JPH10258339A - 双ドラム式連続鋳造方法 - Google Patents
双ドラム式連続鋳造方法Info
- Publication number
- JPH10258339A JPH10258339A JP9064451A JP6445197A JPH10258339A JP H10258339 A JPH10258339 A JP H10258339A JP 9064451 A JP9064451 A JP 9064451A JP 6445197 A JP6445197 A JP 6445197A JP H10258339 A JPH10258339 A JP H10258339A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shot
- continuous casting
- drum
- twin
- casting method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/06—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths into moulds with travelling walls, e.g. with rolls, plates, belts, caterpillars
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/06—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths into moulds with travelling walls, e.g. with rolls, plates, belts, caterpillars
- B22D11/0637—Accessories therefor
- B22D11/0665—Accessories therefor for treating the casting surfaces, e.g. calibrating, cleaning, dressing, preheating
- B22D11/0674—Accessories therefor for treating the casting surfaces, e.g. calibrating, cleaning, dressing, preheating for machining
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 鋳片表面の温度分布を検知したり、冷却ドラ
ム表面に対するショット粒噴射位置の位置を制御したり
することなく鋳造中に冷却ドラム表面にディンプルを形
成させ鋳造される金属薄板に亀裂が発生するのを防止可
能な双ドラム式連続鋳造方法を提供する。 【解決手段】 互いに反対方向に回転する一対の冷却ド
ラム１，１′の間に湯溜め５０を形成し下方より鋳片４
０を排出する双ドラム式連続鋳造装置において、冷却ド
ラム１，１′の外周面２へ全幅面に少くとも２個所から
ショット粒３０を噴射するショット粒噴射装置１５を設
け、ドラム１，１′の外周面２にショット粒によってデ
ィンプルを形成させて鋳片４０の割れを防止する。ま
た、前記ショット粒噴射装置１５の冷却ドラム１，１′
の回転方向の上流側及び／又は下流側に冷却ドラム１，
１′の外周面２に当接するブラシ装置５を設けて冷却ド
ラム１，１′の外周面２を清浄にする。
ム表面に対するショット粒噴射位置の位置を制御したり
することなく鋳造中に冷却ドラム表面にディンプルを形
成させ鋳造される金属薄板に亀裂が発生するのを防止可
能な双ドラム式連続鋳造方法を提供する。 【解決手段】 互いに反対方向に回転する一対の冷却ド
ラム１，１′の間に湯溜め５０を形成し下方より鋳片４
０を排出する双ドラム式連続鋳造装置において、冷却ド
ラム１，１′の外周面２へ全幅面に少くとも２個所から
ショット粒３０を噴射するショット粒噴射装置１５を設
け、ドラム１，１′の外周面２にショット粒によってデ
ィンプルを形成させて鋳片４０の割れを防止する。ま
た、前記ショット粒噴射装置１５の冷却ドラム１，１′
の回転方向の上流側及び／又は下流側に冷却ドラム１，
１′の外周面２に当接するブラシ装置５を設けて冷却ド
ラム１，１′の外周面２を清浄にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、互いに反対方向に
回転する一対の冷却ドラムの間に湯溜めを形成し、下方
より金属薄板を排出する双ドラム式連続鋳造方法に関す
る。
回転する一対の冷却ドラムの間に湯溜めを形成し、下方
より金属薄板を排出する双ドラム式連続鋳造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】双ドラム式薄板連続鋳造装置において
は、内部を循環する冷却水によって冷却されている一対
の冷却（鋳造）ドラムが、鋳片の厚さに対応する鋳造間
隙を保って平行になるように、フレームに支持された軸
受によって水平に軸承されている。冷却ドラムの鋳造間
隙の上部には、タンディシュからノズルを通じて連続的
に金属の溶湯の供給を受ける湯溜まり部が形成される。
は、内部を循環する冷却水によって冷却されている一対
の冷却（鋳造）ドラムが、鋳片の厚さに対応する鋳造間
隙を保って平行になるように、フレームに支持された軸
受によって水平に軸承されている。冷却ドラムの鋳造間
隙の上部には、タンディシュからノズルを通じて連続的
に金属の溶湯の供給を受ける湯溜まり部が形成される。
【０００３】この湯溜まり部内の金属溶湯が冷却ドラム
の表面に触れて冷却されることにより形成される凝固シ
ェルが、冷却ドラムが互いに反対の方向に回転駆動され
ることによって、冷却ドラムの鋳造間隙から冷却凝固し
た薄い帯板状の鋳片となって送り出されるようになって
いる。
の表面に触れて冷却されることにより形成される凝固シ
ェルが、冷却ドラムが互いに反対の方向に回転駆動され
ることによって、冷却ドラムの鋳造間隙から冷却凝固し
た薄い帯板状の鋳片となって送り出されるようになって
いる。
【０００４】このようにして鋳片を鋳造する双ドラム式
連続鋳造方法によって表面に割れ（微細な亀裂）等の欠
陥がなく、性状の優れた良質の鋳片を得るための手段と
して、連続鋳造装置の冷却ドラムの円筒面に、ショット
ブラスト法、フオトエッチング法、放電加工法、電子ビ
ーム加工法、その他の方法を利用することによって、深
さが５〜１００μｍ、直径が０．１〜１．２mm程度の円
形或いは長円形等の多数の微小なディンブル（窪み）
を、均等あるいはランダムに形成することが有効である
ことが、特開昭６０−１８４４４９号公報、特開昭６２
−２５４９５３号公報、特開昭６４−８３３４２号公報
等の記載によって知られている。
連続鋳造方法によって表面に割れ（微細な亀裂）等の欠
陥がなく、性状の優れた良質の鋳片を得るための手段と
して、連続鋳造装置の冷却ドラムの円筒面に、ショット
ブラスト法、フオトエッチング法、放電加工法、電子ビ
ーム加工法、その他の方法を利用することによって、深
さが５〜１００μｍ、直径が０．１〜１．２mm程度の円
形或いは長円形等の多数の微小なディンブル（窪み）
を、均等あるいはランダムに形成することが有効である
ことが、特開昭６０−１８４４４９号公報、特開昭６２
−２５４９５３号公報、特開昭６４−８３３４２号公報
等の記載によって知られている。
【０００５】また、特開平０６−３９５０１号公報に
は、図５に示すように、幅方向に走査して鋳片４０の表
