JP2002278050A - Positive type image forming material - Google Patents

Positive type image forming material

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JP2002278050A
JP2002278050A JP2001079530A JP2001079530A JP2002278050A JP 2002278050 A JP2002278050 A JP 2002278050A JP 2001079530 A JP2001079530 A JP 2001079530A JP 2001079530 A JP2001079530 A JP 2001079530A JP 2002278050 A JP2002278050 A JP 2002278050A
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薫 岩戸
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive type image forming material capable of high sensitivity recording, excellent in development latitude and printing resistance and adaptable to a heat mode. SOLUTION: The positive type image forming material contains (1) a water- insoluble and alkali-soluble high molecular compound, (2) a compound which absorbs IR and generates heat and (3) a compound of the formula X<-> M<+> (A) which lowers the solubility of (1) the water-insoluble and alkali-soluble high molecular compound in an alkali developing solution when mixed with the high molecular compound on the base. In the formula (A), X<-> is an anion of a compound of formula (B) or the formula R<c> -COO<-> M<+> (C) and M<+> is a counter cation selected from sulfonium, iodonium, diazonium, ammonium and azinium. In the formula (B), Y is a single bond, -CO- or -SO2 -. In the formula (C), R<c> is alkyl or aryl.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線レーザで書
き込み可能なポジ型の記録層を有する画像形成材料に関
し、詳しくは、現像ラチチュードに優れ、記録層の膜性
が良好で耐傷性に優れたポジ型画像形成材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming material having a positive recording layer writable by an infrared laser, and more particularly, to an image forming material having excellent development latitude, excellent recording layer film properties and excellent scratch resistance. The present invention relates to a positive image forming material.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。これらの赤外線レーザを書
込みに用いるヒートモードポジ型の画像形成において一
般に用いられている系として、ノボラック樹脂の相互作
用を利用した系を挙げることができる。ノボラック樹脂
を用いた画像形成のメカニズムの詳細は明らかではない
が、赤外線レーザー露光により光熱変換剤が発熱し、そ
の熱によってノボラック分子同士の水素結合が切断さ
れ、溶解性が向上する事によってポジ画像が得られると
考えられている。このように、赤外線レーザ用ポジ型画
像形成材料においては、光熱変換剤等は、未露光部(画
像部)の溶解阻止剤として働くのみで、露光部(非画像
部)の溶解を促進する機能を有するわけではなく、未露
光部と露光部との溶解性の差がつき難いという問題があ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light-emitting region from the near infrared to the infrared have been increasing in output and miniaturization. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. As a system generally used in the heat mode positive type image forming using the infrared laser for writing, a system utilizing the interaction of a novolak resin can be exemplified. The details of the mechanism of image formation using novolak resin are not clear, but the photothermal conversion agent generates heat due to infrared laser exposure, and the heat breaks hydrogen bonds between novolak molecules and improves solubility, resulting in positive images. Is believed to be obtained. As described above, in the positive type image forming material for an infrared laser, the photothermal conversion agent only functions as a dissolution inhibitor for the unexposed portion (image portion), and promotes the dissolution of the exposed portion (non-image portion). However, there is a problem that a difference in solubility between an unexposed portion and an exposed portion is hardly obtained.

【0003】一方、UV露光や可視光の露光により画像
形成を行うコンベンショナルタイプのポジ型PS版に
は、ノボラックの溶解性を制御する優れた技術が用いら
れている。最も一般的なナフトキノンジアジド(以下、
適宜、NQDと称する)を用いたポジ型PS版では、未
露光部領域においてはNQDがノボラック樹脂の溶解抑
制(インヒビション)成分として機能し、露光部におい
てはNQDが化学変化してカルボン酸を発生し、溶解促
進(プロモーション)成分として機能するため、露光
部、未露光部の溶解性には大きな差異が生じ、優れたデ
ィスクリミネーションを発現する機構となっている。
On the other hand, a conventional type positive PS plate which forms an image by UV exposure or visible light exposure uses an excellent technique for controlling the solubility of novolak. The most common naphthoquinonediazides (hereinafter,
In the positive PS plate using NQD), NQD functions as a novolak resin dissolution inhibiting (inhibition) component in the unexposed area, and NQD is chemically changed in the exposed area to form carboxylic acid. Occurs, and functions as a dissolution accelerating (promotion) component, so that there is a large difference in the solubility between exposed and unexposed portions, and this is a mechanism for developing excellent discrimination.

【0004】このように優れたディスクリミネーション
を発現する機構をサーマルポジ系に導入しようと言う試
みが、種々さなれており、例えば、特開平7−2852
75号公報には、記録層中に、光熱変換剤より供給され
る熱で速やかに分解するが、未露光部では記録層の膜形
成樹脂の溶解抑制剤として機能するオニウム塩化合物を
添加する技術が開示されており、以後、様々な試みが行
われ、露光部/未露光部のディスクリミネーション拡大
に大きく寄与している。近年、前記したような赤外線レ
ーザの開発によるサーマル露光系の進歩によって、画像
形成材料自体の高感度化の要求が高まってきている。例
えば、高感度化や露光部の溶解性向上のために相互作用
の弱い樹脂を用いると画像部の強度が低下し、例えば、
強い現像液を使用した場合に傷が発生するといった耐傷
性に問題が出てくる傾向があり、一方、あまり溶解抑制
能が強いと、弱い現像液を使用した場合に現像不良が発
生するなど、感度が低下する問題もあり、記録層に添加
する溶解抑制剤の機能もまた、溶解抑制能のみならず、
溶解抑制能の解除にも高感度化が要求され、さらなる改
良が望まれているのが現状である。
[0004] Various attempts have been made to introduce a mechanism for developing such excellent discrimination into a thermal positive system.
No. 75 discloses a technique of adding an onium salt compound which functions as a dissolution inhibitor for a film-forming resin of a recording layer in an unexposed portion, although the recording layer is rapidly decomposed by heat supplied from a photothermal conversion agent. Since then, various attempts have been made, and have greatly contributed to the expansion of discrimination of exposed / unexposed portions. In recent years, with the development of the thermal exposure system due to the development of the infrared laser as described above, a demand for higher sensitivity of the image forming material itself has been increased. For example, if a resin having a weak interaction is used to increase the sensitivity and improve the solubility of the exposed area, the strength of the image area decreases, for example,
There is a tendency for problems with scratch resistance such as scratches to occur when a strong developer is used, while, when the dissolution suppressing ability is too strong, poor development occurs when a weak developer is used. There is also a problem that the sensitivity is reduced, the function of the dissolution inhibitor added to the recording layer is not only the dissolution suppression ability,
Higher sensitivity is also required to release the dissolution inhibiting ability, and further improvement is currently desired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は、高感度
な記録が可能であり、アルカリ現像時のラチチュード、
及び、耐傷性に優れた、ヒートモードによる記録可能な
ポジ型画像形成材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above problems, and an object of the present invention is to enable recording with high sensitivity, latitude during alkaline development,
Another object of the present invention is to provide a heat-mode recordable positive image forming material having excellent scratch resistance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、溶解浴性
能を有する化合物について、種々の検討を行ったとこ
ろ、特定のカウンターアニオンを持つオニウム塩を溶解
抑制剤として用いることによって、従来より低い露光量
で画像形成可能であり、充分なラチチュードを達成し得
る画像形成材料を得られることを見出し、本発明を完成
した。即ち、本発明のヒートモード対応ポジ型画像形成
材料は、支持体上に(1)アルカリ可溶かつ水不溶な高
分子化合物、(2)赤外線を吸収し熱を発生する化合物
及び、(3)下記一般式(A)で表される化合物、とを
含有することを特徴とする。この化合物は、成分(1)
の高分子化合物と混合することによって該高分子化合物
の水又はアルカリ現像液に対する溶解性を下げる機能を
有する。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted various studies on compounds having a dissolving bath performance, and have found that by using an onium salt having a specific counter anion as a dissolution inhibitor, It has been found that an image-forming material capable of forming an image with a low exposure amount and achieving a sufficient latitude can be obtained, and the present invention has been completed. That is, the heat-mode-compatible positive image forming material of the present invention comprises (1) an alkali-soluble and water-insoluble polymer compound on a support, (2) a compound that absorbs infrared rays and generates heat, and (3) And a compound represented by the following general formula (A). This compound comprises the component (1)
Has a function of lowering the solubility of the polymer compound in water or an alkali developing solution by mixing with the polymer compound.

【0007】一般式(A) X-+ 式中、X-は下記一般式(B)で示される化合物のアニ
オン又は一般式(C)で示される化合物のアニオン部を
示し、M+はスルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウ
ム、アンモニウム、アジニウムから選択される対カチオ
ンを表す。
[0007] Formula (A) X - M + wherein, X - represents an anion moiety of the compound represented by anionic or formula of the compound represented by the following general formula (B) (C), M + is a sulfonium , Iodonium, diazonium, ammonium, azinium.

【0008】[0008]

【化2】 Embedded image

【0009】一般式(B)中、Yは単結合、−CO−又
は、−SO2−を表し、Ra、Rbはそれぞれ独立に、直
鎖、分岐又は環状のアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、樟脳基を表す。RaとRbとは、アルキレン基、ア
リーレン基、アラルキル基を介して結合し、環を形成し
ても良い。Yが−CO−基の場合、Rbは水酸基、アル
コキシ基であってもよい。
In the general formula (B), Y represents a single bond, —CO— or —SO 2 —, and R a and R b are each independently a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, Represents an aralkyl group and a camphor group. R a and R b may be bonded via an alkylene group, an arylene group, or an aralkyl group to form a ring. When Y is a —CO— group, R b may be a hydroxyl group or an alkoxy group.

【0010】一般式(C) RC−COO-+ 一般式(C)中、RCはアルキル基又はアリール基を表
し、M+は一般式(A)におけるのと同義である。
Formula (C) R C -COO - M + In Formula (C), R C represents an alkyl group or an aryl group, and M + has the same meaning as in Formula (A).

【0011】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義
について詳述する。Hans−Joachim Tim
pe,IS&Ts NIP 15:1999 Inte
rnational Conference on D
igital Printing Technolog
ies.P.209に記載されているように、感光体材
料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化
学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸
収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロ
セスには大きく分けて二つのモードが存在することが知
られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料
中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例え
ば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、
その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に
必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォ
トンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質
が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述
の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こす
いわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に
集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレ
ーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子
吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。
In the present invention, "corresponding to a heat mode" means that recording by heat mode exposure is possible. The definition of the heat mode exposure in the present invention will be described in detail. Hans-Joachim Tim
pe, IS & Ts NIP 15: 1999 Inte
rational Conference on D
digital printing technology
ies. P. As described in 209, a photoabsorbing substance (for example, a dye) is photoexcited in a photoreceptor material, and undergoes a chemical or physical change to form a chemical or physical change from the photoexcitation of the photoabsorbing substance forming an image. It is known that there are two modes roughly divided into the above processes. One is that the photoexcited light absorbing substance is deactivated by some photochemical interaction (eg, energy transfer, electron transfer) with other reactants in the photosensitive material,
As a result, a so-called photon mode in which the activated reactant causes the above-mentioned chemical or physical change required for image formation, and the other is that the photo-excited light-absorbing substance generates heat and deactivates, This is a so-called heat mode in which a reactant causes a chemical or physical change required for image formation using the above-described method. In addition, there are special modes such as ablation in which substances are explosively scattered by the energy of light locally collected and multiphoton absorption in which one molecule absorbs many photons at a time, but these modes are omitted here.

