JPH10253347A - 表面測定装置 - Google Patents

表面測定装置

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JPH10253347A
JPH10253347A JP5299097A JP5299097A JPH10253347A JP H10253347 A JPH10253347 A JP H10253347A JP 5299097 A JP5299097 A JP 5299097A JP 5299097 A JP5299097 A JP 5299097A JP H10253347 A JPH10253347 A JP H10253347A
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JP
Japan
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measured
semiconductor wafer
measurement
unit
roughness
Prior art date
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Pending
Application number
JP5299097A
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English (en)
Inventor
Takao Inaba
高男 稲葉
Kenji Sakai
謙児 酒井
Manabu Sato
学 佐藤
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】被測定物の表面の概形と、表面粗さの双方の測
定を容易且つ迅速に行うことができる表面測定装置を提
供する。 【解決手段】接触端26aの変位を検知し、この変位量
に応じた信号に基づいて、変位量を知り、その変位量の
所定桁以上の数値に基づいて、表面1bの概形を検出
し、前記変位量の所定桁未満の数値に基づいて、表面1
bの粗さを検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定物の表面を
測定する表面測定装置に係わり、特に被測定物の設置及
び位置合わせを容易にすることができる表面測定装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体材料に回路を形成したい
わゆる半導体チップを製造する過程では、品質管理のた
めに、半導体ウェーハの表面の粗さ、表面のうねり、乃
至これに基づく厚みを測定する工程がある。この工程で
は、従来、次のような表面粗さ測定装置と平面度測定装
置乃至膜厚測定装置を用いている。
【0003】表面粗さ測定装置は、半導体ウェーハが設
置されるテーブルと、測定部とを備え、測定部は、半導
体ウェーハの表面に接触する触針と、触針の接触端が変
位自在なるように支持する支持部と、変位を検知する差
動トランス等の変位検知部とを備えており、作業員が半
導体ウェーハをテーブルに設置した後、接触端を半導体
ウェーハの表面に接触させて、半導体ウェーハの表面に
沿って移動させたときの前記変位に基づいて、表面の粗
さを測定するものである。
【0004】また、平面度測定装置、膜厚測定装置に
は、共に、半導体ウェーハが設置されるテーブルと、C
CDカラーカメラで撮影した半導体ウェーハの表面の画
像に基づいて、測定を行う測定部とを備えるものなどが
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うな表面の測定を行う表面測定装置では、テーブルへの
半導体ウェーハの設置作業、及び半導体ウェーハ上の測
定位置の位置合わせ作業を作業員が行っているため、測
定位置を正確に行うことが難しく、例えば、同一位置の
繰り返し測定が困難であった。また、その繰り返し測定
等のために設置及び位置合わせを高精度に行おうとすれ
ば、それら作業が大変煩雑となっていた。
【0006】本発明は、そのような事情に鑑みてなさ
れ、被測定物の設置及び位置合わせを容易にすることが
できる表面測定装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決する為の手段】本発明は前記目的を達成す
るために、被測定物を収納する収納部と、被測定物を載
置し所望位置に移動することができる移動テーブルと、
前記収納部から被測定物を取り出して前記移動テーブル
に搬送すると共に前記移動テーブル上の被測定物を前記
収納部に搬送する搬送部と、前記被測定物の表面を測定
する測定部とを設けたことを特徴とする。