面温度を検出する装置１１３，１１４とこの鋳片温度検
出装置１１３，１１４の検出値が入力される制御装置１
１２と制御装置１１２の制御信号を受けて冷却ドラム
１，１′の軸方向に移動して、冷却ドラム１，１′の円
筒面に対してショットブラストを行うショットブラスト
装置１１５，１１６を備えている双ドラム式薄板連続鋳
造装置が開示されている。なお、図５で１１０，１１１
はドラム清掃用のブラシを示している。
は、図５に示すように、幅方向に走査して鋳片４０の表
面温度を検出する装置１１３，１１４とこの鋳片温度検
出装置１１３，１１４の検出値が入力される制御装置１
１２と制御装置１１２の制御信号を受けて冷却ドラム
１，１′の軸方向に移動して、冷却ドラム１，１′の円
筒面に対してショットブラストを行うショットブラスト
装置１１５，１１６を備えている双ドラム式薄板連続鋳
造装置が開示されている。なお、図５で１１０，１１１
はドラム清掃用のブラシを示している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図５に示す前記従来の
双ドラム式連続鋳造装置では、鋳片４０の温度を検出し
て許容温度以上に温度が低い領域を検知し、制御装置１
１２は該領域に対応する冷却ドラムの円筒面位置にショ
ットブラスト装置１１５，１１６のノズルを移動させシ
ョットブラストを開始させる。また、飛び飛びにディン
プル摩滅個所が現れても制御装置１１２によって、それ
らの個所に狙いを定めてショットを行う事は容易である
としている。
双ドラム式連続鋳造装置では、鋳片４０の温度を検出し
て許容温度以上に温度が低い領域を検知し、制御装置１
１２は該領域に対応する冷却ドラムの円筒面位置にショ
ットブラスト装置１１５，１１６のノズルを移動させシ
ョットブラストを開始させる。また、飛び飛びにディン
プル摩滅個所が現れても制御装置１１２によって、それ
らの個所に狙いを定めてショットを行う事は容易である
としている。
【０００７】しかしながら、ドラム表面の冷却効果が充
分なドラムを採用すれば、表面ディンプルの摩滅は全体
がほぼ一様に摩滅されるようになり前記のような部分的
な鋳片温度低下を検知する時期には到る所に表面温度低
下部を生じ個々の温度低下部の検知、ショット位置への
ノズル移動の制御では対応出来なくなる難点がある。
分なドラムを採用すれば、表面ディンプルの摩滅は全体
がほぼ一様に摩滅されるようになり前記のような部分的
な鋳片温度低下を検知する時期には到る所に表面温度低
下部を生じ個々の温度低下部の検知、ショット位置への
ノズル移動の制御では対応出来なくなる難点がある。
【０００８】本発明は、以上の従来の双ドラム式連続鋳
造装置のもつ欠点に鑑み、鋳片表面の温度分布を検知し
たり、冷却ドラム表面に対するショット粒噴射位置を制
御したりすることなく鋳造中に冷却ドラム表面にディン
プルを形成させ鋳造される金属薄板に亀裂が発生するの
を防止可能な双ドラム式連続鋳造方法を提供することを
課題としている。
造装置のもつ欠点に鑑み、鋳片表面の温度分布を検知し
たり、冷却ドラム表面に対するショット粒噴射位置を制
御したりすることなく鋳造中に冷却ドラム表面にディン
プルを形成させ鋳造される金属薄板に亀裂が発生するの
を防止可能な双ドラム式連続鋳造方法を提供することを
課題としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を達
成するため、ドラム表面の冷却効果を充分有するドラム
装置を採用して行う双ドラム式連続鋳造装置において、
鋳片の割れ発生を防止するため、前記冷却ドラムの外周
面にショット粒によって形成するディンプルの面積率を
低くし、且つ一様に噴射しもって従前のディンプルの形
状及び面積率を急変させる事無く修復を行なおうとする
ものである。
成するため、ドラム表面の冷却効果を充分有するドラム
装置を採用して行う双ドラム式連続鋳造装置において、
鋳片の割れ発生を防止するため、前記冷却ドラムの外周
面にショット粒によって形成するディンプルの面積率を
低くし、且つ一様に噴射しもって従前のディンプルの形
状及び面積率を急変させる事無く修復を行なおうとする
ものである。
【００１０】すなわち、本発明は前記課題を解決するた
め、互いに反対方向に回転する一対の冷却ドラムの間に
形成された湯溜に溶湯を注入し、下方より金属薄板を排
出する双ドラム式連続鋳造方法において、前記冷却ドラ
ムの全幅面に少くとも２個所からショット粒を連続的に
噴射しつゝ鋳造する双ドラム式連続鋳造方法を提供す
る。
め、互いに反対方向に回転する一対の冷却ドラムの間に
形成された湯溜に溶湯を注入し、下方より金属薄板を排
出する双ドラム式連続鋳造方法において、前記冷却ドラ
ムの全幅面に少くとも２個所からショット粒を連続的に
噴射しつゝ鋳造する双ドラム式連続鋳造方法を提供す
る。
【００１１】本発明の双ドラム式連続鋳造方法において
は、前記したショット粒を、噴射密度が０．０５〜１０
％で噴射するのが好ましい。すなわち、本発明の双ドラ
ム式連続鋳造方法において、当初冷却ロールの外周面に
予めディンプル（凹み）をつけておき、ショット粒の噴
射密度を０．０５％とする事により、当初のディンプル
の補足が可能となり、２００分の鋳造においても鋳片亀
裂を生じる事はなかった。また、ショット粒の噴射密度
を１０％とした場合、連続噴射を行っても冷却ドラム外
周面の損耗は小さく連続使用に耐える。この場合、噴射
密度とは、噴射が完了したときにドラム表面に生じたデ
ィンプル（凹み）部の冷却ドラム表面積に対する割合を
いい、次の数式（１）で示す。
は、前記したショット粒を、噴射密度が０．０５〜１０
％で噴射するのが好ましい。すなわち、本発明の双ドラ
ム式連続鋳造方法において、当初冷却ロールの外周面に
予めディンプル（凹み）をつけておき、ショット粒の噴
射密度を０．０５％とする事により、当初のディンプル
の補足が可能となり、２００分の鋳造においても鋳片亀
裂を生じる事はなかった。また、ショット粒の噴射密度
を１０％とした場合、連続噴射を行っても冷却ドラム外
周面の損耗は小さく連続使用に耐える。この場合、噴射
密度とは、噴射が完了したときにドラム表面に生じたデ
ィンプル（凹み）部の冷却ドラム表面積に対する割合を
いい、次の数式（１）で示す。
【００１２】
【数１】
【００１３】噴射密度を０．０５％未満とすれば摩耗速
度に対して新たなディンプルの補修速度が追いつかずデ
ィンプルの効果を徐々に低下させる結果となり、連続鋳
造時間が短くして鋳片割れに到る。一方、噴射密度を初
期から１０％超とすると、ディンプル密度が隣接した個
所で極端に差が大となり、鋳片割れを生じる不具合があ
った。しかし後述するように、徐々に噴射密度を増加さ
せる場合は、前記不具合を生じる事はないので噴射密度
を１０％超としても良い。
度に対して新たなディンプルの補修速度が追いつかずデ
ィンプルの効果を徐々に低下させる結果となり、連続鋳
造時間が短くして鋳片割れに到る。一方、噴射密度を初
期から１０％超とすると、ディンプル密度が隣接した個
所で極端に差が大となり、鋳片割れを生じる不具合があ
った。しかし後述するように、徐々に噴射密度を増加さ
せる場合は、前記不具合を生じる事はないので噴射密度
を１０％超としても良い。
【００１４】このようにショット粒の噴射密度を疎から
密に大きく変化できる装置として、遠心式ショット粒噴
射装置が有効であった。噴射密度の制御は、遠心インペ
ラのショット粒供給部にスクリュウ式供給装置の回転速
度を増減して行う事が出来る。他に空気圧式噴射装置も
