JPH1195421A - Laser direct lithography type planographic printing plate material - Google Patents

Laser direct lithography type planographic printing plate material

Info

Publication number
JPH1195421A
JPH1195421A JP27770897A JP27770897A JPH1195421A JP H1195421 A JPH1195421 A JP H1195421A JP 27770897 A JP27770897 A JP 27770897A JP 27770897 A JP27770897 A JP 27770897A JP H1195421 A JPH1195421 A JP H1195421A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
printing plate
acid
compound
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27770897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsushi Kitatani
克司 北谷
Toru Harada
徹 原田
Ippei Nakamura
一平 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP27770897A priority Critical patent/JPH1195421A/en
Publication of JPH1195421A publication Critical patent/JPH1195421A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily produce a laser direct lithography type planographic printing plate material capable of direct photomechanical processing from digital data by recording with IR laser and excellent in stability during storage without requiring a dispersing process at the time of preparing a coating liq. for a printing plate. SOLUTION: The planographic printing plate material contains a dihydroperimidinesquarylium compd., preferably a compd. represented by formula (1) or (2), or a mixture of such compds. In the formulae (1) and (2), R<1> -R<12> are individually H, alkyl, cycloalkyl, aryl, aralkyl, alkenyl, alkynyl or acyl, adjacent substituents may bond to each other to form a 5- or 6-membered ring, (n) is an integer of 1-6, X<1> -X<3> are individually H or monovalent groups and (m) is an integer of 1-3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材とし
て使用できる画像記録材料に関するものであり、特にコ
ンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを用い直
接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷
版材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material that can be used as a lithographic printing plate material, and more particularly to a so-called lithographic printing plate material capable of directly making a plate by using an infrared laser from a digital signal of a computer or the like. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色または緑色を発光するレーザを用い露光す
る光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層し
たもの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。しかしながら、の電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。の光重合系による
ものでは、青色や緑色の光に対して高感度な版材である
ため、明室での取扱いが難しくなる。、、の方法で
は銀塩を使用するため現像等の処理が煩雑になる、さら
に当然ながら処理廃液中に銀が含まれる欠点がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a system for making a plate directly from digital data of a computer, an electrophotographic system, a photopolymerization system for exposing using a laser emitting blue or green light, and a silver salt on a photosensitive resin are known. Laminated ones, silver salt diffusion transfer methods, and the like have been proposed. However, in the case of using the electrophotographic method, the processes of image formation such as charging, exposure, and development are complicated, and the apparatus is complicated and large. In the photopolymerization system, since the plate material is highly sensitive to blue or green light, it is difficult to handle in a bright room. The methods (1), (2), and (3) use silver salts, which makes processing such as development complicated, and of course has the disadvantage of containing silver in the processing waste liquid.

【0003】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュ
ータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源
として、これらのレーザは非常に有用であり、830n
m付近に発光する半導体レーザ、及び、1064nmに
発光するYAGレーザを用いた、レーザ製版機が上市さ
れている。しかし、実用上有用な多くの感光性記録材料
は、感光波長が760nm以下の可視光域であるため、
これらの赤外線レーザでは画像記録できない。このた
め、赤外線レーザで記録可能な材料が望まれている。
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like.
Laser plate making machines using a semiconductor laser emitting near m and a YAG laser emitting at 1064 nm are commercially available. However, many photosensitive recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength in the visible light range of 760 nm or less.
Images cannot be recorded with these infrared lasers. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0004】このような赤外線レーザにて記録可能な記
録材料としては、特開昭56−69193号に開示され
ている、レゾール型フェノール樹脂、カーボンブラック
を含む感熱記録材料、特開平7−20629号に記載さ
れている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤より成る記録材料がある。また、
特開平7−271029号には、ハロアルキル置換され
たs−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、及
び赤外線吸収剤より成る記録材料が記載されている。こ
れらの記録材料に用いる赤外線吸収剤のうち、800〜
1200nm付近の領域に吸収を持つ赤外線染料は一般
的に不安定なものが多く、使用が困難であった。カーボ
ンブラックは安定性の問題はないが、塗布溶媒に溶解し
ないため、印刷版へ導入するに際して分散工程を要し、
製造工程が煩雑になる等、コスト面で不利であった。ま
た均一な被膜の形成が必ずしも容易ではなかった。
[0004] As such a recording material recordable with an infrared laser, a heat-sensitive recording material containing a resol type phenol resin and carbon black disclosed in JP-A-56-69193, and JP-A-7-20629. And a recording material comprising an onium salt, a resol resin, a novolak resin, and an infrared absorber. Also,
JP-A-7-271029 describes a recording material comprising a haloalkyl-substituted s-triazine, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber. Of the infrared absorbers used for these recording materials, 800 to
Infrared dyes having an absorption in the region around 1200 nm are generally unstable and difficult to use. Although carbon black has no stability problem, it does not dissolve in the coating solvent, so a dispersion step is required when introducing it to the printing plate,
This is disadvantageous in terms of cost, such as complicating the manufacturing process. Also, it was not always easy to form a uniform coating.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピュータ等のデジタルデ
ータから直接製版可能であり、さらに保存時の安定性に
優れ、かつ印刷版塗布液の製造に当たって分散工程を要
せず、容易に製造でき、均一な被膜のレーザ直描型平版
印刷版材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to make a plate directly from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light, and furthermore, it is possible to obtain a stable image when storing. An object of the present invention is to provide a laser direct-writing type lithographic printing plate material which has excellent properties, can be easily manufactured without requiring a dispersion step in manufacturing a printing plate coating liquid, and has a uniform coating.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的は、鋭意研究の
結果、ジヒドロペリミジンスクアリリウム化合物若しく
はその混合物を赤外線吸収染料として用いる事により達
成された。ジヒドロペリミジンスクアリリウム化合物は
塗布液に容易に溶解し、かつ保存安定性に優れている。 (i)ジヒドロペリミジンスクアリリウム化合物、好ま
しくは下記一般式(1)で表される化合物若しくはその
混合物、または、下記一般式(2)で表される化合物若
しくはその混合物を含むことを特徴とするレーザ直描型
平版印刷版材料である。 一般式(1)
The above object has been achieved as a result of diligent studies by using a dihydroperimidine squarylium compound or a mixture thereof as an infrared absorbing dye. The dihydroperimidine squarylium compound is easily dissolved in the coating solution and has excellent storage stability. (I) a laser comprising a dihydroperimidine squarylium compound, preferably a compound represented by the following general formula (1) or a mixture thereof, or a compound represented by the following general formula (2) or a mixture thereof: It is a direct drawing type lithographic printing plate material. General formula (1)

【0007】[0007]

【化3】 Embedded image

【0008】式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 、R8 、R9 、R10、R11およびR12は、それ
ぞれ水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基また
はアシル基を表し、R1 とR 2 、R3 とR4 、R5 とR
6 、R7 とR8 、R9 とR10、R11とR12、R2
3 、R6 とR7 、および、R10とR11から選ばれる組
み合わせのうち1つ以上が、それぞれ互いに結合し5員
環あるいは6員環を形成してもよい。nは1〜6の整数
を表す。X1 、X2 およびX3 は各々水素原子または1
価の基を表し、mは1〜3の整数を表す。
Where R1, RTwo, RThree, RFour, RFive, R
6, R7, R8, R9, RTen, R11And R12Is it
Hydrogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aryl
Aralkyl, alkenyl, alkynyl or
Represents an acyl group;1And R Two, RThreeAnd RFour, RFiveAnd R
6, R7And R8, R9And RTen, R11And R12, RTwoWhen
R Three, R6And R7, And RTenAnd R11Pair selected from
One or more of the combinations are connected to each other and have 5 members
A ring or a 6-membered ring may be formed. n is an integer from 1 to 6
Represents X1, XTwoAnd XThreeIs a hydrogen atom or 1
And m represents an integer of 1 to 3.

【0009】一般式(2)General formula (2)

【0010】[0010]

【化4】 Embedded image

【0011】式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 およびR8 は、それぞれ水素原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基またはアシル基を表し、R1
とR2 、R3 とR4 、R5 とR 6 、R7 とR8 、R2
3 、および、R6 とR7 から選ばれる組み合わせのう
ち1つ以上が、それぞれ互いに結合し5員環あるいは6
員環を形成してもよい。X1 およびX2 は各々水素原子
または1価の基を表し、mは1〜3の整数を表す。
Where R1, RTwo, RThree, RFour, RFive, R
6, R7And R8Is a hydrogen atom, an alkyl
Group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group,
Represents a alkenyl group, an alkynyl group or an acyl group;1
And RTwo, RThreeAnd RFour, RFiveAnd R 6, R7And R8, RTwoWhen
RThree, And R6And R7Combination selected from
At least one is bonded to each other to form a 5-membered ring or 6
A member ring may be formed. X1And XTwoIs a hydrogen atom
Alternatively, m represents a monovalent group, and m represents an integer of 1 to 3.

【0012】(ii)アルカリ可溶性バインダー、酸発生
剤、酸架橋性化合物を更に含むことを特徴とする(i)
に記載のレーザ直描型平版印刷版材料である。 (iii)アルカリ可溶性バインダー、熱分解性でありかつ
分解しない状態では前記アルカリ可溶性バインダーの溶
解性を実質的に低下させる物質を更に含むことを特徴と
する(i)に記載のレーザ直描型平版印刷版材料であ
る。
(Ii) It further comprises an alkali-soluble binder, an acid generator, and an acid-crosslinkable compound (i).
And a laser direct-drawing lithographic printing plate material described in (1). (iii) The laser direct-drawing lithographic plate according to (i), further comprising an alkali-soluble binder, a substance which is thermally decomposable and substantially degrades the solubility of the alkali-soluble binder when not decomposed. Printing plate material.

【0013】上記ジヒドロペリミジンスクアリリウム化
合物は、長波長(800〜1200nm程度)に吸収領
域を有するため、これを赤外線吸収剤として用いること
により得られる平版印刷版材料は、赤外線を放射する固
体レーザ及び半導体レーザを用いて記録することによ
り、コンピュータ等のデジタルデータから直接製版可能
となる。また、上記化合物は染料であるため、印刷版塗
布液の製造に当たって分散工程を要せず、容易に製造す
ることができ、得られる塗布膜の均一性も高いものとな
る。さらに、上記化合物は特に高温高湿における安定性
が高く、これを赤外線吸収剤として用いることにより得
られる平版印刷版材料は、保存時の安定性に優れたもの
になる。
Since the above-mentioned dihydroperimidine squarylium compound has an absorption region at a long wavelength (about 800 to 1200 nm), a lithographic printing plate material obtained by using this compound as an infrared absorber can be used as a solid-state laser emitting infrared light. By performing recording using a semiconductor laser, plate making can be performed directly from digital data of a computer or the like. Further, since the compound is a dye, it can be easily produced without requiring a dispersing step in producing a printing plate coating liquid, and the uniformity of the obtained coating film is high. Further, the above compounds have particularly high stability at high temperature and high humidity, and a lithographic printing plate material obtained by using the compound as an infrared absorber has excellent stability during storage.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明で用いられるジヒドロペリミジンスクアリ
リウム化合物、好ましくは下記一般式(1)および一般
式(2)で表される化合物、について説明する。 一般式(1)
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
First, a dihydroperimidine squarylium compound used in the present invention, preferably a compound represented by the following general formula (1) or (2) will be described. General formula (1)

【0015】[0015]

【化5】 Embedded image

【0016】上記一般式(1)中、R1 、R2 、R3
4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R 9 、R10、R11およ
びR12は、それぞれ水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基またはアシル基を表し、R1 とR2 、R3
4 、R5 とR6 、R7 とR8 、R9 とR10、R11とR
12、R2 とR3 、R6 とR7 、および、R10とR11から
選ばれる組み合わせのうち1つ以上が、それぞれ互いに
結合し5員環あるいは6員環を形成してもよい。nは1
〜6の整数を表す。X1 、X2 およびX3 は各々水素原
子または1価の基を表し、mは1〜3の整数を表す。
In the above general formula (1), R1, RTwo, RThree,
RFour, RFive, R6, R7, R8, R 9, RTen, R11And
And R12Represents a hydrogen atom, an alkyl group,
Kill group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group,
A alkynyl group or an acyl group;1And RTwo, RThreeWhen
RFour, RFiveAnd R6, R7And R8, R9And RTen, R11And R
12, RTwoAnd RThree, R6And R7, And RTenAnd R11From
One or more of the selected combinations
They may combine to form a 5- or 6-membered ring. n is 1
Represents an integer of from 6 to 6. X1, XTwoAnd XThreeAre hydrogen sources
And m represents an integer of 1 to 3.

【0017】一般式(2)General formula (2)

【0018】[0018]

【化6】 Embedded image

【0019】式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 およびR8 は、それぞれ水素原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基またはアシル基を表し、R1
とR2 、R3 とR4 、R5 とR 6 、R7 とR8 、R2
3 、および、R6 とR7 から選ばれる組み合わせのう
ち1つ以上が、それぞれ互いに結合し5員環あるいは6
員環を形成してもよい。X1 およびX2 は各々水素原子
または1価の基を表し、mは1〜3の整数を表す。
Where R1, RTwo, RThree, RFour, RFive, R
6, R7And R8Is a hydrogen atom, an alkyl
Group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group,
Represents a alkenyl group, an alkynyl group or an acyl group;1
And RTwo, RThreeAnd RFour, RFiveAnd R 6, R7And R8, RTwoWhen
RThree, And R6And R7Combination selected from
At least one is bonded to each other to form a 5-membered ring or 6
A member ring may be formed. X1And XTwoIs a hydrogen atom
Alternatively, m represents a monovalent group, and m represents an integer of 1 to 3.

【0020】詳しくは、一般式(1)においてR1 から
12で、および一般式(2)においてR1 からR8 で、
それぞれ表される(以下、単に「R1 からR12で表され
る」という)アルキル基としては、炭素数1〜20、よ
り好ましくは1〜12のアルキル基(例えば、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ウンデシル)で
ある。また、ハロゲン原子(例えば、F、Cl、B
r)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル)、ヒドロキシ、アルコキシ
(例えば、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、イソブト
キシ)、カルボキシル、スルホまたはアシルオキシ(例
えば、アセチルオキシ、ブチリルオキシ、ヘキシリルオ
キシ、ベンゾイルオキシ)等で置換されていてもよい。
1 からR12で表されるシクロアルキル基としては、シ
クロペンチル、シクロへキシル等を挙げることができ、
上記アルキル基で述べた置換基で置換されていてもよ
い。
Specifically, R 1 to R 12 in the general formula (1) and R 1 to R 8 in the general formula (2),
As the alkyl group represented by each (hereinafter, simply represented by “R 1 to R 12 ”), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms (for example, methyl,
Ethyl, propyl, butyl, hexyl, undecyl). Further, a halogen atom (for example, F, Cl, B
r), alkoxycarbonyl (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), hydroxy, alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, phenoxy, isobutoxy), carboxyl, sulfo or acyloxy (eg, acetyloxy, butyryloxy, hexylyloxy, benzoyloxy) And so on.
Examples of the cycloalkyl group represented by R 1 to R 12 include cyclopentyl and cyclohexyl.
It may be substituted with the substituent described for the alkyl group.

