JPH10265974A - チタン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング液及びチタン又はチタン合金へのめっき前処理方法 - Google Patents
チタン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング液及びチタン又はチタン合金へのめっき前処理方法Info
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- JPH10265974A JPH10265974A JP9071528A JP7152897A JPH10265974A JP H10265974 A JPH10265974 A JP H10265974A JP 9071528 A JP9071528 A JP 9071528A JP 7152897 A JP7152897 A JP 7152897A JP H10265974 A JPH10265974 A JP H10265974A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 短時間で簡単にチタン又はチタン合金からな
る基材表面を前処理して、白金めっきを施した際、均
一、緻密で密着性の優れためっき被膜を得ることができ
るようにした前処理液及び前処理方法の提供。 【解決手段】 基材表面の酸化物層を除去した後、硫酸
とヨウ素源としてのＨＩ及び／又はＩ2 を含むめっき前
処理用エッチング液により、基材の表面を細かく均一に
エッチングする。前記ヨウ素源としてさらにＫＩ又はＮ
ａＩを含むことができる。
る基材表面を前処理して、白金めっきを施した際、均
一、緻密で密着性の優れためっき被膜を得ることができ
るようにした前処理液及び前処理方法の提供。 【解決手段】 基材表面の酸化物層を除去した後、硫酸
とヨウ素源としてのＨＩ及び／又はＩ2 を含むめっき前
処理用エッチング液により、基材の表面を細かく均一に
エッチングする。前記ヨウ素源としてさらにＫＩ又はＮ
ａＩを含むことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、めっき用電極、アルカ
リイオン水用電極などに用いられる白金／チタン電極や
イリジウム／チタン電極などを製作するとき行われる、
チタン又はチタン合金へのめっきの前処理に使用するエ
ッチング液及び該エッチング液を用いたチタン又はチタ
ン合金へのめっき前処理方法に関する。
リイオン水用電極などに用いられる白金／チタン電極や
イリジウム／チタン電極などを製作するとき行われる、
チタン又はチタン合金へのめっきの前処理に使用するエ
ッチング液及び該エッチング液を用いたチタン又はチタ
ン合金へのめっき前処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、チタンやチタン合金素地にめっき
を施す場合には、素地とめっき被覆との密着性を高める
ため、Ａｌ2 Ｏ3 粉末等のエメリー粒子を用いたサンド
ブラスト法により処理し、素地を梨地状に粗面化する方
法や、50〜60％硫酸を用いて110 〜130 ℃で１〜３分化
学エッチングする処理、又はシュウ酸と硝酸の混合液を
用い90〜110 ℃で90〜120 分化学エッチングする処理に
よって素地を粗面化する方法が取られていた。
を施す場合には、素地とめっき被覆との密着性を高める
ため、Ａｌ2 Ｏ3 粉末等のエメリー粒子を用いたサンド
ブラスト法により処理し、素地を梨地状に粗面化する方
法や、50〜60％硫酸を用いて110 〜130 ℃で１〜３分化
学エッチングする処理、又はシュウ酸と硝酸の混合液を
用い90〜110 ℃で90〜120 分化学エッチングする処理に
よって素地を粗面化する方法が取られていた。
【０００３】ところで、エメリー粒子を用いたサンドブ
ラスト法では、得られる素地の凹凸が用いるエメリー粒
子の径によって決まるが、一般的には５μｍもしくはそ
れ以上の凹凸となり素地が荒れすぎてしまうため、特に
めっき厚が薄い場合、均一に電着しないという問題があ
る。めっきの特徴として素地のシャープな突起から析出
する特徴があり、表面の凹凸が大きすぎると窪みの底ま
でめっきがまわりきれず、めっきの付かない部分ができ
てくるもので、これは特に薄めっきの場合顕著である。
