JP2005266133A - Planographic original plate - Google Patents

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JP2005266133A
JP2005266133A JP2004076829A JP2004076829A JP2005266133A JP 2005266133 A JP2005266133 A JP 2005266133A JP 2004076829 A JP2004076829 A JP 2004076829A JP 2004076829 A JP2004076829 A JP 2004076829A JP 2005266133 A JP2005266133 A JP 2005266133A
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acid
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Hiroshi Tashiro
宏 田代
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive infrared laser planographic original plate to make a direct printing plate which is excellent in scratch-proof and formed image discrimination. <P>SOLUTION: This original plate is made by stacking two or more positive recording layers which contain resin and an infrared absorption agent, and also increase its solubility to alkaline water by infrared laser exposure on a support. The positive recording layer closest to the support of these recording layers contains onium salt and resin which is water insoluble but alkali soluble. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は平版印刷版原版に関するものであり、特にコンピュータ等のデジタル信号から直接製版できる、いわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a positive lithographic printing plate precursor for infrared laser for so-called direct plate making which can be directly made from a digital signal of a computer or the like.

近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる様になっている。コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。
赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生する赤外線吸収染料(IR染料)等とを必須成分とし、IR染料等が、非露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。
しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料では、様々な使用条件における非露光部(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光部(非画像部)の溶解性との間の差が未だ充分とは言えず、使用条件の変動による現像過剰や現像不良が起きやすいという問題があった。また、取扱い時に表面に触れる等によりわずかに表面状態が変動した場合にも、現像時に非露光部(画像部)が溶解してキズ跡状となり、耐刷の劣化や着肉性不良を引き起こすという問題があった。
In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer.
The positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser has an alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an infrared absorbing dye (IR dye) that absorbs light and generates heat as essential components. In the image area), it acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin by interaction with the binder resin. In the exposed area (non-image area), the generated heat causes the IR dye and the binder resin to react with each other. The interaction weakens and dissolves in an alkaline developer to form a lithographic printing plate.
However, in such a positive lithographic printing plate material for infrared laser, the solubility between the developer in the non-exposed area (image area) and the solubility of the exposed area (non-image area) under various conditions of use. However, there is a problem that over-development and poor development are likely to occur due to fluctuations in use conditions. In addition, even when the surface condition slightly changes due to touching the surface during handling, the unexposed area (image area) dissolves and becomes scratched during development, causing deterioration in printing durability and poor inking properties. There was a problem.

このような問題は、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料とUV露光により製版するポジ型平版印刷版材料との製版メカニズムの本質的な相違に由来する。すなわち、UV露光により製版するポジ型平版印刷版材料では、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、オニウム塩やキノンジアジド化合物類とを必須成分とするが、このオニウム塩やキノンジアジド化合物類は、非露光部(画像部)でバインダー樹脂との相互作用により溶解阻止剤として働くだけでなく、露光部(非画像部)では、光によって分解して酸を発生し、溶解促進剤として働くという二つの役割を果たすものである。
これに対し、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料におけるIR染料等は、非露光部(画像部)の溶解阻止剤として働くのみで、露光部(非画像部)の溶解を促進するものではない。従って、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料において、非露光部と露光部との溶解性の差を出すためには、バインダー樹脂として、あらかじめアルカリ現像液に対する溶解性の高いものを使用せざるを得ず、現像前の状態が不安定なものとなるのである。
Such a problem originates in the essential difference in the plate making mechanism between the positive lithographic printing plate material for infrared laser and the positive lithographic printing plate material made by UV exposure. That is, in a positive type lithographic printing plate material made by UV exposure, an alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an onium salt or a quinonediazide compound are essential components. The onium salt or the quinonediazide compound is a non-exposed portion ( In addition to acting as a dissolution inhibitor by interacting with the binder resin in the image area), the exposed area (non-image area) plays two roles: it decomposes by light to generate acid and acts as a dissolution accelerator. Is.
In contrast, IR dyes and the like in positive lithographic printing plate materials for infrared lasers only act as dissolution inhibitors for non-exposed areas (image areas) and do not promote dissolution of exposed areas (non-image areas). . Therefore, in the positive lithographic printing plate material for infrared laser, in order to make a difference in solubility between the non-exposed portion and the exposed portion, a binder resin having a high solubility in an alkali developer must be used in advance. In other words, the state before development becomes unstable.

以上の問題を解決するため、画像のディスクリミネーションの改良を目的として膜中の赤外吸収剤を偏在化させる方法(特許文献1参照。)が提案されているが、耐傷性を解決するには至っていない。また、スルホンアミド系のアクリル樹脂を含む下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び光熱変換剤を含み露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する上層と、からなる記録層を設けた平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献2参照)。この平版印刷版原版は、露光領域において記録層が除去されると、アルカリ可溶性に優れた下層が露出することになり、アルカリ現像液により、所望されない残膜などが速やかに除去されるという効果や、該下層が断熱層として機能し、支持体への熱拡散が効果的に抑制されるという効果を奏するものである。更に、下層にポリマーをブレンドして耐薬性を持たせる方法も提案されている(特許文献3参照)。
しかし、このように記録層を重層構造とするためには、両層に用いる樹脂として互いに特性の異なるものを選択せざるを得ず、これらの相互作用性が低下するという問題、或いは、下層の現像性が良好であることに起因して、現像時に、画像部における下層の両端部に所望されない溶解が生じて耐刷性や画像再現性に影響を及ぼすという懸念があり、重層構造の利点を充分に生かすためには、なお改良の余地があった。
特開2001−281856号公報 特開平11−218914号公報 国際公開第01/46318号パンフレット
In order to solve the above problems, there has been proposed a method (see Patent Document 1) in which an infrared absorber in a film is unevenly distributed for the purpose of improving image discrimination. Has not reached. Further, a lithographic printing plate precursor provided with a recording layer comprising a lower layer containing a sulfonamide acrylic resin and an upper layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin and a photothermal conversion agent and having increased solubility in an alkaline aqueous solution upon exposure. It has been proposed (see, for example, Patent Document 2). In this lithographic printing plate precursor, when the recording layer is removed in the exposed area, the lower layer excellent in alkali solubility is exposed, and the effect that an undesired residual film and the like are quickly removed by the alkali developer, The lower layer functions as a heat insulating layer, and the effect of effectively suppressing thermal diffusion to the support is exhibited. Furthermore, a method of imparting chemical resistance by blending a polymer in the lower layer has been proposed (see Patent Document 3).
However, in order to make the recording layer have a multi-layer structure in this way, it is necessary to select resins having different characteristics as the resins used in both layers, and there is a problem that their interactivity is lowered, or Due to the good developability, there is a concern that undesired dissolution will occur at both ends of the lower layer in the image area during development, which may affect printing durability and image reproducibility. There was still room for improvement in order to make full use of it.
JP 2001-281856 A JP 11-218914 A International Publication No. 01/46318 Pamphlet

本発明の目的は、耐傷性及び形成された画像のディスクリミネーションに優れたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a positive lithographic printing plate precursor for an infrared laser for direct plate making which is excellent in scratch resistance and formed image discrimination.

本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、重層構造のポジ型記録層を設け、支持体に近い記録層中に、水不溶性且つアルカリ可溶性高分子化合物と特定構造を有する化合物とを含有させることにより、上記問題点を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外線レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を2層以上有してなり、該ポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層が、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂とオニウム塩とを含有することを特徴とする。
As a result of extensive research, the present inventor has provided a positive recording layer having a multilayer structure, and contains a water-insoluble and alkali-soluble polymer compound and a compound having a specific structure in the recording layer close to the support. Thus, the inventors have found that the above problems can be solved, and completed the present invention.
That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention comprises, on a support, a resin and an infrared absorber, and has two or more positive recording layers whose solubility in an aqueous alkali solution is increased by infrared laser exposure. Among the positive recording layers, the positive recording layer closest to the support contains a water-insoluble and alkali-soluble resin and an onium salt.

以下、本明細書では、「支持体に最も近接するポジ型記録層」を、適宜、「最下部記録層」と称し、それ以外のポジ型記録層を、「上部記録層」と称する。
なお、本発明の平版印刷版原版には、支持体上に、上記複数のポジ型記録層以外にも、所望により他の層、例えば、表面保護層、下塗層、中間層、バックコート層などを本発明の効果を損なわない限りにおいて設けることができる。
Hereinafter, in this specification, the “positive recording layer closest to the support” is appropriately referred to as “lowermost recording layer”, and the other positive recording layer is referred to as “upper recording layer”.
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, in addition to the plurality of positive recording layers, other layers as desired, for example, a surface protective layer, an undercoat layer, an intermediate layer, a backcoat layer, are provided on the support. Can be provided as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明の平版印刷版原版の作用機構は、未だ明確ではないが、以下ように推測される。
本発明の平版印刷版原版の支持体に最も近接するポジ型記録層(最下部記録層)は、上記の如く、水不溶性且つアルカリ可溶性高分子化合物とオニウム塩とを含有する。本発明では、最下部記録層においてこれらの化合物が奏する作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が抑制されることで、未露光部(画像部)全体のアルカリ現像液に対する耐性が著しく向上し、高活性なアルカリ現像液に対して高い耐性を示すことができる。一方、露光部(非画像部)では、オニウム塩が熱分解することにより、最下部記録層のアルカリ水溶液に対する溶解性が増大し、最下部記録層へのアルカリ水溶液の浸透性が大きくなり、現像時に上部記録層が除去されると最下部記録層も速やかに除去される。このため、本発明の平版印刷版原版は、画像のディスクリミネーションに優れたシャープな画像を形成することができるものと考えられる。
本発明の平版印刷版原版における上記特性は、画像面積の狭い高精細画像において顕著であることから、近年のCTP化に伴い使用が増加しているFMスクリーンなどの高精細画像に特に有用である。従って、本発明の平版印刷版原版は、市販のFMスクリーン、例えば、Staccato(商品名:Creo社製)、FAIRDOT、Randot(商品名:大日本スクリーン社製)、Co−Reスクリーン(商品名:富士写真フイルム製)などによる画像形成に好適に用いることができる。尚、高精細画像とは、50%面積率出力データが周囲長換算で210線以上のものをいう。
Although the mechanism of action of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not yet clear, it is presumed as follows.
The positive recording layer (lowermost recording layer) closest to the support of the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a water-insoluble and alkali-soluble polymer compound and an onium salt as described above. In the present invention, by suppressing the solubility in an alkaline aqueous solution by the action of these compounds in the lowermost recording layer, the resistance of the entire unexposed area (image area) to the alkaline developer is remarkably improved and highly active. High resistance to an alkaline developer can be exhibited. On the other hand, in the exposed area (non-image area), the onium salt is thermally decomposed, so that the solubility of the lowermost recording layer in the alkaline aqueous solution increases, and the permeability of the alkaline aqueous solution into the lowermost recording layer increases. Sometimes when the upper recording layer is removed, the lowermost recording layer is also quickly removed. Therefore, it is considered that the planographic printing plate precursor of the present invention can form a sharp image excellent in image discrimination.
The above-described characteristics of the lithographic printing plate precursor according to the present invention are remarkable in a high-definition image having a small image area, and thus are particularly useful for a high-definition image such as an FM screen that has been used with the recent CTP. . Therefore, the lithographic printing plate precursor of the present invention is a commercially available FM screen such as Staccato (trade name: manufactured by Creo), FAIRDOT, Randot (trade name: manufactured by Dainippon Screen), Co-Re screen (trade name: (Fuji Photo Film) and the like can be used suitably. Note that a high-definition image is one in which 50% area ratio output data is 210 lines or more in terms of perimeter.