【0012】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
トンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により1光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。
The exposure process using each of the above modes is called photon mode exposure and heat mode exposure. The technical difference between photon mode exposure and heat mode exposure is whether or not the energy amount of several photons to be exposed can be added to the energy amount of the target reaction.
For example, consider a case where a certain reaction occurs using n photons. In photon mode exposure, since photochemical interaction is used, the energy of one photon cannot be added and used due to the requirement of the law of conservation of quantum energy and momentum. That is, in order to cause a certain reaction, the relationship of “energy amount of one photon ≧ energy amount of reaction” is necessary. On the other hand, in the heat mode exposure, heat is generated after light excitation, and light energy is converted into heat and used, so that the amount of energy can be added. Therefore, the relationship “energy amount of n photons ≧ energy amount of reaction” is sufficient. However, this energy addition is restricted by thermal diffusion. That is, if the next photoexcitation-deactivation process occurs and heat is generated before the heat escapes from the exposed portion (reaction point) of interest by thermal diffusion, the heat is reliably accumulated and added, and the temperature rises in that portion. Leads to. However, when the next heat is generated slowly, the heat escapes and is not accumulated. In other words, in the heat mode exposure, the result is different between the case of irradiating a high energy light for a short time and the case of irradiating a low energy light for a long time even at the same total exposure energy. It becomes advantageous for accumulation of.

【0013】無論、フォトンモード露光では後続反応種
の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本
的には、このようなことは起こらない。即ち、感光材料
の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー
密度(w/cm2)(=単位時間当たりのエネルギー密
度)に対し感光材料の固有感度(画像形成に必要な反応
のためのエネルギー量)は一定となるが、ヒートモード
では露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇す
ることになる。従って、実際に画像記録材料として実用
上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定す
ると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光で
は通常は約0.1mJ/cm2程度の高感度化が達成で
きるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、
未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対
し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でない
と反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係か
ら通常は50mJ/cm2程度が必要となるが、低露光
カブリの問題が回避される。そして、事実上ヒートモー
ド露光では感光材料の版面での露光パワー密度が500
0w/cm2以上が必要であり、好ましくは10000
w/cm2以上が必要となる。但し、ここでは詳しく述
べなかったが5.0×105w/cm2以上の高パワー密
度レーザーを利用するとアブレーションが起こり、光源
を汚す等の問題から好ましくない。
Of course, in the photon mode exposure, a similar phenomenon may occur due to the influence of the diffusion of the subsequent reactive species, but basically, this does not occur. That is, in terms of the characteristics of the photosensitive material, in the photon mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material (energy for the reaction required for image formation) with respect to the exposure power density (w / cm 2 ) (= energy density per unit time). Amount) is constant, but in the heat mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material increases with respect to the exposure power density. Therefore, if the exposure time is fixed such that the productivity necessary for practical use as an image recording material can be maintained, the photon mode exposure usually has a high sensitivity of about 0.1 mJ / cm 2 when comparing the modes. Reaction can be achieved at any low exposure, although
The problem of low-exposure fog in the unexposed area is likely to occur. On the other hand, in the heat mode exposure, a reaction does not occur unless the exposure amount exceeds a certain value, and usually about 50 mJ / cm 2 is required in relation to the thermal stability of the photosensitive material. Is avoided. In fact, in heat mode exposure, the exposure power density on the plate surface of the photosensitive material is 500
0 w / cm 2 or more, preferably 10,000
w / cm 2 or more is required. However, although not described in detail here, if a high power density laser of 5.0 × 10 5 w / cm 2 or more is used, ablation occurs, which is not preferable because of problems such as soiling the light source.

【0014】本発明の作用は明確ではないが、本発明に
係る前記一般式(A)で示される溶解抑制剤を添加する
ことにより、画像部の現像液に対する耐性が強化され、
より活性の高い現像液に対して画像部が損傷を受け難く
なる。一方、前記化合物は、カウンターアニオンとし
て、一般式(B)では、スルホンアミド構造を有する化
合物、一般式(C)では、カルボキシレートを用いてい
るため、一般的に用いられるスルホナート(−SO3 -
や無機塩(PF6 -,SbF6 -,BF4 -)をカウンターア
ニオンに有する化合物に比べ、熱分解温度が低くなり、
いずれも熱分解性が向上し、赤外線レーザ露光により効
果的に分解反応が起こり、露光部の溶解抑制作用を高感
度で十分に解除することが可能である。この結果、画像
部は高活性な現像液に対しても高い耐性を有しながら、
非画像部の現像性はほとんど低下しないという、優れた
現像ラチチュードを達成しうるものと考えられる。さら
に、本発明に係る前記溶解抑制剤を添加することによっ
て、バインダーポリマーの相互作用が強化され、膜強度
向上効果も得られた。
Although the function of the present invention is not clear, the addition of the dissolution inhibitor represented by the general formula (A) according to the present invention enhances the resistance of the image area to a developing solution,
The image area is less likely to be damaged by a more active developer. On the other hand, since the compound uses a compound having a sulfonamide structure in the general formula (B) and a carboxylate in the general formula (C) as a counter anion, it generally uses a sulfonate (—SO 3 −). )
Thermal decomposition temperature is lower than compounds having a counter anion or an inorganic salt (PF 6 , SbF 6 , BF 4 )
In each case, the thermal decomposability is improved, and a decomposition reaction occurs effectively by infrared laser exposure, so that the dissolution suppressing action of the exposed portion can be sufficiently released with high sensitivity. As a result, the image area has high resistance to a highly active developer,
It is considered that excellent development latitude, in which the developability of the non-image area hardly decreases, can be achieved. Further, by adding the dissolution inhibitor according to the present invention, the interaction of the binder polymer was strengthened, and an effect of improving the film strength was obtained.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明の画像形成材料は記録層に(1)水不溶性且つアル
カリ可溶性高分子化合物、(2)赤外線を吸収し、熱を
発生する化合物、及び、(3)下記一般式(A)で表さ
れ、成分(1)アルカリ可溶かつ水不溶な高分子化合物
と混合することによって該高分子化合物の水又はアルカ
リ現像液に対する溶解性を下げる化合物、を含有するこ
とを要する。以下に、記録層を構成する成分について順
次説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The image forming material of the present invention is represented by (1) a water-insoluble and alkali-soluble polymer compound in a recording layer, (2) a compound that absorbs infrared rays and generates heat, and (3) a compound represented by the following general formula (A). And the component (1), which is required to contain a compound which lowers the solubility of the polymer compound in water or an alkali developer by mixing with a polymer compound which is soluble in water and alkali-soluble. Hereinafter, components constituting the recording layer will be sequentially described.

【0016】〔(3)下記一般式(A)で表される化合
物〕 一般式(A) X-+ 式中、X-は一般式(B)で示される化合物のアニオン
又は一般式(C)で示される化合物のアニオンを示し、
+はスルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、ア
ンモニウム、アジニウムから選択される対カチオンを表
す。まず、X-が、下記一般式(B)で示される化合物
のアニオンである場合について述べる。
[(3) Compound represented by the following general formula (A)] wherein X - is an anion of the compound represented by the general formula (B) or X - M + ) Represents the anion of the compound represented by
M + represents a counter cation selected from sulfonium, iodonium, diazonium, ammonium and azinium. First, the case where X is an anion of a compound represented by the following general formula (B) will be described.

【0017】[0017]

【化3】 Embedded image

【0018】一般式(B)中、Yは単結合、−CO−、
又は−SO2−を表す。感度、安定性の観点からは、Y
が−CO−であることが好ましく、また、一般式(B)
で表される化合物のpKaが0〜6であることがさらに
好ましい態様である。Ra、Rbはそれぞれ独立に、直
鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アラル
キル基、樟脳基を表す。RaとRbがアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基を介して結合して環を形成し
てもよい。Yが−CO−基の場合、Rbは水酸基、アル
コキシ基でもよい。Ra、Rbは好ましくは炭素原子数1
〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のアリール基
又は炭素原子数1〜20のアラルキル基を表す。これら
アルキル基、アリール基又はアラルキル基は置換基を有
していてもよく、導入可能な置換基としては、具体的に
は、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル
基、アリール基、アルキニル基、アミノ基、シアノ基、
水酸基、ハロゲン原子、アミド基、エステル基、カルボ
ニル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミ
ド基、ニトロ基等が挙げられ、これらはさらに上記のよ
うな置換基を有するものであってもよい。さらに、2以
上の置換基が互いに結合して環を形成していてもよく、
また、環構造は窒素原子や硫黄原子などを含むヘテロ環
構造であってもよい。
In the general formula (B), Y is a single bond, -CO-,
Or -SO 2 - represents a. From the viewpoint of sensitivity and stability, Y
Is preferably -CO-, and the compound represented by the general formula (B)
In a more preferred embodiment, the compound represented by the formula (1) has a pKa of 0 to 6. R a and R b each independently represent a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, aralkyl group, or camphor group. Ra and Rb may be bonded via an alkylene group, an arylene group, or an aralkylene group to form a ring. When Y is a -CO- group, Rb may be a hydroxyl group or an alkoxy group. R a and R b are preferably 1 carbon atom
Represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 1 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 1 to 20 carbon atoms. These alkyl group, aryl group or aralkyl group may have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include, for example, an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, an aryl group, an alkynyl group, Amino group, cyano group,
Examples thereof include a hydroxyl group, a halogen atom, an amide group, an ester group, a carbonyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonamide group, and a nitro group. These may further have the above-mentioned substituents. Further, two or more substituents may be bonded to each other to form a ring,
Further, the ring structure may be a heterocyclic structure containing a nitrogen atom, a sulfur atom, or the like.

【0019】この化合物(A)は、成分(1)水不溶性
且つアルカリ可溶性の高分子化合物と混合することによ
って該高分子化合物の水又はアルカリ現像液に対する溶
解性を下げる、成分(1)の溶解抑制剤として機能す
る。以下に、化合物(A)の対アニオンを形成し得る下
記一般式(B)の構造を有する化合物を例示するが本発
明はこれらに制限されるものではない。
The compound (A) is prepared by mixing the component (1) with a water-insoluble and alkali-soluble polymer to lower the solubility of the polymer in water or an alkali developing solution. Functions as an inhibitor. Hereinafter, compounds having a structure of the following general formula (B) capable of forming a counter anion of the compound (A) will be exemplified, but the present invention is not limited thereto.

