JPH1027706A - 電磁石装置 - Google Patents
電磁石装置Info
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- JPH1027706A JPH1027706A JP8180794A JP18079496A JPH1027706A JP H1027706 A JPH1027706 A JP H1027706A JP 8180794 A JP8180794 A JP 8180794A JP 18079496 A JP18079496 A JP 18079496A JP H1027706 A JPH1027706 A JP H1027706A
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- magnetic
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- shim
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
- G01R33/3875—Compensation of inhomogeneities using correction coil assemblies, e.g. active shimming
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＭＲＩ用電磁石装置の磁界補正をより少量の
磁性体シムで実現する。 【解決手段】 同心状に巻回し主磁界を発生するコイル
群と、このコイル群の中央部近傍に設定する均一磁界領
域における主磁界の均一性を補正するための磁性体シム
を備え、磁性体シムの一部をそれによって生成する補正
磁界を多項式で表示したときの均一磁界領域における特
定高次成分がほヾゼロとなる位置に配設するとともに、
主磁界を多項式で表示したときの高次成分の一部がその
次数と一致する補正磁界の高次成分と逆極性の高次磁界
成分を有するようになすコイル群を備えた。
磁性体シムで実現する。 【解決手段】 同心状に巻回し主磁界を発生するコイル
群と、このコイル群の中央部近傍に設定する均一磁界領
域における主磁界の均一性を補正するための磁性体シム
を備え、磁性体シムの一部をそれによって生成する補正
磁界を多項式で表示したときの均一磁界領域における特
定高次成分がほヾゼロとなる位置に配設するとともに、
主磁界を多項式で表示したときの高次成分の一部がその
次数と一致する補正磁界の高次成分と逆極性の高次磁界
成分を有するようになすコイル群を備えた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば核磁気共鳴
断層撮影装置（以下、ＭＲＩと呼ぶ）などの一様磁界を
必要とする電磁石装置に関するものである。
断層撮影装置（以下、ＭＲＩと呼ぶ）などの一様磁界を
必要とする電磁石装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＭＲＩ用の電磁石装置では同心状に巻回
したコイル群を配置し、中央部に所要の均一度をもつ磁
界領域（以下、均一磁界領域と呼ぶ）を形成させてい
る。同心状に配置したコイル群が均一磁界領域内に作る
磁界のＺ軸成分Ｂczは次式のように表すことができる。 Ｂcz＝Ｂ0＋Ａ1Ｚ1＋Ａ2Ｚ2＋Ａ3Ｚ3＋Ａ4Ｚ4＋・・・ （１） ここでＢ0 は原点（０，０，０）での磁界を、ＡnＺnは
ｎ次の誤差磁界を表し、当該次数の誤差磁界はＺn に比
例することを示している。一般に、磁界の高い均一性を
求める電磁石装置においては、１式の第２項以下を各コ
イルで互いに打消し合い、誤差磁界が小さくなるように
コイル群を配置している。具体的には、各コイルを原点
に対して対称に配置することにより、１式における奇数
次項を打ち消している。また、次数が大きくなるに従っ
て誤差成分は小さくなるので、ＭＲＩ等に用いられる電
磁石装置では８次項程度までを打ち消す様に、コイル群
の位置および起磁力が決められる。コイル群の設計方法
については、■SUPER CONDUCTING MAGNET FOR MRI■,Jo