本発明によれば、耐傷性及び形成された画像のディスクリミネーションに優れたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the positive type lithographic printing plate precursor for infrared lasers for direct plate-making excellent in scratch resistance and the discrimination of the formed image can be provided.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外線レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を2層以上有してなり、該ポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層が、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂とオニウム塩とを含有することを特徴とする平版印刷版原版である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises, on a support, a resin and an infrared absorber, and has two or more positive recording layers whose solubility in an aqueous alkali solution is increased by infrared laser exposure. The lithographic printing plate precursor, wherein the positive recording layer closest to the support among the recording layers contains a water-insoluble and alkali-soluble resin and an onium salt.

[ポジ型記録層]
本発明におけるポジ型記録層は、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外線レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大することで、画像が形成される層である。本発明においては、複数存在するポリ型記録層のうち支持体に最も近接ポジ型記録層が、オニウム塩を必須成分として含有することを特徴とする。
[Positive recording layer]
The positive recording layer in the present invention is a layer containing a resin and an infrared absorber, and an image is formed by increasing the solubility in an alkaline aqueous solution by infrared laser exposure. In the present invention, the positive recording layer closest to the support among the plurality of poly-type recording layers contains an onium salt as an essential component.

〔オニウム塩〕
本発明におけるオニウム塩について詳細に説明する。
本発明におけるオニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アジニウム塩、等を挙げることができる。本発明において、オニウム塩は、水不溶性且つアルカリ可溶性の高分子化合物と混合することによって、該高分子化合物の水又はアルカリ現像液に対する溶解性を下げる溶解抑制剤として機能する。
[Onium salt]
The onium salt in the present invention will be described in detail.
Examples of onium salts in the present invention include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, azinium salts, and the like. In the present invention, the onium salt functions as a dissolution inhibitor that lowers the solubility of the polymer compound in water or an alkali developer by mixing with the water-insoluble and alkali-soluble polymer compound.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Baletal,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Neckeretal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivelloetal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、   Preferred examples of the onium salt used in the present invention include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Baletal, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, US Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140 Ammonium salts described in the C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wenetal, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salt,

J.V.Crivelloetal,PolymerJ.17,73(1985)、J.V.Crivelloetal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Wattetal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivelloetal,PolymerBull.,14,279(1985)、J.V.Crivelloetal,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同4,491,628号、同5,041,358号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivelloetal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。 J. et al. V. Crivello et al., Polymer J .; 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Wattal, J. et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al., Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al., Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 4,491,628, No. 5,041,358, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581, sulfonium salts described in J.P. V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wenetal, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

また、本発明におけるオニウム塩としては、下記一般式(A)で表される化合物がさらに好ましい。
一般式(A) X-+
一般式(A)中、X-は下記一般式(B)で示される化合物のアニオン(例えば、該化合物において−NH−の水素原子を除したアニオン)、又は一般式(C)で示される化合物のアニオン部(RC−COO-)を示し、M+はスルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アンモニウム、アジニウムから選択される対カチオンを表す。
Moreover, as an onium salt in this invention, the compound represented with the following general formula (A) is still more preferable.
Formula (A) X - M +
In general formula (A), X represents an anion of a compound represented by the following general formula (B) (for example, an anion obtained by removing a hydrogen atom of —NH— in the compound), or a compound represented by general formula (C) An anion part (R C —COO ) of M is represented, and M + represents a counter cation selected from sulfonium, iodonium, diazonium, ammonium and azinium.

Figure 2005266133
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一般式(B)中、Yは、単結合、−CO−、又は、−SO2−を表し、Ra及びRbは、それぞれ独立に、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基、又は樟脳基を表す。RaとRbとは、アルキレン基、アリーレン基、アラルキル基を介して結合し、環を形成してもよい。Yが−CO−基の場合、Rbは水酸基又はアルコキシ基であってもよい。 In general formula (B), Y represents a single bond, —CO— or —SO 2 —, and R a and R b each independently represent a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl Represents a group, an aralkyl group, or a camphor group. R a and R b may be bonded via an alkylene group, an arylene group, or an aralkyl group to form a ring. When Y is a —CO— group, R b may be a hydroxyl group or an alkoxy group.

一般式(C) RC−COO-+
一般式(C)中、RCはアルキル基又はアリール基を表し、M+はスルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アンモニウム、アジニウムから選択される対カチオンを表す。
Formula (C) R C —COO M +
In the general formula (C), R C represents an alkyl group or an aryl group, and M + represents a counter cation selected from sulfonium, iodonium, diazonium, ammonium and azinium.

一般式(B)中、Yは、単結合、−CO−、又は−SO2−を表す。感度、安定性の観点からは、Yが−CO−であることが好ましく、また、一般式(B)で表される化合物のpKaが0〜6であることがさらに好ましい態様である。
a及びRbは、それぞれ独立に、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基、又は樟脳基を表す。RaとRbとがアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基を介して結合して環を形成してもよい。Yが−CO−基の場合、Rbは水酸基、アルコキシ基でもよい。
a、Rbは好ましくは、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のアリール基又は炭素原子数1〜20のアラルキル基を表す。これらアルキル基、アリール基又はアラルキル基は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アルキニル基、アミノ基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子、アミド基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、ニトロ基等が挙げられ、これらはさらに上記のような置換基を有するものであってもよい。さらに、2以上の置換基が互いに結合して環を形成していてもよく、また、環構造は窒素原子や硫黄原子などを含むヘテロ環構造であってもよい。
In General Formula (B), Y represents a single bond, —CO—, or —SO 2 —. From the viewpoint of sensitivity and stability, Y is preferably —CO—, and the pKa of the compound represented by the general formula (B) is more preferably 0 to 6.
R a and R b each independently represents a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, aralkyl group, or camphor group. R a and R b may be bonded to each other via an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group to form a ring. When Y is a —CO— group, R b may be a hydroxyl group or an alkoxy group.
R a and R b preferably represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 1 to 20 carbon atoms. These alkyl group, aryl group or aralkyl group may have a substituent. Specific examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, an aryl group, an alkynyl group, Amino group, cyano group, hydroxyl group, halogen atom, amide group, ester group, carbonyl group, carboxyl group, sulfonic acid group, sulfonamide group, nitro group, etc., which have the above substituents It may be. Further, two or more substituents may be bonded to each other to form a ring, and the ring structure may be a heterocyclic structure containing a nitrogen atom or a sulfur atom.

以下に、一般式(B)で表される化合物の具体例を例示するが、本発明はこれらに制限されるものではない。   Although the specific example of a compound represented by general formula (B) below is illustrated, this invention is not restrict | limited to these.

Figure 2005266133
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上記一般式(B)で表される化合物のアニオンをアニオン部に有する、オニウム塩としてより好ましくは、下記一般式(I)及び(II)で表される化合物が挙げられる。これのような化合物を用いることにより、感度、耐傷性が一層優れるようになる。この化合物は、加熱することにより、或いは、本発明の如く赤外線吸収剤を含有する態様の場合には、赤外線を照射して熱を発生させることにより、一般式(I)、(II)のアニオン部に相当する一般式(B)で表される化合物のアニオンが、分解して酸などを発生し、溶解抑制能が解除されることになる。   More preferable examples of the onium salt having an anion of the compound represented by the general formula (B) in the anion part include compounds represented by the following general formulas (I) and (II). By using such a compound, sensitivity and scratch resistance are further improved. This compound is an anion of the general formulas (I) and (II) by heating, or in the case of an embodiment containing an infrared absorber as in the present invention, by generating heat by irradiating infrared rays. The anion of the compound represented by the general formula (B) corresponding to part decomposes to generate an acid or the like, and the dissolution inhibiting ability is released.

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上記式中、R1〜R25は、水素原子、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、又は−S−R26基を表す。ここでR26は直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基を表す。アニオン部(X-)は、一般式(B)で表される化合物のアニオンである。 In the above formula, R 1 to R 25 are a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group, a hydroxy group, a halogen atom, or —S—R 26. Represents a group. Here, R 26 represents a linear, branched or cyclic alkyl group or aryl group. The anion part (X ) is an anion of the compound represented by the general formula (B).

一般式(I)又は一般式(II)における、R1〜R25で表される直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、置換基を有してもよい、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基のような炭素数1〜4個のものが挙げられる。環状アルキル基としては、置換基を有してもよい、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のような炭素数3〜8個のものが挙げられる。
1〜R25で表されるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基のような炭素数2〜4個のものが挙げられる。
1〜R25のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子を挙げることができる。
26で表されるアリール基としては、フェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜14個のものが挙げられる。アリール基は置換基を有してもよい。
1〜R25で表される基が有し得る好ましい置換基としては、炭素数1〜4個のアルコキシ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、沃素原子)、炭素数6〜10個のアリール基、炭素数2〜6個のアルケニル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。
In the general formula (I) or the general formula (II), the linear or branched alkyl group represented by R 1 to R 25 may be a methyl group, an ethyl group, or a propyl group that may have a substituent. And a group having 1 to 4 carbon atoms such as a group, n-butyl group, sec-butyl group and t-butyl group. Examples of the cyclic alkyl group include those having 3 to 8 carbon atoms, such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group, which may have a substituent.
Examples of the alkoxy group represented by R 1 to R 25 include 2 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a hydroxyethoxy group, a propoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a t-butoxy group. There are ~ 4.
Examples of the halogen atom represented by R 1 to R 25 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the aryl group represented by R 26 include those having 6 to 14 carbon atoms such as a phenyl group, a tolyl group, a methoxyphenyl group, and a naphthyl group. The aryl group may have a substituent.
Preferred substituents that the group represented by R 1 to R 25 may have include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, iodine atom), and 6 to 10 carbon atoms. Examples include an aryl group, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a cyano group, a hydroxy group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, and a nitro group.

また、M+は、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アンモニウム、アジニウムから選択される対カチオンを表すことが好ましい。
ここでアジニウムとは、その構造内に窒素原子を含む六員環であるアジン環を有するもので、ピリジニウム、ジアジニウム、トリアジニウムを含む。アジニウムはアジン環と縮合した1個以上の芳香族環を含むもので、例えば、キノリニウム、イソキノリニウム、ベンゾアジニウム、ナフトアジニウムなどを包含する。具体的には、例えば、米国特許4,743,528号明細書、特開昭63−138345号公報、同63−142345号公報、同63−142346号公報、特公昭46−42363号公報に記載されるものが挙げられ、1−メトキシ−4−フェニルピリジニウムテトラフルオロボレート、N−アルコキシピリジニウム塩類などを形成する対カチオンが例示される。
M + preferably represents a counter cation selected from sulfonium, iodonium, diazonium, ammonium and azinium.
Here, azinium has an azine ring which is a six-membered ring containing a nitrogen atom in its structure, and includes pyridinium, diazinium, and triazinium. Azinium includes one or more aromatic rings condensed with an azine ring, and includes, for example, quinolinium, isoquinolinium, benzoazinium, naphthazinium, and the like. Specifically, for example, described in U.S. Pat. No. 4,743,528, JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, and JP-B-46-42363. And counter cations that form 1-methoxy-4-phenylpyridinium tetrafluoroborate, N-alkoxypyridinium salts, and the like.

