JP2010146013A - Development acceleration of radiation-sensitive element - Google Patents

Development acceleration of radiation-sensitive element Download PDF

Info

Publication number
JP2010146013A
JP2010146013A JP2010000879A JP2010000879A JP2010146013A JP 2010146013 A JP2010146013 A JP 2010146013A JP 2010000879 A JP2010000879 A JP 2010000879A JP 2010000879 A JP2010000879 A JP 2010000879A JP 2010146013 A JP2010146013 A JP 2010146013A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
compound
acid
mol
substituted aromatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010000879A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010146013A5 (en
Inventor
Livia T Memetea
メメティー,リビア,ティー
Juana G Jaramillo
ジャラミッロ,ジュアナ,ジー.
Nicholas Bradford
ブラッドフォード,ニコラス
Jonathan W Goodin
ゴーディン,ジョナサン,ダブリュー.
Cheng Yang
ヤン,チェン
Moshe Levanon
レバノン,モシェ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kodak Graphic Communications Canada Co
Original Assignee
Kodak Graphic Communications Canada Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from PCT/CA2003/000373 external-priority patent/WO2003079113A1/en
Application filed by Kodak Graphic Communications Canada Co filed Critical Kodak Graphic Communications Canada Co
Publication of JP2010146013A publication Critical patent/JP2010146013A/en
Publication of JP2010146013A5 publication Critical patent/JP2010146013A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive active radiation-sensitive composition having a sensitive and excellent development latitude, excellent in a handling property, and used with an irradiation source. <P>SOLUTION: The positive active radiation-sensitive composition and a radiation-sensitive element include one or more polyvinyl acetal polymers and development acceleration compounds which can be solved within an alkaline aqueous solution. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、放射線感受性組成物の分野、特に画像形成素子におけるその使用に関する。   The present invention relates to the field of radiation sensitive compositions, in particular its use in imaging elements.

リソグラフプロセスでは、基材上に実質的に同一の面の上に、画像(印刷)領域と、非画像(非印刷)領域とを構築することを含む。そのようなプロセスを印刷産業で使用する場合、非画像領域と画像領域では、印刷インキに対する親和性が異なるように調節する。たとえば、非画像領域は一般的には親水性または疎油性であってよく、画像領域は親油性であってよい。   The lithographic process involves building an image (printed) region and a non-image (non-printed) region on substantially the same surface on the substrate. When such a process is used in the printing industry, non-image areas and image areas are adjusted to have different affinity for printing ink. For example, non-image areas may generally be hydrophilic or oleophobic and image areas may be oleophilic.

ある種のタイプの電子部品は、リソグラフィック製造技術を使用して製造することができる。その製造に放射線感受性組成物を使用することが可能な電子部品のタイプとしては、たとえばレジスター、コンデンサーおよびインダクターなどの受動素子を含むプリント配線回路基板、厚膜および薄膜回路;マルチチップデバイス;集積回路;および活性半導体デバイスなどが挙げられる。好適には電子部品には、導体、たとえば銅基板;半導体および絶縁体、たとえば、その下にケイ素を有する表面層としてシリカが含まれていてもよく、そのシリカを選択的にエッチング除去してその下にあるケイ素の部分を露出させる。マスクに関連して言えば、マスク前駆体、たとえばプラスチック膜の上にコーティングの形で所望のパターンを形成させ、次いでそれを後の加工工程で使用して、たとえば、印刷基材または電子部品基材の上にパターンを形成させることができる。   Certain types of electronic components can be manufactured using lithographic manufacturing techniques. The types of electronic components that can use radiation sensitive compositions in their manufacture include printed circuit boards, thick film and thin film circuits, including passive elements such as resistors, capacitors and inductors; multichip devices; integrated circuits And active semiconductor devices. Preferably, the electronic component may include a conductor, such as a copper substrate; a semiconductor and an insulator, for example, silica as a surface layer having silicon underneath, and the silica may be selectively etched away to Expose the underlying silicon part. In the context of masks, a desired pattern in the form of a coating is formed on a mask precursor, such as a plastic film, which is then used in subsequent processing steps, such as a printing substrate or electronic component substrate. A pattern can be formed on the material.

これまでも、レーザー直接画像形成法(LDI)が知られていて、これは、コンピューターからのデジタルデータをもとに、オフセットプリント版またはプリント回路基板を直接形成させるものである。LDIでは、より良好な描線品質、ジャストインタイム加工、改良された製造収率、製膜コスト不要、およびその他公知の利点など、各種のメリットが得られる。レーザーの領域では顕著な発展が認められてきた。具体的には、近赤外波長から赤外波長にかけての発光バンドを有し、小型で、高エネルギー出力を有する固体レーザーおよび半導体レーザーが、商品として利用できるようになってきた。それらのレーザーは、LDIが必要とされる場合の露光用光源として、極めて有用である。   In the past, laser direct imaging (LDI) has been known, which directly forms an offset printing plate or printed circuit board based on digital data from a computer. LDI provides various merits such as better drawing quality, just-in-time processing, improved production yield, no film forming cost, and other known advantages. Significant developments have been observed in the area of lasers. Specifically, solid lasers and semiconductor lasers having a light emission band from near infrared wavelengths to infrared wavelengths, small size, and high energy output have become available as commercial products. These lasers are extremely useful as exposure light sources when LDI is required.

感熱性画像形成素子は、好適な量の熱エネルギーに暴露され、そのエネルギーを吸収することに応答して、(1種または複数の)化学的な変換を受ける組成物と分類される。熱により誘起される化学的な変換の本質は、組成物のアブレーション、または特定の現像剤の中へのその組成物の溶解性の変化、または、表面への粘着性の変化、または感熱性層の表面の親水性または疎水性の変化、をもたらすことであると考えられる。そのような次第で、感熱性膜または層の所定の領域を選択的に熱に暴露させること(熱エネルギーを像様に分布させること)により、プリント回路基板の製作において、またはリソグラフ印刷版の製造において、レジストパターンとして使用される、好適に画像形成された膜または層を直接的または間接的に製作することが可能となる。ノボラック−ジアゾキノン樹脂をベースとしたポジ型作動のシステムは、コンピューターチップ産業における画像形成のための主要技術である(たとえば、R.R.ダンメル(R.R.Dammel)「ジアゾナフトキノン−ベースト・レジスツ(Diazonaphthoquinone−based Resists)」、チュートリアル・テキスト(Tutorial text)No.11、(SPIE・プレス(SPIE Press)、ワシントン州ベリングハム(Bellingham,WA)993)を参照されたい)。   A heat-sensitive imaging element is classified as a composition that is exposed to a suitable amount of thermal energy and undergoes chemical conversion (s) in response to absorbing that energy. The essence of a chemical transformation induced by heat is the ablation of the composition, or a change in the solubility of the composition in a specific developer, or a change in adhesion to the surface, or a heat-sensitive layer. It is considered that the change of the hydrophilicity or hydrophobicity of the surface of the surface is caused. As such, in the fabrication of printed circuit boards, or in the manufacture of lithographic printing plates, by selectively exposing predetermined areas of a heat sensitive film or layer to heat (distributing thermal energy imagewise). In which a suitably imaged film or layer used as a resist pattern can be produced directly or indirectly. Positive working systems based on novolak-diazoquinone resins are the leading technology for imaging in the computer chip industry (eg, RR Dammel “diazonaphthoquinone-based resists”). (Diazonophothionone-based Resists), Tutorial text No. 11, (SPIE Press, Bellingham, WA 993)).

感光性ノボラック−ジアゾキノン樹脂組成物は、印刷版の製作においても広く使用されている。ノボラック樹脂(フェノール−ホルムアルデヒド縮合ポリマー)に添加した感光性ジアゾナフトキノン誘導体(DNQ)は、樹脂の溶解を遅らせる。ノボラック−DNQ画像形成材料の分子メカニズムを改良することが、提案されている(A.ライザー(A.Reiser)、ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス・アンド・テクノロジー(Journal of Imaging Science and Technology)、第42巻、第1号、1998年1月/2月、p.15〜22)。この報告が教示するところでは、ノボラック−ジアゾナフトキノン組成物における画像形成現象の基本的な特色は、樹脂の溶解が阻止されることが観察されることで、これは、溶解抑制剤として機能する強い水素受容体が、樹脂のOH基と相互作用を持って、フェノール性連鎖が形成されためである。露光させると、そのフェノール性連鎖の間の水素結合が、ウォルフ(Wolff)転位と呼ばれる反応で切断され、それに続いて、抑制剤分子のジアゾキノン残基が光分解される。この転位反応は、極めて早いだけではなく、発熱性も大きい。(ΔH0が、少なくとも−66kcal/mol)。溶解抑制剤の位置に、そのような大きな熱パルスが突然現れることによって、約220℃以上の大きな温度急上昇が起きる。溶解抑制剤の位置に発生する高温によって、そのフェノール性連鎖が、DNQに対する結合点で切断され、不活性となる(分散される)。これが起きるのは、溶解抑制剤の誘起効果によって保持することができなくなるからである。UV、可視光線および/または赤外線照射に感光性のフェノール樹脂をベースとした、ポジ型作動の、直接レーザーでアドレス可能な印刷形態の前駆体については、すでに記載がある。たとえば、米国特許第4,708,925号明細書、米国特許第5,372,907号明細書および米国特許第5,491,046号を参照されたい。 Photosensitive novolac-diazoquinone resin compositions are also widely used in the production of printing plates. The photosensitive diazonaphthoquinone derivative (DNQ) added to the novolak resin (phenol-formaldehyde condensation polymer) delays the dissolution of the resin. It has been proposed to improve the molecular mechanism of Novolak-DNQ imaging materials (A. Reiser, Journal of Imaging Science and Technology, No. 1). 42, No. 1, January / February 1998, p. 15-22). The report teaches that the fundamental feature of the imaging phenomenon in novolak-diazonaphthoquinone compositions is that the dissolution of the resin is observed to be inhibited, which strongly acts as a dissolution inhibitor. This is because the hydrogen acceptor interacts with the OH group of the resin to form a phenolic chain. Upon exposure, the hydrogen bonds between the phenolic chains are cleaved by a reaction called the Wolff rearrangement, followed by photolysis of the diazoquinone residues of the inhibitor molecule. This rearrangement reaction is not only very fast but also highly exothermic. (ΔH 0 is at least −66 kcal / mol). The sudden appearance of such a large heat pulse at the position of the dissolution inhibitor causes a large temperature jump of about 220 ° C. or more. Due to the high temperature generated at the position of the dissolution inhibitor, the phenolic chain is cleaved at the point of attachment to DNQ and becomes inactive (dispersed). This occurs because it cannot be retained by the inducing effect of the dissolution inhibitor. A positive working, direct laser addressable printing form precursor based on a phenolic resin sensitive to UV, visible and / or infrared radiation has already been described. See, for example, US Pat. No. 4,708,925, US Pat. No. 5,372,907 and US Pat. No. 5,491,046.

米国特許第4,708,925号明細書においては、アルカリ性溶液中へのフェノール樹脂の溶解性は、DNQに代えて、放射線感受性オニウム塩、たとえばトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートを使用することで低下するが、そのオニウム塩を光分解させると、樹脂の元々の溶解性が回復される。そのオニウム塩組成物は、本来的にUV照射に対する感度が高く、さらに、赤外線照射に対する感光性も与えることができる。米国特許第6,037,085号明細書および米国特許第5,962,192号明細書においては、アジド原料をベースとし、必要な感度を得るために染料成分が添加された、熱レーザー感受性組成物が記述されている。   In US Pat. No. 4,708,925, the solubility of the phenolic resin in alkaline solution is reduced by using a radiation sensitive onium salt such as triphenylsulfonium hexafluorophosphate instead of DNQ. However, when the onium salt is photolyzed, the original solubility of the resin is restored. The onium salt composition is inherently highly sensitive to UV irradiation and can also be sensitive to infrared irradiation. In US Pat. No. 6,037,085 and US Pat. No. 5,962,192, a thermal laser sensitive composition based on an azide material and having a dye component added to obtain the required sensitivity. Things are described.

感熱記録材料として有用な、広い範囲の熱誘起組成物が、英国特許第1,245,924号明細書に開示されているが、そこでは、画像形成可能な層の各所の所定の領域の、所定の溶媒における溶解性は、元々記録材料と接触した位置にある画像のバックグラウンド領域からの、高強度可視光線および/または赤外線照射の短時間の透過または反射に間接的に暴露させることにより層を加熱することによって、上げることができる。多くの異なったメカニズムで作動し、水から塩素化有機溶媒まで、各種の現像用原料を使用するいくつかのシステムが記載されている。開示された水現像可能な組成物の範囲には、ノボラックタイプのフェノール樹脂を含むものが、含まれている。その特許には、加熱をすると溶解性が上昇するそのような樹脂のコーティング膜が記載されている。その組成物には、カーボンブラックまたはミロリブルー(C.I.ピグメントブルー27)のような光吸収性化合物が含まれていてもよく、それらの原料はさらに、記録媒体としてのその使用のための画像を着色する。   A wide range of heat-inducing compositions useful as heat-sensitive recording materials are disclosed in British Patent 1,245,924, in which predetermined regions of the imageable layer are defined at various locations. Solubility in a given solvent is determined by indirect exposure to short-term transmission or reflection of high-intensity visible and / or infrared radiation from the background area of the image originally in contact with the recording material. Can be raised by heating. Several systems have been described that operate in many different mechanisms and use a variety of developing materials, from water to chlorinated organic solvents. The range of water developable compositions disclosed includes those containing novolac type phenolic resins. That patent describes a coating film of such a resin whose solubility increases when heated. The composition may contain a light-absorbing compound such as carbon black or miloli blue (CI Pigment Blue 27), the raw materials of which are further images for its use as a recording medium. Coloring.

溶解抑制性の原料を含むその他の組成物も、特許文献の中に記載されている。そのような特許の例を挙げれば、国際公開第97/39894号パンフレット、国際公開第98/42507号パンフレット、国際公開第99/08879号パンフレット、国際公開第99/01795号パンフレット、国際公開第99/21725号パンフレット、米国特許第6,117,623号明細書、米国特許第6,124,425号明細書、欧州特許第940266号明細書、および国際公開第99/11458号パンフレットなどがある。しかしながら、赤外染料などは、照射の吸収剤として主として機能し、露光された領域におけるバインダー溶解機能は最小限にとどまる。   Other compositions containing dissolution-inhibiting raw materials are also described in the patent literature. Examples of such patents include WO 97/39894, WO 98/42507, WO 99/08879, WO 99/01795, WO 99. / 21725 pamphlet, US Pat. No. 6,117,623, US Pat. No. 6,124,425, EP 940266, and WO 99/11458. However, infrared dyes or the like function primarily as radiation absorbers and have a minimal binder dissolution function in the exposed areas.

米国特許第5,840,467号明細書(キタタニ(Kitatani)ら)には、ポジ型作動の画像記録材料が記載されており、それには、バインダー、赤外線または近赤外線を吸収することにより熱を発生することが可能な光−熱転化物質、および熱分解可能な物質で、その物質が未分解状態にあるときはその物質の溶解性を実質的に低下させることができるもの、を含む。熱分解可能な物質の具体例としては、ジアゾニウム塩やキノンジアジドなどが挙げられる。バインダーの具体例としては、フェノール樹脂、アクリル樹脂およびポリウレタン樹脂が挙げられる。各種の顔料および染料を、具体的にはシアニン染料などの潜在的な光−熱転化物質として挙げることができる。画像記録材料を適切な基材の上にコーティングして、画像形成可能な素子を作り出すこともできる。そのようにして作り上げた素子は、レーザー光を用いて像様に照射し、その照射された領域をアルカリ現像剤を用いて除去することができる。   U.S. Pat. No. 5,840,467 (Kitatani et al.) Describes a positive working image recording material that absorbs heat by absorbing a binder, infrared or near infrared. Includes light-to-heat conversion materials that can be generated, and materials that can be thermally decomposed, which can substantially reduce the solubility of the material when the material is in an undegraded state. Specific examples of the thermally decomposable substance include diazonium salts and quinonediazides. Specific examples of the binder include phenol resin, acrylic resin, and polyurethane resin. Various pigments and dyes can be specifically mentioned as potential light-to-heat conversion materials such as cyanine dyes. An image recording material can also be coated on a suitable substrate to create an imageable element. The element thus fabricated can be irradiated imagewise using laser light and the irradiated area can be removed using an alkaline developer.

ポジ型作動の組成物の感度を向上させることが可能ないくつかの物質が報告されている。増感剤としての環状酸無水物が、米国特許第4,115,128号明細書に記載されており、その例としては、無水フタル酸、無水コハク酸および無水ピロメリット酸が挙げられている。フェノールおよび有機酸もまた、特開昭60−88942号公報および特開平2−96755号公報に記載がある。具体例としては、ビスフェノールA、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェニルホスフェート、ジフェニルホスフェート、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、テレフタル酸、ラウリン酸、およびアスコルビン酸などが挙げられている。   Several substances have been reported that can improve the sensitivity of positive working compositions. Cyclic acid anhydrides as sensitizers are described in US Pat. No. 4,115,128, examples of which include phthalic anhydride, succinic anhydride and pyromellitic anhydride. . Phenols and organic acids are also described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specific examples include bisphenol A, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, terephthalic acid Examples include acids, lauric acid, and ascorbic acid.

照射源とともに使用するためのポジ型放射線感受性組成物には、アルカリ性水溶液に溶解させることが可能な1種または複数のポリマー、および現像促進化合物を含む。本発明は、リソグラフィック用途、たとえば従来の画像形成システム、コンピューター製版システム、またはその他直接画像形成素子および用途などにおいて、照射源と共に使用するための、良好な感度を有するポジ型作動の放射線感受性組成物を提供する。その組成物は、露光させるまではその状態で安定であり、優れた取り扱い性を有している。   A positive radiation-sensitive composition for use with an irradiation source includes one or more polymers that can be dissolved in an alkaline aqueous solution, and a development accelerating compound. The present invention is a positive working, radiation sensitive composition with good sensitivity for use with an illumination source in lithographic applications such as conventional imaging systems, computer platemaking systems, or other direct imaging elements and applications. Offer things. The composition is stable in that state until exposed to light and has excellent handling properties.

本発明の第1の広い態様においては、少なくとも1種の水性アルカリ可溶性ポリマーおよび現像促進化合物を含む、放射線感受性組成物が提供される。その組成物中には、照射源の波長にその組成物の感度範囲をマッチさせた、放射線−熱化合物(radiation−to−heat compound)が含まれているのが好ましい。   In a first broad aspect of the invention, a radiation sensitive composition is provided comprising at least one aqueous alkali soluble polymer and a development accelerating compound. The composition preferably includes a radiation-to-heat compound that matches the sensitivity range of the composition to the wavelength of the radiation source.

本発明の第2の広い態様においては、ポジ型作動の画像形成可能な素子が提供され、それは、基材の上に、コーティング(そのコーティングには、前述のような組成物を含む)を含む。その画像形成可能な素子は、照射、好ましくは赤外線照射により画像を形成することが可能であり、そして、アルカリ性現像剤水溶液を用いて現像することが可能である。   In a second broad aspect of the invention, a positive working imageable element is provided, which includes a coating (including a composition as described above) on a substrate. . The imageable element is capable of forming an image by irradiation, preferably infrared irradiation, and can be developed using an aqueous alkaline developer solution.

本発明によればさらに、ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体が提供され、それは、親水性リソグラフ印刷表面を有する親水性リソグラフィック基材の上に、コーティング(そのコーティングには、前述のような組成物を含む)を含む。その前駆体は、照射、好ましくは赤外線照射により画像を形成することが可能であり、そして、アルカリ性現像剤水溶液を用いて現像することが可能である。本発明のさらなる態様においては、前述のような前駆体を含むポジ型作動のリソグラフ印刷マスターが提供され、それが画像形成、および現像される。本発明のさらなる態様としては、その前駆体およびマスターを調製するための方法が提供される。   The present invention further provides a positive working lithographic printing precursor comprising a coating on a hydrophilic lithographic substrate having a hydrophilic lithographic printing surface, the coating comprising a composition as described above. Including product). The precursor can form an image by irradiation, preferably infrared irradiation, and can be developed using an aqueous alkaline developer solution. In a further aspect of the invention, there is provided a positive working lithographic printing master comprising a precursor as described above, which is imaged and developed. As a further aspect of the invention, a method is provided for preparing the precursors and masters thereof.

本発明者らは、ポジ型作動の放射線感受性組成物について鋭意研究した結果、アルカリ水溶液可溶性ポリマー化合物と、ある種の現像促進化合物との特定の組合せにすると、所望のレベルの現像性を与えるのに、そのような現像促進化合物が存在しない場合に比較してトータルの照射エネルギーがより少なくてもよいような、ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体を製作することが可能となることを見出した。   As a result of intensive studies on positive working radiation sensitive compositions, the inventors have shown that certain combinations of aqueous alkaline soluble polymer compounds and certain development accelerating compounds provide the desired level of developability. In addition, it has been found that it is possible to produce a positive working lithographic printing precursor that requires less total irradiation energy compared to the absence of such development promoting compounds.

本発明においては、照射源と共に使用するためのポジ型の放射線感受性組成物には、ポリマー成分(A)としての、アルカリ水溶液に溶解させることが可能な1種または複数のポリマー化合物と、成分(B)、すなわち本明細書においては現像促進化合物(B)と呼ぶものとを含む。   In the present invention, the positive-type radiation-sensitive composition for use with an irradiation source includes one or more polymer compounds that can be dissolved in an alkaline aqueous solution as the polymer component (A), and a component ( B), that is, what is referred to herein as a development promoting compound (B).

このポリマー成分(A)は、アルカリ性水溶液中で幾分かの溶解性を有するが、その溶解度が低いのが好ましい。本発明の組成物から形成される放射線感受性層において、そのポリマーは、それ固有の低溶解性によるか、または、たとえば水素結合などによる、それ自体の分子内の各部の相互作用、もしくは組成物に含まれる他の物質との相互作用のためのいずれかにより、溶解性が低い。   This polymer component (A) has some solubility in an alkaline aqueous solution, but preferably has low solubility. In the radiation-sensitive layer formed from the composition of the present invention, the polymer is either due to its inherent low solubility or to the interaction of parts within its own molecule, such as by hydrogen bonding, or to the composition. Low solubility due to any interaction with other substances involved.