またサンドブラスト法ではエメリー粒子が素地にくい込
んで素地上に残り、その部分はめっきが着かないという
問題もある。硫酸やシュウ酸・硝酸混合液による化学エ
ッチング方法は、高温の酸で長時間処理しなければなら
ない為処理が大変であり、また液の劣化が早く頻繁に液
の交換をしなければならないという問題がある。
ラスト法では、得られる素地の凹凸が用いるエメリー粒
子の径によって決まるが、一般的には５μｍもしくはそ
れ以上の凹凸となり素地が荒れすぎてしまうため、特に
めっき厚が薄い場合、均一に電着しないという問題があ
る。めっきの特徴として素地のシャープな突起から析出
する特徴があり、表面の凹凸が大きすぎると窪みの底ま
でめっきがまわりきれず、めっきの付かない部分ができ
てくるもので、これは特に薄めっきの場合顕著である。
またサンドブラスト法ではエメリー粒子が素地にくい込
んで素地上に残り、その部分はめっきが着かないという
問題もある。硫酸やシュウ酸・硝酸混合液による化学エ
ッチング方法は、高温の酸で長時間処理しなければなら
ない為処理が大変であり、また液の劣化が早く頻繁に液
の交換をしなければならないという問題がある。
【０００４】さらにチタン又はチタン合金のめっき用前
処理としてフッ化物単体による処理が用いられることも
あるが、この方法では素地を溶解するだけであまり粗面
とならず、密着性はあまり向上しない。
処理としてフッ化物単体による処理が用いられることも
あるが、この方法では素地を溶解するだけであまり粗面
とならず、密着性はあまり向上しない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、低い
温度で短時間に簡単にチタン又はチタン合金の表面を均
一にエッチングでき、めっきをした際、均一で密着性の
優れためっき被覆が得られるような、めっき前処理用エ
ッチング液及びめっき前処理方法を提供することを課題
とするものである。
温度で短時間に簡単にチタン又はチタン合金の表面を均
一にエッチングでき、めっきをした際、均一で密着性の
優れためっき被覆が得られるような、めっき前処理用エ
ッチング液及びめっき前処理方法を提供することを課題
とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明のチタン又はチタン合金へのめっき前処理用エ
ッチング液は、硫酸とヨウ素源としてのＨＩ及び／又は
Ｉ2 を含むことを特徴とする。
の本発明のチタン又はチタン合金へのめっき前処理用エ
ッチング液は、硫酸とヨウ素源としてのＨＩ及び／又は
Ｉ2 を含むことを特徴とする。
【０００７】本発明のチタン又はチタン合金へのめっき
前処理用エッチング液は、前記ヨウ素源としてさらにＫ
Ｉ又はＮａＩを含むことができる。このエッチング液の
主成分であるヨウ素のヨウ素源としては、ＨＩ及び／又
はＩ2 よりなるものであるが、Ｉ2 単独では溶解度が低
いため効果に限りがあり、さらに強い効果を望む場合に
は、ＫＩ又はＮａＩをさらに添加し、ＫＩ3 又はＮａＩ
3 とするのが好ましい。
前処理用エッチング液は、前記ヨウ素源としてさらにＫ
Ｉ又はＮａＩを含むことができる。このエッチング液の
主成分であるヨウ素のヨウ素源としては、ＨＩ及び／又
はＩ2 よりなるものであるが、Ｉ2 単独では溶解度が低
いため効果に限りがあり、さらに強い効果を望む場合に
は、ＫＩ又はＮａＩをさらに添加し、ＫＩ3 又はＮａＩ
3 とするのが好ましい。
【０００８】また、上記課題を解決するための本発明の
チタン又はチタン合金へのめっき前処理方法は、チタン
又はチタン合金素地表面の酸化物層を除去した後、前記
のめっき前処理用エッチング液を用いて、チタン又はチ
タン合金の表面を均一にエッチングして粗面化すること
を特徴とするものである。
チタン又はチタン合金へのめっき前処理方法は、チタン
又はチタン合金素地表面の酸化物層を除去した後、前記
のめっき前処理用エッチング液を用いて、チタン又はチ
タン合金の表面を均一にエッチングして粗面化すること
を特徴とするものである。
【０００９】本発明のチタン又はチタン合金へのめっき
前処理用エッチング液にて処理すると、チタン又はチタ
ン合金の表面は、均一な粗面となる。そしてこの表面へ
めっきを行うと、めっきはまず凸部及び凹部表面の細か
な突起部へ析出し、めっきの成長とともにめっき同士が