これらの対カチオンのなかでも、安定性、感度の面からヨードニウム、又はスルホニウムを対カチオンとして有する化合物が好ましく、さらに、ジアリールヨードニウム又はトリアリールスルホニウム骨格を有する化合物が好ましい。
以下に、本発明におけるオニウム塩である、一般式(A)で表される化合物のうち、アニオン部として、一般式(B)で表される化合物のアニオンを有する化合物の具体例を、好ましい対カチオンに対応するカチオン部との組み合わせで示すが、本発明はこれに制限されるものではない。
Among these counter cations, a compound having iodonium or sulfonium as a counter cation is preferable from the viewpoint of stability and sensitivity, and a compound having a diaryliodonium or triarylsulfonium skeleton is more preferable.
Specific examples of the compound having an anion of the compound represented by the general formula (B) as the anion moiety among the compounds represented by the general formula (A), which are onium salts in the present invention, are preferable Although shown in combination with a cation moiety corresponding to a cation, the present invention is not limited to this.

スルホニウム骨格の好ましい構造としては感度、安定性の面からトリアリールスルホニウム骨格が好ましく、アリール基は前述のアリール基と同様置換されていてもよい。
好ましいスルホニウム塩、即ち、一般式(I)で表される溶解抑制剤として、下記の例示化合物(I−1)〜(I−28)が挙げられる。
A preferable structure of the sulfonium skeleton is preferably a triarylsulfonium skeleton from the viewpoint of sensitivity and stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the above-mentioned aryl group.
Examples of preferable sulfonium salts, that is, dissolution inhibitors represented by the general formula (I) include the following exemplified compounds (I-1) to (I-28).

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また、ヨードニウム骨格の好ましい構造としては、安定性の面からジアリールヨードニウム骨格が好ましく、アリール基は前述のアリール基と同様置換されていてもよい。
好ましいヨードニウム塩、即ち、一般式(II)で表される化合物としては、下記の例示化合物(II−1)〜(II−15)が挙げられる。
Moreover, as a preferable structure of the iodonium skeleton, a diaryl iodonium skeleton is preferable from the viewpoint of stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the aryl group described above.
Preferred examples of the iodonium salt, that is, the compound represented by the general formula (II) include the following exemplified compounds (II-1) to (II-15).

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なお、この一般式(A)で表され、一般式(B)で表される化合物のアニオンをアニオン部としてを有する化合物の代表的な合成例は、本願出願人が先に提案した特願2000−184603号明細書の段落番号〔0039〕乃至〔0043〕に記載されている。   A typical synthesis example of a compound represented by the general formula (A) and having the anion of the compound represented by the general formula (B) as an anion part is disclosed in Japanese Patent Application 2000 previously proposed by the present applicant. No. 184603, paragraph numbers [0039] to [0043].

次に、オニウム塩のアニオン部が、下記一般式(C)で表される化合物のアニオン部(RC−COO-)である場合について述べる。
一般式(C) RC−COO-+
一般式(C)中、RCは好ましくは炭素原子数1〜20のアルキル基又は炭素原子数1〜20のアリール基を表す。RCは環構造を有していてもよい。また、これらアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子、アミド基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基等が挙げられ、これらはさらに上記のような置換基を有するものであってもよい。さらに、2以上の置換基が互いに結合して環を形成していてもよく、また、環構造は窒素原子や硫黄原子などを含むヘテロ環構造であってもよい。
一般式(C)で表される化合物は、水中でのpKaが2以上であることが好ましく、更にpKaが3以上であることが好ましい。水中でのpKaが2以上であると溶解抑制剤としての熱分解温度が低下する傾向があり、これが感度向上に寄与すると考えられる。
Next, the case where the anion part of the onium salt is the anion part (R C —COO ) of the compound represented by the following general formula (C) will be described.
Formula (C) R C —COO M +
In general formula (C), R C preferably represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 1 to 20 carbon atoms. R C may have a ring structure. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent. Specific examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, an alkynyl group, an amino group, and a cyano group. A group, a hydroxyl group, a halogen atom, an amide group, an ester group, a carbonyl group, a carboxyl group, and the like, and these may further have a substituent as described above. Further, two or more substituents may be bonded to each other to form a ring, and the ring structure may be a heterocyclic structure containing a nitrogen atom or a sulfur atom.
The compound represented by the general formula (C) preferably has a pKa in water of 2 or more, and further preferably has a pKa of 3 or more. If the pKa in water is 2 or more, the thermal decomposition temperature as a dissolution inhibitor tends to decrease, which is considered to contribute to the improvement of sensitivity.

また、M+は前記したものと同義であり、好ましい態様も同様のものを挙げることができる。
以下に、対アニオンとして、一般式(C)で表される化合物のアニオン部を有する化合物(溶解抑制剤)の具体例を、好ましい対カチオンに対応するカチオン部との組み合わせで示すが、本発明はこれに制限されるものではない。
ヨードニウム骨格の好ましい構造としては安定性の面からジアリールスルホニウム骨格が好ましく、アリール基は前述のアリール基と同様置換されていてもよい。以下に、まず、好ましいヨードニウム塩(ヨードニウムを対カチオンとする)化合物〔例示化合物(IA−1)〜例示化合物(IJ−8)〕を例示する。
Further, M + has the same meaning as described above, and the same preferable examples can be given.
Specific examples of the compound (dissolution inhibitor) having the anion moiety of the compound represented by the general formula (C) as a counter anion are shown below in combination with a cation moiety corresponding to a preferred counter cation. Is not limited to this.
A preferred structure of the iodonium skeleton is preferably a diarylsulfonium skeleton from the viewpoint of stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the aryl group described above. First, preferred iodonium salt (with iodonium as a counter cation) compound [Exemplary Compound (IA-1) to Exemplified Compound (IJ-8)] will be exemplified.

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スルホニウム骨格の好ましい構造としては感度、安定性の面からトリアリールスルホニウム骨格が好ましく、アリール基は前述のアリール基と同様置換されていてもよい。次に、好ましいスルホニウム塩(スルホニウムを対カチオンとする)化合物〔例示化合物(SA−1)〜例示化合物(SJ−12)〕を例示する。   A preferable structure of the sulfonium skeleton is preferably a triarylsulfonium skeleton from the viewpoint of sensitivity and stability, and the aryl group may be substituted in the same manner as the above-mentioned aryl group. Next, preferred sulfonium salt (with sulfonium as a counter cation) compound [Exemplary Compound (SA-1) to Exemplified Compound (SJ-12)] are exemplified.

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一般式(C)で表される化合物において、アニオン部(R−COO-)を形成するのに適するカルボン酸(R−COOH)の例を以下に示す。 Examples of the carboxylic acid (R—COOH) suitable for forming the anion moiety (R—COO ) in the compound represented by the general formula (C) are shown below.

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なお、このこの一般式(A)で表され、一般式(C)におけるアニオン部を有する化合物の代表的な合成例は、本願出願人が先に提案した特願2000−160323号明細書の段落番号〔0057〕乃至〔0060〕に記載されている。   A typical synthesis example of the compound represented by the general formula (A) and having an anion moiety in the general formula (C) is a paragraph of the specification of Japanese Patent Application No. 2000-160323 previously proposed by the present applicant. Nos. [0057] to [0060].

本発明において、最下部記録層に含有されるオニウム塩の含有量としては、皮膜形成性と溶解抑制効果の両立の観点から、最下部記録層を構成する全固形分の質量に対して、0.1〜30質量%が好ましく、より好ましくは0.3〜15質量%である。
以上、説明したオニウム塩は、最下部記録層に必須成分として含有されるものであるが、最下部記録層と上部記録層の双方に含まれていてもよい。
In the present invention, the content of the onium salt contained in the lowermost recording layer is 0 with respect to the mass of the total solids constituting the lowermost recording layer from the viewpoint of achieving both film-forming properties and a dissolution inhibiting effect. 0.1-30 mass% is preferable, More preferably, it is 0.3-15 mass%.
The onium salt described above is contained as an essential component in the lowermost recording layer, but may be contained in both the lowermost recording layer and the upper recording layer.

次に、本発明におけるポジ型記録層を構成する樹脂及び赤外線吸収剤について、詳細に説明する。   Next, the resin and infrared absorber constituting the positive recording layer in the present invention will be described in detail.

〔樹脂〕
本発明において、ポジ型記録層を構成する樹脂としては、水不溶性且つアルカリ水溶性樹脂(以下、適宜、アルカリ水溶性樹脂と称する。)が用いられる。
本発明における最下部記録層は、このアルカリ水溶性樹脂と前記オニウム塩とを必須成分として含有する。
〔resin〕
In the present invention, as the resin constituting the positive recording layer, a water-insoluble and alkaline water-soluble resin (hereinafter, appropriately referred to as an alkaline water-soluble resin) is used.
The lowermost recording layer in the present invention contains the alkaline water-soluble resin and the onium salt as essential components.

このアルカリ水溶性樹脂としては、樹脂中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体又はこれらの混合物を包含する。従って、本発明に係るポジ型記録層は、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものである。   The alkaline water-soluble resin includes a homopolymer containing an acidic group in the main chain and / or side chain in the resin, a copolymer thereof, or a mixture thereof. Accordingly, the positive recording layer according to the present invention has a property of dissolving when contacted with an alkaline developer.

本発明におけるポジ型記録層に用いられるアルカリ可溶性樹脂は、従来公知のものであれば特に制限はないが、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド基、(3)活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に有する樹脂であることが好ましい。例えば、以下のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。   The alkali-soluble resin used for the positive recording layer in the present invention is not particularly limited as long as it is a conventionally known one, but any of (1) phenolic hydroxyl group, (2) sulfonamide group, and (3) active imide group A resin having such a functional group in the molecule is preferable. For example, the following are exemplified, but the present invention is not limited to these.

(1)フェノール性水酸基を有する樹脂としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有する樹脂としてはこの他に、側鎖にフェノール性水酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。側鎖にフェノール性水酸基を有する樹脂としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる樹脂が挙げられる。   (1) Examples of the resin having a phenolic hydroxyl group include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, Or any of m- / p-mixing) and novolak resins such as mixed formaldehyde resins and pyrogallol acetone resins. In addition to this, a resin having a phenolic hydroxyl group in the side chain is preferably used as the resin having a phenolic hydroxyl group. As the resin having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound having at least one unsaturated bond polymerizable with the phenolic hydroxyl group is homopolymerized, or another polymerizable monomer is added to the monomer. Examples thereof include resins obtained by copolymerization.

フェノール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート等を好適に使用することができる。更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併用してもよい。   Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group. Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3 -Hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p- Hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) Preferred are ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, and the like. Can be used. Furthermore, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, phenol and formaldehyde having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. A condensation polymer may be used in combination.

(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、スルホンアミド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる樹脂が挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとしては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2−と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。 (2) Examples of the alkali-soluble resin having a sulfonamide group include a resin obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. The polymerizable monomer having a sulfonamide group includes one or more sulfonamide groups —NH—SO 2 — in which at least one hydrogen atom is bonded on a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. And a polymerizable monomer comprising a low molecular weight compound. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂は、活性イミド基を分子内に有するものが好ましく、この樹脂としては、1分子中に活性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる樹脂が挙げられる。
このような化合物としては、具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
(3) The alkali-soluble resin having an active imide group preferably has an active imide group in the molecule, and the resin has at least one unsaturated bond polymerizable with the active imide group in one molecule. Examples thereof include a resin obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer composed of a low molecular compound, or by copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer.
As such a compound, specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

更に、本発明のアルカリ可溶性樹脂としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以上を重合させた樹脂、或いはこれら2種以上の重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる樹脂を使用することが好ましい。フェノール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミド基を有する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら成分の配合質量比は50:50から5:95の範囲にあることが好ましく、40:60から10:90の範囲にあることが特に好ましい。   Furthermore, the alkali-soluble resin of the present invention is a resin obtained by polymerizing two or more of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, and the polymerizable monomer having an active imide group. Alternatively, it is preferable to use a resin obtained by copolymerizing these two or more polymerizable monomers with another polymerizable monomer. When the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group is copolymerized with a polymerizable monomer having a sulfonamide group and / or a polymerizable monomer having an active imide group, the blending mass ratio of these components is 50:50 to 5: It is preferably in the range of 95, particularly preferably in the range of 40:60 to 10:90.