本発明のポジ型作動の放射線感受性組成物は、基材の上にコーティングし、乾燥させて放射線感受性の画像形成可能な層を形成させ、それによって、画像形成可能な素子を作ることができる。本発明の好ましい実施態様においては、そのポジ型作動の放射線感受性組成物を親水性リソグラフィック基材の上にコーティングし、乾燥させ、それによって、ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体を形成させる。その画像形成可能な層に光をあてると、それがアルカリ性水溶液により溶解しやすくなる。現像促進化合物(B)を添加することによって(詳細については下記参照)、組成物に所望のレベルの現像性を与える露光に必要なエネルギーが、現像促進化合物(B)を含まないコーティングの場合に比較して、低くなる。照射に暴露されない(したがって、吸収と、照射の熱への転化により加熱されることがない)コーティングの領域は、現像剤への溶解速度における顕著な変化を示さない。実際のところ、現像促進化合物(B)を添加することにより、コーティングおよび乾燥させた組成物のアルカリ性水溶液への溶解性がある程度までは増加するが、それに対して、照射したときのそのコーティングおよび乾燥させた組成物の溶解性の向上の方が、著しく促進される。これにより、照射により形成される画像の現像性が改良される。照射された領域の溶解性は、そのような照射の後いくら時間が経過しても、照射前の値に戻ることはない。   The positive working radiation sensitive composition of the present invention can be coated onto a substrate and dried to form a radiation sensitive imageable layer, thereby creating an imageable element. In a preferred embodiment of the present invention, the positive working radiation sensitive composition is coated onto a hydrophilic lithographic substrate and dried, thereby forming a positive working lithographic printing precursor. When the imageable layer is exposed to light, it is easily dissolved by the alkaline aqueous solution. By adding the development accelerating compound (B) (see below for details), the energy required for exposure to give the composition the desired level of developability is in the case of a coating that does not contain the development accelerating compound (B). Compared to lower. The areas of the coating that are not exposed to radiation (and therefore not heated by absorption and conversion of radiation to heat) do not show a significant change in the dissolution rate in the developer. In fact, the addition of the development accelerating compound (B) increases the solubility of the coated and dried composition in an alkaline aqueous solution to some extent, whereas the coating and drying upon irradiation is increased. The improvement in solubility of the resulting composition is significantly accelerated. Thereby, the developability of the image formed by irradiation is improved. The solubility of the irradiated area does not return to its pre-irradiation value no matter how much time passes after such irradiation.

本発明の目的においては、コーティング手段の溶解速度が上昇するということは、画像形成プロセスにおいて有効な量が増えるということを意味していると、理解されたい。それには、画像形成プロセスにおいて有効な量よりも少ないような増加は含まれない。本発明は、リソグラフィック用途、たとえば従来の画像形成システム、コンピューター製版システム、またはその他直接画像形成素子および用途などにおいて、照射源と共に使用するための、ポジ型の放射線感受性組成物を提供する。それは、露光させるまではその状態で安定であり、優れた取り扱い性を有している。   For purposes of the present invention, increasing the dissolution rate of the coating means should be understood to mean increasing the amount effective in the imaging process. It does not include an increase that is less than an effective amount in the image forming process. The present invention provides a positive radiation sensitive composition for use with an irradiation source in lithographic applications such as conventional imaging systems, computer platemaking systems, or other direct imaging elements and applications. It is stable in that state until it is exposed and has excellent handleability.

米国特許第6,255,033号明細書(レバノン(Levanon)ら)には、フェノール基を有するポリビニルアセタールポリマーが記載されており、さらに、ポリビニルアルコールの上にアセタール化反応によってアルデヒドをグラフトまたは縮合させることによる、その合成法も記載されている。本発明においては、このポリビニルアセタールポリマーを、単独で、あるいは、他の樹脂、たとえば本発明のポリマー成分(A)と組み合わせて使用することができる。米国特許第6,255,033号明細書のすべてを、本明細書に取り入れたものとする。そのポリマーの一般的な構造は次式で表される:   US Pat. No. 6,255,033 (Levanon et al.) Describes polyvinyl acetal polymers having phenolic groups, and further grafts or condenses aldehydes on polyvinyl alcohol by an acetalization reaction. The synthesis method is also described. In the present invention, this polyvinyl acetal polymer can be used alone or in combination with another resin, for example, the polymer component (A) of the present invention. All of US Pat. No. 6,255,033 is incorporated herein. The general structure of the polymer is represented by the following formula:

Figure 2010146013
Figure 2010146013

ここで、R1は−Cn2n+1(ここでn=1〜12)であり、R2は、 Here, R 1 is —C n H 2n + 1 (where n = 1 to 12), and R 2 is

Figure 2010146013
Figure 2010146013

ここで、
4=−OH;
5=−OHまたは−OCH3またはBr−または−O−CH2−C≡CH、そして
6=Br−またはNO2
3=−(CH2t−COOH、−C≡CH、または
here,
R 4 = —OH;
R 5 = —OH or —OCH 3 or Br— or —O—CH 2 —C≡CH, and R 6 = Br— or NO 2 ;
R 3 = — (CH 2 ) t —COOH, —C≡CH, or

Figure 2010146013
Figure 2010146013

ここでR7=COOH、−(CH2t−COOH、−O−(CH2t−COOH、
そして、ここでt=1〜4で、そしてここで、
b=5〜40モル%、好ましくは15〜35モル%
c=10〜60モル%、好ましくは20〜40モル%
d=0〜20モル%、好ましくは0〜10モル%
e=2〜20モル%、好ましくは1〜10モル%、そして
f=5〜50モル%、好ましくは15〜40モル%である。
Where R 7 = COOH, — (CH 2 ) t —COOH, —O— (CH 2 ) t —COOH,
And here t = 1-4, and where
b = 5-40 mol%, preferably 15-35 mol%
c = 10-60 mol%, preferably 20-40 mol%
d = 0 to 20 mol%, preferably 0 to 10 mol%
e = 2 to 20 mol%, preferably 1 to 10 mol%, and f = 5 to 50 mol%, preferably 15 to 40 mol%.

本発明で使用する米国特許第6,255,033号明細書のポリビニルアセタールポリマーは、次のように表すことができる:
(i)その中の反復単位が、酢酸ビニル残基およびビニルアルコール残基、ならびに第1および第2の環状アセタール基を含む、4官能ポリマー、または
(ii)その中の反復単位が、酢酸ビニル残基(moiety,部分)およびビニルアルコール残基(moeity)、ならびに第1、第2および第3の環状アセタール基を含む、5官能ポリマー。3つのアセタール基の全部が、6員環の環状アセタール基である。それらの内の1つは、アルキル基で置換されており、他の1つは、ヒドロキシル−、またはヒドロキシル−およびアルコキシル−、またはヒドロキシル−、およびニトロ−および臭素−基を有する芳香族基で置換されており;そして第3のものは、カルボン酸基、カルボン酸置換のアルキル基、またはカルボン酸置換のアリール基で置換されている。
The polyvinyl acetal polymer of US Pat. No. 6,255,033 used in the present invention can be represented as follows:
(I) a tetrafunctional polymer in which the repeating units comprise vinyl acetate and vinyl alcohol residues and first and second cyclic acetal groups, or (ii) the repeating units therein are vinyl acetate A pentafunctional polymer comprising a residue, a vinyl alcohol residue, and first, second and third cyclic acetal groups. All three acetal groups are 6-membered cyclic acetal groups. One of them is substituted with an alkyl group and the other is substituted with an aromatic group having hydroxyl-, or hydroxyl- and alkoxyl-, or hydroxyl-, and nitro- and bromine-groups. And the third is substituted with a carboxylic acid group, a carboxylic acid substituted alkyl group, or a carboxylic acid substituted aryl group.

本発明において使用されるポリビニルアセタールポリマーの第1の環状アセタール基を調製するために使用できる好適なアルデヒドの例を挙げれば:アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、n−カプロアルデヒド、n−ヘプタアルデヒド、イソブチルアルデヒドおよびイソバレルアルデヒド、それらの混合物などがある。   Examples of suitable aldehydes that can be used to prepare the first cyclic acetal group of the polyvinyl acetal polymer used in the present invention include: acetaldehyde, propionaldehyde, n-butyraldehyde, n-valeraldehyde, n-carbaldehyde. Proaldehyde, n-heptaldehyde, isobutyraldehyde and isovaleraldehyde, mixtures thereof, and the like.

本発明において使用されるポリビニルアセタールポリマーの第2の環状アセタール基を調製するために使用できる好適なアルデヒドの例を挙げれば、2−ヒドロキシベンズアルデヒド、3−ヒドロキシベンズアルデヒド、4−ヒドロキシベンズアルデヒド、2−ヒドロキシ−1−ナフトアルデヒド、2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド、3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシベンズアルデヒド(hydroxybezaldehyde、hydroxybenzaldehyde)、4−オキシプロピニル−3−ヒドロキシベンズアルデヒド、バニリン、イソバニリンおよびシンナムアルデヒド、それらの混合物などである。   Examples of suitable aldehydes that can be used to prepare the second cyclic acetal group of the polyvinyl acetal polymer used in the present invention include 2-hydroxybenzaldehyde, 3-hydroxybenzaldehyde, 4-hydroxybenzaldehyde, 2-hydroxy -1-naphthaldehyde, 2,4-dihydroxybenzaldehyde, 3,5-dibromo-4-hydroxybenzaldehyde (hydroxybenzaldehyde), 4-oxypropynyl-3-hydroxybenzaldehyde, vanillin, isovanillin and cinnamaldehyde, mixtures thereof, and the like It is.

本発明において使用されるポリビニルアセタールポリマーの第3の環状アセタール基を調製するために使用できる好適なアルデヒドの例を挙げれば、グリオキシル酸、2−ホルミルフェノキシ酢酸、3−メトキシ−4−ホルミルフェノキシ酢酸およびプロパルギルアルデヒド、それらの混合物などである。   Examples of suitable aldehydes that can be used to prepare the third cyclic acetal group of the polyvinyl acetal polymer used in the present invention include glyoxylic acid, 2-formylphenoxyacetic acid, 3-methoxy-4-formylphenoxyacetic acid. And propargyl aldehyde, mixtures thereof, and the like.

このポリマーが有利なのは、各種多くの官能基をその中に組み込んで、特定の用途に合わせた性質を与えることができる点にある。長鎖アルキルアルデヒドは、ポリマーの軟化点(Tg)を下げて、ドライフィルムフォトレジストの積層を容易にするために使用することができる。シンナムアルデヒドのような芳香族アルデヒドは、印刷版に使用する組成物の親油性を挙げるために使用することができる。本明細書におけるポリマー成分(A)として使用するポリマー化合物では、重量平均分子量が2,000〜300,000で、その多分散性指数(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10であるのが好ましい。   This polymer is advantageous in that a large number of different functional groups can be incorporated therein to provide properties tailored to a particular application. Long chain alkyl aldehydes can be used to lower the softening point (Tg) of the polymer and facilitate the lamination of dry film photoresists. Aromatic aldehydes such as cinnamaldehyde can be used to increase the lipophilicity of the composition used in the printing plate. The polymer compound used as the polymer component (A) in the present specification has a weight average molecular weight of 2,000 to 300,000 and a polydispersity index (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.1 to 10. Preferably there is.

ポリマー成分(A)として、単一のポリマーをそれだけで使用してもよいし、あるいは、2種以上のポリマーを組み合わせて使用してもよい。その量は、組成物中の全固形分含量の、30〜95重量%、好ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50〜90重量%である。ポリマー成分(A)の添加量が30重量%よりも少ないと、その組成物から作られる画像形成可能な層の耐久性が劣ったものとなる。その添加量が95重量%を超えると、放射線に対する感度が低下する。   As the polymer component (A), a single polymer may be used by itself, or two or more polymers may be used in combination. The amount is 30 to 95% by weight, preferably 40 to 95% by weight, particularly preferably 50 to 90% by weight, of the total solid content in the composition. When the amount of the polymer component (A) added is less than 30% by weight, the durability of the imageable layer made from the composition becomes inferior. When the addition amount exceeds 95% by weight, the sensitivity to radiation decreases.

成分(B)として使用する現像促進化合物は、以下のクラスの化合物のいずれか1種または複数であればよい:
1.ヒドロキシルおよびチオール含有化合物たとえば、アルコール、フェノール、ナフトール、チオールおよびチオフェノール。アルコールには、12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、または4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキル、または7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールを有していてもよい。好適なポリオールの1例は、ジメチコーンコポリオールSF1488である。1価フェノールの1例は、ノニルフェノールである。2価フェノールの例としては、レソルシノールおよびアルキルレソルシノール、たとえば4−ヘキシルレソルシノールおよびn−ドデシルレソルシノールがある。3価フェノールの例としては、ピロガロール、フロログルシノール、1,2,4−ベンゼントリオール、およびそれらのアルキルまたはフルオロアルキル誘導体が挙げられる。好適なチオール含有化合物の1例は、1−フェニル−1H−テトラゾール−5−チオールである。ナフトールの1例は、1−ナフトールである。
The development accelerating compound used as component (B) may be any one or more of the following classes of compounds:
1. Hydroxyl and thiol-containing compounds such as alcohols, phenols, naphthols, thiols and thiophenols. The alcohol may have an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, or a fluoroalkyl containing 4 to 60 carbon atoms, or a fluoroalkylaryl containing 7 to 60 carbon atoms. One example of a suitable polyol is dimethicone copolyol SF1488. One example of a monohydric phenol is nonylphenol. Examples of dihydric phenols are resorcinol and alkylresorcinol, such as 4-hexylresorcinol and n-dodecylresorcinol. Examples of trihydric phenols include pyrogallol, phloroglucinol, 1,2,4-benzenetriol, and their alkyl or fluoroalkyl derivatives. One example of a suitable thiol-containing compound is 1-phenyl-1H-tetrazole-5-thiol. One example of naphthol is 1-naphthol.

2.アニオン性リチウム塩で、カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1つ。有機酸のリチウム塩の例を挙げれば、3−(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)プロピオン酸リチウムおよび3−[(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)チオ]プロピオン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、およびペルフルオロオクチルエチルスルホン酸リチウムが挙げられる。 2. Anionic lithium salt, one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite. Examples of lithium salts of organic acids include lithium 3- (1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) propionate and lithium 3-[(1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) thio] propionate, Examples include lithium trifluoromethanesulfonate and lithium perfluorooctylethylsulfonate.

3.好ましくは遊離のヒドロキシル基を有する、リン含有酸のエステルおよびアミド。リン含有エステルの例は、P(OH)(OR)2、P(OH)2(OR)、P(OH)2[O−R−N(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)2[O−R−NH(CH2−CH2−OH)2]の構造を有するもので、ここでRは、アルキル、アリール、アルキルアリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらの組合せであり、またここでRラジカルにはフッ素原子が含まれていてもよい。その他好適な化合物としては、アルキルホスホン酸、R−P(O)(OH)2、さらにはそれらのエステルおよび塩などが挙げられるが、ここでRは上に定義したものである。好適なリン含有アミドの例としては、P(OH)(ONHR)2、P(OH)2(ONHR)、P(OR)2[O−NH(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)[O−NH(CH2−CH2−OH)22などが挙げられるが、ここでRは、アルキル、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドおよびそれらの組合せであり、またここでRラジカルにはフッ素原子が含まれていてもよい。 3. Esters and amides of phosphorus-containing acids, preferably having a free hydroxyl group. Examples of phosphorus-containing esters are P (OH) (OR) 2 , P (OH) 2 (OR), P (OH) 2 [O—R—N (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P ( OR) 2 [O—R—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], wherein R is alkyl, aryl, alkylaryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide, or combinations thereof In addition, here, the R radical may contain a fluorine atom. Other suitable compounds include alkylphosphonic acids, R—P (O) (OH) 2 , and esters and salts thereof, where R is as defined above. Examples of suitable phosphorus-containing amides include P (OH) (ONHR) 2 , P (OH) 2 (ONHR), P (OR) 2 [O—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P (OR) [O—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ] 2 and the like, where R is alkyl, aryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide, and combinations thereof, where R The radical may contain a fluorine atom.

4.遊離のヒドロキシル基を含むポリシロキサン。その遊離のヒドロキシル基が末端にあるのが好ましい。好適な化合物の例としては、R[OSi(OCH32n−Si(OCH3)(OH)2の構造のものが挙げられるが、ここでRは、アルキル(alky、alkyl)、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド基、またはそれらの組合せで、nは2〜1000である。 4). Polysiloxane containing free hydroxyl groups. The free hydroxyl group is preferably terminal. Examples of suitable compounds include those of the structure R [OSi (OCH 3 ) 2 ] n —Si (OCH 3 ) (OH) 2 , where R is alkyl (alkyl), aryl , Polyethylene oxide, polypropylene oxide groups, or combinations thereof, n is between 2 and 1000.

5.好ましくは遊離のヒドロキシル基を含む、リン含有酸の4級アンモニウム塩。ヒドロキシル基を含む4級アンモニウム塩の1例は、ペルフルオロアルキル置換ポリエチレンオキシド亜リン酸のジエタノールアミン塩である。 5. A quaternary ammonium salt of a phosphorus-containing acid, preferably containing a free hydroxyl group. An example of a quaternary ammonium salt containing a hydroxyl group is the diethanolamine salt of perfluoroalkyl-substituted polyethylene oxide phosphorous acid.

6.アゾ官能基−N=N−を含む化合物。
このタイプの化合物の例としては以下のようなものがある:
・アゾニトリルたとえば、2−[(1−シアノ−1−メチル)アゾ]ホルムアミド、
・アゾアミド化合物たとえば、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド)、
・アゾアミジンおよび環状アゾアミジン化合物たとえば、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロリド、
・その他のアゾ化合物たとえば、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)。
6). A compound containing an azo functional group -N = N-.
Examples of this type of compound include:
-Azonitrile, for example 2-[(1-cyano-1-methyl) azo] formamide,
Azoamide compounds such as 2,2′-azobis (2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxyethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide),
Azoamidine and cyclic azoamidine compounds such as 2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride,
-Other azo compounds such as 2,2'-azobis (2-methylpropionamidooxime).

7.以下の基を含む直鎖状および環状化合物。 7). Linear and cyclic compounds containing the following groups:

Figure 2010146013
Figure 2010146013

直鎖状化合物の例としては下記のものが挙げられる: Examples of linear compounds include the following:

Figure 2010146013
Figure 2010146013

ここで
10=CH3−C64−SO2−またはC65−SO2−、そして
11、R12=−Cn2n+1(ここでn=1〜20)、および
ここで、R1とR2は、以下の組合せの1つとして存在する:
8=Hで、R9が次の内の1つ、C65−SO2−、CH3−C64−SO2−、−SO2−C64−O−C64−SO2−NH−NH2、および−SO2−C63(CH3)−O−C63(CH3)−SO2−NH−NH2、ならびに
8=−CONH2で、R9が、C65−SO2−およびCH3−C64−SO2−の内の1つ。
環状化合物の例としては、ベンゾトリアゾール、5−フェニル−1H−テトラゾール、および1−フェニル−1H−テトラゾール−5−チオールが挙げられる。
上述の化合物の内のいくつかは発泡剤としても使用される。
Where R 10 = CH 3 —C 6 H 4 —SO 2 — or C 6 H 5 —SO 2 —, and R 11 , R 12 = —C n H 2n + 1 (where n = 1 to 20), And where R 1 and R 2 are present as one of the following combinations:
R 8 = H and R 9 is one of the following: C 6 H 5 —SO 2 —, CH 3 —C 6 H 4 —SO 2 —, —SO 2 —C 6 H 4 —O—C 6 H 4 —SO 2 —NH—NH 2 , and —SO 2 —C 6 H 3 (CH 3 ) —O—C 6 H 3 (CH 3 ) —SO 2 —NH—NH 2 , and R 8 = —CONH 2 and R 9 is one of C 6 H 5 —SO 2 — and CH 3 —C 6 H 4 —SO 2 —.
Examples of cyclic compounds include benzotriazole, 5-phenyl-1H-tetrazole, and 1-phenyl-1H-tetrazole-5-thiol.
Some of the above compounds are also used as blowing agents.

8.以下の構造を有する化合物。 8). A compound having the following structure:

Figure 2010146013
Figure 2010146013

ここでXは、−S−、S=O、C=O、C−O(NH)またはC=O(O)の内の1つであり、ここでR13は、Hであるかまたは、C1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eで、ここでEは、次式で与えられる。 Where X is one of -S-, S = O, C = O, C-O (NH) or C = O (O), wherein R 13 is H or C 1 -C 12 alkyl, benzyl or structure E, where E is given by:

Figure 2010146013
Figure 2010146013

そしてここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21は、Br、Cl、F、NO2、HまたはOHの内の1つであってよい。
そのような化合物の例としては、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−ジフェニルスルフィドおよび2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−ジフェニルスルホキシドが挙げられる。
And here, R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of Br, Cl, F, NO 2 , H or OH. .
Examples of such compounds include 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxy-diphenyl sulfide and 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxy-diphenyl sulfoxide.

9.置換芳香族アミド、酸およびそれらのエステル、たとえば、2,4−ジクロロベンズアミド、3−ニトロベンズアミド、2−ニトロ安息香酸、3−ニトロ安息香酸、2,4−ジニトロ安息香酸、2,4−ジクロロ安息香酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、サリチル酸メチル、サリチル酸フェニル、4−ヒドロキシ安息香酸メチル(メチル−4−ヒドロキシ安息香酸塩)、4−ヒドロキシ安息香酸ブチルなど。 9. Substituted aromatic amides, acids and their esters such as 2,4-dichlorobenzamide, 3-nitrobenzamide, 2-nitrobenzoic acid, 3-nitrobenzoic acid, 2,4-dinitrobenzoic acid, 2,4-dichloro Benzoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, methyl salicylate, phenyl salicylate, methyl 4-hydroxybenzoate (methyl-4-hydroxybenzoate), butyl 4-hydroxybenzoate, etc. .