【0020】[0020]

【化4】 Embedded image

【0021】[0021]

【化5】 Embedded image

【0022】[0022]

【化6】 Embedded image

【0023】[0023]

【化7】 Embedded image

【0024】本発明の画像形成材料において、記録層に
含まれる成分(3)のうち、一般式(B)をアニオン部
に有する化合物としては、より好ましくは下記一般式
(II)及び(III)で表される化合物が挙げられる。こ
れにより、感度、耐傷性が一層優れるようになる。この
化合物を加熱することにより、或いは、本発明の如く赤
外線吸収剤を含有する態様の場合には、赤外線を照射し
て熱を発生させることにより、一般式(II)、(III)
のX-に相当する一般式(B)の構造を有する化合物
が、分解して酸などを発生し、溶解抑制能が解除される
ことになる。
In the image forming material of the present invention, among the components (3) contained in the recording layer, the compound having the general formula (B) in the anion part is more preferably the following general formulas (II) and (III) The compound represented by these is mentioned. Thereby, the sensitivity and the scratch resistance are further improved. By heating this compound or, in the case of an embodiment containing an infrared absorber as in the present invention, irradiating infrared rays to generate heat, the compounds represented by the general formulas (II) and (III)
Of X - a compound having the structure of the corresponding general formula (B) in the, etc. occur decomposed to acid, so that the dissolution suppressing ability is released.

【0025】[0025]

【化8】 Embedded image

【0026】上記式中、R1〜R25は、水素原子、直
鎖、分岐あるいは環状アルキル基、直鎖、分岐あるいは
環状アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、また
は−S−R26基を表す。ここでR26は直鎖、分岐、環状
アルキル基またはアリール基を表す。X-は、一般式
(B)の構造を有する化合物のアニオンである。
In the above formula, R 1 to R 25 represent a hydrogen atom, a straight-chain, branched or cyclic alkyl group, a straight-chain, branched or cyclic alkoxy group, a hydroxy group, a halogen atom, or a —S—R 26 group. . Here, R 26 represents a linear, branched, or cyclic alkyl group or an aryl group. X - is an anion of a compound having a structure of the general formula (B).

【0027】一般式(II)又は一般式(III)におけ
る、R1〜R25の直鎖、分岐アルキル基としては、置換
基を有してもよい、メチル基、エチル基、プロピル基、
n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基のよう
な炭素数1〜4個のものが挙げられる。環状アルキル基
としては、置換基を有してもよい、シクロプロピル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基のような炭素数3
〜8個のものが挙げられる。R1〜R25のアルコキシ基
としては、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキ
シ基、プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ
基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基のような炭素
数2〜4個のものが挙げられる。R1〜R25のハロゲン
原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素
原子を挙げることができる。R26のアリール基として
は、フェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、ナフ
チル基等の炭素数6〜14個のものが挙げられる。アリ
ール基は置換基を有してもよい。R1〜R25の基が有し
得る好ましい置換基としては、炭素数1〜4個のアルコ
キシ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、沃素原
子)、炭素数6〜10個のアリール基、炭素数2〜6個
のアルケニル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ
基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基等が挙げられ
る。
In the general formula (II) or (III), the linear or branched alkyl group of R 1 to R 25 may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, which may have a substituent.
Those having 1 to 4 carbon atoms such as n-butyl group, sec-butyl group and t-butyl group are exemplified. As the cyclic alkyl group, a cyclopropyl group which may have a substituent,
3 carbon atoms such as cyclopentyl and cyclohexyl
To 8 items. Examples of the alkoxy group represented by R 1 to R 25 include a methoxy group, an ethoxy group, a hydroxyethoxy group, a propoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group and a t-butoxy group. One. Examples of the halogen atom for R 1 to R 25 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. The aryl group of R 26, a phenyl group, a tolyl group, methoxyphenyl group include those having 6 to 14 carbon atoms such as naphthyl group. The aryl group may have a substituent. Preferred substituents that the groups R 1 to R 25 may have are an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, and an iodine atom), an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, Examples thereof include an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a cyano group, a hydroxy group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, and a nitro group.

【0028】また、M+はスルホニウム、ヨードニウ
ム、ジアゾニウム、アンモニウム、アジニウムから選択
される対カチオンを表す。ここでアジニウムとは、その
構造内に窒素原子を含む六員環であるアジン環を有する
もので、ピリジニウム、ジアジニウム、トリアジニウム
を含む。アジニウムはアジン環と縮合した1個以上の芳
香族環を含むもので、例えば、キノリニウム、イソキノ
リニウム、ベンゾアジニウム、ナフトアジニウムなどを
包含する。具体的には、例えば、USP4,743,5
28号、特開昭63−138345号、同63−142
345号、同63−142346号、特公昭46−42
363号に記載されるものが挙げられ、1−メトキシ−
4−フェニルピリジニウムテトラフルオロボレート、N
−アルコキシピリジニウム塩類などを形成する対カチオ
ンが例示される。
M + represents a counter cation selected from sulfonium, iodonium, diazonium, ammonium and azinium. Here, azinium has a azine ring which is a six-membered ring containing a nitrogen atom in its structure, and includes pyridinium, diazinium, and triazinium. Azinium contains one or more aromatic rings fused to an azine ring and includes, for example, quinolinium, isoquinolinium, benzoazinium, naphthoazinium and the like. Specifically, for example, USP 4,743,5
No. 28, JP-A-63-138345, JP-A-63-142
No. 345, No. 63-142346, JP-B-46-42
No. 363, and 1-methoxy-
4-phenylpyridinium tetrafluoroborate, N
-Counter cations forming alkoxypyridinium salts and the like.

【0029】これらの対カチオンのなかでも、安定性、
感度の面からヨードニウム、又はスルホニウムを対カチ
オンとして有する化合物が好ましく、さらに、ジアリー
ルヨードニウム又はトリアリールスルホニウム骨格を有
する化合物が好ましい。以下に、一般式(A)で表され
る化合物のうち、アニオン部に一般式(B)で表される
化合物のアニオン部を有する化合物の具体例を、好まし
い対カチオンに対応するカチオン部との組み合わせで示
すが、本発明はこれに制限されるものではない。
Among these counter cations, stability,
From the viewpoint of sensitivity, a compound having iodonium or sulfonium as a counter cation is preferable, and a compound having a diaryliodonium or triarylsulfonium skeleton is more preferable. Hereinafter, among the compounds represented by the general formula (A), specific examples of the compound having the anion part of the compound represented by the general formula (B) in the anion part will be described with a cation part corresponding to a preferable counter cation. Although shown in combination, the present invention is not limited to this.

【0030】スルホニウム骨格の好ましい構造としては
感度、安定性の面からトリアリールスルホニウム骨格が
好ましく、アリール基は前述のアリール基と同様置換さ
れていてもよい。好ましいスルホニウム塩、即ち、一般
式(II)で表される溶解抑制剤として、下記の例示化合
物(II−1)〜(II−28)が挙げられる。
The preferred structure of the sulfonium skeleton is a triarylsulfonium skeleton from the viewpoint of sensitivity and stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the above-mentioned aryl group. Preferred sulfonium salts, namely, the dissolution inhibitors represented by the general formula (II) include the following exemplified compounds (II-1) to (II-28).

【0031】[0031]

【化9】 Embedded image

【0032】[0032]

【化10】 Embedded image

【0033】[0033]

【化11】 Embedded image

【0034】[0034]

【化12】 Embedded image

【0035】また、ヨードニウム骨格の好ましい構造と
しては安定性の面からジアリールヨードニウム骨格が好
ましく、アリール基は前述のアリール基と同様置換され
ていてもよい。好ましいヨードニウム塩、即ち、一般式
(III)で表される溶解抑制剤として、下記の例示化合
物(III−1)〜(III−15)が挙げられる。
The preferred structure of the iodonium skeleton is preferably a diaryliodonium skeleton from the viewpoint of stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the above-mentioned aryl group. Preferred iodonium salts, that is, the dissolution inhibitors represented by the general formula (III) include the following exemplified compounds (III-1) to (III-15).

【0036】[0036]

【化13】 Embedded image

【0037】[0037]

【化14】 Embedded image

【0038】[0038]

【化15】 Embedded image

【0039】[0039]

【化16】 Embedded image

【0040】なお、この一般式(A)で表され、一般式
(B)におけるアニオン部を有する化合物の代表的な合
成例は、本願出願人が先に提案した特願2000−18
4603号明細書の段落番号〔0039〕乃至〔004
3〕に記載されている。
A typical example of the synthesis of the compound represented by the general formula (A) and having an anion moiety in the general formula (B) is described in Japanese Patent Application No. 2000-18, previously proposed by the present applicant.
No. 4603, paragraphs [0039] to [004]
3].

【0041】次に、X-が、下記一般式(C)で示され
る化合物のアニオン部(RC−COO -)である場合につ
いて述べる。 一般式(C) RC−COO-+ 一般式(C)中、RCは好ましくは炭素原子数1〜20
のアルキル基又は炭素原子数1〜20のアリール基を表
す。RCは環構造を有していてもよい。また、これらア
ルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよく、
導入可能な置換基としては、具体的には、例えば、アル
キル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、
アミノ基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子、アミド
基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基等が挙
げられ、これらはさらに上記のような置換基を有するも
のであってもよい。さらに、2以上の置換基が互いに結
合して環を形成していてもよく、また、環構造は窒素原
子や硫黄原子などを含むヘテロ環構造であってもよい。
本発明に係る重合開始剤は、水中でのpKaが2以上で
あることが好ましく、更にpKaが3以上であることが
好ましい。水中でのpKaが2以上であると溶解抑制剤
の熱分解温度が低下する傾向があり、これが感度向上に
寄与すると考えられる。
Next, X-Is represented by the following general formula (C)
Portion of the compound (RC-COO -)
I will describe. General formula (C) RC-COO- M+ In the general formula (C), RCPreferably has 1 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group or an aryl group having 1 to 20 carbon atoms.
You. RCMay have a ring structure. In addition,
The alkyl group or the aryl group may have a substituent,
Specific examples of the substituent which can be introduced include, for example,
A kill group, an alkoxy group, an alkenyl group, an alkynyl group,
Amino group, cyano group, hydroxyl group, halogen atom, amide
Groups, ester groups, carbonyl groups, carboxyl groups, etc.
These further have substituents as described above.
It may be. Further, two or more substituents
May form a ring, and the ring structure is a nitrogen atom.
It may have a heterocyclic structure containing an atom or a sulfur atom.
The polymerization initiator according to the present invention has a pKa in water of 2 or more.
It is preferable that the pKa is 3 or more.
preferable. When the pKa in water is 2 or more, a dissolution inhibitor
Tends to decrease the thermal decomposition temperature of
It is thought to contribute.

【0042】また、M+は前記したのと同義であり、好
ましい態様も同様のものを挙げることができる。以下
に、一般式(A)で表され、対アニオンとして、一般式
(C)で表される化合物のアニオン部を有する溶解抑制
剤の具体例を、好ましい対カチオンに対応するカチオン
部との組み合わせで示すが、本発明はこれに制限される
ものではない。ヨードニウム骨格の好ましい構造として
は安定性の面からジアリールスルホニウム骨格が好まし
く、アリール基は前述のアリール基と同様置換されてい
てもよい。以下に、まず、好ましいヨードニウム塩(ヨ
ードニウムを対カチオンとする)化合物〔例示化合物
(IA−1)〜例示化合物(IJ−8)〕を例示する。
M + has the same meaning as described above, and preferred embodiments include the same. Hereinafter, a specific example of the dissolution inhibitor having the anion portion of the compound represented by the general formula (C) represented by the general formula (A) as a counter anion is described in combination with a cation portion corresponding to a preferable counter cation. However, the present invention is not limited to this. As a preferable structure of the iodonium skeleton, a diarylsulfonium skeleton is preferable from the viewpoint of stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the above-mentioned aryl group. First, preferred iodonium salts (iodonium as a counter cation) compounds [exemplified compounds (IA-1) to (IJ-8)] are exemplified below.