本発明において、アルカリ可溶性樹脂が前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの共重合体である場合には、アルカリ可溶性の観点から、アルカリ可溶性を付与するモノマーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル%以上含むものがより好ましい。   In the present invention, the alkali-soluble resin is a copolymer of a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group and another polymerizable monomer. In the case, from the viewpoint of alkali solubility, the monomer that imparts alkali solubility is preferably contained in an amount of 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more.

前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、下記(m1)〜(m12)に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group include the compounds listed in the following (m1) to (m12). However, the present invention is not limited to these.

(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.

(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

本発明においては、赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点で、アルカリ水可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基を有するものが好ましい。また、フェノール性水酸基を有するアルカリ水可溶性樹脂としては、更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体も用いることができる。   In the present invention, those having a phenolic hydroxyl group are preferred as the alkaline water-soluble resin in that the image-forming property upon exposure with an infrared laser or the like is excellent. Further, as the alkaline water-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, as described in US Pat. No. 4,123,279, the number of carbon atoms such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin can be used. A condensation polymer of phenol and formaldehyde having 3 to 8 alkyl groups as substituents can also be used.

アルカリ水可溶性樹脂の共重合の方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることができる。   As a copolymerization method of the alkaline water-soluble resin, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method, or the like can be used.

ポジ型記録層の中でも、上部記録層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、未露光部では強い水素結合性を生起し、露光部においては、一部の水素結合が容易に解除される点においてフェノール性水酸基を有する樹脂が望ましく、より好ましくはノボラック樹脂である。更に、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000であるものが好ましい。   Among the positive recording layers, the alkali-soluble resin used for the upper recording layer is phenolic in that strong hydrogen bonding occurs in the unexposed area and some hydrogen bonds are easily released in the exposed area. A resin having a functional hydroxyl group is desirable, and a novolak resin is more preferable. Further, those having a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000 are preferred.

対して、ポジ型記録層の中でも、最下部記録層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、アクリル系樹脂であることが好ましく、更に、スルホアミド基を有するアクリル樹脂であることが特に好ましい。   On the other hand, among the positive recording layers, the alkali-soluble resin used for the lowermost recording layer is preferably an acrylic resin, and more preferably an acrylic resin having a sulfoamide group.

これらアルカリ可溶性樹脂は、それぞれ1種類或いは2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
また、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、ポジ型記録層の耐久性や感度の観点から、ポジ型記録層全固形分中、40〜99質量%、好ましくは45〜95質量%、特に好ましくは50〜90質量%である。
These alkali-soluble resins may be used alone or in combination of two or more.
Further, the content of the alkali-soluble resin is 40 to 99% by mass, preferably 45 to 95% by mass, particularly preferably 50% in the total solid content of the positive recording layer from the viewpoint of durability and sensitivity of the positive recording layer. It is -90 mass%.

〔赤外線吸収剤〕
本発明のポジ型記録層は、光熱変換機能を発現する赤外線吸収剤を含有する。この赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有しており、赤外線レーザー走査により、ポジ型記録層中で、相互作用の解除、現像インヒビターの分解、酸の発生等が起こり、現像液に対する溶解性が大きく増加する。また、この赤外線吸収剤自体が、アルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、アルカリ可溶性を抑制させる場合もある。
本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。好ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
[Infrared absorber]
The positive recording layer of the present invention contains an infrared absorber that exhibits a photothermal conversion function. This infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared rays into heat, and the release of the interaction, decomposition of the development inhibitor, generation of acid, etc. occur in the positive recording layer by infrared laser scanning, The solubility in the developer is greatly increased. In addition, the infrared absorber itself may interact with the alkali-soluble resin to suppress alkali solubility.
The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. A dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferable.

以下に、ポジ型記録層に含まれる赤外線吸収剤について詳述する。
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
Below, the infrared absorber contained in a positive recording layer is explained in full detail.
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。   Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、顔料分散物の安定性、ポジ型記録層の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The pigment particle size is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoint of the stability of the pigment dispersion and the uniformity of the positive recording layer. In particular, it is preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

本発明においては、特定の官能基を有するバインダーポリマーとの相互作用によりポジ作用(未露光部はアルカリ現像液に対する溶解が抑制され、露光部ではその溶解抑制作用が解除される。)を生じさせる赤外線吸収剤を用いることが好ましく、その点でオニウム塩型構造を有するものが特に好ましい。具体的には、前記した赤外線吸収剤のうち、特にシアニン色素、ピリリウム塩が好ましい。シアニン色素、ピリリウム塩の詳細については前述の通りである。
なお、オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤としては、特開平11−291652号公報の段落番号[0018]乃至[0034]に記載のものも挙げられる。
In the present invention, a positive action (dissolution in the alkaline developer is suppressed in the unexposed area and the dissolution inhibiting action is canceled in the exposed area) is caused by the interaction with the binder polymer having a specific functional group. Infrared absorbers are preferably used, and those having an onium salt structure are particularly preferable in that respect. Specifically, among the above-described infrared absorbers, cyanine dyes and pyrylium salts are particularly preferable. The details of the cyanine dye and the pyrylium salt are as described above.
Examples of infrared absorbers having an onium salt structure include those described in paragraph numbers [0018] to [0034] of JP-A No. 11-291651.

更に、特願平10−237634号に記載のアニオン性赤外線吸収剤も好適に使用することができる。このアニオン性赤外線吸収剤は、実質的に赤外線を吸収する色素の母核にカチオン構造が無く、アニオン構造を有するものを指す。
例えば、(a−1)アニオン性金属錯体、(a−2)アニオン性フタロシアニンが挙げられる。
ここで、(a−1)アニオン性金属錯体とは、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属及び配位子全体でアニオンとなるものを指す。
(a−2)アニオン性フタロシアニンは、フタロシアニン骨格に、置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等のアニオン基が結合し、全体としてアニオンとなっているものを指す。
更に、特願平10−237634号の[0014]乃至[0105]に記載の[Ga-−M−Gb]mm+で示されるアニオン性赤外線吸収剤〔Ga−はアニオン性置換基を表し、−Gbは中性の置換基を表す。Xm+は、プロトンを含む1〜m価のカチオンを表し、mは1乃至6の整数を表す。〕を挙げることができる。
Furthermore, the anionic infrared absorber described in Japanese Patent Application No. 10-237634 can also be suitably used. This anionic infrared absorber refers to one having an anion structure without a cation structure in the mother nucleus of a dye that substantially absorbs infrared rays.
For example, (a-1) anionic metal complex and (a-2) anionic phthalocyanine are mentioned.
Here, the (a-1) anionic metal complex refers to an anion that becomes an anion in the central metal and the entire ligand of the complex part that substantially absorbs light.
(A-2) Anionic phthalocyanine refers to a phthalocyanine skeleton having an anion group such as a sulfonic acid, a carboxylic acid, or a phosphonic acid group bonded as a substituent to form an anion as a whole.
Further, an anionic infrared absorber represented by [Ga -M-Gb] m X m + described in [0014] to [0105] of Japanese Patent Application No. 10-237634 [Ga− represents an anionic substituent, -Gb represents a neutral substituent. X m + represents a 1 to m-valent cation containing a proton, and m represents an integer of 1 to 6. Can be mentioned.

本発明に係るポジ型記録層には、更に感度及び現像ラチチュードを向上させる目的で、上記のシアニン色素、ピリリウム塩、アニオン系色素などの溶解抑制能を発現する赤外線吸収剤と、それ以外の染料又は顔料等を併用することもできる。   In the positive recording layer according to the present invention, for the purpose of further improving sensitivity and development latitude, an infrared absorber exhibiting dissolution inhibiting ability such as the above-mentioned cyanine dyes, pyrylium salts and anionic dyes, and other dyes Or a pigment etc. can also be used together.

本発明において、赤外線吸収剤の含有量は、画像形成性、非画像部の汚れ発生抑制の観点から、ポジ型記録層の全固形分に対し、0.01〜50質量%の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.1〜20質量%、更に好ましくは0.5〜15質量%である。   In the present invention, the content of the infrared absorber is in the range of 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content of the positive recording layer, from the viewpoints of image formability and suppression of occurrence of contamination in non-image areas. Is more preferable, 0.1 to 20% by mass, still more preferably 0.5 to 15% by mass.

[添加剤]
本発明におけるポジ型記録層には、上記の成分の他、目的に応じて種々の公知の添加剤を併用することができる。
[Additive]
In the positive recording layer of the present invention, various known additives can be used in combination with the above components, depending on the purpose.

(フッ素含有ポリマー)
本発明のポジ型記録層には、画像部領域の耐現像性を向上させる目的で、フッ素含有ポリマーを添加することが好ましい。使用されるフッ素含有ポリマーとしては、特開平11−288093号公報、特開2000−187318号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマーからなる共重合体が挙げられる。
好ましい具体例としては、特開平11−288093号公報に記載されているP−1〜P−13のフッ素を含有するアクリル系ポリマーや特開2000−187318号公報に記載されているA−1〜A33のフッ素を含有するアクリル系モノマーを任意のアクリルモノマーと共重合して得られたフッ素含有ポリマーなどを挙げることができる。
以上に挙げたフッ素含有ポリマーの分子量としては、重量平均分子量が2000以上、数平均分子量が1000以上のものが好ましく用いられる。更に好ましくは重量平均分子量が5000〜300000、数平均分子量が2000〜250000である。
(Fluorine-containing polymer)
In the positive recording layer of the present invention, a fluorine-containing polymer is preferably added for the purpose of improving the development resistance of the image area. Examples of the fluorine-containing polymer to be used include copolymers comprising fluorine-containing monomers as described in JP-A Nos. 11-288093 and 2000-187318.
Preferable specific examples include acrylic polymers containing fluorine of P-1 to P-13 described in JP-A No. 11-288093 and A-1 to JP-A No. 2000-187318. A fluorine-containing polymer obtained by copolymerizing a fluorine-containing acrylic monomer of A33 with an arbitrary acrylic monomer can be exemplified.
As the molecular weight of the fluorine-containing polymer mentioned above, those having a weight average molecular weight of 2000 or more and a number average molecular weight of 1000 or more are preferably used. More preferably, the weight average molecular weight is 5000 to 300000, and the number average molecular weight is 2000 to 250,000.