10.スルホンたとえば、ジメチルスルホン。 10. Sulfone, for example dimethyl sulfone.

本発明の組成物においてレーザーエネルギーの光吸収性を与えるためには、入射された放射線、好ましくは赤外線照射を吸収し、それを熱に転化させることが可能な、放射線−熱転化用化合物(C)が、コーティング組成物の中に含まれているのが好ましい。本発明の感熱性組成物に適した放射線−熱転化用化合物は、広い範囲の有機および無機顔料、たとえばカーボンブラック、フタロシアニンまたは金属酸化物などから選択することができる。緑色顔料のヘリオゲン・グリーン(Heliogen Green)D8730、D9360、およびファナル・グリーン(Fanal Green)D8330(BASF製);プレディゾール(Predisol)64H−CAB678(サン・ケミカルズ(Sun Chemicals)製)、および黒色顔料のプレディゾール(Predisol)CAB2604、プレディゾール(Predisol)N1203、プレディゾール・ブラック(Predisol Black)CB−C9558(サン・ケミカルズ・コーポレーション(Sun Chemicals Corp.)製)などは、有効な熱吸収性顔料の例であるが、近赤外領域に吸収を有するその他のタイプの物質も当業者には公知である。放射線−熱転化用化合物として使用するのに好適な赤外線吸収性物質は、700nmよりも長波長、たとえば約700〜1300nmに吸収を有するもので、近赤外(約700〜1000nm)吸収性物質が一般に使用される。   In order to provide light absorption of laser energy in the composition of the present invention, a radiation-to-heat conversion compound (C) capable of absorbing incident radiation, preferably infrared radiation, and converting it to heat. ) Is preferably included in the coating composition. The radiation-to-heat conversion compound suitable for the heat-sensitive composition of the present invention can be selected from a wide range of organic and inorganic pigments such as carbon black, phthalocyanine or metal oxides. Green pigments Heliogen Green D8730, D9360, and Fanal Green D8330 (manufactured by BASF); Predisol 64H-CAB678 (manufactured by Sun Chemicals), and black pigment Predisol CAB2604, Predisol N1203, Predisol Black CB-C9558 (manufactured by Sun Chemicals Corp.) and the like are effective heat absorbing pigments. By way of example, other types of materials having absorption in the near infrared region are known to those skilled in the art. Infrared absorbing materials suitable for use as radiation-to-heat conversion compounds are those having absorption at wavelengths longer than 700 nm, for example about 700-1300 nm, where near infrared (about 700-1000 nm) absorbing materials are Generally used.

赤外線レーザー感受性の組成物として使用できる染料は、各種公知の赤外染料である。赤外光または近赤外光を吸収する染料の具体例を挙げれば、たとえば、シアニン染料(特開昭58−125246号公報、特開昭59−84356号公報、特開昭59−202829号公報、および特開昭60−78787号公報に開示);メチン染料(特開昭58−173696号公報、特開昭58−181690号公報、および特開昭58−194595号公報に開示);ナフトキノン染料(特開昭58−112793号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭59−48187号公報、特開昭59−73996号公報、特開昭60−52940号公報および特開昭60−63744号公報に開示);スクアリリウム着色剤(特開昭58−112792号公報に開示);置換アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩(米国特許第3,881,924号明細書に記載);トリメチンチアピリリウム塩(特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)に記載);ピリリウム系化合物(特開昭58−181051号公報、特開昭58−220143号公報、特開昭59−41363号公報、特開昭59−84248号公報、特開昭59−84249号公報、特開昭59−146063号公報、および特開昭59−146061号公報に記載);シアニン着色剤(特開昭59−216146号公報に記載);ペンタメチンチオピリリウム塩(米国特許第4,283,475号明細書に記載);およびピリリウム化合物、エポライト(Epolight)III−178、エポライト(Epolight)III−130およびエポライト(Epolight)III−125(特公平5−13514号公報および特公平5−19702号公報に記載)、およびシアニン染料(英国特許第434,875号明細書に記載)などがある。   The dyes that can be used as the infrared laser-sensitive composition are various known infrared dyes. Specific examples of dyes that absorb infrared light or near infrared light include cyanine dyes (Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-125246, 59-84356, and 59-202829). , And disclosed in JP-A-60-78787); methine dyes (disclosed in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, and JP-A-58-194595); naphthoquinone dyes (Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-112793, 58-224793, 59-48187, 59-73996, 60-52940, and 60) Disclosed in JP-A-63744); squarylium colorant (disclosed in JP-A-58-112792); substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt (US Pat. No. 3) 881,924); Trimethine thiapyrylium salt (described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169)); 181051, JP 58-220143, JP 59-41363, JP 59-84248, JP 59-84249, JP 59-146063, and JP-A-59-146061); cyanine colorant (described in JP-A-59-216146); pentamethine thiopyrylium salt (described in US Pat. No. 4,283,475); And pyrylium compounds, Epolite III-178, Epolite III-130 and Epolite (Epol) ght) III-125 (described in KOKOKU 5-13514 and JP fair 5-19702 JP), and cyanine dyes (described in British Patent No. 434,875), and the like.

顔料または染料は、印刷版のための放射線感受性層やその他の組成物、たとえばエッチングレジストの中に、その印刷版のための原料における全固形分を基準にして、0.01〜30重量%、好ましくは0.1〜10重量%、特に好ましくは、染料の場合で0.5〜10重量%、顔料の場合で3〜13重量%の量で添加するのがよい。顔料または染料の含量が0.01重量%よりも少ないと、感度が低下する。その量が30重量%よりも多いと、感光性層の均質性が失われ、画像形成可能な層の耐久性やその他の性質たとえばエッチング抵抗性が低下する。   The pigment or dye is contained in a radiation sensitive layer or other composition for the printing plate, such as an etching resist, in an amount of 0.01 to 30% by weight, based on the total solids in the raw material for the printing plate, The amount is preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight in the case of dyes and 3 to 13% by weight in the case of pigments. When the pigment or dye content is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered. If the amount is more than 30% by weight, the homogeneity of the photosensitive layer is lost, and the durability and other properties of the imageable layer such as etching resistance are lowered.

本発明のさらなる実施態様においては、本発明のポジ型放射線感受性媒体は、放射線−熱転化用化合物(C)無しで調製される。その放射線感受性媒体は、転化用化合物(C)を含む層とは別であるが、すぐ近傍にある画像形成可能な層の中のポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体の中に組み入れることができる。放射線による画像形成が可能な媒体を含む画像形成可能な層の上に、転化用化合物(C)を含む層をコーティングすることも可能ではあるが、転化用化合物(C)を含む層を、画像形成可能な層と親水性リソグラフィック基材との間に挟み込むように配置するのが好ましいが、ただし、その画像形成可能な層は、画像形成のために使用する照射に対しては透明なものとする。そのような組合せ層構造に光をあてると、転化用化合物(C)を含む層が、その照射された領域で熱を発生し、次いでその熱が、隣接している、放射線感受性媒体を含む画像形成可能な層に像様に転写される。するとその放射線感受性媒体は、その像様に加熱された領域では、アルカリ性水溶液により溶けやすくなる。その結果、成分(B)を含まないコーティングの場合に比較すると、所望のレベルの現像性を得るために、組成物を暴露するのに必要なエネルギーが少なくてすむ。本明細書において使用するとき、「親水性リソグラフィック基材」という用語は、その少なくとも1つの表面が親水性で、そのため、水や水性媒体、たとえば湿し水を保持することが可能となっている、材料の基板またはシートのことを言う。   In a further embodiment of the invention, the positive radiation-sensitive medium of the invention is prepared without the radiation-to-heat conversion compound (C). The radiation-sensitive medium is separate from the layer containing the converting compound (C) but can be incorporated into a positive working lithographic printing precursor in an immediately imageable layer. Although it is possible to coat the layer containing the conversion compound (C) on the imageable layer containing the medium capable of being imaged by radiation, the layer containing the conversion compound (C) is imaged. It is preferred to be placed between the formable layer and the hydrophilic lithographic substrate, provided that the imageable layer is transparent to the radiation used for image formation. And When light is applied to such a combination layer structure, the layer containing the conversion compound (C) generates heat in the irradiated area, and then the heat contains the adjacent radiation-sensitive medium. Imagewise transfer to formable layer. Then, the radiation sensitive medium is easily dissolved by the alkaline aqueous solution in the image-heated region. As a result, less energy is required to expose the composition to obtain the desired level of developability as compared to the coating without component (B). As used herein, the term “hydrophilic lithographic substrate” means that at least one surface thereof is hydrophilic so that it can retain water or an aqueous medium, such as fountain solution. Refers to a substrate or sheet of material.

ポリマー(A)と赤外線吸収性化合物が別々である代わりに、そのポリマーに赤外線吸収性物質が結合されているようなポリマーを得ることも可能である。それらの物質の例は、米国特許第6,124,425号明細書に記載されている。   Instead of the polymer (A) and the infrared absorbing compound being separate, it is also possible to obtain a polymer in which an infrared absorbing substance is bound to the polymer. Examples of these materials are described in US Pat. No. 6,124,425.

場合によっては、アルカリ性水溶液へのポリマーの溶解性を抑制する化合物(本明細書では「溶解抑制剤」と呼ぶ)を、コーティング組成物中に加えることもできる。そのような化合物としては、染料、特に赤外染料たとえばADS830A染料、(CAS#134127−48−3、カナダ国モントリオール(Montreal,CANADA)のアメリカン・ダイ・ソース(American Dye Source)製)、およびある種の画像着色剤、たとえばビクトリア・ピュア・ブルー・BO(Victoria Pure Blue BO)(ベーシック・ブルー、CAS#2390−60−5)などが挙げられるが、これらに限定される訳ではない。ポリマーの固有の溶解性が比較的高いような場合には、そのような化合物を使用するのが好ましい。   In some cases, a compound that inhibits the solubility of the polymer in an alkaline aqueous solution (referred to herein as a “dissolution inhibitor”) can also be added to the coating composition. Such compounds include dyes, particularly infrared dyes such as ADS830A dyes (CAS # 134127-48-3, manufactured by American Dye Source, Montreal, Canada), and the like. Examples of image colorants include, but are not limited to, Victoria Pure Blue BO (Basic Blue, CAS # 2390-60-5). It is preferred to use such compounds where the inherent solubility of the polymer is relatively high.

より広い加工条件下における加工安定性を達成するためには、場合によっては、本発明の組成物の中に界面活性剤を加えてもよい。好適なノニオン性界面活性剤は、特開昭62−251740号公報および特開平3−208514号公報に、そして両性界面活性剤は、特開昭第59−121044号公報および特開平4−13149号公報に記載がある。ノニオン性または両性界面活性剤の量は、組成物の材料の好ましくは0.05〜10重量パーセント、より好ましくは0.1〜5重量%である。   In order to achieve processing stability under wider processing conditions, a surfactant may optionally be added to the composition of the present invention. Suitable nonionic surfactants are described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514, and amphoteric surfactants are described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. There is description in the gazette. The amount of nonionic or amphoteric surfactant is preferably 0.05 to 10 weight percent, more preferably 0.1 to 5 weight percent of the material of the composition.

塗布性を改良するための界面活性剤、たとえば、ゾニル(Zonyl)(デュポン(DuPont)製)またはFC−430もしくはFC−431(ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー(Minnesota Mining and Manufacturing Co.)製)のような各種フッ素含有界面活性剤、またはそれとは別の、ポリシロキサンたとえば、Byk333(Byk・ヘミー(Byk Chemie)製)などを赤外線感光層に添加してもよい。添加する界面活性剤の量は、組成物の全材料の好ましくは0.01〜1重量%、より好ましくは0.05〜0.5重量%である。   Surfactants to improve coatability, such as Zonyl (DuPont) or FC-430 or FC-431 (Minnesota Mining and Manufacturing Co.) Various fluorine-containing surfactants such as manufactured by (.)), Or polysiloxane such as Byk333 (manufactured by Byk Chemie) may be added to the infrared-sensitive layer. The amount of surfactant added is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight of the total material of the composition.

場合によっては、本発明の組成物の中に画像着色剤を加えて、インキングの前に露光させた印刷版の上に目に見える画像が得られるようにすることもできる。画像着色剤としては、上述の塩形成性有機染料以外の染料を使用してもよい。好適な染料の例としては、塩形成性有機染料も含めて、油溶性の染料および塩基性染料である。具体例を挙げれば、オイル・イエロー#101、オイル・イエロー#103、オイル・ピンク#312、オイル・グリーンBG、オイル・ブルーBOS、オイル・ブルー#603、オイル・ブラックBY、オイル・ブラックBS、オイル・ブラックT−505(これらはすべて、オリエンタル・ケミカル・インダストリーズ・カンパニー・リミテッド(Oriental Chemical Industries Co.,Ltd.)製)、ビクトリア・ピュア・ブルー・BO(Victoria Pure Blue BO)、ベーシック・ブルーのテトラフルオロホウ酸塩、などがある。具体例としては、ビクトリア・ピュア・ブルー・BO(Victoria Pure Blue BO)7、クリスタル・バイオレット(CI42555)、メチル・バイオレット(CI42535)、エチル・バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイト・グリーン(CI42000)、メチレン・ブルー(CI52015)などが挙げられる。特開昭62−293247号公報に記載されている染料が特に好ましい。染料は、印刷版のための材料の中に、組成物の材料の全固形分含量の、好ましくは0.01〜10重量%、より好ましくは0.5〜8重量%の量で添加するのがよい。   In some cases, an image colorant can be added to the composition of the present invention to provide a visible image on the printing plate exposed prior to inking. As the image colorant, dyes other than the above-mentioned salt-forming organic dyes may be used. Examples of suitable dyes are oil-soluble dyes and basic dyes, including salt-forming organic dyes. Specific examples include Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all of these from Oriental Chemical Industries Co., Ltd.), Victoria Pure Blue BO, Basic Blue Tetrafluoroborate, etc. Specific examples include Victoria Pure Blue BO (7), Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000). And methylene blue (CI52015). The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. The dye is added to the material for the printing plate in an amount of preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 8% by weight of the total solids content of the composition material. Is good.

本発明の組成物のための材料における必要に応じて、形成される膜に柔軟性を与えるための可塑剤を添加することもできる。可塑剤としては、たとえば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーまたはポリマーなど、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレエート、モノグリセリドステアレート、ポリオキシエチレン−ノニルフェニルエーテルアルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン・塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン(たとえば、第一工業製薬(株)(Dai−ichi Kogyo Co.,Ltd.)製の商品名アモゲン(Amogen)などが挙げられる。   A plasticizer for imparting flexibility to the formed film can be added as required in the material for the composition of the present invention. Examples of the plasticizer include sorbitan such as butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, an oligomer or polymer of acrylic acid or methacrylic acid, etc. Tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, monoglyceride stearate, polyoxyethylene-nonylphenyl ether alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N -Hydroxyethylimidazolium betaine, N-tetradecyl-N, N-betaine (for example, Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). Ltd.) under the trade name Amogen (Amogen) and the like.

場合によっては、好適な接着促進剤を本発明の組成物に加えてもよい。好適なものとしては、二酸、トリアゾール、チアゾールおよびアルキン含有原料が挙げられる。接着促進剤の使用量は、0.01〜3重量%である。配合のコストを下げるために、その他のポリマーを加えてもよい。その例としては、ウレタン樹脂やケトン樹脂が挙げられる。それらの原料の量は、固形分の0.5%〜25%の間、好ましくは2%〜20重量%の間で変化させることができる。   In some cases, suitable adhesion promoters may be added to the compositions of the present invention. Suitable examples include diacid, triazole, thiazole and alkyne-containing raw materials. The usage-amount of an adhesion promoter is 0.01 to 3 weight%. Other polymers may be added to reduce compounding costs. Examples thereof include urethane resins and ketone resins. The amount of these raw materials can vary between 0.5% and 25% solids, preferably between 2% and 20% by weight.

一般に、ポリマー成分(A)の成分(B)に対する組成比は、好ましくは99/1から60/40までである。現像促進化合物(B)は、コーティングの放射線暴露を受けた領域において、コーティングの現像剤に対する感度を顕著に向上させるのに有効な量で、すなわち、画像形成プロセスにおいて有用な量だけ増やして、存在していなければならない。成分(B)の量がこの下限よりも少ないと、成分(B)はそのコーティングの感度を顕著に改良することができない。成分(B)の量が、上述の上限よりも多いと、画像が形成されていないコーティング部分の現像剤に対する許容度が顕著に低下する。したがって、いずれも場合も好ましくない。成分(B)のより好ましい範囲は、コーティング組成物の全固形分に対する重量%で測定して、1.5%〜20%であり、最も好ましい範囲は5%〜15%である。   In general, the composition ratio of polymer component (A) to component (B) is preferably from 99/1 to 60/40. The development accelerator compound (B) is present in an amount effective to significantly improve the sensitivity of the coating to the developer, i.e., an amount useful in the imaging process, in the area of the coating exposed to radiation. Must be. If the amount of component (B) is less than this lower limit, component (B) cannot significantly improve the sensitivity of the coating. When the amount of the component (B) is larger than the above upper limit, the tolerance of the coating portion where an image is not formed with respect to the developer is significantly reduced. Therefore, neither case is preferable. A more preferred range of component (B) is 1.5% to 20%, and the most preferred range is 5% to 15%, as measured by weight percent relative to the total solids of the coating composition.

本発明のポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体を製造するには、上述の個々の成分を適切な溶媒に溶解させ、必要があれば濾過を行い、液体の状態で親水性リソグラフィック基材の上に公知の方法を用いて塗布するが、そのような塗布方法としては、たとえば、バーコーターコーティング、スピンコーティング、ローテーティングコーティング、スプレーコーティング、フローコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、ブレードコーティング、ロールコーティングなどがある。適切な溶媒としては、塩化メチレン、二塩化エチレン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、酢酸2−メトキシエチル、酢酸1−メトキシ−2−プロピル、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、およびトルエンなどが挙げられる。単一溶媒を単独で使用してもよいし、あるいは2種以上の溶媒を組み合わせて使用してもよい。溶媒中の、上述の成分(添加剤も含めた固形成分のすべて)の濃度は、1〜50重量%とするのが好ましい。塗布および乾燥させた後に得られた親水性リソグラフィック基材上の(固形分の)塗布量は、用途によって異なるが、一般には用途に従って、0.3〜12.0グラム/平方メートルとするのが好ましい。親水性リソグラフィック基材に対してより少ない量を塗布して、見かけ上より高い感度とすることも可能ではあるが、その材料の膜特性が低下する。   To produce a positive working lithographic printing precursor of the present invention, the individual components described above are dissolved in a suitable solvent, filtered if necessary, and in a liquid state on a hydrophilic lithographic substrate. For example, bar coating, spin coating, rotating coating, spray coating, flow coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, etc. There is. Suitable solvents include methylene chloride, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate. , Dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, and toluene. A single solvent may be used alone, or two or more solvents may be used in combination. The concentration of the above-described components (all solid components including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) on the hydrophilic lithographic substrate obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally 0.3-12.0 grams / square meter depending on the application. preferable. Although it is possible to apply a smaller amount to the hydrophilic lithographic substrate to make it appear to have a higher sensitivity, the film properties of the material are reduced.

本発明の放射線感受性組成物は、リソグラフ印刷版のためのプリント回路基板、およびレーザー直接画像形成(LDI)も含めた(これに限定される訳ではない)、その他の直接画像形成に好適な感熱性素子を製造するために有用である。リソグラフ印刷の場合、本発明のポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体には、親水性リソグラフィック基材を用いるが、それは、一般的には、基材の上に独立した親水性層を有していて、それにより、前駆体を現像する際に、その親水性コーティング層が残り、それが、印刷プロセスにおいて水性媒体たとえば湿し水を保持するために使用されるようにすることができる。そのような場合、その上に親水性層をコーティングする基材の選択の幅が非常に広くなる。別な方法として、その親水性リソグラフィック基材は、単一の素材であってもよく、その素材は、典型的にはアルミニウムでよいが、親水性の表面特性を保証するような処理をすることができる。   The radiation sensitive compositions of the present invention are suitable for other direct imaging including, but not limited to, printed circuit boards for lithographic printing plates and laser direct imaging (LDI). It is useful for manufacturing a conductive element. In the case of lithographic printing, the positive working lithographic printing precursor of the present invention uses a hydrophilic lithographic substrate, which generally has a separate hydrophilic layer on the substrate. Thus, when the precursor is developed, the hydrophilic coating layer remains and can be used to retain an aqueous medium such as fountain solution in the printing process. In such a case, the range of choice of the substrate on which the hydrophilic layer is coated becomes very wide. Alternatively, the hydrophilic lithographic substrate may be a single material, which is typically aluminum but is treated to ensure hydrophilic surface properties. be able to.

好適な基材を挙げれば、たとえば、紙;その上にポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどのプラスチックを積層した紙;金属板たとえばアルミニウム、陽極処理アルミニウム、亜鉛または銅板;銅箔、リバース処理銅箔、ドラムサイド処理銅箔、およびプラスチック積層物の上を被覆した二重処理銅箔で、そのプラスチックフィルムは、たとえば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートブチレート、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、またはポリビニルアセタールからできているもの;上述の金属をその上に蒸着または積層させた紙またはプラスチックフィルム;ガラスまたは金属もしくは金属酸化物を蒸着させたガラス、などがある。   Suitable substrates include, for example, paper; paper on which plastics such as polyethylene, polypropylene, and polystyrene are laminated; metal plate such as aluminum, anodized aluminum, zinc or copper plate; copper foil, reverse-treated copper foil, drum Side-treated copper foil, and double-treated copper foil coated on a plastic laminate, the plastic film is, for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, nitric acid Made of cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, or polyvinyl acetal; paper or plastic film on which the above metals are deposited or laminated Lum; glass deposited glass or metal or metal oxide, and the like.

