ポリマーは、アルカリ可溶性のポリマーである。
(Specific structure polymer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the specific structural polymer used in the recording layer is a polymer compound represented by the following general formula (I). This specific structure polymer is an alkali-soluble polymer.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

一般式(I)中、R1は炭化水素基、R2は水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。 mは5〜40モル%、nは10〜60モル%、oは1〜20モル%、及び、pは5〜50モル%である。 In general formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group, and R 2 represents an aromatic group having a hydroxyl group as a substituent. m is 5 to 40 mol%, n is 10 to 60 mol%, o is 1 to 20 mol%, and p is 5 to 50 mol%.

上記構造単位(a)中、R1は炭化水素基を表し、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が好適に挙げられる。
1としては、炭素数1〜12(好ましくは炭素数3〜10のアルキル基であることが好ましく、具体的には、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中でも、炭素数が3〜10のアルキル基であることが好ましい。
一般式(I)中、構造単位(a)の共重合比であるmは、5〜40モル%であり、10〜35モル%であることがより好ましく、15〜30モル%であることがさらに好ましい。
一般式(I)で表される高分子化合物中、構造単位(a)は、同一のR1を有する構造単位(a)のみを含んでいてもよく、異なるR1を有する構造単位(a)を複数種含んでいてもよい。
In the structural unit (a), R 1 represents a hydrocarbon group, and a linear, branched, or cyclic alkyl group is preferable.
R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (preferably an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, or pentyl. Group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group , Isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, and 2-norbornyl group, and among them, the number of carbon atoms is 3. 10 to 10 alkyl groups are preferred.
In general formula (I), m which is a copolymerization ratio of the structural unit (a) is 5 to 40 mol%, more preferably 10 to 35 mol%, and more preferably 15 to 30 mol%. Further preferred.
In the polymer compound represented by the general formula (I), the structural unit (a) may contain only the structural unit (a) having the same R 1, and the structural unit (a) having a different R 1 May contain a plurality of types.

上記構造単位(b)中、R2は水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。R2に含まれる芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、等が挙げられる。
2は、水酸基を置換基として必須に有するが、水酸基以外の他の置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−C1、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキルウレイド基、N'−アリールウレイド基、N',N'−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリ−ルウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アリール−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基(以下、「スルホナト基」という。)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2R、Rはアルキル基を表す。)及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2Ar、Arはアリール基を表す。)及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2R、Rはアルキル基を表す。)及びその共役塩基基、N−アリ−ルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2Ar、Arはアリール基を表す。)及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−Si(OR)3、Rはアルキル基を表す。)、アリーロキシシリル基(−Si(OAr)3、Arはアリール基を表す。)、ヒドロキシシリル基(−Si(OH)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、「ホスホナト基」という。)、ジアルキルホスホノ基(−PO32、Rはアルキル基を表す。)、ジアリールホスホノ基(−PO3Ar2、Arはアリール基を表す。)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(R)(Ar)、Rはアルキル基、Arはアリール基を表す。)、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(R)、Rはアルキル基を表す。)及びその共役塩基基(以下、「アルキルホスホナト基」という。)、モノアリールホスホノ基(−PO3H(Ar)、Arはアリール基を表す。)及びその共役塩基基(以下、「アリールホスホナト基」という。)、ホスホノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以下、「ホスホナトオキシ基」という。)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO32、Rはアルキル基を表す。)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3Ar2、Arはアリール基を表す。)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(R)(Ar)、Rはアルキル基、Arはアリール基を表す。)、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(R)、Rはアルキル基を表す。)及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(Ar)、Arはアリール基を表す。)及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基(例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等が挙げられる。)、アルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基等が挙げられる。)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。)、アシル基(R7CO−;R7としては、水素原子を挙げることができる。))等が挙げられる。
In the structural unit (b), R 2 represents an aromatic group having a hydroxyl group as a substituent. Examples of the aromatic ring contained in R 2 include a benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring.
R 2 essentially has a hydroxyl group as a substituent, but may have another substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent that can be introduced include a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen. Used. Preferred examples include a halogen atom (—F, —Br, —C1, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkyldithio group, an aryldithio group, an amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy Group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group , Acylamino group, N-alkyl acyla Group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′- Alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'- Dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′- Diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl- -Arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, carboxyl group, and its conjugate base group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (-S O 3 H) and its conjugate base (hereinafter referred to as “sulfonate group”). ), Alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group , N- alkyl -N- arylsulfamoyl group, N- acylsulfamoyl group and a conjugate base group, N- alkylsulfonylsulfamoyl group (representing -SO 2 NHSO 2 R, R is an alkyl group.) and a conjugated base group, N- aryl sulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 A , Ar represents an aryl group) and a conjugated base group, N- alkylsulfonylcarbamoyl group (-CONHSO 2 R, R represents an alkyl group) and a conjugated base group, N- ants -.. Rusuru Honi carbamoyl group ( —CONHSO 2 Ar, Ar represents an aryl group) and its conjugate base group, alkoxysilyl group (—Si (OR) 3 , R represents an alkyl group), aryloxysilyl group (—Si (OAr) 3 , Ar represents an aryl group), a hydroxysilyl group (—Si (OH) 3 ) and its conjugate base group, a phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonate group”). ), dialkylphosphono group (-PO 3 R 2, R represents an alkyl group.), diarylphosphono group (-PO 3 Ar 2, Ar represents an aryl group.), alkyl Riruhosuhono group (-PO 3 (R) (Ar ), R is an alkyl group, Ar represents an aryl group.), Monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (R), R represents an alkyl group.) And The conjugated base group (hereinafter referred to as “alkylphosphonate group”), the monoarylphosphono group (—PO 3 H (Ar), Ar represents an aryl group) and the conjugated base group (hereinafter referred to as “arylphosphonate”). Nato group ”), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as“ phosphonatoxy group ”), dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 R 2 , R represents an alkyl group) ), A diarylphosphonooxy group (—OPO 3 Ar 2 , Ar represents an aryl group). ), An alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (R) (Ar), R represents an alkyl group, Ar represents an aryl group), a monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (R), R is Represents an alkyl group) and its conjugate base group, monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (Ar), Ar represents an aryl group) and its conjugate base group, cyano group, nitro group, aryl group ( For example, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group , Phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenyl Ophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, nitrophenyl group , Cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group) , 2-chloro-1-ethenyl group, etc.), alkynyl group (for example, ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group, phenylethynyl group, etc.), acyl group. (R 7 C -;. The R 7, may be mentioned hydrogen atom)), and the like.

一般式(I)中、構造単位(b)の共重合比であるnは10〜60モル%であり、20〜55モル%であることがより好ましく、30〜50モル%であることがさらに好ましい。   In the general formula (I), n, which is a copolymerization ratio of the structural unit (b), is 10 to 60 mol%, more preferably 20 to 55 mol%, and further preferably 30 to 50 mol%. preferable.

2としては、以下に示す基であることが好ましい。 R 2 is preferably a group shown below.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

上記式中、R3は、−OHを表す。R4は、−OH、−OCH3、−Br、又は−OCH2−C≡CH3を表す。R5は、−Br、又は−NO2を表す。 In the above formula, R 3 represents —OH. R 4 represents —OH, —OCH 3 , —Br, or —OCH 2 —C≡CH 3 . R 5 represents —Br or —NO 2 .

一般式(I)で表される高分子化合物中、構造単位(b)は、同一のR2を有する構造単位(b)のみを含んでいてもよく、異なるR1を有する構造単位(b)が複数種含んでいてもよい。 In the polymer compound represented by the general formula (I), the structural unit (b) may contain only the structural unit (b) having the same R 2, and the structural unit (b) having a different R 1 May contain multiple types.

一般式(I)中、構造単位(c)の共重合比であるoは1〜20モル%であり、2〜15モル%であることがより好ましく、3〜10モル%であることが更に好ましい。
また、構造単位(d)の共重合比であるpは5〜50モル%であり、10〜45モル%であることがより好ましく、15〜40モル%であることが更に好ましい。
In general formula (I), o which is a copolymerization ratio of the structural unit (c) is 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, and further preferably 3 to 10 mol%. preferable.
Moreover, p which is a copolymerization ratio of a structural unit (d) is 5-50 mol%, It is more preferable that it is 10-45 mol%, It is still more preferable that it is 15-40 mol%.

一般式(I)で表される高分子化合物は、上記構造単位(a)(b)(c)及び(d)以外の他の構造単位を含んでいてもよい。   The polymer compound represented by the general formula (I) may contain other structural units other than the structural units (a), (b), (c), and (d).

一般式(I)で表される高分子化合物の中でも、本発明における特定構造ポリマーとしては、下記一般式(II)で表される高分子化合物であることがより好ましい。   Among the polymer compounds represented by the general formula (I), the specific structure polymer in the present invention is more preferably a polymer compound represented by the following general formula (II).

Figure 0004762604
Figure 0004762604

一般式(II)中、構造単位(a)(b)(c)及び(d)は、一般式(I)における構造単位(a)(b)(c)及び(d)と同義であり、好ましい範囲も同様である。
構造単位(e)中、R6は、―(CH2)XCOOH、−C≡CH、又は以下に示す基を表す。Xは1以上の整数を表し、好ましくは1〜12の整数を表す。qは0〜20モル%である。
In the general formula (II), the structural units (a), (b), (c), and (d) are synonymous with the structural units (a), (b), (c), and (d) in the general formula (I), The preferable range is also the same.
In the structural unit (e), R 6 represents — (CH 2 ) X COOH, —C≡CH, or a group shown below. X represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 12. q is 0 to 20 mol%.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

上記式中、R7は、−COOH、―(CH2)XCOOH、−O−(CH2)XCOOHを表す。Xは1以上の整数を表し、好ましくは1〜12の整数を表す。 In the above formula, R 7 represents —COOH, — (CH 2 ) X COOH, —O— (CH 2 ) X COOH. X represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 12.

一般式(II)中、構造単位(e)の共重合比であるqは、0〜20モル%であり、3〜17モル%であることがより好ましく、5〜15モル%であることがさらに好ましい。
一般式(II)で表される高分子化合物中、構造単位(e)は、同一のR6を有する構造単位(e)のみを含んでいてもよく、異なるR6を有する構造単位(e)を複数種含んでいてもよい。
In general formula (II), q which is a copolymerization ratio of the structural unit (e) is 0 to 20 mol%, more preferably 3 to 17 mol%, and more preferably 5 to 15 mol%. Further preferred.
In the polymer compound represented by the general formula (II), the structural unit (e) may contain only the structural unit (e) having the same R 6, and the structural unit (e) having a different R 6 May contain a plurality of types.