hn E.C. Williams,IEEE Transaction on Nuclear Scie
nce,Vol.NS-31,No.4,August 1984 等に詳しい。
したコイル群を配置し、中央部に所要の均一度をもつ磁
界領域（以下、均一磁界領域と呼ぶ）を形成させてい
る。同心状に配置したコイル群が均一磁界領域内に作る
磁界のＺ軸成分Ｂczは次式のように表すことができる。 Ｂcz＝Ｂ0＋Ａ1Ｚ1＋Ａ2Ｚ2＋Ａ3Ｚ3＋Ａ4Ｚ4＋・・・ （１） ここでＢ0 は原点（０，０，０）での磁界を、ＡnＺnは
ｎ次の誤差磁界を表し、当該次数の誤差磁界はＺn に比
例することを示している。一般に、磁界の高い均一性を
求める電磁石装置においては、１式の第２項以下を各コ
イルで互いに打消し合い、誤差磁界が小さくなるように
コイル群を配置している。具体的には、各コイルを原点
に対して対称に配置することにより、１式における奇数
次項を打ち消している。また、次数が大きくなるに従っ
て誤差成分は小さくなるので、ＭＲＩ等に用いられる電
磁石装置では８次項程度までを打ち消す様に、コイル群
の位置および起磁力が決められる。コイル群の設計方法
については、■SUPER CONDUCTING MAGNET FOR MRI■,Jo
hn E.C. Williams,IEEE Transaction on Nuclear Scie
nce,Vol.NS-31,No.4,August 1984 等に詳しい。
【０００３】しかし、電磁石装置には工作上の誤差や設
置場所周囲の磁界環境により誤差磁界が生じる。従っ
て、均一磁界領域内の磁界均一性を高めるためにこれら
の誤差磁界を打ち消すような磁界補正装置が必要であ
る。磁界補正装置として、磁界補正用シムコイルや磁性
体シムが用いられている。近年、低コストおよびメンテ
ナンスを容易にする等の点から磁性体シムを用いること
が多い。磁性体シムを磁界補正手段として用いることは
■“Magnet Field Profiling:Analysis and Correcting
Coil Design■,F.Romeo and D.I.Holt,MAGNETIC RESON
ANCE IN MEDICINE 1,44-65(1984)に詳しい。主磁界方向
（Ｚ軸方向）に沿って、断面積Ａを有する磁性体シムを
取付位半径ａ、取付角Φで配置したとき、均一磁界領域
内の任意の点Ｐ（ｒ，θ，φ）に作る磁界のＺ方向成分
は次式によって求めることができる。
置場所周囲の磁界環境により誤差磁界が生じる。従っ
て、均一磁界領域内の磁界均一性を高めるためにこれら
の誤差磁界を打ち消すような磁界補正装置が必要であ
る。磁界補正装置として、磁界補正用シムコイルや磁性
体シムが用いられている。近年、低コストおよびメンテ
ナンスを容易にする等の点から磁性体シムを用いること
が多い。磁性体シムを磁界補正手段として用いることは
■“Magnet Field Profiling:Analysis and Correcting
Coil Design■,F.Romeo and D.I.Holt,MAGNETIC RESON
ANCE IN MEDICINE 1,44-65(1984)に詳しい。主磁界方向
（Ｚ軸方向）に沿って、断面積Ａを有する磁性体シムを
取付位半径ａ、取付角Φで配置したとき、均一磁界領域
内の任意の点Ｐ（ｒ，θ，φ）に作る磁界のＺ方向成分
は次式によって求めることができる。
【０００４】
【数１】
【０００５】磁性体シムが作る磁界成分は無数の次数成
分からなるが、一般にａ＞ｒであるから、ｎの大きい磁
界成分、すなわち次数の大きい項は（ｒ／ａ）n が小さ
くなり、その磁界成分は無視することができる。２式は
極座標表示であるが、通常用いられる直交座標系との対
応は表１の通りである。
分からなるが、一般にａ＞ｒであるから、ｎの大きい磁
界成分、すなわち次数の大きい項は（ｒ／ａ）n が小さ
くなり、その磁界成分は無視することができる。２式は
極座標表示であるが、通常用いられる直交座標系との対
応は表１の通りである。
【０００６】
【表１】
【０００７】表１に示すｍ＝０の場合が１式のＺ項に対