【0021】R1 からR12で表されるアリール基として
は、炭素数6〜12のものが好ましく、例えばフェニル
基またはナフチル基等が挙げられる。アリール基は、置
換されていてもよい。置換基としては、炭素数1〜8の
アルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル)、炭素
数1〜6のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキ
シ)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、p−ク
ロロフェノキシ)、ハロゲン原子(例えば、F、Cl、
Br)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル)、シアノ基、ニトロ
基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ
基、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、プロピ
オニルアミノ等)およびアシルオキシ基(例えば、アセ
チルオキシ、ブチリルオキシ等)が含まれる。
The aryl group represented by R 1 to R 12 is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, such as a phenyl group or a naphthyl group. Aryl groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl, ethyl and butyl), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy and ethoxy), and an aryloxy group (for example, phenoxy and p-chloro). Phenoxy), halogen atoms (eg, F, Cl,
Br), an alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a cyano group, a nitro group, a sulfo group, a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, an acylamino group (for example, acetylamino, propionylamino and the like) and an acyloxy group ( For example, acetyloxy, butyryloxy, etc.) are included.

【0022】R1 からR12で表されるアラルキル基とし
ては、炭素数7〜12のアラルキル基が好ましく(例え
ば、ベンジル、フェニルエチル)、置換基(例えば、メ
チル、メトキシ、クロル原子)を有していてもよい。R
1 からR12で表されるアルケニル基としては、2−ペン
テニル、2−ブテニル、1−プロペニルおよび2−プロ
ペニル等を挙げることができる。R1 からR12で表され
るアルキニル基としては、エチニルおよび2−プロピニ
ル等を挙げることができる。R1 からR12で表されるア
シル基としては、アセチル、プロピオニルおよびベンゾ
イル等を挙げることができ、環を形成していてもよい。
一般式(1)においてX1 、X2 およびX3 で、および
一般式(2)においてX1 およびX2 で表される1価の
基としては、上記アリール基で述べた置換基が挙げられ
る。
The aralkyl group represented by R 1 to R 12 is preferably an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl, phenylethyl) and has a substituent (eg, a methyl, methoxy, chloro atom). It may be. R
1 The alkenyl group represented by R 12, 2-pentenyl, 2-butenyl, may be mentioned 1-propenyl and 2-propenyl. Examples of the alkynyl group represented by R 1 to R 12 include ethynyl and 2-propynyl. Examples of the acyl group represented by R 1 to R 12 include acetyl, propionyl, benzoyl, and the like, and may form a ring.
Examples of the monovalent group represented by X 1 , X 2 and X 3 in the general formula ( 1 ) and X 1 and X 2 in the general formula (2) include the substituents described for the above aryl group. .

【0023】一般式(1)において、nは0(但し、本
発明における上記化合物として、他にn=1〜6、好ま
しくはn=1〜4の化合物を含む混合物である場合に限
る)、あるいは、1〜6の整数を表し、各化合物は単独
であっても混合物であっても構わない。混合物の場合に
は、nが0と1の混合物、nが1と2の混合物、nが2
と3の混合物、nが3と4の混合物、nが0、1および
2の混合物、nが1、2および3の混合物、nが0、
1、2および3の混合物、nが0、1、2、3および4
の混合物等あらゆる組み合わせであってもよい。混合物
の場合には、nの平均値が1.5〜3.0であることが
好ましい。nが大きすぎると吸収が大きくなるが溶解性
が低下し、nが小さすぎると吸収が小さくなりレーザー
適性が低下する。
In the general formula (1), n is 0 (provided that the above compound in the present invention is a mixture containing, in addition, a compound of n = 1 to 6, preferably n = 1 to 4); Alternatively, it represents an integer of 1 to 6, and each compound may be a single compound or a mixture. In the case of a mixture, n is a mixture of 0 and 1, n is a mixture of 1 and 2, and n is 2
A mixture of 3 and 4, n is a mixture of 3 and 4, n is 0, a mixture of 1 and 2, n is a mixture of 1, 2 and 3, n is 0,
A mixture of 1, 2, and 3, where n is 0, 1, 2, 3, and 4
Any combination such as a mixture of In the case of a mixture, the average value of n is preferably from 1.5 to 3.0. If n is too large, the absorption will increase but the solubility will decrease. If n is too small, the absorption will decrease and the suitability for the laser will decrease.

【0024】本発明において、好適に用いられる上記一
般式(1)もしくは一般式(2)で表されるジヒドロペ
リミジンスクアリリウム化合物の具体例を以下に示す。
In the present invention, specific examples of the dihydroperimidine squarylium compound represented by the above formula (1) or (2) which are preferably used are shown below.

【0025】[0025]

【化7】 Embedded image

【0026】[0026]

【化8】 Embedded image

【0027】[0027]

【化9】 Embedded image

【0028】[0028]

【化10】 Embedded image

【0029】[0029]

【化11】 Embedded image

【0030】本発明において、好適に用いられる上記一
般式(1)または(2)で表されるジヒドロペリミジン
スクアリリウム化合物の合成は、以下の反応式に従って
合成することができる。また、反応式中のnは、スクア
リン酸の仕込量で調整することができる。
In the present invention, the dihydroperimidine squarylium compound represented by the above general formula (1) or (2), which is suitably used, can be synthesized according to the following reaction formula. Further, n in the reaction formula can be adjusted by the charged amount of squaric acid.

【0031】[0031]

【化12】 Embedded image

【0032】本発明において、好適に用いられる上記一
般式(1)で表されるジヒドロペリミジンスクアリリウ
ム化合物は、具体的には以下のようにして合成すること
ができる。
In the present invention, the dihydroperimidine squarylium compound represented by the above general formula (1), which is suitably used, can be specifically synthesized as follows.

【0033】(化合物1の合成)1,8−ジアミノナフ
タレン39.6g、ジペンチルカルボニルオキシメチル
ケトン71.5gおよびp−トルエンスルホン酸ソーダ
1水和物30mgをスチームバスで3時間加熱攪拌し、
メチルアルコール150mlを加え析出した結晶を濾過
し、2,2−ジペンチルカルボニルオキシメチル−2,
3−ジヒドロペリミジン(a)を97.3g得た。上記
で得た(a)2.13g、スクアリン酸0.57g、n
−ブチルアルコール10mlおよびトルエン10mlの
混合物を、生成する水を除去しながら外温130℃で5
時間加熱した。メチルアルコール20mlを加え、析出
した結晶を濾別した。その後、シリカゲルとクロロホル
ムを用いてカラムクロマトグラフィーで化合物1を分取
した(収量:0.5g、λmax :948.2nm(アセ
トン)、ε:2.19×105 )。
(Synthesis of Compound 1) 39.6 g of 1,8-diaminonaphthalene, 71.5 g of dipentylcarbonyloxymethyl ketone and 30 mg of sodium p-toluenesulfonate monohydrate were heated and stirred in a steam bath for 3 hours.
After adding 150 ml of methyl alcohol, the precipitated crystals were filtered and 2,2-dipentylcarbonyloxymethyl-2,
97.3 g of 3-dihydroperimidine (a) was obtained. 2.13 g of (a) obtained above, 0.57 g of squaric acid, n
A mixture of 10 ml of butyl alcohol and 10 ml of toluene at an external temperature of 130 ° C. while removing the water formed.
Heated for hours. 20 ml of methyl alcohol was added, and the precipitated crystals were separated by filtration. Thereafter, Compound 1 was fractionated by column chromatography using silica gel and chloroform (yield: 0.5 g, λ max : 948.2 nm (acetone), ε: 2.19 × 10 5 ).

【0034】(化合物2の合成)上記(化合物1の合
成)で得られた(a)17.5g、スクアリン酸2.1
g、n−ブチルアルコール100mlおよびトルエン1
00mlの混合物を、生成する水を除去しながら外温1
30℃で3時間加熱攪拌した。放冷後、メチルアルコー
ル50mlを加え結晶を濾別し、シリカゲルとクロロホ
ルムを用いてカラムクロマトグラフィーで化合物(c)
を得た。上記で得た化合物(c)3.2g、スクアリン
酸0.178g、n−ブチルアルコール30mlおよび
トルエン30mlを外温140℃で加熱した。アセトン
30mlを加え、析出した結晶を濾別した後、メチレン
クロライド−アセトンで再結晶を行い、化合物2を8.
9g得た(収量:0.55g、λmax :1070.5n
m(CH2 Cl2 )、ε:1.69×105 )。
(Synthesis of Compound 2) 17.5 g of (a) obtained in the above (Synthesis of Compound 1), squaric acid 2.1
g, n-butyl alcohol 100 ml and toluene 1
00 ml of the mixture at an external temperature of 1 while removing the water formed.
The mixture was heated and stirred at 30 ° C. for 3 hours. After allowing to cool, 50 ml of methyl alcohol was added, the crystals were filtered off, and the compound (c) was subjected to column chromatography using silica gel and chloroform.
I got 3.2 g of the compound (c) obtained above, 0.178 g of squaric acid, 30 ml of n-butyl alcohol and 30 ml of toluene were heated at an external temperature of 140 ° C. 30 ml of acetone was added, and the precipitated crystals were separated by filtration and then recrystallized from methylene chloride-acetone to give Compound 2 as 8.
9 g (yield: 0.55 g, λ max : 1070.5 n)
m (CH 2 Cl 2 ), ε: 1.69 × 10 5 ).

【0035】(化合物9の合成)2−メチル−2−ウン
デシル−2,3−ジヒドロペリミジン84.5g、スク
アリン酸22.3g、n−ブチルアルコール500ml
およびトルエン500mlを外温140℃で4時間加熱
攪拌した。析出した結晶を濾別し、アセトンで洗い、化
合物9を50g得た。λmax :810nm(1.0)、
991.6nm(1.25)、1120.4nm(1.
36)、1200nm(0.9)、溶媒=CH2
2 。なお、上記カッコ内の数値はεであり、n=0の
吸光度を1とした場合の相対値で示してある。
(Synthesis of Compound 9) 84.5 g of 2-methyl-2-undecyl-2,3-dihydroperimidine, 22.3 g of squaric acid, 500 ml of n-butyl alcohol
And 500 ml of toluene was heated and stirred at an external temperature of 140 ° C. for 4 hours. The precipitated crystals were separated by filtration and washed with acetone to obtain 50 g of Compound 9. λ max : 810 nm (1.0),
991.6 nm (1.25), 1120.4 nm (1.
36) 1200 nm (0.9), solvent = CH 2 C
l 2 . The numerical value in parentheses is ε, and is shown as a relative value when the absorbance at n = 0 is 1.

【0036】また、本発明において、好適に用いられる
上記一般式(2)で表されるジヒドロペリミジンスクア
リリウム化合物は、具体的には以下のようにして合成す
ることができる。
In the present invention, the dihydroperimidine squarylium compound suitably used and represented by the above general formula (2) can be specifically synthesized as follows.

【0037】(化合物26の合成)前記化合物1の合成
において得られた2,2−ジペンチルカルボニルオキシ
メチル−2,3−ジヒドロペリミジン(a)17.5
g、スクアリン酸2.1g、n−ブチルアルコール10
0mlおよびトルエン100mlの混合物を、生成する
水を除去しながら外温130℃で3時間加熱攪拌した。
放冷後、メチルアルコール50mlを加え、析出した結
晶を濾別した。その後、シリカゲルとクロロホルムを用
いてカラムクロマトグラフィーで化合物26を得た(収
量:10.9g、λmax :796nm(CH2
2 )、ε:1.2×105 )。
(Synthesis of Compound 26) The 2,2-dipentylcarbonyloxymethyl-2,3-dihydroperimidine (a) obtained in the synthesis of Compound 1 was 17.5.
g, squaric acid 2.1 g, n-butyl alcohol 10
A mixture of 0 ml and 100 ml of toluene was heated and stirred at an external temperature of 130 ° C. for 3 hours while removing generated water.
After cooling, 50 ml of methyl alcohol was added, and the precipitated crystals were separated by filtration. Thereafter, compound 26 was obtained by column chromatography using silica gel and chloroform (yield: 10.9 g, λ max : 796 nm (CH 2 C
l 2 ), ε: 1.2 × 10 5 ).

【0038】[0038]

【化13】 Embedded image

【0039】上記合成例で挙げた以外のジヒドロペリミ
ジンスクアリリウム化合物についても同様な方法で合成
することができる。合成したジヒドロペリミジンスクア
リリウム化合物のλmax を表1に示す。
Dihydroperimidine squarylium compounds other than those mentioned in the above synthesis examples can be synthesized in the same manner. Table 1 shows λ max of the synthesized dihydroperimidine squarylium compound.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】本発明に用いられるジヒドロペリミジンス
クアリリウム化合物は、レーザ直描型平版印刷版材料に
有効に用いられるが、次に例示する系で特に有用に用い
られる。 アルカリ可溶性バインダー、酸発生剤、酸架橋性化合
物を含むネガ型のレーザ直描型平版印刷版材料、 アルカリ可溶性バインダー、熱分解性でありかつ分解
しない状態では該アルカリ可溶性バインダーの溶解性を
実質的に低下させる物質を更に含むポジ型のレーザ直描
型平版印刷版材料、 レーザ露光後現像処理を施すことなく印刷機に取り付
け、そのまま印刷できる、いわゆる無処理型の印刷版、 本感材上にシリコーンゴム層を設けたレーザ直描型水
無し平版印刷版材料、 必ずしも熱分解性の化合物は含まないが、レーザによ
る加熱により、露光部が現像液に可溶化する、ポジ型の
レーザ直描型平版印刷版材料。
The dihydroperimidine squarylium compound used in the present invention is effectively used for a laser direct-writing type lithographic printing plate material, and is particularly useful in the following exemplified systems. Negative-working laser direct-write lithographic printing plate material containing an alkali-soluble binder, an acid generator, and an acid-crosslinkable compound, an alkali-soluble binder, substantially dissolving the alkali-soluble binder when thermally decomposable and not decomposed Positive laser direct drawing type lithographic printing plate material that further contains substances that reduce Laser direct drawing type waterless lithographic printing plate material with a silicone rubber layer, which does not necessarily contain a thermally decomposable compound, but which is exposed to heat by laser so that the exposed area becomes soluble in a developing solution. Lithographic printing plate material.

【0042】次に上記各例に使用する材料を詳しく説明
する。の例に使用する材料としては、アルカリ可溶性
バインダー、酸発生剤、酸架橋性化合物である。
Next, the materials used in each of the above examples will be described in detail. Examples of the materials used in the above are alkali-soluble binders, acid generators, and acid-crosslinkable compounds.