また、フッ素含有ポリマーとして、前記の好ましい分子量を有する化合物である、市販のフッ素系界面活性剤を用いることもできる。具体例として、大日本インキ化学工業(株)製、メガファックF−171、F−173、F−176、F−183、F−184、F―780、F−781(いずれも商品名)を挙げることができる。
これらフッ素含有ポリマーは、1種類を用いてもよいし、2種以上を併用することもできる。
添加量としては、画像部領域の耐現像性と感度との観点から、ポジ型記録層の全固形分に対し、1.4質量%以上であることが好ましく、1.4〜5.0質量%の範囲であることがより好ましい。
In addition, as the fluorine-containing polymer, a commercially available fluorine-based surfactant, which is a compound having the above preferred molecular weight, can also be used. As specific examples, MegaFuck F-171, F-173, F-176, F-183, F-184, F-780, F-781 (all trade names) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. are used. Can be mentioned.
These fluorine-containing polymers may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount is preferably 1.4% by mass or more based on the total solid content of the positive recording layer from the viewpoint of development resistance and sensitivity of the image area, and is preferably 1.4 to 5.0% by mass. % Is more preferable.

(他の溶解抑制剤)
本発明におけるポジ型記録層は、更に必要に応じて、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ水可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質(他の溶解抑制剤)を併用することができる。溶解抑制剤の添加により、画像部の現像液への溶解阻止性が向上されるとともに、この化合物を添加することにより赤外線吸収剤としてアルカリ可溶性樹脂との間に相互作用を形成しないものを用いることも可能となる。
(Other dissolution inhibitors)
The positive recording layer in the present invention is further thermally decomposable, such as an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, and an aromatic sulfonic acid ester compound, if necessary, and is soluble in an alkaline water-soluble resin when not decomposed. Can be used in combination with a substance (other dissolution inhibitor) that substantially lowers the pH. By adding a dissolution inhibitor, the ability to dissolve the image area into the developer is improved, and by adding this compound, an infrared absorber that does not form an interaction with an alkali-soluble resin should be used. Is also possible.

本発明において用いられるo−キノンジアジド化合物としては、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物であって、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものである、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジド化合物は熱分解により、アルカリ可溶性樹脂の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド化合物自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により、ポジ型記録層の溶解性を助ける。   As the o-quinonediazide compound used in the present invention, compounds having various structures which are compounds having at least one o-quinonediazide group and which increase alkali solubility by thermal decomposition can be used. That is, the o-quinonediazide compound loses the ability to suppress dissolution of the alkali-soluble resin by thermal decomposition, and the solubility of the positive-type recording layer is due to both the effect of the o-quinonediazide compound itself changing to an alkali-soluble substance. Help.

o−キノンジアジド化合物として、具体的には、例えば、J.コーサー著「ライト センシティブ・システムズ」(John Wiley & Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Specific examples of the o-quinonediazide compound include J.I. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light Sensitive Systems” (John Wiley & Sons. Inc.) by Korser can be used, and in particular, o reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. -Sulfonic acid esters or sulfonic acid amides of quinonediazides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

更に、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。
その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used.
Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481, US Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267 No. 1,005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは、ポジ型記録層の全固形分に対し、1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%の範囲である。
これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
また、o−キノンジアジド化合物以外の溶解抑制剤の添加量は、好ましくは1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%である。
The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass with respect to the total solid content of the positive recording layer. .
These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
Moreover, the addition amount of dissolution inhibitors other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass.

(他の添加剤)
また、画像のディスクリミネーションの強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開2000−87318明細書に記載されているような、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分とする重合体を添加することもできる。
(Other additives)
Further, for the purpose of enhancing the discrimination of the image and the resistance against scratches on the surface, a perfluoroalkyl group having 3 to 20 carbon atoms in the molecule as described in JP-A-2000-87318. A polymer having a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 as a polymerization component may be added.

また、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加することもできる。
環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、トラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4’’−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3’’,4’’−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
Further, for the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be added.
Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. Trachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used.
As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 '' -Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like.

有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類のポジ型記録層に対する添加割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
Examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid , P-toluic acid, 3,4-methoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.
The addition ratio of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids to the positive recording layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, and particularly preferably 0.1 to 5% by mass. 10% by mass.

本発明におけるポジ型記録層には、例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として添加することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)、アイゼンスピロンブルーC−RH(保土ヶ谷化学(株)製)等、及び特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。   For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be added to the positive recording layer in the present invention as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI52015), Eisenspiron Blue C-RH ( Hodogaya Chemical Co., Ltd.) and the dyes described in JP-A-62-293247.

これらの染料を添加することにより、画像形成後、画像部と非画像部の区別が明瞭となる。
なお、これらの染料の添加量は、ポジ型記録層の全固形分に対し0.01〜10質量%の範囲が好ましい。
By adding these dyes, the distinction between the image area and the non-image area becomes clear after the image formation.
In addition, the addition amount of these dyes has the preferable range of 0.01-10 mass% with respect to the total solid of a positive recording layer.

また、本発明におけるポジ型記録層中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素ポリマーを添加することができる。   Further, in the positive recording layer of the present invention, a nonionic interface as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 is used in order to broaden the processing stability against development conditions. Activators, amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149, siloxane-based compounds as described in EP950517, JP-A-11-288093 Fluoropolymers as described in the publication can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製(株)チッソ社製DBE−224、DBE−621、DBE−712、DBP−732、DBP−534、独国Tego社製Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
上記非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シロキサン系化合物、又はフッ素ポリマーのポジ型記録層に対する添加割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.
Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).
As the siloxane compound, a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide is preferable. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP- manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as 732, DBP-534, and Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.
The addition ratio of the nonionic surfactant, amphoteric surfactant, siloxane compound, or fluoropolymer to the positive recording layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass. is there.

本発明におけるポジ型記録層中には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。
具体的には、例えば、特開昭50−36,209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せが挙げられ、かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。その他の光酸放出剤としては、特開昭55−62444号公報に記載されている種々のo−ナフトキノンジアジド化合物;特開昭55−77742号公報に記載されている2−トリハロメチル−5−アリール−1,3,4−オキサジアゾール化合物;ジアゾニウム塩などを挙げることができる。
In the positive recording layer of the present invention, a print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added. Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt.
Specifically, for example, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 50-36,209 and 53-8128, Trihalomethyl compounds and salts described in JP-A Nos. 53-36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440 Examples of such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images. Examples of other photoacid releasing agents include various o-naphthoquinonediazide compounds described in JP-A-55-62444; 2-trihalomethyl-5--5 described in JP-A-55-77742. Examples include aryl-1,3,4-oxadiazole compounds; diazonium salts.

〔複数のポジ型記録層の形成〕
本発明におけるポジ型記録層は、通常、上記各成分を溶媒に溶かした最下部記録層用塗布液、更には、上部記録層塗布液を、適当な支持体上に、順次塗布することにより形成することができる。
ここで、最下部記録層用塗布液、上部記録層塗布液において適切な溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独或いは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
[Formation of multiple positive recording layers]
The positive recording layer in the present invention is usually formed by sequentially coating the lower recording layer coating solution obtained by dissolving each of the above components in a solvent, and further the upper recording layer coating solution on an appropriate support. can do.
Here, suitable solvents for the lower recording layer coating solution and the upper recording layer coating solution include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2 -Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane , Γ-butyrolactone, toluene and the like can be mentioned but are not limited thereto. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.

また、上記の両塗布液には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等をするために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   In addition, a plasticizer is added to both the coating liquids as necessary to make the coating film flexible. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

更に、上記の両塗布液には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、塗布液全固形分の0.01〜1質量%であり、更に好ましくは0.05〜0.5質量%である。   Furthermore, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added to both the above coating solutions. . A preferable addition amount is 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass, based on the total solid content of the coating solution.

本発明においては、最下部記録層と、該最下部記録層と接する上部記録層とが、原則的に分離して形成することが好ましい。
両層を分離して形成する方法としては、例えば、最下部記録層に含まれる成分と、上部記録層に含まれる成分と、の溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、最下部記録層と接する上部記録層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
In the present invention, it is preferable that the lowermost recording layer and the upper recording layer in contact with the lowermost recording layer are formed in principle separated from each other.
As a method for forming both layers separately, for example, a method using a difference in solvent solubility between a component contained in the lowermost recording layer and a component contained in the upper recording layer, or the lowermost recording layer Examples include, but are not limited to, a method of rapidly drying and removing the solvent after applying the upper recording layer in contact with the substrate.

最下部記録層に含まれる成分と、上部記録層に含まれる成分と、の溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上部記録層用塗布液を塗布する際に、最下部記録層に含まれるアルカリ可溶性樹脂や特定ポリマーを溶解しない溶剤を用いる方法が挙げられる。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。
例えば、まず、最下部記録層成分として、上部記録層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該最下部記録層成分を溶解する溶剤系を用いて塗布液を塗布・乾燥して最下部記録層を形成する。その後、上部記録層成分をメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等で溶解して塗布液を調製し、それを、最下部記録層上に、塗布・乾燥することにより二層化が可能になる。
As a method of utilizing the difference in solvent solubility between the component contained in the lowermost recording layer and the component contained in the upper recording layer, it is contained in the lowermost recording layer when the upper recording layer coating liquid is applied. And a method using a solvent that does not dissolve the alkali-soluble resin or the specific polymer. Thereby, even if it carries out 2 layer application | coating, it becomes possible to isolate | separate each layer clearly and to make a coating film.
For example, first, as the lowermost recording layer component, a component insoluble in a solvent such as methyl ethyl ketone or 1-methoxy-2-propanol that dissolves the alkali-soluble resin that is the upper recording layer component is selected. The lowermost recording layer is formed by applying and drying the coating solution using a solvent system that dissolves. Thereafter, the upper recording layer component is dissolved in methyl ethyl ketone, 1-methoxy-2-propanol or the like to prepare a coating solution, which can be formed into two layers by coating and drying on the lowermost recording layer. .

なお、上部記録層用塗布液を塗布する際に、最下部記録層に含まれるアルカリ可溶性樹脂やオニウム塩を溶解しない溶剤を用いる方法をとるとき、上部記録層用塗布溶剤として、最下部記録層に含まれるアルカリ可溶性樹脂やオニウム塩を溶解する溶剤と溶解しない溶剤とを混合して用いてもよい。両者の溶剤の混合比率を変えることにより、上部記録層と最下部記録層との層間混合を任意に制御することができる。最下部記録層のアルカリ可溶性樹脂やオニウム塩を溶解する溶剤の比率が多くなると、上部記録層を塗布する際に最下部記録層の一部が溶け出し、乾燥後、上部記録層中に粒子状成分として含有され、この粒子状成分により上部記録層表面に突起ができて耐キズ性が良化する。一方、最下部記録層成分が上部記録層に溶け出すことで最下部記録層の膜質が低下し、耐薬品性は低下する傾向にある。このように、それぞれの物性を考慮して、混合比率の制御を行なうことで、種々の特性を発現させることができ、更に、後述する層間の部分相溶なども生起させることができる。   When applying the upper recording layer coating solution, when using a method that uses a solvent that does not dissolve the alkali-soluble resin or onium salt contained in the lowermost recording layer, the lowermost recording layer is used as the upper recording layer coating solvent. A solvent that dissolves the alkali-soluble resin or onium salt contained in the solvent and a solvent that does not dissolve may be used in combination. By changing the mixing ratio of the two solvents, interlayer mixing between the upper recording layer and the lowermost recording layer can be arbitrarily controlled. When the ratio of the solvent that dissolves the alkali-soluble resin or onium salt in the lowermost recording layer increases, a part of the lowermost recording layer dissolves when the upper recording layer is applied, and after drying, the particles form in the upper recording layer. It is contained as a component, and this particulate component makes a protrusion on the surface of the upper recording layer and improves scratch resistance. On the other hand, when the lowermost recording layer component is dissolved into the upper recording layer, the film quality of the lowermost recording layer is lowered and the chemical resistance tends to be lowered. In this way, by controlling the mixing ratio in consideration of each physical property, various characteristics can be expressed, and further, partial compatibility between layers described later can be caused.