【0043】[0043]

【化17】 Embedded image

【0044】[0044]

【化18】 Embedded image

【0045】[0045]

【化19】 Embedded image

【0046】[0046]

【化20】 Embedded image

【0047】[0047]

【化21】 Embedded image

【0048】[0048]

【化22】 Embedded image

【0049】[0049]

【化23】 Embedded image

【0050】[0050]

【化24】 Embedded image

【0051】[0051]

【化25】 Embedded image

【0052】[0052]

【化26】 Embedded image

【0053】[0053]

【化27】 Embedded image

【0054】[0054]

【化28】 Embedded image

【0055】[0055]

【化29】 Embedded image

【0056】[0056]

【化30】 Embedded image

【0057】[0057]

【化31】 Embedded image

【0058】[0058]

【化32】 Embedded image

【0059】スルホニウム骨格の好ましい構造としては
感度、安定性の面からトリアリールスルホニウム骨格が
好ましく、アリール基は前述のアリール基と同様置換さ
れていてもよい。次に、好ましいスルホニウム塩(スル
ホニウムを対カチオンとする)化合物〔例示化合物(S
A−1)〜例示化合物(SJ−12)〕を例示する。
As a preferred structure of the sulfonium skeleton, a triarylsulfonium skeleton is preferable in terms of sensitivity and stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the above-mentioned aryl group. Next, a preferred sulfonium salt (having sulfonium as a counter cation) compound [exemplary compound (S
A-1) to Exemplified Compound (SJ-12)].

【0060】[0060]

【化33】 Embedded image

【0061】[0061]

【化34】 Embedded image

【0062】[0062]

【化35】 Embedded image

【0063】[0063]

【化36】 Embedded image

【0064】[0064]

【化37】 Embedded image

【0065】[0065]

【化38】 Embedded image

【0066】[0066]

【化39】 Embedded image

【0067】[0067]

【化40】 Embedded image

【0068】[0068]

【化41】 Embedded image

【0069】[0069]

【化42】 Embedded image

【0070】[0070]

【化43】 Embedded image

【0071】[0071]

【化44】 Embedded image

【0072】[0072]

【化45】 Embedded image

【0073】[0073]

【化46】 Embedded image

【0074】[0074]

【化47】 Embedded image

【0075】本発明に係る溶解抑制剤において、カチオ
ン部(R−COO-)を形成するのに適するカルボン酸
(R−COOH)の例を以下に示す。
[0075] In dissolution inhibitor according to the present invention, the cation portion - shows an example of a suitable carboxylic acids for forming the (R-COOH) the following (R-COO).

【0076】[0076]

【化48】 Embedded image

【0077】[0077]

【化49】 Embedded image

【0078】[0078]

【化50】 Embedded image

【0079】[0079]

【化51】 Embedded image

【0080】[0080]

【化52】 Embedded image

【0081】[0081]

【化53】 Embedded image

【0082】[0082]

【化54】 Embedded image

【0083】[0083]

【化55】 Embedded image

【0084】[0084]

【化56】 Embedded image

【0085】[0085]

【化57】 Embedded image

【0086】なお、この一般式(A)で表され、一般式
(C)におけるアニオン部を有する化合物の代表的な合
成例は、本願出願人が先に提案した特願2000−16
0323号明細書の段落番号〔0057〕乃至〔006
0〕に記載されている。
A typical example of the synthesis of the compound represented by the general formula (A) and having an anion moiety in the general formula (C) is described in Japanese Patent Application No. 2000-16, which was previously proposed by the present applicant.
No. 0323, paragraph numbers [0057] to [006]
0].

【0087】本発明の画像形成材料の記録層には、前記
一般式(A)で表される溶解抑制剤は、記録層を構成す
る全固形分中、0.5〜20重量%含有されることが好
ましい。含有量が多すぎると記録層の被膜特性や感度が
低下する傾向があり、含有量が少なすぎると溶解抑制向
上効果が小さくなる。
In the recording layer of the image forming material of the present invention, the dissolution inhibitor represented by the general formula (A) is contained at 0.5 to 20% by weight based on the total solids constituting the recording layer. Is preferred. If the content is too large, the film properties and sensitivity of the recording layer tend to decrease, and if the content is too small, the effect of improving dissolution suppression is reduced.

【0088】〔(1)水不溶性且つアルカリ可溶性高分
子化合物〕本発明で使用される水不溶性且つアルカリ可
溶性高分子化合物(以下、適宜、アルカリ可溶性高分子
と称する)としては、高分子中の主鎖および/または側
鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体ま
たはこれらの混合物を包含する。中でも、下記(1)〜
(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖および/または側
鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性
の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
[(1) Water-Insoluble and Alkali-Soluble Polymer Compound] The water-insoluble and alkali-soluble polymer compound (hereinafter, appropriately referred to as an alkali-soluble polymer) used in the present invention may be selected from the main compounds in the polymer. It includes homopolymers containing an acidic group in the chain and / or side chain, copolymers thereof, or mixtures thereof. Among them, the following (1)-
Those having an acidic group described in (6) in the main chain and / or side chain of the polymer are preferable in terms of solubility in an alkaline developer and development of dissolution inhibiting ability.

【0089】(1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2 NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。) 〔−SO2 NHCOR、−SO2 NHSO2 R、−CO
NHSO2 R〕 (4)カルボン酸基(−CO2 H) (5)スルホン酸基(−SO3 H) (6)リン酸基(−OPO3 2
(1) Phenol group (—Ar—OH) (2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R) (3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”) SO 2 NHCOR, -SO 2 NHSO 2 R, -CO
NHSO 2 R] (4) Carboxylic acid group (—CO 2 H) (5) Sulfonic acid group (—SO 3 H) (6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )

【0090】上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有
していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. .

【0091】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性高分子の中でも、(1)フェノー
ル基、(2)スルホンアミド基および(3)活性イミド
基を有するアルカリ可溶性高分子が好ましく、特に、
(1)フェノール基または(2)スルホンアミド基を有
するアルカリ可溶性高分子が、アルカリ性現像液に対す
る溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する
点から最も好ましい。
Among the alkali-soluble polymers having an acidic group selected from the above (1) to (6), among the alkali-soluble polymers having (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group and (3) an active imide group, Is preferred, and in particular,
An alkali-soluble polymer having (1) a phenol group or (2) a sulfonamide group is most preferable from the viewpoint of ensuring sufficient solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.

【0092】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、以下の
ものを挙げることができる。 (1)フェノール基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重
合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、
m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重
合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、またはm
−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドと
の縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールと
アセトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、
フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重
合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側
鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いること
もできる。
Examples of the alkali-soluble polymer having an acidic group selected from the above (1) to (6) include the following. (1) Examples of the alkali-soluble polymer having a phenol group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde,
Condensed polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (m-, p- or m
-/ P- mixture) and a novolak resin such as a condensation polymer of formaldehyde, and a condensation polymer of pyrogallol and acetone. further,
Copolymers obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be used. Alternatively, a copolymer obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can be used.

【0093】フェノール基を有する化合物としては、フ
ェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
Examples of the compound having a phenol group include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, and hydroxystyrene having a phenol group.

【0094】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子としては、例えば、スルホンアミド基を有
する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とし
て構成される重合体を挙げることができる。上記のよう
な化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原
子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられ
る。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロ
キシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基ま
たは置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分
子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(a)〜一般
式(e)で示される化合物が挙げられる。
(2) Examples of the alkali-soluble polymer having a sulfonamide group include a polymer having, as a main constituent, a minimum structural unit derived from a compound having a sulfonamide group. Examples of the compound as described above include a compound having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule. Among them, a low molecular weight compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in a molecule is preferable. For example, the following general formulas (a) to ( Compounds represented by e) are mentioned.

【0095】[0095]

【化58】 Embedded image

【0096】式中、X1及びX2は、それぞれ−O−又は
−NR7−を示す。R1及びR4は、それぞれ水素原子又
は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12及びR16は、そ
れぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラ
ルキレン基を表す。R3、R7及びR13は、水素原子、そ
れぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル
基を表す。また、R6及びR17は、それぞれ置換基を有
していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。R8
10及びR14は、水素原子又は−CH3を表す。R11
びR15は、それぞれ単結合又は置換基を有していてもよ
い炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1及び
2は、それぞれ単結合又は−CO−を表す。具体的に
は、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N
−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルア
ミド等を好適に使用することができる。
In the formula, X 1 and X 2 each represent —O— or —NR 7 —. R 1 and R 4 each represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each represent an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. R 3 , R 7 and R 13 each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 8 ,
R 10 and R 14 represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each represent a single bond or an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1 and Y 2 each represent a single bond or —CO—. Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N
-(P-Aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0097】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子は、下記式で表される活性イミド基を分子内に
有するものが好ましく、この高分子化合物としては、1
分子中に、下記式で表わされる活性イミド基と、重合可
能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物
からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。
(3) The alkali-soluble polymer having an active imide group is preferably one having an active imide group represented by the following formula in the molecule.
In the molecule, an active imide group represented by the following formula and a polymerizable monomer composed of a low-molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond are homopolymerized, or another polymerizable monomer is copolymerized with the monomer. And a polymer compound obtained by the reaction.

【0098】[0098]

【化59】 Embedded image

【0099】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
Specific examples of such a compound include:
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0100】(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶
性高分子としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能
な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物
に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を
挙げることができる。 (5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する
最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げること
ができる。 (6)リン酸基を有するアルカリ可溶性高分子として
は、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分
子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成
単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができ
る。
(4) As the alkali-soluble polymer having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule is mainly used. Examples of the polymer include constituent polymers. (5) Examples of the alkali-soluble polymer having a sulfonic acid group include, as a main structural unit, a minimum structural unit derived from a compound having one or more sulfonic acid groups and one or more polymerizable unsaturated groups in a molecule. Polymer. (6) Examples of the alkali-soluble polymer having a phosphate group include, as a main component, a minimum constituent unit derived from a compound having at least one phosphate group and at least one polymerizable unsaturated group in a molecule. Polymer.

【0101】ポジ型記録層に用いるアルカリ可溶性高分
子を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基
を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要は
なく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、
または異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共
重合させたものを用いることもできる。
The minimum structural unit having an acidic group selected from the above (1) to (6), which constitutes the alkali-soluble polymer used in the positive recording layer, need not be only one kind, but may be the same acidic structural unit. Two or more types of minimum structural units having a group,
Alternatively, those obtained by copolymerizing two or more kinds of the minimum constituent units having different acidic groups can be used.

【0102】前記共重合体は、共重合させる(1)〜
(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中
に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モ
ル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%
未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させるこ
とができない傾向がある。
The copolymers are copolymerized (1) to
It is preferred that the compound having an acidic group selected from (6) is contained in the copolymer in an amount of at least 10 mol%, more preferably at least 20 mol%. 10 mol%
If it is less than 3, the developing latitude tends to be insufficiently improved.