記録層中における特定構造ポリマーの含有量としては、記録層を構成するいずれの層に含有される場合も同様に、10〜99質量%、好ましくは30〜95質量%、50〜90質量%である。
特定構造ポリマーの含有量としては、下層に含有させる場合、下層を構成する全固形分に対して、10〜99質量%、好ましくは30〜95質量%、50〜90質量%である。また、上層(最上層)に含有させる場合、最上層を構成する全固形分に対して、1〜70質量%、好ましくは3〜60質量%、より好ましくは5〜50質量%である。
The content of the specific structure polymer in the recording layer is 10 to 99% by mass, preferably 30 to 95% by mass, preferably 50 to 90% by mass when contained in any layer constituting the recording layer. is there.
As content of a specific structure polymer, when making it contain in a lower layer, it is 10-99 mass% with respect to the total solid which comprises a lower layer, Preferably it is 30-95 mass%, 50-90 mass%. Moreover, when making it contain in an upper layer (uppermost layer), it is 1-70 mass% with respect to the total solid which comprises an uppermost layer, Preferably it is 3-60 mass%, More preferably, it is 5-50 mass%.

記録層は、特定構造ポリマー以外の他のアルカリ可溶性樹脂を含有してもよい。他のアルカリ可溶性樹脂としては、後述する上層の説明において記載されるものを適用することができる。特定構造ポリマーと、他のアルカリ可溶性樹脂とが併用される場合に含有比としては、質量比で、1:99〜99:1が好ましく、10:90〜95:5がより好ましい。   The recording layer may contain an alkali-soluble resin other than the specific structure polymer. As other alkali-soluble resin, what is described in description of the upper layer mentioned later can be applied. When the specific structure polymer and another alkali-soluble resin are used in combination, the content ratio is preferably 1:99 to 99: 1 and more preferably 10:90 to 95: 5 in terms of mass ratio.

本発明の平版印刷版原版に係る記録層に含有しうる、前記特定構造ポリマー以外のアルカリ可溶性樹脂について説明する。   The alkali-soluble resin other than the specific structure polymer that can be contained in the recording layer according to the planographic printing plate precursor of the invention will be described.

(アルカリ可溶性樹脂)
本発明において、記録層に含有されるアルカリ可溶性樹脂は特に限定されないが、特定構造ポリマーとの相互作用性、及び、樹脂自体のディスクリミネーションが比較的高いという点から、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、ノボラック樹脂であることがより好ましい。
(Alkali-soluble resin)
In the present invention, the alkali-soluble resin contained in the recording layer is not particularly limited. However, the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group is preferable because of its high interaction with the specific structure polymer and relatively high discrimination of the resin itself. It is preferably a soluble resin, and more preferably a novolac resin.

上層に含有されるフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、(1)フェノール基(−Ar−OH)で表される酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有するものが挙げられる。ここで、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表す。   Examples of the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group contained in the upper layer include (1) those having an acidic group represented by a phenol group (—Ar—OH) in the main chain and / or side chain of the polymer. It is done. Here, Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent.

このようなアルカリ可溶性樹脂としては、以下のような樹脂を挙げることができる。
例えは、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、またはm−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
Examples of such alkali-soluble resins include the following resins.
For example, a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol And a novolak resin such as a condensation polymer of formaldehyde and cresol (which may be any of m-, p-, or m- / p-mixed) and formaldehyde, and a condensation polymer of pyrogallol and acetone. Furthermore, the copolymer which copolymerized the compound which has a phenol group in a side chain can also be mentioned. Alternatively, a copolymer obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be used.

フェノール基を有する化合物としては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等が挙げられる。   Examples of the compound having a phenol group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenol group.

本発明に係る記録層に好適に含有されるノボラック樹脂としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the novolak resin suitably contained in the recording layer according to the present invention include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m Any of-, p-, o-, m- / p-mixing, m- / o-mixing, and o- / p-mixing.) Mixed formaldehyde resins. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのノボラック樹脂としては、重量平均分子量は1,500以上、数平均分子量が300以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が3,000〜300,000で、数平均分子量が500〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。   These novolak resins preferably have a weight average molecular weight of 1,500 or more and a number average molecular weight of 300 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 3,000 to 300,000, the number average molecular weight is 500 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .

フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂以外の、好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、下記(2)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有するものが挙げられる。
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO32
Preferable alkali-soluble resins other than the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group include those having an acidic group listed in the following (2) to (6) in the polymer main chain and / or side chain.
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )

上記(2)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。   In the above (2) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent. .

上記(2)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(2)スルホンアミド基および(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を充分に確保する点から最も好ましい。   Among the alkali-soluble resins having an acidic group selected from (2) to (6) above, (2) a sulfonamide group and (3) an alkali-soluble resin having an active imide group are preferable, and in particular, (2) a sulfonamide group. Alkali-soluble resins having the above are most preferable from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.

(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物が挙げられる。   (2) As an alkali-soluble resin having a sulfonamide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule is preferable. For example, the following general formula (i) to general formula ( and a compound represented by v).

Figure 0004762604
Figure 0004762604

一般式(i)〜一般式(v)中、X1、X2は、それぞれ独立に−O−または−NR7を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及び、R16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及び、R13は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。 In general formula (i) to general formula (v), X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7 . R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 , and R 16 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group, or aralkylene group that may have a substituent. . R 3 , R 7 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each independently represents a C 1-12 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group which may have a substituent. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a single bond or a substituent. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

本発明においては、一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物のうち、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   In the present invention, among the compounds represented by the general formulas (i) to (v), in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p- Aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) As an alkali-soluble resin having an active imide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having an active imide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
(6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(4) As an alkali-soluble resin having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.
(5) As the alkali-soluble polymer having a sulfonic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one sulfonic acid group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is a main structural unit. Can be mentioned.
(6) As an alkali-soluble resin having a phosphate group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphate group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.

本発明の平版印刷版原版に用いられるアルカリ可溶性樹脂を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、または異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。なお、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の場合は、前記(1)フェノール基(−Ar−OH)で表される酸性基は必須の構成単位である。   The minimum structural unit having an acidic group selected from the above (1) to (6) that constitutes the alkali-soluble resin used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not particularly limited to one type, and has the same acidity. Two or more minimum structural units having a group, or two or more minimum structural units having different acidic groups copolymerized may be used. In the case of an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, the acidic group represented by (1) phenol group (—Ar—OH) is an essential structural unit.

前記共重合体は、共重合させる(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させることができない傾向がある。   In the copolymer, a compound having an acidic group selected from (1) to (6) to be copolymerized is preferably contained in an amount of 10 mol% or more, and is contained in an amount of 20 mol% or more. Those are more preferred. If it is less than 10 mol%, the development latitude tends to be insufficiently improved.

前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、例えば、下記(m1)〜(m12)に挙げるモノマーを用いることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group include the monomers listed in (m1) to (m12) below. However, it is not limited to these.

(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

これらのアルカリ可溶性樹脂としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体が好ましく、特にm−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等の、スルホンアミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体のものが好ましい。 アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
また、本発明においてアルカリ可溶性樹脂がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。
These alkali-soluble resins are preferably a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group or a homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having an active imide group, and particularly m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p A homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having a sulfonamide group, such as -aminosulfonylphenyl) methacrylamide and N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, is preferable. The alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .
In the present invention, when the alkali-soluble resin is a resin such as a phenol formaldehyde resin or a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to 20,000, and the number average molecular weight is preferably 200 to 10,000. .

また、上記以外のアルカリ可溶性樹脂としては、以下のような一般式(1)で表される構造単位を有する変性ノボラック樹脂等が挙げられる。   Examples of the alkali-soluble resin other than the above include modified novolak resins having a structural unit represented by the following general formula (1).

Figure 0004762604
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一般式(1)中、R1は、水素原子、又は任意の置換基を表す。ここで言う任意の置換基とは、後述する「−X−R2」の構造に起因する本発明の効果を損なわない限り、どのような置換基であってもよく、また、一般式(1)における1つのベンゼン環に対して複数個存在していてもよい。具体的には、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アリル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、複数個存在する場合、それぞれの置換基は同じでも異なっていてもよい。
Xは、2価の連結基を表し、好ましくは、下記式からなる群より選ばれる部分構造を、少なくとも1つ有する2価の連結基を表す。ここで「部分構造を少なくとも1つ有する」とは、Xで表される連結基が、(1)下記部分構造のいずれか1つのみからなるものであってもよく、(2)下記部分構造を複数個連結させた連結基であってもよく、或いは、(3)上記(1)又は(2)の連結基と他の炭化水素基等とを連結させた連結基であってもよい。なお、上記(2)においては、複数存在する部分構造のそれぞれが、同種であっても異種であってもよく、連結の順序についても任意である。また、下記部分構造の表記は、連結基の連結方向を規定するものではない。
In general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. The arbitrary substituent referred to here may be any substituent as long as the effects of the present invention due to the structure of “—X—R 2 ” described later are not impaired, and the general formula (1 And a plurality of benzene rings may be present. Specific examples include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an allyl group, and the like, but are not limited thereto. Moreover, when two or more exist, each substituent may be the same or different.
X represents a divalent linking group, and preferably represents a divalent linking group having at least one partial structure selected from the group consisting of the following formulas. Here, “having at least one partial structure” means that the linking group represented by X may consist of (1) any one of the following partial structures, and (2) the following partial structures: Or a linking group obtained by linking the linking group of (1) or (2) above with another hydrocarbon group or the like. In the above (2), each of the plurality of partial structures may be the same or different, and the order of connection is also arbitrary. Moreover, the description of the following partial structure does not prescribe | regulate the connection direction of a connection group.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

上記連結基のより好ましい例としては、アミド、スルホンアミド、ウレア、ウレタン、チオウレア、カルボニル、カルボン酸エステル(−CO−O−)、スルホニル、スルホン酸エステル(−SO2−O−)等を含むものが挙げられ、具体的には、以下に示す構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、下記部分構造の表記は、連結基の連結方向を規定するものではない。 More preferable examples of the linking group include amide, sulfonamide, urea, urethane, thiourea, carbonyl, carboxylic acid ester (—CO—O—), sulfonyl, sulfonic acid ester (—SO 2 —O—) and the like. Although the structure shown below is mentioned specifically, this invention is not limited to these. Moreover, the description of the following partial structure does not prescribe | regulate the connection direction of a connection group.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

2は、非共有電子対結合部位と水素結合可能な水素原子とを有し、熱的に可逆な、即ち、熱的に解除可能な2以上の水素結合を形成しうる1価の置換基を表す。
ここで、非共有電子対結合部位とは、後述の水素結合可能な水素原子と水素結合を形成しうる部位を指し、具体的には、=O、=N−、=S、=P−、などが挙げられ、中でも、水素原子とより強い水素結合を形成する観点からは、=O、=N−が好ましい。
R 2 is a monovalent substituent which has two or more hydrogen bonds capable of forming a hydrogen bond, and has two or more hydrogen bonds that are thermally reversible, that is, thermally releasable. Represents.
Here, the lone pair binding site refers to a site capable of forming a hydrogen bond with a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, which will be described later, specifically, = O, = N-, = S, = P-, Among them, from the viewpoint of forming a stronger hydrogen bond with a hydrogen atom, ═O and ═N— are preferable.