応する。２式において、
応する。２式において、
【０００８】
【数２】
【０００９】とする。角度αにおける磁性体のＺ軸方向
の位置を取付位置の半径ａで規格化してβとおけば、角
度αは、α＝ｔａｎ-1（１／β）となり、３式より
の位置を取付位置の半径ａで規格化してβとおけば、角
度αは、α＝ｔａｎ-1（１／β）となり、３式より
【００１０】
【数３】
【００１１】を得る。４式から、均一磁界領域での磁性
体シムの取付位置と当該磁界成分の関係が求められる。
図１に示したように、コイル収納容器の長さ２Ｌとする
と、磁性体シムの取付位置は、β＜Ｌ／ａという制約を
受ける。
体シムの取付位置と当該磁界成分の関係が求められる。
図１に示したように、コイル収納容器の長さ２Ｌとする
と、磁性体シムの取付位置は、β＜Ｌ／ａという制約を
受ける。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ある
磁気特性をもつ磁性体シムは、その取付位置と断面積に
よって発生する磁界成分が決まる。磁界の均一度補正装
置として磁性体シムを用いる場合、一般に入手が容易で
かつ安価な鉄が用いられる。また、例えばＭＲＩ用の電
磁石装置では、小型で短尺、かつ大きな均一磁界領域を
要求されるため、磁性体シムの取付位置には多くの制約
を受け、磁性体シムにより発生しうる磁界成分は大き
さ、極性ともに制限が生じる。このため、磁界の均一度
補正に必要な磁界を得るための磁性体シムの必要量が増
加することになり、条件によっては所望の磁界補正が不
可能になる等の問題があった。本発明は、より少量の磁
性体シムで磁界補正を実現することを目的とする。
磁気特性をもつ磁性体シムは、その取付位置と断面積に
よって発生する磁界成分が決まる。磁界の均一度補正装
置として磁性体シムを用いる場合、一般に入手が容易で
かつ安価な鉄が用いられる。また、例えばＭＲＩ用の電
磁石装置では、小型で短尺、かつ大きな均一磁界領域を
要求されるため、磁性体シムの取付位置には多くの制約
を受け、磁性体シムにより発生しうる磁界成分は大き
さ、極性ともに制限が生じる。このため、磁界の均一度
補正に必要な磁界を得るための磁性体シムの必要量が増
加することになり、条件によっては所望の磁界補正が不
可能になる等の問題があった。本発明は、より少量の磁
性体シムで磁界補正を実現することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明による電磁石装置
においては、同心状に巻回し主磁界を発生するコイル群
と、このコイル群の中央部近傍に設定する均一磁界領域
における主磁界の均一性を補正するための磁性体シムを
備え、磁性体シムの一部をそれによって生成する補正磁
界を多項式で表示したときの均一磁界領域における特定
高次成分がほヾゼロとなる位置に配設するとともに、主
磁界を多項式で表示したときの高次成分の一部がその次
数と一致する補正磁界の高次成分と逆極性の高次磁界成
分を有するようになすコイル群を備えた。また、補正磁
界の特定高次成分が４次成分、６次成分あるいは８次成
分であるとき、補正磁界の一部の高次成分とは逆極性の
高次磁界成分をそれぞれ２次成分および８次成分、２次
成分および８次成分、２次成分および６次成分とした。
においては、同心状に巻回し主磁界を発生するコイル群
と、このコイル群の中央部近傍に設定する均一磁界領域
における主磁界の均一性を補正するための磁性体シムを
備え、磁性体シムの一部をそれによって生成する補正磁
界を多項式で表示したときの均一磁界領域における特定
高次成分がほヾゼロとなる位置に配設するとともに、主
磁界を多項式で表示したときの高次成分の一部がその次
数と一致する補正磁界の高次成分と逆極性の高次磁界成
分を有するようになすコイル群を備えた。また、補正磁
界の特定高次成分が４次成分、６次成分あるいは８次成
分であるとき、補正磁界の一部の高次成分とは逆極性の
高次磁界成分をそれぞれ２次成分および８次成分、２次
成分および８次成分、２次成分および６次成分とした。
【００１４】
実施形態１．以下、図を用いてこの発明による電磁石装
置の実施形態を説明する。第１図はこの発明による電磁