印刷版のための本発明の実施態様における基材としては、ポリエステルフィルムまたはアルミニウム板が好ましく、特にアルミニウム板が好ましいが、その理由は、寸法的に安定であり、コストが比較的に安いからである。その上にアルミニウムを積層または蒸着させたプラスチックフィルムも使用することができる。本発明に適用するアルミニウム板の組成には、制限は特にはなく、そのアルミニウム板は、たとえば粗面化、陽極酸化および陽極酸化後の処理など、各種の公知の方法に従って製造されていてよい。本発明の実施態様において使用されるアルミニウム板の厚みは、0.1〜0.6mm、好ましくは0.15〜0.5mmである。   The substrate in the embodiment of the present invention for the printing plate is preferably a polyester film or an aluminum plate, particularly preferably an aluminum plate, because it is dimensionally stable and relatively inexpensive. is there. A plastic film in which aluminum is laminated or vapor-deposited can also be used. There is no restriction | limiting in particular in the composition of the aluminum plate applied to this invention, The aluminum plate may be manufactured in accordance with various well-known methods, such as roughening, anodizing, and the process after anodizing, for example. The thickness of the aluminum plate used in the embodiment of the present invention is 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15 to 0.5 mm.

上記のようにして製造されたポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体は通常、画像露光および現像プロセスにかけられる。好ましい実施態様においては、親水性リソグラフィック基材(たとえばアルミニウム板)の上に上述のような放射線感受性組成物をコーティングとして塗布し、リソグラフ印刷前駆体を形成させる。その前駆体は、(たとえば赤外線照射に対する像様露光によって)、画像形成することができ、その画像形成された前駆体を通常のアルカリ性現像剤水溶液を使用することにより現像して、ポジ型作動のリソグラフ印刷版を形成させる。その前駆体が、画像形成可能な層と転化用物質を含む層とを別々に有している場合には、その現像プロセスでは両方の層を除去し、その下にある親水性表面を露出させる。   The positive working lithographic printing precursor produced as described above is typically subjected to an image exposure and development process. In a preferred embodiment, a radiation sensitive composition as described above is applied as a coating on a hydrophilic lithographic substrate (eg, an aluminum plate) to form a lithographic printing precursor. The precursor can be imaged (eg, by imagewise exposure to infrared radiation), and the imaged precursor can be developed by using a normal aqueous alkaline developer solution for positive working. A lithographic printing plate is formed. If the precursor has a separate imageable layer and a layer containing a conversion material, the development process removes both layers and exposes the underlying hydrophilic surface. .

本発明の好ましい実施態様においては、像様露光において使用する活性光線ビームのための光源は、近赤外波長領域から赤外波長領域の範囲内に発光波長を有する光を発生する光源であるのが好ましく、固体レーザーまたは半導体レーザーであれば、特に好ましい。本発明の放射線感受性媒体をベースとするポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体は、好ましくは700nm〜1300nm、より好ましくは700nm〜1000nmの間の波長の照射に対する感度が高いのが好ましい。   In a preferred embodiment of the present invention, the light source for the actinic ray beam used in the imagewise exposure is a light source that generates light having an emission wavelength in the range from the near infrared wavelength region to the infrared wavelength region. Is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable. The positive working lithographic printing precursor based on the radiation sensitive medium of the present invention is preferably highly sensitive to irradiation with wavelengths between 700 nm and 1300 nm, more preferably between 700 nm and 1000 nm.

本発明のポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体のための現像溶液および補充溶液は、通常公知のアルカリ水溶液でよく、たとえば、メタケイ酸ナトリウム、三級リン酸カリウム、二級リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド;および有機のアルカリ剤、たとえばアルキルアミン、アルキルエタノールアミンもしくはジアミンなどが挙げられる。このアルカリ剤は単独で使用してもよいし、あるいは、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The developer solution and replenisher solution for the positive working lithographic printing precursor of the present invention may be a commonly known alkaline aqueous solution such as sodium metasilicate, tertiary potassium phosphate, secondary ammonium phosphate, sodium carbonate, And potassium borate, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide, tetraalkylammonium hydroxide; and organic alkaline agents such as alkylamines, alkylethanolamines or diamines. This alkaline agent may be used alone or in combination of two or more.

これらの内で特に好ましい現像溶液は、シリケートおよび水酸化物の水溶液である。自動現像機を用いて現像をする場合、その現像溶液の塩基性よりも高い塩基性を有する水溶液(補充溶液)をその現像溶液に添加し、それによって、長時間にわたって、現像タンク内の現像溶液を入れ替えずに、多数の印刷版や印刷片を処理することができるようにすることは、知られている。本発明の実施態様においても、そのような補充方式を使用するのが好ましい。場合によっては、各種の界面活性剤または有機溶媒を現像溶液および補充溶液に添加することで、現像性を加速または調節したり、現像スカムの分散性を改良したり、および/または印刷版の上の画像部分のインキに対する親和性を改良したりすることができる。ポジ型の印刷版の現像剤に一般的に使用されているその他の薬剤は、この現像剤溶液においても使用することができる。   Of these, particularly preferred developing solutions are aqueous solutions of silicates and hydroxides. When developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a basicity higher than the basicity of the developing solution (replenishing solution) is added to the developing solution, thereby developing the developing solution in the developing tank over a long period of time. It is known to be able to process a large number of printing plates and printed pieces without replacing. It is preferable to use such a replenishment method also in the embodiment of the present invention. In some cases, various surfactants or organic solvents may be added to the developer and replenisher solutions to accelerate or adjust developability, improve the dispersibility of the developer scum, and / or on the printing plate. The affinity of the image portion for the ink can be improved. Other agents commonly used in positive printing plate developers can also be used in this developer solution.

この組成物は通常、水を用いて後処理されるが、場合によっては、たとえば界面活性剤が含まれていてもよい。印刷版の場合には、アラビアゴムまたはデンプン誘導体を含む減感溶液を使用する。本発明の実施態様の画像形成可能な媒体を各種の用途で使用する場合、それらの処理の各種組合せを用いて、後加工を実施することができる。   This composition is usually post-treated with water, but in some cases, for example, a surfactant may be included. In the case of printing plates, a desensitizing solution containing gum arabic or starch derivatives is used. When the imageable medium of the embodiments of the present invention is used in various applications, post-processing can be performed using various combinations of these processes.

本発明で用いるアセタールポリマーの調製
ポリビニルアルコールのアセタール化反応は、公知の標準的な方法に従って起こさせることができるが、それらは、たとえば、米国特許第4,665,124号明細書;米国特許第4,940,646号明細書;米国特許第5,169,898号明細書;米国特許第5,700,619号明細書;米国特許第5,792,823号明細書;特開平9−328519号公報などに記載されている。米国特許第6,255,033号明細書(レバノン(Levanon)ら)には、本発明において使用されるアセタールポリマーの合成例が詳細に記載されている。
Preparation of Acetal Polymers for Use in the Invention The acetalization reaction of polyvinyl alcohol can be effected according to known standard methods, for example, US Pat. No. 4,665,124; US Pat. U.S. Pat. No. 4,940,646; U.S. Pat. No. 5,169,898; U.S. Pat. No. 5,700,619; U.S. Pat. No. 5,792,823; It is described in the gazette. US Pat. No. 6,255,033 (Levanon et al.) Describes in detail examples of the synthesis of acetal polymers used in the present invention.

ポリマー1
本発明の好ましい実施態様においては、ポリマー成分(A)として用いられるポリマーは、以下のプロセスにより3−ヒドロキシベンズアルデヒドとブチルアルデヒドとから誘導され、ブチラールアセタール基とヒドロキシ置換芳香族アセタール基とを有するポリビニルアセタール樹脂(本明細書においてポリマー1と呼ぶ)が得られるが、ここでそのヒドロキシ置換は芳香族環の3位にある:
Polymer 1
In a preferred embodiment of the present invention, the polymer used as the polymer component (A) is a polyvinyl derivative derived from 3-hydroxybenzaldehyde and butyraldehyde by the following process and having a butyral acetal group and a hydroxy-substituted aromatic acetal group. An acetal resin (referred to herein as polymer 1) is obtained, where the hydroxy substitution is at the 3-position of the aromatic ring:

100グラムのエアボル(Airvol)103のポリビニルアルコール(数平均分子量約15,000を有する、98%加水分解したポリ酢酸ビニル)を、150グラムの脱イオン水および25グラムのメタノールを入れた、水冷コンデンサー、滴下ロートおよび温度計を取り付けた密閉反応器の中に加えた。連続的に撹拌しながら、その混合物を90℃で0.5時間加熱して、透明な溶液とした。次いで、温度を60℃に調節し、50グラムのメタノールに溶解させた3グラムの濃硫酸を添加した。15分の時間をかけて、60グラムの3−ヒドロキシベンズアルデヒドおよび1.4グラムの2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールを450グラムのダウアノールPM(Dowanol PM(商標))の中に溶解させた溶液を、滴下により加えた。その反応混合物を、200グラムのダウアノールPM(Dowanol PM(商標))を追加して希釈してから、23.2グラムのn−ブチルアルデヒド200グラムをダウアノールPM(Dowanol PM(商標))に溶解させた溶液を滴下により添加し、そのアルデヒドの添加が完了してからさらに3時間、50℃で反応を続けた。この段階で、ブチルアルデヒドの転化が完了し、3−ヒドロキシベンズアルデヒドの転化率は約50%となる。真空下でその反応混合物から水−ダウアノールPM(Dowanol PM(商標))共沸物を留出させるが、その蒸留の間、その反応混合物にダウアノールPM(Dowanol PM(商標))を添加する。その反応混合物の水分含量が0.1%未満となったら、蒸留を終える。3−ヒドロキシベンズアルデヒドの転化率は97%よりも高くなる。反応混合物を水中で沈殿させる。得られるポリマーを濾過し、水を用いて洗浄してから60℃で3日間乾燥させると、水分含量が2%となる。   A water-cooled condenser containing 100 grams of Airvol 103 polyvinyl alcohol (98% hydrolyzed polyvinyl acetate having a number average molecular weight of about 15,000), 150 grams of deionized water and 25 grams of methanol. In a closed reactor fitted with a dropping funnel and thermometer. With continuous stirring, the mixture was heated at 90 ° C. for 0.5 hour to give a clear solution. The temperature was then adjusted to 60 ° C. and 3 grams of concentrated sulfuric acid dissolved in 50 grams of methanol was added. Over a period of 15 minutes, 60 grams of 3-hydroxybenzaldehyde and 1.4 grams of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol in 450 grams of Dowanol PM ™ The solution dissolved in was added dropwise. The reaction mixture is diluted with the addition of 200 grams of Dowanol PM ™, and then 23.2 grams of 200 grams of n-butyraldehyde is dissolved in Dowanol PM ™. The solution was added dropwise and the reaction was continued at 50 ° C. for an additional 3 hours after the aldehyde addition was complete. At this stage, the conversion of butyraldehyde is complete and the conversion of 3-hydroxybenzaldehyde is about 50%. A water-Dowanol PM (TM) azeotrope is distilled from the reaction mixture under vacuum, but Dowanol PM (TM) is added to the reaction mixture during the distillation. When the water content of the reaction mixture is less than 0.1%, the distillation is finished. The conversion of 3-hydroxybenzaldehyde is higher than 97%. The reaction mixture is precipitated in water. The polymer obtained is filtered, washed with water and then dried at 60 ° C. for 3 days, resulting in a moisture content of 2%.

ポリマー2
本発明の好ましい実施態様においては、ポリマー成分(A)として用いられるポリマーは、以下のプロセスにより3−ヒドロキシベンズアルデヒド、ブチルアルデヒドおよびシンナムアルデヒドから誘導され、ブチラールアセタール基、シンナムアセタール基、およびヒドロキシ置換芳香族アセタール基とを有するポリビニルアセタール樹脂(本明細書においてポリマー2と呼ぶ)が得られるが、ここでそのヒドロキシ置換は芳香族環の3位にある。ポリマー2の調製法はポリマー1の場合と同様ではあるが、ただし、3−ヒドロキシベンズアルデヒドの添加の後で、150gのダウアノールPM(Dowanol PM(商標))中の14.7グラムのシンナムアルデヒド、次いで、200gのダウアノールPM(Dowanol PM(商標))中の16グラムのブチルアルデヒドを添加する。ポリマー2の組成物中にシンナムアルデヒドが存在することによって、印刷版の画像形成可能な領域のインキ付着性が改良されると考えられる。
Polymer 2
In a preferred embodiment of the invention, the polymer used as polymer component (A) is derived from 3-hydroxybenzaldehyde, butyraldehyde and cinnamaldehyde by the following process, butyral acetal group, cinnamacetal group, and hydroxy substituted A polyvinyl acetal resin having aromatic acetal groups (referred to herein as polymer 2) is obtained, where the hydroxy substitution is at the 3-position of the aromatic ring. The preparation of polymer 2 is similar to that of polymer 1 except that after the addition of 3-hydroxybenzaldehyde, 14.7 grams of cinnamaldehyde in 150 g of Dowanol PM ™, then Add 16 grams of butyraldehyde in 200 g of Dowanol PM ™. The presence of cinnamaldehyde in the composition of polymer 2 is believed to improve the ink adhesion of the imageable areas of the printing plate.

ポリマー3
本発明の好ましい実施態様においては、ポリマー成分(A)として用いられるポリマーは、2−ヒドロキシベンズアルデヒドとブチルアルデヒドとから誘導され、ブチラールアセタール基とヒドロキシ置換芳香族アセタール基とを有するポリビニルアセタール樹脂(本明細書においてポリマー3と呼ぶ)が得られるが、ここでそのヒドロキシ置換は芳香族環の2位にある。ポリマー3の調製法はポリマー1の場合と同様ではあるが、ただし、エアボル(Airvol)103ポリビニルアルコールを、ポバール(Poval)103に代え、3−ヒドロキシベンズアルデヒドの代わりに、2−ヒドロキシベンズアルデヒド(90グラム、500グラムのダウアノールPM(Dowanol PM(商標))に溶解)を用い、さらに、200グラムのダウアノールPM(Dowanol PM(商標))に溶解させた12グラムのブチルアルデヒドを添加した。
Polymer 3
In a preferred embodiment of the present invention, the polymer used as the polymer component (A) is a polyvinyl acetal resin (this is derived from 2-hydroxybenzaldehyde and butyraldehyde and has a butyral acetal group and a hydroxy-substituted aromatic acetal group. (Referred to herein as polymer 3), where the hydroxy substitution is at the 2-position of the aromatic ring. The preparation of polymer 3 is similar to that of polymer 1, except that Airvol 103 polyvinyl alcohol is replaced with Poval 103, instead of 3-hydroxybenzaldehyde, 2-hydroxybenzaldehyde (90 grams). , 500 grams of Dowanol PM (dissolved in Dowanol PM ™), and 12 grams of butyraldehyde dissolved in 200 grams of Dowanol PM ™ were added.

ポリマー4
本発明の好ましい実施態様においては、ポリマー成分(A)として用いられるポリマーは、2−ヒドロキシベンズアルデヒドとブチルアルデヒドとから誘導され、ブチラールアセタール基とヒドロキシ置換芳香族アセタール基とを有するポリビニルアセタール樹脂(本明細書においてポリマー4と呼ぶ)が得られるが、ここでそのヒドロキシ置換は芳香族環の2位にある。ポリマー4の調製法はポリマー3の場合と同様ではあるが、ただし、使用した2−ヒドロキシベンズアルデヒドの量が68グラム、n−ブチルアルデヒドの量が23.2グラムであった。
Polymer 4
In a preferred embodiment of the present invention, the polymer used as the polymer component (A) is a polyvinyl acetal resin (this is derived from 2-hydroxybenzaldehyde and butyraldehyde and has a butyral acetal group and a hydroxy-substituted aromatic acetal group. (Referred to herein as polymer 4), where the hydroxy substitution is at the 2-position of the aromatic ring. The preparation method for polymer 4 was the same as for polymer 3, except that the amount of 2-hydroxybenzaldehyde used was 68 grams and the amount of n-butyraldehyde was 23.2 grams.

以下の実施例により本発明の態様を説明する。原料は以下の供給源から得た:
エアボル103(Airvol 103(商標))、ポリビニルアルコール製品、独国ヘキスト(Hoechst,Germany)、米国クラリアント(Clariant,US)製。
トゥイーン80K(Tween 80K(商標))、英国マンチェスター(Manchester,UK)のアベシア(Avecia)製。
ADS830AおよびADS830WS(商標)、IR染料、カナダ国ケベック州モントリオール(Montreal,QC,CANADA)のアメリカン・ダイ・ソース(American Dye Source)製。
リン酸エステル、ゼレック(Zelec)8172および8175(商標)、英国チェシャー(Cheshire,UK)のステパン・UK・リミテッド(Stepan UK Ltd.)製。
ゾニル(Zonyl)FSA(商標)、カナダ国オンタリオ州ミッシソーガ(Missisauga,ON,Canada)のデュポン・カナダ・インコーポレーテッド(DuPont Canada Inc.)製。
シリコーンアクリレートVS−80(商標)、米国ミネソタ州セントポール(St.Paul,MN,USA)のスリーエム(3M)製。
ジメチコーンコポリオールSF1488(商標)、米国ニューヨーク州ウォーターフォード(Waterford,NY,USA)のGE・シリコーンズ(GE Silicones)製。
ゴールドスター・プラス(Goldstar Plus(商標))、ポジ型印刷版現像剤、カナダ国オンタリオ州ミッシソーガ(Missisauga,ON,Canada)のコダック・ポリクローム(Kodak Polychrome)製。
The following examples illustrate aspects of the present invention. The raw material was obtained from the following sources:
Airbol 103 (Airvol 103 ™), polyvinyl alcohol product, Hoechst, Germany, Clariant, USA.
Tween 80K (manufactured by Avecia) in Manchester, UK.
ADS830A and ADS830WS ™, IR dye, manufactured by American Dye Source, Montreal, Quebec, Canada.
Phosphate esters, Zelec 8172 and 8175 ™, manufactured by Stepan UK Ltd., Cheshire, UK.
Zonyl FSA ™, manufactured by DuPont Canada Inc. of Mississauga, ON, Canada.
Silicone acrylate VS-80 (TM), manufactured by 3M (3M), St. Paul, MN, USA.
Dimethicone copolyol SF1488 ™, manufactured by GE Silicones of Waterford, NY, USA.
Goldstar Plus (trademark), a positive printing plate developer, manufactured by Kodak Polychrome, Mississauga, ON, Canada.

比較例1
この比較例では、本発明の組成物に現像促進化合物を添加しない場合の結果を示す。
成分 重量%
ポリマー3または4 75
現像促進化合物 0
レゾール樹脂LB9900* 20
IR染料 2
着色剤−ビクトリア・ブルー・R 2.5
N,N−ジエチルアニリン 0.5
Comparative Example 1
This comparative example shows the results when no development promoting compound is added to the composition of the present invention.
Ingredient Weight%
Polymer 3 or 4 75
Development accelerator compound 0
Resole resin LB9900 * 20
IR dye 2
Colorant-Victoria Blue R 2.5
N, N-diethylaniline 0.5

この組成物の成分を、MEK:ダウアノールPM(Dowanol PM(商標))の混合物に溶解させ、濾過し、陽極処理アルミニウムの表面上に塗布した。乾燥後、得られた印刷版の乾燥コーティング重量は1.5グラム/m2である。その印刷版に、クレオ・ローテム・400・クォンタム(Creo Lotem 400 Quantum)中490rpm、電力密度6〜18Wで、画像形成させた。その印刷版を8.4%メタケイ酸カリウム水溶液の中で30秒間かけて現像し、水洗いをして乾燥させた。クリアなバックグラウンドを得るのに必要なエネルギー密度は、ポリマー3では230mJ/cm2(乾燥2.5分/100℃)、ポリマー4では240mJ/cm2(乾燥3分/95℃)である。印刷版の未露光領域からのコーティングの損失重量%は、15未満であった。 The components of this composition were dissolved in a mixture of MEK: Dowanol PM ™, filtered and applied onto the surface of anodized aluminum. After drying, the resulting printing plate has a dry coating weight of 1.5 grams / m 2 . The printing plate was imaged at 490 rpm in a Creo Lotem 400 Quantum at a power density of 6-18 W. The printing plate was developed in an 8.4% aqueous potassium metasilicate solution for 30 seconds, washed with water and dried. The energy density required to obtain a clear background is 230 mJ / cm 2 (dry 2.5 minutes / 100 ° C.) for polymer 3 and 240 mJ / cm 2 (dry 3 minutes / 95 ° C.) for polymer 4. The weight loss% coating from the unexposed areas of the printing plate was less than 15.

応用例1〜15
成分 重量%
ポリマー3または4 55
現像促進化合物(表1参照) 20
レゾール樹脂LB9900* 20
IR染料 2
着色剤−ビクトリア・ブルー・R 2.5
N,N−ジエチルアニリン 0.5
Application examples 1-15
Ingredient Weight%
Polymer 3 or 4 55
Development accelerating compound (see Table 1) 20
Resole resin LB9900 * 20
IR dye 2
Colorant-Victoria Blue R 2.5
N, N-diethylaniline 0.5

この組成物の成分を、MEK:ダウアノールPM(Dowanol PM(商標))の混合物に溶解させ、濾過し、陽極処理アルミニウムの表面上に塗布した。乾燥後、得られた印刷版の乾燥コーティング重量は1.5グラム/m2である。その印刷版に、クレオ・ローテム・400・クォンタム(Creo Lotem 400 Quantum)中490rpm、電力密度6〜18Wで、画像形成させた。その印刷版を8.4%メタケイ酸カリウム水溶液の中で30秒間かけて現像し、水洗いをして乾燥させた。クリアなバックグラウンドを得るのに必要なエネルギーは表1に示した通りである。 The components of this composition were dissolved in a mixture of MEK: Dowanol PM ™, filtered and applied onto the surface of anodized aluminum. After drying, the resulting printing plate has a dry coating weight of 1.5 grams / m 2 . The printing plate was imaged at 490 rpm in a Creo Lotem 400 Quantum at a power density of 6-18 W. The printing plate was developed in an 8.4% aqueous potassium metasilicate solution for 30 seconds, washed with water and dried. The energy required to obtain a clear background is as shown in Table 1.