【0103】本発明のアルカリ可溶性高分子としては、
ノボラック樹脂が好ましい。また、前記フェノール性水
酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有す
る重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合性モ
ノマーのうちの2種以上を重合させた高分子化合物、或
いはこれら2種以上の重合性モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を使用するこ
とが好ましい。フェノール性水酸基を有する重合性モノ
マーに、スルホンアミド基を有する重合性モノマー及び
/又は活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合さ
せる場合には、これら成分の配合重量比は50:50か
ら5:95の範囲にあることが好ましく、40:60か
ら10:90の範囲にあることが特に好ましい。
The alkali-soluble polymer of the present invention includes
Novolak resins are preferred. Further, a polymer compound obtained by polymerizing two or more of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, and the polymerizable monomer having an active imide group, or a polymer compound of these two or more types It is preferable to use a polymer compound obtained by copolymerizing a polymerizable monomer with another polymerizable monomer. When a polymerizable monomer having a sulfonamide group and / or a polymerizable monomer having an active imide group is copolymerized with a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the mixing weight ratio of these components is from 50:50 to 5: It is preferably in the range of 95, particularly preferably in the range of 40:60 to 10:90.

【0104】本発明において、アルカリ可溶性高分子が
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの
共重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモ
ノマーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル
%以上含むものがより好ましい。共重合成分が10モル
%より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやす
く、現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないこ
とがある。
In the present invention, the alkali-soluble polymer is a copolymer of a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group, with another polymerizable monomer. In the case of a polymer, the content of the monomer for imparting alkali solubility is preferably at least 10 mol%, more preferably at least 20 mol%. When the amount of the copolymer component is less than 10 mol%, the alkali solubility tends to be insufficient, and the effect of improving the development latitude may not be sufficiently achieved.

【0105】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、例えば、下記(m1)〜(m1
2)に挙げるモノマーを用いることができるが、これら
に限定されるものではない。 (m1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エ
ステル類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート
等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレ
ート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。 (m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類。
Examples of the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group include the following (m1) to (m1
The monomers described in 2) can be used, but are not limited thereto. (M1) For example, acrylates and methacrylates having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (M2) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate,
Alkyl acrylates such as hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate and N-dimethylaminoethyl acrylate; (M3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2-
Alkyl methacrylates such as chloroethyl, glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate; (M4) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N
Acrylamide or methacrylamide such as -phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, and N-ethyl-N-phenylacrylamide. (M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.

【0106】(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。 (m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル等。 (m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (M10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

【0107】アルカリ可溶性高分子は、その重量平均分
子量が500以上であることが画像形成性の点で好まし
く、1,000〜700,000であることがより好ま
しい。また、その数平均分子量が500以上であること
が好ましく、750〜650,000であることがより
好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は
1.1〜10であることが好ましい。
The alkali-soluble polymer preferably has a weight average molecular weight of 500 or more from the viewpoint of image forming properties, and more preferably from 1,000 to 700,000. Further, the number average molecular weight is preferably 500 or more, and more preferably 750 to 650,000. The degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably from 1.1 to 10.

【0108】また、これらのアルカリ可溶性高分子は単
独で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用
してもよい。組み合わせる場合には、米国特許第412
3279号明細書に記載されているような、t−ブチル
フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチ
ルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のよう
な、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフ
ェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者ら
が先に提出した特開2000−241972号公報に記
載の芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を
有するアルカリ可溶性高分子などを併用してもよい。
These alkali-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more. If combined, see US Pat.
Phenol having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as a condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde or a condensation polymer of octylphenol and formaldehyde as described in JP-A-3279. And a formaldehyde and a polycondensate, an alkali-soluble polymer having a phenol structure having an electron-withdrawing group on an aromatic ring described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-241972 previously submitted by the present inventors. Is also good.

【0109】本発明におけるアルカリ可溶性高分子は、
その合計の含有量が、記録層全固形分中、30〜98重
量%が好ましく、40〜95重量%がより好ましい。含
有量が30重量%未満である場合には、耐久性が悪化す
る傾向にあり、また、98重量%を超える場合には、感
度、画像形成性が低下する傾向があるため好ましくな
い。
In the present invention, the alkali-soluble polymer is
The total content is preferably 30 to 98% by weight, more preferably 40 to 95% by weight, based on the total solid content of the recording layer. If the content is less than 30% by weight, the durability tends to deteriorate, and if it exceeds 98% by weight, sensitivity and image forming properties tend to decrease, which is not preferable.

【0110】〔(2)赤外線を吸収し熱を発生する化合
物〕本発明において用いられる赤外線を吸収し熱を発生
する化合物(以下、適宜、赤外線吸収剤と称する)とし
ては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱
を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用
いることができるが、入手容易な高出力レーザーへの適
合性の観点から波長760nmから1200nmに吸収
極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げ
られる。
[(2) Compound that absorbs infrared rays and generates heat] The compound that absorbs infrared rays and generates heat (hereinafter, appropriately referred to as an infrared absorbent) used in the present invention includes light used for recording. Any substance that absorbs energy radiation and generates heat can be used without any particular limitation on the absorption wavelength range. However, from the viewpoint of compatibility with an easily available high-power laser, the absorption maximum is increased from a wavelength of 760 nm to 1200 nm. Preferred are those having an infrared absorbing dye or pigment.

【0111】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as "Dye Handbook" (edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes And dyes such as diimonium dyes, aminium dyes and croconium dyes.

【0112】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792 and the like,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.

【0113】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted aryl benzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.

【0114】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
Further, as another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.

【0115】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
(a)で示されるシアニン色素は、本発明の重合性組成
中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定
性、経済性に優れるため最も好ましい。
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Further, dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferred because of their excellent light-to-heat conversion efficiency. Particularly, cyanine dyes represented by the following general formula (a) are used in the polymerizable composition of the present invention. This is most preferable because it gives high polymerization activity and is excellent in stability and economy.

【0116】[0116]

【化60】 [Of 60]

【0117】一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表
す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1
は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有
する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の
炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、
S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
In the general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1
Represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Here, the hetero atom is N,
S, O, a halogen atom and Se are shown.

【0118】[0118]

【化61】 Embedded image

【0119】R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子
数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安
定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水
素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互い
に結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に
好ましい。
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of the coating solution for the photosensitive layer, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable to form a 6-membered ring.

【0120】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい
置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が
挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なってい
ても良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアル
キルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも
異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原
子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基と
しては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボ
キシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及び
8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原
子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料
の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-
は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれかに
スルホ基が置換されている場合は、Za-は必要ない。好
ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホ
ン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、
ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールス
ルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms,
Examples include a halogen atom and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different, and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group, and a sulfo group. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the viewpoint of availability of raw materials, a hydrogen atom is preferable. In addition, Za -
Represents a counter anion. However, if the sulfo group in any of R 1 to R 8 is substituted, Za - is not necessary. Preferred Za - is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion from the storage stability of the photosensitive layer coating solution, and particularly preferably, a perchlorate ion,
Hexafluorophosphate ion and arylsulfonate ion.

【0121】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平11−31062
3号明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特
願2000−224031号明細書の段落番号[001
2]〜[0038]、特願2000−211147号明
細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載され
たものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) which can be suitably used include, in addition to those exemplified below, Japanese Patent Application No. 11-31062.
Paragraph Nos. [0017] to [0019] of the specification of No. 3 and paragraph number [001] of the specification of Japanese Patent Application No. 2000-224031.
2] to [0038], and those described in paragraphs [0012] to [0023] of Japanese Patent Application No. 2000-21147.

【0122】[0122]

【化62】 Embedded image

【0123】[0123]

【化63】 Embedded image

【0124】[0124]

【化64】 Embedded image

【0125】[0125]

【化65】 Embedded image

【0126】[0126]

【化66】 Embedded image

【0127】前記一般式(b)中、Lは共役炭素原子数
7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチ
オンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニ
ウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチ
オン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R
14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン
原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択
される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合
せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成してい
てもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭素
原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及び
15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性
と効果の観点から好ましい。
In the general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, and the methine chain may have a substituent, and the substituents are bonded to each other to form a ring structure. It may be. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Ni + , K + , Li + ). R 9 to R
14 and R 15 to R 20 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group Or a substituent obtained by combining two or three of these, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in the general formula (b), those in which L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms and those in which R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms are readily available. And from the viewpoint of effects.

【0128】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (b) which can be suitably used include the following.

【0129】[0129]

【化67】 Embedded image

【0130】[0130]

【化68】 Embedded image

【0131】前記一般式(c)中、Y3及びY4は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。
21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Z
a-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-
と同義である。
In the general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms.
R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thiol group. Represents a group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. In the formula, Z
a - represents a counter anion, Za in the general formula (a) -
Is synonymous with

【0132】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) which can be suitably used include the following.

【0133】[0133]

【化69】 Embedded image

【0134】[0134]

【化70】 Embedded image

【0135】前記一般式(d)中、R29ないしR31は各
々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示
す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキ
シ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に
0ないし4の整数を示す。R 29とR30、又はR31とR32
はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び
/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34
結合して環を形成しても良く、さらに、R33或いはR34
が複数存在する場合に、R33同士あるいはR34同士は互
いに結合して環を形成してもよい。X1及びX2は各々独
立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、
1及びX2の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基
を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又
はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造
を形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一般
式(a)におけるZa-と同義である。
In the general formula (d), R29Or R31Is each
Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group;
You. R33And R34Are each independently an alkyl group,
Represents a silyl group or a halogen atom. n and m are each independently
Indicates an integer of 0 to 4. R 29And R30Or R31And R32
May be bonded to each other to form a ring;29as well as
/ Or R30Is R33And R31And / or R32Is R34When
May be combined with each other to form a ring;33Or R34
When there are a plurality of33Each other or R34Each other
They may combine together to form a ring. X1And XTwoIs German
In addition, a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group,
X1And XTwoAt least one is a hydrogen atom or an alkyl group
Is shown. Q represents a trimethine group which may have a substituent or
Is a pentamethine group, which has a ring structure with a divalent organic group
May be formed. Zc-Represents a counter anion;
Za in the equation (a)-Is synonymous with

【0136】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (d) which can be suitably used include the following.

【0137】[0137]

【化71】 Embedded image

【0138】[0138]

【化72】 Embedded image

【0139】前記一般式(e)中、R35〜R50はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、II
IB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。
In the general formula (e), R 35 to R 50 each independently represent a hydrogen atom which may have a substituent, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, Shows a hydroxyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group, amino group, and onium salt structure. M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, or an oxymetal group, and the metal atoms contained therein include IA, IIA and II in the periodic table.
IB, group IVB atoms, first, second and third period transition metals,
Lanthanoid elements are mentioned, and among them, copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium and vanadium are preferable.

【0140】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) which can be suitably used include those exemplified below.

【0141】[0141]

【化73】 Embedded image

【0142】本発明において赤外線吸収剤として使用さ
れる顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられ
る。
Examples of the pigment used as an infrared absorber in the present invention include commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, "Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, published in 1977), "Latest Pigment" Application Technology ”(CMC
Publishing, 1986) and "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984).

【0143】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0144】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0145】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, it is not preferable in terms of stability of the dispersion in the coating solution of the image-sensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable in terms of uniformity of the image-sensitive layer.