つながり、均一なめっき外観が得られる。本発明のチタ
ン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング液によ
り得られる素地表面の凹凸は、おおむね 0.5μｍ乃至５
μｍの凹凸であり、めっきの析出する素地として非常に
好ましいものである。特に１μｍ以上の厚いめっき皮膜
を形成する場合に有効な粗面度となる。
前処理用エッチング液にて処理すると、チタン又はチタ
ン合金の表面は、均一な粗面となる。そしてこの表面へ
めっきを行うと、めっきはまず凸部及び凹部表面の細か
な突起部へ析出し、めっきの成長とともにめっき同士が
つながり、均一なめっき外観が得られる。本発明のチタ
ン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング液によ
り得られる素地表面の凹凸は、おおむね 0.5μｍ乃至５
μｍの凹凸であり、めっきの析出する素地として非常に
好ましいものである。特に１μｍ以上の厚いめっき皮膜
を形成する場合に有効な粗面度となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明において、ヨウ素の遊離ヨ
ウ素濃度は0.05g/l 以上20g/l 以下であることが好まし
い。なお、ここでいう遊離ヨウ素とはヨウ素滴定におい
てチオ硫酸ナトリウムと反応するヨウ素のことである。
ヨウ素の濃度としては、遊離のヨウ素量がエッチング量
を左右し、遊離ヨウ素濃度を0.05g/l 以上20g/l 以下に
限定したのは、20g/l を超えるとエッチング速度が速く
なって細かな凹凸の制御が難しくなって好ましくなく、
また0.05g/l 未満では、エッチングが進まず、作業に時
間がかかって好ましくないからである。
ウ素濃度は0.05g/l 以上20g/l 以下であることが好まし
い。なお、ここでいう遊離ヨウ素とはヨウ素滴定におい
てチオ硫酸ナトリウムと反応するヨウ素のことである。
ヨウ素の濃度としては、遊離のヨウ素量がエッチング量
を左右し、遊離ヨウ素濃度を0.05g/l 以上20g/l 以下に
限定したのは、20g/l を超えるとエッチング速度が速く
なって細かな凹凸の制御が難しくなって好ましくなく、
また0.05g/l 未満では、エッチングが進まず、作業に時
間がかかって好ましくないからである。
【００１１】また硫酸濃度は10重量％以上75重量％以下
であることが好ましく、より好ましくは30〜50重量％で
ある。硫酸濃度が75重量％を超えるとエッチング速度が
速くなりすぎて細かな凹凸の制御が難しくなって好まし
くなく、また10重量％未満では、エッチングが進まず、
作業に時間がかかって好ましくないからである。
であることが好ましく、より好ましくは30〜50重量％で
ある。硫酸濃度が75重量％を超えるとエッチング速度が
速くなりすぎて細かな凹凸の制御が難しくなって好まし
くなく、また10重量％未満では、エッチングが進まず、
作業に時間がかかって好ましくないからである。
【００１２】本発明のチタン又はチタン合金へのめっき
前処理方法において、エッチング前に酸化物層除去を行
ってもよい。この場合、チタン及びチタン合金表面に生
成している酸化物層を実質的に除去できれば良く、公知
の方法、例えば硝酸、２乃至10重量％程度のフッ化物溶
液又は２乃至10容量％程度の硝酸と３乃至10重量％程度
のフッ化物とを含む混合液への浸漬処理すればよい。
前処理方法において、エッチング前に酸化物層除去を行
ってもよい。この場合、チタン及びチタン合金表面に生
成している酸化物層を実質的に除去できれば良く、公知
の方法、例えば硝酸、２乃至10重量％程度のフッ化物溶
液又は２乃至10容量％程度の硝酸と３乃至10重量％程度
のフッ化物とを含む混合液への浸漬処理すればよい。
【００１３】エッチング液による処理温度は40℃以上95
℃以下が好ましく、40℃未満ではエッチング速度が遅す
ぎて処理に時間がかかりすぎ、また95℃を超えると、エ
ッチング速度が速すぎエッチング液の劣化が早くなるた
め好ましくない。特に１μｍ以上といった厚いめっきを
行う場合など、エッチングの凹凸を深めにする意味から
は75℃以上が好ましく、めっき作業性を良くする意味か
らは85℃以下が特に望ましい。
℃以下が好ましく、40℃未満ではエッチング速度が遅す