Figure 2010146013
Figure 2010146013

表1に示した印刷版の未露光領域における重量損失%はすべて、15未満であった。   All the weight loss percentages in the unexposed areas of the printing plate shown in Table 1 were less than 15.

応用例16〜31
成分 重量%
ポリマー3または4または1 65
現像促進化合物(表1参照) 10
レゾール樹脂LB9900* 20
IR染料 2
着色剤−ビクトリア・ブルー・R 2.5
N,N−ジエチルアニリン 0.5
Application examples 16-31
Ingredient Weight%
Polymer 3 or 4 or 1 65
Development accelerating compound (see Table 1) 10
Resole resin LB9900 * 20
IR dye 2
Colorant-Victoria Blue R 2.5
N, N-diethylaniline 0.5

この組成物の成分を、MEK:ダウアノールPM(Dowanol PM(商標))の混合物に溶解させ、濾過し、陽極処理アルミニウムの表面上に塗布した。乾燥後、得られた印刷版のコーティング重量は1.5グラム/m2・乾燥厚みである。その印刷版に、クレオ・ローテム・400・クォンタム(Creo Lotem 400 Quantum)中490rpm、電力密度6〜18Wで、画像形成させた。その印刷版を8.4%メタケイ酸ナトリウム水溶液の中で30秒間かけて現像し、水洗いをして乾燥させた。クリアなバックグラウンドを得るのに必要なエネルギー密度は表2に示した通りである。 The components of this composition were dissolved in a mixture of MEK: Dowanol PM ™, filtered and applied onto the surface of anodized aluminum. After drying, the coating weight of the resulting printing plate is 1.5 grams / m 2 · dry thickness. The printing plate was imaged at 490 rpm in a Creo Lotem 400 Quantum at a power density of 6-18 W. The printing plate was developed in an 8.4% aqueous sodium metasilicate solution for 30 seconds, washed with water and dried. The energy density necessary to obtain a clear background is as shown in Table 2.

Figure 2010146013
Figure 2010146013

表2に示した印刷版の未露光領域における重量損失%はすべて、15未満であった。   All the weight loss percentages in the unexposed areas of the printing plates shown in Table 2 were less than 15.

応用例32〜35
成分 重量%
ポリマー3または4 60
現像促進化合物(表1参照) 15
レゾール樹脂LB9900* 20
IR染料 2
着色剤−ビクトリア・ブルー・R 2.5
N,N−ジエチルアニリン 0.5
Application examples 32-35
Ingredient Weight%
Polymer 3 or 4 60
Development accelerating compound (see Table 1) 15
Resole resin LB9900 * 20
IR dye 2
Colorant-Victoria Blue R 2.5
N, N-diethylaniline 0.5

この組成物の成分を、MEK:ダウアノールPM(Dowanol PM(商標))の混合物に溶解させ、濾過し、陽極処理アルミニウムの表面上に塗布した。乾燥後、得られた印刷版のコーティング重量は1.5グラム/m2・乾燥厚みである。その印刷版に、クレオ・ローテム・400・クォンタム(Creo Lotem 400 Quantum)中490rpm、電力密度6〜18Wで、画像形成させた。その印刷版を8.4%メタケイ酸カリウム水溶液の中で30秒間かけて現像し、水洗いをして乾燥させた。クリアなバックグラウンドを得るのに必要なエネルギー密度は表2に示した通りである。 The components of this composition were dissolved in a mixture of MEK: Dowanol PM ™, filtered and applied onto the surface of anodized aluminum. After drying, the coating weight of the resulting printing plate is 1.5 grams / m 2 · dry thickness. The printing plate was imaged at 490 rpm in a Creo Lotem 400 Quantum at a power density of 6-18 W. The printing plate was developed in an 8.4% aqueous potassium metasilicate solution for 30 seconds, washed with water and dried. The energy density necessary to obtain a clear background is as shown in Table 2.

Figure 2010146013
Figure 2010146013

表3に示した印刷版の未露光領域における重量損失%はすべて、15未満であった。   All the weight loss percentages in the unexposed areas of the printing plates shown in Table 3 were less than 15.

応用例36
成分 重量%
ポリマー4 79.2
ヒドロキシフェノールテトラゾール−チオール 10
IR染料 2
着色剤−ビクトリア・ブルー・R 3.5
ベンゾフレックス(Benzoflex)2160 5
N,N−ジエチルアニリン 0.3
Application Example 36
Ingredient Weight%
Polymer 4 79.2
Hydroxyphenol tetrazole-thiol 10
IR dye 2
Colorant-Victoria Blue R 3.5
Benzoflex 2160 5
N, N-diethylaniline 0.3

この組成物の成分を、MEK:ダウアノールPM(Dowanol PM(商標))の混合物に溶解させ、濾過し、陽極処理アルミニウムの表面上に塗布した。90℃3分の乾燥後、得られた印刷版のコーティング重量は1.5グラム/m2・乾燥厚みである。その印刷版に、クレオ・ローテム・400・クォンタム(Creo Lotem 400 Quantum)中490rpm、電力密度6〜18Wで、画像形成させた。その印刷版を5.5%メタケイ酸ナトリウム水溶液の中で30秒間かけて現像し、水洗いをして乾燥させた。クリアなバックグラウンドを得るのに必要なエネルギー密度は70mJ/cm2であった。印刷版の未露光領域からのコーティングの損失重量%は、15未満であった。 The components of this composition were dissolved in a mixture of MEK: Dowanol PM ™, filtered and applied onto the surface of anodized aluminum. After drying at 90 ° C. for 3 minutes, the coating weight of the resulting printing plate is 1.5 grams / m 2 · dry thickness. The printing plate was imaged at 490 rpm in a Creo Lotem 400 Quantum at a power density of 6-18 W. The printing plate was developed in a 5.5% aqueous sodium metasilicate solution for 30 seconds, washed with water and dried. The energy density required to obtain a clear background was 70 mJ / cm 2 . The weight loss% coating from the unexposed areas of the printing plate was less than 15.

比較例37
この比較例は、現像促進化合物を含まない、参照のための例である。
コーティング溶液は、下記の添加物を用いて作製した(重量%):
・ポリマー1:ポリマー2、45:55、87.5%;
・組成式C4747ClN23Sを有するシアニン染料(CAS#134127−48−3)、1%(赤外線吸収剤として);
・画像着色剤ビクトリア・ピュア・ブルー・BO(Victoria Pure Blue BO)(ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、CAS#2390−60−5)、6.5%;
・ポリエチレングリコールソルビタンエステル、トゥイーン(Tween)−80(重合度80)、5%。
Comparative Example 37
This comparative example is an example for reference that does not contain a development accelerating compound.
The coating solution was made using the following additives (wt%):
-Polymer 1: Polymer 2, 45:55, 87.5%;
- formula C 47 H 47 ClN cyanine dyes having 2 O 3 S (CAS # 134127-48-3 ), 1% ( as an infrared absorbing agent);
-Image colorant Victoria Pure Blue BO (Victoria Pure Blue BO) (Basic Blue 7, CAS # 2390-60-5), 6.5%;
Polyethylene glycol sorbitan ester, Tween-80 (degree of polymerization 80), 5%.

そのコーティング溶液を、アセトン:メトキシプロパノール(ダウアノールPM(Dowanol PM))75:25の中で作り、固形分パーセントを10%とした。印刷版は、キャスティングロッド#12を用いて、手で、陽極処理アルミニウム基材の上にキャスティングした(コーティング重量1.75〜1.8g/m2)。その印刷版を、移動炉(ウィスコンシン(Wisconsin)SPCMINI−34/121型)の中で、130℃、3分かけて乾燥させた。 The coating solution was made in acetone: methoxypropanol (Dowanol PM) 75:25, with a solids percentage of 10%. The printing plate was cast on the anodized aluminum substrate by hand using casting rod # 12 (coating weight 1.75 to 1.8 g / m 2 ). The printing plate was dried in a mobile oven (Wisconsin SPCMINI-34 / 121 type) at 130 ° C. for 3 minutes.

次いでその印刷版に、クレオ(Creo)クォンタム800(Quantum 800(商標))イメージセッターを使用して、その出力を12W,波長を830nmとし、そのエネルギー密度系列を180〜400mJ/cm2の間で20mJ/cm2ずつの間隔として、方形のベタ画像の形態で画像形成させた。その印刷版を、グルンツ・ジェンセン(Glunz−Jensen)85HD現像器を用い、7%のメタケイ酸ナトリウムを含み、導電率66mS/cmのアルカリ性現像剤の中で現像した。現像条件は、24℃、通過時間30秒、乾燥50℃とした。現像した印刷版には基材のむき出しになった方形が現れるので、光学密度計を用いてその光学密度を測定した。クリアリング・ポイントは、クリアになった基材の領域と、もとのコーティングをしない基材との間の光学密度(OD)差が0.01以下となった、エネルギーとして定義した。この実施例で調製された印刷版は、350mJ/cm2のクリアリング・ポイントを有し、現像剤の中での重量損失%は、50未満であった。現像剤の中での重量損失は、非照射領域についてのものを表す。 The printing plate is then used with a Creo Quantum 800 ™ image setter, with an output of 12 W, a wavelength of 830 nm, and an energy density series between 180 and 400 mJ / cm 2 . Images were formed in the form of a rectangular solid image at intervals of 20 mJ / cm 2 . The printing plate was developed using a Glunz-Jensen 85HD developer in an alkaline developer containing 7% sodium metasilicate and having a conductivity of 66 mS / cm. Development conditions were 24 ° C., passage time 30 seconds, and drying 50 ° C. The developed printing plate had a square with a bare substrate, and the optical density was measured using an optical densitometer. The clearing point was defined as the energy at which the optical density (OD) difference between the cleared area of the substrate and the original uncoated substrate was 0.01 or less. The printing plate prepared in this example had a clearing point of 350 mJ / cm 2 and the% weight loss in the developer was less than 50. The weight loss in the developer represents that for the non-irradiated areas.

実施例38
次のコーティング組成物を調製した:
・ポリマー1:ポリマー2、45:55、84.5%(いずれも、実施例28と同様にして調製したもの)
・赤外染料、1%
・ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、6.5%
・トゥイーン(Tween)−80、5%
・トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、3%
Example 38
The following coating composition was prepared:
Polymer 1: Polymer 2, 45: 55, 84.5% (all prepared in the same manner as in Example 28)
・ Infrared dye, 1%
・ Basic Blue 7 (Basic Blue 7), 6.5%
・ Tween-80, 5%
・ Lithium trifluoromethanesulfonate, 3%

固形分10%を含むコーティング溶液を、上記の配合により調製した。印刷版は、実施例28(参照例)における溶液と上述の溶液を用いて、陽極処理アルミニウム基材の上に手でキャスティングした。それらの印刷版は125℃、3分間で乾燥させた。1.8g/m2のコーティング重量が得られた。その印刷版に、クレオ(Creo)クォンタム800(Quantum 800)イメージセッターを用い、照射12W、波長830nmで、画像を形成させた。その画像は、そのエネルギー密度を120〜360mJ/cm2の間で20mJ/cm2ずつの間隔の系列とした。その印刷版を、7%のメタケイ酸ナトリウムを含む現像剤(導電率66mS/cm)の中で23℃で現像したが、現像器の中での滞留時間は30秒とした。トリフルオロメタンスルホン酸リチウム現像促進剤を用いた印刷版のクリアリング・ポイントは140mJ/cm2、現像剤の中での重量損失%は50未満であったが、それに対して、現像促進化合物なしの参考例では、クリアリング・ポイントが320mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失が50未満であった。 A coating solution containing 10% solids was prepared by the above formulation. The printing plate was hand cast on an anodized aluminum substrate using the solution in Example 28 (reference example) and the solution described above. The printing plates were dried at 125 ° C. for 3 minutes. A coating weight of 1.8 g / m 2 was obtained. An image was formed on the printing plate using a Creo Quantum 800 image setter with an irradiation of 12 W and a wavelength of 830 nm. The image was a series of 20 mJ / cm 2 by the spacing between the energy density of 120~360mJ / cm 2. The printing plate was developed at 23 ° C. in a developer containing 7% sodium metasilicate (conductivity 66 mS / cm), and the residence time in the developer was 30 seconds. The clearing point of a printing plate using a lithium trifluoromethanesulfonate development accelerator was 140 mJ / cm 2 , and the weight loss% in the developer was less than 50, whereas no development accelerator compound was used. In the reference example, the clearing point was 320 mJ / cm 2 and the coating weight loss without irradiation was less than 50.

実施例39
コーティングを以下の組成物を用いて作製した:
・ポリマー1:ポリマー2、1:1、77.5%
・ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、6.5%
・IR染料、1%
・トゥイーン(Tween)−80、5%
・ゼレック(Zelec)8175、10%
Example 39
The coating was made using the following composition:
Polymer 1: Polymer 2, 1: 1, 77.5%
・ Basic Blue 7 (Basic Blue 7), 6.5%
・ IR dye, 1%
・ Tween-80, 5%
・ Zelec 8175, 10%

アセトン:ダウアノールPM(Dowanol PM)、75:25の中で、固形分10%のコーティング溶液を作製した。その溶液を用いてキャスティングして、コーティング重量1.65〜1.75g/m2の印刷版を得た。実施例28に記載の参照用溶液を用いた参照用印刷版も同時にキャスティングした。その2枚の印刷版を125℃、2分間で乾燥させた。それらの印刷版に、クレオ(Creo)のクォンタム800(Quantum 800)イメージセッターにおいて、波長830nmでの12W照射、エネルギー密度系列が120〜360mJ/cm2の間で20mJ/cm2ずつの間隔の画像を形成させた。それらの印刷版を、オリジナル濃度の90%に希釈したゴールドスター(Goldstar)ポジ型印刷版現像剤を用いて、23℃、30秒で現像させた。ゼレック(Zelec)8175現像促進剤を用いた印刷版では、クリアリング・ポイントが110mJ/cm2、現像剤の中での重量損失%が50未満であったが、それに対して、現像促進化合物を用いない参照用印刷版では、クリアリング・ポイントが320mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であった。 A coating solution having a solid content of 10% was prepared in acetone: Dowanol PM (75:25). The solution was cast to obtain a printing plate having a coating weight of 1.65 to 1.75 g / m 2 . A reference printing plate using the reference solution described in Example 28 was also cast at the same time. The two printing plates were dried at 125 ° C. for 2 minutes. Those of the printing plate, the Quantum 800 (Quantum 800) imagesetter Cleo (Creo), 12W irradiation at a wavelength of 830 nm, the energy density series of 20 mJ / cm 2 by the distance between the 120~360mJ / cm 2 images Formed. The printing plates were developed for 30 seconds at 23 ° C. using a Goldstar positive printing plate developer diluted to 90% of the original density. In the printing plate using Zelec 8175 development accelerator, the clearing point was 110 mJ / cm 2 , and the weight loss% in the developer was less than 50. The reference printing plate not used had a clearing point of 320 mJ / cm 2 and a non-irradiated coating weight loss percentage of less than 50.

実施例40
コーティングを以下の組成物を用いて作製した:
・ポリマー1:ポリマー2、1:1、77.5%
・ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、6.5%
・IR染料、1%
・トゥイーン(Tween)−80、5%
・ゼレック(Zelec)8172、10%
Example 40
The coating was made using the following composition:
Polymer 1: Polymer 2, 1: 1, 77.5%
・ Basic Blue 7 (Basic Blue 7), 6.5%
・ IR dye, 1%
・ Tween-80, 5%
・ Zelec 8172, 10%

2枚の印刷版に手でキャスティングしたが、その1枚では、現像促進剤としてゼレック(Zelec)8172を含む上記の溶液を用い、もう1枚では、現像促進剤を含まない実施例28の参照用溶液を用いた。それらの印刷版のコーティング重量は1.7〜1.8g/m2であった。印刷版を125℃、2分で乾燥させ、12W、80〜300mJ/cm2の間のエネルギー系列を用いて、画像形成させた。それらの印刷版を、60%のゴールドスター(Goldstar)中、23℃、30秒で現像させた。そのクリアリング・ポイントと現像剤の中での重量損失%は、ゼレック(Zelec)8172を含む印刷版では、それぞれ、140mJ/cm2と50未満であったが、現像促進化合物を含まない参照用印刷版では、300mJ/cm2まではクリアにならなかった。 See Example 28, in which two printing plates were cast by hand, one of which uses the above solution containing Zelec 8172 as a development accelerator and the other one does not contain a development accelerator. A working solution was used. The coating weight of these printing plates was 1.7~1.8g / m 2. The printing plate was dried at 125 ° C. for 2 minutes and imaged using an energy series between 12 W and 80-300 mJ / cm 2 . The printing plates were developed in 60% Goldstar at 23 ° C. for 30 seconds. Its clearing point and% weight loss in the developer were 140 mJ / cm 2 and less than 50, respectively, for the printing plate containing Zelec 8172, but no reference to a development accelerator compound. The printing plate was not clear up to 300 mJ / cm 2 .

実施例41
下記の添加剤を含むコーティングを作製した:
・ポリマー1:ポリマー2、1:1、86%
・IR染料、1%
・ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、6.5%
・トゥイーン(Tween)−80、5%
・3−[(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)チオ]プロピオン酸リチウム(ゾニル(Zonyl)FSA、デュポン(DuPont)製)、1.5%。
Example 41
A coating was made containing the following additives:
Polymer 1: Polymer 2, 1: 1, 86%
・ IR dye, 1%
・ Basic Blue 7 (Basic Blue 7), 6.5%
・ Tween-80, 5%
-Lithium 3-[(1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) thio] propionate (Zonyl FSA, manufactured by DuPont), 1.5%.

上述の配合のコーティングと、同一の成分を含むがただしゾニル(Zonyl)FSAを含まない、例28の参照用コーティングとを調製した。それらのコーティング溶液は、ダウアノールPM(Dowanol PM)中、固形分10%になるように作製した。陽極処理アルミニウム基材の上に手でキャスティングして印刷版とし、125℃で2.5分間焼き付けた。そのコーティング重量を測定すると、1.7〜1.8g/m2であった。それらの印刷版には同一の条件(出力11W、エネルギー密度系列100〜350mJ/cm2)で画像形成をさせた。それらの印刷版を、7.2%のメタケイ酸ナトリウムを含む現像剤(導電率66mS)の中で、24℃、現像剤中での滞留時間30秒で、現像した。現像促進化合物を含まない参照用印刷版では、クリアリング・ポイントが320mJ/cm2で、現像剤の中での重量損失%が50未満であったのに対し、1.5%のFSAを含む印刷版では、クリアリング・ポイントが130mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であった。 A coating of the above formulation and a reference coating of Example 28 containing the same ingredients but no Zonyl FSA were prepared. These coating solutions were prepared to 10% solids in Dowanol PM. A printing plate was cast by hand on the anodized aluminum substrate and baked at 125 ° C. for 2.5 minutes. The measured coating weight was 1.7~1.8g / m 2. Images were formed on these printing plates under the same conditions (output 11 W, energy density series 100 to 350 mJ / cm 2 ). The printing plates were developed in a developer containing 7.2% sodium metasilicate (conductivity 66 mS) at 24 ° C. and a residence time of 30 seconds in the developer. The reference printing plate containing no development accelerator compound has a clearing point of 320 mJ / cm 2 and a weight loss percentage in the developer of less than 50, whereas it contains 1.5% FSA. In the printing plate, the clearing point was 130 mJ / cm 2 , and the coating weight loss% without irradiation was less than 50.

実施例42
7%のn−ドデシルレソルシノールを含むコーティングを用いて印刷版を作製し、参照用印刷版と比較した。
Example 42
A printing plate was made with a coating containing 7% n-dodecylresorcinol and compared to a reference printing plate.

この実施例におけるコーティングは次の組成を有していた:
・ポリマー1:ポリマー2、1:1、80.5%
・ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、6.5%
・IR染料、1%
・トゥイーン(Tween)−80、5%
・n−ドデシルレソルシノール、7%
The coating in this example had the following composition:
Polymer 1: Polymer 2, 1: 1, 80.5%
・ Basic Blue 7 (Basic Blue 7), 6.5%
・ IR dye, 1%
・ Tween-80, 5%
N-dodecylresorcinol, 7%

この実施例におけるコーティング溶液および参照用コーティング(実施例28と同様)を、アセトン:ダウアノールPM(Dowanol PM)、75:25の中で、固形分10%になるように作製した。その溶液をロッドを用いて、陽極処理アルミニウム基材の上にキャスティングした。得られた印刷版を、130℃、3分間で焼き付けた。コーティング重量は1.7g/m2であった。その印刷版を、出力8Wでエネルギー密度系列90〜400mJ/cm2の830nmのIRレーザー照射に露光させた。その印刷版を、7%メタケイ酸ナトリウムを含む現像液(導電率71mS/cm)を含むデュポン−ホーソン(DuPont−Howson)現像器の中で、23℃、滞留時間30秒の条件において、現像した。n−ドデシルレソルシノールを用いた印刷版では、クリアリング・ポイントが160mJ/cm2、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であったのに対し、参照用印刷版では、クリアリング・ポイントが350mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であった。 The coating solution and reference coating in this example (similar to Example 28) were made in acetone: Dowanol PM 75:25 to a solids content of 10%. The solution was cast on an anodized aluminum substrate using a rod. The obtained printing plate was baked at 130 ° C. for 3 minutes. The coating weight was 1.7 g / m 2 . The printing plate was exposed to 830 nm IR laser irradiation with an output of 8 W and an energy density series of 90 to 400 mJ / cm 2 . The printing plate was developed in a DuPont-Hawson developer containing 7% sodium metasilicate (conductivity 71 mS / cm) at 23 ° C. and a residence time of 30 seconds. . In the printing plate using n-dodecylresorcinol, the clearing point was 160 mJ / cm 2 and the coating weight loss% without irradiation was less than 50, whereas in the reference printing plate, the clearing point was Was 350 mJ / cm 2 and the coating weight loss% without irradiation was less than 50.