【0008】即ち、搬送部により被測定物が移動テーブ
ルに設置され、移動テーブルにより、高精度に位置決め
される。また、別の発明として、被測定物の表面を測定
する測定部と、該測定部と前記被測定物とを相対移動さ
せる相対移動機構と、変位検知部とを備え、前記測定部
は、前記被測定物の表面に接触する接触体を有し、前記
変位検知部は、前記接触体の接触端の変位を検知し、こ
の変位量に応じた信号を出力する表面測定装置におい
て、前記変位検知部から出力された信号に基づいて、前
記変位量を知り、該変位量の所定桁以上の数値に基づい
て、前記表面の概形を検出し、前記変位量の所定桁未満
の数値に基づいて、前記表面の粗さを検出する演算検出
部を備えることを特徴とするものがある。これによれ
ば、表面の概形と表面の粗さの双方を迅速に検出する。
【0009】更に別の発明として、設置部と、該設置部
に設置された被測定物の表面を測定する測定部とを備え
る表面測定装置において、被測定物を吸引する吸引部を
有する基盤と、該基盤に重ねられた背面板とを備え、該
背面板は、その表面からその裏面へ貫通された多数の通
気孔と、前記被測定物を吸着する多数の吸着凹部とを有
し、前記吸引部は、通気性を有する多孔部である。これ
によれば、板状の被測定物を歪めずに設置する作業を容
易に行うことができ、設置後、吸引部の吸引を停止して
も、被測定物の位置ずれを防ぐことができるので、駆動
エネルギーの低減を図ることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る表面測定装置の好ましい実施の形態について詳説す
る。尚、図2では、発明の説明のために半導体ウェーハ
1の厚みt及び表面1bのうねりL1、表面1bの粗さ
を、相対的に大きく描写している。図1に示すように、
表面測定装置100は、被測定物としての薄板状の半導
体ウェーハ1の図2の裏面1aを吸引して水平に吸着保
持する設置部であり且つ移動テーブルである吸着テーブ
ル10と、その表面1bを測定する測定部20と、図1
の測定部20と吸着テーブル10とを相対移動させる相
対移動機構50とを備えている。
【0011】測定部20は、図2に示すように、半導体
ウェーハ1の表面1bに接触する接触体25と、接触体
25の接触端26aを変位自在に支持する支持部30
と、接触体25の接触端26aの変位を検知する変位検
知部35と、演算検出部40とを備えている。接触体2
5は、下方の尖端が半導体ウェーハ1の表面1bに接触
する接触端26aとなる触針26と、先端に触針26の
上端が固着された揺動アーム28とを有しており、揺動
アーム28は、横設された棒状を成し、触針26が自重
により下方に移動自在且つ半導体ウェーハ1との接触に
より上方に移動自在な位置に、支持部30に対して揺動
自在に支持される軸28aを有する。
【0012】支持部30は、接触体25と変位検知部3
5を収納するケース31と、演算検出部40を収納する
ケース32と、それらを連通させて結合する結合部33
とを有しており、ケース31は、触針26を配置させる
貫通孔31aを形成する孔部31bと、接触体25の軸
28aを回転自在に支持する軸受31cとを有してい
る。
【0013】変位検知部35は、揺動アーム28の基端
部の変位量を電気信号として出力する差動トランスであ
る。演算検出部40は、表面形状検出部41と粗さ検出
部43を備えており、表面形状検出部41は、変位検知
部35からの電気信号に基づいて接触端26aの変位量
zを検出し、その変位量zの所定桁以上の数値に基づい
て、表面1bの表面形状であるうねりL1を検出する。
この桁は、変位量zの数値を精密に評価できるように二
進数の桁としている。
【0014】また、粗さ検出部43は、変位量zの所定
桁未満の数値に基づいて、表面1bの粗さを検出する。
図1に示すように、相対移動機構50は、吸着テーブル
10を水平なY軸方向に移動駆動させるY軸方向移動駆
動部65と、Y軸方向移動駆動部65を水平且つY軸に
直交するX軸方向に移動駆動させるX軸方向移動駆動部
55と、測定部20を鉛直なZ軸方向に移動駆動させる
Z軸方向移動駆動部60とを備えている。
【0015】X軸方向移動駆動部55は、移動板56
と、移動板56に螺合した螺子棒57と、螺子棒57を
回転させ移動板56を移動させるモータ58とを有して
おり、Y軸方向移動駆動部65は、移動体66と、移動
体66に螺合した螺子棒67と、螺子棒67を回転させ
移動体66を移動させるモータ68とを有している。Z
軸方向移動駆動部60は、本体61と、測定部20の支
持部30のケース32が取り付けられ、本体61に対し
てZ軸方向に昇降される取付け部63とを有している。
【0016】また、本実施形態の表面測定装置100
は、複数枚の半導体ウェーハ1、或いは回路を有する半