【0043】「アルカリ可溶性バインダー」本発明で使
用されるアルカリ可溶性バインダーとしては、ノボラッ
ク樹脂、ポリヒドロキシスチレン、アクリル樹脂等を挙
げることができる。本発明で使用されるノボラック樹脂
は、フェノール類とアルデヒド類を、酸性条件下で縮合
させて得られる樹脂である。好ましいノボラック樹脂と
しては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得
られるノボラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデ
ヒドから得られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホ
ルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、o−クレ
ゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られ
るノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルム
アルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール/
クレゾール(o−、m−、p−又はm−/p−、m−/
o−、o−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホ
ルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂等が挙げら
れる。これらのノボラック樹脂は、重量平均分子量が8
00〜200,000で、数平均分子量が400〜6
0,000のものが好ましい。
"Alkali-Soluble Binder" Examples of the alkali-soluble binder used in the present invention include novolak resins, polyhydroxystyrene, and acrylic resins. The novolak resin used in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolak resins include, for example, a novolak resin obtained from phenol and formaldehyde, a novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde, a novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, a novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, Novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol /
Cresol (o-, m-, p- or m- / p-, m- /
o- or o- / p-mixture) and a novolak resin obtained from formaldehyde. These novolak resins have a weight average molecular weight of 8
With a number average molecular weight of 400-6
000 is preferred.

【0044】本発明において使用されるノボラック樹脂
以外のアルカリ可溶性バインダーとしては、例えばポリ
ヒドロキシスチレン類、ヒドロキシスチレン−N−置換
マレイミド共重合体、ヒドロキシスチレン−無水マレイ
ン酸共重合体、アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポ
リマー、アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリマー
等が挙げられる。ここでアルカリ可溶性基としてはカル
ボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、ホス
ホン酸基、イミド基等が挙げられる。
Examples of the alkali-soluble binder other than the novolak resin used in the present invention include polyhydroxystyrenes, hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymers, hydroxystyrene-maleic anhydride copolymers, and alkali-soluble groups. Acrylic polymer having the same, a urethane type polymer having an alkali-soluble group, and the like. Here, examples of the alkali-soluble group include a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, and an imide group.

【0045】また、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ポ
リ−m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン
−N−置換マレイミド共重合体、p−ヒドロキシスチレ
ン−無水マレイン酸共重合体等のヒドロキシスチレン系
ポリマーを用いる場合には重量平均分子量が2,000
〜500,000、さらに、4,000〜300,00
0のものが好ましい。
Also, hydroxystyrene-based polymers such as poly-p-hydroxystyrene, poly-m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymer and p-hydroxystyrene-maleic anhydride copolymer are used. When used, the weight average molecular weight is 2,000
~ 500,000, and 4,000 ~ 300,00
0 is preferred.

【0046】アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポリ
マーの例としては、メタクリル酸−ベンジルメタクリレ
ート共重合体、ポリ(ヒドロキシフェニルメタクリルア
ミド)、ポリ(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエ
チルアクリレート)、ポリ(2、4−ジヒドロキシフェ
ニルカルボニルオキシエチルアクリレート)や、特願平
8−211731明細書に記載のポリマー等が挙げられ
る。これらのアクリル系ポリマーは重量平均分子量が
2,000〜500,000、好ましくは4,000〜
300,000のものが好ましい。
Examples of the acrylic polymer having an alkali-soluble group include methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer, poly (hydroxyphenyl methacrylamide), poly (hydroxyphenylcarbonyloxyethyl acrylate), poly (2,4-dihydroxy Phenylcarbonyloxyethyl acrylate), and the polymers described in Japanese Patent Application No. Hei 8-211731. These acrylic polymers have a weight average molecular weight of 2,000 to 500,000, preferably 4,000 to 500,000.
300,000 are preferred.

【0047】アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリ
マーの例としては、ジフェニルメタンジイソシアネート
とヘキサメチレンジイソシアネート、テトラエチレング
リコール、2、2一ビス(ヒドロキシメチル)プロピオ
ン酸を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。これら
のアルカリ可溶性ポリマーのうち、ヒドロキシスチレン
系ポリマーおよびアルカリ可溶性基を有するアクリル系
共重合体は現像性の点で好ましい。
Examples of urethane type polymers having an alkali-soluble group include resins obtained by reacting diphenylmethane diisocyanate with hexamethylene diisocyanate, tetraethylene glycol, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, and the like. Among these alkali-soluble polymers, a hydroxystyrene-based polymer and an acrylic copolymer having an alkali-soluble group are preferred from the viewpoint of developability.

【0048】本発明において、これらのアルカリ可溶性
バインダーは全平版印刷版材料固形分中、10〜90重
量%、好ましくは20〜85重量%、特に好ましくは3
0〜80重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性
の高分子化合物の添加量が10重量%未満であると記録
層の耐久性が悪化し、また、90重量%を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。また、これらのアル
カリ可溶性バインダーは、1種類のみで使用しても良い
し、あるいは2種類以上を組み合わせて使用しても良
い。
In the present invention, these alkali-soluble binders are used in an amount of 10 to 90% by weight, preferably 20 to 85% by weight, particularly preferably 3 to 90% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material.
It is used in an amount of 0 to 80% by weight. If the amount of the alkali-soluble polymer compound is less than 10% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated, and if it exceeds 90% by weight, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability. These alkali-soluble binders may be used alone or in combination of two or more.

【0049】「酸発生剤」本発明に使用される酸発生剤
は、熱若しくは光により酸を発生する化合物であり、一
般的には、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合
の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、マイクロレ
ジスト等に使用されている公知の光により酸を発生する
化合物及びそれらの混合物等を挙げることができ、これ
らを適宜選択して使用することができる。
[Acid Generator] The acid generator used in the present invention is a compound which generates an acid by heat or light, and is generally a photoinitiator for photocationic polymerization or a photoinitiator for photoradical polymerization. Agents, photochromic agents of pigments, photochromic agents, compounds that generate an acid by known light used in microresist and the like, and mixtures thereof, and the like, which are appropriately selected and used. be able to.

【0050】例えば、S.I.Schlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18,387(1974) 、T.S.Bal etal., Polymer, 21,4
23(1980) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,06
9,055 号、同4,069,056 号、特開平3-140,140 号等に記
載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al., Macromolecu
les, 17,2468(1984)、C.S.Wen et al., Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct(1988) 、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号等に記載のホスホ
ニウム塩、J.V.Crivello et al., Macromolecules, 10
(6),1307(1977) 、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31(1
988) 、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150,848 号、特開平2-29
6,514 号等に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et
al., PolymerJ. 17, 73(1985)、J.V.Crivello et al.,
J.Org. Chem., 43,3055(1978)、W.R.Watt et al., J.Po
lymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789(1984)、J.
V.Crivello et al., Polymer Bull., 14,279(1985)、J.
V.Crivello et al., Macromolecules, 14(5), 1141(198
1)、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer C
hem. Ed., 17,2877(1979) 、欧州特許第370,693 号、米
国特許第3,902,114 号、欧州特許第233,567 号、同297,
443 号、同297,442 号、米国特許第4,933,377 号、同41
0,201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,44
4 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,
604,580 号、同3,604,581 号等に記載のスルホニウム
塩、J.V.Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 13
07(1977)、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Pol
ymer Chem. Ed., 17,1047(1979) 等に記載のセレノニウ
ム塩、C.S.Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA,p478, Tokyo, Oct(1988) 等に記載のアルソニウ
ム塩等のオニウム塩、
For example, see SISchlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18,387 (1974), TSBal et al., Polymer, 21,4.
Diazonium salts described in U.S. Pat.
Ammonium salts described in 9,055, 4,069,056 and JP-A-3-140,140, DCNecker et al., Macromolecu
les, 17,2468 (1984), CSWen et al., Teh, Proc.Con
f. Rad.Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055, 4,069,056, etc., and phosphonium salts described in JVCrivello et al., Macromolecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1
988), EP 104,143, U.S. Patent 339,049
No. 410,201, JP-A-2-150,848, JP-A-2-29
No. 6,514, etc., iodonium salts, JVCrivello et
al., Polymer J. 17, 73 (1985), JVCrivello et al.,
J. Org. Chem., 43, 3055 (1978), WRWatt et al., J. Po.
lymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984), J.
V. Crivello et al., Polymer Bull., 14,279 (1985), J.
V. Crivello et al., Macromolecules, 14 (5), 1141 (198
1), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Polymer C
hem. Ed., 17,2877 (1979), European Patent No. 370,693, U.S. Patent No. 3,902,114, European Patent Nos. 233,567, 297,
443, 297,442; U.S. Patents 4,933,377, 41
0,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,44
No. 4, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,
Sulfonium salts described in JP-A Nos. 604,580 and 3,604,581, JVCrivello et al., Macromolecules, 10 (6), 13
07 (1977), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Pol
selenonium salts described in Ymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), etc., CSWen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
Onium salts such as arsonium salts described in ASIA, p478, Tokyo, Oct (1988), etc.

【0051】米国特許第3,905,815 号、特公昭46-4605
号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-2
39736 号、特開昭61-169835 号、特開昭61-169837 号、
特開昭62-58241号、特開昭62-212401 号、特開昭63-702
43号、特開昭63-298339 号等に記載の有機ハロゲン化合
物、K.Meier et al., J.Rad. Curing, 13(4),26(198
6)、T.P.Gill et al., Inorg. Chem., 19,3007(1980)、
D.Astruc, Acc. Chem. Res., 19(12), 377(1896)、特開
平2-161445号等に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、
S.Hayase et al., J.Polymer Sci., 25,753(1987) 、E.
Reichman et al., J.Polymer Sci., Poliymer Chem. E
d., 23,1(1985) 、Q.Q.Zhu et al., J.Photochem., 36,
85, 39, 317(1987) 、B.Amit et al., Tetrahedron Le
tt., (24)2205(1973)、D.H.R.Barton et al., J.Chem.
Soc., 3571(1965) 、P.M.Collins et al., J.Chem. So
c., Perkin I,1695(1975) 、M. Rudinstein et al., Te
trahedron Lett.,(17), 1445(1975)、J.W.Walker et a
l., J. Am. Chem. Soc., 110,7170(1988)、S.C.Busman
et al., J. Imaging Technol., 11(4), (1985) 、H.M.H
oulihan et al., Macromolecules, 21,2001(1988)、P.
M.Collins et al., J.Chem.Soc., Chem. Commun., 532
(1972)、S.Hayase et al., Macromolecules, 18,1799(1
985), E.Reichmanis et al., J.Electrochem. Soc., So
lid State Sci. Technol., 130(6) 、F.M.Houlihan et
al., Macromolecules, 21,2001(1988)、欧州特許第029
0,750号、同046,083 号、同156,535 号、同271,851
号、同0,388,343 号、米国特許第3,901,710 号、同4,18
1,531 号、特開昭60-198538 号、特開昭53-133022 号等
に記載の0-ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生
剤、TUNOOKA etal., Polymer Preprints Japan, 35
(8)、G.Berner et al., J.Rad. Curing, 13(4) 、W.J.M
ijs et al., Coating Technol., 55(697), 45(1983), A
kzo、H.Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3)、欧州特許第0199,672号、同84515 号、同199,672
号、同044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,618,55
4 号、同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64-181
43号、特開平2-245756号、特開平3-140109号等に記載の
イミノスルホネート等に代表される光分解してスルホン
酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号等に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。
US Pat. No. 3,905,815, JP-B-46-4605
No., JP-A-48-36281, JP-A-55-32070, JP-A-60-2
39736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837,
JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-63-702
No. 43, organic halogen compounds described in JP-A-63-298339, etc., K. Meier et al., J. Rad.Curing, 13 (4), 26 (198
6), TPGill et al., Inorg. Chem., 19,3007 (1980),
D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19 (12), 377 (1896), organometallics / organic halides described in JP-A-2-14145 and the like,
S. Hayase et al., J. Polymer Sci., 25, 753 (1987), E.
Reichman et al., J. Polymer Sci., Poliymer Chem. E
d., 23, 1 (1985), QQZhu et al., J. Photochem., 36,
85, 39, 317 (1987), B. Amit et al., Tetrahedron Le
tt., (24) 2205 (1973), DHR Barton et al., J. Chem.
Soc., 3571 (1965), PMCollins et al., J. Chem. So
c., Perkin I, 1695 (1975), M. Rudinstein et al., Te
trahedron Lett., (17), 1445 (1975), JWWalker et a
l., J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988), SCBusman
et al., J. Imaging Technol., 11 (4), (1985), HMH
oulihan et al., Macromolecules, 21, 2001 (1988), P.
M. Collins et al., J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532
(1972), S. Hayase et al., Macromolecules, 18,1799 (1
985), E. Reichmanis et al., J. Electrochem. Soc., So
lid State Sci. Technol., 130 (6), FMHoulihan et
al., Macromolecules, 21, 2001 (1988), EP 029.
0,750, 046,083, 156,535, 271,851
No. 0,388,343, U.S. Pat.Nos. 3,901,710, 4,18
No. 1,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022, etc., a photoacid generator having a 0-nitrobenzyl-type protecting group, TUNOOKA et al., Polymer Preprints Japan, 35
(8), G. Berner et al., J. Rad. Curing, 13 (4), WJM
ijs et al., Coating Technol., 55 (697), 45 (1983), A
kzo, H. Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3), European Patent Nos. 0199,672, 84515, and 199,672
No. 044,115, No. 0101,122, U.S. Pat.No. 4,618,55
No. 4, No. 4,371,605, No. 4,431,774, JP-A-64-181
No. 43, compounds disclosed in JP-A-2-245756, JP-A-3-140109, etc., which generate sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonates, and disulfones described in JP-A-61-166544. Compounds can be mentioned.

【0052】また、酸発生剤をポリマーの主鎖又は側鎖
に導入した化合物、例えば、M.E.Woodhouse et al., J.
Am. Chem. Soc., 104, 5586(1982)、S.P.Pappas et a
l., J.Imaging Sci., 30(5), 218(1986) 、S. Kondo et
al., Makromol. Chem. RapidCommun., 9,625(1988) 、
Y.Yamada et al., Makromol, Chem. 152, 153,163(197
2) 、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,3845(1979) 、米国特許第3,849,137
号、独国特許第3914407 、特開昭63-26653号、特開昭55
-164824 号、特開昭62-69263号、特開昭63-14603号、特
開昭63-163452 号、特開昭62-153853 号、特開昭63-146
029 号等に記載の化合物を用いることができる。さら
に、V.N.R.Pillai, Synthesis, (1),1(1980)、A. Abad
et al., Tetrahedron Lett., (47)4555(1971) 、D.H.R.
Barton et al., J.Chem. Soc., (C), 329(1970) 、米国
特許第3,779,778 号、欧州特許第126,712 号等に記載の
光により酸を発生する化合物も使用することができる。
Compounds in which an acid generator is introduced into the main chain or side chain of a polymer, for example, MEWoodhouse et al., J. Am.
Am. Chem. Soc., 104, 5586 (1982), SPPappas et a
l., J. Imaging Sci., 30 (5), 218 (1986), S. Kondo et.
al., Makromol. Chem. RapidCommun., 9,625 (1988),
Y. Yamada et al., Makromol, Chem. 152, 153, 163 (197
2), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,3845 (1979), U.S. Pat.
No., German Patent No. 3914407, JP-A-63-26653, JP-A-55
-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-14603, JP-A-63-163452, JP-A-62-153853, JP-A-63-146
Compounds described in No. 029 and the like can be used. Furthermore, VNRPillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A. Abad
et al., Tetrahedron Lett., (47) 4555 (1971), DHR
Compounds that generate an acid by light described in Barton et al., J. Chem. Soc., (C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, and EP 126,712 can also be used.