ぎて処理に時間がかかりすぎ、また95℃を超えると、エ
ッチング速度が速すぎエッチング液の劣化が早くなるた
め好ましくない。特に１μｍ以上といった厚いめっきを
行う場合など、エッチングの凹凸を深めにする意味から
は75℃以上が好ましく、めっき作業性を良くする意味か
らは85℃以下が特に望ましい。
【００１４】さらにチタン及びチタン合金を前記エッチ
ング液にて均一にエッチングした後、表面に活性化処理
を施すことにより、密着性がさらに向上するものであ
る。このときの活性化処理方法としては従来より公知の
ものなら何でもよいが、例えば0.05重量％以上 0.5重量
％以下のＮＨ4 ＨＦ2 水溶液への浸漬処理などが好適で
ある。ＮＨ4 ＨＦ2 水溶液の場合、 0.5重量％を超える
と素地の溶解速度が大きくなり、前工程で作製した素地
表面の細かな凹凸が消滅してしまい好ましくなく、0.05
重量％未満になると浴寿命が短くなりこれも好ましくな
い。
ング液にて均一にエッチングした後、表面に活性化処理
を施すことにより、密着性がさらに向上するものであ
る。このときの活性化処理方法としては従来より公知の
ものなら何でもよいが、例えば0.05重量％以上 0.5重量
％以下のＮＨ4 ＨＦ2 水溶液への浸漬処理などが好適で
ある。ＮＨ4 ＨＦ2 水溶液の場合、 0.5重量％を超える
と素地の溶解速度が大きくなり、前工程で作製した素地
表面の細かな凹凸が消滅してしまい好ましくなく、0.05
重量％未満になると浴寿命が短くなりこれも好ましくな
い。
【００１５】
【実施例】本発明のチタン又はチタン合金へのめっき前
処理用エッチング液と該エッチング液を用いためっき前
処理方法の実施例と従来例について、白金めっきを行う
場合を例にとって説明する。
処理用エッチング液と該エッチング液を用いためっき前
処理方法の実施例と従来例について、白金めっきを行う
場合を例にとって説明する。
【００１６】
【実施例１】チタン板（厚さ１mm、縦 100mm、横 150m
m）を60℃で１分間アルカリ脱脂し、水洗した後、ＮＨ
4 ＨＦ2 （50g/l ）、室温にて５分間化学研摩して表面
の酸化物層を除去し、次いで水洗後、本発明のめっき前
処理用エッチング液の一例である40％Ｈ2 ＳＯ4 ＋ＫＩ
（1.5g/l）［遊離ヨウ素濃度4.9g/lとなる］にて75℃で
15分間エッチングし、水洗した。
m）を60℃で１分間アルカリ脱脂し、水洗した後、ＮＨ
4 ＨＦ2 （50g/l ）、室温にて５分間化学研摩して表面
の酸化物層を除去し、次いで水洗後、本発明のめっき前
処理用エッチング液の一例である40％Ｈ2 ＳＯ4 ＋ＫＩ
（1.5g/l）［遊離ヨウ素濃度4.9g/lとなる］にて75℃で
15分間エッチングし、水洗した。
【００１７】
【実施例２】エッチングを85℃５分間で行った他は、実
施例１と同様にしてめっき前処理を行った。
施例１と同様にしてめっき前処理を行った。
【００１８】
【実施例３】エッチング液として、40％Ｈ2 ＳＯ4 ＋Ｋ
Ｉ（2.5g/l）を用いた他は、実施例１と同様にしてめっ
き前処理を行った。
Ｉ（2.5g/l）を用いた他は、実施例１と同様にしてめっ
き前処理を行った。
【００１９】
【実施例４】エッチング液として、15％Ｈ2 ＳＯ4 ＋Ｋ
Ｉ（20g/l ）を用いた他は、実施例１と同様にしてめっ
き前処理を行った。
Ｉ（20g/l ）を用いた他は、実施例１と同様にしてめっ
き前処理を行った。
【００２０】
【実施例５】エッチング液として、60％Ｈ2 ＳＯ4 ＋Ｎ
ａＩ（1.5g/l）を用い、エッチングを40℃30分間で行っ
た他は、実施例１と同様にしてめっき前処理を行った。
ａＩ（1.5g/l）を用い、エッチングを40℃30分間で行っ
た他は、実施例１と同様にしてめっき前処理を行った。
【００２１】
【実施例６】エッチング液として、20％Ｈ2 ＳＯ4 ＋Ｎ
ａＩ（1.5g/l）＋Ｉ2 （0.5g/l）を用い、エッチングを
85℃10分間で行った他は、実施例１と同様にしてめっき
前処理を行った。
ａＩ（1.5g/l）＋Ｉ2 （0.5g/l）を用い、エッチングを
85℃10分間で行った他は、実施例１と同様にしてめっき
前処理を行った。
【００２２】
【従来例１】エッチング液として、75％Ｈ2 ＳＯ4 を用
い、エッチングを95℃15分間で行った他は、実施例１と
同様にしてめっき前処理を行った。