石装置を示す断面図であり、１はコイル群、２は均一磁
界領域、３は磁性体シム、４はコイル群を収納する容器
である。図２および図３は磁性体シムの配置を模式的に
示したものである。ＭＲＩ用電磁石装置は、開口径が１
０００ｍｍ前後、長さが２０００ｍｍ前後であり、磁性
体シムには長さが１０〜２００ｍｍ程度の鉄片を用いて
いる。実際には、同一形状の鉄片を多数組合せて、鉄片
の組合せ個数と取付位置を適当に選び必要な磁場を得て
いる。
置の実施形態を説明する。第１図はこの発明による電磁
石装置を示す断面図であり、１はコイル群、２は均一磁
界領域、３は磁性体シム、４はコイル群を収納する容器
である。図２および図３は磁性体シムの配置を模式的に
示したものである。ＭＲＩ用電磁石装置は、開口径が１
０００ｍｍ前後、長さが２０００ｍｍ前後であり、磁性
体シムには長さが１０〜２００ｍｍ程度の鉄片を用いて
いる。実際には、同一形状の鉄片を多数組合せて、鉄片
の組合せ個数と取付位置を適当に選び必要な磁場を得て
いる。
【００１５】磁性体シムによる磁界は、２式によって説
明したように関数ｆ(β)の差により決まる。図４は上述
の４式に示した関数ｆ(β)を２次、４次、６次および８
次について求めたグラフに、磁性体シムの長さを０．２
ａとしたとき、２次、４次、６次および８次のそれぞれ
について関数ｆ(β)の差が０となるβの２点を書込んだ
ものである。以下、関数ｆ(β)のｎ次成分をｆn(β) と
記す。図４から、磁性体シムをβ41からβ42の範囲に取
付ければ、ｆ4(β) の差がゼロとなり、磁性体シムによ
る４次の磁界がゼロとなることがわかる。便宜上、上記
β41からβ42の範囲に取付ける磁性体シムを磁性体シム
４と呼ぶ。このとき他の次数の磁界は、２次すなわちｆ
2(β) の差は同極性、６次すなわちｆ6(β) の差は逆極
性、８次すなわちｆ8(β) の差は同極性である。
明したように関数ｆ(β)の差により決まる。図４は上述
の４式に示した関数ｆ(β)を２次、４次、６次および８
次について求めたグラフに、磁性体シムの長さを０．２
ａとしたとき、２次、４次、６次および８次のそれぞれ
について関数ｆ(β)の差が０となるβの２点を書込んだ
ものである。以下、関数ｆ(β)のｎ次成分をｆn(β) と
記す。図４から、磁性体シムをβ41からβ42の範囲に取
付ければ、ｆ4(β) の差がゼロとなり、磁性体シムによ
る４次の磁界がゼロとなることがわかる。便宜上、上記
β41からβ42の範囲に取付ける磁性体シムを磁性体シム
４と呼ぶ。このとき他の次数の磁界は、２次すなわちｆ
2(β) の差は同極性、６次すなわちｆ6(β) の差は逆極
性、８次すなわちｆ8(β) の差は同極性である。
【００１６】ｆ4(β) の差がゼロとなる位置は上記β41
からβ42の範囲のみではなく、β43からβ44の範囲があ
り、このときｆ2(β) の差は逆極性、ｆ6(β) の差は同
極性、ｆ8(β) の差は逆極性となるが、この場合はβ41
からβ42の範囲に取付けた場合に比べて他の次数の磁界
は小さくなり補正効果が減少するのでβ41からβ42の範
囲に取付けるのがもっとも効果的である。
からβ42の範囲のみではなく、β43からβ44の範囲があ
り、このときｆ2(β) の差は逆極性、ｆ6(β) の差は同
極性、ｆ8(β) の差は逆極性となるが、この場合はβ41
からβ42の範囲に取付けた場合に比べて他の次数の磁界
は小さくなり補正効果が減少するのでβ41からβ42の範
囲に取付けるのがもっとも効果的である。
【００１７】磁性体シム４による２次、６次および８次
の成分とは極性が逆の誤差磁場成分をコイル群によって
生成するようにしておくことにより、磁界補正に用いる
磁性体シムの量を少なくすることができる。
の成分とは極性が逆の誤差磁場成分をコイル群によって
生成するようにしておくことにより、磁界補正に用いる
磁性体シムの量を少なくすることができる。
【００１８】誤差磁界の補正は電磁石装置における開口
内部の数箇所に取り付けた磁性体シム群により行われる
のが一般的である。磁性体シム４による４次の磁界はゼ
ロとなるので、４次の磁界は他の位置に取付ける磁性体