実施例43
シリコーン化合物を含むコーティングの組成は次の通りである:
・ポリマー1:ポリマー2、1:1、82.5%
・ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、6.5%
・IR染料、1%
・トゥイーン(Tween)−80、5%
・シリコーンアクリレート、VS−80、5%
Example 43
The composition of the coating containing the silicone compound is as follows:
Polymer 1: Polymer 2, 1: 1, 82.5%
・ Basic Blue 7 (Basic Blue 7), 6.5%
・ IR dye, 1%
・ Tween-80, 5%
・ Silicone acrylate, VS-80, 5%

比較のために、実施例28におけるような、現像促進化合物を含まない参照用コーティングを用いた。その溶液は、アセトン:ダウアノールPM(Dowanol PM)が75:25の中で、固形分が10%になるように作製した。印刷版を手でキャスティングし、130℃/3分の焼き付けを行った。そのコーティング重量は、1.8〜1.85g/m2であった。その印刷版に、12W、エネルギー系列90〜350mJ/cm2で画像形成させた。その印刷版を、ゴールドスター(Goldstar)(コダック(Kodak)製)ポジ型印刷版現像剤を用い、デュポン−ホーソン(DuPont−Howson)現像器の中で、23℃、滞留時間30秒の条件において、現像した。シリコーンアクリレート現像促進化合物を用いた印刷版では、クリアリング・ポイントが150mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であったのに対し、参照用のものでは、300mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であった。 For comparison, a reference coating containing no development accelerator compound, as in Example 28, was used. The solution was prepared such that the solid content was 10% in 75:25 of acetone: Dowanol PM. The printing plate was cast by hand and baked at 130 ° C./3 minutes. The coating weight was 1.8~1.85g / m 2. An image was formed on the printing plate at 12 W and an energy series of 90 to 350 mJ / cm 2 . The printing plate was used in a DuPont-Hawson developer using a Goldstar (Kodak) positive printing plate developer at 23 ° C. and a residence time of 30 seconds. Developed. In the printing plate using the silicone acrylate development accelerating compound, the clearing point was 150 mJ / cm 2 and the non-irradiation coating weight loss% was less than 50, whereas in the reference one, 300 mJ / cm 2 , the coating weight loss% in non-irradiation was less than 50.

実施例44
以下の組成を有するコーティング組成物を調製した:
・ポリマー1:ポリマー2、1:1、77.5%
・ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)のテトラフルオロホウ酸塩、6.5%
・IR染料、1%
・トゥイーン(Tween)−80、5%
・レソルシノール、10%
Example 44
A coating composition having the following composition was prepared:
Polymer 1: Polymer 2, 1: 1, 77.5%
-Basic Blue 7 tetrafluoroborate, 6.5%
・ IR dye, 1%
・ Tween-80, 5%
・ Resorcinol, 10%

比較のために、実施例28におけるような、現像促進化合物を含まない参照用コーティングを用いた。そのコーティング溶液は、アセトン:ダウアノールPM(Dowanol PM)が75:25の中で、固形分が10%になるように作製した。この実施例では、トリアリールメタン染料のベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)(CAS番号371231−05−9)をベースにした染料を調製し、使用した。具体的には、ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)のテトラフルオロホウ酸塩(BF4−)を用いた。印刷版をキャスティングロッドを用いて手でキャスティングし、130℃/3分で乾燥させた。そのコーティング重量は、1.8〜1.85g/m2であった。その印刷版に、12W、エネルギー系列90〜350mJ/cm2で画像形成させた。その印刷版を、7%のメタケイ酸ナトリウムを含む現像剤(導電率66mS/cm)を用い、デュポン−ホーソン(DuPont−Howson)現像器の中で、26℃、通過時間30秒の条件下で現像した。レソルシノール現像促進化合物を用いた印刷版では、クリアリング・ポイントが150mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であったのに対し、参照用印刷版では、350mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であった。 For comparison, a reference coating containing no development accelerator compound, as in Example 28, was used. The coating solution was prepared such that the solid content was 10% in 75:25 of acetone: Dowanol PM. In this example, a dye based on the triarylmethane dye Basic Blue 7 (CAS No. 371231-05-9) was prepared and used. Specifically, tetrafluoroborate Basic Blue · 7 (Basic Blue 7) - was used (BF 4). The printing plate was cast by hand using a casting rod and dried at 130 ° C./3 minutes. The coating weight was 1.8~1.85g / m 2. An image was formed on the printing plate at 12 W and an energy series of 90 to 350 mJ / cm 2 . The printing plate was developed using a developer containing 7% sodium metasilicate (conductivity 66 mS / cm) in a DuPont-Hawson developer at 26 ° C. and a passage time of 30 seconds. Developed. In the printing plate using the resorcinol development accelerator compound, the clearing point was 150 mJ / cm 2 and the coating weight loss% in non-irradiation was less than 50, whereas in the reference printing plate, 350 mJ / cm 2. The coating weight loss% in non-irradiation was less than 50.

実施例45
5%の4−ヘキシルレソルシノールを含み、表4の組成を有するコーティングを用いて、印刷版を作製した。表1の組成で、現像促進化合物を含まない参照用コーティングもまた調製した。そのコーティング溶液は、アセトン:ダウアノールPM(Dowanol PM)が75:25の中で、固形分が10%になるように作製した。その溶液をロッドを用いて、陽極処理アルミニウム基材の上にキャスティングした。得られた印刷版を、130℃、3分間で焼き付けた。その印刷版を、出力8Wでエネルギー密度系列90〜350mJ/cm2の830nmのIRレーザー照射に露光させた。その印刷版を、7%メタケイ酸ナトリウムを含む現像液(導電率71mS/cm)を含むデュポン−ホーソン(DuPont−Howson)現像器の中で、23℃、滞留時間30秒の条件において、現像した。4−ヘキシルレソルシノールを含む印刷版は、クリアリング・ポイントが150mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満を示した。これとは対照的に、現像促進化合物を含まない参照用印刷版では、320mJ/cm2でもクリアとなり、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であった。
Example 45
A printing plate was made with a coating containing 5% 4-hexylresorcinol and having the composition of Table 4. A reference coating with the composition of Table 1 and no development accelerator compound was also prepared. The coating solution was prepared such that the solid content was 10% in 75:25 of acetone: Dowanol PM. The solution was cast on an anodized aluminum substrate using a rod. The obtained printing plate was baked at 130 ° C. for 3 minutes. The printing plate was exposed to 830 nm IR laser irradiation with an output of 8 W and an energy density series of 90 to 350 mJ / cm 2 . The printing plate was developed in a DuPont-Hawson developer containing 7% sodium metasilicate (conductivity 71 mS / cm) at 23 ° C. and a residence time of 30 seconds. . The printing plate containing 4-hexylresorcinol had a clearing point of 150 mJ / cm 2 and a non-irradiation coating weight loss percentage of less than 50. In contrast, the reference printing plate containing no development accelerator compound was clear even at 320 mJ / cm 2 , and the coating weight loss% without irradiation was less than 50.

Figure 2010146013
Figure 2010146013

実施例46
2枚の印刷版を作製したが、その1枚は組成物中に5%のジメチコーンコポリオールSF1488を含み、参照用印刷版には現像促進化合物を含まない(表5)。
Example 46
Two printing plates were made, one of which contains 5% dimethicone copolyol SF1488 in the composition and the reference printing plate does not contain a development accelerating compound (Table 5).

その溶液は、アセトン:ダウアノールPM(Dowanol PM)が75:25の中で、固形分が10%になるように作製した。印刷版を手でキャスティングし、130℃/3分の焼き付けを行った。そのコーティング重量は、1.8〜1.85g/m2であった。その印刷版に、12W、エネルギー系列90〜350mJ/cm2で画像形成させた。その印刷版を、ゴールドスター(Goldstar)ポジ型印刷版現像剤を用い、デュポン−ホーソン(DuPont−Howson)現像器の中で、23℃、滞留時間30秒で、現像した。表5から、5%のレベルのSF1488を加えると、クリアリング・ポイントが160mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であるのに比較して、参照用のものの場合には、320mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満となることが判る。 The solution was prepared such that the solid content was 10% in 75:25 of acetone: Dowanol PM. The printing plate was cast by hand and baked at 130 ° C./3 minutes. The coating weight was 1.8~1.85g / m 2. An image was formed on the printing plate at 12 W and an energy series of 90 to 350 mJ / cm 2 . The printing plate was developed using a Goldstar positive printing plate developer in a DuPont-Hawson developer at 23 ° C. and a residence time of 30 seconds. From Table 5, when 5% level of SF1488 is added, the clearing point is 160 mJ / cm 2 and the non-irradiated coating weight loss% is less than 50 for the reference one. It can be seen that at 320 mJ / cm 2 , the coating weight loss% without irradiation is less than 50.

Figure 2010146013
Figure 2010146013

実施例47
2種のコーティング溶液を以下のようにして調製した。
溶液1:
・ポリマー1:ポリマー2、1:1、78%
ヘキシルレソルシノール、10%
ベーシック・ブルー・7(Basic Blue 7)、7%
トゥイーン(Tween)−80、5%
この溶液は、ダウアノールPM(Dowanol PM)中、固形分10%になるように作製した。
溶液2:
1kgのフェノールホルムアルデヒド樹脂を、酸触媒の硫酸を使用し、フェノール:ホルムアルデヒドのモル比を0.9:1で自家製造した。その樹脂溶液はpH=5で、固形分含量が10%であった。1gのIR染料ADS830WSを100gのエタノールに溶解させ、撹拌しながらそのフェノール−ホルムアルデヒド樹脂溶液に添加した。
Example 47
Two coating solutions were prepared as follows.
Solution 1:
Polymer 1: Polymer 2, 1: 1, 78%
Hexyl resorcinol, 10%
Basic Blue 7 (Basic Blue 7), 7%
Tween-80, 5%
This solution was prepared to have a solid content of 10% in Dowanol PM.
Solution 2:
1 kg of phenol formaldehyde resin was homemade using acid catalyzed sulfuric acid at a phenol: formaldehyde molar ratio of 0.9: 1. The resin solution had pH = 5 and a solid content of 10%. 1 g of IR dye ADS830WS was dissolved in 100 g of ethanol and added to the phenol-formaldehyde resin solution with stirring.

溶液1を陽極処理アルミニウム基材の上に、スプレー法によりコーティングした。コーティング重量は1.6g/m2であった。次いで溶液2を、溶液1からのコーティングの上に、スプレーコーティングし、追加のコーティング重量が0.5g/cm2になるようにした。得られた印刷版を、125℃、2.5分で焼き付けた。その印刷版に、830nmで、クレオ(Creo)のクォンタム800(Quantum 800)イメージセッターを用い、エネルギー密度系列90〜300mJ/cm2、出力12Wで、画像形成させた。その印刷版を、7%ケイ酸ナトリウム溶液から製造したアルカリ性現像剤(66mS/cm)を含むデュポン(DuPont)現像器を用いて現像した。その印刷版を、26℃で30秒かけて現像させた。その印刷版のクリアリング・ポイントは150mJ/cm2で、非照射でのコーティング重量損失%が50未満であった。 Solution 1 was coated on an anodized aluminum substrate by spraying. The coating weight was 1.6 g / m 2 . Solution 2 was then spray coated over the coating from Solution 1 so that the additional coating weight was 0.5 g / cm 2 . The obtained printing plate was baked at 125 ° C. for 2.5 minutes. The printing plate was imaged at 830 nm using a Creo Quantum 800 image setter with an energy density series of 90-300 mJ / cm 2 and an output of 12 W. The printing plate was developed using a DuPont developer containing an alkaline developer (66 mS / cm) made from 7% sodium silicate solution. The printing plate was developed at 26 ° C. for 30 seconds. The clearing point of the printing plate was 150 mJ / cm 2 and the coating weight loss% without irradiation was less than 50.

以上、本発明をよりよく理解できるよう、また、本発明の業界への寄与をよりよく評価できるように、本発明の重要な特色を概観してきた。本発明の基本となる概念が、本発明のいくつかの目的を実施する目的のその他の方法や装置の設計のための基礎として容易に利用することが可能であることは、当業者の認めるところであろう。したがって、最も重要なことは、本明細書の開示には、本発明の精神と範囲から逸脱することなく、そのような等価な方法および装置を包含する、とみなされるべきである。   The foregoing has outlined important features of the invention so that the invention may be better understood and in order to better appreciate the contribution of the invention to the industry. Those skilled in the art will recognize that the concepts underlying the present invention can be readily utilized as a basis for the design of other methods and apparatus for the purpose of carrying out some objects of the present invention. I will. Therefore, most importantly, the disclosure herein should be considered to include such equivalent methods and apparatus without departing from the spirit and scope of the present invention.

Claims (68)

放射線感受性組成物であって、
a.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより誘導されるアセタール樹脂、
および
b.現像促進化合物
を含む放射線感受性組成物。
A radiation sensitive composition comprising:
a. An acetal resin derived by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
And b. A radiation sensitive composition comprising a development accelerating compound.
放射線−熱転化用化合物をさらに含む、請求項1に記載の組成物。   The composition of claim 1 further comprising a radiation-to-heat converting compound. 前記放射線−熱転化用化合物が赤外光−熱転化用化合物である、請求項2に記載の組成物。   The composition according to claim 2, wherein the radiation-thermal conversion compound is an infrared light-thermal conversion compound. 溶解抑制剤をさらに含む、請求項3に記載の組成物。   The composition according to claim 3, further comprising a dissolution inhibitor. 前記現像促進化合物が、以下のものの少なくとも1種である、請求項1に記載の組成物。
a.12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルラジカル、および7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールラジカルの内の少なくとも1種を含むアルコール;
b.ポリオール;
c.1価フェノール;
d.多価フェノール;
e.チオール官能基を含む化合物;
f.カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1種である、アニオン性リチウム塩;
g.リン含有酸のエステル;
h.リン含有酸のアミド;
i.ポリシロキサン;
j.遊離のヒドロキシル基を有する4級アンモニウム塩;
k.アゾ化合物;
l.−NH−NH−官能基を含む化合物;
m.次式の官能基を含む化合物
Figure 2010146013

n.次式の構造を含む化合物
Figure 2010146013
(ここでXは−S−、S=O、C=OまたはCO2の内の1つであり、そしてここでR13はC1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eであってよいが、ここでEは次式で与えられ、
Figure 2010146013
ここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21はHおよびOHの内の1つであってよい)
o.置換芳香族酸;
p.置換芳香族エステル;
q.置換芳香族アミド;および
r.スルホン官能基を含む化合物。
The composition according to claim 1, wherein the development accelerating compound is at least one of the following.
a. An alcohol containing at least one of an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, a fluoroalkyl radical containing 4 to 60 carbon atoms, and a fluoroalkylaryl radical containing 7 to 60 carbon atoms;
b. Polyols;
c. Monohydric phenol;
d. Polyphenols;
e. A compound containing a thiol functional group;
f. An anionic lithium salt which is one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite;
g. Esters of phosphorus-containing acids;
h. An amide of a phosphorus-containing acid;
i. Polysiloxane;
j. A quaternary ammonium salt having a free hydroxyl group;
k. An azo compound;
l. A compound containing an NH-NH-functional group;
m. Compounds containing functional groups of the formula
Figure 2010146013
;
n. A compound containing the structure
Figure 2010146013
(Wherein X is one of —S—, S═O, C═O or CO 2 , and R 13 may be C 1 -C 12 alkyl, benzyl or structure E, Where E is given by:
Figure 2010146013
Here, R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of H and OH)
o. Substituted aromatic acids;
p. Substituted aromatic esters;
q. A substituted aromatic amide; and r. A compound containing a sulfone functional group.
前記ポリオールがジメチコーンコポリオールである、請求項5に記載の組成物。   6. The composition of claim 5, wherein the polyol is dimethicone copolyol. 前記多価フェノールが、レソルシノール、4−ヘキシルレソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、および1−ナフトールの内の少なくとも1種である、請求項5に記載の組成物。   The composition according to claim 5, wherein the polyhydric phenol is at least one of resorcinol, 4-hexylresorcinol, n-dodecylresorcinol, and 1-naphthol. 前記多価フェノールが、ピロガロール、フロログルシノール、1,2,4−ベンゼントリオール、およびそれらのアルキルおよびフルオロアルキル誘導体の内の1種である、請求項5に記載の組成物。   6. The composition of claim 5, wherein the polyhydric phenol is one of pyrogallol, phloroglucinol, 1,2,4-benzenetriol, and their alkyl and fluoroalkyl derivatives. 前記アニオン性リチウム塩が、3−(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)プロピオン酸リチウムおよび3−[(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)チオプロピオン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムならびにペルフルオロオクチルエチルスルホン酸リチウムの内の1種である、請求項5に記載の組成物。   The anionic lithium salt is lithium 3- (1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) propionate and lithium 3-[(1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) thiopropionate, lithium trifluoromethanesulfonate. And the composition of claim 5 which is one of lithium perfluorooctylethylsulfonate. 前記リン含有酸のエステルが、P(OH)(OR)2、P(OH)2(OR)、P(OH)2[O−R−N(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)2[O−R−NH(CH2−CH2−OH)2](ここでRは、アルキル、アリール、アルキルアリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらの組合せ)の内の1種である、請求項5に記載の組成物。 The ester of the phosphorus-containing acid is P (OH) (OR) 2 , P (OH) 2 (OR), P (OH) 2 [ORN (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P (OR) 2 [O—R—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ] (where R is alkyl, aryl, alkylaryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide, or combinations thereof) 6. The composition of claim 5, wherein: 前記リン含有酸のエステルが、ノニルフェノールリン酸エステルである、請求項5に記載の組成物。   The composition according to claim 5, wherein the ester of the phosphorus-containing acid is nonylphenol phosphate. 前記リン含有酸のアミドが、P(OH)(ONHR)2、P(OH)2(ONHR)、P(OR)2[O−NH(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)[O−NH(CH2−CH2−OH)22(ここでRは、アルキル、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらの組合せ)の内の1種である、請求項5に記載の組成物。 The amide of the phosphorus-containing acid is P (OH) (ONHR) 2 , P (OH) 2 (ONHR), P (OR) 2 [O—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P (OR ) [O-NH (CH 2 -CH 2 -OH) 2] 2 ( where R is alkyl, aryl, polyethylene oxide, one of the polypropylene oxide or their combinations), according to claim 5 Composition. 前記ポリシロキサンが、R[OSi(OCH32n−Si(OCH3)(OH)2(ここでRは、アルキ(アルキル)、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド基またはそれらの組合せであり、n=2〜1000)である、請求項5に記載の組成物。 The polysiloxane is R [OSi (OCH 3 ) 2 ] n —Si (OCH 3 ) (OH) 2 (where R is an alkyl (alkyl), aryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide group or a combination thereof). , N = 2 to 1000). 前記置換芳香族酸が、2−ニトロ安息香酸、3−ニトロ安息香酸、4−ニトロ安息香酸、2,4−ジニトロ安息香酸、2,4−ジクロロ安息香酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸および3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の内の少なくとも1種である、請求項5に記載の組成物。   The substituted aromatic acid is 2-nitrobenzoic acid, 3-nitrobenzoic acid, 4-nitrobenzoic acid, 2,4-dinitrobenzoic acid, 2,4-dichlorobenzoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid and The composition according to claim 5, wherein the composition is at least one of 3-hydroxy-2-naphthoic acid. 前記置換芳香族エステルが、サリチル酸メチル、サリチル酸フェニル、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジル、4−ヒドロキシ安息香酸ブチルおよび4−ヒドロキシ安息香酸メチルである、請求項5に記載の組成物。   6. The composition of claim 5, wherein the substituted aromatic ester is methyl salicylate, phenyl salicylate, benzyl 4-hydroxybenzoate, butyl 4-hydroxybenzoate and methyl 4-hydroxybenzoate. 前記置換芳香族アミドが、3−ニトロベンズアミドおよび(2’−ヒドロキシエチル)−2,4−ジヒドロキシベンズアミドである、請求項5に記載の組成物。   6. The composition of claim 5, wherein the substituted aromatic amide is 3-nitrobenzamide and (2'-hydroxyethyl) -2,4-dihydroxybenzamide. 前記アセタール樹脂が次式の構造を有し
Figure 2010146013
ここで、R1は−Cn2n+1(ここでn=1〜12)であり、R2は、
Figure 2010146013
ここで、
4=−OH;
5=−OHまたは−OCH3またはBr−または−O−CH2−C≡CH、そして
6=Br−またはNO2
3=−(CH2t−COOH、−C≡CH、または
Figure 2010146013
ここでR7=COOH、−(CH2t−COOH、−O−(CH2t−COOH、
そして、ここでt=1〜4であり、そして
ここで
b=5〜40モル%、好ましくは15〜35モル%
c=10〜60モル%、好ましくは20〜40モル%
d=0〜20モル%、好ましくは0〜10モル%
e=2〜20モル%、好ましくは1〜10モル%、そして
f=5〜50モル%、好ましくは15〜40モル%である、
請求項1に記載の組成物。
The acetal resin has the following structure:
Figure 2010146013
Here, R 1 is —C n H 2n + 1 (where n = 1 to 12), and R 2 is
Figure 2010146013
here,
R 4 = —OH;
R 5 = —OH or —OCH 3 or Br— or —O—CH 2 —C≡CH, and B 6 = Br— or NO 2 ;
R 3 = — (CH 2 ) t —COOH, —C≡CH, or
Figure 2010146013
Where R 7 = COOH, — (CH 2 ) t —COOH, —O— (CH 2 ) t —COOH,
And where t = 1-4 and where b = 5-40 mol%, preferably 15-35 mol%
c = 10-60 mol%, preferably 20-40 mol%
d = 0 to 20 mol%, preferably 0 to 10 mol%
e = 2 to 20 mol%, preferably 1 to 10 mol%, and f = 5 to 50 mol%, preferably 15 to 40 mol%,
The composition of claim 1.
現像促進化合物が、以下のものの少なくとも1種である、請求項17に記載の組成物。
a.12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルラジカル、および7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールラジカルの内の少なくとも1種を含むアルコール;
b.ポリオール;
c.1価フェノール;
d.多価フェノール;
e.チオール官能基を含む化合物;
f.カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1種である、アニオン性リチウム塩;
g.リン含有酸のエステル;
h.リン含有酸のアミド;
i.ポリシロキサン;
j.遊離のヒドロキシル基を有する4級アンモニウム塩;
k.アゾ化合物;
l.−NH−NH−官能基を含む化合物;
m.次式の官能基を含む化合物
Figure 2010146013

