JPH1025259A - ヒドロナフタレン誘導体 - Google Patents

ヒドロナフタレン誘導体

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JPH1025259A
JPH1025259A JP17906496A JP17906496A JPH1025259A JP H1025259 A JPH1025259 A JP H1025259A JP 17906496 A JP17906496 A JP 17906496A JP 17906496 A JP17906496 A JP 17906496A JP H1025259 A JPH1025259 A JP H1025259A
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JP
Japan
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iodobenzyl
hydroxy
dimethyldecahydronaphthalen
alkyl
substituted
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Application number
JP17906496A
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English (en)
Inventor
Yoshihide Ueno
能秀 上野
Masami Muraoka
正実 村岡
Naoatsu Negoro
尚温 根来
Naohito Ohashi
尚仁 大橋
C Medina Jurio
ジュリオ・シー・メディナ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TURARIC Inc
Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
Original Assignee
TURARIC Inc
Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 LDL受容体合成を制御し、高脂血症の治療
に有用なデカヒドロフラン誘導体、その医薬的に許容さ
れる塩およびこの化合物を含む医薬組成物を提供する。 【解決手段】 式(I)に示されるデカヒドロフラン誘
導体またはその医薬的に許容される塩。 【化1】 [式中、R1およびR2は水素、低級アルキル等、R3は水
素、低級アルキル等、R4は水素、低級アルカノイル
等、R5はヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ等、R
50は水素、あるいはR5とR50が一緒になって=O、お
よびR6は水素]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はデカヒドロナフタレ
ン誘導体、この化合物を含む医薬組成物、中でも高脂血
症治療剤に関する。
【0002】
【従来の技術】肝細胞における低密度リポタンパク(low
density lipoprotein;LDL)受容体は、血中コレステ
ロール濃度の調節に重要な役割を持っている。すなわ
ち、3−ヒドロキシ−3−メチルグルタリル補酵素A
(HMG−CoA)還元酵素阻害剤による肝細胞における
コレステロール合成阻害が間接的にLDL受容体の発現
を増加させ、その結果、LDL受容体による血中からの
LDLの取り込みが増加して、血中コレステロールの低
下を導くことが明らかとなっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】HMG−CoA還元酵
素阻害剤は、血中コレステロールを低下させることが出
来る薬剤として臨床上高い評価を受けている。しかしな
がら、高い血清コレステロール値を持つ家族性高コレス
テロール血症の患者、あるいは冠動脈疾患をもつ患者に
対し、目標とする低レベルの血清コレステロール値まで
下げるには十分な効果を有していない。
【0004】
【課題を解決するための手段】HMG−CoA還元酵素
阻害剤が、コレステロール合成阻害を介する間接的なL
DL受容体の合成促進作用であるのに対し、より直接的
にLDL受容体の合成を促進することにより、よりシャ
ープな血中LDL濃度低下作用が期待できる。LDL受
容体の各々の遺伝子の上流には、それぞれSRE(Ster
ol RegulatoryElement)と呼ばれる配列が存在し、細
胞内遊離コレステロールにより転写調節を受けている
(ゴールドスタイン(Goldstein)、ブラウン(Brown)、
ネイチャー(Nature)、第343巻、425ページ、1
990年)。近年、LDL受容体遺伝子のSREに結合
する物質としてSREBP(SRE binding protein)が
同定され(ゴールドスタイン、ブラウンら(Goldstein,
Brown et al.)、ザ・ジャーナル・オブ・バイオロジ
カル・ケミストリ(The Journal of Biological Che
mistry)、第268巻、14497ページ、1993
年)、このSREBPがLDL受容体遺伝子のSREに
結合することによりLDL受容体遺伝子の転写は活性化
されることが報告された(ゴールドスタイン、ブラウン
ら(Goldstein,Brownet al.)、セル(Cell)、第75
巻、187ページ、1993年およびプロシーディング
・オブ・ザ・ナチュラル・アカデミー・オブ・サイエン
ス(Proceedingof The Natural Academy of Scienc
e)、第90巻、11603ページ、1993年)。これ
らの作用を利用し、選択的にLDL受容体の発現を活性
化することにより、血中コレステロールを低下させる新
しい作用機序の薬剤を開発することができる。本発明
は、直接的にまたは間接的に遺伝子の転写レベルでLD
L受容体合成を制御し、高脂血症の処置に有用な化合物
を提供する。本発明はさらに前記の症状を処置するため
の治療用組成物に関する。また、LDL受容体合成の制
御、血清LDLコレステロール濃度の低下および動脈硬
化症防止の治療に有用な化合物を提供する。