また、水素結合可能な水素原子とは、上記非共有電子対結合部位と水素結合しうる活性状態の水素原子を指し、具体的には、窒素原子と共有結合している水素原子、酸素原子と共有結合している水素原子、硫黄原子と共有結合している水素原子、リン原子と共有結合している水素原子、などが挙げられ、中でも、上記非共有電子対結合部位とより強い水素結合を形成する観点からは、窒素原子と共有結合している水素原子、酸素原子と共有結合している水素原子が好ましい。   The hydrogen atom capable of hydrogen bonding refers to an active hydrogen atom capable of hydrogen bonding with the above-mentioned lone pair binding site, specifically, a hydrogen atom, oxygen atom covalently bonded to a nitrogen atom, and Examples include a hydrogen atom that is covalently bonded, a hydrogen atom that is covalently bonded to a sulfur atom, a hydrogen atom that is covalently bonded to a phosphorus atom, and the like. From the viewpoint of formation, a hydrogen atom covalently bonded to a nitrogen atom and a hydrogen atom covalently bonded to an oxygen atom are preferable.

2の具体的な構造としては、下記一般式(R−1)〜(R−7)に示すような構造を挙げることができる。ここで、R4、R5、R6、R7は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭化水素基を表し、Yは炭化水素連結基を表す。 Specific examples of the structure of R 2 include structures shown in the following general formulas (R-1) to (R-7). Here, R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and Y represents a hydrocarbon linking group.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

本発明においては、変性フェノール性樹脂を用いて形成された膜中において、主に、上記非共有電子対結合部位と水素結合可能な水素原子とが熱的に可逆な水素結合を形成する。ここで、該水素結合は、同一の置換基中の部位同士で形成されるのではなく、膜中に存在する別の特定置換基との間に形成される。以下、後述する変性フェノール性樹脂の具体例(A)の特定置換基を例に挙げて、上記結合を具体的に説明する。   In the present invention, in the film formed using the modified phenolic resin, mainly the above-mentioned lone pair of hydrogen bonding sites and hydrogen atoms capable of hydrogen bonding form thermally reversible hydrogen bonds. Here, the hydrogen bond is not formed between the sites in the same substituent, but is formed between another specific substituent existing in the film. Hereafter, the said coupling | bonding is demonstrated concretely, taking the specific substituent of the specific example (A) of the modified phenolic resin mentioned later as an example.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

上記反応式1において、非共有電子対結合部位に該当する部位は、(=O)および(=N−)であり、水素結合可能な水素原子に該当する水素原子は、(>N−H)の(−H)である。反応式1の特定置換基は、非共有電子対結合部位と水素結合可能な水素原子とをそれぞれ2つずつ持っているため、水素結合が、計4つ形成される。なお、本発明においては、水素結合が2つ以上形成されればよいので、一つの特定置換基中に、非共有電子対結合部位と水素結合可能な水素原子とをそれぞれ1つ以上有していればよいことになる。
このように、本発明に係る特定置換基は、他の特定置換基との間に2以上の水素結合が形成されるため、分子の回転運動が起こらない安定した相互作用が形成され、優れた耐薬品性の向上効果が得られるものと考えられる。なお、この水素結合は、熱的に可逆であるため、記録層成分として用いた場合、画像形成時のレーザー露光等で容易に解除され、現像により露光部(非画像部)が除去される。
In the reaction formula 1, the sites corresponding to the lone pair binding site are (= O) and (= N-), and the hydrogen atom corresponding to the hydrogen atom capable of hydrogen bonding is (> N-H). (-H). Since the specific substituent of Reaction Formula 1 has two unshared electron pair binding sites and two hydrogen atoms capable of hydrogen bonding, a total of four hydrogen bonds are formed. In the present invention, it is sufficient that two or more hydrogen bonds are formed. Therefore, one specific substituent has one or more lone pair of hydrogen atoms and one or more hydrogen atoms capable of hydrogen bonding. It will be good.
Thus, since the specific substituent according to the present invention forms two or more hydrogen bonds with other specific substituents, a stable interaction that does not cause a rotational movement of the molecule is formed, which is excellent. It is considered that an effect of improving chemical resistance is obtained. Since this hydrogen bond is thermally reversible, when used as a recording layer component, it is easily released by laser exposure or the like during image formation, and an exposed portion (non-image portion) is removed by development.

変性フェノール性樹脂としては、前記一般式(1)で表される構造単位に加え、分子内にフェノール性水酸基を有するものであればいずれも使用することができる。中でも、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂等に、前記一般式(1)で表される構造単位を導入したものが好ましい。   As the modified phenolic resin, any one having a phenolic hydroxyl group in the molecule in addition to the structural unit represented by the general formula (1) can be used. Especially, what introduce | transduced the structural unit represented by the said General formula (1) to a novolak resin, a resole resin, polyhydroxystyrene resin, etc. is preferable.

本発明では、一般式(1)とともに分子内にフェノール性水酸基を有することが必要であるが、フェノール性水酸基は下記一般式(2)で表される如き構造単位として分子内に導入されることが好ましく、本発明の(A)変性フェノール性樹脂としては、特に、以下の如き、前記一般式(1)で表される構造単位と、一般式(2)で表される構造単位とから構成される樹脂であることが最も好ましい。   In the present invention, it is necessary to have a phenolic hydroxyl group in the molecule together with the general formula (1). The phenolic hydroxyl group must be introduced into the molecule as a structural unit represented by the following general formula (2). The (A) modified phenolic resin of the present invention is particularly composed of the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2) as follows. Most preferably, it is a resin.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

一般式(2)におけるR3はそれぞれ独立して、水素原子、又は任意の置換基を表す。ここで、任意の置換基とは、前記一般式(1)におけるR1と同義であり、また、一般式(2)における一つのベンゼン環に対して複数個存在していてもよく、複数個存在する場合、それぞれの置換基は同じでも異なっていてもよい。 R < 3 > in General formula (2) represents a hydrogen atom or arbitrary substituents each independently. Here, arbitrary substituents are synonymous with R < 1 > in the said General formula (1), Moreover, two or more with respect to one benzene ring in General formula (2) may exist. When present, each substituent may be the same or different.

前記一般式(1)で表される構造単位(構造単位(1))、及び前記一般式(2)で表される構造単位(構造単位(2))の共重合比としては、耐薬品性、及び、感度の観点から、構造単位(1):構造単位(2)が1:99〜95:5の範囲であることが好ましく、2:98〜90:10の範囲であることがより好ましく、3:97〜80:20の範囲であることが最も好ましい。また、変性フェノール性樹脂は、構造単位(1)、構造単位(2)以外の共重合成分を有していてもよい。
以下に、本発明に係る変性フェノール性樹脂の構造単位の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
As a copolymerization ratio of the structural unit represented by the general formula (1) (structural unit (1)) and the structural unit represented by the general formula (2) (structural unit (2)), chemical resistance From the viewpoint of sensitivity, the structural unit (1): structural unit (2) is preferably in the range of 1:99 to 95: 5, and more preferably in the range of 2:98 to 90:10. Most preferably, it is in the range of 3:97 to 80:20. The modified phenolic resin may have a copolymer component other than the structural unit (1) and the structural unit (2).
Specific examples of the structural unit of the modified phenolic resin according to the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

Figure 0004762604
Figure 0004762604

(合成方法)
本発明に係る変性フェノール性樹脂の合成方法は特に限定されるものではないが、例えば、水酸基の一部を特定置換基に置換するためのフェノール樹脂を、溶媒中で、Sn金属を触媒として、イソシアネート基と共に反応(求核付加反応)させて、ウレタン結合を形成することにより製造することができる。
(Synthesis method)
The method for synthesizing the modified phenolic resin according to the present invention is not particularly limited. For example, a phenol resin for substituting a part of a hydroxyl group with a specific substituent is used in a solvent with Sn metal as a catalyst. It can be produced by reacting with an isocyanate group (nucleophilic addition reaction) to form a urethane bond.

水酸基の一部を特定置換基に置換するためのノボラック型フェノール樹脂のフェノキシドと、イソシアネート基含有化合物との求核付加反応は、以下のように行うことができる。即ち、水酸基の一部を特定官能基に置換するためのノボラック型フェノール樹脂の総重量を、濃度20〜80質量%(好ましくは30〜70質量%)になるよう溶媒に溶解し、これに当該ノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の総モル数に対して、イソシアネート基含有化合物をそのモル比率が特定官能基に置換したいモル比率になるように加え、更にSn金属を触媒としてイソシアネート基含有化合物のモル数に対するモル比率が0.5〜5.0%(好ましくは1.0〜2.5)になるように10℃〜200℃の範囲の温度条件下で加え、その温度範囲に維持しながら数時間撹拌することにより行うことができる。なお、反応温度は、20℃〜150℃の範囲であることが好ましく、20℃〜100℃の範囲であることがより好ましい。
このとき、上記反応に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、ジメトルスルホキシド(DMSO)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルエーテル(DME)、テトラヒドロフラン(THF)等が挙げられ、中でも、テトラヒドロフラン(THF)を用いることが好ましい。
また、上記Sn金属としては、ジブチルスズジラウレート(dibutyltin dilaurate)を用いることが好ましい。
The nucleophilic addition reaction between the phenoxide of a novolak-type phenol resin for substituting a part of the hydroxyl group with a specific substituent and the isocyanate group-containing compound can be performed as follows. That is, the total weight of the novolak-type phenol resin for substituting a part of the hydroxyl group with a specific functional group is dissolved in a solvent so as to have a concentration of 20 to 80% by mass (preferably 30 to 70% by mass). With respect to the total number of moles of hydroxyl groups of the novolak-type phenol resin, the isocyanate group-containing compound is added so that the mole ratio thereof is a mole ratio to be substituted with a specific functional group, and further, the mole of the isocyanate group-containing compound using Sn metal as a catalyst. It is added under temperature conditions in the range of 10 ° C. to 200 ° C. so that the molar ratio to the number is 0.5 to 5.0% (preferably 1.0 to 2.5), and the number is maintained while maintaining the temperature range. This can be done by stirring for a period of time. In addition, it is preferable that reaction temperature is the range of 20 to 150 degreeC, and it is more preferable that it is the range of 20 to 100 degreeC.
In this case, examples of the solvent used in the above reaction include chloroform, dichloromethane, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl ether (DME), tetrahydrofuran (THF), and the like. Tetrahydrofuran (THF) is preferably used.
As the Sn metal, dibutyltin dilaurate is preferably used.