同様の機構を設ける事は出来るので有用である。ドラム
全幅の噴射を行うには装置をオシレートさせれば良い。
密に大きく変化できる装置として、遠心式ショット粒噴
射装置が有効であった。噴射密度の制御は、遠心インペ
ラのショット粒供給部にスクリュウ式供給装置の回転速
度を増減して行う事が出来る。他に空気圧式噴射装置も
同様の機構を設ける事は出来るので有用である。ドラム
全幅の噴射を行うには装置をオシレートさせれば良い。
【００１５】以上説明した本発明の双ドラム式連続鋳造
方法にあっては、ショット粒を互いに干渉し合わないよ
うにショット粒噴射を冷却ドラムの回転方向にずらして
噴射するのが好ましい。
方法にあっては、ショット粒を互いに干渉し合わないよ
うにショット粒噴射を冷却ドラムの回転方向にずらして
噴射するのが好ましい。
【００１６】以上のように、噴射されるショット粒が互
いに干渉し合わないように噴射方向を回転方向にずらし
て配置すると共に、噴射量については中央部での最大の
噴射密度が１０％以下になるように供給量を制限すると
共に、ドラム端部および中央部で最大密度の３分の１以
上になるようショット装置の位置を調整して、図４に示
すように全幅面でのショット粒散布分布が一様になるよ
う配置するのである。
いに干渉し合わないように噴射方向を回転方向にずらし
て配置すると共に、噴射量については中央部での最大の
噴射密度が１０％以下になるように供給量を制限すると
共に、ドラム端部および中央部で最大密度の３分の１以
上になるようショット装置の位置を調整して、図４に示
すように全幅面でのショット粒散布分布が一様になるよ
う配置するのである。
【００１７】また、本発明は、前記課題を解決するた
め、互いに反対方向に回転する一対の冷却ドラムの間に
形成された湯溜に溶湯を注入し、下方より金属薄板を排
出する双ドラム式連続鋳造方法において、前記冷却ドラ
ムの全幅面に少くとも２個所からショット粒を間欠的に
噴射しつゝ鋳造する双ドラム式連続鋳造方法を提供す
る。
め、互いに反対方向に回転する一対の冷却ドラムの間に
形成された湯溜に溶湯を注入し、下方より金属薄板を排
出する双ドラム式連続鋳造方法において、前記冷却ドラ
ムの全幅面に少くとも２個所からショット粒を間欠的に
噴射しつゝ鋳造する双ドラム式連続鋳造方法を提供す
る。
【００１８】このように間欠的にショット粒を噴射する
場合は、次のように行う事が出来る。すなわち、予めデ
ィンプルを設けた冷却ロールを用いて鋳造をスタート
し、鋳造スタート後６０分以内に噴射を開始し、ショッ
ト粒の噴射の始めは、０．０５％ないし０．５％の噴射
密度とし、最大は５％ないし１０％の噴射密度として数
回転ないし数十回転の噴射を行う。
場合は、次のように行う事が出来る。すなわち、予めデ
ィンプルを設けた冷却ロールを用いて鋳造をスタート
し、鋳造スタート後６０分以内に噴射を開始し、ショッ
ト粒の噴射の始めは、０．０５％ないし０．５％の噴射
密度とし、最大は５％ないし１０％の噴射密度として数
回転ないし数十回転の噴射を行う。
【００１９】その上でスロープダウンして０．０５％な
いし０．５％とした後休止する。このようにする事によ
り、冷却ドラム外周面のディンプルの密度分布の急激な
変化を防ぐ事が出来、鋳造を休止する事なく連続して鋳
造を行う事が出来る。
いし０．５％とした後休止する。このようにする事によ
り、冷却ドラム外周面のディンプルの密度分布の急激な
変化を防ぐ事が出来、鋳造を休止する事なく連続して鋳
造を行う事が出来る。
【００２０】さらに、ショット粒の密度を上げて補修を
行う場合は、鋳造スタート後６０分以内に５％ないし１
０％の噴射密度で補修を開始し次いでさらに噴射密度を
上げて補修を実施し補修終了時にはスタート時の条件で
終了しても良い。２回目以降の補修サイクルは、前回の
噴射条件を使用して次の数式（２）に依って開始時間を
決める。
行う場合は、鋳造スタート後６０分以内に５％ないし１
０％の噴射密度で補修を開始し次いでさらに噴射密度を
上げて補修を実施し補修終了時にはスタート時の条件で
終了しても良い。２回目以降の補修サイクルは、前回の
噴射条件を使用して次の数式（２）に依って開始時間を
決める。
【００２１】
【数２】
【００２２】但し休止期間の最大はディンプル損耗を生
じる期間として６０分とする。すなわち、或る噴射密度
で加算的にディンプルを重ねると、前回生じたディンプ
ル部に更にディンプルを生じる事となり無駄打ちを生じ
るが累積ディンプル密度は下記する数式（３）でほぼ近
似できる。
じる期間として６０分とする。すなわち、或る噴射密度
で加算的にディンプルを重ねると、前回生じたディンプ
ル部に更にディンプルを生じる事となり無駄打ちを生じ
るが累積ディンプル密度は下記する数式（３）でほぼ近
似できる。
【００２３】次の数式（３）によって示される累積ディ
ンプル密度一回でディンプルを形成する場合は３０％で
割れ防止可能であるが、すぐに補修効果が失われるの
で、累積ディンプル密度が４０％を超してはじめて補修
効果に余裕を生じて、噴射補修の休止が可能となる。
ンプル密度一回でディンプルを形成する場合は３０％で
割れ防止可能であるが、すぐに補修効果が失われるの
で、累積ディンプル密度が４０％を超してはじめて補修
効果に余裕を生じて、噴射補修の休止が可能となる。
【００２４】
【数３】
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明による双ドラム式連
続鋳造方法の実施の形態を図１〜図４を用いて具体的に
説明する。
続鋳造方法の実施の形態を図１〜図４を用いて具体的に
説明する。
【００２６】（実施の第１形態）まず、図１〜図３によ
り実施の第１形態について説明する。図１〜図３におい
て、１，１′は内部に冷却水通路をもち直径１２００m
m、巾８００mmの互いに対向して配置された水冷の冷却
ドラムであり、一方のドラム１′は他方のドラム１に対
して両ドラム１，１′の軸を結ぶ方向に移動可能な可動
ドラムである。前記両冷却ドラム１，１′は、図１中に
示す矢印の方向に軸を中心に互いに反対方向に回転す
る。
り実施の第１形態について説明する。図１〜図３におい
て、１，１′は内部に冷却水通路をもち直径１２００m
m、巾８００mmの互いに対向して配置された水冷の冷却
ドラムであり、一方のドラム１′は他方のドラム１に対
して両ドラム１，１′の軸を結ぶ方向に移動可能な可動
ドラムである。前記両冷却ドラム１，１′は、図１中に
示す矢印の方向に軸を中心に互いに反対方向に回転す
る。
【００２７】両冷却ドラム１，１′の間には湯溜め５０
を形成しており、同湯溜め５０に注湯ノズル５１より供
給される溶融金属を連続的に凝固して、湯溜め５０の下
方から金属薄板の鋳片４０を排出するようになってい
る。
を形成しており、同湯溜め５０に注湯ノズル５１より供
給される溶融金属を連続的に凝固して、湯溜め５０の下
方から金属薄板の鋳片４０を排出するようになってい
る。
【００２８】前記冷却ドラム１，１′の外周面２には、
フォトエッチング法により、直径が０．３〜０．６mm、
深さが０．０５〜０．１５mmの多数の初期ディンプルＤ
が予め形成されており、ディンプルＤの面積率は３０％
としている。すなわち、ディンプルＤの面積が３０％未
満では鋳片に割れを生じ３０％以上では鋳片に割れなく
鋳造が可能となり１００％でも割れはみられない。
フォトエッチング法により、直径が０．３〜０．６mm、
深さが０．０５〜０．１５mmの多数の初期ディンプルＤ
が予め形成されており、ディンプルＤの面積率は３０％
としている。すなわち、ディンプルＤの面積が３０％未