【0005】
【発明の実施の形態】すなわち、本発明は式(I)
【化9】 [式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素、C1
〜C4アルキル、またはC1〜C4ハロアルキルを表
し、R3 は水素、C1〜C6アルキル、C1〜C6ハロ
アルキル、または基:
【化10】 {式中、R7 が水素、ハロ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロアルキル、C2〜C4アルケニル、またはC
2〜C4ハロアルケニルを表し、R8 が水素、C1〜C
4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、またはハロを表
すか、もしくは、R7 とR8 が一緒になってそれらが結
合する炭素原子と共に置換または非置換C5〜C6シク
ロアルケニル、非置換もしくは置換C5〜C6シクロア
ルカジエン環、非置換もしくは置換フェニル、または、
非置換もしくは置換ヘテロ環基を形成してもよく、R9
は水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキ
ル、またはハロを表す}を表し、R4 は水素、C2〜C
5アルカノイル、C3〜C10アルキル、C3〜C10アル
ケニル、または基:
【化11】 {式中、Aは非置換もしくは置換の2価のC2〜C12
不飽和炭化水素基を表し、Xはヒドロキシメチル、(C
1〜C4アルカノイル)オキシメチル、(C1〜C4アル
キル)オキシメチル、シアノ、カルボキシ、(C1〜C4
アルキル)オキシカルボニル、(C1〜C4アルキル)カ
ルバモイル、非置換もしくは置換フェニルカルバモイル
を表す}を表し、R50は水素を表し、R5 はヒドロキ
シ、C1〜C4アルカノイルオキシ、アミノ、C1〜C
4アルカノイルアミド、置換アミノ、メルカプトまたは
(C1〜C4アルコキシ)カルボニルオキシ基を表すか、
またはR50とR5 が一緒になって=Oを表す。1,8a位
間の結合は単結合または二重結合を表す。1,8a位間が
単結合の場合、R6 は水素を表し、1,8a位間が二重結
合の場合、R6 は存在しない。]で表されるデカヒドロ
ナフタレン誘導体またはその医薬的に受容し得る塩に関
する。
【0006】以下、本発明化合物について詳説する。用
語「アルキル」はそれ自身または他の置換基の部分とし
て、別段の指摘がない限り、記述の炭素数を持つ直鎖ま
たは分枝鎖の飽和炭化水素基であって、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブ
チル、イソブチル、sec−ブチルのような直鎖または
分枝鎖の基、および指摘したところではn−ペンチル、
n−ヘキシル、2−メチルペンチル、1,5−ジメチル
ヘキシル、1−メチル−4−イソプロピルヘキシルなど
のようなさらに高級な同族体と異性体を含む。
【0007】また、ハロアルキル、アルカノイル、アル
キルオキシメチル、アルキルオキシカルボニル、アルキ
ルカルバモイル、アルカノイルオキシ、アルカノイルオ
キシメチル、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニ
ルオキシにおけるアルキル部分も上記と同様の基が挙げ
られる。
【0008】用語「アルケニル」はビニル、1−プロペ
ニル、アリル、イソプロペニル、多数のブテニル異性
体、および指摘したところでは、1−メチルプロパ−1
−エニル、1−メチルペンタ−1−エニル、1−メチル
ヘキサ−1−エニル、1−メチルヘプタ−1−エニル、
1−メチルオクタ−1−エニル等のさらに高級な同族体
と異性体のような指摘の炭素数を持つ直鎖または分枝鎖
のモノ不飽和炭化水素基を表す。用語「シクロアルケン
環」は指摘の炭素数を持つ二重結合を1つ有する不飽和
環状炭化水素基で、シクロペンテン環およびシクロヘキ
セン環の多数の異性体も含むものを意味する。用語「シ
クロアルカジエン環」は指摘の炭素数を持つ二重結合を
1つ有する不飽和環状炭化水素基の意味で、シクロペン
タジエン環およびシクロヘキサジエン環の多数の異性体
を含む。シクロアルケン環およびシクロアルカジエン環
の置換基としては、R9 とは別に例えばハロ、ヒドロキ
シ、シアノ、メルカプト、−S(C1〜C4アルキル)、
アミノ、置換アミノ、アセトアミド、カルボキシ、トリ
フルオロメチル、C1〜C4アルコキシ、(C1〜C4
アルコキシ)カルボニルおよびアミノカルボニルから任
意に選ばれ、1個または複数個置換していてもよい。
【0009】用語「2価のC2〜C12不飽和炭化水素
基」は、1以上の2重結合を有する2価のC2〜C12
不飽和炭化水素基を意味し、また、2以上の二重結合が
共役しているもの及び共役していないものを含む。具体
的には例えばブタジエニレン、ヘキサトリエニレン、オ
クタテトラエニレン、デカペンタエニレンなどの共役C
4〜C12不飽和炭化水素基、またはビニレン、1,4
−ペンタジエニレンなどの非共役な2価のC2〜C12
不飽和炭化水素基が挙げられる。「2価のC2〜C12
不飽和炭化水素基」の置換基としてはハロ、ヒドロキ
シ、C1〜C4アルキル、シアノ、メルカプト、−S
(C1〜C4アルキル)、アミノ、置換アミノ、アセトア
ミド、カルボキシ、トリフルオロメチル、C1〜C4ア
ルコキシ、(C1〜C4アルコキシ)カルボニルから任意
に選ばれ、任意の位置に任意の個数置換する。置換され
た「2価のC2〜C12不飽和炭化水素基」としては例
えば、1−メチルビニレン、1−メチルブタジエニレ
ン、1−メチルヘキサトリエニレン、1−メチルオクタ
テトラエニレン、1,3−ジメチルブタジエニレン、
1,3−ジメチルヘキサトリエニレン、1,3−ジメチ
ルオクタテトラエニレン、1,3,7−トリメチルオク
タテトラエニレン等が挙げられる。用語「ハロ」はクロ
ロ、ブロモ、フルオロ、またはヨードを意味する。用語
「置換アミノ」はアミノ基の水素が一つまたは両方が独
立にハロ、C1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニ
ル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキシ、メルカプト、