【0053】上記熱若しくは光により酸を発生する化合
物の中で、特に有効に用いられるものを以下に示す。 (1)トリハロメチル基が置換した下記一般式(PAG
1)で表されるオキサゾール誘導体又は一般式(PAG
2)で表されるS−トリアジン誘導体。
Among the above compounds which generate an acid by heat or light, those which are particularly effectively used are shown below. (1) The following general formula (PAG) substituted with a trihalomethyl group
The oxazole derivative represented by 1) or the general formula (PAG)
An S-triazine derivative represented by 2).

【0054】[0054]

【化14】 Embedded image

【0055】式中、R1 は置換若しくは無置換のアリー
ル基又はアルケニル基、R2 は置換若しくは置換のアリ
ール基、アルケニル基又はアルキル基、又は−CY3
示す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。具体的には以
下の化合物を挙げることができるがこれらに限定される
ものではない。
In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl or alkenyl group, R 2 represents a substituted or substituted aryl, alkenyl or alkyl group, or —CY 3 . Y represents a chlorine atom or a bromine atom. Specific examples include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0056】[0056]

【化15】 Embedded image

【0057】[0057]

【化16】 Embedded image

【0058】(2)下記の一般式(PAG3)で表され
るヨードニウム塩、又は一般式(PAG4)で表される
スルホニウム塩。
(2) An iodonium salt represented by the following formula (PAG3) or a sulfonium salt represented by the following formula (PAG4).

【0059】[0059]

【化17】 Embedded image

【0060】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換
又は無置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、
アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基
及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及びR5
各々独立に、置換若しくは無置換のアルキル基又はアリ
ール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリール
基、炭素数1〜8のアルキル基及びそれらの置換誘導体
である。好ましい置換基としては、アリール基に対して
は炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキ
ル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基および
ハロゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数1〜
8のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基である。
In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Preferred substituents include an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group,
Aryl group, alkoxy group, nitro group, carboxy group,
Examples include an alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a mercapto group, and a halogen atom. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Preferred are an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and substituted derivatives thereof. Preferred substituents are an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group and a halogen atom for the aryl group, and a substituent for the alkyl group. Carbon number 1
8 is an alkoxy group, a carboxyl group, or an alkoxycarbonyl group.

【0061】Z- は対アニオンを示し、例えば、B
4 、AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、Si
6 2- 、ClO4 - 、CF3 SO3 - 等のパーフルオロ
アルカンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼン
スルホン酸アニオン、ナフタレン−1−スルホン酸アニ
オン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、アントラ
キノンスルホン酸アニオン、9,10−ジメトキシアン
トラセン−2−スルホン酸アニオン、スルホン酸基含有
染料等を挙げることができるがこれらに限定されるもの
ではない。また、R3 、R4 及びR5 のうちの2つ並び
にAr1 及びAr2 はそれぞれの単結合又は置換基を介
して結合してもよい。
Z-Represents a counter anion, for example, B
FFour, AsF6 -, PF6 -, SbF6 -, Si
F6 2-, ClOFour -, CFThreeSOThree -Perfluoro such as
Alkanesulfonic acid anion, pentafluorobenzene
Sulfonic acid anion, naphthalene-1-sulfonic acid ani
Condensed polynuclear aromatic sulfonate anions such as on
Quinone sulfonate anion, 9,10-dimethoxyan
Toracene-2-sulfonic acid anion, containing sulfonic acid group
Dyes and the like can be mentioned, but are not limited to these
is not. Also, RThree, RFourAnd RFiveTwo of them
Ar1And ArTwoIs through each single bond or substituent
May be combined.

【0062】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

【0063】[0063]

【化18】 Embedded image

【0064】[0064]

【化19】 Embedded image

【0065】一般式(PAG3)又は(PAG4)で示
される上記オニウム塩は公知であり、例えば、J.W.Knap
czyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91,145(1969)、A.L.
Maycok et al., J.Org. Chem., 35,2532,(1970) 、E.Go
ethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg., 73,546,(196
4) 、H.M.Leicester 、J. Ame. Chem. Soc., 51,3587(1
929) 、J.V.Crivello et al., J.Polym. Chem. Ed., 1
8,2677(1980)、米国特許第2,807,648 号及び同4,247,47
3 号、特開昭53-101,331号等に記載の方法により合成す
ることができる。 (3)下記一般式(PAG5)で表されるジスルホン誘
導体又は一般式(PAG6)で表されるイミノスルホネ
ート誘導体。
The above onium salts represented by the general formula (PAG3) or (PAG4) are known, and are described, for example, in JWKnap.
czyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), AL
Maycok et al., J. Org.Chem., 35, 2532, (1970), E. Go
ethas et al., Bull.Soc.Chem.Belg., 73,546, (196
4), HM Leicester, J. Ame.Chem. Soc., 51, 3587 (1
929), JVCrivello et al., J. Polym. Chem. Ed., 1
8,2677 (1980); U.S. Pat.Nos. 2,807,648 and 4,247,47
No. 3, JP-A-53-101,331 and the like. (3) Disulfone derivatives represented by the following general formula (PAG5) or iminosulfonate derivatives represented by the following general formula (PAG6).

【0066】[0066]

【化20】 Embedded image

【0067】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換
又は無置換のアリール基を示す。R 6 は置換若しくは無
置換のアルキル基又はアリール基を示す。Aは置換若し
くは無置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリー
レン基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
Where ArThreeAnd ArFourAre replaced independently
Or an unsubstituted aryl group. R 6Is replaced or nothing
It represents a substituted alkyl group or an aryl group. A is replacement
Or unsubstituted alkylene group, alkenylene group or aryl
Represents a len group. Specific examples include the compounds shown below.
However, the present invention is not limited to these.

【0068】[0068]

【化21】 Embedded image

【0069】[0069]

【化22】 Embedded image

【0070】これら酸発生剤の添加量は、平版印刷版材
料の全固形分を基準として通常0.001〜40重量%
の範囲で用いられ、好ましくは0.01〜20重量%、
さらに好ましくは0.1〜5重量%の範囲で使用され
る。
The amount of the acid generator is usually 0.001 to 40% by weight based on the total solid content of the lithographic printing plate material.
Is used in a range of preferably 0.01 to 20% by weight,
More preferably, it is used in the range of 0.1 to 5% by weight.

【0071】「酸架橋性化合物」本発明に使用される酸
架橋性化合物とは、酸の存在下で架橋する化合物を指
し、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル
基、若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている
芳香族化合物及び複素環化合物が挙げられるが、その中
でも好ましい例として、フェノール類とアルデヒド類を
塩基性条件下で縮合させた化合物が挙げられる。前記の
化合物のうち好ましいものとしては、例えば、フェノー
ルとホルムアルデヒドを前記のように塩基性条件下で縮
合させた化合物、同様にして、m−クレゾールとホルム
アルデヒドから得られる化合物、ビスフェノールAとホ
ルムアルデヒドから得られる化合物、4,4’−ビスフ
ェノールとホルムアルデヒドから得られる化合物、その
他、GB第2,082,339号にレゾール樹脂として
開示された化合物等が挙げられる。これらの酸架橋性化
合物は、重量平均分子量が500〜100,000で数
平均分子量が200〜50,000のものが好ましい。
"Acid-Crosslinkable Compound" The acid-crosslinkable compound used in the present invention refers to a compound which crosslinks in the presence of an acid. For example, a hydroxy-substituted, acetoxymethyl- or alkoxymethyl-substituted compound. Aromatic compounds and heterocyclic compounds which have been used, and a preferable example thereof is a compound obtained by condensing phenols and aldehydes under basic conditions. Preferred among the above compounds are, for example, compounds obtained by condensing phenol and formaldehyde under basic conditions as described above, similarly, compounds obtained from m-cresol and formaldehyde, and compounds obtained from bisphenol A and formaldehyde. And compounds obtained from 4,4′-bisphenol and formaldehyde, and other compounds disclosed as resol resins in GB 2,082,339. These acid crosslinking compounds preferably have a weight average molecular weight of 500 to 100,000 and a number average molecular weight of 200 to 50,000.

【0072】他の好ましい例としては、EP−A第0,
212,482号に開示されているアルコキシメチル又
はオキシラニルメチル基で置換された芳香族化合物、E
P−A第0,133,216号、DE−A第3,63
4,671号、DE第3,711,264号に開示され
た単量体及びオリゴマーメラミン−ホルムアルデヒド縮
合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A第
0,212,482号に開示されたアルコキシ置換化合
物等がある。さらに他の好ましい例は、例えば、少なく
とも2個の遊離N−ヒドロキシメチル、N−アルコキシ
メチル又はN−アシルオキシメチル基を有するメラミン
−ホルムアルデヒド誘導体である。このなかでは、N−
アルコキシメチル誘導体が特に好ましい。また、低分子
量又はオリゴマーシラノールは、ケイ素含有架橋剤とし
て使用できる。これらの例は、ジメチル−及びジフェニ
ル−シランジオール、並びに既に予備縮合され且つこれ
らの単位を含有するオリゴマーであり、例えば、EP−
A第0,377,155号に開示されたものを使用でき
る。
Other preferred examples include EP-A No. 0,
An aromatic compound substituted with an alkoxymethyl or oxiranylmethyl group disclosed in U.S. Pat.
P-A No. 0,133,216, DE-A No. 3,63
4,671, monomer and oligomer melamine-formaldehyde condensates and urea-formaldehyde condensates disclosed in DE 3,711,264; alkoxy substitution disclosed in EP-A 0,212,482 Compounds. Still other preferred examples are, for example, melamine-formaldehyde derivatives having at least two free N-hydroxymethyl, N-alkoxymethyl or N-acyloxymethyl groups. Among them, N-
Alkoxymethyl derivatives are particularly preferred. Also, low molecular weight or oligomeric silanols can be used as silicon-containing crosslinkers. Examples of these are dimethyl- and diphenyl-silanediols and oligomers which have already been precondensed and contain these units, for example EP-
No. 0,377,155 can be used.

【0073】アルコキシメチル基でポリ置換された芳香
族化合物及び複素環化合物のなかでは、ヒドロキシル基
に隣接する位置にアルコキシメチル基を有し、且つその
アルコキシメチル基のアルコキシ基が炭素数18以下の
化合物を好ましい例として挙げることができ、特に好ま
しい例として、下記一般式(3)〜(6)の化合物を挙
げることができる。
Among aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with an alkoxymethyl group, the compound has an alkoxymethyl group at a position adjacent to a hydroxyl group, and the alkoxy group of the alkoxymethyl group has 18 or less carbon atoms. Compounds can be mentioned as preferable examples, and particularly preferable examples include compounds represented by the following general formulas (3) to (6).

【0074】[0074]

【化23】 Embedded image

【0075】[0075]

【化24】 Embedded image

【0076】式中L1 〜L8 は同じであっても異なって
いてもよく、メトキシメチル、エトキシメチル等のよう
に炭素数18以下のアルコキシ基で置換された、アルコ
キシメチル基を示す。これらは架橋効率が高く、耐刷性
を向上させることができる点で好ましい。上記の熱によ
り架橋する化合物は、1種類のみで使用してもよいし、
2種類以上を組み合わせて使用してもよい。本発明に使
用される酸架橋性化合物は、平版印刷版材料の全固形分
中、5〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、特
に好ましくは20〜70重量%の添加量で用いられる。
酸架橋性化合物の添加量が5重量%未満であると得られ
る平版印刷版材料の感光層の耐久性が悪化し、また、8
0重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。
In the formula, L 1 to L 8 may be the same or different and represent an alkoxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms, such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like. These are preferred because they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability. The above compounds that are crosslinked by heat may be used alone,
Two or more types may be used in combination. The acid-crosslinkable compound used in the present invention is used in an amount of 5 to 80% by weight, preferably 10 to 75% by weight, particularly preferably 20 to 70% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material. .
If the amount of the acid-crosslinkable compound is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the lithographic printing plate material obtained is deteriorated.
Exceeding 0% by weight is not preferred in terms of stability during storage.

【0077】の例に使用する材料としては、アルカリ
可溶性バインダーと、熱分解性でありかつ分解しない状
態では該アルカリ可溶性バインダーの溶解性を実質的に
低下させる物質である。アルカリ可溶性バインダーとし
ては上記の例において説明した化合物がそのまま用い
られる。
Examples of the materials used in the above example include an alkali-soluble binder and a substance which is thermally decomposable and substantially reduces the solubility of the alkali-soluble binder when not decomposed. As the alkali-soluble binder, the compounds described in the above examples can be used as they are.

【0078】「熱分解性でありかつ分解しない状態では
アルカリ可溶性バインダーの溶解性を実質的に低下させ
る物質」本発明で使用される熱分解性でありかつ分解し
ない状態ではアルカリ可溶性バインダーの溶解性を実質
的に低下させる物質としては、種々のオニウム塩、キノ
ンジアジド化合物類等が、アルカリ可溶性バインダーの
溶解性を低下させることに優れており、好適に用いられ
る。
"Substance which is thermally decomposable and substantially reduces the solubility of the alkali-soluble binder in a state where it is not decomposed" The solubility of the alkali-soluble binder which is thermally decomposable and is not decomposed when used in the present invention As a substance which substantially lowers the above, various onium salts, quinonediazide compounds and the like are excellent in lowering the solubility of the alkali-soluble binder and are preferably used.