満では鋳片に割れを生じ３０％以上では鋳片に割れなく
鋳造が可能となり１００％でも割れはみられない。
【００２９】冷却ドラム１，１′の回転方向の上流側に
ショット粒噴射装置１５が配置されている（図１には一
方の冷却ドラム１のショット粒噴射装置のみが示されて
いて、他方の冷却ドラム１′のショット粒噴射装置の図
示は省略されている）。ショット粒噴射装置１５は、冷
却ドラム１，１′の真下から冷却ドラムの回転方向へ３
０°傾けた方向θに斜め上向きに冷却ドラム１又は１′
の外周面２へ垂直に向うように配置され、先端に噴射用
インペラ１０ａ，１０ｂをもつショット粒供給コンジッ
ト１０より成っている。
ショット粒噴射装置１５が配置されている（図１には一
方の冷却ドラム１のショット粒噴射装置のみが示されて
いて、他方の冷却ドラム１′のショット粒噴射装置の図
示は省略されている）。ショット粒噴射装置１５は、冷
却ドラム１，１′の真下から冷却ドラムの回転方向へ３
０°傾けた方向θに斜め上向きに冷却ドラム１又は１′
の外周面２へ垂直に向うように配置され、先端に噴射用
インペラ１０ａ，１０ｂをもつショット粒供給コンジッ
ト１０より成っている。
【００３０】ショット粒噴射装置１５は、図２に示すよ
うに、冷却ドラム１又は１′の軸方向に間隔をおいて２
個配置されている。ショット粒噴射装置１５と冷却ドラ
ム１又は１′の間の空間には、図３に示すように冷却ド
ラム１又は１′の軸方向のほぼ全長（ほぼ全幅）にわた
り冷却ドラム１又は１′の周面の一部分を覆うカバー２
０が設けられ、ショット粒噴射装置１５は遠心式となっ
ている。
うに、冷却ドラム１又は１′の軸方向に間隔をおいて２
個配置されている。ショット粒噴射装置１５と冷却ドラ
ム１又は１′の間の空間には、図３に示すように冷却ド
ラム１又は１′の軸方向のほぼ全長（ほぼ全幅）にわた
り冷却ドラム１又は１′の周面の一部分を覆うカバー２
０が設けられ、ショット粒噴射装置１５は遠心式となっ
ている。
【００３１】ショット粒噴射装置１５は冷却ドラム１，
１′の回転方向にずらして配置してあるが、そのずらす
量はショット粒噴射装置１５のインペラの高さがあれば
十分である。ずらす量の最大は、ショット装置の設置位
置の前後端であり冷却ドラムの直径１．２ｍで、３１４
mmとなる。
１′の回転方向にずらして配置してあるが、そのずらす
量はショット粒噴射装置１５のインペラの高さがあれば
十分である。ずらす量の最大は、ショット装置の設置位
置の前後端であり冷却ドラムの直径１．２ｍで、３１４
mmとなる。
【００３２】またカバー２０の内側には耐摩耗材２５が
ライニングされている。カバー２０と冷却ドラム１又は
１′の間隙は１〜２mm程度に設定され、前記カバー２０
の両端部は冷却ドラム端より１〜５mm内側になるように
配置されている。また、前記カバー２０の下方の部分に
は、空気吸引式のショット粒回収ノズル２１が設けられ
ている。前記カバー２０は、図示しない冷却ドラム１又
は１′の軸受部に接続され、冷却ドラム１又は１′との
相対変位を生じないようにされている。
ライニングされている。カバー２０と冷却ドラム１又は
１′の間隙は１〜２mm程度に設定され、前記カバー２０
の両端部は冷却ドラム端より１〜５mm内側になるように
配置されている。また、前記カバー２０の下方の部分に
は、空気吸引式のショット粒回収ノズル２１が設けられ
ている。前記カバー２０は、図示しない冷却ドラム１又
は１′の軸受部に接続され、冷却ドラム１又は１′との
相対変位を生じないようにされている。
【００３３】冷却ドラム１，１′の回転方向にみてショ
ット粒噴射装置１５の後には、冷却ドラム１，１′の反
対側の側部に互いに対向する形で、それぞれブラシ装置
５が設けられている（図１には一方の冷却ドラム１のブ
ラシ装置５のみが示されていて、他方の冷却ドラム１′
のブラシ装置の図示は省略されている。）。
ット粒噴射装置１５の後には、冷却ドラム１，１′の反
対側の側部に互いに対向する形で、それぞれブラシ装置
５が設けられている（図１には一方の冷却ドラム１のブ
ラシ装置５のみが示されていて、他方の冷却ドラム１′
のブラシ装置の図示は省略されている。）。
【００３４】ブラシ装置５は、図示しない冷却ドラムの
軸受部に接続された支持材４と、同支持材４の先端に中
央部が枢支された支持腕４ａ及び同支持腕４ａの両端に
軸支され冷却ドラム１，１′の外周面２に当接するブラ
シホイール３，３′とを備えている。
軸受部に接続された支持材４と、同支持材４の先端に中
央部が枢支された支持腕４ａ及び同支持腕４ａの両端に
軸支され冷却ドラム１，１′の外周面２に当接するブラ
シホイール３，３′とを備えている。
【００３５】以上のように構成された本実施の第１形態
では、ショット粒噴射装置１５から冷却ドラム１又は
１′の外周面２へ向ってショット粒３０が噴射され、図
３に示すように、冷却ドラム１又は１′の外周面２にデ
ィンプルＤが形成される。このディンプルＤは、冷却ド
ラム１又は１′の外周面に予め形成された初期ディンプ
ルＤと共に、湯溜め５０で凝固された上排出される鋳片
４０の割れの発生を防止する。
では、ショット粒噴射装置１５から冷却ドラム１又は
１′の外周面２へ向ってショット粒３０が噴射され、図
３に示すように、冷却ドラム１又は１′の外周面２にデ
ィンプルＤが形成される。このディンプルＤは、冷却ド
ラム１又は１′の外周面に予め形成された初期ディンプ
ルＤと共に、湯溜め５０で凝固された上排出される鋳片
４０の割れの発生を防止する。
【００３６】しかも、ディンプルＤは鋳造中冷却ドラム
１又は１′が回転する時に連続してドラムの外周面２に
形成され、たとえ前記初期ディンプルＤの形状が変化す
ることがあっても、鋳片４０の割れの発生を確実に防止
することができる。これによって、本実施の第１形態で
は、長時間にわたって連続して鋳造を行うことが可能
で、１回の連続鋳造量を増加させることができる。
１又は１′が回転する時に連続してドラムの外周面２に
形成され、たとえ前記初期ディンプルＤの形状が変化す
ることがあっても、鋳片４０の割れの発生を確実に防止
することができる。これによって、本実施の第１形態で
は、長時間にわたって連続して鋳造を行うことが可能
で、１回の連続鋳造量を増加させることができる。
【００３７】また、前記のように、ショット粒噴射装置
１５は遠心式であり、かつ、カバー２０は冷却ドラム１
又は１′の軸方向のほぼ全長（全幅）を覆っているため
に、ショット粒３０はドラムの外周面２の全面に一様に
衝突し、冷却ドラムの外周面２の全面に一様にディンプ
ルＤを形成させることができる。
１５は遠心式であり、かつ、カバー２０は冷却ドラム１
又は１′の軸方向のほぼ全長（全幅）を覆っているため
に、ショット粒３０はドラムの外周面２の全面に一様に
衝突し、冷却ドラムの外周面２の全面に一様にディンプ
ルＤを形成させることができる。
【００３８】ショット粒噴射装置１５から噴射され冷却
ドラムの外周面２に衝突したショット粒３０はカバー２
０内の下部に堆積し、これがショット粒回収ノズル２１
より吸引されて回収される。
ドラムの外周面２に衝突したショット粒３０はカバー２
０内の下部に堆積し、これがショット粒回収ノズル２１
より吸引されて回収される。
【００３９】ショット粒回収ノズル２１に回収されなか
ったショット粒、鋳造によって冷却ドラムの外周面２に
生じた酸化膜、及びショット粒３０の噴射によって冷却
ドラムの外周面２に付着した粒などは、冷却ドラム１又
は１′の回転に伴って下流側のブラシ装置５へ至り、こ
こでブラシホイール３，３′によってドラムの外周面２