導体ウェーハ2、並びにその回路の通電検査を行う多数
の触針を有する回路検査カード101(所謂プローブカ
ード)を収納する収納部70と、搬送部71と、吸着テ
ーブル10との間で回路検査カード101が着脱される
取付部80と、取付部80の内部が見える位置に設けら
れた顕微鏡90とを備えている。
【0017】搬送部71は、収納部70から半導体ウェ
ーハ1、若しくは半導体ウェーハ2、若しくは回路検査
カード101を取り出す動作及び収納させる動作を行う
取出収納機構72と、取出収納機構72から半導体ウェ
ーハ1、若しくは半導体ウェーハ2、若しくは回路検査
カード101を受け取り、吸着テーブル10に載置する
動作、及び吸着テーブル10から半導体ウェーハ1、若
しくは半導体ウェーハ2、若しくは回路検査カード10
1を撤去し、取出収納アーム72に受け渡す動作をする
載置撤去アーム74とを有している。
【0018】表面測定装置100を用いた半導体ウェー
ハ1の表面測定方法について説明する。まず、搬送部7
1の取出収納アーム72、載置撤去アーム74を駆動し
て、これらにより半導体ウェーハ1を吸着テーブル10
に載せる。よって、作業員が載せる場合に比して、半導
体ウェーハ1を高精度且つ容易に位置決めすることがで
きる。
【0019】そこで、吸着テーブル10は、変形し易い
薄板の半導体ウェーハ1の図2に示す裏面1aを高精度
に水平に吸着保持する。そこで、半導体ウェーハ1を固
定する。よって、表面測定装置100では、従来に比し
て半導体ウェーハ1の設置を容易にすることができる。
次に、図1の相対移動機構50のX軸方向移動駆動部5
5とY軸方向移動駆動部65とを駆動して、測定部20
を図中矢印A、B方向及び図中矢印C、D方向に移動さ
せ、その触針26の接触端26aを、半導体ウェーハ1
の表面1bの測定経路R1の測定開始位置P1に対して
鉛直上方に位置させる。
【0020】次に、Z軸方向移動駆動部60を図中矢印
E、F方向に駆動することで、図2に示すように、触針
26の接触端26aを、測定開始位置P1に接触させる
と共に、ケース31の貫通孔31aからの触針26の突
き出し量を所定量とし、触針26の変位量zをその高さ
位置Leでゼロに設定する。触針26の接触端26a
は、その高さ位置Leから上下に等しく所定量、移動可
能であり、この所定量は、半導体ウェーハ1の表面1b
の最大高低差よりも大きい。
【0021】そこで、図1のX軸方向移動駆動部55を
駆動して、図2に示すように吸着テーブル10と共に半
導体ウェーハ1の表面1bの測定開始位置P1を図中矢
印A方向に移動させる。これにより、触針26の接触端
26aが、図中二点鎖線に示すように測定経路R1上を
移動する。すると、測定経路R1の高さ変化に応じて触
針26の接触端26aが変位し、この変位量zを変位検
知部35が電気信号に変え、演算検出部40の表面形状
検出部41が、この電気信号に基づいて変位量zを検出
し、その変位量zの所定桁以上の数値に基づいて、その
測定経路R1上の表面1bの表面形状であるうねりL1
を検出する。また、粗さ検出部43は、変位量zの所定
桁未満の数値に基づいて、その測定経路R1上の表面1
bの粗さを検出する。これにより、その測定経路R1の
うねりL1と表面1bの粗さの双方を迅速に検出するこ
とができるので、製造工程における半導体ウェーハ1の
表面1bのうねりL1、乃至これに基づく厚みtと、表
面1bの粗さについての品質管理を容易且つ迅速に行う
ことができる。
【0022】また、図1のY軸方向移動駆動部65を駆
動して、半導体ウェーハ1の測定経路R1に対して触針
26の接触端26aを図中矢印C、D方向に移動させる
ことで、測定経路R1を別の測定経路R2に変更するこ
とができる。また、Y軸方向移動駆動部65とX軸方向
移動駆動部55を共に駆動することで、X軸方向、Y軸
方向以外の方向の、直線乃至曲線の測定経路(図示略)
を測定することができる。
【0023】また、吸着テーブル10を、複数の半導体
ウェーハ1を並べて設置できる構成とすれば、測定部2
0を一方の半導体ウェーハ1から他方の半導体ウェーハ
1に移動させることで、複数の半導体ウェーハ1の測定
を行うことができる。尚、本実施形態では、図2の演算
検出部40において、表面形状検出部41と粗さ検出部
43とをそれぞれ設ける回路構成としたが、表面形状検
出部41と粗さ検出部43の演算手順と同様の演算手順
を行わせるプログラムが予め記憶された一つの中央処理
装置で演算処理する構成としてもよく、この場合、この
プログラムを含めた中央処理装置が表面形状検出部41
であり且つ粗さ検出部43である。
【0024】また、本発明は、測定部20に代えて、C
CDカラーカメラで撮影した半導体ウェーハ1の表面の