【0079】オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アン
モニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホ
ニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる
ことができる。本発明において用いられるオニウム塩と
して、好適なものとしては、例えば、S.I.Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18,387(1974) 、T.S.Bal et a
l., Polymer, 21,423(1980) 、特開平5−158230
号公報等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,05
5 号、同4,069,056 号、特開平3-140140号等に記載のア
ンモニウム塩、D.C.Necker et al., Macromolecules, 1
7,2468(1984)、C.S.Wen etal., Teh, Proc. Conf. Rad.
Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct(1988) 、米国特許第
4,069,055 号、同4,069,056 号等に記載のホスホニウム
塩、J.V.Crivello et al., Macromolecules, 10(6),130
7(1977) 、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31(1988) 、
欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049 号、同第41
0,201 号、特開平2-150848号、特開平2-296514号等に記
載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al., Polymer
J. 17, 73(1985)、J.V.Crivello et al., J.Org. Che
m., 43,3055(1978)、W.R.Watt et al., J.Polymer Sc
i., Polymer Chem. Ed., 22, 1789(1984)、J.V.Crivell
o et al., Polymer Bull., 14,279(1985)、J.V.Crivell
o etal., Macromolecules, 14(5), 1141(1981)、J.V.Cr
ivello et al., J.Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17,2877(1979) 、欧州特許第370,693 号、米国特許第3,
902,114 号、欧州特許第233,567 号、同297,443 号、同
297,442 号、米国特許第4,933,377 号、同410,201 号、
同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444号、同2,8
33,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,604,580
号、同3,604,581号等に記載のスルホニウム塩、J.V.Cri
vello et al., Macromolecules, 10(6),1307(1977)、J.
V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17,1047(1979) 等に記載のセレノニウム塩、C.S.We
n et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478,
Tokyo, Oct(1988) 等に記載のアルソニウム塩等が挙げ
られる。本発明においては、これらのうち特にジアゾニ
ウム塩が好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩と
しては、特開平5−158230号公報に記載のものが
挙げられる。
Examples of the onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like. Suitable onium salts used in the present invention include, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18,387 (1974), TSBal et a
l., Polymer, 21,423 (1980), JP-A-5-158230
No. 4,069,05
No. 5, 4,069, 056, ammonium salts described in JP-A-3-140140, etc., DCNecker et al., Macromolecules, 1
7,2468 (1984), CSwen et al., Teh, Proc. Conf. Rad.
Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct (1988), U.S. Patent No.
Phosphonium salts described in 4,069,055, 4,069,056, etc., JVCrivello et al., Macromolecules, 10 (6), 130
7 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988),
European Patent Nos. 104,143, U.S. Patent Nos. 339,049 and 41
No. 0,201, JP-A-2-150848, iodonium salts described in JP-A-2-295514, etc., JVCrivello et al., Polymer
J. 17, 73 (1985), JVCrivello et al., J. Org.
m., 43, 3055 (1978), WRWatt et al., J. Polymer Sc
i., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984), JVCrivell
o et al., Polymer Bull., 14,279 (1985), JVCrivell
o etal., Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), JVCr
ivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17,2877 (1979), EP 370,693, U.S. Pat.
902,114; European Patent Nos. 233,567; 297,443;
297,442; U.S. Pat.Nos. 4,933,377; 410,201;
No.339,049, No.4,760,013, No.4,734,444, No.2,8
No. 33,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580
No. 3,604,581, etc., JVCri
vello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J.
V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17,1047 (1979) etc., selenonium salts, CSWe
n et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478,
Arsonium salts described in Tokyo, Oct (1988) and the like. In the present invention, among these, a diazonium salt is particularly preferred. Particularly preferred diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.

【0080】好適なキノンジアジド化合物類としては、
o−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発
明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくと
も1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分
解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造
の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジ
アジドは熱分解によりアルカリ可溶性バインダーの溶解
抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカ
リ可溶性の物質に変化することの両方の効果により、感
材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノン
ジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ラ
イト−センシティブ・システムズ」(John Wiley & Son
s. Inc. )第339〜352頁に記載の化合物が使用で
きるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるい
は芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジド
のスルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドが好適で
ある。また、特公昭43−28403号公報に記載され
ているようなベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスル
ホン酸クロライドまたはナフトキノン−(1,2)−ジ
アジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−ア
セトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120 号およ
び同第3,188,210 号等に記載されているベンゾキノン−
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフ
トキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロ
ライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ルも好適に使用される。
Suitable quinonediazide compounds include
An o-quinonediazide compound can be mentioned. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and can be a compound having various structures. In other words, o-quinonediazide helps the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the alkali-soluble binder due to thermal decomposition and the effect of converting o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include those described in J. Am. "Light-Sensitive Systems" by Coser (John Wiley & Son
s. Inc.) pp. 339-352 can be used. Particularly, sulfonate or sulfonamide of o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds is preferable. is there. Also, benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403. And benzoquinones described in U.S. Patent Nos. 3,046,120 and 3,188,210.
Esters of (1,2) -diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride with a phenol-formaldehyde resin are also suitably used.

【0081】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の
有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特
許関連の文献に報告があり知られている。例えば、特開
昭47-5303 号、特開昭48-63802号、特開昭48-63803号、
特開昭48-96575号、特開昭49-38701号、特開昭48-13354
号、特公昭41-11222号、特公昭45-9610 号、特公昭49-1
7481号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、
同第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号等の各文献
(明細書)中に記載されているものを挙げることができ
る。本発明で使用されるo−キノンジアジド化合物の添
加量は、好ましくは平版印刷版材料の全固形分に対して
1〜50重量%、さらに好ましくは5〜30重量%、特
に好ましくは10〜30重量%の範囲である。これらの
化合物は単独で使用することができるが、数種の混合物
として使用してもよい。o−キノンジアジド化合物の添
加量が1重量%未満であると画像の記録性が悪化し、一
方、50重量%を超えると画像部の耐久性が劣化したり
感度が低下したりする。
Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol-formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol Esters with acetone resins are likewise preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patent-related documents. For example, JP 47-5303, JP 48-63802, JP 48-63803,
JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354
No., JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-1
No. 7481, U.S. Pat.Nos. 2,797,213 and 3,454,400,
No. 3,544,323, No. 3,573,917, No. 3,674,495
No. 3,785,825; British Patent No. 1,227,602;
Nos. 1,251,345, 1,267,005, 1,329,888,
No. 1,330,932, and German Patent No. 854,890, etc. can be mentioned. The amount of the o-quinonediazide compound used in the present invention is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material. % Range. These compounds can be used alone or as a mixture of several types. If the amount of the o-quinonediazide compound is less than 1% by weight, the recording properties of the image will be deteriorated, while if it exceeds 50% by weight, the durability of the image portion will be deteriorated and the sensitivity will be lowered.

【0082】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、およびパラトルエンスルホン酸等を挙げることが
できる。これらの中でも特に、六フッ化リン酸、トリイ
ソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸の如きアルキル芳香族スルホン酸が好
適である。o−キノンジアジド化合物以外の上記化合物
の添加量は、好ましくは平版印刷版材料の全固形分に対
して1〜50重量%、さらに好ましくは5〜30重量
%、特に好ましくは10〜30重量%の範囲である。
The counter ions of the onium salts include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable. The amount of the above compound other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material. Range.

【0083】の例に関しては、本発明者らが出願した
特願平9−26878号、特願平9−26877号、特
願平9−10755号、特願平9−36665号、特願
平9−89451号、特願平9−85328号、特願平
9−89816号に開示されている、スルホン酸を発生
する官能基を側鎖に含む高分子化合物を用いる系、WO
−9635143、US−5506090、EP−65
2483、EP−703499、US−555226
0、EP−600615に開示されている、酸分解性基
で保護されたカルボン酸ポリマーを用いる系が挙げられ
る。の例に関しては、特願平7−277889号に開
示されている、に類する感材上にシリコーンゴム層を
設けた、湿し水不要感光性平版印刷版が挙げられる。
の例に関しては、特公昭46−27919号に開示され
ている、加熱する前は不溶性もしくは僅かに可溶性であ
り、熱の影響下に溶媒中でより可溶性になし得る重合体
化合物または組成物を混入した記録材料を用いる事が挙
げられる。
With respect to the examples of the present invention, Japanese Patent Application No. 9-26878, Japanese Patent Application No. 9-26877, Japanese Patent Application No. 9-10755, Japanese Patent Application No. 9-36665, and Japanese Patent Application No. No. 9-89451, Japanese Patent Application Nos. 9-85328 and 9-89816, a system using a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid in a side chain, WO
-9635143, US-5506090, EP-65
2483, EP-703499, US-555226
0, a system using a carboxylic acid polymer protected with an acid-decomposable group, disclosed in EP-600615. For example, there is a photosensitive lithographic printing plate which does not require dampening solution and has a silicone rubber layer provided on a photosensitive material similar to that disclosed in Japanese Patent Application No. 7-277889.
With respect to the examples described in JP-B-46-27919, a polymer compound or a composition which is insoluble or slightly soluble before heating and which can be made more soluble in a solvent under the influence of heat is incorporated. The use of a recording material that has been used.

【0084】〔その他の成分〕本発明の平版印刷版材料
には、必要に応じて上記以外に種々の化合物を添加して
も良い。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画
像の着色剤として使用することができる。具体的にはオ
イルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイ
ルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルー
BOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上
オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブル
ー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチ
ルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレッ
ト、ローダミンB(CI145170B)、マラカイト
グリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI5
2015)など、あるいは特開昭62−293247号
公報に記載されている染料を挙げることができる。これ
らの染料は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつ
きやすいので、添加する方が好ましい。尚、添加量は、
平版印刷版材料全固形分に対し、0.01〜10重量%
の割合である。
[Other Components] The lithographic printing plate material of the present invention may contain various compounds other than those described above, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY,
Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000) , Methylene blue (CI5
2015) or the dyes described in JP-A-62-293247. These dyes are preferably added because the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is
0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the lithographic printing plate material
Is the ratio of

【0085】また、本発明にかかる平版印刷版材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アル
キルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノ
エチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシ
エチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ンやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の平
版印刷版材料中に占める割合は、0.05〜15重量%
が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
In the lithographic printing plate material according to the present invention, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-208514 are used in order to increase the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149.
An amphoteric surfactant such as that described in JP-A No. 2-211 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the lithographic printing plate material is 0.05 to 15% by weight.
And more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0086】更に本発明にかかる平版印刷版材料中には
必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が
加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジへキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸またはメタアクリル酸のオリゴマーおよびポリ
マー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the planographic printing plate material according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butyl phthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or Oligomers and polymers of methacrylic acid are used.

【0087】これら以外にも、前述のオニウム塩やハロ
アルキル置換されたs−トリアジン、及びエポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらには特願平7−18120
号に記載のヒドロキシメチル基を持つフェノール化合
物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物等を
添加しても良い。
Other than these, the above-mentioned onium salts, haloalkyl-substituted s-triazines, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, Japanese Patent Application No. 7-18120.
Phenol compounds having a hydroxymethyl group and phenol compounds having an alkoxymethyl group.

【0088】本発明にかかる平版印刷版材料は、通常上
記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する
ことにより製造することができる。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−
メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセ
テート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメ
トキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエ
ン、水等をあげることができるがこれに限定されるもの
ではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用さ
れる。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃
度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾
燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途に
よって異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的
に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法と
しては、種々の方法を用いることができるが、例えば、
バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少な
くなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録
膜の皮膜特性は低下する。
The lithographic printing plate material according to the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and applying it on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone,
Methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-
Methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N- Examples thereof include, but are not limited to, methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, toluene, water and the like. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred for a lithographic printing plate material. As a method of applying, various methods can be used, for example,
Examples include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, and the like. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0089】本発明における平版印刷版材料中には、塗
布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−
170950号公報に記載されているようなフッ素系界
面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、
全平版印刷版材料固形分中0.01〜1重量%さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the lithographic printing plate material of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a surfactant described in
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-170950 can be added. The preferred amount is
It is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material.

【0090】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネートもしくは蒸着された、紙もしくはプラスチッ
クフィルム等が含まれる。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited.

【0091】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.8mmである。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable. Among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.8 mm.

【0092】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, a method combining both of them can be used as disclosed in JP-A-54-63902. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid,
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0093】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号および第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまた
は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報
に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国
特許第3,276,868号、同第4,158,461
号、同第4,689,272号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。
Since the anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, they cannot be specified unconditionally. Generally, however, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,158,461.
And the method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A No. 4,689,272.

【0094】本発明にかかる平版印刷版材料は、必要に
応じて支持体上に下塗層を設けることができる。下塗層
成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カ
ルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガ
ム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有す
るホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホ
ン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリ
セロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレン
ジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有しても
よいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸
およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有し
てもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩な
どのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれ
るが、2種以上混合して用いてもよい。有機下塗層の被
覆量は、2〜200mg/m2 が適当である。
In the lithographic printing plate material according to the present invention, an undercoat layer can be provided on the support, if necessary. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphinic acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Hydroxy such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines having a group may be used in combination of two or more. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 .

【0095】以上のようにして、本発明にかかる平版印
刷版材料を用いた平版印刷用版材を作製することができ
る。この平版印刷用版材は、波長760nmから120
0nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光される。本発明においては、レーザ照射
後すぐに現像処理を行っても良いが、レーザ照射工程と
現像工程の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処
理の条件は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分
間行うことが好ましい。この加熱処理により、レーザ照
射時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させること
ができる。
As described above, a lithographic printing plate using the lithographic printing plate material according to the present invention can be produced. This lithographic printing plate material has a wavelength of 760 nm to 120.
Image exposure is performed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit 0-nm infrared light. In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the laser irradiation, but it is preferable to perform the heating treatment between the laser irradiation step and the developing step. The heat treatment is preferably performed in a range of 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0096】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
にかかる平版印刷版材料はアルカリ性水溶液にて現像さ
れる。本発明にかかる平版印刷版材料の現像液および補
充液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使
用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3
リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン
酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう
酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、
水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウ
ムおよび水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。こ
れらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせ
て用いられる。
After performing a heat treatment as required, the lithographic printing plate material according to the present invention is developed with an alkaline aqueous solution. As the developer and replenisher for the lithographic printing plate material according to the present invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, sodium triphosphate, potassium triphosphate, third
Ammonium phosphate, dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, boric acid Ammonium,
And inorganic alkali salts such as sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

【0097】これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現
像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸
塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化
珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物M2 Oの比率と濃度
によって現像性の調節が可能となるためであり、例え
ば、特開昭54−62004号公報、特公昭57−74
27号に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が
有効に用いられる。
Among these alkaline agents, particularly preferred developers are aqueous solutions of silicates such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and the concentration of the silicon oxide SiO 2 and the alkali metal oxide M 2 O which are the components of the silicate. For example, JP-A-54-62004 discloses Tokiko 57-74
An alkali metal silicate described in No. 27 is effectively used.

【0098】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材を処理
できることが知られている。本発明においてもこの補充
方式が好ましく適用される。現像液および補充液には現
像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部
の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤があげられる。更に現像液および補充液には
必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、
亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩
等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤
を加えることもできる。上記現像液および補充液を用い
て現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂
化液で後処理される。本発明にかかる平版印刷版材料を
印刷用版材として使用する場合の後処理としては、これ
らの処理を種々組み合わせて用いることができる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of lithographic printing plate material can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as required for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, if necessary, the developer and replenisher may be hydroquinone, resorcin, sulfurous acid,
A reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener can also be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. When the lithographic printing plate material according to the present invention is used as a printing plate material, these processes can be used in various combinations as a post-treatment.