本発明の効果の観点からは、上部記録層の塗布溶剤として上記のような混合溶剤を用いる場合、最下部記録層のアルカリ可溶性樹脂やオニウム塩を溶解する溶剤は上部記録層塗布溶剤の80質量%以下であることが耐薬品性の観点から好ましく、耐キズ性の観点を加味すれば、10〜60質量%の範囲であることが好ましい。   From the viewpoint of the effect of the present invention, when the above mixed solvent is used as the coating solvent for the upper recording layer, the solvent for dissolving the alkali-soluble resin or onium salt in the lowermost recording layer is 80 mass of the upper recording layer coating solvent. % Or less is preferable from the viewpoint of chemical resistance, and in view of scratch resistance, it is preferably in the range of 10 to 60% by mass.

次に、最下部記録層と接する上部記録層を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつけることや、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール(加熱ロール)よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与えること、或いはそれらを組み合わせることにより達成できる。   Next, after applying the upper recording layer in contact with the lowermost recording layer, the solvent can be dried very quickly by blowing high-pressure air from a slit nozzle installed substantially perpendicular to the web running direction, It can be achieved by applying thermal energy as conduction heat from the lower surface of the web from a roll (heating roll) supplied inside with a heating medium such as the above or a combination thereof.

本発明において両記録層を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
特に、上部記録層塗布時に最下部記録層へのダメージを防ぐため、上部記録層塗布方法は非接触式であることが望ましい。また接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いることも可能であるが、最下部記録層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布することが望ましい。
Various methods can be used as a method for applying both recording layers in the present invention. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating. Etc.
In particular, in order to prevent damage to the lowermost recording layer when the upper recording layer is applied, the upper recording layer application method is preferably a non-contact type. Although it is a contact type, it is possible to use bar coater coating as a method generally used for solvent-based coating, but it is desirable to apply by forward driving to prevent damage to the lowermost recording layer. .

本発明の平版印刷版原版における最下部記録層の乾燥後の塗布量は、耐刷性確保と現像時における残膜発生抑制の観点から、0.5〜1.5g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.7〜1.0g/m2の範囲である。
また、上部記録層の乾燥後の塗布量は、(2層以上の場合にはその合計量で)0.05〜1.0g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.07〜0.7g/m2の範囲である。
これら各記録層においては、一般的に、塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、現像ラチチュード、皮膜特性は低下する傾向にある。特に記録層の膜厚が厚過ぎる場合、深部において熱拡散の影響を受けやすく、支持体近傍での画像形成性が低下する懸念がある。
The coating amount after drying of the lowermost recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention is in the range of 0.5 to 1.5 g / m 2 from the viewpoint of ensuring printing durability and suppressing residual film formation during development. Is more preferable, and the range of 0.7 to 1.0 g / m 2 is more preferable.
Further, the coating amount after drying of the upper recording layer is preferably in the range of 0.05 to 1.0 g / m 2 (in the case of two or more layers, the total amount), more preferably 0.07. It is in the range of ˜0.7 g / m 2 .
In each of these recording layers, the apparent sensitivity generally increases as the coating amount decreases, but the development latitude and film characteristics tend to decrease. In particular, when the thickness of the recording layer is too thick, the recording layer is easily affected by thermal diffusion in the deep part, and there is a concern that the image formability near the support is lowered.

[支持体]
本発明に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が含まれる。
[Support]
The support used in the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal Plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, Polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with metal as described above, or vapor-deposited paper, or plastic film.

本発明に用いる支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。   As the support used in the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to an anodization treatment to enhance the water retention and wear resistance of the surface as desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不充分であったり、平版印刷版の非画像部にキズが付き易くなって、印刷時にキズの部分にインキが付着するいわゆる「キズ汚れ」が生じ易くなる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched, and the ink adheres to the scratch area during printing. So-called “scratch stains” easily occur.

陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。
本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号の各明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号の各明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary.
As the hydrophilization treatment used in the present invention, each specification of US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734 is disclosed. There is an alkali metal silicate (for example, aqueous sodium silicate) method as disclosed in US Pat. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272 For example, a method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed in the literature is used.

[下塗層]
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に最下部記録層及び上部記録層の少なくとも2層を積層して設けたものであるが、必要に応じて支持体と最下部記録層との間に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
[Undercoat layer]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is provided by laminating at least two layers of a lowermost recording layer and an upper recording layer on a support, and if necessary, between the support and the lowermost recording layer. An undercoat layer can be provided.
Various organic compounds are used as the primer layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid which may have a substituent Organic phosphonic acids such as naphthyl phosphonic acid, alkyl phosphonic acid, glycero phosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenyl phosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid, glycerophosphinic acid and other organic phosphinic acids, glycine and β-alanine amino acids, and triethanolamine hydrochloric acid Has a hydroxy group such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を、支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。また、平版印刷版原版の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと充分な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大きくても同様である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to a support and dried, and water, methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone is provided. A method of providing an organic undercoat layer by immersing a support in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent such as the above or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washing and drying with water or the like It is. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid. Further, a yellow dye can be added to improve the tone reproducibility of the lithographic printing plate precursor.
The coating amount of the organic undercoat layer is suitably 2 to 200 mg / m 2 , preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. Moreover, even if it is larger than 200 mg / m 2, it is the same.

[製版]
上記のようなポジ型記録層や他の層を有する本発明の平版印刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。
[Plate making]
The lithographic printing plate precursor according to the invention having the positive recording layer and other layers as described above is usually subjected to image exposure and development treatment.

〔(像)露光〕
像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。
レーザービームとしては、ヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられる。
本発明においては、特に近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源により露光されることが好ましく、具体的には、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。
[(Image) exposure]
Examples of the active light source used for image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp. Examples of radiation include electron beams, X-rays, ion beams, and far infrared rays. Also, g-line, i-line, deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are used.
Examples of the laser beam include helium / neon laser, argon laser, krypton laser, helium / cadmium laser, and KrF excimer laser.
In the present invention, exposure is preferably performed with a light source having a light emission wavelength from the near infrared region to the infrared region, and specifically, image exposure is performed with a solid-state laser and a semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. It is preferable.

〔現像〕
本発明の平版印刷版原版の現像液及び補充液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。
本発明の平版印刷版原版の現像処理に適用することのできる現像液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
〔developing〕
As the developer and replenisher for the lithographic printing plate precursor according to the invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used.
The developer that can be applied to the development processing of the lithographic printing plate precursor according to the invention is a developer having a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A conventionally known alkaline aqueous solution can be used for the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

更に、非還元糖と塩基からなるアルカリ水溶液を使用することもできる。非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも好適に用いられる。
トレハロース型少糖類としては、トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはD,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット及びアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトール及びオリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)が好適に用いられる。これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にD−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。
Further, an alkaline aqueous solution composed of a non-reducing sugar and a base can be used. Non-reducing sugar means a saccharide that does not have a free aldehyde group or ketone group and therefore has no reducing ability. Trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, and a configuration in which a reducing group of saccharides and a non-saccharide are bonded. Sugar sugars are classified into sugar alcohols reduced by hydrogenation of sugars. Any of these is preferably used in the present invention.
Examples of trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit and allozulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide and a reduced form (reduced water candy) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide are preferably used. Among these, sugar alcohol and saccharose are particularly preferred non-reducing sugars, and D-sorbite, saccharose, and reduced syrup are particularly preferred because they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.

これらの非還元糖は、単独若しくは二種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は0.1〜30質量%が好ましく、更に好ましくは、1〜20質量%である。
非還元糖に組み合わせる塩基としては従来公知のアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
These non-reducing sugars can be used alone or in combination of two or more thereof, and the proportion of the non-reducing sugar in the developer is preferably from 0.1 to 30% by mass, and more preferably from 1 to 20% by mass.
A conventionally known alkaline agent can be used as the base to be combined with the non-reducing sugar. For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, Examples include inorganic alkali agents such as ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.

これらのアルカリ剤は単独若しくは二種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいものとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられる。その理由は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広いpH領域においてpH調整が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等もそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。   These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting the amount added to the non-reducing sugar. Further, trisodium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they themselves have a buffering action.

また、現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加することができる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。
更に、現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
In addition, various surfactants and organic solvents may be added to the developer and replenisher as necessary for the purpose of promoting or suppressing developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area. Can do. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
Furthermore, reducing agents such as sodium salt and potassium salt of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, and bisulfite, as well as organic carboxylic acids, antifoaming agents, and water softeners are added to the developer and replenisher as necessary. Can also be added.

上記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As the post-treatment of the planographic printing plate of the present invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、平版印刷版原版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
なお、この自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
2. Description of the Related Art In recent years, automatic developing machines for lithographic printing plate precursors have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for conveying a printing plate, processing liquid tanks, and a spray device. Each of the pumps pumped by a pump while horizontally conveying an exposed printing plate. A developing solution is sprayed from a spray nozzle. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.
When developing using this automatic developing machine, by adding an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developer to the developer, without changing the developer in the developer tank for a long time, It is known that a large amount of lithographic printing plate precursor can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.

また、上述のように、本発明の平版印刷版原版に対し、像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版において、不必要な画像部(例えば、原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば、特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう方法が好ましいが、特開平5−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   Further, as described above, in the lithographic printing plate obtained by subjecting the lithographic printing plate precursor of the present invention to image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming, an unnecessary image portion ( For example, if there is a film edge mark of the original image film, unnecessary image portions are erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution to an unnecessary image portion as described in Japanese Patent Publication No. 2-13293, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. A method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber as described in JP-A-5-174842 can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版は、より一層の高耐刷力を付与した場合には、バーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate obtained as described above is subjected to a burning treatment in the case of imparting a higher printing durability.
In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。   The lithographic printing plate subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. If so, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

以上のようにして得られた平版印刷版は、オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The planographic printing plate obtained as described above is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

(実施例1)
[支持体の作製]
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.014質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmのアルミニウム板に仕上げた。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
(Example 1)
[Production of support]
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.014 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: Containing 0.03% by mass, the balance is prepared using Al and an inevitable impurity aluminum alloy, and after performing the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Created. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Further, after heat treatment was performed at 500 ° C. using a continuous annealing machine, an aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was finished by cold rolling. After making this aluminum plate width 1030mm, it used for the surface treatment shown below.

<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(j)の各種処理を連続的に行うことにより行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
The surface treatment was performed by continuously performing the following various treatments (a) to (j). In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to a surface of an aluminum plate, it is mechanically rotated by a roller-like nylon brush. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリ剤によるエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を10g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Etching treatment with alkali agent The aluminum plate obtained above is subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. 10 g / m 2 was dissolved. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。
前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmut treatment temperature 30 ° C. A nitric acid concentration 1% by mass aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) was subjected to a desmut treatment by spraying, and then washed with water by spraying.
The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温80℃であった。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) at a liquid temperature of 80 ° C.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) The etching process by spraying was performed at 32 ° C. using an aqueous solution of alkali etching treatment%, the aluminum plate was dissolved at 0.20 g / m 2 , and the electrochemical surface roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage. Occasionally, the generated smut component mainly composed of aluminum hydroxide was removed, and the edge portion of the generated pit was dissolved to smooth the edge portion. Then, water washing by spraying was performed.