画像に基づいて、測定を行う平面度測定装置若しくは膜
厚測定装置の測定部に代えてもよく、更にそれらを並設
したものを含む。また、本発明は、吸着テーブル10に
代えて、特願平9−021252号明細書に記載の保持
部を用いてもよい。この保持部を図を用いずに簡単に説
明すると、板状の被測定物を吸引する吸引部を有する基
盤と、該基盤に重ねられた背面板とを備え、該背面板
は、その表面からその裏面へ貫通された多数の通気孔
と、前記被測定物を吸着する多数の吸着凹部とを有し、
前記吸引部は、通気性を有する多孔部である。これによ
れば、板状の被測定物を歪めずに設置する作業を容易に
行うことができ、設置後、吸引部の吸引を停止しても、
被測定物の位置ずれを防ぐことができるので、駆動エネ
ルギーの低減を図ることができる。
【0025】また、吸引部を複数設ければ、大きな被測
定物も、小さな被測定物も、設置できる。また、図2の
半導体ウェーハ1の表面1bが酸化膜を有する場合に
は、測定部20に膜厚測定装置を設けてもよく、これに
より、表面1bのうねりL1と表面1bの粗さと共に、
表面1bの膜厚を検出することができる。膜厚測定装置
としては、レーザ光線を半導体ウェーハ1の酸化膜に向
けて射出し、その反射光線の干渉に基づいて、酸化膜の
膜厚を測定するものなどがある。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
搬送部により被測定物が設置部に設置され、移動テーブ
ルにより、高精度に位置決めされるので、被測定物の設
置及び位置合わせを容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の表面測定装置の一実施形態を示す図
【図2】図1の表面測定装置の接触体を示す図
【符号の説明】
1…半導体ウェーハ(被測定物) 1b…表面 10…吸着テーブル(移動テーブル) 20…測定部 70…収納部 71…搬送部 100…表面測定装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被測定物を収納する収納部と、 被測定物を載置し所望位置に移動することができる移動
    テーブルと、 前記収納部から被測定物を取り出して前記移動テーブル
    に搬送すると共に前記移動テーブル上の被測定物を前記
    収納部に搬送する搬送部と、 前記被測定物の表面を測定する測定部とを設けたことを
    特徴とする表面測定装置。
JP5299097A 1997-03-07 1997-03-07 表面測定装置 Pending JPH10253347A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5299097A JPH10253347A (ja) 1997-03-07 1997-03-07 表面測定装置

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JP5299097A JPH10253347A (ja) 1997-03-07 1997-03-07 表面測定装置

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Publication Number Publication Date
JPH10253347A true JPH10253347A (ja) 1998-09-25

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ID=12930371

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5299097A Pending JPH10253347A (ja) 1997-03-07 1997-03-07 表面測定装置

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JP (1) JPH10253347A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018187912A (ja) * 2017-05-04 2018-11-29 三緯國際立體列印科技股▲ふん▼有限公司XYZprinting, Inc. 三次元プリンティング装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018187912A (ja) * 2017-05-04 2018-11-29 三緯國際立體列印科技股▲ふん▼有限公司XYZprinting, Inc. 三次元プリンティング装置

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