【0099】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally consists of a developing section and a post-processing section, and consists of a device for transporting printing plate material, each processing solution tank and a spray device, and pumps the exposed printing plate horizontally while pumping it. Each processing liquid is sprayed from a spray nozzle to perform development processing.
Recently, a method has been known in which a printing plate material is immersed and transported by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid, and the processing is performed. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0100】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、バーニング処理面を、
特公昭61−2518号、同55−28062号、特開
昭62−31859号、同61−159655号の各公
報に記載されているような整面液で処理することが好ま
しい。その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポ
ンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液
を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法
や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、
塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラー
で、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果
を与える。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g
/m2 (乾燥重量)が適当である。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum if desired. Is subjected to a burning process. If you plan to burn the lithographic printing plate,
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-B-61-2518, JP-B-55-28062, JP-A-62-31859 and JP-A-61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Also,
Making the amount of the coating uniform with a squeegee or a squeegee roller after the coating gives more preferable results. The application amount of surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g
/ M 2 (dry weight) is appropriate.

【0101】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従
来より行われている処理を施こすことができるが水溶性
高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には
ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することが
できる。この様な処理によって得られた平版印刷版はオ
フセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられ
る。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then heated to a high temperature using a burning processor (for example, BP-1300, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 180 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred. The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface conditioning liquid containing a water-soluble polymer compound or the like is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0102】本発明において湿し水不要平版印刷版を作
製する場合には、露光した後、酸前駆体から発生した酸
による不溶化反応を促進するための加熱が施される。こ
の加熱工程は80〜150℃の温度範囲で、5秒〜20
分の範囲で行われることが好ましい。
In the case of preparing a lithographic printing plate requiring no dampening solution in the present invention, after exposure, heating is performed to promote an insolubilization reaction by an acid generated from an acid precursor. This heating step is performed at a temperature of 80 to 150 ° C. for 5 seconds to 20 seconds.
Minutes.

【0103】露光および必要に応じて加熱工程を経た湿
し水不要感光性平版印刷版は、画像部の感光層の一部あ
るいは全部を溶解あるいは膨潤し得る現像液、あるいは
シリコーンゴム層を膨潤し得る現像液で現像される。こ
の場合画像部の感光層およびその上のシリコーンゴム層
が除去される場合と、画像部のシリコーンゴム層のみが
除去される場合とがあり、これは現像液の強さによって
制御することができる。
The photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution after exposure and, if necessary, a heating step is a developer capable of dissolving or swelling part or all of the photosensitive layer in the image area, or swelling the silicone rubber layer. It is developed with the resulting developer. In this case, there are cases where the photosensitive layer in the image area and the silicone rubber layer thereon are removed, and cases where only the silicone rubber layer in the image area is removed, which can be controlled by the strength of the developer. .

【0104】本発明の平版印刷版材料による平版印刷版
の現像に用いる現像液としては、湿し水不要感光性印刷
版の現像液として公知のものが使用できる。例えば、脂
肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパー
E、H、G”(エッソ化学(株)製、脂肪族炭化水素類
の商品名)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水
素(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化
水素(トリクレン等)に下記の極性溶媒を添加したもの
や極性溶媒そのものが好適である。 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、カルビトールモノメチルエーテル、カルビ
トールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、カルビトールアセテート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート)
As a developer used for developing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate material of the present invention, those known as developing solutions for photosensitive printing plates requiring no dampening solution can be used. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, "Isoper E, H, G" (trade names of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene , Xylene, etc.), or a halogenated hydrocarbon (trichlene, etc.) to which the following polar solvent is added, or the polar solvent itself is preferable.・ Alcohols (methanol, ethanol, propanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, carbitol monomethyl ether, carbitol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl Ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, polypropylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol) Ketones (acetone, methyl ethyl ketone) Esters (ethyl acetate, methyl lactate) , Ethyl lactate,
Butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, carbitol acetate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate) Others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate)

【0105】また、上記有機溶剤系現像液に水を添加し
たり、上記溶剤を界面活性剤を用いて水に可溶化したも
のや、さらにその上にアルカリ剤、例えば珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン
酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸ア
ンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、
アンモニア水等のような無機アルカリ剤や、テトラアル
キルアンモニウムハイドライド、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のよ
うな有機アルカリ剤を添加することができる。
Further, water may be added to the organic solvent-based developer, or the solvent may be solubilized in water using a surfactant, or an alkali agent such as sodium silicate, potassium silicate, water Sodium oxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate,
An inorganic alkali agent such as ammonia water or an organic alkali agent such as tetraalkylammonium hydride, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like can be added.

【0106】また、場合によっては、単に水道水やアル
カリ水を現像液として使用することができ、必要に応じ
て界面活性剤や上記のような有機溶媒を加えることもで
きる。また、クリスタルバイオレット、アストラゾンレ
ッド等の染料を現像液に加えて染色を同時に行うことも
可能である。現像は、例えば上記のような現像液を含む
現像用パッドで版面を擦ったり、現像液を版面に注いだ
後に現像ブラシで擦る等、公知の方法で行うことができ
る。現像液の温度としては、任意の温度で現像すること
ができるが、好ましくは10〜50℃である。
In some cases, tap water or alkaline water can be used simply as a developing solution, and a surfactant or an organic solvent as described above can be added as necessary. Further, it is also possible to add a dye such as crystal violet or Astrazone Red to the developing solution and simultaneously perform the dyeing. The development can be performed by a known method, for example, by rubbing the plate surface with a developing pad containing the above-described developer, or rubbing the developer with the developer brush after pouring the developer onto the plate surface. The developer can be developed at any temperature, but is preferably from 10 to 50 ° C.

【0107】このようにして得られた刷版は、その画像
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知し得るようにできる。現像液に露出画像部の染色の為
の染料を含有しない場合には、現像後に染色液で染色さ
れる。染色液を軟らかいパッドにしみ込ませ、画像部を
軽く擦ることにより、画像部のみが染色され、これによ
りハイライト部まで現像が十分に行われていることを確
認できる。染色液としては水溶性の分散染料、酸性染料
および塩基性染料のうちから選ばれる1種または2種以
上を水、アルコール類、ケトン類、エーテル類等の単独
または2種以上の混合液に溶解または分散せしめたもの
が用いられる。染色性を向上させる為にカルボン酸類、
アミン類、界面活性剤、染色助剤、消泡剤等を加えるこ
とも効果的である。
The printing plate thus obtained can be detected by dyeing the exposed image portion with a dyeing solution in order to confirm the image forming property. When the developing solution does not contain a dye for dyeing the exposed image portion, it is dyed with the dyeing solution after development. By impregnating the dyeing solution into a soft pad and rubbing the image area lightly, only the image area is stained, whereby it can be confirmed that the development is sufficiently performed up to the highlight area. As the dyeing solution, one or more selected from water-soluble disperse dyes, acid dyes and basic dyes are dissolved in water, alcohols, ketones, ethers or the like alone or in a mixture of two or more. Alternatively, those dispersed are used. Carboxylic acids to improve dyeability,
It is also effective to add amines, surfactants, dyeing assistants, defoamers and the like.

【0108】染色液により染色された刷版は、次いで水
洗し、その後乾燥することが望ましく、これにより版面
のべたつきを抑えることができ、刷版の取り扱い性を向
上させることができる。またこのように処理された刷版
を積み重ねて保管する場合には、版面を保護するために
合紙を挿入し挟んでおくことが好ましい。
The printing plate dyed with the dyeing solution is preferably washed with water and then dried, whereby the stickiness of the printing plate surface can be suppressed and the handleability of the printing plate can be improved. When printing plates thus processed are stacked and stored, it is preferable to insert and insert a slip sheet to protect the plate surface.

【0109】以上のような現像処理と染色処理、または
それに続く水洗乾燥処理は、自動処理機で行うことが好
ましい。このような自動処理機の好ましいものは、特開
平2−220061号公報に記載されている。
The above-described development and dyeing, or subsequent washing and drying, are preferably carried out by an automatic processor. A preferable example of such an automatic processor is described in JP-A-2-22661.

【0110】本発明をいわゆる無処理型の印刷版に用い
る場合は、レーザ描画後直ちに印刷機に版を装着し印刷
を行っても良いが、レーザ照射後に加熱処理を行うこと
が好ましい。加熱処理の条件は、80〜150℃の範囲
内で10秒〜5分間行うことが好ましい。この加熱処理
により、レーザ照射時、記録に必要なレーザエネルギー
を減少させる事ができる。
When the present invention is applied to a so-called non-process type printing plate, the plate may be mounted on a printing machine immediately after laser drawing, and printing may be performed. However, it is preferable to perform heat treatment after laser irradiation. The heat treatment is preferably performed at a temperature of 80 to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0111】[0111]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例1 厚さ0.30mmのアルミニウム板(材質1050)を
トリクロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラ
シと400メッシュのパミストン−水懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てし、よく水で洗浄した。この板を45
℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエ
ッチングを行い水洗後、更に2%HNO 3 により20秒
間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面のエッチン
グ量は約3g/m2 であった。次にこの板を7%H2
4 を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/m
2 の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。次に
このアルミニウム板に下記下塗り液を塗布し、80℃、
30秒乾燥した。乾燥後の被覆量は10mg/m2 であ
った。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these.Example 1 0.30mm thick aluminum plate (material 1050)
After washing with trichlorethylene and degreasing,
And a 400 mesh pumicestone-water suspension.
Was grained and washed well with water. 45
Dipped in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide for 9 seconds.
After washing with water, further 2% HNO Three20 seconds
It was immersed in water for washing. Etching on the grained surface at this time
Approximately 3 g / mTwoMet. Next, this plate isTwoS
OFourCurrent density 15A / dmTwo3g / m
Two, And then washed with water and dried. next
The following undercoating liquid is applied to this aluminum plate,
Dry for 30 seconds. The amount of coating after drying is 10 mg / mTwoIn
Was.

【0112】(下塗り液) ・β−アラニン 0.1 g ・フェニルホスホン酸 0.05g ・メタノール 40 g ・純水 60 g 更にこのアルミニウム板にp−トルエンスルホン酸のト
リエチルアミン塩を添加してpH5.0に調整した下記
感光液を塗布し、100℃で2分間乾燥してネガ型感光
性平版印刷版を得た。乾燥後の重量は2.0g/m2
あった。
(Undercoating solution) 0.1 g of β-alanine 0.05 g of phenylphosphonic acid 40 g of methanol 60 g of pure water Further, a triethylamine salt of p-toluenesulfonic acid was added to this aluminum plate to adjust the pH to 5.0. The following photosensitive solution adjusted to 0 was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate. The weight after drying was 2.0 g / m 2 .

【0113】 (感光液) ・赤外線吸収剤(化合物―1) 0.1 g ・4−(p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミ ノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s −トリアジン 0.1 g ・クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 (メタ:パラ比=8:2、重量平均分子量5800) 1.2 g ・ビスフェノールAとホルムアルデヒドから得られるレゾール 樹脂(重量平均分子量1600) 1.0 g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン −スルホン酸にした染料 0.05g ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系界面活性剤) 0.06g ・メチルエチルケトン 20 g ・メチルアルコール 7 g(Photosensitive solution) ・ Infrared absorber (Compound-1) 0.1 g ・ 4- (pN, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl)- s-Triazine 0.1 g Novolak resin obtained from cresol and formaldehyde (meta: para ratio = 8: 2, weight average molecular weight 5800) 1.2 g Resol resin obtained from bisphenol A and formaldehyde (weight average molecular weight 1600) 1.0 g ・ Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.05 g ・ MegaFac F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Ltd., fluorine-based surfactant) 0 0.06 g ・ Methyl ethyl ketone 20 g ・ Methyl alcohol 7 g

【0114】得られたネガ型平版印刷用版材を、ヒート
モードレーザとしての半導体レーザ(波長825nm、
ビーム径:1/e2 =6μm)を用い、線速度8m/s
ecで版面出力110mWに調節し、露光した。露光後
110℃で1分間加熱処理した後、富士写真フイルム
(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス液FR−
3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処理した。
次いで富士写真フイルム(株)製ガムGU−7(1:
1)で版面を処理し、ハイデルKOR−D機で印刷し
た。非画像部に汚れのない良好な印刷物が6万枚得られ
た。
The obtained negative type lithographic printing plate was treated with a semiconductor laser (wavelength: 825 nm,
Beam diameter: 1 / e 2 = 6 μm) and a linear velocity of 8 m / s
The plate output was adjusted to 110 mW by ec, and exposure was performed. After a heat treatment at 110 ° C. for 1 minute after the exposure, a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8), a rinsing solution FR-
3 (1: 7) through an automatic processor.
Next, gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
The plate was processed in 1) and printed with a Heidel KOR-D machine. 60,000 good prints without stains on the non-image area were obtained.

【0115】実施例2 実施例1において赤外線吸収剤として化合物―2、もし
くは化合物―9を使う以外は実施例1と同様の操作をし
てネガ型平版印刷用版材を得た。得られた版材を、版面
出力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写
真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8)、リン
ス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して
処理した。次いで富士写真フイルム(株)製ガムGU−
7(1:1)で版面を処理し、ハイデルKOR−D機で
印刷した。それぞれの場合において非画像部に汚れのな
い良好な印刷物が7万枚得られた。
Example 2 A negative lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that Compound 2 or Compound 9 was used as the infrared absorbing agent. After exposing the obtained plate material with a YAG laser adjusted to a plate surface output of 2 W, a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8), and a rinsing solution FR-3 (1: 7) were used. Processing was carried out through the automatic processor charged. Next, gum GU- manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
The plate was processed at 7 (1: 1) and printed on a Heidel KOR-D machine. In each case, 70,000 good prints with no stain on the non-image area were obtained.

【0116】比較例1 実施例1に於いて、赤外線吸収剤としてカーボンブラッ
クの分散液を用いた。塗布液は混合直後は均一であった
が、3日経時により凝集を生じ、均一な被膜が得られな
くなった。
Comparative Example 1 In Example 1, a dispersion of carbon black was used as an infrared absorbent. The coating solution was uniform immediately after mixing, but agglomeration occurred over 3 days, and a uniform coating could not be obtained.

【0117】実施例3 (架橋剤の合成)1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロ
キシフェニル)エチル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン20gを水酸化カ
リウム水溶液(10%)100mlに溶解させた。この
反応液にホルマリン(37%)60mlを室温で撹拌し
ながら1時間かけて滴下した。反応液を室温にてさらに
6時間撹拌した後、硫酸水溶液中に投入し、晶析させ
た。得られたペースト状沈殿をよく水洗した後、メタノ
ール30mlを用いて再結晶することにより、白色粉末
を得た。収量20g。得られた化合物は、NMRにより
1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エ
チル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エチル〕ベンゼンのヘキサメチロール化物であるこ
とがわかった。逆相HPLC(カラム:Shimpac CLC
−ODS(島津製作所製)、溶媒:メタノール/水=6
0/40→90/10)によるヘキサメチロール化物の
純度は92%であった。
Example 3 (Synthesis of Crosslinking Agent) 20 g of 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene was added to water It was dissolved in 100 ml of an aqueous solution of potassium oxide (10%). 60 ml of formalin (37%) was added dropwise to this reaction solution over 1 hour while stirring at room temperature. After the reaction solution was further stirred at room temperature for 6 hours, it was poured into an aqueous sulfuric acid solution to cause crystallization. The obtained paste-like precipitate was thoroughly washed with water, and then recrystallized from 30 ml of methanol to obtain a white powder. Yield 20 g. The obtained compound is a hexamethylolated product of 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene by NMR. I understood. Reversed phase HPLC (column: Shimpac CLC
-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 6
(0/40 → 90/10), the purity of the hexamethylolated product was 92%.