本発明に係る変性フェノール性樹脂は、重量平均分子量が200以上、数平均分子量が200以上のものが好ましい。さらに好ましくは、重量平均分子量が500〜30,000で、数平均分子量が500〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。   The modified phenolic resin according to the present invention preferably has a weight average molecular weight of 200 or more and a number average molecular weight of 200 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 500 to 30,000, the number average molecular weight is 500 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.

本発明に係る記録層に含有されるアルカリ可溶性樹脂としは、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を必須成分として含有するものであれば、1種類或いは2種類以上を組合せて使用してもよい。
アルカリ可溶性樹脂の含有量は、皮膜形成性、耐久性、感度の観点から、上層に含有させた場合、上層を構成する全固形文中、30〜99質量%、好ましくは40〜95質量%、特に好ましくは50〜90質量%の添加量で用いられ、下層に含有させた場合、下層を構成する全固形文中、1〜90質量%、好ましくは5〜80質量%、特に好ましくは10〜70質量%である。
また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、その他のアルカリ可溶性樹脂とが併用される場合の含有比としては、質量比で、1:99〜99:1が好ましく、10:90〜95:5がより好ましい。
As the alkali-soluble resin contained in the recording layer according to the present invention, one or a combination of two or more kinds may be used as long as it contains an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group as an essential component.
The content of the alkali-soluble resin is 30 to 99% by mass, preferably 40 to 95% by mass, particularly 40 to 95% by mass in the total solid sentence constituting the upper layer, when it is contained in the upper layer from the viewpoint of film forming property, durability and sensitivity. Preferably, it is used in an addition amount of 50 to 90% by mass, and when it is contained in the lower layer, it is 1 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, particularly preferably 10 to 70% by mass in the total solid sentence constituting the lower layer. %.
The content ratio when the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group and another alkali-soluble resin are used in combination is preferably 1:99 to 99: 1 in terms of mass ratio, and 10:90 to 95: 5. Is more preferable.

(赤外線吸収剤)
本発明に係る赤外線吸収剤は、700nm以上、好ましくは750〜1200nmの赤外域に光吸収域を有し、この範囲の波長域の光により、光/熱変換能を発現する物質を指す。具体的には、上記波長域の光を吸収し熱を発生する種々の染料又は顔料を用いることができる。
(Infrared absorber)
The infrared absorbent according to the present invention refers to a substance that has a light absorption region in the infrared region of 700 nm or more, preferably 750 to 1200 nm, and exhibits light / heat conversion ability by light in this wavelength region. Specifically, various dyes or pigments that absorb light in the above wavelength range and generate heat can be used.

染料としては、市販の染料、例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレ−ト錯体、オキソノ−ル染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes, for example, known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, Examples thereof include oxonol dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A 59-73996, JP-A 60-52940, JP-A 60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A 58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリ−ルベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Further, near infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924 Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A Nos. 57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363, 59- 84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 And the pyrylium compounds disclosed in JP-B-5-13514 and JP-A-5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノ−ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレ−ト錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明に係る画像形成材料で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Further, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because they are excellent in photothermal conversion efficiency. Particularly, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is used in the image forming material according to the present invention. In this case, it is most preferable because it gives a high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.

Figure 0004762604
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上記式中、Xa-は、後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリ−ル基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 In the above formula, Xa - has Za described later - is defined as for, Ra represents a hydrogen atom, an alkyl group, ant - represents a group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom . R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。但し、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレ−トイオン、ヘキサフルオロホスフェ−トイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェ−トイオン、及びアリ−ルスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents include hydrocarbon groups having 12 or less carbon atoms, halogen atoms, and alkoxy groups having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za- is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and sulfonate ion, particularly preferably perchloric acid, from the storage stability of the recording layer coating solution. Ions, hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638号公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360号公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be preferably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. And those described in paragraph numbers [0012] to [0038] of JP-A No. 2002-40638 and paragraph numbers [0012] to [0023] of JP-A No. 2002-23360.

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一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨ−ドニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Na+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。 In the general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, the methine chain may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring structure. Good. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Na + , K + , Li + ) and the like. R 9 to R 14 and R 15 to R 20 are each independently a hydrogen atom or halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, This represents a substituent selected from an oxy group or an amino group, or a combination of two or three of these, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in the general formula (b), those in which L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms and those in which R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms are easily available. From the viewpoint of the effect.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   Specific examples of the dye represented by formula (b) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below.

Figure 0004762604
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一般式(c)中、Y3及びY4は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Za-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms. R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group. Represents a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Further, wherein Za - include a counter anion, Za in the general formula (a) - it is synonymous.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 0004762604
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一般式(d)中、R29ないしR31は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリ−ル基を示す。R33及びR34は、各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは、各々独立に、0ないし4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合して環を形成してもよく、さらに、R33或いはR34が複数存在する場合に、R33同士あるいはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。X2及びX3は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリ−ル基であり、X2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In general formula (d), R 29 to R 31 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 33 and R 34 each independently represents an alkyl group, a substituted oxy group, or a halogen atom. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. R 29 and R 30 , or R 31 and R 32 may be bonded to each other to form a ring, and R 29 and / or R 30 is R 33 and R 31 and / or R 32 is R 34 A ring may be bonded to each other, and when a plurality of R 33 or R 34 are present, R 33 or R 34 may be bonded to each other to form a ring. X 2 and X 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and at least one of X 2 and X 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure together with a divalent organic group. Zc represents a counter anion and has the same meaning as Za in the general formula (a).

本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by the general formula (d) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 0004762604
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一般式(e)中、R35〜R50は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示し、置換基が導入可能な場合には、さらに置換基を有していてもよい。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。 In the general formula (e), R 35 to R 50 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a thio group, or a sulfonyl group. Group, a sulfinyl group, an oxy group, an amino group, an onium salt structure, and when a substituent can be introduced, it may further have a substituent. M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, and an oxymetal group, and the metal atoms contained therein are IA, IIA, IIIB, IVB group atoms of the periodic table, first, second, second Three-period transition metals and lanthanoid elements can be mentioned, among which copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, and vanadium are preferable.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 0004762604
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顔料としては、市販の顔料又はカラ−インデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)および「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment include commercially available pigments or color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), and “ The pigments described in “Printing Ink Technology”, published by CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、ポリマ−結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレ−キ顔料、縮合アゾ顔料、キレ−トアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレ−キ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カ−ボンブラックを用いることができる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bonded pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, Indolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, and carbon black can be used.

これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コ−トする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネ−ト)を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. As the surface treatment method, a method of surface coating of resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate) to the pigment surface Etc. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、顔料分散物の塗布液中での安定性、記録層の均一性の観点から、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The pigment particle size is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, and from the viewpoint of the stability of the pigment dispersion in the coating solution and the uniformity of the recording layer, it is preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm. More preferably, it is particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナ−製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライタ−、パ−ルミル、ス−パ−ミル、ボ−ルミル、インペラ−、デスパ−ザ−、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロ−ルミル、加圧ニ−ダ−等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, par mills, super mills, ball mills, impellers, desperzers, KD mills, colloid mills, Dynatrons, three-rollers Lumil, pressure kneader and the like. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの顔料又は染料は、感度、記録層の均一性及び耐久性の観点から、記録層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%である。特に、染料の場合には、0.5〜10質量%の割合で含有することが好ましく、顔料の場合には、0.1〜10質量%の割合で含有することが好ましい。   These pigments or dyes are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content constituting the recording layer, from the viewpoints of sensitivity, recording layer uniformity and durability. . In particular, in the case of a dye, it is preferably contained in a proportion of 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, it is preferably contained in a proportion of 0.1 to 10% by mass.

−記録層構成−
本発明の記録層に含有される、特定構造ポリマー、アルカリ可溶性樹脂、又は、赤外線吸収剤については、重層構造の記録層中における何れの層に含まれていてもよい。具体的な記録層構成の態様としては、例えば、i)下層にアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含み、最上層に特定構造ポリマー及びアルカリ可溶性樹脂を含む態様、ii)下層にアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含み、最上層に特定構造ポリマーを含む態様、iii)下層に特定構造ポリマーを含み、最上層にアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含む態様、iv)下層に特定構造ポリマー及び赤外線吸収剤を含み、最上層にアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含む態様、等が挙げられるが、これに限定されない。
上記の記録層構成例の中でも、iii)及びiv)の態様、即ち、下層に特定構造ポリマー(及び赤外線吸収剤)含み、最上層にアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤含む態様が、好ましい。更に、最上層に含まれるアルカリ可溶性樹脂が、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂である場合には、層間における相互作用が顕著に発揮されるため、本発明の効果がより一層向上する。
なお、本発明における記録層を構成する層の数についても特に限定されない。
-Recording layer configuration-
The specific structure polymer, alkali-soluble resin, or infrared absorber contained in the recording layer of the present invention may be contained in any of the recording layers having a multilayer structure. Specific embodiments of the recording layer structure include, for example, i) an embodiment containing an alkali-soluble resin and an infrared absorber in the lower layer, and a specific structure polymer and an alkali-soluble resin in the uppermost layer, and ii) an alkali-soluble resin and infrared in the lower layer. An embodiment containing an absorbent and a specific structure polymer in the uppermost layer, iii) An embodiment containing a specific structure polymer in the lower layer and an alkali-soluble resin and an infrared absorber in the uppermost layer, iv) A specific structure polymer and an infrared absorber in the lower layer However, it is not limited to this, for example, in which the uppermost layer contains an alkali-soluble resin and an infrared absorber.
Among the recording layer configuration examples described above, the embodiments of iii) and iv), that is, the embodiment containing a specific structure polymer (and an infrared absorber) in the lower layer and an alkali-soluble resin and an infrared absorber in the uppermost layer are preferable. Furthermore, when the alkali-soluble resin contained in the uppermost layer is an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, the interaction between the layers is remarkably exhibited, so that the effect of the present invention is further improved.
The number of layers constituting the recording layer in the present invention is not particularly limited.