シム群により補正する必要がある。これらの磁性体シム
群は４次以外の磁界を発生するので、それらを打ち消す
必要がある。磁性体シム４による４次以外の磁場も含め
て、磁性体の量を決めればよい。
内部の数箇所に取り付けた磁性体シム群により行われる
のが一般的である。磁性体シム４による４次の磁界はゼ
ロとなるので、４次の磁界は他の位置に取付ける磁性体
シム群により補正する必要がある。これらの磁性体シム
群は４次以外の磁界を発生するので、それらを打ち消す
必要がある。磁性体シム４による４次以外の磁場も含め
て、磁性体の量を決めればよい。
【００１９】同様の観点から、β61からβ62の範囲に磁
性体シム（この磁性体シムを磁性体シム６と呼ぶ）を取
付ければ、ｆ6(β) の差がゼロとなり、６次の磁界がゼ
ロとなる。このとき他の次数の磁界は、２次については
逆極性、４次については同極性、８次については逆極性
である。磁性体シム６による２次、４次および８次の成
分とは極性が逆の誤差磁場成分をコイル群によって生成
するようにしておくことにより、磁界補正に用いる磁性
体シムの量を少なくすることが可能である。β63からβ
64の範囲に磁性体シムを取付ければｆ6(β) の差がゼロ
となるのはｆ6(β) と同様であり、このとき２次につい
ては逆極性、４次については同極性、８次については逆
極性である。
性体シム（この磁性体シムを磁性体シム６と呼ぶ）を取
付ければ、ｆ6(β) の差がゼロとなり、６次の磁界がゼ
ロとなる。このとき他の次数の磁界は、２次については
逆極性、４次については同極性、８次については逆極性
である。磁性体シム６による２次、４次および８次の成
分とは極性が逆の誤差磁場成分をコイル群によって生成
するようにしておくことにより、磁界補正に用いる磁性
体シムの量を少なくすることが可能である。β63からβ
64の範囲に磁性体シムを取付ければｆ6(β) の差がゼロ
となるのはｆ6(β) と同様であり、このとき２次につい
ては逆極性、４次については同極性、８次については逆
極性である。
【００２０】さらに、β81からβ82の範囲に磁性体シム
（この磁性体シムを磁性体シム８と呼ぶ）を取付けれ
ば、ｆ8(β) の差がゼロとなり、８次の磁界がゼロとな
る。このとき他の次数の磁界は、２次については同極
性、４次については逆極性、６次については同極性であ
る。磁性体シム８による２次、４次および６次の成分と
は極性が逆の誤差磁場成分をあらかじめコイル群によっ
て生成するようにしておくことにより、磁界補正に用い
る磁性体シムの量を少なくすることが可能である。β83
からβ84の範囲に磁性体シムを取付ければｆ8(β) の差
がゼロとなるのもｆ4(β) と同様であり、このとき２次
については逆極性、４次については同極性、６次につい
ては逆極性である。
（この磁性体シムを磁性体シム８と呼ぶ）を取付けれ
ば、ｆ8(β) の差がゼロとなり、８次の磁界がゼロとな
る。このとき他の次数の磁界は、２次については同極
性、４次については逆極性、６次については同極性であ
る。磁性体シム８による２次、４次および６次の成分と
は極性が逆の誤差磁場成分をあらかじめコイル群によっ
て生成するようにしておくことにより、磁界補正に用い
る磁性体シムの量を少なくすることが可能である。β83
からβ84の範囲に磁性体シムを取付ければｆ8(β) の差
がゼロとなるのもｆ4(β) と同様であり、このとき２次
については逆極性、４次については同極性、６次につい
ては逆極性である。
【００２１】磁性体シム４、６および８を単独で用いる
ものとして説明したが、磁性体シム４、６および８を組
合せて用いることも可能である。もちろん、磁性体シム
の長さを０．２ａに限定する必要はなく、任意の長さの
磁性体シムを用いた場合もこの発明の範囲を逸脱するも
のではない。
ものとして説明したが、磁性体シム４、６および８を組
合せて用いることも可能である。もちろん、磁性体シム
の長さを０．２ａに限定する必要はなく、任意の長さの
磁性体シムを用いた場合もこの発明の範囲を逸脱するも
のではない。
【００２２】
【発明の効果】本発明による電磁石装置においては、同
心状に巻回し主磁界を発生するコイル群と、このコイル