【0118】このヘキサメチロ−ル化合物20gをメタ
ノール1000mlに加温溶解させ、濃硫酸1mlを加
え12時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭酸カリウ
ム2gを加え、さらに撹拌後、濃縮し、酢酸エチル30
0mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、白色固体
を得た。収量22g。得られた化合物は、NMRにより
1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エ
チル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エチル〕ベンゼンのヘキサメトキシメチル化物であ
ることがわかった。逆相HPLC(カラム:Shimpac C
LC−ODS(島津製作所製)、溶媒:メタノール/水
=60/40→90/10)によるヘキサメトキシメチ
ル化物の純度は90%であった。
20 g of this hexamethylol compound was dissolved by heating in 1000 ml of methanol, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 12 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, and the mixture was further stirred and concentrated, and ethyl acetate was added.
After adding 0 ml, washing with water and drying, the solvent was distilled off to obtain a white solid. Yield 22 g. The obtained compound is a hexamethoxymethylated product of 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene by NMR. I understand. Reversed phase HPLC (column: Shimpac C
The purity of hexamethoxymethylated product by LC-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10) was 90%.

【0119】実施例1と同様に処理し、下塗りしたアル
ミニウム板にp−トルエンスルホン酸のトリエチルアミ
ン塩を添加し、pHを3.0、4.0、5.0に調節し
た下記感光液をそれぞれ塗布し、100℃で2分間乾燥
してネガ型感光性平版印刷版A、B、Cを得た。乾燥後
の重量は2.0g/m2 であった。
The same processing as in Example 1 was carried out, and the following photosensitive liquids were added to an undercoated aluminum plate, and the pH was adjusted to 3.0, 4.0 and 5.0 by adding triethylamine salt of p-toluenesulfonic acid. It was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain negative photosensitive lithographic printing plates A, B and C. The weight after drying was 2.0 g / m 2 .

【0120】 (感光液) ・赤外線吸収剤(化合物―2) 0.1 g ・前記架橋剤 0.21g ・フェノール−ホルムアルデヒドノボラック(重量平均分子量 12000) 2.1 g ・ジフェニルヨードニウム−9,10―ジメトキシアントラセ ンスルホネート 0.02g ・メガファックF−176(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系界面活性剤) 0.06g ・メチルエチルケトン 15 g ・2−メトキシ−1−プロパノール 12 g 得られたネガ型平版印刷版を実施例1と同様の条件で処
理し、印刷したところ、非画像部に汚れのない良好な印
刷物が得られた。この際得られた印刷枚数は6万枚であ
った。次にこの印刷版を45℃、相対湿度75%で保存
し、同様の処理をしたが、同様に非画像部に汚れのない
良好な印刷物が得られた。
(Photosensitive solution) ・ Infrared absorbing agent (compound-2) 0.1 g ・ The crosslinking agent 0.21 g ・ Phenol-formaldehyde novolak (weight average molecular weight 12000) 2.1 g ・ Diphenyliodonium-9,10- 0.02 g of dimethoxyanthracene sulfonate-Megafac F-176 (fluorinated surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.06 g-15 g of methyl ethyl ketone-12 g of 2-methoxy-1-propanol The resulting negative type lithographic printing plate was processed and printed under the same conditions as in Example 1, and a good printed matter having no stain on the non-image area was obtained. The number of prints obtained at this time was 60,000. Next, the printing plate was stored at 45 ° C. and a relative humidity of 75%, and subjected to the same processing. Similarly, a good printed matter having no stain on the non-image area was obtained.

【0121】比較例2 実施例3において赤外線吸収剤として、日本感光色素製
NK3555を用いネガ型平版印刷版を作成した。この
印刷版は製造直後は良好に処理出来るが、実施例3と同
様の条件で保存すると、画像形成能が失われてしまっ
た。
Comparative Example 2 In Example 3, a negative type lithographic printing plate was prepared by using NK3555 manufactured by Nippon Kosaku Dye as an infrared absorbing agent. This printing plate could be processed well immediately after production, but when stored under the same conditions as in Example 3, the image forming ability was lost.

【0122】実施例4 実施例1で用いた表面処理したAl板に下記感光液を塗
布し、ポジ型平版印刷版を作製した。 (感光液) ・赤外線吸収剤(化合物―2) 0.10g ・ナフトキノン−1,2−ジアジド−スルホニルクロリドとピ ロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特許 第3,635,709号明細書実施例1に記載されてい るもの) 0.90g ・クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 (メタ:パラ比=6:4、重量平均分子量1800) 2.00g ・p−オクチルフェノール−ホルムアルデヒドノボラック 0.02g ・ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホニルクロリド 0.01g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・4−(p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミ ノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s −トリアジン 0.02g ・4−(p−N−(p−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェニ ル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア ジン 0.02g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン −スルホン酸にした染料 0.03g ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系界面活性剤) 0.06g ・メチルエチルケトン 20 g ・メチルアルコール 7 g
Example 4 The following photosensitive solution was applied to the surface-treated Al plate used in Example 1 to prepare a positive type lithographic printing plate. (Photosensitive solution) ・ Infrared absorber (Compound-2) 0.10 g ・ Esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin (U.S. Pat. No. 3,635,709) Novolak resin obtained from cresol and formaldehyde (meta: para ratio = 6: 4, weight average molecular weight 1800) 2.00 g p-octylphenol-formaldehyde novolak 0.02 g Naphthoquinone-1,2-diazido-4-sulfonyl chloride 0.01 g tetrahydrophthalic anhydride 0.05 g 4- (p-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl) -2,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine 0.02 g ・ 4- (pN- (p-H Roxybenzoyl) aminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 g ・ Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.03 g ・ MegaFac F- 177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) 0.06 g-methyl ethyl ketone 20 g-methyl alcohol 7 g

【0123】得られたポジ型平版印刷用版材を、版面出
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写真
フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス
液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処
理した。次いで富士写真フイルム(株)製ガムGU−7
(1:1)で版面を処理し、ハイデルKOR−D機で印
刷した。非画像部に汚れのない良好な印刷物が7万枚得
られた。
The obtained positive type lithographic printing plate material was exposed with a YAG laser adjusted to a plate surface output of 2 W, and then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8), rinse solution FR -3 (1: 7) through an automatic processor. Next, Gum GU-7 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
The plate was processed at (1: 1) and printed with a Heidel KOR-D machine. 70,000 good prints with no stain on the non-image area were obtained.

【0124】実施例5 [無処理型平版印刷版の作製] (スルホン酸発生型高分子化合物の合成) <モノマーの合成>アセトニトリル200ml、シクロ
ヘキシルアルコール11g及びピリジン8.8gを50
0mlの三口フラスコに入れ、撹拌した。氷で冷却しな
がらビニルベンゼンスルホニルクロリド20.2gを滴
下した。滴下後室温にて2時間撹拌した後、1リットル
の水にあけ、酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウム
で乾燥させた後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルを用い
たカラムクロマトグラフィーを行い精製することによ
り、モノマー(p−ビニルベンゼンスルホン酸のシクロ
ヘキシルエステル)を得た。元素分析の計算値は、C:
63.13%、H:6.81%であり、実測値はC:6
3.01%、H:6.85%であった。
Example 5 [Preparation of unprocessed lithographic printing plate] (Synthesis of sulfonic acid-generating polymer compound) <Synthesis of monomer> 200 ml of acetonitrile, 11 g of cyclohexyl alcohol and 8.8 g of pyridine were mixed in 50 parts.
The mixture was placed in a 0 ml three-necked flask and stirred. While cooling with ice, 20.2 g of vinylbenzenesulfonyl chloride was added dropwise. After the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, poured into 1 liter of water, and extracted with ethyl acetate. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by column chromatography using silica gel to obtain a monomer (cyclohexyl ester of p-vinylbenzenesulfonic acid). The calculated value of the elemental analysis is C:
63.13%, H: 6.81%, measured value: C: 6
3.01%, H: 6.85%.

【0125】<スルホン酸発生型高分子化合物の合成>
200mlの三口フラスコに上記により合成したモノマ
ー20g及びメチルエチルケトン40gを入れ、65℃
窒素気流下、アゾビスジメチルバレロニトリル0.25
gを加えた。5時間撹拌しながら同温度に保った後、減
圧下溶媒を留去し、固体を得た。GPC(ポリスチレン
標準)により重量平均分子量1.04万のポリマーで有
ることが分かった。
<Synthesis of Sulfonic Acid Generating Polymer Compound>
20 g of the monomer synthesized above and 40 g of methyl ethyl ketone were placed in a 200 ml three-necked flask,
Under a nitrogen stream, azobisdimethylvaleronitrile 0.25
g was added. After stirring at the same temperature for 5 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a solid. According to GPC (polystyrene standard), it was found to be a polymer having a weight average molecular weight of 104,000.

【0126】(無処理型平版印刷版の作製)厚さ0.3
0mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロ
エチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400
メッシュのパミストン−水懸濁液を用いてその表面を砂
目立てし、よく水で洗浄した。この板を45℃の25%
水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを
行い水洗後、更に2%HNO 3 により20秒間浸漬して
水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3
g/m2 であった。次にこの板を7%H2 SO4 を電解
液として電流密度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽
極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。次に下記溶液を
調製し、上記の処理済みのアルミニウム板に塗布し、1
00℃で2分間乾燥して平版印刷版用原版を得た。乾燥
後の重量は1.2g/m2 であった。
(Preparation of Unprocessed Lithographic Printing Plate) Thickness 0.3
Trichloride 0mm aluminum plate (material 1050)
After washing with ethylene and degreased, use a nylon brush and 400
Sand the surface with a mesh pumicestone-water suspension.
It was sharpened and washed well with water. 25% of this plate at 45 ° C
Immerse in sodium hydroxide aqueous solution for 9 seconds to etch
After washing with water, 2% HNO ThreeSoak for 20 seconds
Washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface is about 3
g / mTwoMet. Next, this plate isTwoSOFourThe electrolysis
Current density 15A / dm as liquidTwo3g / mTwoDC positive
After providing an extremely oxidized film, it was washed and dried. Next, add the following solution
Prepared and applied to the above treated aluminum plate,
It was dried at 00 ° C. for 2 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor. Dry
After weight 1.2g / mTwoMet.

【0127】 (溶液) ・上記で合成したスルホン酸発生型高分子化合物 1.00g ・赤外線吸収剤(化合物―2) 0.15g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン −スルホン酸にした染料 0.05g ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系界面活性剤) 0.06g ・メチルエチルケトン 20 g ・メチルアルコール 7 g(Solution) 1.00 g of sulfonic acid-generating polymer compound synthesized above. 0.15 g of infrared absorber (Compound-2). The counter ion of Victoria Pure Blue BOH was changed to 1-naphthalene-sulfonic acid. Dye 0.05g-Megafac F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) 0.06g-Methyl ethyl ketone 20g-Methyl alcohol 7g

【0128】得られた平版印刷版用原版を、波長106
4nmの赤外線を発するYAGレーザで露光した。露光
後、110℃で1分間加熱処理した後、ハイデルKOR
−D機で印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが
発生しているかどうかを観察した。非画像部に汚れのな
い良好な印刷物が得られた。
The obtained lithographic printing plate precursor was placed at a wavelength of 106
Exposure was performed with a YAG laser emitting infrared light of 4 nm. After exposure, heat treatment was performed at 110 ° C. for 1 minute.
-Printed on D machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. A good printed matter with no stain on the non-image area was obtained.

【0129】実施例6 [ポジ型湿し水不要感光性平版印刷版の作製] (支持体の作製)厚さ0.24mmの1Sアルミニウム
板を、80℃に保った第3リン酸ナトリウムの10%水
溶液に3分間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立
てした後、アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチン
グして、硫酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処
理を行った。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流
密度2A/dm2 において2分間陽極酸化を行った。
Example 6 [Preparation of a positive type lithographic printing plate requiring no fountain solution] (Preparation of support) A 1S aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was treated with 10% sodium tertiary phosphate kept at 80 ° C. Degreased by immersion in a 3% aqueous solution for 3 minutes, grained with a nylon brush, etched for about 10 minutes with sodium aluminate, and desmutted with a 3% aqueous solution of sodium hydrogen sulfate. This aluminum plate was anodized in a 20% sulfuric acid at a current density of 2 A / dm 2 for 2 minutes.

【0130】上記支持体上に、下記組成の塗布液を乾燥
膜厚1μmになるように塗布し、加熱(100℃、1
分)し、乾燥してプライマー層を形成した。 ・サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製ポリウレ タン) 10 重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドと の縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 0.1 重量部 ・ディフェンサーMCF323(大日本インキ化学工業 (株)製、界面活性剤) 0.03重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50 重量部 ・乳酸メチル 20 重量部 ・純水 1 重量部
A coating solution having the following composition was applied on the support so as to have a dry film thickness of 1 μm, and heated (at 100 ° C., 1 ° C.)
Min) and dried to form a primer layer. -Samprene IB1700D (polyurethane manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight-Hexafluorophosphate of polycondensation product of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde 0.1 part by weight-Defensor MCF323 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.03 parts by weight-Propylene glycol methyl ether acetate 50 parts by weight-Methyl lactate 20 parts by weight-Pure water 1 part by weight

【0131】その後、ネアーク社製FT261V UDNS ULTRA-
PLUS FLIPTOP PLATE MAKER真空露光機を用いて、20カ
ウント露光した。
Thereafter, FT261V UDNS ULTRA-
Exposure was performed for 20 counts using a PLUS FLIPTOP PLATE MAKER vacuum exposure machine.

【0132】(感光層)上記アルミニウム板に、実施例
2で用いた感光液を塗布し、90℃で1分間乾燥した。
乾燥後の被覆重量は2g/m2 であった。
(Photosensitive Layer) The photosensitive solution used in Example 2 was applied to the aluminum plate and dried at 90 ° C. for 1 minute.
The coating weight after drying was 2 g / m 2 .