(その他の成分)
上層には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
例えば、記録層の溶解性を調節するために、他のオニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等、添加するとアルカリ水可溶性高分子(アルカリ可溶性樹脂)の現像液への溶解阻止機能を向上させるいわゆる溶解抑止剤を添加することが好ましく、中でも、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。本発明においては、上層に4級アンモニウム塩である溶解抑止剤を含有することを要する。但し、該4級アンモニウム塩である溶解抑止剤には、染料及び画像着色剤であるものは含まれない。
(Other ingredients)
Various additives can be further added to the upper layer as necessary.
For example, in order to adjust the solubility of the recording layer, when other onium salts, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, polyfunctional amine compounds, etc. are added, development of an alkali water-soluble polymer (alkali-soluble resin) is performed. It is preferable to add a so-called dissolution inhibitor that improves the dissolution inhibition function in the liquid, and among them, onium salts, o-quinonediazide compounds, sulfonic acid alkyl esters and the like are thermally decomposable, and in a state where they are not decomposed, alkali-soluble resins It is preferable to use a substance that substantially lowers the solubility in terms of improving the solubility of the image area in the developer. In the present invention, it is necessary that the upper layer contains a dissolution inhibitor that is a quaternary ammonium salt. However, the dissolution inhibitor that is the quaternary ammonium salt does not include those that are dyes and image colorants.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばS.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。
これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び4級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)で示されるジアゾニウム塩や特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また4級アンモニウム塩としては、特開2002−229186号公報に記載される[化5][化6]中の(1)〜(10)に示される4級アンモニウム塩が好ましい。
Preferred examples of the onium salt used in the present invention include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581, sulfonium salts described in J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).
Among these onium salts, diazonium salts and quaternary ammonium salts are particularly preferable from the viewpoints of dissolution inhibition ability and thermal decomposability. In particular, the diazonium salt is preferably a diazonium salt represented by the general formula (I) described in JP-A-5-158230 or a diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064. The diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064 having a small absorption wavelength in the visible light region is most preferable. Moreover, as a quaternary ammonium salt, the quaternary ammonium salt shown by (1)-(10) in [Chemical 5] [Chemical 6] described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-229186 is preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/または、o−キノンジアジド化合物の添加量は好ましくは記録層の全固形分に対し、1〜10質量%、更に好ましくは1〜5質量%、特に好ましくは1〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   The amount of the onium salt and / or o-quinonediazide compound that is a degradable dissolution inhibitor is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, particularly preferably the total solid content of the recording layer. Is in the range of 1-2% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0.1〜5質量%、更に好ましくは0.1〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。本発明に係る添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass. The additive and binder according to the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

また、本発明に関わる平版印刷版に使用される添加剤としては、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、および可塑剤も、本発明のポジ型記録層に使用することができる。
環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4'−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4',4"−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4',3",4"−テトラヒドロキシ−3,5,3',5'−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、及びカルボン酸類などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の記録層中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
Moreover, as an additive used for the lithographic printing plate according to the present invention, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. Further, a surfactant, an image colorant, and a plasticizer described later can also be used in the positive recording layer of the present invention.
Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-4-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane, etc. Further, organic acids include Examples thereof include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755.
The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols, and organic acids in the recording layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.1% by mass. 10% by mass.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び本発明者らが先に提案した特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。   In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group described in JP-A-8-276558, and the inventors previously proposed. A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-11-160860 can be appropriately added depending on the purpose.

また、本発明には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224,DBE−621,DBE−712,DBP−732,DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることが出来る。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
Further, in the present invention, in order to broaden the stability of the processing with respect to the development conditions, nonionic surfactants such as those described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 are disclosed. Amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149, siloxane compounds as described in EP950517, and JP-A-11-288093. Such a fluorine-containing monomer copolymer can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).
The siloxane compound is preferably a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534, manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.
The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Further, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、記録層全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で記録層中に添加することができる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added to the recording layer in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the recording layer.

更に、本発明の平版印刷版原版における記録層の最上層には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the uppermost layer of the recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present invention, if necessary, for imparting flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

〔記録層の形成〕
本発明に係る記録層は、重層構造の記録層を構成するそれぞれの成分を溶媒に溶かし、適当な支持体上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、メチルブチロラクトン、トルエン等をあげることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
また、塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般に、乾燥後の塗膜量が、下層としては、0.1〜5.0g/m2が好ましく、0.2〜3.0g/m2がさらに好ましい。また、上層(最上層)としては、0.01〜5.0mg/m2となる量が好ましく、は0.05〜2.0mg/m2となる量がより好ましい。
[Formation of recording layer]
The recording layer according to the present invention can be formed by dissolving each component constituting the recording layer having a multilayer structure in a solvent, applying the solution on a suitable support, and drying.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, methylbutyrolactone, and toluene. However, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.
The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally the coating amount after drying is 0.1 to 5.0 g / m 2 as the lower layer. 0.2 to 3.0 g / m 2 is more preferable. As the upper layer (uppermost layer), preferably the amount to be 0.01 to 5.0 mg / m 2, more preferably the amount to be 0.05 to 2.0 mg / m 2.

記録層塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、記録層の皮膜特性は低下する場合がある。   Various methods can be used for applying the recording layer coating liquid. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, etc. Can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the recording layer may deteriorate.

重層構造の記録層(例えば、上層及び下層)を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。
以下、2つの層を分離して塗布する方法を例に説明するが、これらの方法に限定されるものではない。
As a method of separately forming a recording layer having a multilayer structure (for example, an upper layer and a lower layer), for example, a method using a difference in solvent solubility between a component contained in the lower layer and a component contained in the upper layer, or Examples include a method of rapidly drying and removing the solvent after applying the upper layer.
Hereinafter, although the method of apply | coating two layers separately is demonstrated to an example, it is not limited to these methods.

下層に含まれる成分と上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、上層成分として含有されるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層成分をメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等で溶解し、塗布・乾燥することにより二層化が可能になる。   As a method of utilizing the difference in solvent solubility between the component contained in the lower layer and the component contained in the upper layer, a solvent system in which any of the components contained in the lower layer is insoluble is used when the upper layer coating solution is applied. Is. Thereby, even if it carries out 2 layer application | coating, it becomes possible to isolate | separate each layer clearly and to make a coating film. For example, as a lower layer component, a component that is insoluble in a solvent such as methyl ethyl ketone or 1-methoxy-2-propanol that dissolves an alkali-soluble resin contained as an upper layer component is selected, and a lower layer is formed using a solvent system that dissolves the lower layer component. Then, the upper layer component mainly composed of an alkali-soluble resin is dissolved in methyl ethyl ketone, 1-methoxy-2-propanol, or the like, and applied and dried, whereby two layers can be formed.

次に、2層目(上層)を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつける方法や、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール(加熱ロール)よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与える方法、或いはそれらの方法の組み合わせを挙げることができる。   Next, after applying the second layer (upper layer), as a method of drying the solvent very quickly, a method of blowing high-pressure air from a slit nozzle installed substantially perpendicular to the running direction of the web, heating with steam, etc. The method of giving thermal energy as conduction heat from the lower surface of the web from the roll (heating roll) supplied inside the medium, or a combination of these methods can be mentioned.

また、本発明に係る記録性層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、記録層全固形分中0.01〜1質量%、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%である。   Further, in the recording layer according to the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorosurfactant as described in JP-A-62-170950 is added. be able to. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass in the total solid content of the recording layer.

[支持体]
本発明に係る支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフイルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフイルム等が挙げられる。
[Support]
The support according to the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material and satisfies physical properties such as required strength and flexibility. For example, paper, plastic (for example, Paper laminated with polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc., metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with a metal such as those mentioned above, or plastic film, or the like.

本発明に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。   As the support applicable to the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.

このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。   Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can also be used. The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. When the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the planographic printing plate is easily damaged, and ink adheres to the damaged part during printing. So-called “scratch stains” easily occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

[下塗層]
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に先述したような記録層を設けたものであるが、必要に応じて支持体と記録層の下層との間に、下塗層を設けることができる。
この下塗層を設けることで、支持体と記録層との間の下塗層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。また、本発明に係る記録層は、この下塗層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
また、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である画像記録層自体が下塗層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像を形成することができ、且つ経時的な安定性も確保されるものと考えられる。
さらに、下塗層はアルカリ可溶性高分子を主成分とした層であり、現像液に対する溶解性が極めて良好な層であることから、このような下塗層を支持体に隣接して設けることにより、例えば活性の低下した現像液などを用いた場合であっても、露光により溶解抑制能が解除された感光層の成分が現像液に溶解・分散する際に、残膜などが発生することなく速やかに露光部が除去される。このことが現像性の向上にも寄与するものと考えられる。以上の理由から下塗層は有用であると考えられる。
[Undercoat layer]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is provided with a recording layer as described above on a support. If necessary, an undercoat layer may be provided between the support and the lower layer of the recording layer. it can.
By providing this undercoat layer, the undercoat layer between the support and the recording layer functions as a heat insulating layer, and the heat generated by the infrared laser exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently. Therefore, there is an advantage that high sensitivity can be achieved. In addition, since the recording layer according to the present invention is located on the exposed surface or in the vicinity thereof even when the undercoat layer is provided, the sensitivity to the infrared laser is maintained well.
Further, in the unexposed area, the image recording layer itself that is impermeable to the alkali developer functions as a protective layer for the undercoat layer, so that the development stability is improved and the discrimination is excellent. It is considered that an image can be formed and stability over time is secured.
Furthermore, since the undercoat layer is a layer mainly composed of an alkali-soluble polymer and has a very good solubility in a developer, by providing such an undercoat layer adjacent to the support. For example, even when a developer with reduced activity is used, no residual film or the like is generated when the components of the photosensitive layer whose dissolution inhibiting ability is released by exposure are dissolved and dispersed in the developer. The exposed part is quickly removed. This is considered to contribute to the improvement of developability. For these reasons, the primer layer is considered useful.

下塗層成分としては、種々の有機化合物が用いられる。例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。   Various organic compounds are used as the undercoat layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene which may have a substituent Organic phosphonic acids such as diphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having substituents, organic phosphoric acid such as naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, phenyl optionally having substituents Selected from organic phosphinic acids such as phosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having hydroxy groups such as hydrochloride of triethanolamine 2 or more It may be used in.

さらに、下記式で示される構造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む下塗層も好ましい。   Furthermore, an undercoat layer containing at least one compound selected from the group of organic polymer compounds having a structural unit represented by the following formula is also preferred.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

上記式中、R11は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−OR14、−COOR15、−CONHR16、−COR17若しくは−CNを表すか、又はR12及びR13が結合して環を形成してもよく、R14〜R17はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、Xは水素原子、金属原子、NR18192021を表し、R18〜R21はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール基を表すか、又はR18及びR19が結合して環を形成してもよく、mは1〜3の整数を表す。 In the above formula, R 11 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl. Represents a group, —OR 14 , —COOR 15 , —CONHR 16 , —COR 17 or —CN, or R 12 and R 13 may combine to form a ring, and R 14 to R 17 are each independently X represents a hydrogen atom, a metal atom, or NR 18 R 19 R 20 R 21 , and R 18 to R 21 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, It represents an aryl group or a substituted aryl group, or R 18 and R 19 may combine to form a ring, and m represents an integer of 1 to 3.