【0146】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0147】これらの顔料もしくは染料は、記録層を構
成する全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましく
は0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.
5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜1
0重量%の割合で添加することができる。顔料もしくは
染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が低く
なり、また50重量%を越えると感光層の均一性が失わ
れ、記録層の耐久性が悪くなる。
These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solids constituting the recording layer.
5 to 10% by weight, particularly preferably 0.1 to 1 in the case of pigments
0% by weight can be added. If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered. If the amount exceeds 50% by weight, the uniformity of the photosensitive layer is lost and the durability of the recording layer is deteriorated.

【0148】〔その他の成分〕本発明のポジ型記録層を
形成するにあたっては、更に必要に応じて、本発明の効
果を損なわない限りにおいて種々の添加剤を併用するこ
とができる。例えば、汎用のオニウム塩、o−キノンジ
アジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン
酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態
ではアルカリ可溶性高分子の溶解性を実質的に低下させ
る物質を併用することは、画像部の現像液への溶解阻止
性の向上を図る点で、好ましい。添加剤として使用され
るオニウム塩としては、一般的に広く使用されるジアゾ
ニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニ
ウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウ
ム塩等を挙げる事ができる。
[Other Components] In forming the positive recording layer of the present invention, various additives may be used in combination, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, a general-purpose onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, a substance that is thermally decomposable, such as an aromatic sulfonate compound, and substantially reduces the solubility of an alkali-soluble polymer in a state where it is not decomposed It is preferable to use them together in order to improve the dissolution inhibiting property of the image area in the developing solution. Examples of the onium salt used as an additive include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts, and the like, which are generally widely used.

【0149】好適なキノンジアジド類としてはo−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個の
o−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。o−キ
ノンジアジド化合物の添加量は好ましくは印刷版材料全
固形分に対し、1〜50重量%、更に好ましくは5〜3
0重量%、特に好ましくは10〜30重量%の範囲であ
る。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合
物として使用してもよい。
Preferred quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and can be a compound having various structures. In other words, o-quinonediazide assists the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder by thermal decomposition and the fact that o-quinonediazide itself changes to an alkali-soluble substance. The amount of the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 3% by weight, based on the total solids of the printing plate material.
0% by weight, particularly preferably in the range of 10 to 30% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

【0150】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸
類の印刷版材料中に占める割合は、0.05〜20重量
%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量%、特
に好ましくは0.1〜10重量%である。
For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be used in combination. The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the printing plate material is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, and particularly preferably 0.1 to 15% by weight. 10% by weight.

【0151】また、本発明に係る記録層塗布液中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭6
2−251740号公報や特開平3−208514号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤、EP950
517公報に記載されているようなシロキサン系化合
物、特開平11−288093号公報に記載されている
ようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することが
できる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の
印刷版材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が
好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
The recording layer coating solution according to the present invention contains:
Japanese Patent Application Laid-Open No.
Nonionic surfactants as described in JP-A-2-251740 and JP-A-3-208514, and amphoteric as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. Surfactant, EP950
It is possible to add a siloxane compound as described in JP-A-517, and a fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A-11-288093. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the printing plate material is preferably from 0.05 to 15% by weight, and more preferably from 0.1 to 5% by weight.

【0152】本発明における記録層中には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
50−36209号、同53−8128号の各公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭5
3−36223号、同54−74728号、同60−3
626号、同61−143748号、同61−1516
44号及び同63−58440号の各公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せ
を挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。
In the recording layer according to the invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128,
3-36223, 54-74728, 60-3
No. 626, No. 61-143748, No. 61-1516
Nos. 44 and 63-58440, and combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0153】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に、本発明
の印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与
するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No.
The dyes described in JP 93247 A are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.1 to the total solid content of the printing plate material.
It can be added to the printing plate material in a proportion of from 01 to 10% by weight, preferably from 0.1 to 3% by weight. Further, a plasticizer is added to the printing plate material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid Oligomers and polymers are used.

【0154】また、これら以外にも、エポキシ化合物、
ビニルエーテル類、さらには、特開平8−276558
号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール
化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物、及び、本発明者らが先に提案した特開平11−16
0860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する
架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することがで
きる。
In addition to these, epoxy compounds,
Vinyl ethers, and furthermore, JP-A-8-276558
Phenolic compound having a hydroxymethyl group, a phenolic compound having an alkoxymethyl group, and JP-A-11-16 previously proposed by the present inventors.
A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-0860 may be appropriately added according to the purpose.

【0155】本発明の画像形成材料は記録層塗布液や保
護層などの所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かして、
適当な支持体上に塗布することにより製造することがで
きる。また、目的に応じて、保護層、樹脂中間層、バッ
クコート層なども同様にして形成することができる。こ
こで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エ
タノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メ
トキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロ
ラクトン、トルエン等をあげることができるがこれに限
定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混
合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全
固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記録層塗布量
(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷版につ
いていえば、一般的に0.5〜5.0g/m2が好まし
い。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、感光膜の皮膜特性は低下する。塗布する方法と
しては、種々の方法を用いることができるが、例えば、
バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げることができる。本発明におけ
る記録層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、
例えば特開昭62−170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、記録層全固形分中0.01〜1重量
%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
The image forming material of the present invention is prepared by dissolving a coating solution component for a desired layer such as a recording layer coating solution or a protective layer in a solvent.
It can be produced by coating on a suitable support. In addition, depending on the purpose, a protective layer, a resin intermediate layer, a back coat layer, and the like can be similarly formed. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene and the like can be mentioned. It is not limited. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.
Further, the coating amount (solid content) of the recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 for a lithographic printing plate. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate. As a method of applying, various methods can be used, for example,
Examples include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, and the like. In the recording layer of the present invention, a surfactant for improving coating properties,
For example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added.
A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight based on the total solid content of the recording layer.

【0156】〔支持体〕本発明に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、
例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた
紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プ
ラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着さ
れた紙、もしくはプラスチックフィルム等が例示され
る。本発明の支持体としては、ポリエステルフィルム又
はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性が
よく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好まし
い。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びア
ルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板で
あり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着され
たプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に
含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン
などがある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
[Support] The support used in the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate.
For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited. As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight
It is as follows. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.1 mm to 0.4 mm.
It is 2 mm to 0.3 mm.

【0157】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the aluminum plate
The method is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte.
Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus surface-roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as required, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid,
Oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0158】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号及び第3,902,734号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed or electrolytically treated with an aqueous solution of sodium silicate. Further, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 are disclosed. A method of treating with polyvinyl phosphonic acid as described above is used.

【0159】本発明の画像形成材料は、支持体上にポジ
型の記録層を設けたものであるが、必要に応じてその間
に下塗層を設けることができる。下塗層成分としては種
々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチル
セルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノ
エチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸
類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチ
ルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン
酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸な
どの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリ
ン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリ
ン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフ
ィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン
酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びト
リエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有す
るアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して
用いてもよい。
The image-forming material of the present invention has a positive recording layer provided on a support. An undercoat layer may be provided between the recording layers as needed. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent , Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Has hydroxy groups such as salts -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

【0160】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。
The organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum plate and dried, and an organic solvent such as water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is used. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above-mentioned organic compound is dissolved to adsorb the above-mentioned compound, and then washed with water or the like and dried to form an organic undercoat layer. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
The immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5 ° C.
0 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted to a range of 1 to 12 with a basic substance such as triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the image recording material. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0161】上記のようにして作成されたポジ型画像形
成材料は、平版印刷版原版として有用であり、通常、像
露光、現像処理を施される。像露光に用いられる光線の
光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光
源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好まし
い。
The positive image forming material prepared as described above is useful as a lithographic printing plate precursor and is usually subjected to image exposure and development processing. As the light source of the light beam used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0162】本発明の平版印刷版の現像液及び補充液と
しては従来より知られているアルカリ水溶液が使用でき
る。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機
アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ
剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは2
種以上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤
の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ
酸塩の成分である酸化珪素SiO2とアルカリ金属酸化
物M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能とな
るためであり、例えば、特開昭54−62004号公
報、特公昭57−7427号に記載されているようなア
ルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
As the developer and replenisher for the lithographic printing plate of the present invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, potassium Ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide,
And inorganic alkali salts such as ammonium, potassium and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine,
Organic alkaline agents such as diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. Can be These alkaline agents can be used alone or
Used in combination of more than one species. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and the concentration of the silicon oxide SiO 2 and the alkali metal oxide M 2 O which are the components of the silicate. For example, JP-A-54-62004 discloses An alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.

【0163】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進
や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性
を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオ
ン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があ
げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハ
イドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸など
の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に
有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもで
きる。上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印
刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラ
ビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明の画像記録材料を印刷版として使用する場合
の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用
いることができる。
In the case of developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is used.
It has been known that a large amount of PS plates can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as needed for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and further include an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As a post-process when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, these processes can be used in various combinations.

【0164】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and transports the exposed printing plate horizontally while pumping each plate. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0165】本発明の画像形成材料を平版印刷版原版と
して用いた場合においては、画像露光し、現像し、水洗
及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版
印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィル
ムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部
の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平
2−13293号公報に記載されているような消去液を
不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したの
ちに水洗することにより行なう方法が好ましいが、特開
平59−174842号公報に記載されているようなオ
プティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像
部に照射したのち現像する方法も利用できる。
When the image forming material of the present invention is used as a lithographic printing plate precursor, an unnecessary portion of the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming is used. If there is an image portion (for example, a film edge mark of the original film), the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably carried out by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-129393 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing it with water. A method described in JP-A-59-174842, in which active light guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can be used.

【0166】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after coating with a desensitized gum if desired. However, when a lithographic printing plate having a higher printing durability is desired to be obtained, Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 1859 and 61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.

【0167】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: "BP-130").
0 "). The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image,
The temperature is preferably in the range of 180 to 300 ° C. for 1 to 20 minutes.