【0133】(シリコーンゴム層)上記感光層上に、下
記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になる
ように塗布し、100℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン (重合度:約700) 9 重量部 ・(CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 0.5 重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度:約8,000) 0.5 重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.08重量部 ・抑制剤(CH≡C-Si(CH3)2OSi(CH3)3) 0.3 重量部 ・γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 0.3 重量部 ・アイソパ−E(エッソ化学(株)製) 140 重量部
(Silicone Rubber Layer) The following silicone rubber composition solution was applied on the above-mentioned photosensitive layer to a dry weight of 2 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 2 minutes.・ Α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization: about 700) 9 parts by weight ・ (CH 3 ) 3 -Si-O- (SiH (CH 3 ) -O) 8 -Si (CH 3 ) 3 0.5 Parts by weight ・ Polydimethylsiloxane (degree of polymerization: about 8,000) 0.5 part by weight ・ Olefin-chloroplatinic acid 0.08 part by weight ・ Inhibitor (CH≡C-Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 3 ) 0.3 parts by weight ・ γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 0.3 parts by weight ・ Isopar-E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) 140 parts by weight

【0134】上記のようにして得られたシリコーンゴム
層の表面に、厚さ8μmの二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムをラミネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得
た。得られた印刷版を、版面出力2Wに調節したYAG
レーザで露光した後、ラミネートされたフィルムを剥離
し、オーブン中で100℃、3分の条件で加熱した。加
熱済みの印刷版をトリプロピレングリコールの40℃の
液に1分間浸漬した後に、水中で現像パッドにより版面
を擦ったところ、露光部ではシリコーンゴムが残存し、
未露光部では感光層が露出したポジ型の湿し水不要平版
印刷版を得た。
An 8 μm-thick biaxially oriented polypropylene film was laminated on the surface of the silicone rubber layer obtained as described above to obtain a photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening water. The printing plate obtained was adjusted to a plate surface output of 2 W by YAG.
After exposing with a laser, the laminated film was peeled off and heated in an oven at 100 ° C. for 3 minutes. After the heated printing plate was immersed in a solution of tripropylene glycol at 40 ° C. for 1 minute, the plate surface was rubbed with a developing pad in water.
In the unexposed area, a positive type fountain solution-free lithographic printing plate was obtained in which the photosensitive layer was exposed.

【0135】実施例7 実施例4において感光液を下記に置き換えて塗布し、ポ
ジ型平版印刷版を作製した。 (感光液) ・赤外線吸収剤(化合物―2) 0.10g ・クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 (メタ:パラ比=6:4、重量平均分子量1800) 2.00g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン −スルホン酸にした染料 0.03g ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系界面活性剤) 0.06g ・メチルエチルケトン 20 g ・メチルアルコール 7 g
Example 7 A positive type lithographic printing plate was prepared by applying the photosensitive solution in Example 4 with the following changes. (Photosensitive solution) ・ Infrared absorber (compound-2) 0.10 g ・ Novolak resin obtained from cresol and formaldehyde (meta: para ratio = 6: 4, weight average molecular weight 1800) 2.00 g ・ Victoria pure blue BOH Dye with ions converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.03 g Megafac F-177 (a fluorinated surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.06 g Methyl ethyl ketone 20 g Methyl alcohol 7 g

【0136】得られた平版印刷用版材を、版面出力2W
に調節したYAGレーザで露光した後、富士写真フイル
ム(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス液FR
−3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処理し
た。明瞭なポジ画像が得られた。次いで富士写真フイル
ム(株)製ガムGU−7(1:1)で版面を処理し、ハ
イデルKOR−D機で印刷した。非画像部に汚れのない
良好な印刷物が得られた。
The obtained lithographic printing plate material was subjected to a plate output of 2 W
After exposure with a YAG laser adjusted to the following conditions, a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8), a rinsing solution FR
-3 (1: 7) through an automatic processor. A clear positive image was obtained. Subsequently, the plate surface was treated with gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and printing was performed with a Heidel KOR-D machine. A good printed matter with no stain on the non-image area was obtained.

【0137】実施例8 実施例1で得られた、表面処理と下塗りとを施したアル
ミニウム製の支持体に、下記溶液を塗布し、100℃で
1分間加熱乾燥してネガ型平版印刷用版材を得た。乾燥
後の被覆重量は1.5g/m2 であった。
Example 8 The following solution was applied to the surface-treated and undercoated aluminum support obtained in Example 1 and dried by heating at 100 ° C. for 1 minute to prepare a negative type lithographic printing plate. Wood was obtained. The coating weight after drying was 1.5 g / m 2 .

【0138】 (感光液) ・赤外線吸収剤(化合物26) 0.07 g ・酸発生剤(下記SH−1) 0.3 g ・2,4−ビスヒドロキシメチル−6−メチルフェノール 0.5 g ・マルカ リンカー M S−4P(丸善石油化学(株)製 のポリ(p−ヒドロキシスチレン) 1.5 g ・AIZEN SPILON BLUE C−RH(保土ヶ 谷化学(株)製) 0.035g ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製、 フッ素系界面活性剤) 0.01 g ・メチルエチルケトン 12 g ・メチルアルコール 10 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8 g(Photosensitive solution) ・ Infrared absorber (compound 26) 0.07 g ・ Acid generator (SH-1 below) 0.3 g ・ 2,4-bishydroxymethyl-6-methylphenol 0.5 g -Marka Linker MS S-4P (Poly (p-hydroxystyrene) 1.5 g from Maruzen Petrochemical Co., Ltd.)-AIZEN SPIRON BLUE C-RH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.035 g-Mega FAK F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) 0.01 g-methyl ethyl ketone 12 g-methyl alcohol 10 g-1-methoxy-2-propanol 8 g

【0139】[0139]

【化25】 Embedded image

【0140】実施例1と同様の条件で、レーザ露光、加
熱、および現像処理を行った後、印刷を行った。その結
果、実施例1と同様に非画像部に汚れのない、良好な印
刷物が6万枚得られた。
Under the same conditions as in Example 1, laser exposure, heating, and development were performed, and then printing was performed. As a result, as in the case of Example 1, 60,000 good printed matters without stains on the non-image area were obtained.

【0141】[0141]

【発明の効果】本発明では、特定の赤外線吸収材料を用
いることにより、コンピュータ等のデジタルデータから
直接製版可能であり、さらに保存時の安定性に優れ、か
つ印刷版塗布液の製造に当たって分散工程を要せず、容
易に製造でき、均一な被膜のレーザ直描型平版印刷版材
料が提供出来る。
According to the present invention, by using a specific infrared absorbing material, plate making can be performed directly from digital data of a computer or the like, and furthermore, the stability during storage is excellent, and a dispersion step is performed in the production of a printing plate coating solution. It is possible to provide a laser direct-writing type lithographic printing plate material which can be easily manufactured without uniformity and has a uniform coating.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ジヒドロペリミジンスクアリリウム化合
物若しくはその混合物を含むことを特徴とするレーザ直
描型平版印刷版材料。
1. A laser direct drawing type lithographic printing plate material comprising a dihydroperimidine squarylium compound or a mixture thereof.
【請求項2】 前記ジヒドロペリミジンスクアリリウム
化合物が、下記一般式(1)で表される化合物であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のレーザ直描型平版印刷
版材料。 一般式(1) 【化1】 式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R
8 、R9 、R10、R11およびR12は、それぞれ水素原
子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアシル基
を表し、R1 とR 2 、R3 とR4 、R5 とR6 、R7
8 、R9 とR10、R11とR12、R2 とR 3 、R6 とR
7 、および、R10とR11から選ばれる組み合わせのうち
1つ以上が、それぞれ互いに結合し5員環あるいは6員
環を形成してもよい。nは1〜6の整数を表す。X1
2 およびX3 は各々水素原子または1価の基を表し、
mは1〜3の整数を表す。
2. The dihydroperimidine squarylium
The compound is a compound represented by the following general formula (1).
The laser direct drawing type lithographic printing according to claim 1, characterized in that:
Plate material. General formula (1)Where R1, RTwo, RThree, RFour, RFive, R6, R7, R
8, R9, RTen, R11And R12Is the hydrogen source
, Alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, ara
Alkyl, alkenyl, alkynyl or acyl groups
And R1And R Two, RThreeAnd RFour, RFiveAnd R6, R7When
R8, R9And RTen, R11And R12, RTwoAnd R Three, R6And R
7, And RTenAnd R11Of the combinations selected from
One or more of which are bonded to each other to form a 5- or 6-membered ring
A ring may be formed. n represents an integer of 1 to 6. X1,
XTwoAnd XThreeRepresents a hydrogen atom or a monovalent group,
m represents an integer of 1 to 3.
【請求項3】 前記ジヒドロペリミジンスクアリリウム
化合物が、下記一般式(2)で表される化合物であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のレーザ直描型平版印刷
版材料。 一般式(2) 【化2】 式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 およ
びR8 は、それぞれ水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基またはアシル基を表し、R1 とR2 、R3
4 、R5 とR 6 、R7 とR8 、R2 とR3 、および、
6 とR7 から選ばれる組み合わせのうち1つ以上が、
それぞれ互いに結合し5員環あるいは6員環を形成して
もよい。X1 およびX2 は各々水素原子または1価の基
を表し、mは1〜3の整数を表す。
3. The dihydroperimidine squarylium
The compound is a compound represented by the following general formula (2).
The laser direct drawing type lithographic printing according to claim 1, characterized in that:
Plate material. General formula (2)Where R1, RTwo, RThree, RFour, RFive, R6, R7And
And R8Represents a hydrogen atom, an alkyl group,
Kill group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group,
A alkynyl group or an acyl group;1And RTwo, RThreeWhen
RFour, RFiveAnd R 6, R7And R8, RTwoAnd RThree,and,
R6And R7One or more of the combinations selected from
Bond to each other to form a 5- or 6-membered ring
Is also good. X1And XTwoEach represents a hydrogen atom or a monovalent group
And m represents an integer of 1 to 3.
【請求項4】 アルカリ可溶性バインダー、酸発生剤、
酸架橋性化合物を更に含むことを特徴とする請求項1〜
3の何れか1項に記載のレーザ直描型平版印刷版材料。
4. An alkali-soluble binder, an acid generator,
The composition according to claim 1, further comprising an acid crosslinking compound.
4. The lithographic printing plate material of laser direct-drawing type according to any one of 3.
【請求項5】 アルカリ可溶性バインダー、熱分解性で
ありかつ分解しない状態では前記アルカリ可溶性バイン
ダーの溶解性を実質的に低下させる物質を更に含むこと
を特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のレーザ
直描型平版印刷版材料。
5. The method according to claim 1, further comprising an alkali-soluble binder, a substance which is thermally decomposable and substantially degrades the solubility of the alkali-soluble binder when not decomposed. A lithographic printing plate material of laser direct-drawing type described in the paragraph.
JP27770897A 1997-07-24 1997-10-09 Laser direct lithography type planographic printing plate material Pending JPH1195421A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27770897A JPH1195421A (en) 1997-07-24 1997-10-09 Laser direct lithography type planographic printing plate material

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19862297 1997-07-24
JP9-198622 1997-07-24
JP27770897A JPH1195421A (en) 1997-07-24 1997-10-09 Laser direct lithography type planographic printing plate material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1195421A true JPH1195421A (en) 1999-04-09

Family

ID=26511083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27770897A Pending JPH1195421A (en) 1997-07-24 1997-10-09 Laser direct lithography type planographic printing plate material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1195421A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000171975A (en) * 1998-12-02 2000-06-23 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate
JP2001042519A (en) * 1999-05-24 2001-02-16 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate
JP2001051404A (en) * 1999-08-05 2001-02-23 Mitsubishi Chemicals Corp Plate making process for planographic printing plate
WO2007091683A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-16 Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. Bissquarylium compound
WO2009063824A1 (en) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation Method of drying coating film and process for producing lithographic printing plate precursor
EP2105690A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 Fujifilm Corporation Method and apparatus for drying
WO2010089943A1 (en) * 2009-02-04 2010-08-12 富士フイルム株式会社 Printing ink or toner containing dihydroperimidine squarylium compound, printed matter, method for detection of information, and method for ascertaining the genuineness of articles or substrates
JP2013071325A (en) * 2011-09-28 2013-04-22 Fuji Xerox Co Ltd Image inspection device and image forming apparatus
JP2016180058A (en) * 2015-03-24 2016-10-13 株式会社日本触媒 Method for storing or using composition comprising oxocarbon compound
WO2023021802A1 (en) * 2021-08-17 2023-02-23 富士フイルム株式会社 Compound or tautomer thereof, composition, layered product, optical film, image-forming material, and method for producing compound or tautomer thereof

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000171975A (en) * 1998-12-02 2000-06-23 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate
JP2001042519A (en) * 1999-05-24 2001-02-16 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate
JP2001051404A (en) * 1999-08-05 2001-02-23 Mitsubishi Chemicals Corp Plate making process for planographic printing plate
WO2007091683A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-16 Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. Bissquarylium compound
WO2009063824A1 (en) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation Method of drying coating film and process for producing lithographic printing plate precursor
EP2105690A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 Fujifilm Corporation Method and apparatus for drying
WO2010089943A1 (en) * 2009-02-04 2010-08-12 富士フイルム株式会社 Printing ink or toner containing dihydroperimidine squarylium compound, printed matter, method for detection of information, and method for ascertaining the genuineness of articles or substrates
JP2010180308A (en) * 2009-02-04 2010-08-19 Fujifilm Corp Printing ink and toner containing dihydroperimidine squarylium compound and method for detecting information using the same
JP2013071325A (en) * 2011-09-28 2013-04-22 Fuji Xerox Co Ltd Image inspection device and image forming apparatus
JP2016180058A (en) * 2015-03-24 2016-10-13 株式会社日本触媒 Method for storing or using composition comprising oxocarbon compound
WO2023021802A1 (en) * 2021-08-17 2023-02-23 富士フイルム株式会社 Compound or tautomer thereof, composition, layered product, optical film, image-forming material, and method for producing compound or tautomer thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5658708A (en) Image recording material
JP3810538B2 (en) Positive image forming material
JPH09211863A (en) Positive image forming composition
EP0750230B1 (en) Negative type photosensitive compositions
JPH06230574A (en) Positive type photosensitive composition
JP3130188B2 (en) Positive photosensitive lithographic printing plate
JPH06148889A (en) Positive type photosensitive composition
US6228559B1 (en) Negative working waterless lithographic printing plate precursor
JPH1195421A (en) Laser direct lithography type planographic printing plate material
EP0814381B1 (en) Positive image forming composition
JP3449818B2 (en) Image recording material
JP3802202B2 (en) Laser direct drawing lithographic printing plate material
JP3630257B2 (en) Photosensitive composition
JP3851398B2 (en) Positive photosensitive composition
JP3986624B2 (en) Radiation sensitive composition
JPH11216964A (en) Laser direct drawing type lithographic printing plate material
JP3601738B2 (en) Positive image forming composition
JP3627887B2 (en) Photosensitive composition
JP2002052855A (en) Laser direct drawing-type lithographic printing plate
JPH0862844A (en) Positive photosensitive composition
JPH117124A (en) Photosensitive composition containing anthracenesulfonate of n-hydroxyphthalimide compound
JPH117123A (en) Waterless photosensitive lithographic printing plate
JP3842363B2 (en) Negative type image recording material
JP3805051B2 (en) Master for lithographic printing plate
JPH09222731A (en) Negative type image recording material