また、本発明に関わる平版印刷版の好適な下塗層成分として、特開2000−241962号公報に記載の酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成分とを有する高分子化合物を挙げることができる。具体的には、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。酸基として好ましいのは酸解離指数(pKa)が7以上の酸基であり、より好ましくは−COOH、−SO3H、−OSO3H、−PO32、−OPO32、−CONHSO2−、または−SO2NHSO2−であり、特に好ましくは−COOHである。酸基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、上記酸基を有するスチレンなどが挙げられる。オニウム塩として好ましいのは、周期表V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子から成るオニウム塩であり、特に好ましくは窒素原子から成るオニウム塩である。オニウム塩を有するモノマーの具体例としては、側鎖にアンモニウム基を有するメタクリレート、メタクリルアミド、第4級アンモニウム基などのオニウム基を含む置換基などのオニウム基を含む置換基を有するスチレン等が挙げられる。
さらに、特開2000−108538号公報、特願2002−257484号公報、特願2003−78699号公報、等に記載されているような化合物についても、必要に応じて用いることができる。
Further, examples of suitable undercoat layer components of the lithographic printing plate according to the present invention include polymer compounds having a component having an acid group and a component having an onium group described in JP-A No. 2000-241962. Can do. Specific examples include a copolymer of a monomer having an acid group and a monomer having an onium group. The acid group is preferably an acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or more, more preferably —COOH, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , — CONHSO 2 — or —SO 2 NHSO 2 —, particularly preferably —COOH. Specific examples of the monomer having an acid group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and styrene having the acid group. Preferred as the onium salt is an onium group composed of Group V or Group VI atoms, more preferably an onium salt composed of nitrogen, phosphorus or sulfur atoms, and particularly preferably an onium salt composed of nitrogen atoms. It is salt. Specific examples of the monomer having an onium salt include styrene having a substituent containing an onium group such as a methacrylate having an ammonium group in the side chain, a methacrylamide, a substituent containing an onium group such as a quaternary ammonium group, and the like. It is done.
Furthermore, compounds described in JP-A No. 2000-108538, Japanese Patent Application No. 2002-257484, Japanese Patent Application No. 2003-78699, and the like can be used as necessary.

これらの下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗層の被覆量は、耐刷性の観点から、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。 These undercoat layers can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washed and dried with water or the like to provide an undercoat layer. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the image recording material. The coverage of the undercoat layer, from the viewpoint of printing durability, 2 to 200 mg / m 2 are suitable, and preferably from 5 to 100 mg / m 2.

[平版印刷版原版の製版処理]
(露光)
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
[Prepress processing of lithographic printing plate precursor]
(exposure)
The planographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head, scanning exposure using an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, and the like are used, but a semiconductor that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm. Exposure by a solid high-power infrared laser such as a laser or a YAG laser is suitable.

レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましく、記録材料に照射されるエネルギーは10〜500mJ/cm2であることが好ましい。 The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec, and the energy applied to the recording material is preferably 10 to 500 mJ / cm 2 .

(現像)
本発明の平版印刷版原版に適用することのできる現像液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
(developing)
The developer that can be applied to the lithographic printing plate precursor according to the invention is a developer having a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液で、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. Another more preferable developer, which is an aqueous solution called “silicate developer” having a pH of 12 or more, does not contain an alkali silicate, and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Silicate developer ".

前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the former, the aqueous solution of alkali metal silicate is a ratio of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide M 2 O (generally expressed as a molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]. ) And the density, the developability can be adjusted. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the SiO 2 / Na 2 O molar ratio is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4 mass% is disclosed in JP-B-57-7427. As described, [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and SiO 2 The developer is based on gram atoms of all alkali metals present in the developer. A manner containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」が、本発明の平版印刷版原版の現像に適用するのには一層好ましい。この現像液を用いて、平版印刷版原版の現像処理を行うと、記録層の表面を劣化させることがなく、かつ記録層の着肉性を良好な状態に維持することができる。また、平版印刷版原版は、一般には現像ラチチュードが狭く、現像液pHによる画線幅等の変化が大きいが、ノンシリケート現像液にはpHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖が含まれているため、シリケートを含む現像処理液を用いた場合に比べて有利である。更に、非還元糖は、シリケートに比べて液活性度を制御するための電導度センサーやpHセンサー等を汚染し難いため、この点でも、ノンシリケート現像液は有利である。また、ディスクリミネーション向上効果が顕著である。これは、本発明において重要な現像液との接触(浸透)がマイルドとなり、露光部及び未露光部の差が出やすくなっているためと推定される。   In addition, a so-called “non-silicate developer” which does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base is more preferable for application to the development of a lithographic printing plate precursor according to the present invention. When this developer is used to develop the lithographic printing plate precursor, the surface of the recording layer is not deteriorated and the thickness of the recording layer can be maintained in a good state. In addition, the lithographic printing plate precursor generally has a narrow development latitude and a large change in the image line width due to the developer pH, but the non-silicate developer contains a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH. Therefore, it is more advantageous than the case where a developing processing solution containing silicate is used. Furthermore, since non-reducing sugars are less likely to contaminate conductivity sensors, pH sensors and the like for controlling liquid activity compared to silicates, non-silicate developers are advantageous in this respect as well. Further, the effect of improving discrimination is remarkable. This is presumably because the contact (penetration) with the developer which is important in the present invention is mild, and the difference between the exposed and unexposed areas is likely to occur.

前記非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において好適に用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。   The non-reducing sugar is a saccharide that does not have a free aldehyde group or a ketone group and does not exhibit reducibility, and is a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bonded to each other, or a glycoside in which a reducing group and a non-saccharide are bonded to each other. And sugar alcohols reduced by hydrogenation of saccharides and sugars, both of which can be suitably used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なpH領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。   Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit, allozulcit and the like. . Further, maltitol hydrogenated to disaccharide maltose, reduced form obtained by hydrogenation of oligosaccharide (reduced water candy), and the like are preferable. Among these non-reducing sugars, trehalose-type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose, reduced syrup, etc. are preferable in that they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.

これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、高濃縮化の促進、及び入手性の観点から、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。   These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass from the viewpoint of promoting high concentration and availability.

また、前記非還元糖と組み合わせて用いられる塩基としては、従来より公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the base used in combination with the non-reducing sugar include conventionally known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents. Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, Examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate.

有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。   Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanol. Examples include amine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine.

前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。   The said base may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. In the present invention, as the non-silicate developer, a non-reducing sugar alkali metal salt as a main component can be used instead of the non-reducing sugar and the base.

また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergmon Press 社発行のIonization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution 等に記載されているものから選択できる。   In addition, an alkaline buffer composed of a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developer. The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and can be selected from, for example, those described in Ionization Constants of Organic Acids Solution issued by Pergmon Press.

具体的には、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノ−ル−1、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(、ピリジン−4−アルデヒド(等のアルデヒド類、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、3,4−ジヒドロキシスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール、o−、m−,p−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物、アセトキシム、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類、アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質、その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。   Specifically, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1, trifluoroethanol and trichloroethanol, pyridine-2-aldehyde (, aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (and the like) , Salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, catechol, gallic acid, sulfosalicylic acid, 3,4-dihydroxysulfonic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, hydroquinone (11.56), pyrogallol, o-, m Compounds having a phenolic hydroxyl group such as-, p-cresol, resorsonol, oximes such as acetoxime, 2-hydroxybenzaldehyde oxime, dimethylglyoxime, ethanediamide dioxime, acetophenone oxime, adenosine, inosine, guanine, cytosine, hypoxanthine , Ki Nucleic acid-related substances such as Nchin, other, diethylaminomethyl acid, benzimidazole, and the like barbituric acid is preferably exemplified.

前記現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散、又は、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液及び補充液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。   In the developer and replenisher, various surfactants and organic solvents are added as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, or enhancing ink affinity of the printing plate image area. Can be added. As the surfactant, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants are preferable. Further, the developer and replenisher may contain a reducing agent such as sodium salt and potassium salt of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, and bisulfite, as well as organic carboxylic acid, antifoaming agent, hard water, if necessary. Softeners and the like can be added.

前記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As post-processing, these processes can be used in various combinations.

更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があげられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明に係る印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than that of the developer is added to the developer, so that a large amount of developer can be obtained without replacing the developer in the developer tank for a long time. It is known that PS plates can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area.
Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. If necessary, the developer and replenisher may contain reducing agents such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, bisulfite, and other inorganic acids such as sodium salts and potassium salts, organic carboxylic acids, antifoaming agents, and hard water softeners. It can also be added.
The printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with water-washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, a desensitizing solution containing gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the printing plate precursor according to the present invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. The processing liquid is sprayed from the spray nozzle and developed. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the present invention, when there is an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original film) on the planographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming. The unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if it is desired to make a lithographic printing plate with a higher printing durability, if desired, Burning process is performed.
In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.

整面液の塗布量は、一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。 In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The lithographic printing plate that has been burned can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

〔実施例1〜8、比較例1〕
〔支持体の作製〕
厚さ0.3mmのJIS−A−1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
[Examples 1 to 8, Comparative Example 1]
(Production of support)
The support body was produced by processing through the process shown below using a JIS-A-1050 aluminum plate with a thickness of 0.3 mm.

(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to a surface of an aluminum plate, it is mechanically rotated by a roller-like nylon brush. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was sprayed with an aqueous NaOH solution at a temperature of 70 ° C. (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%) to perform an etching treatment, and the aluminum plate was 6 g / m. 2 dissolved. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmut treatment A desmut treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10.5 g / liter aqueous solution (aluminum ion 5 g / liter) at a temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform has an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a DUTY ratio of 1: 1. went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment The aluminum plate was sprayed at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C. to dissolve the aluminum plate by 0.20 g / m 2 , The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was used was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment was performed by spraying with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water using well water. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(H) Alkaline etching treatment An aluminum plate is etched by spraying at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, and the aluminum plate is dissolved at 0.10 g / m 2 , so The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during the electrochemical surface roughening treatment was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(I) Desmut treatment A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by mass aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then water washing by spraying was performed using well water.

(j)陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(J) Anodizing treatment As the electrolytic solution, sulfuric acid was used. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), and the temperature was 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water.
Both current densities were about 30 A / dm 2 . The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

<支持体A>
上記(a)〜(j)の各工程を順に行い(e)工程におけるエッチング量は3.4g/m2となるようにして支持体Aを作製した。
<支持体B>
上記工程のうち(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Bを作製した。
<Support A>
The steps (a) to (j) were sequentially performed, and the support A was produced so that the etching amount in the step (e) was 3.4 g / m 2 .
<Support B>
A support B was prepared by sequentially performing the steps except that the steps (g), (h), and (i) were omitted.