【0168】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. However, a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0169】[0169]

【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。 (実施例1〜4、比較例1〜5) 〔支持体の作製〕厚さ0.30mmのアルミニウム板
(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと400メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄し
た。このアルミニウム板を45℃の25%水酸化ナトリ
ウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、
さらに2%HNO3 に20秒間浸漬して水洗した。この
時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次に、この板を7%H2 SO4 を電解液として電流
密度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化被膜を
設けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下
記下塗り液1を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾
燥後の被覆量は10mg/m2 であった。 <下塗り液1> ・β−アラニン ・・・・0.10g ・フェニルホスホン酸 ・・・・0.05g ・メタノール ・・・40 g ・純水 ・・・60 g
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The scope of the present invention is not limited to these examples. (Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5) [Preparation of Support] An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.30 mm was washed with trichlorethylene and degreased.
The surface was grained using a water suspension and washed well with water. This aluminum plate was immersed in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C. for 9 seconds to perform etching and washing with water.
Further, it was immersed in 2% HNO 3 for 20 seconds and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was provided with a 3 g / m 2 DC anodic oxide coating at a current density of 15 A / dm 2 using 7% H 2 SO 4 as an electrolyte, and then washed and dried. Next, the undercoat liquid 1 described below was applied to this aluminum plate, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 . <Undercoat liquid 1> • β-alanine: 0.10 g • Phenylphosphonic acid: 0.05 g • Methanol: 40 g • Pure water: 60 g

【0170】〔記録層の形成〕下記ポジ型記録層用塗布
液1を前記下塗り済のアルミニウム支持体表面にワイヤ
ーバーで塗布し、120℃で1分間乾燥して記録層を形
成し、画像形成材料を得た。乾燥後の塗布量は、1.3
g/cm2であった。 <ポジ型記録層用塗布液1> ・ノボラック樹脂1 1.0g (m−,p−=6:4のクレゾールノボラック) ・溶解抑制剤(表1記載の化合物) 0.12g ・赤外線吸収剤1(下記構造) 0.1g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを 1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 0.01g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 3.0 g ・メチルエチルケトン 8.0 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0 g
[Formation of Recording Layer] The following coating solution 1 for a positive recording layer was applied to the surface of the undercoated aluminum support with a wire bar, and dried at 120 ° C. for 1 minute to form a recording layer. The material was obtained. The coating amount after drying is 1.3
was g / cm 2. <Coating liquid 1 for positive recording layer> Novolak resin 1 1.0 g (cresol novolak with m-, p- = 6: 4) Dissolution inhibitor (compound shown in Table 1) 0.12 g Infrared absorber 1 (The following structure) 0.1 g ・ Dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalenesulfonic acid anion 0.01 g ・ Fluorinated surfactant (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ) 0.05 g-? -Butyrolactone 3.0 g-methyl ethyl ketone 8.0 g-1-methoxy-2-propanol 7.0 g

【0171】[0171]

【表1】 [Table 1]

【0172】[0172]

【化74】 Embedded image

【0173】[0173]

【化75】 [Of 75]

【0174】〔評価〕 (1.感度)得られた平版印刷版原版を、トレンドセッ
ター3244(クレオ社製)を用いて露光し、DT−1
(1:8水希釈液)を用いて現像を行った。このとき露
光量を変えて露光し、同一現像条件下で露光部が十分に
現像される最低露光量を感度と定義し、下記耐傷性及び
現像ラチチュードの評価結果とともに上記表1に併記し
た。 (2.耐傷性)感光層の耐傷性評価は、脱脂綿による擦
り試験によって行った。こすり試験とは、脱脂綿を用い
て感材表面を一定の力で擦り、脱脂綿擦りを行った未露
光部が除去されてしまう擦り回数で耐傷性を判定する試
験である。本評価においては、5サンプルで試験を行
い、その平均擦り回数を採用した。 (3.現像ラチチュード)トレンドセッター3244
(クレオ社製)を用いて188mJ/cm2の露光量で
露光した平版印刷版原版を、前記DT−1現像液の原液
を適宜希釈し、電導度(mS:ミリジーメンス)を調節
した現像液によって現像したとき、露光部が充分に除去
される電導度と、未露光部が膜減りをお粉和にぎりぎり
の電導度とを測定し、それらの電導度の差(電導度幅)
を現像ラチチュードの指針とし、その差が大きいものほ
ど現像ラチチュードに優れると判定する。
[Evaluation] (1. Sensitivity) The obtained lithographic printing plate precursor was exposed using a trend setter 3244 (manufactured by Creo Corporation), and DT-1 was obtained.
(1: 8 dilution with water). At this time, exposure was performed while changing the exposure amount, and the minimum exposure amount at which the exposed portion was sufficiently developed under the same developing conditions was defined as sensitivity, and is shown in Table 1 together with the following evaluation results of scratch resistance and development latitude. (2. Scratch resistance) The scratch resistance of the photosensitive layer was evaluated by a rubbing test using absorbent cotton. The rubbing test is a test in which the surface of the photosensitive material is rubbed with a certain force using absorbent cotton, and the scratch resistance is determined by the number of rubs at which the unexposed portion subjected to the absorbent cotton rubbing is removed. In this evaluation, five samples were tested, and the average number of times of rubbing was adopted. (3. Development latitude) Trend setter 3244
A lithographic printing plate precursor exposed with an exposure amount of 188 mJ / cm 2 using (manufactured by Creo Corporation) was developed by adjusting the conductivity (mS: milliSiemens) by appropriately diluting the stock solution of the DT-1 developer. When developed by the method, the conductivity where the exposed portion is sufficiently removed and the conductivity where the unexposed portion is thin enough to measure the film loss are measured, and the difference in the conductivity (conductivity width) is measured.
Is used as a guideline of the development latitude, and the larger the difference, the better the development latitude.

【0175】表1に示すように、本発明に係る溶解抑制
剤である(I−3)、(I−4)、(I−7)、(I−
8)を用いた実施例1〜4の平版印刷版原版は、感度と
耐傷性の両立を達成し、現像ラチチュードにも優れてい
ることが分かる。また、溶解抑制剤として、本発明の範
囲外のアニオン部を有する化合物を用いた比較例1〜4
においては、溶解抑制剤を用いない比較例5よりも耐傷
性に対する向上効果は見られるものの、感度が低下する
傾向にあることがわかる。
As shown in Table 1, the dissolution inhibitors (I-3), (I-4), (I-7), and (I-
It can be seen that the planographic printing plate precursors of Examples 1 to 4 using 8) achieved both sensitivity and scratch resistance, and were also excellent in developing latitude. Comparative Examples 1 to 4 using compounds having an anion moiety outside the scope of the present invention as a dissolution inhibitor
In Comparative Example 5, although an improvement effect on the scratch resistance was observed as compared with Comparative Example 5 in which no dissolution inhibitor was used, it was found that the sensitivity was liable to decrease.

【0176】(実施例6〜8、比較例6〜10) 〔共重合体1の合成〕攪拌後、冷却管及び滴下ロートを
備えた500ml三ツ口フラスコにメタクリル酸31.
0g(0.36モル)、クロロギ酸エチル39.1g
(0.36モル)及びアセトニトリル200mlを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン36.4g(0.36モル)を約
1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、
氷水浴をとり去り、室温下で30分間混合物を攪拌し
た。
(Examples 6 to 8 and Comparative Examples 6 to 10) [Synthesis of Copolymer 1] After stirring, methacrylic acid was placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a cooling tube and a dropping funnel.
0 g (0.36 mol), 39.1 g of ethyl chloroformate
(0.36 mol) and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling in an ice-water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After dropping,
The ice water bath was removed and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0177】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。
To this reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. This mixture was filtered to remove a precipitate, which was then washed with 500 m of water.
Then, the slurry was filtered and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).

【0178】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.01
92モル)、メタクリル酸エチル2.58g(0.02
58モル)、アクリロニトリル0.80g(0.015
モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61
g、メタクリル酸メチル2.58g、アクリロニトリル
0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及び「V−
65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルに
この水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの特定の共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ54,00
0であった。
Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
92 mol), 2.58 g of ethyl methacrylate (0.02 g)
58 mol), 0.80 g (0.015 g) of acrylonitrile
Mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. This mixture was mixed with “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
0.15 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61
g, 2.58 g of methyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-dimethylacetamide and "V-
65 "and a mixture of 0.15 g was added dropwise with a dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the obtained mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, methanol (40 g) was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was added to 2 liters of water while stirring the water. The mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was taken out by filtration and dried. 15 g of a white solid was obtained. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of this specific copolymer 1 was measured by gel permeation chromatography and found to be 54,000.
It was 0.

【0179】〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗
浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶
液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに
20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目
立て表面のエッチング量は約3g/m 2であった。次に
この板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm
2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、
乾燥し、さらに、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で
30℃で10秒処理し、下記下塗り液2を塗布し、塗膜
を80℃で15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の
被覆量は15mg/m2であった。
[Preparation of Substrate] Aluminum 0.3 mm thick
Plate (material 1050) is washed with trichlorethylene
After degreasing, use a nylon brush and 400 mesh
Use a water suspension to grain this surface and wash well with water.
Was cleaned. This plate is heated at 45 ° C in 25% aqueous sodium hydroxide
Immerse in the solution for 9 seconds to perform etching, and after washing with water,
It was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. Grain at this time
The amount of etching on the standing surface is about 3 g / m TwoMet. next
This plate was subjected to a current density of 15 A / dm using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
Two3g / mTwoAfter providing a direct current anodic oxide coating of
Dried, and further with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate
Treated at 30 ° C for 10 seconds, apply the following undercoat liquid 2,
Was dried at 80 ° C. for 15 seconds to obtain a substrate. Of the dried coating
15 mg / m coating amountTwoMet.

【0180】 <下塗り液2> ・分子量2.8万の下記共重合体 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g<Undercoat liquid 2>-0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000-100 g of methanol-1 g of water

【0181】[0181]

【化76】 Embedded image

【0182】以下の記録層塗布液2を調整した。得られ
た下塗り済の基板に、この記録層塗布液2を塗布量が
1.2g/m2になるよう塗布し、平版印刷版原版を得
た。 <記録層塗布液2> ・フッ素含有ポリマー(下記構造) 0.03g ・共重合体1 0.75g ・ノボラック樹脂1 0.20g ・溶解抑制剤(表2記載の化合物) 0.05g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g ・ピリリウム染料B(下記構造) 0.017g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.015g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロリン酸塩 0.02g ・ステアリン酸n−ドデシル 0.03g ・フッ素系界面活性剤 0.05g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) ・γ−ブチロラクトン 10g ・メチルエチルケトン 10g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8g
The following recording layer coating solution 2 was prepared. This recording layer coating liquid 2 was applied to the obtained undercoated substrate so that the coating amount was 1.2 g / m 2 , to obtain a lithographic printing plate precursor. <Recording layer coating liquid 2>-Fluorine-containing polymer (the following structure) 0.03 g-Copolymer 1 0.75 g-Novolak resin 1 0.20 g-Dissolution inhibitor (compound shown in Table 2) 0.05 g-Tetrahydroanhydride Phthalic acid 0.03 g ・ Pyrylium dye B (the following structure) 0.017 g ・ Dye with the counter ion of Victoria Pure Blue BOH converted to 1-naphthalene sulfonic acid anion 0.015 g ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylaminehexafluorophosphate 0.02 g of salt 0.03 g of n-dodecyl stearate 0.05 g of fluorinated surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 10 g of γ-butyrolactone 10 g of methyl ethyl ketone 1- 8 g of methoxy-2-propanol

【0183】[0183]

【表2】 [Table 2]

【0184】[0184]

【化77】 Embedded image

【0185】得られた各平版印刷版原版を、実施例1と
同様にして、感度と耐傷性を評価した。結果を上記表2
に併記した。表2に示すように、2種のバインダーを併
用した相分離型の記録層の場合においても、同様の傾向
が見られ、本発明に係る溶解抑制剤である(I−3)、
(I−4)、(I−7)、(I−8)を用いた実施例5
〜8の平版印刷版原版は、感度と耐傷性の両立を達成し
ていることが分かる。また、溶解抑制剤として、本発明
の範囲外のアニオン部を有する化合物を用いた比較例6
〜9においては、溶解抑制剤を用いない比較例10より
も耐傷性に向上効果は見られるものの、感度が低下する
傾向にあることがわかる。
The lithographic printing plate precursors thus obtained were evaluated for sensitivity and scratch resistance in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2 above.
It was also described in. As shown in Table 2, the same tendency was observed in the case of a phase separation type recording layer in which two kinds of binders were used in combination, and the dissolution inhibitor according to the present invention (I-3),
Example 5 using (I-4), (I-7), and (I-8)
It can be seen that the planographic printing plate precursors Nos. To 8 achieved both sensitivity and scratch resistance. Comparative Example 6 using a compound having an anion moiety outside the scope of the present invention as a dissolution inhibitor
In Nos. To 9, it can be seen that although the effect of improving the scratch resistance is seen as compared with Comparative Example 10 in which the dissolution inhibitor was not used, the sensitivity tends to decrease.