群の中央部近傍に設定する均一磁界領域における主磁界
の均一性を補正するための磁性体シムを備え、磁性体シ
ムの一部をそれによって生成する補正磁界を多項式で表
示したときの均一磁界領域における特定高次成分がほヾ
ゼロとなる位置に配設するとともに、主磁界を多項式で
表示したときの高次成分の一部がその次数と一致する補
正磁界の高次成分と逆極性の高次磁界成分を有するよう
になすコイル群を備え、あるいは、補正磁界の特定高次
成分が４次成分、６次成分あるいは８次成分であると
き、補正磁界の一部の高次成分とは逆極性の高次磁界成
分をそれぞれ２次成分および８次成分、２次成分および
８次成分、２次成分および６次成分としたので、磁界補
正に用いる磁性体シムの量を少なくすることができる。
心状に巻回し主磁界を発生するコイル群と、このコイル
群の中央部近傍に設定する均一磁界領域における主磁界
の均一性を補正するための磁性体シムを備え、磁性体シ
ムの一部をそれによって生成する補正磁界を多項式で表
示したときの均一磁界領域における特定高次成分がほヾ
ゼロとなる位置に配設するとともに、主磁界を多項式で
表示したときの高次成分の一部がその次数と一致する補
正磁界の高次成分と逆極性の高次磁界成分を有するよう
になすコイル群を備え、あるいは、補正磁界の特定高次
成分が４次成分、６次成分あるいは８次成分であると
き、補正磁界の一部の高次成分とは逆極性の高次磁界成
分をそれぞれ２次成分および８次成分、２次成分および
８次成分、２次成分および６次成分としたので、磁界補
正に用いる磁性体シムの量を少なくすることができる。
【図１】 本発明による電磁石装置を示す断面図であ
る。
る。
【図２】 本発明による電磁石装置の磁性体シムの配置
を説明するための模式図である。
を説明するための模式図である。
【図３】 本発明による電磁石装置の磁性体シムの配置
を説明するための模式図である。
を説明するための模式図である。
【図４】 本発明による電磁石装置の磁性体シムの取付
位置を決定するための関数ｆ(β)における２次、４次、
６次および８次のグラフである。
位置を決定するための関数ｆ(β)における２次、４次、
６次および８次のグラフである。
１ コイル群 ２ 均一磁界領域 ３ 磁性体シム
４ 容器
４ 容器
Claims (4)
- 【請求項１】 同心状に巻回し主磁界を発生するコイル
群と、このコイル群の中央部近傍に設定する均一磁界領
域における前記主磁界の均一性を補正するための磁性体
シムを備える電磁石装置において、 前記磁性体シムの一部をそれによって生成する補正磁界
を多項式で表示したときの前記均一磁界領域における特
定高次成分がほヾゼロとなる位置に配設するとともに、
前記主磁界を多項式で表示したときの高次成分の一部が
その次数と一致する前記補正磁界の高次成分と逆極性の
高次磁界成分を有するようになす前記コイル群を備えた
ことを特徴とする電磁石装置。 - 【請求項２】 前記補正磁界の特定高次成分が４次成分
であって、前記補正磁界の一部の高次成分とは逆極性の
高次磁界成分が２次成分および８次成分であることを特
徴とする請求項１に記載の電磁石装置。 - 【請求項３】 前記補正磁界の特定高次成分が６次成分
であって、前記補正磁界の一部の高次成分とは逆極性の
高次磁界成分が２次成分および８次成分であることを特
徴とする請求項１に記載の電磁石装置。 - 【請求項４】 前記補正磁界の特定高次成分が８次成分
であって、前記補正磁界の一部の高次成分とは逆極性の
高次磁界成分が２次成分および６次成分であることを特
徴とする請求項１に記載の電磁石装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18079496A JP3618910B2 (ja) | 1996-07-10 | 1996-07-10 | 電磁石装置の磁界補正方法 |
| US08/756,820 US5677660A (en) | 1996-07-10 | 1996-11-26 | Electromagnetic device |
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