(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(F) Desmutting treatment Desmutting treatment was carried out by spraying with a 25% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(g)陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電電極長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度170g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度43℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(G) Anodizing treatment Anodizing device of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolytic section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode length 2.4 m each) Anodizing was performed using this. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 43 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

(h)アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkali metal silicate treatment An aluminum support obtained by anodizing treatment was immersed in a treatment layer of a 1% by weight aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds to immerse the alkali metal silica. Acid salt treatment (silicate treatment) was performed. Then, water washing by spraying was performed.

[下塗層の形成]
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
<下塗液組成>
・下記高分子化合物1 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
[Formation of undercoat layer]
On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .
<Undercoat liquid composition>
・ The following polymer compound 1 0.3g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 2005266133
Figure 2005266133

得られた基板に以下の最下部記録層用塗布液を塗布量が0.85g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社製、PERFECT OVEN PH200にてWind Controlを7に設定して140度で50秒間乾燥し、その後、上部画像記録層用塗布液を塗布量が0.15g/m2になるよう塗布したのち、120℃で1分間乾燥し、平版印刷版原版1を得た。 After applying the following coating solution for the lowermost recording layer to the obtained substrate so that the coating amount becomes 0.85 g / m 2 , Wind Control is set to 7 at 140 ° C. with PERFECT OVEN PH200 manufactured by TABAI. Then, the upper image recording layer coating solution was applied so that the coating amount was 0.15 g / m 2, and then dried at 120 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor 1.

〔最下部記録層用塗布液〕
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル
/メタクリル酸メチル
(36/34/30:重量平均分子量100000、酸価2.65) 2.13g
・オニウム塩(溶解抑制剤: 下記化合物1) 0.20g
・シアニン染料A(下記構造:混合系) 0.109g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.125g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.030g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.10g
・フッ素系界面活性剤(面状改良界面活性剤) 0.035g
〔メガファックF781F、大日本インキ化学工業(株)製〕
・メチルエチルケトン 24.38g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g
・γ−ブチロラクトン 14.2g
[Coating solution for the bottom recording layer]
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitrile / methyl methacrylate (36/34/30: weight average molecular weight 100,000, acid value 2.65) 2.13 g
-Onium salt (dissolution inhibitor: the following compound 1) 0.20 g
・ Cyanine dye A (the following structure: mixed system) 0.109 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.125g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate 0.030 g
・ The counter ion of ethyl violet is changed to 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.10 g
・ Fluorosurfactant (Surface improving surfactant) 0.035 g
[Megafuck F781F, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.]
・ Methyl ethyl ketone 24.38g
・ 13.0 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Γ-Butyrolactone 14.2g

Figure 2005266133
Figure 2005266133

Figure 2005266133
Figure 2005266133

〔上部記録層用塗布液〕
・m,p−クレゾールノボラック 0.2846g
(m/p比=6/4、重量平均分子量4500、未反応クレゾール0.8質量%含有)
・シアニン染料A(上記構造) 0.075g
・ベヘン酸アミド 0.060g
・フッ素系界面活性剤(面状改良界面活性剤) 0.022g
(メガファックF781F、大日本インキ化学工業(株)製)
・画像形成改良フッ素系界面活性剤 0.120g
(メガファックF780(30%)、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 15.1g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7g
[Coating liquid for upper recording layer]
・ M, p-cresol novolak 0.2846g
(M / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4500, containing unreacted cresol 0.8% by mass)
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.075 g
・ Behenamide 0.060g
-Fluorosurfactant (Surface improving surfactant) 0.022g
(Megafuck F781F, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Image formation improved fluorosurfactant 0.120g
(Megafuck F780 (30%), manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Methyl ethyl ketone 15.1g
-1-methoxy-2-propanol 7.7g

(実施例2)
実施例1において用いた最下部記録層用塗布液を以下のものに変更した以外は実施例1と同様にして平版印刷版原版2を得た。
(Example 2)
A lithographic printing plate precursor 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the lowermost recording layer coating solution used in Example 1 was changed to the following.

〔最下部記録層用塗布液〕
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/
アクリロニトリル/メタクリル酸メチル 1.92g
・m,p−クレゾールノボラック
(m/p比=6/4、重量平均分子量4500、未反応クレゾール0.8質量%含有)
0.192g
・前記化合物1 0.20g
・シアニン染料A(前記構造:混合系) 0.109g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.123g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.030g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.10g
・フッ素系界面活性剤(面状改良界面活性剤) 0.035g
〔メガファックF781F、大日本インキ化学工業(株)製〕
・メチルエチルケトン 24.38g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g
・γ−ブチロラクトン 14.2g
[Coating solution for the bottom recording layer]
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /
Acrylonitrile / methyl methacrylate 1.92 g
M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4500, containing 0.8% by mass of unreacted cresol)
0.192g
-Compound 1 0.20g
・ Cyanine dye A (said structure: mixed system) 0.109 g
・ 4,4′-bishydroxyphenylsulfone 0.123 g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.030g
・ The counter ion of ethyl violet is changed to 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.10 g
・ Fluorosurfactant (Surface improving surfactant) 0.035 g
[Megafuck F781F, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.]
・ Methyl ethyl ketone 24.38g
・ 13.0 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Γ-Butyrolactone 14.2g

(実施例3)
実施例1において用いた最下部記録層用塗布液を以下のものに変更した以外は実施例1と同様にして平版印刷版原版3を得た。
(Example 3)
A lithographic printing plate precursor 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the lowermost recording layer coating solution used in Example 1 was changed to the following.

〔最下部記録層用塗布液〕
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/
アクリロニトリル/メタクリル酸メチル
(36/34/30:重量平均分子量100000、酸価2.65) 2.13g
・下記化合物2 0.18g
・シアニン染料C(下記構造) 0.109g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.130g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.030g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.10g
・メチルエチルケトン 25.38g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g
・γ−ブチロラクトン 13.2g
[Coating solution for the bottom recording layer]
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /
Acrylonitrile / methyl methacrylate (36/34/30: weight average molecular weight 100,000, acid value 2.65) 2.13 g
・ The following compound 2 0.18 g
・ Cyanine dye C (the following structure) 0.109 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ P-toluenesulfonic acid 0.130 g
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.030g
・ The counter ion of ethyl violet is changed to 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.10 g
・ Methyl ethyl ketone 25.38g
・ 13.0 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Γ-butyrolactone 13.2 g

Figure 2005266133
Figure 2005266133

Figure 2005266133
Figure 2005266133

(実施例4)
実施例1の上部記録層塗布量が0.20g/m2になるよう塗布したこと以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版原版4を得た。
Example 4
A lithographic printing plate precursor 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the application amount of the upper recording layer in Example 1 was 0.20 g / m 2 .

(実施例5)
実施例1の支持体作製において、(h)アルカリ金属ケイ酸塩処理を行わず、(i)下塗層の形成において、下記組成の下塗液を塗布し、80℃で30秒間乾燥し、乾燥後の被覆量を10mg/m2とした以外は実施例1と同様にして、平版印刷版原版5を得た。
(Example 5)
In the production of the support of Example 1, (h) alkali metal silicate treatment is not performed, (i) in the formation of the undercoat layer, an undercoat solution having the following composition is applied, dried at 80 ° C. for 30 seconds, and dried. A lithographic printing plate precursor 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the subsequent coating amount was 10 mg / m2.

<下塗液組成>
・β−アラニン 0.1g
・フェニルスルホン酸 0.05g
・メタノール 40g
・純水 60g
<Undercoat liquid composition>
・ Β-Alanine 0.1g
・ Phenylsulfonic acid 0.05g
・ Methanol 40g
・ Pure water 60g

(実施例6)
実施例1において、下記に示すようにして作製された支持体を用いた以外は、実施例1同様にして、平版印刷版原版6を得た。
(Example 6)
In Example 1, a lithographic printing plate precursor 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the support prepared as described below was used.

[支持体の作製]
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.025質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理及びろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.30mmのアルミニウム板に仕上げた。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理を連続的に行った。
[Production of support]
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.025 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: It contains 0.03% by mass, and the balance is prepared by using an aluminum alloy of Al and inevitable impurities. After the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Created. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Further, after heat treatment was performed at 500 ° C. using a continuous annealing machine, an aluminum plate having a thickness of 0.30 mm was finished by cold rolling. After making this aluminum plate 1030 mm in width, the following surface treatment was continuously performed.

(a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
研磨剤(パミス)の水懸濁液(比重1.1g/cm3 )を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ブラシにより機械的粗面化処理を行った。研磨剤のメジアン径は33μmであった。ローラ状ブラシは、ナイロンブラシをφ400mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ250mm)の表面間の距離は300mmであった。ローラ状ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ローラ状ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。
(A) Mechanical roughening treatment (brush grain method)
While supplying an aqueous suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3) of an abrasive (pumice) as a polishing slurry liquid to the surface of the aluminum plate, a mechanical surface roughening treatment was performed with a rotating roller brush. The median diameter of the abrasive was 33 μm. As for the roller-like brush, a nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel cylinder having a diameter of 400 mm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The distance between the surfaces of the two support rollers (φ250 mm) under the brush was 300 mm. The roller brush was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 10 kW plus with respect to the load before the roller brush was pressed against the aluminum plate.

(b)アルカリ剤によるエッチング処理
上記で得られた機械的粗面化処理後のアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度5質量%のカセイソーダ水溶液を用いスプレーにより、アルミニウム溶解量10g/m2でエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。なお、アルカリエッチング処理の温度は、70℃であった。
(B) Etching treatment with alkali agent The aluminum plate after the mechanical surface-roughening treatment obtained above is sprayed with an aqueous caustic soda solution having a caustic soda concentration of 2.6 mass% and an aluminum ion concentration of 5 mass%, so that the aluminum dissolution amount is 10 g. Etching was performed at / m 2 . Then, water washing by spraying was performed. The temperature for the alkali etching treatment was 70 ° C.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、液温35℃であった。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で197C/dm2とした。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 35 ° C.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 197 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッイング処理を70℃で行い、アルミニウム板を3.8g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment An aluminum plate was subjected to aging treatment by spraying at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 70 ° C. to dissolve the aluminum plate by 3.8 g / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.

温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。   A desmut treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a nitric acid concentration of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。液温40℃であった。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であった。
塩酸電解に用いた電解液は塩酸濃度5.0質量%水溶液(アルミニウムイオン5.0質量%を含む。)であり、塩酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で60C/dm2とした。電解層は図2に示すものを用いた。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The liquid temperature was 40 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 1. The time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used with the carbon electrode as the counter electrode. An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value.
The electrolytic solution used for hydrochloric acid electrolysis was a 5.0% by mass aqueous solution of hydrochloric acid (including 5.0% by mass of aluminum ions). The amount of electricity in hydrochloric acid electrolysis was 60 C / It was dm 2. The electrolytic layer shown in FIG. 2 was used.
Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
カセイソーダ濃度4.5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を用いスプレーにより、アルミニウム溶解量0.16g/m2でエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。なお、アルカリエッチング処理の温度は、70℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkali etching treatment sodium hydroxide concentration of 4.5 wt%, by spraying an aluminum ion concentration of 0.5 wt% sodium hydroxide aqueous solution, an aluminum dissolution amount 0.16 g / m 2 was subjected to etching treatment. Then, water washing by spraying was performed. The temperature for the alkali etching treatment was 70 ° C. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) Desmut treatment A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (including 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(j)陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電電極長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。
第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度15質量%(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度38℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.5g/m2であった。
(J) Anodizing treatment Anodizing device of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolytic section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode length 2.4 m each) Anodizing was performed using this.
Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 15% by mass (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a temperature of 38 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.5 g / m 2 .