い、エッチングを95℃15分間で行った他は、実施例１と
同様にしてめっき前処理を行った。
【００２３】
【従来例２】エッチング液として、( ＣＯＯＨ) 2 (200
g/l)＋５％Ｈ2 ＳＯ4 を用い、エッチングを95℃90分間
で行った他は、実施例１と同様にしてめっき前処理を行
った。
g/l)＋５％Ｈ2 ＳＯ4 を用い、エッチングを95℃90分間
で行った他は、実施例１と同様にしてめっき前処理を行
った。
【００２４】（評価）上記のように前処理を行った実施
例１乃至６及び従来例１及び２のチタン板の外観を走査
型電子顕微鏡により観察し、凹凸の大きさを測定した。
さらに、前処理したチタン板に白金めっきを５μｍ施
し、その被覆を検査した。それらの結果を表１に示す。
例１乃至６及び従来例１及び２のチタン板の外観を走査
型電子顕微鏡により観察し、凹凸の大きさを測定した。
さらに、前処理したチタン板に白金めっきを５μｍ施
し、その被覆を検査した。それらの結果を表１に示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】上記の表１より明らかなように、実施例１
乃至６で処理したチタン板は全面均一に細かくエッチン
グされており、また白金めっき後のめっき被覆は、外
観、均一電着性、緻密性、密着性全ての点で良好であっ
た。これに対し、従来例１ではめっき被覆の密着強度が
不足しており、従来例２ではめっき被覆の緻密度が充分
ではなく、いずれも電極としての使用上必ずしも満足す
ることができないものであった。
乃至６で処理したチタン板は全面均一に細かくエッチン
グされており、また白金めっき後のめっき被覆は、外
観、均一電着性、緻密性、密着性全ての点で良好であっ
た。これに対し、従来例１ではめっき被覆の密着強度が
不足しており、従来例２ではめっき被覆の緻密度が充分
ではなく、いずれも電極としての使用上必ずしも満足す
ることができないものであった。
【００２７】
【発明の効果】以上の通り本発明のチタン又はチタン合
金へのめっき前処理用エッチング液と該エッチング液を
用いためっき前処理方法によれば、チタン又はチタン合
金のめっき素地表面を均一にエッチングできるので、め
っきを施した際、均一、緻密で密着性の優れためっき被
覆を得ることができる。特に、めっき素地の粗面度を調
整することにより１μｍ以上の厚いめっき被膜の形成に
効果を発揮する。しかも、めっき前処理が低温で且つ短
時間に簡単にできるので、作業性が向上する。
金へのめっき前処理用エッチング液と該エッチング液を
用いためっき前処理方法によれば、チタン又はチタン合
金のめっき素地表面を均一にエッチングできるので、め
っきを施した際、均一、緻密で密着性の優れためっき被
覆を得ることができる。特に、めっき素地の粗面度を調
整することにより１μｍ以上の厚いめっき被膜の形成に
効果を発揮する。しかも、めっき前処理が低温で且つ短
時間に簡単にできるので、作業性が向上する。
Claims (9)
- 【請求項１】 硫酸とヨウ素源としてのＨＩ及び／又は
Ｉ2 を含むチタン又はチタン合金へのめっき前処理用エ
ッチング液。 - 【請求項２】 前記ヨウ素源として、さらにＫＩ又はＮ
ａＩを含むことを特徴とする請求項１記載のチタン又は
チタン合金へのめっき前処理用エッチング液。 - 【請求項３】 前記ヨウ素の遊離ヨウ素濃度が0.05g/l
〜20g/l であることを特徴とする請求項１又は２記載の
チタン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング
液。 - 【請求項４】 硫酸濃度が10重量％〜75重量％であるこ
とを特徴とする、請求項１乃至３記載のチタン又はチタ
ン合金へのめっき前処理用エッチング液。 - 【請求項５】 チタン又はチタン合金の表面の酸化物層
を除去した後、請求項１乃至４のいずれかに記載のめっ
き前処理用エッチング液を用いて、チタン又はチタン合
金の表面をエッチングして粗面化することを特徴とする
チタン又はチタン合金へのめっき前処理方法。 - 【請求項６】 めっき前処理用エッチング液でのエッチ
ング粗面化処理を40℃〜95℃の温度範囲で行うことを特
徴とする請求項５記載のチタン又はチタン合金へのめっ
き前処理方法。 - 【請求項７】 めっき前処理用エッチング液での処理温
度を75℃〜85℃とすることを特徴とする請求項６記載の