または−S(C1〜C4アルキル)で置換されたアミノ基
を意味する。用語「置換フェニル」の置換基としては1
個または複数個置換していてもよく、ハロ、C1〜C4
アルキル、C2〜C4アルケニル、C1〜C4アルコキ
シ、ヒドロキシ、メルカプト、または−S(C1〜C4
アルキル)、カルボキシ、エステル、非置換または置換
アミノを意し、母核に結合する炭素原子のパラ位には必
ず置換するのが好ましい。また、R7 とR8 が一緒にな
ってそれらが結合する炭素原子とともに置換ベンゼン環
を表す場合、R9 以外の位置における置換基も上記と同
様の置換基が挙げられる。
【0010】用語「ヘテロ環」はピロリル、ピロリニ
ル、ピラゾリル、ピラゾリジニル、イミダゾリル、イミ
ダゾリニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピ
リダジニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾ
リル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、フリル、オキ
サジアゾリル、およびトリアゾリルなどの、窒素、酸
素、硫黄原子から選ばれた1〜3個のヘテロ原子と炭素
原子で構成される5〜6員環の不飽和ヘテロ環を意味
し、その置換基としては、ハロ、C1〜C4アルキル、
C2〜C4アルケニル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロ
キシ、メルカプト、−S(C1〜C4アルキル)、カルボ
キシ、アルカノイルオキシ、非置換または置換アミノか
ら独立に1〜2個選ばれる。
【0011】本発明の化合物は当業者が認識するよう
に、いくつかのキラルな炭素原子を有している。それ
故、本発明化合物はラセミ化合物、ラセミ混合物、個々
のジアステレオマー、および純粋な鏡像異性体であり得
る。全ての不斉型、個々の異性体およびその組み合わせ
は本発明の範囲内である。本発化合物の好適なものは式
(II)に示す立体構造を持つ。
【化12】 [式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素、メチ
ル、またはハロメチルを表し、R3 は水素、C1〜C6
アルキル、C1〜C6ハロアルキル、または基:
【化13】 {式中、R7 が水素、ハロ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロアルキル、C2〜C4アルケニル、またはC
2〜C4ハロアルケニルを表し、R8 が水素、メチル、
ハロメチル、またはハロを表すか、あるいは、R7 とR
8 が一緒になってそれらが結合する炭素原子と共に置換
もしくは非置換C5〜C6シクロアルケン環、置換もし
くは非置換C5〜C6シクロアルカジエン環、非置換も
しくは置換ベンゼン環、または、非置換もしくは置換ヘ
テロ環を形成してもよく、R9 は水素、メチル、ハロメ
チル、またはハロを表す}を表す。R4 は水素、アセチ
ル、C3〜C10アルキル、C3〜C10アルケニル、また
は基:
【化14】 {式中、Aは非置換もしくは置換の2価のC2〜C12
不飽和炭化水素基を表し、Xはヒドロキシメチル、(C
1〜C4アルカノイルオキシ)メチル、(C1〜C4アル
キルオキシ)メチル、シアノ、カルボキシ、(C1〜C4
アルキル)オキシカルボニル、(C1〜C4アルキル)カ
ルバモイル、非置換もしくは置換フェニルカルバモイル
を表す}を表す。R5 はヒドロキシ、C1〜C4アルカ
ノイルオキシ、アミノ、C1〜C4アルカノイルアミ
ド、置換アミノ、メルカプトまたは(C1〜C4アルコ
キシ)カルボニルオキシ基を表す。1,8a位間の結合は
単結合または二重結合を表す。1,8a位間が単結合の場
合、R6 は水素を表し、1,8a位間が二重結合の場合、
6 は存在しない。] 本発明化合物のさらに好適なものは式(III)に示す立
体構造を持つ。
【化15】 [式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素、また
はメチルを表し、R3 はアリル、2−ブテニル、2−メ
チル−2−プロペニル、2−ハロ−2−プロペニル、ま
たは非置換もしくは置換フェニルメチル基を表し、R4
は水素、アセチル、C3〜C10アルキル、C3〜C10ア
ルケニル、または基:
【化16】 {式中、Aは非置換もしくは置換の2価の共役C4〜C
12不飽和炭化水素基または非置換もしくは置換のビニ
レンを表し、Xはヒドロキシメチル、(C1〜C4アル
カノイルオキシ)メチル、(C1〜C4アルキル)オキシ
メチル、シアノ、カルボキシ、(C1〜C4アルキルオ
キシ)カルボニル、(C1〜C4アルキル)カルバモイ
ル、非置換または置換フェニルカルバモイルを表す}を
表し、R5 はヒドロキシまたはC1〜C4アルカノイル
オキシ基を表す。]
【0012】本発明化合物に含まれる化合物を具体的に
列挙すると以下のようになる。 (1S,2R,4aS,8aS)−1−(4−ブロモベンジル)−
4a−メチルデカヒドロナフタレン−2−オール、(1
S,2R,4aS,8aS)−1−アリル−4a−メチルデカ
ヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4a
S,6R,8aS)−1−アリル−6−イソプロペニル−
4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−オール、
(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−6−イソプロペニル−4,4a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4
aS,6R,8aS)−2−アセトキシ−1−アリル−6−
イソプロペニル−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレ
ン、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチ
ル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカ
ヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4a
S,6R,8aS)−2−アセトキシ−6−アセチル−1−
アリル−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン、(1
S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ−6
−アセチル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメ
チルデカヒドロナフタレン、3−[(2R,4aS,5S,6
R,8R,8aS)−6−アセトキシ−5−アリル−8,8a
−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソク
ロトン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8
aS)−6−アセトキシ−5−(4−ヨードベンジル)−
8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−
イソクロトン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,
8R,8aS)−5−アリル−6−ヒドロキシ−8,8a−
ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロ
トン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8a
S)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,
8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソ
クロトン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,
8aS)−5−アリル−6−ヒドロキシ−8,8a−ジメチ
ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン
酸、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒ
ドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチ
ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン
酸、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒ
ドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチ
ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−クロトン酸エチ
ル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒ
ドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチ
ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−クロトン酸、(1
S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−[(1E)−3−
ヒドロキシ−1−メチルプロペニル]−1−(4−ヨード
ベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン−
2−オール、(2E)−3−[(2R,4aS,5S,6R,8
R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジ
ル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イ
ル]−ブタ−2−エンニトリル、(2Z)−3−[(2R,4
aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4
−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフ
タレン−2−イル]−ブタ−2−エンニトリル、(2E,
4E)−5−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6
−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジ
メチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ヘキサ−2,
4−ジエン酸エチル、(2E,4E)−5−[(2R,4aS,
5S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨ
ードベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレ
ン−2−イル]−ヘキサ−2,4−ジエン酸、(2E,4
E,6E)−7−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−
6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−
ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−オクタ−
2,4,6−トリエン酸エチル、(2E,4E,6E)−7−
[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ
−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒ
ドロナフタレン−2−イル]−オクタ−2,4,6−トリ
エン酸、(2E,4E,6E,8E)−9−[(2R,4aS,5
S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨー
ドベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン
−2−イル]−デカ−2,4,6,8−テトラエン酸エチ
ル、(2E,4E,6E,8E)−9−[(2R,4aS,5S,
6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨード
ベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−
2−イル]−デカ−2,4,6,8−テトラエン酸、4−
{(2E)−3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−
6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−
ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ブタ−2
−エノイルアミノ}−安息香酸、(1S,2R,4R,4a
S,6R,8aS)−6−[(1E,3E)−5−ヒドロキシ−
1−メチルペンタ−1、3−ジエニル]−1−(4−ヨー
ドベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン
−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−
1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−
[(1E)−1−メチルプロペニル]−デカヒドロナフタレ
ン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)
−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−
[(1Z)−1−メチルプロペニル]−デカヒドロナフタレ
ン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)
−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−
[(1E)−1−メチルペンタ−1−エニル]−デカヒドロ
ナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6
R,8aS)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメ
チル−6−[(1Z)−1−メチルペンタ−1−エニル]−
デカヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,
4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4
a−ジメチル−6−[(1E)−1−メチルヘキサ−1−エ
ニル]−デカヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2
R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨードベンジ
ル)−4,4a−ジメチル−6−[(1Z)−1−メチルヘキ
サ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−2−オー
ル、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨ
ードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1E)−1−
メチルヘプタ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−
2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1
−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1
Z)−1−メチルヘプタ−1−エニル]−デカヒドロナフ
タレン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8a
S)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−
6−[(1E)−1−メチルオクタ−1−エニル]−デカヒ
ドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,
6R,8aS)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジ
メチル−6−[(1Z)−1−メチルオクタ−1−エニル]
−デカヒドロナフタレン−2−オール。
【0013】上述の通り、本発明は上式で示される化合
物の医薬品として許容される塩を含む。本発明の特定化
合物は多数の無機酸、有機酸、または無機塩基と反応し
て医薬的に許容しうる塩を形成する。酸付加塩を形成す
るために通常用いる酸は、無機酸としては例えば塩酸、
臭化水素酸、硫酸、リン酸などが挙げられる。有機カル
ボン酸としては、例えばギ酸、酢酸、フマル酸、マレイ
ン酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸などが挙げられる。スルホン酸としては、例えばメタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、ジヒドロキシ
ベンゼンスルホン酸などが挙げられる。塩基付加塩はア
ンモニウム、アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩などのような無機塩基から誘導さ
れるものが含まれる。塩基付加塩を製造するのに有用な
塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ア
ンモニウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、重炭酸カリウム、水酸化カルシウム、炭酸カ
ルシウムなどが挙げられる。カリウムおよびナトリウム
は殊に好適である。
【0014】また、本発明には、無水物または水和物等