n.次式の構造を含む化合物
Figure 2010146013
(ここでXは−S−、S=O、C=OまたはCO2の内の1つであり、そしてここでR13はC1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eであってよいが、ここでEは次式で与えられ、
Figure 2010146013
ここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21はHおよびOHの内の1つであってよい);
o.置換芳香族酸;
p.置換芳香族エステル;
q.置換芳香族アミド;および
r.スルホン官能基を含む化合物、
The composition according to claim 17, wherein the development accelerating compound is at least one of the following.
a. An alcohol containing at least one of an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, a fluoroalkyl radical containing 4 to 60 carbon atoms, and a fluoroalkylaryl radical containing 7 to 60 carbon atoms;
b. Polyols;
c. Monohydric phenol;
d. Polyphenols;
e. A compound containing a thiol functional group;
f. An anionic lithium salt which is one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite;
g. Esters of phosphorus-containing acids;
h. An amide of a phosphorus-containing acid;
i. Polysiloxane;
j. A quaternary ammonium salt having a free hydroxyl group;
k. An azo compound;
l. A compound containing an NH-NH-functional group;
m. Compounds containing functional groups of the formula
Figure 2010146013
;
n. A compound containing the structure
Figure 2010146013
(Wherein X is one of —S—, S═O, C═O or CO 2 , and R 13 may be C 1 -C 12 alkyl, benzyl or structure E, Where E is given by:
Figure 2010146013
Wherein R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of H and OH);
o. Substituted aromatic acids;
p. Substituted aromatic esters;
q. A substituted aromatic amide; and r. A compound containing a sulfone functional group,
前記多価フェノールが、レソルシノール、4−ヘキシルレソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、および1−ナフトールの内の少なくとも1種である、請求項18に記載の組成物。   The composition according to claim 18, wherein the polyhydric phenol is at least one of resorcinol, 4-hexylresorcinol, n-dodecylresorcinol, and 1-naphthol. 放射線感受性組成物であって:
a.レソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、4−ヘキシルレソルシノールおよび1−ナフトールの内の少なくとも1種、
b.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより形成されるアセタール樹脂、
c.溶解抑制剤、および
d.赤外光−熱転化用化合物、
を含む組成物。
A radiation sensitive composition comprising:
a. At least one of resorcinol, n-dodecylresorcinol, 4-hexylresorcinol and 1-naphthol,
b. An acetal resin formed by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
c. A dissolution inhibitor, and d. Infrared light-heat conversion compound,
A composition comprising
画像形成可能な素子であって、
a.基材、および
b.前記基材の表面上に、請求項2に記載の前記組成物をコーティングし、乾燥させた層、
を含む素子。
An image-forming element,
a. A substrate, and b. A layer coated with the composition according to claim 2 and dried on the surface of the substrate,
Including the element.
画像形成可能な素子であって、
a.基材、および
b.前記基材の表面上に、請求項5に記載の前記組成物をコーティングし、乾燥させた層、
を含む素子。
An image-forming element,
a. A substrate, and b. A layer coated on the surface of the substrate with the composition of claim 5 and dried;
Including the element.
画像形成可能な素子であって、
a.基材、および
b.前記基材の表面上に、請求項18に記載の前記組成物をコーティングし、乾燥させた層、
を含む素子。
An image-forming element,
a. A substrate, and b. A layer coated with the composition of claim 18 and dried on a surface of the substrate,
Containing element.
画像形成可能な素子であって、
a.基材、および
b.前記基材の表面上に、請求項20に記載の前記組成物をコーティングし、乾燥させた層、
を含む素子。
An image-forming element,
a. A substrate, and b. A layer coated on the surface of the substrate with the composition of claim 20 and dried,
Including the element.
ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体であって、親水性リソグラフ印刷表面上に放射線感受性組成物の層を含み、前記組成物が、
a.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより誘導されるアセタール樹脂、および
b.現像促進化合物、
を含む前駆体。
A positive working lithographic printing precursor comprising a layer of a radiation sensitive composition on a hydrophilic lithographic printing surface, the composition comprising:
a. An acetal resin derived by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde, and b. Development accelerator compounds,
A precursor comprising
前記組成物が、赤外光−熱転化用化合物をさらに含む、請求項25に記載の前駆体。   26. The precursor of claim 25, wherein the composition further comprises an infrared light-thermal conversion compound. 前記組成物が、溶解抑制剤をさらに含む、請求項26に記載の前駆体。   27. The precursor of claim 26, wherein the composition further comprises a dissolution inhibitor. 前記前駆体が、以下のものの少なくとも1種である、請求項25に記載の前駆体。
a.12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルラジカル、および7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールラジカルの内の少なくとも1種を含むアルコール;
b.ポリオール;
c.1価フェノール;
d.多価フェノール;
e.チオール官能基を含む化合物;
f.カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1種である、アニオン性リチウム塩;
g.リン含有酸のエステル;
h.リン含有酸のアミド;
i.ポリシロキサン;
j.遊離のヒドロキシル基を有する4級アンモニウム塩;
k.アゾ化合物;
l.−NH−NH−官能基を含む化合物;
m.次式の官能基を含む化合物
Figure 2010146013

n.次式の構造を含む化合物
Figure 2010146013
(ここでXは−S−、S=O、C=OまたはCO2の内の1つであり、そしてここでR13はC1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eであってよいが、ここでEは次式で与えられ、
Figure 2010146013
ここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21はHおよびOHの内の1つであってよい)
o.置換芳香族酸;
p.置換芳香族エステル;
q.置換芳香族アミド;および
r.スルホン官能基を含む化合物。
The precursor according to claim 25, wherein the precursor is at least one of the following.
a. An alcohol containing at least one of an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, a fluoroalkyl radical containing 4 to 60 carbon atoms, and a fluoroalkylaryl radical containing 7 to 60 carbon atoms;
b. Polyols;
c. Monohydric phenol;
d. Polyphenols;
e. A compound containing a thiol functional group;
f. An anionic lithium salt which is one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite;
g. Esters of phosphorus-containing acids;
h. An amide of a phosphorus-containing acid;
i. Polysiloxane;
j. A quaternary ammonium salt having a free hydroxyl group;
k. An azo compound;
l. A compound containing an NH-NH-functional group;
m. Compounds containing functional groups of the formula
Figure 2010146013
;
n. A compound containing the structure
Figure 2010146013
(Wherein X is one of —S—, S═O, C═O or CO 2 , and R 13 may be C 1 -C 12 alkyl, benzyl or structure E, Where E is given by:
Figure 2010146013
Here, R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of H and OH)
o. Substituted aromatic acids;
p. Substituted aromatic esters;
q. A substituted aromatic amide; and r. A compound containing a sulfone functional group.
前記ポリオールがジメチコーンコポリオールである、請求項28に記載の前駆体。   29. Precursor according to claim 28, wherein the polyol is a dimethicone copolyol. 前記多価フェノールが、レソルシノール、4−ヘキシルレソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、および1−ナフトールの内の少なくとも1種である、請求項28に記載の前駆体。   The precursor according to claim 28, wherein the polyhydric phenol is at least one of resorcinol, 4-hexylresorcinol, n-dodecylresorcinol, and 1-naphthol. 前記多価フェノールが、ピロガロール、フロログルシノール、1,2,4−ベンゼントリオール、およびそれらのアルキルおよびフルオロアルキル誘導体の内の1種である、請求項28に記載の前駆体。   29. The precursor of claim 28, wherein the polyhydric phenol is one of pyrogallol, phloroglucinol, 1,2,4-benzenetriol, and their alkyl and fluoroalkyl derivatives. 前記アニオン性リチウム塩が、3−(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)プロピオン酸リチウムおよび3−[(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)チオプロピオン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムならびにペルフルオロオクチルエチルスルホン酸リチウムの内の1種である、請求項28に記載の前駆体。   The anionic lithium salt is lithium 3- (1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) propionate and lithium 3-[(1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) thiopropionate, lithium trifluoromethanesulfonate. And the precursor of claim 28, which is one of lithium perfluorooctylethylsulfonate. 前記リン含有酸のエステルが、P(OH)(OR)2、P(OH)2(OR)、P(OH)2[O−R−N(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)2[O−R−NH(CH2−CH2−OH)2](ここでRは、アルキル、アリール、アルキルアリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらの組合せ)の内の1種である、請求項28に記載の前駆体。 The ester of the phosphorus-containing acid is P (OH) (OR) 2 , P (OH) 2 (OR), P (OH) 2 [ORN (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P (OR) 2 [O—R—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ] (where R is alkyl, aryl, alkylaryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide, or combinations thereof) 29. The precursor of claim 28. 前記リン含有酸のエステルが、ノニルフェノールリン酸エステルである、請求項28に記載の前駆体。   29. Precursor according to claim 28, wherein the ester of phosphorus-containing acid is nonylphenol phosphate. 前記リン含有酸のアミドが、P(OH)(ONHR)2、P(OH)2(ONHR)、P(OR)2[O−NH(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)[O−NH(CH2−CH2−OH)22(ここでRは、アルキル、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらの組合せ)の内の1種である、請求項28に記載の前駆体。 The amide of the phosphorus-containing acid is P (OH) (ONHR) 2 , P (OH) 2 (ONHR), P (OR) 2 [O—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P (OR ) [O-NH (CH 2 -CH 2 -OH) 2] 2 ( where R is alkyl, aryl, polyethylene oxide, one of the polypropylene oxide or their combinations), according to claim 28 Precursor. 前記ポリシロキサンが、R[OSi(OCH32n−Si(OCH3)(OH)2(ここでRは、アルキ(アルキル)、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド基またはそれらの組合せであり、n=2〜1000)である、請求項28に記載の前駆体。 The polysiloxane is R [OSi (OCH 3 ) 2 ] n —Si (OCH 3 ) (OH) 2 (where R is an alkyl (alkyl), aryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide group or a combination thereof). 29. The precursor according to claim 28, wherein n = 2 to 1000). 前記置換芳香族酸が、2−ニトロ安息香酸、3−ニトロ安息香酸、4−ニトロ安息香酸、2,4−ジニトロ安息香酸、2,4−ジクロロ安息香酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸および3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の内の少なくとも1種である、請求項28に記載の組成物。   The substituted aromatic acid is 2-nitrobenzoic acid, 3-nitrobenzoic acid, 4-nitrobenzoic acid, 2,4-dinitrobenzoic acid, 2,4-dichlorobenzoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid and 30. The composition of claim 28, wherein the composition is at least one of 3-hydroxy-2-naphthoic acid. 前記置換芳香族エステルが、サリチル酸メチル、サリチル酸フェニル、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジル、4−ヒドロキシ安息香酸ブチルおよび4−ヒドロキシ安息香酸メチルである、請求項28に記載の組成物。   30. The composition of claim 28, wherein the substituted aromatic ester is methyl salicylate, phenyl salicylate, benzyl 4-hydroxybenzoate, butyl 4-hydroxybenzoate and methyl 4-hydroxybenzoate. 前記置換芳香族アミドが、3−ニトロベンズアミドおよび(2’−ヒドロキシエチル)−2,4−ジヒドロキシベンズアミドである、請求項28に記載の組成物。   29. The composition of claim 28, wherein the substituted aromatic amide is 3-nitrobenzamide and (2'-hydroxyethyl) -2,4-dihydroxybenzamide. 親水性リソグラフ印刷表面上に、放射線感受性組成物の層を含む、ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体であって、ここで、前記組成物が
a.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより誘導されるアセタール樹脂、
および
b.現像促進化合物
を含み、
前記アセタール樹脂が次式の構造を有する、前記ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体。
Figure 2010146013
ここで、R1は−Cn2n+1(ここでn=1〜12)であり、R2は、
Figure 2010146013
ここで、
4=−OH;
5=−OHまたは−OCH3またはBr−または−O−CH2−C≡CH、そして
6=Br−またはNO2
3=−(CH2t−COOH、−C≡CH、または
Figure 2010146013
ここでR7=COOH、−(CH2t−COOH、−O−(CH2t−COOH、
そして、ここでt=1〜4であり、そして
ここで
b=5〜40モル%、好ましくは15〜35モル%
c=10〜60モル%、好ましくは20〜40モル%
d=0〜20モル%、好ましくは0〜10モル%
e=2〜20モル%、好ましくは1〜10モル%、そして
f=5〜50モル%、好ましくは15〜40モル%である、
A positive working lithographic printing precursor comprising a layer of radiation sensitive composition on a hydrophilic lithographic printing surface, wherein said composition comprises a. An acetal resin derived by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
And b. A development accelerator compound,
The positive working lithographic printing precursor, wherein the acetal resin has the structure:
Figure 2010146013
Here, R 1 is —C n H 2n + 1 (where n = 1 to 12), and R 2 is
Figure 2010146013
here,
R 4 = —OH;
R 5 = —OH or —OCH 3 or Br— or —O—CH 2 —C≡CH, and B 6 = Br— or NO 2 ;
R 3 = — (CH 2 ) t —COOH, —C≡CH, or
Figure 2010146013
Where R 7 = COOH, — (CH 2 ) t —COOH, —O— (CH 2 ) t —COOH,
And where t = 1-4 and where b = 5-40 mol%, preferably 15-35 mol%
c = 10-60 mol%, preferably 20-40 mol%
d = 0 to 20 mol%, preferably 0 to 10 mol%
e = 2 to 20 mol%, preferably 1 to 10 mol%, and f = 5 to 50 mol%, preferably 15 to 40 mol%,
前記現像促進化合物が、以下のものの少なくとも1種である、請求項40に記載の前駆体。
a.12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルラジカル、および7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールラジカルの内の少なくとも1種を含むアルコール;
b.ポリオール;
c.1価フェノール;
d.多価フェノール;
e.チオール官能基を含む化合物;
f.カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1種である、アニオン性リチウム塩;
g.リン含有酸のエステル;
h.リン含有酸のアミド;
i.ポリシロキサン;
j.遊離のヒドロキシル基を有する4級アンモニウム塩;
k.アゾ化合物;
l.−NH−NH−官能基を含む化合物;
m.次式の官能基を含む化合物
Figure 2010146013

n.次式の構造を含む化合物
Figure 2010146013
(ここでXは−S−、S=O、C=OまたはCO2の内の1つであり、そしてここでR13はC1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eであってよいが、ここでEは次式で与えられ、
Figure 2010146013
ここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21はHおよびOHの内の1つであってよい)
o.置換芳香族酸;
p.置換芳香族エステル;
q.置換芳香族アミド;および
r.スルホン官能基を含む化合物。
41. The precursor of claim 40, wherein the development promoting compound is at least one of the following.
a. An alcohol containing at least one of an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, a fluoroalkyl radical containing 4 to 60 carbon atoms, and a fluoroalkylaryl radical containing 7 to 60 carbon atoms;
b. Polyols;
c. Monohydric phenol;
d. Polyphenols;
e. A compound containing a thiol functional group;
f. An anionic lithium salt which is one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite;
g. Esters of phosphorus-containing acids;
h. An amide of a phosphorus-containing acid;
i. Polysiloxane;
j. A quaternary ammonium salt having a free hydroxyl group;
k. An azo compound;
l. A compound containing an NH-NH-functional group;
m. Compounds containing functional groups of the formula
Figure 2010146013
;
n. A compound containing the structure
Figure 2010146013
(Wherein X is one of —S—, S═O, C═O or CO 2 , and R 13 may be C 1 -C 12 alkyl, benzyl or structure E, Where E is given by:
Figure 2010146013
Here, R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of H and OH)
o. Substituted aromatic acids;
p. Substituted aromatic esters;
q. A substituted aromatic amide; and r. A compound containing a sulfone functional group.
前記多価フェノールが、レソルシノール、4−ヘキシルレソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、および1−ナフトールの内の少なくとも1種である、請求項41に記載の前駆体。   42. The precursor of claim 41, wherein the polyhydric phenol is at least one of resorcinol, 4-hexylresorcinol, n-dodecylresorcinol, and 1-naphthol. ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体であって、親水性リソグラフ印刷表面上に放射線感受性組成物の層を含み、前記組成物が
a.レソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、4−ヘキシルレソルシノールおよび1−ナフトールの内の少なくとも1種、
b.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより形成されるアセタール樹脂、
c.溶解抑制剤、および
d.赤外光−熱転化用化合物、
を含む、ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体。
A positive working lithographic printing precursor comprising a layer of a radiation sensitive composition on a hydrophilic lithographic printing surface, the composition comprising: a. At least one of resorcinol, n-dodecylresorcinol, 4-hexylresorcinol and 1-naphthol,
b. An acetal resin formed by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
c. A dissolution inhibitor, and d. Infrared light-heat conversion compound,
A positive working lithographic printing precursor.
ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体を作製するための方法であって、前記方法が、親水性リソグラフ印刷表面を放射線感受性組成物の層を用いてコーティングする工程、および前記層を乾燥させる工程を含み、
ここで前記組成物が、
a.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより誘導されるアセタール樹脂、および
b.現像促進化合物、を含む、
方法。
A method for making a positive working lithographic printing precursor, the method comprising: coating a hydrophilic lithographic printing surface with a layer of radiation sensitive composition; and drying the layer. ,
Wherein the composition is
a. An acetal resin derived by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde, and b. A development accelerator compound,
Method.
前記組成物が、赤外光−熱転化用化合物をさらに含む、請求項44に記載の方法。   45. The method of claim 44, wherein the composition further comprises an infrared light-to-heat converting compound. 前記組成物が溶解抑制剤をさらに含む、請求項45に記載の方法。   46. The method of claim 45, wherein the composition further comprises a dissolution inhibitor. 前記現像促進化合物が、以下のものの少なくとも1種である、請求項45に記載の方法。
a.12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルラジカル、および7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールラジカルの内の少なくとも1種を含むアルコール;
b.ポリオール;
c.1価フェノール;
d.多価フェノール;
e.チオール官能基を含む化合物;
f.カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1種である、アニオン性リチウム塩;
g.リン含有酸のエステル;
h.リン含有酸のアミド;
i.ポリシロキサン;
j.遊離のヒドロキシル基を有する4級アンモニウム塩;
k.アゾ化合物;
l.−NH−NH−官能基を含む化合物;
m.次式の官能基を含む化合物
Figure 2010146013