から除去される。従って、これらの付着物などが湯溜め
５０中の溶融金属に混入することがなく、鋳片４０に割
れが発生することが防止される。
ったショット粒、鋳造によって冷却ドラムの外周面２に
生じた酸化膜、及びショット粒３０の噴射によって冷却
ドラムの外周面２に付着した粒などは、冷却ドラム１又
は１′の回転に伴って下流側のブラシ装置５へ至り、こ
こでブラシホイール３，３′によってドラムの外周面２
から除去される。従って、これらの付着物などが湯溜め
５０中の溶融金属に混入することがなく、鋳片４０に割
れが発生することが防止される。
【００４０】また、本実施の第１形態では、ショット粒
噴射装置１５へのショット粒３０の供給量を例えばスク
リューフィーダの回転数を変化することにより任意に与
えることにより、ショット粒の噴射密度を容易に制御し
てディンプルＤの面積率を変えることができ、また、鋳
造速度に対応してショット粒の噴射密度を調整すること
ができる。
噴射装置１５へのショット粒３０の供給量を例えばスク
リューフィーダの回転数を変化することにより任意に与
えることにより、ショット粒の噴射密度を容易に制御し
てディンプルＤの面積率を変えることができ、また、鋳
造速度に対応してショット粒の噴射密度を調整すること
ができる。
【００４１】本実施の第１形態において、鋳造速度６０
ｍ／分とし、０．８mmの平均直径のショット粒３０の噴
射量を２５０ｇ／分として鋳造を行ったところ、鋳造開
始後１８０分を経過しても鋳片４０に割れを生ずること
がなく、良好な結果を得ることができた。この時にショ
ット粒３０の噴射によって生じたディンプルＤの面積率
は０．０５％であった。
ｍ／分とし、０．８mmの平均直径のショット粒３０の噴
射量を２５０ｇ／分として鋳造を行ったところ、鋳造開
始後１８０分を経過しても鋳片４０に割れを生ずること
がなく、良好な結果を得ることができた。この時にショ
ット粒３０の噴射によって生じたディンプルＤの面積率
は０．０５％であった。
【００４２】また、本実施の第１形態において、前記の
条件でショット粒３０の噴射量を２５０ｇ／分から５０
kg／分と変更した場合においても、鋳造開始後１８０分
を経過しても鋳片４０に割れを生ずることがなく、良好
な結果を得ることができた。この時のショット粒３０の
噴射によって生じたディンプルＤの面積率は１０％であ
った。
条件でショット粒３０の噴射量を２５０ｇ／分から５０
kg／分と変更した場合においても、鋳造開始後１８０分
を経過しても鋳片４０に割れを生ずることがなく、良好
な結果を得ることができた。この時のショット粒３０の
噴射によって生じたディンプルＤの面積率は１０％であ
った。
【００４３】また、本実施の第１形態において、鋳造開
始後６０分にて、ショット粒３０の噴射量を２５０ｇ／
分として噴射を開始し２５０ｇ／秒の増加速度で噴射量
を増し最終的に５０kg／分として１７回転噴射後同様２
５０ｇ／秒の減少速度で噴射量を減じ２５００ｇ／分の
噴射量になったところで休止した。
始後６０分にて、ショット粒３０の噴射量を２５０ｇ／
分として噴射を開始し２５０ｇ／秒の増加速度で噴射量
を増し最終的に５０kg／分として１７回転噴射後同様２
５０ｇ／秒の減少速度で噴射量を減じ２５００ｇ／分の
噴射量になったところで休止した。
【００４４】引き続き鋳造を行いながら、６０分後にシ
ョット粒３０の噴射量を２５００ｇ／分として噴射を開
始し最大７０kg／分の噴射を行って後噴射量２５００ｇ
／分まで減量した後休止した。この操作を３回繰り返し
て鋳造を行なったところ、良好な鋳片を得た。ショット
噴射開始時のショット粒噴射量を５０kg／分としても、
休止前の噴射量を５０kg／分としても同様に良好の鋳片
を得た。
ョット粒３０の噴射量を２５００ｇ／分として噴射を開
始し最大７０kg／分の噴射を行って後噴射量２５００ｇ
／分まで減量した後休止した。この操作を３回繰り返し
て鋳造を行なったところ、良好な鋳片を得た。ショット
噴射開始時のショット粒噴射量を５０kg／分としても、
休止前の噴射量を５０kg／分としても同様に良好の鋳片
を得た。
【００４５】（実施の第２形態）次に、本発明の実施の
第２の形態を以下に説明する。本実施の第２形態は、前
記した実施の第１形態の場合と同様な構成を有するが、
ただ、初期ディンプルＤを実施の第１形態におけるよう
にフォトエッチング法によって形成した冷却ドラム１，
１′を用いるのではなく、ショット粒噴射装置１５によ
り噴射されるショット粒３０によって面積率３０％の初
期ディンプルＤを形成した冷却ドラム１，１′を用い
る。
第２の形態を以下に説明する。本実施の第２形態は、前
記した実施の第１形態の場合と同様な構成を有するが、
ただ、初期ディンプルＤを実施の第１形態におけるよう
にフォトエッチング法によって形成した冷却ドラム１，
１′を用いるのではなく、ショット粒噴射装置１５によ
り噴射されるショット粒３０によって面積率３０％の初
期ディンプルＤを形成した冷却ドラム１，１′を用い
る。
【００４６】以後行われる鋳造中に前記第１の実施例と
同様にショット粒噴射装置１５から噴射されるショット
粒３０によってディンプルＤを形成するようにしたもの
である。本実施の第２形態においても、前記した実施の
第１形態の場合と同様な作用及び効果を奏することがで
きる。
同様にショット粒噴射装置１５から噴射されるショット
粒３０によってディンプルＤを形成するようにしたもの
である。本実施の第２形態においても、前記した実施の
第１形態の場合と同様な作用及び効果を奏することがで
きる。
【００４７】なお、前記実施の第１形態及び本実施の第
２形態では、冷却ドラム１，１′の外周面２に初期ディ
ンプルを設けているが、本発明では、初期ディンプルを
設けず鋳造中ショット粒噴射装置から噴射されるショッ
ト粒によって形成されるディンプルのみを冷却ドラム
１，１′の外周面に形成させるようにすることもでき
る。
２形態では、冷却ドラム１，１′の外周面２に初期ディ
ンプルを設けているが、本発明では、初期ディンプルを
設けず鋳造中ショット粒噴射装置から噴射されるショッ
ト粒によって形成されるディンプルのみを冷却ドラム
１，１′の外周面に形成させるようにすることもでき
る。
【００４８】本実施の第２形態において、鋳造速度６０
ｍ／分とし、０．８mmの平均直径のショット粒３０の噴
射量を５０kg／分として鋳造を行ったところ、鋳造開始
後１８０分を経過しても鋳片４０に割れを生ずることな
く、良好な結果を得ることができた。この時にショット
粒３０の噴射によって生じたディンプル３の面積率は１
０％であった。
ｍ／分とし、０．８mmの平均直径のショット粒３０の噴
射量を５０kg／分として鋳造を行ったところ、鋳造開始
後１８０分を経過しても鋳片４０に割れを生ずることな
く、良好な結果を得ることができた。この時にショット
粒３０の噴射によって生じたディンプル３の面積率は１
０％であった。
【００４９】本実施の第２形態において、前記実施の第
１形態におけると同一のドラム条件、同一の鋳造速度で
鋳造を行なった。ショット粒３０は平均直径１．０mmと
し５０kg／分にて噴射して鋳造を行なったが、後工程に
ブラシホイール３，３′を設けて冷却ドラム外周面に付
着した酸化物等を除去しているため、金属薄板の割れが
充分に防止されかつ、溶融金属からの鋳片生産量が大と
なる効果があった。
１形態におけると同一のドラム条件、同一の鋳造速度で
鋳造を行なった。ショット粒３０は平均直径１．０mmと
し５０kg／分にて噴射して鋳造を行なったが、後工程に