チタン又はチタン合金へのめっき前処理方法。 - 【請求項８】 チタン又はチタン合金の表面を均一にエ
ッチングした後、さらに活性化処理を施すことを特徴と
する請求項５乃至７記載のチタン又はチタン合金へのめ
っき前処理方法。 - 【請求項９】 前記活性化処理が、0.05重量％〜 0.5重
量％のＮＨ4 ＨＦ2水溶液への浸漬であることを特徴と
する請求項８記載のチタン又はチタン合金へのめっき前
処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9071528A JPH10265974A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | チタン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング液及びチタン又はチタン合金へのめっき前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9071528A JPH10265974A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | チタン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング液及びチタン又はチタン合金へのめっき前処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10265974A true JPH10265974A (ja) | 1998-10-06 |
Family
ID=13463334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9071528A Pending JPH10265974A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | チタン又はチタン合金へのめっき前処理用エッチング液及びチタン又はチタン合金へのめっき前処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10265974A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100403235B1 (ko) * | 2000-12-20 | 2003-10-23 | (주) 테크윈 | 수 처리를 위한 촉매성 산화물 전극의 제조방법 |
| US7265040B2 (en) | 2002-12-05 | 2007-09-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Cleaning solution and method for selectively removing layer in a silicidation process |
| US7384825B2 (en) * | 2004-04-10 | 2008-06-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of fabricating phase change memory elements having a confined portion of phase change material on a recessed contact |
| CN104894563A (zh) * | 2015-05-06 | 2015-09-09 | 贵阳市新航铸造材料科技开发有限公司 | 去除钛合金叶片表面余量的化学腐蚀方法 |
| JP2016121382A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 石福金属興業株式会社 | 水素水生成用電極及び製造方法 |
| CN106086892A (zh) * | 2016-08-29 | 2016-11-09 | 遵义航天新力精密铸锻有限公司 | 化学腐蚀去除钛合金叶片表面余量的方法 |
-
1997
- 1997-03-25 JP JP9071528A patent/JPH10265974A/ja active Pending
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