<支持体C>
上記工程のうち(a)及び(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Cを作製した。
<支持体D>
上記工程のうち(a)及び(d)(e)(f)の工程を省略した以外は各工程を順に行い、(g)工程における電気量の総和が450C/dm2となるようにして支持体Dを作製した。
上記によって得られた支持体A、B、C、Dには、引き続き下記の親水処理、及び下塗り処理を行った。
<Support C>
A support C was prepared by sequentially performing the steps except that the steps (a), (g), (h), and (i) were omitted.
<Support D>
Of the above steps, the steps (a) and (d) (e) (f) are omitted except that the steps are performed in order, and the total amount of electricity in the step (g) is 450 C / dm 2 for support. Body D was prepared.
Supports A, B, C and D obtained as described above were subsequently subjected to the following hydrophilic treatment and undercoating treatment.

(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸漬することでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は3.6mg/m2であった。
(K) Alkali metal silicate treatment An alkali metal silica was obtained by immersing the aluminum support obtained by anodizing treatment in a treatment layer of a 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C for 10 seconds. Acid salt treatment (silicate treatment) was performed. Then, the water washing by the spray using well water was performed. The amount of silicate adhering at that time was 3.6 mg / m 2 .

〔下塗り処理〕
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布して、80℃で15秒間乾燥することにより下塗層を形成した。乾燥後の被覆量は15mg/m2であった。
[Undercoating]
On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form an undercoat layer. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 .

(下塗層用塗布液)
・下記高分子化合物(下記(I)又は(II)) 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
(Coating solution for undercoat layer)
・ The following polymer compound (the following (I) or (II)) 0.3 g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 0004762604
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(記録層の形成)
次に、上記で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の下層用塗布液Aを、ワイヤーバーで塗布したのち、140℃の乾燥オーブンで50秒間乾燥して塗布量を0.85g/m2とした。
得られた下層付き支持体に、下記組成の上層用塗布液Bをワイヤーバーで塗布した。塗布後140℃60秒間の乾燥を行い、総塗布量を1.1g/m2として実施例1〜8、及び比較例1のポジ型平版印刷版原版を得た。
(Formation of recording layer)
Next, the lower layer coating solution A having the following composition was applied to the support with the undercoat layer obtained above with a wire bar, and then dried in a drying oven at 140 ° C. for 50 seconds to obtain a coating amount of 0.85 g. / M 2 .
The upper layer coating liquid B having the following composition was applied to the obtained support with a lower layer with a wire bar. After coating, drying at 140 ° C. for 60 seconds was performed to obtain positive lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 at a total coating amount of 1.1 g / m 2 .

<下層用塗布液A>
・表1に示す特定構造ポリマー 2.13g
・シアニン染料X(下記構造) 0.134g
・ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)
ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレット6−ナフタレンスルホン酸 0.078g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製) 0.023g
・γ―ブチロラクトン 13.16g
・メチルエチルケトン 25.39g
・1−メトキシ−2−プロパノール 12.95g
<Coating liquid A for lower layer>
-Specific structure polymer shown in Table 1. 2.13 g
・ Cyanine dye X (the following structure) 0.134 g
・ Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.126 g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
2-methoxy-4- (N-phenylamino)
Benzenediazonium hexafluorophosphate 0.032 g
・ Ethyl violet 6-naphthalenesulfonic acid 0.078g
-Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.023g
・ Γ-Butyrolactone 13.16g
・ Methyl ethyl ketone 25.39g
・ 1-methoxy-2-propanol 12.95 g

<上層用塗布液B>
・表1に示すアルカリ可溶性樹脂 0.341g
・シアニン染料X(下記構造) 0.019g
・下記構造ポリマーA/MEK30%溶液(下記構造) 0.14g
・4級アンモニウム塩(下記構造) 0.004g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製) 0.004g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−781、大日本インキ化学工業(株)製) 0.001g
・メチルエチルケトン 2.63g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.27g
<Upper layer coating solution B>
・ 0.341 g of alkali-soluble resin shown in Table 1
・ Cyanine dye X (the following structure) 0.019 g
-The following structural polymer A / MEK 30% solution (the following structure) 0.14 g
・ Quaternary ammonium salt (the following structure) 0.004g
-Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.004g
-Fluorosurfactant (Megafac F-781, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.001g
・ Methyl ethyl ketone 2.63g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.27g

Figure 0004762604
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Figure 0004762604
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Figure 0004762604
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〔比較例2〕
実施例1〜8と同様の方法で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の記録層用塗布液Cをワイヤーバーで塗布したのち、140℃の乾燥オーブンで100秒間乾燥して、塗布量を1.80g/m2とし、単層の記録層が形成された比較例2のポジ型平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 2]
After applying the recording layer coating liquid C having the following composition to the support with the undercoat obtained by the same method as in Examples 1 to 8 with a wire bar, it was dried in a drying oven at 140 ° C. for 100 seconds, A positive lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 in which the coating amount was 1.80 g / m 2 and a single recording layer was formed was obtained.

<記録層用塗布液C>
・表1に示す特定構造ポリマー 0.75g
・表1に示すアルカリ可溶性樹脂 0.25g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g
・シアニン染料X(前記構造) 0.017g
・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを
1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 0.015g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g
・γ−ブチロラクトン 10g
・メチルエチルケトン 10g
・1−メトキシ−2−プロパノール 1g
<Coating liquid C for recording layer>
・ Specific structure polymer shown in Table 1 0.75 g
-Alkali-soluble resin 0.25g shown in Table 1
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.03g
・ Cyanine dye X (the above structure) 0.017 g
0.015 g of a dye having 1-naphthalenesulfonic acid anion as a counter ion of Victoria Pure Blue BOH
・ Fluorine-based surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.05 g
・ Γ-Butyrolactone 10g
・ Methyl ethyl ketone 10g
1-methoxy-2-propanol 1g

〔実施例9、10〕
実施例1〜8と同様の方法で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の下層用塗布液Dをワイヤーバーで塗布したのち、140℃の乾燥オーブンで50秒間乾燥して塗布量を0.85g/m2とした。
得られた下層付き支持体に下記組成の上層用塗布液Eをワイヤーバーで塗布した。塗布後140℃60秒間の乾燥を行い、総塗布量を1.1g/m2として実施例9及び実施例10のポジ型平版印刷版原版を得た。
[Examples 9 and 10]
After applying the lower layer coating liquid D having the following composition to the support with an undercoat obtained by the same method as in Examples 1 to 8 with a wire bar, the coating amount was dried in a drying oven at 140 ° C. for 50 seconds. Was set to 0.85 g / m 2 .
The upper layer coating solution E having the following composition was applied to the obtained support with a lower layer with a wire bar. After coating, drying at 140 ° C. for 60 seconds was performed to obtain positive lithographic printing plate precursors of Examples 9 and 10 at a total coating amount of 1.1 g / m 2 .

<下層用塗布液D>
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド/アクリロニトリル/メタクリル酸メチル
(36/34/30、重量平均分子量50,000) 2.13g
・シアニン染料X(前記構造) 0.134g
・ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)
ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレット6−ナフタレンスルホン酸 0.078g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製) 0.023g
・γ―ブチロラクトン 13.16g
・メチルエチルケトン 25.39g
・1−メトキシ−2−プロパノール 12.95g
<Lower layer coating solution D>
N- (4-aminosulfonylphenyl)
Methacrylamide / acrylonitrile / methyl methacrylate (36/34/30, weight average molecular weight 50,000) 2.13 g
・ Cyanine dye X (the above structure) 0.134 g
・ Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.126 g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
2-methoxy-4- (N-phenylamino)
Benzenediazonium hexafluorophosphate 0.032 g
・ Ethyl violet 6-naphthalenesulfonic acid 0.078g
-Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.023g
・ Γ-Butyrolactone 13.16g
・ Methyl ethyl ketone 25.39g
・ 1-methoxy-2-propanol 12.95 g

<上層用塗布液E>
・表1に示す特定構造ポリマー 0.034g
・表1に示すアルカリ可溶性樹脂 0.307g
・シアニン染料X(前記構造) 0.019g
・前記構造ポリマーA/MEK30%溶液(前記構造) 0.14g
・4級アンモニウム塩(前記構造) 0.004g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製) 0.004g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−781、大日本インキ化学工業(株)製) 0.001g
・メチルエチルケトン 2.63g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.27g
<Upper coating liquid E>
・ Specific structure polymer shown in Table 1 0.034 g
-Alkali-soluble resin 0.307g shown in Table 1
・ Cyanine dye X (the above structure) 0.019 g
-0.14 g of the above structural polymer A / MEK 30% solution (the above structure)
・ Quaternary ammonium salt (the above structure) 0.004g
-Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.004g
-Fluorosurfactant (Megafac F-781, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.001g
・ Methyl ethyl ketone 2.63g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.27g

〔比較例3〕
実施例9及び10と同様の方法で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の上層用塗布液Fをワイヤーバーで塗布した。塗布後140℃60秒間の乾燥を行い、総塗布量を1.1g/m2として比較例3のポジ型平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 3]
An upper layer coating solution F having the following composition was applied to a support with an undercoat layer obtained in the same manner as in Examples 9 and 10 with a wire bar. After coating, drying at 140 ° C. for 60 seconds was performed to obtain a positive planographic printing plate precursor of Comparative Example 3 with a total coating amount of 1.1 g / m 2 .

<上層用塗布液
・表1に示すアルカリ可溶性樹脂 0.341g
・シアニン染料X(前記構造) 0.019g
・前記構造ポリマーA/MEK30%溶液(前記構造) 0.14g
・4級アンモニウム塩(前記構造) 0.004g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製) 0.004g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−781、大日本インキ化学工業(株)製) 0.001g
・メチルエチルケトン 2.63g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.27g
<Upper layer coating solution F >
・ 0.341 g of alkali-soluble resin shown in Table 1
・ Cyanine dye X (the above structure) 0.019 g
-0.14 g of the above structural polymer A / MEK 30% solution (the above structure)
・ Quaternary ammonium salt (the above structure) 0.004g
-Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.004g
-Fluorosurfactant (Megafac F-781, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.001g
・ Methyl ethyl ketone 2.63g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.27g

[平版印刷版原版の評価]
次に、実施例1〜10、及び、比較例1〜3のポジ型平版印刷版原版の性能評価を行った。なお、評価試験は下層及び上層塗布後(比較例2については単層の記録層塗布後)、25℃で14日間保存したものについて行った。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor]
Next, performance evaluation of the positive planographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 was performed. The evaluation test was carried out for the samples stored at 25 ° C. for 14 days after the lower layer and the upper layer were coated (for the second comparative example, after the single recording layer was coated).