ブラシホイール３，３′を設けて冷却ドラム外周面に付
着した酸化物等を除去しているため、金属薄板の割れが
充分に防止されかつ、溶融金属からの鋳片生産量が大と
なる効果があった。
【００５０】以上、本発明を図示した実施形態に基づい
て具体的に説明したが、本発明がこれらの実施形態に限
定されず特許請求の範囲に示す本発明の範囲内で、その
具体的構造、構成に種々の変更を加えてよいことはいう
までもない。
て具体的に説明したが、本発明がこれらの実施形態に限
定されず特許請求の範囲に示す本発明の範囲内で、その
具体的構造、構成に種々の変更を加えてよいことはいう
までもない。
【００５１】例えば、上記実施形態では遠心式のショッ
ト噴射装置を用いているが、これに代えて空気加圧式ブ
ラスト装置を用いることもできる。
ト噴射装置を用いているが、これに代えて空気加圧式ブ
ラスト装置を用いることもできる。
【００５２】また、上記実施形態では、ショット粒噴射
装置１５を冷却ドラムの真下から冷却ドラムの回転方向
に傾ける角度θとして３０°の場合を示してあるが、こ
の角度θは、鋳片引き出しとブラッシングに邪魔となら
ない、１５度〜５０度が適切である。なお、１５度より
小さくなると引き出し鋳片との接触を生じ不具合とな
り、５０度を超えるとドラムとノズルの隙間より噴射し
たショット粒が落下するなどショット粒の回収が困難に
なる。
装置１５を冷却ドラムの真下から冷却ドラムの回転方向
に傾ける角度θとして３０°の場合を示してあるが、こ
の角度θは、鋳片引き出しとブラッシングに邪魔となら
ない、１５度〜５０度が適切である。なお、１５度より
小さくなると引き出し鋳片との接触を生じ不具合とな
り、５０度を超えるとドラムとノズルの隙間より噴射し
たショット粒が落下するなどショット粒の回収が困難に
なる。
【００５３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による双ド
ラム式連続鋳造方法では、冷却ドラムの全幅面に少くと
も２個所からショット粒を連続的または間欠的に噴射し
つつ鋳造するもので、これによれば、従来のように鋳造
しつつある鋳片の温度分布を測定しショット粒噴射装置
の位置を制御するような事を行う必要なしに、低い密度
で一様な分布のショット粒噴射装置により鋳造中に冷却
ドラムの外周面にディンプルを形成させうる。従って、
本発明の双ドラム式連続鋳造方法によれば鋳造される金
属薄板に亀裂を生じることを防止することができ、１回
の鋳造量を多くすることができる。
ラム式連続鋳造方法では、冷却ドラムの全幅面に少くと
も２個所からショット粒を連続的または間欠的に噴射し
つつ鋳造するもので、これによれば、従来のように鋳造
しつつある鋳片の温度分布を測定しショット粒噴射装置
の位置を制御するような事を行う必要なしに、低い密度
で一様な分布のショット粒噴射装置により鋳造中に冷却
ドラムの外周面にディンプルを形成させうる。従って、
本発明の双ドラム式連続鋳造方法によれば鋳造される金
属薄板に亀裂を生じることを防止することができ、１回
の鋳造量を多くすることができる。
【図１】本発明の実施の第１形態に係る双ドラム式連続
鋳造方法に用いる装置の断面図。
鋳造方法に用いる装置の断面図。
【図２】図１のＡ−Ａ′矢視断面図。
【図３】実施の第１形態のショット粒によるディンプル
の形成状況の説明図。
の形成状況の説明図。
【図４】本発明の双ドラム式連続鋳造方法におけるショ
ット粒散布の分布状況を示す説明図。
ット粒散布の分布状況を示す説明図。
【図５】従来の双ドラム式連続鋳造装置の説明図。
１，１′ 冷却ドラム ２ 冷却ドラムの外周面 ３，３′ ブラシホイール ４ 支持材 ４ａ 支持腕 ５ ブラシ装置 １０ ショット粒供給コンジット １０ａ，１０ｂ 噴射用インペラ １５ ショット粒噴射装置 ２０ カバー ２１ ショット粒回収ノズル ２５ 耐摩耗材 ３０ ショット粒 ４０ 鋳片 ５０ 湯溜め ５１ 注湯ノズル Ｄ ディンプル
Claims (7)
- 【請求項１】 互いに反対方向に回転する一対の冷却ド
ラムの間に形成された湯溜に溶湯を注入し、下方より金
属薄板を排出する双ドラム式連続鋳造方法において、前
記冷却ドラムの全幅面に少くとも２個所からショット粒
を連続的に噴射しつゝ鋳造することを特徴とする双ドラ
ム式連続鋳造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のショット粒を、噴射密度
が０．０５〜１０％で噴射する双ドラム式連続鋳造方
法。 - 【請求項３】 請求項１記載のショット粒を互いに干渉
し合わないように冷却ドラムの回転方向にずらして噴射
する双ドラム式連続鋳造方法。 - 【請求項４】 互いに反対方向に回転する一対の冷却ド
ラムの間に形成された湯溜に溶湯を注入し、下方より金
属薄板を排出する双ドラム式連続鋳造方法において、前
記冷却ドラムの全幅面に少くとも２個所からショット粒
を間欠的に噴射しつゝ鋳造することを特徴とする双ドラ
ム式連続鋳造方法。 - 【請求項５】 請求項４において、前記冷却ドラムの表
面にショット粒を間欠的に噴射する場合の休止期間Ｔを
次式より算出される６０分以下の値とする双ドラム式連
続鋳造方法。 Ｔ（分）≦２．３log ｛１＋Σ（噴射密度（％）×回転
数）／１００｝×１００−４０ - 【請求項６】 請求項４記載のショット粒の噴射を、噴
射初期の噴射密度が０．０５％、最大時の噴射密度が１
０％以上、終期の噴射密度が０．０５〜１０％としその
後休止する工程を１サイクルとするパターンとして繰り
返し噴射する双ドラム式連続鋳造方法。 - 【請求項７】 請求項６記載のショット粒の噴射を１サ
イクルの累積噴射密度が４０％以上となるよう行う双ド
ラム式連続鋳造方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9064451A JPH10258339A (ja) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | 双ドラム式連続鋳造方法 |
| TW087101578A TW369447B (en) | 1997-03-18 | 1998-02-06 | Double-roller continuous casting method |
| US09/035,772 US5964277A (en) | 1997-03-18 | 1998-03-06 | Twin drum type continuous casting method |
| EP98104603A EP0865850B1 (en) | 1997-03-18 | 1998-03-13 | Twin drum type continuous casting method |
| ES98104603T ES2162359T3 (es) | 1997-03-18 | 1998-03-13 | Procedimiento de colada continua del tipo de doble tambor. |
| DE69801853T DE69801853T2 (de) | 1997-03-18 | 1998-03-13 | Doppelwalzenstranggiessverfahren |
| CN98105721A CN1072055C (zh) | 1997-03-18 | 1998-03-17 | 双滚筒式连续铸造方法 |