【0186】(実施例9〜12、比較例11〜15) 〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m 2 であった。次にこの板を7
%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/
2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、前記下塗り液2を塗布し、塗膜を90℃で1分
乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg/m2であ
った。得られた基板に以下の記録層塗布液3−Aを塗布
し、130℃で1分間乾燥して、(A)層を形成した。
乾燥後の塗布量は1.3g/m2であった。その後、以
下の記録層塗布液3−Bを塗布し、110℃で1分間乾
燥して、(B)層(上層)を形成し、平版印刷版原版を
得た。乾燥後の感光液の合計塗布量は1.8g/m2
あった。
(Examples 9 to 12, Comparative Examples 11 to 15) [Preparation of Substrate] An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm (material
1050) was degreased by washing with trichloroethylene.
After, nylon brush and 400 mesh pumice-water suspension
The surface was grained using a liquid and washed well with water. This
The plate in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C for 9 seconds
Etching by immersion, washing with water, and then 20% nitric acid
For 20 seconds and washed with water. At this time,
Etching amount is about 3g / m TwoMet. Next, this plate
% Sulfuric acid as electrolyte and current density 15A / dmTwo3g /
mTwoAfter providing a direct current anodic oxide coating of
Further, the undercoat liquid 2 was applied, and the coating film was heated at 90 ° C. for 1 minute.
Dried. The coating amount of the dried coating film is 10 mg / mTwoIn
Was. The following recording layer coating solution 3-A is applied to the obtained substrate.
Then, the resultant was dried at 130 ° C. for 1 minute to form a layer (A).
The coating amount after drying is 1.3 g / mTwoMet. After that,
Apply the lower recording layer coating solution 3-B and dry at 110 ° C for 1 minute.
After drying, the (B) layer (upper layer) is formed, and the lithographic printing plate precursor is
Obtained. The total coating amount of the photosensitive solution after drying is 1.8 g / mTwoso
there were.

【0187】 <記録層塗布液3−A> ・共重合体1 0.75g ・赤外線吸収剤1 0.02g ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g ・γ−ブチロラクトン 8g ・メチルエチルケトン 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7g<Recording Layer Coating Solution 3-A> Copolymer 1 0.75 g Infrared absorber 1 0.02 g p-Toluenesulfonic acid 0.002 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.05 g Victoria Pure Blue BOH 0.015 g of a dye having a counter anion of 1-naphthalene sulfonic acid anion as a fluorine-based surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.02 g ・ γ-butyrolactone 8 g ・ Methyl ethyl ketone 7 g -1-methoxy-2-propanol 7g

【0188】 <記録層塗布液3−B> ・ノボラック樹脂1 0.25g ・赤外線吸収剤1 0.03g ・溶解抑制剤(表3記載の化合物) 0.03g ・ステアリン酸n−ドデシル 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.01g ・メチルエチルケトン 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7g<Recording Layer Coating Solution 3-B>-Novolak resin 1 0.25 g-Infrared absorber 1 0.03 g-Dissolution inhibitor (compound described in Table 3) 0.03 g-n-dodecyl stearate 0.02 g -Fluorinated surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.01 g-Methyl ethyl ketone 7 g-1-methoxy-2-propanol 7 g

【0189】[0189]

【表3】 [Table 3]

【0190】得られた各平版印刷版原版を、実施例1と
同様にして、感度と耐傷性を評価した。結果を上記表3
に併記した。表3に示すように、重層構造の記録層の場
合においても、同様の傾向が見られ、本発明に係る溶解
抑制剤である(I−3)、(I−4)、(I−7)、
(I−8)を用いた実施例9〜12の平版印刷版原版
は、感度と耐傷性の両立を達成していることが分かる。
また、溶解抑制剤として、本発明の範囲外のアニオン部
を有する化合物を用いた比較例10〜14においては、
溶解抑制剤を用いない比較例15よりも耐傷性に向上効
果は見られるものの、感度が低下する傾向にあることが
わかる。
The lithographic printing plate precursors thus obtained were evaluated for sensitivity and scratch resistance in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3 above.
It was also described in. As shown in Table 3, the same tendency was observed in the case of the recording layer having a multilayer structure, and the dissolution inhibitors (I-3), (I-4), and (I-7) according to the present invention were used. ,
It can be seen that the lithographic printing plate precursors of Examples 9 to 12 using (I-8) achieved both sensitivity and scratch resistance.
Further, in Comparative Examples 10 to 14 using a compound having an anion moiety out of the range of the present invention as a dissolution inhibitor,
It can be seen that although the effect of improving the scratch resistance is seen as compared with Comparative Example 15 in which no dissolution inhibitor is used, the sensitivity tends to decrease.

【0191】[0191]

【発明の効果】本発明のヒートモードによる記録可能な
ポジ型画像形成材料は、高感度な記録が可能であり、ア
ルカリ現像時のラチチュード、及び、耐傷性に優れると
いう効果を奏する。
The positive-type image-forming material capable of recording in the heat mode according to the present invention is capable of recording with high sensitivity, and has the effect of being excellent in latitude and scratch resistance during alkali development.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA04 AA12 AA13 AB03 AC08 AD03 CC11 CC20 FA10 FA17 2H096 AA06 BA11 EA04 GA08 2H114 AA04 AA22 AA23 BA01 EA02 GA03 GA04 GA09 GA27 GA34 GA35 GA36  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA01 AA04 AA12 AA13 AB03 AC08 AD03 CC11 CC20 FA10 FA17 2H096 AA06 BA11 EA04 GA08 2H114 AA04 AA22 AA23 BA01 EA02 GA03 GA04 GA09 GA27 GA34 GA35 GA36

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に(1)水不溶性且つアルカリ
可溶性高分子化合物、(2)赤外線を吸収し熱を発生す
る化合物及び、(3)下記一般式(A)で表される化合
物、とを含有するヒートモード対応ポジ型画像形成材
料。 一般式(A) X-+ 式中、X-は下記一般式(B)で示される化合物のアニ
オン又は一般式(C)で示される化合物のアニオン部を
示し、M+はスルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウ
ム、アンモニウム、アジニウムから選択される対カチオ
ンを表す。 【化1】 一般式(B)中、Yは単結合、−CO−又は、−SO2
−を表し、Ra、Rbはそれぞれ独立に、直鎖、分岐又は
環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基、樟脳基
を表す。RaとRbとは、アルキレン基、アリーレン基、
アラルキル基を介して結合し、環を形成しても良い。Y
が−CO−基の場合、Rbは水酸基、アルコキシ基であ
ってもよい。 一般式(C) RC−COO-+ 式中、RCはアルキル基又はアリール基を表し、M+は一
般式(A)におけるのと同義である。
1. A water-insoluble and alkali-soluble polymer compound, (2) a compound that absorbs infrared rays and generates heat, and (3) a compound represented by the following general formula (A) on a support: And a heat-mode compatible positive image forming material containing: In the formula (A) X M + , X represents an anion of a compound represented by the following formula (B) or an anion part of a compound represented by the following formula (C), and M + represents sulfonium, iodonium, Represents a counter cation selected from diazonium, ammonium and azinium. Embedded image In the general formula (B), Y is a single bond, -CO- or -SO 2
And R a and R b each independently represent a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, aralkyl group, or camphor group. R a and R b are an alkylene group, an arylene group,
They may be bonded via an aralkyl group to form a ring. Y
Is a —CO— group, R b may be a hydroxyl group or an alkoxy group. Formula (C) R C -COO - of M + wherein, R C represents an alkyl group or an aryl group, M + is the same as in the general formula (A).
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004287338A (en) * 2003-03-25 2004-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming material
EP1577111A1 (en) 2004-03-16 2005-09-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
JP2005266133A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd Planographic original plate
US6958205B2 (en) 2001-07-26 2005-10-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material and ammonium compound
JP2006195283A (en) * 2005-01-14 2006-07-27 Fuji Photo Film Co Ltd Positive lithographic printing original plate adapted for infrared laser
EP1690685A2 (en) 2005-02-09 2006-08-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
JP2006258980A (en) * 2005-03-15 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd Positive photosensitive composition and image recording material using the same
US7160667B2 (en) 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JPWO2006009258A1 (en) * 2004-07-22 2008-05-01 関西ペイント株式会社 Near-infrared active positive resin composition
EP1925447A1 (en) 2002-09-17 2008-05-28 FUJIFILM Corporation Image forming material
JPWO2010147079A1 (en) * 2009-06-16 2012-12-06 Jsr株式会社 Radiation sensitive resin composition
JP2017058454A (en) * 2015-09-15 2017-03-23 信越化学工業株式会社 Resist composition and patterning process
JP2019074588A (en) * 2017-10-13 2019-05-16 信越化学工業株式会社 Resist material and patterning method
JP2019074592A (en) * 2017-10-13 2019-05-16 信越化学工業株式会社 Resist material and patterning method

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6958205B2 (en) 2001-07-26 2005-10-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material and ammonium compound
EP1925447A1 (en) 2002-09-17 2008-05-28 FUJIFILM Corporation Image forming material
US7160667B2 (en) 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP2004287338A (en) * 2003-03-25 2004-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming material
EP1577111A1 (en) 2004-03-16 2005-09-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
JP2005266133A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd Planographic original plate
JPWO2006009258A1 (en) * 2004-07-22 2008-05-01 関西ペイント株式会社 Near-infrared active positive resin composition
JP4825130B2 (en) * 2004-07-22 2011-11-30 関西ペイント株式会社 Near-infrared active positive resin composition
JP2006195283A (en) * 2005-01-14 2006-07-27 Fuji Photo Film Co Ltd Positive lithographic printing original plate adapted for infrared laser
EP1690685A2 (en) 2005-02-09 2006-08-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
JP2006258980A (en) * 2005-03-15 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd Positive photosensitive composition and image recording material using the same
JP4498177B2 (en) * 2005-03-15 2010-07-07 富士フイルム株式会社 Positive photosensitive composition and image recording material using the same
JPWO2010147079A1 (en) * 2009-06-16 2012-12-06 Jsr株式会社 Radiation sensitive resin composition
JP5655781B2 (en) * 2009-06-16 2015-01-21 Jsr株式会社 Radiation sensitive resin composition
JP2017058454A (en) * 2015-09-15 2017-03-23 信越化学工業株式会社 Resist composition and patterning process
JP2019074588A (en) * 2017-10-13 2019-05-16 信越化学工業株式会社 Resist material and patterning method
JP2019074592A (en) * 2017-10-13 2019-05-16 信越化学工業株式会社 Resist material and patterning method

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