(現像ラチチュードの評価)
得られた平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter800にて、露光量10.0W、ドラム回転速度250rpmの条件でテストパターンの画像状に描き込み(露光)を行った。
次に、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2Rの水希釈(1:9)にて、電導度が37mS/cmになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFG−1の水希釈(1:1)液を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサーLP−940HIIを用い、液温を30度に保って現像時間12秒で現像した。その後、現像液にDT−2Rの水希釈(1:9)液を適量加え、電導度を39mS/cmに調整し、先ほどと同じくテストパターンを画像状に描き込んだ平版印刷版原版を現像した。更に電導度を2mS/cmずつ上げ、画像の現像による膜減りが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
(Evaluation of development latitude)
The obtained lithographic printing plate precursor was drawn (exposed) into an image of a test pattern on a Trendsetter 800 manufactured by Creo under the conditions of an exposure amount of 10.0 W and a drum rotation speed of 250 rpm.
Next, a solution in which carbon dioxide gas was blown into the developer DT-2R manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. in water (1: 9) until the electrical conductivity reached 37 mS / cm, and a finisher manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. Development was carried out using a PS processor LP-940HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., in which a FG-1 aqueous dilution (1: 1) solution was charged and the liquid temperature was kept at 30 ° C., and the development time was 12 seconds. Thereafter, an appropriate amount of DT-2R diluted with water (1: 9) was added to the developer, the conductivity was adjusted to 39 mS / cm, and the lithographic printing plate precursor in which the test pattern was drawn in an image shape as before was developed. . Further, the electrical conductivity was increased by 2 mS / cm, and this operation was continued until a film loss due to image development was observed remarkably.

これら現像後の実施例及び比較例の版において、各電導度で現像した版を、現像不良の非画像部残膜に起因する汚れや着色がないかを50倍のルーペで確認し、良好に現像が行えた現像液の電導度を決定した。次に、現像によるベタ部の現像抑制が維持される限界の電導度、具体的には、現像前のベタ部の画像濃度をGRETAG反射濃度計D196(GretagMacbeth社製)で測定して、この画像濃度から0.10以下の画像濃度となるベタ部が形成された現像液の電導度を決定した。
現像が良好に行えた現像液の電導度とベタ部の現像抑制が維持される限界の電導度の幅を現像ラチチュードとした。この数値が大きいほど現像ラチチュードが広いことを表す。結果を表1に記す。
In the developed plates of Examples and Comparative Examples after development, the plates developed with each conductivity were checked with a magnifier of 50 times to see whether there was any stain or coloring due to poorly developed non-image area residual film. The conductivity of the developer that could be developed was determined. Next, the electric conductivity at the limit at which development suppression of the solid portion due to development is maintained, specifically, the image density of the solid portion before development is measured with a GRETAG reflection densitometer D196 (manufactured by GretagMacbeth), and this image is measured. The electric conductivity of the developer having a solid portion having an image density of 0.10 or less from the density was determined.
The development latitude was defined as the electric conductivity of the developer that was successfully developed and the limit of the electric conductivity at which the solid portion development was maintained. The larger this value, the wider the development latitude. The results are shown in Table 1.

(ハイライト部の画像形成性の評価)
得られた平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter800にて、露光量10.0W、ドラム回転速度250rpmの条件で面積率50%の網点をStaccato10スクリーン(Creo社製)を用いて露光し、現像後、DMS910(TECHKON社製)でハイライト部の画像形成性(微小面積画像部の再現性)を測定した。ここで、ハイライト部の画像形成性は、出力した面積率である50%に近いほど良好なことを示している。結果を表1に示す。
(Evaluation of image formation in highlight area)
The obtained lithographic printing plate precursor is exposed to a Trend setter 800 manufactured by Creo using a Staccato10 screen (manufactured by Creo) by exposing a halftone dot having an area ratio of 50% under the conditions of an exposure amount of 10.0 W and a drum rotation speed of 250 rpm. Thereafter, the image forming property (reproducibility of the minute area image portion) of the highlight portion was measured with DMS910 (manufactured by TECHKON). Here, it is shown that the image formability of the highlight portion is better as the output area ratio is closer to 50%. The results are shown in Table 1.

Figure 0004762604
Figure 0004762604

表1中の「特定構造ポリマー」、および「アルカリ可溶性樹脂」の詳細は、以下の通りである。   The details of “specific structure polymer” and “alkali-soluble resin” in Table 1 are as follows.

〔特定構造ポリマー〕

Figure 0004762604
[Specific structure polymer]
Figure 0004762604

・特定構造ポリマー(a):(a/b/c/d/e=36/37/2/25/0;重量平均分子量:16000)
1=n−ブチル基
2=4−ヒドロキシベンジル基
・特定構造ポリマー(b):(a/b/c/d/e=12/49/17/22/0;重量平均分子量:14000)
1=n−ブチル基
2=3−ヒドロキシベンジル基
・特定構造ポリマー(c):(a/b/c/d/e=30/41/2/20/9;重量平均分子量:18000)
1=n−ブチル基
2=2−ヒドロキシベンジル基
6=グリオキシル酸基
・特定構造ポリマー(d):(a/b/c/d/e=21/43/2/24/10;重量平均分子量:16000)
1=n−ブチル基
2=3−ヒドロキシベンジル基
6=プロパルギル基
・特定構造ポリマー(e):(a/b/c/d/e=38/42/2/18/0;重量平均分子量:18000)
1=n−ブチル基
2=2−ヒドロキシベンジル基
・特定構造ポリマー(f):(a/b/c/d/e=25/38/12/26/0;重量平均分子量:16000)
1=n−ブチル基
2=4−ヒドロキシベンジル基
・特定構造ポリマー(g):(a/b/c/d/e=16/10/12/44/18;重量平均分子量:18000)
1=n−イソバレル基
2=2−ヒドロキシベンジル基
6=4−ホルミルフェノキシ酢酸基
・特定構造ポリマー(h):(a/b/c/d/e=14/44/2/40/0;重量平均分子量:16000)
1=n−ブチル基
2=3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシベンジル基
・ポリマー(i)
N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル/メタクリル酸メチル(36/34/30、重量平均分子量50,000)
Specific polymer (a): (a / b / c / d / e = 36/37/2/25/0; weight average molecular weight: 16000)
R 1 = n-butyl group R 2 = 4-hydroxybenzyl group / specific structure polymer (b): (a / b / c / d / e = 12/49/17/22/0; weight average molecular weight: 14000)
R 1 = n-butyl group R 2 = 3-hydroxybenzyl group / specific structure polymer (c): (a / b / c / d / e = 30/41/2/20/9; weight average molecular weight: 18000)
R 1 = n-butyl group R 2 = 2-hydroxybenzyl group R 6 = glyoxylic acid group / specific structure polymer (d): (a / b / c / d / e = 21/43/2/24/10; (Weight average molecular weight: 16000)
R 1 = n-butyl group R 2 = 3-hydroxybenzyl group R 6 = propargyl group / specific structure polymer (e): (a / b / c / d / e = 38/42/2/18/0; weight (Average molecular weight: 18000)
R 1 = n-butyl group R 2 = 2-hydroxybenzyl group / specific structure polymer (f): (a / b / c / d / e = 25/38/12/26/0; weight average molecular weight: 16000)
R 1 = n-butyl group R 2 = 4-hydroxybenzyl group / specific structure polymer (g): (a / b / c / d / e = 16/10/12/44/18; weight average molecular weight: 18000)
R 1 = n-isobarrel group R 2 = 2-hydroxybenzyl group R 6 = 4-formylphenoxyacetic acid group / specific structure polymer (h): (a / b / c / d / e = 14/44/2/40 / 0; weight average molecular weight: 16000)
R 1 = n-butyl group R 2 = 3,5-dibromo-4-hydroxybenzyl group / polymer (i)
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitrile / methyl methacrylate (36/34/30, weight average molecular weight 50,000)

〔アルカリ可溶性樹脂〕
・樹脂1:m−クレゾール/p−クレゾール(60/40)ノボラック(重量平均分子量4000)
・樹脂2:フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール(50/30/20)ノボラック(重量平均分子量6000)
[Alkali-soluble resin]
Resin 1: m-cresol / p-cresol (60/40) novolak (weight average molecular weight 4000)
Resin 2: phenol / m-cresol / p-cresol (50/30/20) novolak (weight average molecular weight 6000)

表1に示されるように、本発明に係る特定構造ポリマーを重層構造の記録層に含有する実施例の平版印刷版原版は、現像ラチチュードが広く、ハイライト部の画像形成性(微小面積画像部の画像再現性)にも優れていることがわかった。
一方、重層構造の記録層ではあるが、特定構造ポリマーを含有しない比較例1及び3の平版印刷版原版、は現像ラチチュード及びハイライト部の画像形成性のいずれにおいても、実施例の平版印刷版原版よりも劣っていた。また、特定構造ポリマーとフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂とを単層の記録層中に含有する比較例2の平版印刷版原版は、現像ラチチュードが狭い平版印刷版原版であった。
As shown in Table 1, the planographic printing plate precursors of the examples containing the specific structure polymer according to the present invention in the recording layer having a multi-layer structure have a wide development latitude, and image forming properties of a highlight area (small area image area) The image reproducibility of the image was also excellent.
On the other hand, the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 3 which are multi-layered recording layers but do not contain a specific structural polymer, the lithographic printing plates of the examples in both the development latitude and the image forming property of the highlight portion. It was inferior to the original version. The planographic printing plate precursor of Comparative Example 2 containing a specific structure polymer and an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group in a single recording layer was a planographic printing plate precursor having a narrow development latitude.

Claims (2)

支持体上に、下記一般式(I)で表される高分子化合物を含有する下層と、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、4級アンモニウム塩である溶解抑止剤(但し、染料及び画像着色剤であるものを除く。)、及び赤外線吸収剤を含有する上層と、を含む記録層を有することを特徴とするポジ型平版印刷版原版。
Figure 0004762604

[一般式(I)中、R1は炭化水素基、R2は水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。m=5〜40モル%、n=10〜60モル%、o=1〜20モル%、及び、p=5〜50モル%である。]
On the support, a lower layer containing a polymer compound represented by the following general formula (I), an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, and a dissolution inhibitor that is a quaternary ammonium salt (however, dyes and image colorants And a top layer containing an infrared absorber, and a positive lithographic printing plate precursor characterized by having a recording layer.
Figure 0004762604

[In General Formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group, and R 2 represents an aromatic group having a hydroxyl group as a substituent. m = 5-40 mol%, n = 10-60 mol%, o = 1-20 mol%, and p = 5-50 mol%. ]
前記4級アンモニウム塩である溶解抑止剤が、下記に示す化合物である請求項1に記載のポジ型平版印刷版原版。  The positive lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the dissolution inhibitor that is a quaternary ammonium salt is a compound shown below.
Figure 0004762604
Figure 0004762604
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