| KR1019980009241A KR100264184B1 (ko) | 1997-03-18 | 1998-03-18 | 쌍드럼식연속주조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9064451A JPH10258339A (ja) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | 双ドラム式連続鋳造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10258339A true JPH10258339A (ja) | 1998-09-29 |
Family
ID=13258636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9064451A Withdrawn JPH10258339A (ja) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | 双ドラム式連続鋳造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5964277A (ja) |
| EP (1) | EP0865850B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10258339A (ja) |
| KR (1) | KR100264184B1 (ja) |
| CN (1) | CN1072055C (ja) |
| DE (1) | DE69801853T2 (ja) |
| ES (1) | ES2162359T3 (ja) |
| TW (1) | TW369447B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100490996B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2005-05-24 | 주식회사 포스코 | 쌍롤식 박판제조공정에서의 주편제조방법 |
| JP2006198708A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Nisshin Steel Co Ltd | ショットブラスト方法および装置 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6886623B2 (en) | 1998-06-17 | 2005-05-03 | Castrip Llc | Strip casting apparatus |
| US7059384B2 (en) | 2001-06-15 | 2006-06-13 | National Research Council Of Canada | Apparatus and method for metal strip casting |
| KR100782689B1 (ko) * | 2001-08-30 | 2007-12-07 | 주식회사 포스코 | 쌍롤식 박판제조공정에서 품질이 우수한 주편 제조방법 |
| US20060124271A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-15 | Mark Schlichting | Method of controlling the formation of crocodile skin surface roughness on thin cast strip |
| US8312917B2 (en) | 2004-12-13 | 2012-11-20 | Nucor Corporation | Method and apparatus for controlling the formation of crocodile skin surface roughness on thin cast strip |
| US7891407B2 (en) | 2004-12-13 | 2011-02-22 | Nucor Corporation | Method and apparatus for localized control of heat flux in thin cast strip |
| DE102006021223A1 (de) * | 2006-05-06 | 2007-11-08 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zum Oberflächenstrahlen eines Bauteils |
| AU2008100847A4 (en) * | 2007-10-12 | 2008-10-09 | Bluescope Steel Limited | Method of forming textured casting rolls with diamond engraving |
| WO2010059992A2 (en) * | 2008-11-20 | 2010-05-27 | Ihi Corporation | Brush roll for casting roll |
| US7888158B1 (en) * | 2009-07-21 | 2011-02-15 | Sears Jr James B | System and method for making a photovoltaic unit |
| DE102010036401B4 (de) | 2010-07-14 | 2023-08-24 | Vacuumschmelze Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines metallischen Bands |
| CN102764869B (zh) * | 2012-07-16 | 2014-12-10 | 莱芜钢铁集团有限公司 | 一种连铸过程中连铸坯的强化装置和强化方法 |
| TWI696506B (zh) * | 2018-10-17 | 2020-06-21 | 日商日本製鐵股份有限公司 | 鑄片的製造方法 |
| DE102020104311A1 (de) * | 2020-02-19 | 2021-08-19 | Vacuumschmelze Gmbh & Co. Kg | Anlage und Verfahren zum Herstellen eines Bandes mit einer Rascherstarrungstechnologie sowie metallisches Band |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3325803C2 (de) * | 1983-07-16 | 1986-11-20 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Inkrementale, lichtelektrische Meßeinrichtung |
| JPH0724924B2 (ja) * | 1984-03-05 | 1995-03-22 | 株式会社日立製作所 | ドラム式連鋳機 |
| JPH0815639B2 (ja) * | 1986-04-30 | 1996-02-21 | 日新製鋼株式会社 | 双ロ−ル式連鋳機 |
| JPS6483342A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-29 | Nippon Steel Corp | Cooling drum for continuous casting apparatus for cast thin slab |