n.次式の構造を含む化合物
Figure 2010146013
(ここでXは−S−、S=O、C=OまたはCO2の内の1つであり、そしてここでR13はC1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eであってよいが、ここでEは次式で与えられ、
Figure 2010146013
ここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21はHおよびOHの内の1つであってよい)
o.置換芳香族酸;
p.置換芳香族エステル;
q.置換芳香族アミド;および
r.スルホン官能基を含む化合物。
46. The method of claim 45, wherein the development promoting compound is at least one of the following.
a. An alcohol containing at least one of an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, a fluoroalkyl radical containing 4 to 60 carbon atoms, and a fluoroalkylaryl radical containing 7 to 60 carbon atoms;
b. Polyols;
c. Monohydric phenol;
d. Polyphenols;
e. A compound containing a thiol functional group;
f. An anionic lithium salt which is one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite;
g. Esters of phosphorus-containing acids;
h. An amide of a phosphorus-containing acid;
i. Polysiloxane;
j. A quaternary ammonium salt having a free hydroxyl group;
k. An azo compound;
l. A compound containing an NH-NH-functional group;
m. Compounds containing functional groups of the formula
Figure 2010146013
;
n. A compound containing the structure
Figure 2010146013
(Wherein X is one of —S—, S═O, C═O or CO 2 , and R 13 may be C 1 -C 12 alkyl, benzyl or structure E, Where E is given by:
Figure 2010146013
Here, R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of H and OH)
o. Substituted aromatic acids;
p. Substituted aromatic esters;
q. A substituted aromatic amide; and r. A compound containing a sulfone functional group.
前記ポリオールがジメチコーンコポリオールである、請求項47に記載の方法。   48. The method of claim 47, wherein the polyol is dimethicone copolyol. 前記多価フェノールが、レソルシノール、4−ヘキシルレソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、および1−ナフトールの内の少なくとも1種である、請求項47に記載の方法。   48. The method of claim 47, wherein the polyhydric phenol is at least one of resorcinol, 4-hexylresorcinol, n-dodecylresorcinol, and 1-naphthol. 前記多価フェノールが、ピロガロール、フロログルシノール、1,2,4−ベンゼントリオール、およびそれらのアルキルおよびフルオロアルキル誘導体の内の1種である、請求項47に記載の方法。   48. The method of claim 47, wherein the polyhydric phenol is one of pyrogallol, phloroglucinol, 1,2,4-benzenetriol, and their alkyl and fluoroalkyl derivatives. 前記アニオン性リチウム塩が、3−(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)プロピオン酸リチウムおよび3−[(1H,1H,2H,2H−フルオロアルキル)チオプロピオン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムならびにペルフルオロオクチルエチルスルホン酸リチウムの内の1種である、請求項47に記載の方法。   The anionic lithium salt is lithium 3- (1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) propionate and lithium 3-[(1H, 1H, 2H, 2H-fluoroalkyl) thiopropionate, lithium trifluoromethanesulfonate. 48. The method of claim 47, wherein the method is one of lithium perfluorooctylethylsulfonate. 前記リン含有酸のエステルが、P(OH)(OR)2、P(OH)2(OR)、P(OH)2[O−R−N(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)2[O−R−NH(CH2−CH2−OH)2](ここでRは、アルキル、アリール、アルキルアリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらの組合せ)の内の1種である、請求項47に記載の方法。 The ester of the phosphorus-containing acid is P (OH) (OR) 2 , P (OH) 2 (OR), P (OH) 2 [ORN (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P (OR) 2 [O—R—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ] (where R is alkyl, aryl, alkylaryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide, or combinations thereof) 48. The method of claim 47, wherein: 前記リン含有酸のエステルが、ノニルフェノールリン酸エステルである、請求項47に記載の方法。   48. The method of claim 47, wherein the ester of phosphorus-containing acid is nonylphenol phosphate. 前記リン含有酸のアミドが、P(OH)(ONHR)2、P(OH)2(ONHR)、P(OR)2[O−NH(CH2−CH2−OH)2]、P(OR)[O−NH(CH2−CH2−OH)22(ここでRは、アルキル、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらの組合せ)の内の1種である、請求項47に記載の方法。 The amide of the phosphorus-containing acid is P (OH) (ONHR) 2 , P (OH) 2 (ONHR), P (OR) 2 [O—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ], P (OR 48. The method of claim 47, wherein R is one of [O—NH (CH 2 —CH 2 —OH) 2 ] 2, wherein R is alkyl, aryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide, or combinations thereof. the method of. 前記ポリシロキサンが、R[OSi(OCH32n−Si(OCH3)(OH)2(ここでRは、アルキ(アルキル)、アリール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド基またはそれらの組合せであり、n=2〜1000)である、請求項47に記載の方法。 The polysiloxane is R [OSi (OCH 3 ) 2 ] n —Si (OCH 3 ) (OH) 2 (where R is an alkyl (alkyl), aryl, polyethylene oxide, polypropylene oxide group or a combination thereof). 48. The method of claim 47, wherein n = 2 to 1000). 前記置換芳香族酸が、2−ニトロ安息香酸、3−ニトロ安息香酸、4−ニトロ安息香酸、2,4−ジニトロ安息香酸、2,4−ジクロロ安息香酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸および3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の内の少なくとも1種である、請求項47に記載の組成物。   The substituted aromatic acid is 2-nitrobenzoic acid, 3-nitrobenzoic acid, 4-nitrobenzoic acid, 2,4-dinitrobenzoic acid, 2,4-dichlorobenzoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid and 48. The composition of claim 47, wherein the composition is at least one of 3-hydroxy-2-naphthoic acid. 前記置換芳香族エステルが、サリチル酸メチル、サリチル酸フェニル、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジル、4−ヒドロキシ安息香酸ブチルおよび4−ヒドロキシ安息香酸メチルである、請求項47に記載の組成物。   48. The composition of claim 47, wherein the substituted aromatic ester is methyl salicylate, phenyl salicylate, benzyl 4-hydroxybenzoate, butyl 4-hydroxybenzoate and methyl 4-hydroxybenzoate. 前記置換芳香族アミドが、3−ニトロベンズアミドおよび(2’−ヒドロキシエチル)−2,4−ジヒドロキシベンズアミドである、請求項47に記載の組成物。   48. The composition of claim 47, wherein the substituted aromatic amide is 3-nitrobenzamide and (2'-hydroxyethyl) -2,4-dihydroxybenzamide. ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体を作製するための方法であって、前記方法が、親水性リソグラフ印刷表面を放射線感受性組成物の層を用いてコーティングする工程、および前記層を乾燥させる工程を含み、ここで、前記組成物が
a.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより誘導されるアセタール樹脂、
および
b.現像促進化合物
を含み、
前記アセタール樹脂が次式の構造を有する、前記方法。
Figure 2010146013
ここで、R1は−Cn2n+1(ここでn=1〜12)であり、R2は、
Figure 2010146013
ここで、
4=−OH;
5=−OHまたは−OCH3またはBr−または−O−CH2−C≡CH、そして
6=Br−またはNO2
3=−(CH2t−COOH、−C≡CH、または
Figure 2010146013
ここでR7=COOH、−(CH2t−COOH、−O−(CH2t−COOH、
そして、ここでt=1〜4であり、そして
ここで
b=5〜40モル%、好ましくは15〜35モル%
c=10〜60モル%、好ましくは20〜40モル%
d=0〜20モル%、好ましくは0〜10モル%
e=2〜20モル%、好ましくは1〜10モル%、そして
f=5〜50モル%、好ましくは15〜40モル%である、
A method for making a positive working lithographic printing precursor, the method comprising: coating a hydrophilic lithographic printing surface with a layer of radiation sensitive composition; and drying the layer. Wherein the composition is a. An acetal resin derived by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
And b. A development accelerator compound,
The method, wherein the acetal resin has a structure of the following formula:
Figure 2010146013
Here, R 1 is —C n H 2n + 1 (where n = 1 to 12), and R 2 is
Figure 2010146013
here,
R 4 = —OH;
R 5 = —OH or —OCH 3 or Br— or —O—CH 2 —C≡CH, and B 6 = Br— or NO 2 ;
R 3 = — (CH 2 ) t —COOH, —C≡CH, or
Figure 2010146013
Where R 7 = COOH, — (CH 2 ) t —COOH, —O— (CH 2 ) t —COOH,
And where t = 1-4 and where b = 5-40 mol%, preferably 15-35 mol%
c = 10-60 mol%, preferably 20-40 mol%
d = 0 to 20 mol%, preferably 0 to 10 mol%
e = 2 to 20 mol%, preferably 1 to 10 mol%, and f = 5 to 50 mol%, preferably 15 to 40 mol%,
前記現像促進化合物が、以下のものの少なくとも1種である、請求項59に記載の方法。
a.12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルラジカル、および7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールラジカルの内の少なくとも1種を含むアルコール;
b.ポリオール;
c.1価フェノール;
d.多価フェノール;
e.チオール官能基を含む化合物;
f.カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1種である、アニオン性リチウム塩;
g.リン含有酸のエステル;
h.リン含有酸のアミド;
i.ポリシロキサン;
j.遊離のヒドロキシル基を有する4級アンモニウム塩;
k.アゾ化合物;
l.−NH−NH−官能基を含む化合物;
m.次式の官能基を含む化合物
Figure 2010146013

n.次式の構造を含む化合物
Figure 2010146013
(ここでXは−S−、S=O、C=OまたはCO2の内の1つであり、そしてここでR13はC1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eであってよいが、ここでEは次式で与えられ、
Figure 2010146013
ここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21はHおよびOHの内の1つであってよい)
o.置換芳香族酸;
p.置換芳香族エステル;
q.置換芳香族アミド;および
r.スルホン官能基を含む化合物。
60. The method of claim 59, wherein the development promoting compound is at least one of the following.
a. An alcohol containing at least one of an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, a fluoroalkyl radical containing 4 to 60 carbon atoms, and a fluoroalkylaryl radical containing 7 to 60 carbon atoms;
b. Polyols;
c. Monohydric phenol;
d. Polyphenols;
e. A compound containing a thiol functional group;
f. An anionic lithium salt which is one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite;
g. Esters of phosphorus-containing acids;
h. An amide of a phosphorus-containing acid;
i. Polysiloxane;
j. A quaternary ammonium salt having a free hydroxyl group;
k. An azo compound;
l. A compound containing an NH-NH-functional group;
m. Compounds containing functional groups of the formula
Figure 2010146013
;
n. A compound containing the structure
Figure 2010146013
(Wherein X is one of —S—, S═O, C═O or CO 2 , and R 13 may be C 1 -C 12 alkyl, benzyl or structure E, Where E is given by:
Figure 2010146013
Here, R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of H and OH)
o. Substituted aromatic acids;
p. Substituted aromatic esters;
q. A substituted aromatic amide; and r. A compound containing a sulfone functional group.
前記多価フェノールが、レソルシノール、4−ヘキシルレソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、および1−ナフトールの内の少なくとも1種である、請求項60に記載の方法。   61. The method of claim 60, wherein the polyhydric phenol is at least one of resorcinol, 4-hexyl resorcinol, n-dodecyl resorcinol, and 1-naphthol. ポジ型作動のリソグラフ印刷前駆体を作製するための方法であって、前記方法が、親水性リソグラフ印刷表面を放射線感受性組成物の層を用いてコーティングする工程、および前記層を乾燥させる工程を含み、ここで、前記組成物が
a.レソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、4−ヘキシルレソルシノールおよび1−ナフトールの内の少なくとも1種、
b.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより形成されるアセタール樹脂、
c.溶解抑制剤、および
d.赤外光−熱転化用化合物、
を含む、前記方法。
A method for making a positive working lithographic printing precursor, the method comprising: coating a hydrophilic lithographic printing surface with a layer of radiation sensitive composition; and drying the layer. Wherein the composition is a. At least one of resorcinol, n-dodecylresorcinol, 4-hexylresorcinol and 1-naphthol,
b. An acetal resin formed by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
c. A dissolution inhibitor, and d. Infrared light-heat conversion compound,
Said method.
リソグラフ印刷マスターを作製するための方法であって、前記方法は、
a.親水性リソグラフ印刷表面上に、放射線感受性組成物の層を含む、リソグラフ印刷前駆体を具備する工程であって、前記組成物は、
i.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより誘導されるアセタール樹脂、
および
ii.現像促進化合物
を含む組成物である、前記工程と、
b.画像形成照射を用いて前記の層の領域を像様に照射して、前記照射された領域において前記層をアルカリ性水溶液により溶解しやすくする工程と、
を含む前記方法。
A method for making a lithographic printing master, the method comprising:
a. Comprising a lithographic printing precursor comprising a layer of a radiation sensitive composition on a hydrophilic lithographic printing surface, the composition comprising:
i. An acetal resin derived by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
And ii. The step, which is a composition comprising a development accelerating compound;
b. Irradiating the region of the layer imagewise using image forming radiation to facilitate dissolution of the layer in the irradiated region with an alkaline aqueous solution;
Including said method.
前記組成物が、赤外光−熱転化用化合物をさらに含む、請求項63に記載の方法。   64. The method of claim 63, wherein the composition further comprises an infrared light-to-thermal conversion compound. 前記組成物が溶解抑制剤をさらに含む、請求項64に記載の方法。   65. The method of claim 64, wherein the composition further comprises a dissolution inhibitor. 前記現像促進化合物が、以下のものの少なくとも1種である、請求項64に記載の方法。
a.12〜60個の炭素原子を含むアルキルラジカル、4〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルラジカル、および7〜60個の炭素原子を含むフルオロアルキルアリールラジカルの内の少なくとも1種を含むアルコール;
b.ポリオール;
c.1価フェノール;
d.多価フェノール;
e.チオール官能基を含む化合物;
f.カルボン酸塩、チオカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、硝酸塩および亜硝酸塩の1種である、アニオン性リチウム塩;
g.リン含有酸のエステル;
h.リン含有酸のアミド;
i.ポリシロキサン;
j.遊離のヒドロキシル基を有する4級アンモニウム塩;
k.アゾ化合物;
l.−NH−NH−官能基を含む化合物;
m.次式の官能基を含む化合物
Figure 2010146013

n.次式の構造を含む化合物
Figure 2010146013
(ここでXは−S−、S=O、C=OまたはCO2の内の1つであり、そしてここでR13はC1〜C12アルキル、ベンジルまたは構造Eであってよいが、ここでEは次式で与えられ、
Figure 2010146013
ここで、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21はHおよびOHの内の1つであってよい)
o.置換芳香族酸;
p.置換芳香族エステル;
q.置換芳香族アミド;および
r.スルホン官能基を含む化合物。
65. The method of claim 64, wherein the development promoting compound is at least one of the following.
a. An alcohol containing at least one of an alkyl radical containing 12 to 60 carbon atoms, a fluoroalkyl radical containing 4 to 60 carbon atoms, and a fluoroalkylaryl radical containing 7 to 60 carbon atoms;
b. Polyols;
c. Monohydric phenol;
d. Polyphenols;
e. A compound containing a thiol functional group;
f. An anionic lithium salt which is one of carboxylate, thiocarboxylate, sulfate, sulfonate, phosphate, phosphite, nitrate and nitrite;
g. Esters of phosphorus-containing acids;
h. An amide of a phosphorus-containing acid;
i. Polysiloxane;
j. A quaternary ammonium salt having a free hydroxyl group;
k. An azo compound;
l. A compound containing an NH-NH-functional group;
m. Compounds containing functional groups of the formula
Figure 2010146013
;
n. A compound containing the structure
Figure 2010146013
(Where X is -S-, S = O, one of a C = O or CO 2, and wherein R 13 is C 1 -C 12 alkyl, may be benzyl or structure E, Where E is given by:
Figure 2010146013
Here, R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 may be one of H and OH)
o. Substituted aromatic acids;
p. Substituted aromatic esters;
q. A substituted aromatic amide; and r. A compound containing a sulfone functional group.
前記多価フェノールが、レソルシノール、4−ヘキシルレソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、および1−ナフトールの内の少なくとも1種である、請求項66に記載の前駆体。   The precursor according to claim 66, wherein the polyhydric phenol is at least one of resorcinol, 4-hexylresorcinol, n-dodecylresorcinol, and 1-naphthol. リソグラフ印刷マスターを作製するための方法であって、前記方法が、
a.親水性リソグラフ印刷表面上に放射線感受性組成物の層を含むリソグラフ印刷前駆体を具備する工程であって、前記組成物が、
i.ポリビニルアルコールをアルデヒドと縮合させることにより形成されるアセタール樹脂、
ii.レソルシノール、n−ドデシルレソルシノール、4−ヘキシルレソルシノールおよび1−ナフトールの内の少なくとも1種、
iii.溶解抑制剤、および
iv.赤外光−熱転化用化合物、
を含む工程と、
b.画像形成照射を用いて前記の層の領域を像様に照射して、前記照射された領域において前記層をアルカリ性水溶液により溶解しやすくする工程と、
を含む前記方法。
A method for making a lithographic printing master, the method comprising:
a. Providing a lithographic printing precursor comprising a layer of radiation sensitive composition on a hydrophilic lithographic printing surface, wherein the composition comprises:
i. An acetal resin formed by condensing polyvinyl alcohol with an aldehyde,
ii. At least one of resorcinol, n-dodecylresorcinol, 4-hexylresorcinol and 1-naphthol,
iii. A dissolution inhibitor, and iv. Infrared light-heat conversion compound,
A process including:
b. Irradiating the region of the layer imagewise using image forming radiation to facilitate dissolution of the layer in the irradiated region with an alkaline aqueous solution;
Including said method.
JP2010000879A 2003-03-14 2010-01-06 Development acceleration of radiation-sensitive element Pending JP2010146013A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/CA2003/000373 WO2003079113A1 (en) 2002-03-15 2003-03-14 Sensitivity enhancement of radiation-sensitive elements
US64791003A 2003-08-25 2003-08-25

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006504077A Division JP4473262B2 (en) 2003-03-14 2004-03-12 Developability of radiation sensitive elements

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010146013A true JP2010146013A (en) 2010-07-01
JP2010146013A5 JP2010146013A5 (en) 2011-04-14

Family

ID=35311042

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006504077A Expired - Fee Related JP4473262B2 (en) 2003-03-14 2004-03-12 Developability of radiation sensitive elements
JP2010000879A Pending JP2010146013A (en) 2003-03-14 2010-01-06 Development acceleration of radiation-sensitive element

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006504077A Expired - Fee Related JP4473262B2 (en) 2003-03-14 2004-03-12 Developability of radiation sensitive elements

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP1603749A2 (en)
JP (2) JP4473262B2 (en)
WO (1) WO2004081662A2 (en)

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE602004006378T2 (en) * 2004-04-21 2008-01-10 Agfa Graphics N.V. Method of accurately exposing small dots to a heat-sensitive positive-working planographic printing plate
JP4762604B2 (en) * 2004-06-09 2011-08-31 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
EP1991418A1 (en) 2006-02-28 2008-11-19 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
BRPI0707574B1 (en) * 2006-05-17 2017-06-06 American Dye Source Inc new materials for lithographic plate coatings, lithographic plates and coatings containing them, methods of preparation and use
US7544462B2 (en) * 2007-02-22 2009-06-09 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition and elements with basic development enhancers
US7399576B1 (en) 2007-02-28 2008-07-15 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive composition and elements
US7723012B2 (en) 2007-06-28 2010-05-25 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s
US8198011B2 (en) * 2008-02-04 2012-06-12 Eastman Kodak Company Method of imaging and developing positive-working imageable elements
US8084189B2 (en) 2008-05-22 2011-12-27 Eastman Kodak Company Method of imaging and developing positive-working imageable elements
US8187792B2 (en) * 2008-08-21 2012-05-29 Eastman Kodak Company Processing of positive-working lithographic printing plate precursor
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
US8048609B2 (en) 2008-12-19 2011-11-01 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and elements containing poly(vinyl hydroxyaryl carboxylic acid ester)s
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
EP2284005B1 (en) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
EP2316645B1 (en) 2009-10-27 2012-05-02 AGFA Graphics NV Novel cyanine dyes and lithographic printing plate precursors comprising such dyes
US20110097666A1 (en) 2009-10-27 2011-04-28 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors
EP2366545B1 (en) 2010-03-19 2012-12-05 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US8530143B2 (en) 2010-11-18 2013-09-10 Eastman Kodak Company Silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
US20120192741A1 (en) 2011-01-31 2012-08-02 Moshe Nakash Method for preparing lithographic printing plates
EP2796929B1 (en) 2011-03-31 2015-12-30 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796928B1 (en) 2011-03-31 2015-12-30 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
JP5705675B2 (en) * 2011-07-25 2015-04-22 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor, lithographic printing plate and lithographic printing plate preparation method
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
JP6094271B2 (en) * 2012-03-05 2017-03-15 味の素株式会社 Photosensitive resin composition
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
EP2941349B1 (en) 2013-01-01 2017-07-19 AGFA Graphics NV (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
ES2617557T3 (en) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolymers (ethylene, vinyl acetal) and their use in lithographic printing plate precursors
EP2955198B8 (en) 2014-06-13 2018-01-03 Agfa Nv Ethylene/vinyl acetal-copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers
ES2655798T3 (en) 2014-12-08 2018-02-21 Agfa Nv System to reduce ablation waste
EP3130465B1 (en) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
CN108883629A (en) 2016-03-16 2018-11-23 爱克发有限公司 The method for processing lithographic printing plate
JP2020064082A (en) 2017-02-17 2020-04-23 富士フイルム株式会社 Positive lithographic printing original plate and method for producing lithographic printing plate
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3778253A1 (en) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0229652A (en) * 1988-07-20 1990-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Photoresist composition
JPH11288093A (en) * 1998-04-06 1999-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Positive type photosensitive composition for infrared laser
WO2001009682A2 (en) * 1999-07-30 2001-02-08 Creo, Ltd. Positive acting photoresist composition and imageable element
JP2001205953A (en) * 1999-12-02 2001-07-31 Agfa Gevaert Nv Sensitized heat sensitive printing plate precursor
JP2002080821A (en) * 2000-09-05 2002-03-22 Mitsui Chemicals Inc Photosensitizer and visible light photocuring resin composition using the photosensitizer and its usage
JP2002311577A (en) * 2001-02-08 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of planographic printing plate
JP2003057806A (en) * 2001-08-16 2003-02-28 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for planographic printing plate

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3938788A1 (en) * 1989-11-23 1991-05-29 Hoechst Ag METHOD FOR PRODUCING A NEGATIVE WORKING LIGHT SENSITIVE PRINTING FORM
JP3158386B2 (en) * 1991-09-27 2001-04-23 大日本インキ化学工業株式会社 Thermal recording medium
DE10239505B4 (en) * 2002-08-28 2005-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Heat sensitive positive working lithographic printing plate precursor with high chemical resistance
WO2004057421A2 (en) * 2002-12-19 2004-07-08 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Process for the production of negative working lithographic printing plate precursors with a coating comprising diazo resin

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0229652A (en) * 1988-07-20 1990-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Photoresist composition
JPH11288093A (en) * 1998-04-06 1999-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Positive type photosensitive composition for infrared laser
WO2001009682A2 (en) * 1999-07-30 2001-02-08 Creo, Ltd. Positive acting photoresist composition and imageable element
JP2001205953A (en) * 1999-12-02 2001-07-31 Agfa Gevaert Nv Sensitized heat sensitive printing plate precursor
JP2002080821A (en) * 2000-09-05 2002-03-22 Mitsui Chemicals Inc Photosensitizer and visible light photocuring resin composition using the photosensitizer and its usage
JP2002311577A (en) * 2001-02-08 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of planographic printing plate
JP2003057806A (en) * 2001-08-16 2003-02-28 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for planographic printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006520485A (en) 2006-09-07
JP4473262B2 (en) 2010-06-02
WO2004081662A2 (en) 2004-09-23
WO2004081662A3 (en) 2004-12-02
EP1603749A2 (en) 2005-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4473262B2 (en) Developability of radiation sensitive elements
US7279263B2 (en) Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US6537735B1 (en) Pattern-forming methods and radiation sensitive materials
US6787281B2 (en) Selected acid generating agents and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements
US6251559B1 (en) Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
EP0939698B1 (en) Method for forming lithographic printing plates
US20050003296A1 (en) Development enhancement of radiation-sensitive elements
EP0819980B1 (en) An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP4338641B2 (en) Production of lithographic printing plate precursors
EP0819985B1 (en) A radiation sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6977131B2 (en) Selected polymeric sulfonate acid generators and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements
US6489078B1 (en) IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP2007502440A (en) Heat sensitive positive planographic printing plate precursor
JP4099012B2 (en) Image forming material
US6140022A (en) Radiation sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
EP1673222B1 (en) Process for production of heat-sensitive imageable elements
US6248505B1 (en) Method for producing a predetermined resist pattern
CN100389956C (en) Development enhancement of radiation-sensitive elements
US20080286694A1 (en) Method to obtain a positive-working thermal lithographic printing master
JP2005062875A (en) Thermosensitive lithographic printing plate precursor
JP2005181964A (en) Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20080274424A1 (en) Positive photosensitive element comprising vinyl polymers
WO2002034517A1 (en) Compositions comprising a pigment

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120717

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121017

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130806

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140408