(k)下塗層の形成
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、実施例1で用いたのと同じ下塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
(K) Formation of undercoat layer On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, the same undercoat liquid as used in Example 1 was applied, and then at 80 ° C for 15 seconds. Dried to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

(比較例1)
実施例1の最下部記録層用塗布液を下記の組成に代えた以外は実施例1と同様にして、平版印刷版原版7を得た。
(Comparative Example 1)
A lithographic printing plate precursor 7 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for the lowermost recording layer in Example 1 was changed to the following composition.

〔最下部記録層用塗布液〕
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/
アクリロニトリル/メタクリル酸メチル
(36/34/30:重量平均分子量100000、酸価2.65) 2.133g
・シアニン染料A(前記構造) 0.109g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾフジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.030g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.10g
・フッ素系界面活性剤(塗布面状改良界面活性剤) 0.035g
〔メガファックF176(20%)、大日本インキ化学工業(株)製〕
・メチルエチルケトン 25.38g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g
・γ−ブチロラクトン 13.2g
[Coating solution for the bottom recording layer]
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /
Acrylonitrile / methyl methacrylate (36/34/30: weight average molecular weight 100,000, acid value 2.65) 2.133 g
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.109 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-methoxy-4-diazofudiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.030g
・ The counter ion of ethyl violet is changed to 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.10 g
・ Fluorine-based surfactant (surfactant with improved coating surface) 0.035 g
[Megafuck F176 (20%), manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.]
・ Methyl ethyl ketone 25.38g
・ 13.0 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Γ-butyrolactone 13.2 g

(比較例2)
実施例1の最下部記録層用塗布液を下記の組成に代えた以外は実施例1と同様にして、平版印刷版原版8を得た。
(Comparative Example 2)
A lithographic printing plate precursor 8 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for the lowermost recording layer in Example 1 was changed to the following composition.

〔最下部記録層用塗布液〕
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/
アクリロニトリル/メタクリル酸メチル
(36/34/30:重量平均分子量100000、酸価2.65) 1.92g
・m,p−クレゾールノボラック
(m/p比=6/4、重量平均分子量4500、未反応クレゾール0.8質量%含有)
0.192g
・シアニン染料A(前記構造) 0.109g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.030g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.10g
・フッ素系界面活性剤(塗布面状改良界面活性剤) 0.035g
〔メガファックF176(20%)、大日本インキ化学工業(株)製〕
・メチルエチルケトン 25.38g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g
・γ−ブチロラクトン 13.2g
[Coating solution for the bottom recording layer]
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /
Acrylonitrile / methyl methacrylate (36/34/30: weight average molecular weight 100,000, acid value 2.65) 1.92 g
M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4500, containing 0.8% by mass of unreacted cresol)
0.192g
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.109 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.030g
・ The counter ion of ethyl violet is changed to 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.10 g
・ Fluorine-based surfactant (surfactant with improved coating surface) 0.035 g
[Megafuck F176 (20%), manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.]
・ Methyl ethyl ketone 25.38g
・ 13.0 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Γ-butyrolactone 13.2 g

[平版印刷版原版の評価]
1.現像ラチチュードの評価
得られた実施例の平版印刷版原版1〜6及び比較例の平版印刷版原版7、8を、Creo社製Trendsetterにてビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
まず、上記の条件で露光した平版印刷版原版1〜8を、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2の希釈率を変えたものを仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー940HIIを用い、液温を30度に保ち、現像時間12sで現像した。この時、現像不良
の記録層残膜に起因する汚れや着色がないかを確認し、良好に現像が行えた現像液の電導度を測定した。
結果を表に示す。上限値と下限値との差が大きいものを現像ラチチュードに優れると評価する。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor]
1. Evaluation of development latitude The lithographic printing plate precursors 1 to 6 of the obtained examples and the lithographic printing plate precursors 7 and 8 of the comparative examples were imaged in a test pattern at a beam intensity of 9 W and a drum rotation speed of 150 rpm using a Trend setter manufactured by Creo. I drew on.
First, a PS processor 940HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., in which the lithographic printing plate precursors 1 to 8 exposed under the above conditions were prepared by changing the dilution ratio of the developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The liquid temperature was maintained at 30 ° C., and development was performed for 12 seconds. At this time, it was confirmed whether there was any stain or coloring due to a defective recording layer remaining film, and the conductivity of the developer that was able to be developed satisfactorily was measured.
The results are shown in the table. Those having a large difference between the upper limit value and the lower limit value are evaluated as being excellent in development latitude.

2.耐傷性の評価
得られた実施例の平版印刷版原版1〜6及び比較例の平版印刷版原版7、8を、Creo社製Trendsetterにてビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmロータリー・アブレーション・テスター(TOYOSEIKI社製)を用い、250gの荷重下、アブレーザーフェルトCS5で15回摩擦した。
その後、富士写真フィルム(株)DT−2(DT−2:水=1:8で希釈したもの)を仕込
んだ富士写真フイルム(株)製現像液DT−2の希釈率を変えたものを仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー940HIIを用い、液温を30度に保ち、現像時間12sで現像した。このときの現像時電動度は45mS/cmであった。耐傷性の評価は下記基準で行った。〇及び△が実用上問題のないレベルである。結果を表1に示す。
<耐傷性の評価基準>
○:摩擦した部分の感光膜の光学濃度がまったく変化しなかったもの
△:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が目視でわずかに観察されたもの
×:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部の2/3以下になったもの
2. Evaluation of scratch resistance The lithographic printing plate precursors 1 to 6 of the obtained examples and the lithographic printing plate precursors 7 and 8 of the comparative examples were subjected to a rotary ablation tester with a beam intensity of 9 W and a drum rotation speed of 150 rpm using a Trend setter manufactured by Creo. Using TOYOSEIKI Co., Ltd.), it was rubbed 15 times with Abrazer felt CS5 under a load of 250 g.
After that, a modified version of the developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was charged with DT-2 (DT-2: diluted with water = 1: 8). Using a PS processor 940HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., the liquid temperature was maintained at 30 ° C., and development was performed for 12 seconds. At this time, the developing electric power was 45 mS / cm. The scratch resistance was evaluated according to the following criteria. O and Δ are levels that are not problematic in practice. The results are shown in Table 1.
<Evaluation criteria for scratch resistance>
○: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part was not changed at all. Δ: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part was slightly observed visually. ×: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part was What became 2/3 or less of the non-friction part

3.画像のシャープ性
得られた実施例の平版印刷版原版1〜6及び比較例の平版印刷版原版7、8を、Creo社製Trendsetterにてビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmでテストパターン(Staccato10、20)を画像状に描き込みを行った。上記の条件で露光した平版印刷版原版1〜8を、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2(DT−2:水=1:8で希釈したもの)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー940HIIを用い、液温を30度に保ち、現像時間12sで現像した。得られた画像のエッ
ジ部を電子顕微鏡(日立S−800 日立製作所(株)製)にて観察した。画像シャープ性評価は下記基準で行った。〇が実用上問題のないレベルである。結果を表1に示す。
<耐傷性の評価基準>
○:画像の辺がまっすぐになっているもの
△:画像の辺の一部が少し欠けているもの
×:画像の辺の1/2が欠けているもの
3. Sharpness of the image The lithographic printing plate precursors 1 to 6 of the obtained examples and the lithographic printing plate precursors 7 and 8 of the comparative examples were tested with a test pattern (Staccato 10, 20) was drawn in an image. Fuji Photo Film Co., Ltd. was charged with the lithographic printing plate precursors 1 to 8 exposed under the above-described conditions and the developer DT-2 (DT-2: diluted with water = 1: 8) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. ) Using a PS processor 940HII manufactured by), the liquid temperature was kept at 30 ° C., and the development was performed for 12 seconds. The edge part of the obtained image was observed with an electron microscope (Hitachi S-800, manufactured by Hitachi, Ltd.). The image sharpness evaluation was performed according to the following criteria. O is a level that does not cause any practical problems. The results are shown in Table 1.
<Evaluation criteria for scratch resistance>
○: The image has a straight side. Δ: The image has a part of the side that is slightly missing. X: The image has a half of the side.

Figure 2005266133
Figure 2005266133

表1に明らかなように、最下部記録層にオニウム塩及びアルカリ可溶性樹脂を含有する実施例1〜6の平版印刷版原版は、比較例1、2の平版印刷版原版に対して、本発明の平版印刷版原版はいずれも実用上問題のない良好な耐傷性を維持しながら現像ラチチュードに優れ、シャープな画像が得られることがわかる。
一方、最下部記録層にオニウム塩を含有しない以外は、実施例1と同様に作製された比較例1の平版印刷版原版7は、画像のシャープ性や現像ラチチュードに劣る平版印刷版原版であった。また、比較例2の平版印刷版原版8は、上部記録層を塗布した際に最下部記録層との界面で相溶してしまい、単層と同様の記録層となったため、画像シャープ性及び耐傷性のいずれもが、実施例の平版印刷版原版と比較して悪い結果であった。
As is clear from Table 1, the planographic printing plate precursors of Examples 1 to 6 containing an onium salt and an alkali-soluble resin in the lowermost recording layer are different from the planographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 2 in the present invention. It can be seen that each of the lithographic printing plate precursors is excellent in development latitude and maintains a sharp image while maintaining good scratch resistance with no practical problems.
On the other hand, the lithographic printing plate precursor 7 of Comparative Example 1 produced in the same manner as in Example 1 except that the lowermost recording layer does not contain an onium salt is a lithographic printing plate precursor inferior in image sharpness and development latitude. It was. Further, the planographic printing plate precursor 8 of Comparative Example 2 was compatible at the interface with the lowermost recording layer when the upper recording layer was applied, and became a recording layer similar to a single layer. All of the scratch resistances were bad compared to the planographic printing plate precursors of the examples.

本発明の平版印刷版原版に用いる支持体の作製における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for the electrochemical roughening process in preparation of the support body used for the lithographic printing plate precursor of this invention. 本発明の平版印刷版原版に用いる支持体の作製における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セル(電解槽)の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell (electrolyzer) in the electrochemical roughening process using alternating current in preparation of the support body used for the lithographic printing plate precursor of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11 アルミニウム板
12 ラジアルドラムローラ
13a、13b 主極
14 電解処理液
15 電解液供給口
16 スリット
17 電解液通路
18 補助陽極
19a、19b サイリスタ
20 交流電源
21 主電解槽
22 補助陽極槽
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Aluminum plate 12 Radial drum roller 13a, 13b Main electrode 14 Electrolytic process liquid 15 Electrolyte supply port 16 Slit 17 Electrolyte passage 18 Auxiliary anode 19a, 19b Thyristor 20 AC power source 21 Main electrolytic cell 22 Auxiliary anode tank

Claims (1)

支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外線レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を2層以上有してなり、該ポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層が、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂とオニウム塩とを含有することを特徴とする平版印刷版原版。   The support has two or more positive recording layers that contain a resin and an infrared absorber and increase the solubility in an alkaline aqueous solution by infrared laser exposure, and is closest to the support among the positive recording layers A lithographic printing plate precursor, wherein the positive recording layer contains a water-insoluble and alkali-soluble resin and an onium salt.
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