| JPS6489842A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-05 | Toshiba Corp | Receiver |
| JPH0818111B2 (ja) * | 1991-07-02 | 1996-02-28 | 新日本製鐵株式会社 | 薄肉鋳片の連続鋳造方法 |
| JPH0639501A (ja) * | 1992-02-28 | 1994-02-15 | Nippon Steel Corp | 双ドラム式薄板連続鋳造装置 |
| JPH0639504A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-02-15 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | タンディッシュ内溶鋼プラズマ加熱制御装置 |
| US5651413A (en) * | 1995-10-06 | 1997-07-29 | Armco Inc. | In-situ conditioning of a strip casting roll |
| JPH09108786A (ja) * | 1995-10-18 | 1997-04-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 双ドラム式連続鋳造装置 |
| JP3832933B2 (ja) * | 1996-07-19 | 2006-10-11 | キヤノン株式会社 | 情報処理装置およびその方法、オペレーティングシステム、記憶媒体 |
-
1997
- 1997-03-18 JP JP9064451A patent/JPH10258339A/ja not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-02-06 TW TW087101578A patent/TW369447B/zh active
- 1998-03-06 US US09/035,772 patent/US5964277A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-13 EP EP98104603A patent/EP0865850B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-13 DE DE69801853T patent/DE69801853T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-13 ES ES98104603T patent/ES2162359T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-17 CN CN98105721A patent/CN1072055C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-18 KR KR1019980009241A patent/KR100264184B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100490996B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2005-05-24 | 주식회사 포스코 | 쌍롤식 박판제조공정에서의 주편제조방법 |
| JP2006198708A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Nisshin Steel Co Ltd | ショットブラスト方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100264184B1 (ko) | 2000-09-01 |
| EP0865850A1 (en) | 1998-09-23 |
| CN1072055C (zh) | 2001-10-03 |
| TW369447B (en) | 1999-09-11 |
| KR19980080421A (ko) | 1998-11-25 |
| DE69801853D1 (de) | 2001-11-08 |
| ES2162359T3 (es) | 2001-12-16 |
| CN1196985A (zh) | 1998-10-28 |
| US5964277A (en) | 1999-10-12 |
| DE69801853T2 (de) | 2002-05-02 |
| EP0865850B1 (en) | 2001-10-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10258339A (ja) | 双ドラム式連続鋳造方法 | |
| US7874345B2 (en) | Apparatus for the continuous surface cleaning of rotationally movable casting rolls of a strip-casting machine | |
| JPH0224791B2 (ja) | ||
| JP4131371B2 (ja) | シリンダブロックの製造方法 | |
| JPH06269839A (ja) | 鋼片のスケール除去法および圧延法 | |
| JPH09511184A (ja) | 金属を連続的に鋳造する方法及び装置 | |
| JP4661453B2 (ja) | 銅線の製造方法および銅線の製造装置 | |
| JPH0724924B2 (ja) | ドラム式連鋳機 | |
| JPH0787970B2 (ja) | 薄板連鋳機 | |
| JPH09108786A (ja) | 双ドラム式連続鋳造装置 | |
| JP3140594B2 (ja) | メカニカルデスケーリング方法及びそのスケール破砕装置 | |
| JPH10314908A (ja) | 連続鋳造鋳片の表面清浄化方法および装置 | |
| JP2003275852A (ja) | 鋼の連続鋳造方法および装置 | |
| KR100490997B1 (ko) | 쌍롤식 박판제조공정에서의 주편제조방법 | |
| JPH0829401B2 (ja) | 薄肉鋳片の連続鋳造方法 | |
| JP2002210544A (ja) | 双ドラム式鋳造方法及び装置 | |
| JPH0639501A (ja) | 双ドラム式薄板連続鋳造装置 | |
| JP4263801B2 (ja) | 金属ストリップ鋳造方法及び装置並びに双ロール鋳造装置 | |
| JP2003181522A (ja) | 表面性状の優れた鋼板の製造方法及びその装置 | |
| KR100782689B1 (ko) | 쌍롤식 박판제조공정에서 품질이 우수한 주편 제조방법 | |
| JPS58128255A (ja) | 鋼の連続鋳造法 | |
| JPH09253804A (ja) | 金属薄帯の製造装置 | |
| JPH057997A (ja) | 薄肉鋳片の連続鋳造方法 | |
| JPH0775855A (ja) | 金属薄帯製造方法 | |
| JPH09136145A (ja) | 薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040601 |