の溶媒和物も含まれる。本発明の化合物および前駆体は
当業者に公知の方法を用いて製造される。それ自身が他
の本発明の化合物製造用中間体としても使える本発明の
化合物は、一般に反応式1〜6に示される反応に従って
製造される。
【化17】 (Yは臭素、塩素、ヨウ素等のハロゲンを意味し、R40
は水素、C1〜C4アルカノイル、C3〜C10アルキル
またはC3〜C10アルケニルを意味し、R1 、R2 およ
びR3 は前記と同じ意味を示す。) 反応式1の工程Aに示すように、適当なヘキサヒドロ−
2−ナフタレノン、例えば、ヌートカトン(4,4a,5,
6,7,8−ヘキサヒドロ−6−イソプロペニル−4,4a
−ジメチル−2−ナフタレノン)や4,4a,5,6,7,8
−ヘキサヒドロ−4a−メチル−2−ナフタレノンに適
当なハロゲン化アルキル、ハロゲン化ベンジル、または
ハロゲン化2−プロペニル等のY−R3 で表される化合
物を強塩基とプロトン源の存在下に本反応において不活
性な溶媒もしくは混合溶媒中、還元的にアルキル化して
対応する1−置換オクタヒドロ−2−ナフタレノンを得
る。好適な強塩基は液体アンモニア中のアルカリ金属、
好ましくはリチウムまたはナトリウムである。プロトン
供給源としてはエタノール、より好ましくはt−ブタノ
ールなどが挙げられる。一般に好ましい反応温度は−8
5℃から−30℃である。
【0015】反応式1の工程Bでは2−オン化合物を本
反応において不活性な溶媒もしくは混合溶媒中、ヒドリ
ド還元して対応するαおよびβ−アルコール体とする。
適当なヒドリド還元剤としては水素化ジイソブチルアル
ミニウム(DIBAL−H)、水素化トリ−sec−ブチル
ホウ素カリウム(K−セレクトライド)、および水素化ア
ルミニウムリチウム(LAH)などが挙げられる。一般に
好ましい反応温度は−85℃から室温である。各工程に
適当な溶媒としては、塩素化炭化水素またはエーテル系
溶媒であり、より好適な溶媒はテトラヒドロフラン(T
HF)である。本工程で得られるα−ヒドロキシおよび
β−ヒドロキシ異性体は一般にクロマトグラフィーで分
離されるが、当業者に公知の他の分離技術も使える。以
下に述べる反応では、α−ヒドロキシ異性体について説
明するが、β−ヒドロキシ異性体についても同様の反応
を行うことが出来る。
【化18】 (R1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 反応式2はR がアセチル基である場合の本発明化合
物の合成法を示す。本化合物は他の本発明化合物を合成
するために重要な反応中間体でもある。
【0016】反応式1で得られたイソプロペニル誘導体
(4)に、本反応において不活性な溶媒もしくは混合溶媒
中、オゾンガスを吹き込んだ後、還元的処理もしくは酸
化的処理によって目的のケトン化合物を得る。本反応に
適当な溶媒は、メタノール、エタノール、酢酸エステ
ル、塩化メチレンが挙げられ、必要に応じてこれらを混
合して用いても良い。還元的処理に使われる還元剤とし
ては、亜鉛(酢酸)、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ
ム、亜リン酸エステル、ジメチルスルフィド、チオウレ
アなどが挙げられる。一般に好ましい反応温度は−85
℃から室温である。
【0017】
【化19】
【化20】 (R70は水素、ハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4
ハロアルキル、C2〜C4アルケニル、またはC2〜C
4ハロアルケニルを表し、R80は水素、C1〜C4アル
キル、C1〜C4ハロアルキル、またはハロを表し、R
1 、R2 およびR9 は前記と同じ意味を示す。) 尚、反応式3に示す様にR3 が2−プロペニル類である
場合、反応式2と同様の条件にてオゾン分解を行うと3
位の2−プロペニル基も開裂して、アルデヒドもしくは
ケトンが形成される(工程A)。得られたケト−アルデヒ
ドもしくはジケトンを当業者公知のWittig反応もしく
はHorner−Emmonds反応を用いて選択的に増炭するこ
とにより、R3 が2−プロペニル類である化合物を再生
することが出来る(工程B)。
【0018】
【化21】
【化22】 (R1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 反応式4は本発明化合物であり、他の本発明化合物を合
成するために重要な反応中間体でもある化合物の合成法
の例示である。反応式4−1では、反応式2もしくは反
応式3で得られた本発明化合物を当業者に公知のWitti
g反応、もしくはHorner−Emmonds反応を用いてアルケ
ンを製造する。Wittig反応で用いられるホスホニウム
塩は市販されているか、または、ハロゲン化アルキルと
トリフェニルホスフィンの反応により合成できる。ホス
ホニウム塩をイリドに変換するときに用いられる塩基と
溶媒の種類は、α位水素の酸性度や生成するアルケンの
安定性を考慮して選択される。一般に、安定化イリドの
場合には希アルカリ水溶液やneatのアミンを用いる。一
方、非安定化イリドの場合にはアルキルメタルやメタル
ヒドリドを用いる。中間の準安定化イリドの場合にはメ
タルアルコキシドやアルキルリチウムが繁用される。以
下に、良く用いられる塩基と溶媒の組み合わせを例示す
るが、これらの組み合わせに限定されるものではない。
【0019】1)安定化イリド:水酸化ナトリウム
(水)、炭酸ナトリウム(水)、ナトリウムエトキシド(エ
タノール)、トリエチルアミン(エタノール、クロロホル
ム、ニトロメタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テル)、ピリジン(塩化メチレン、ニトロメタン)、1,
5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN)
(ジメチルスルホキシド(DMSO))、カリウムt−ブト
キシド(DMSO)、n−ブチルリチウム(エーテル); 2)準安定イリド:ナトリウムエトキシド(エタノール、
ジメチルホルムアミド(DMF))、ナトリウムメトキシ
ド(メタノール−エーテル、DMF)、カリウムt−ブト
キシド(THF)、n−ブチルリチウム(エーテル)、フェ
ニルリチウム(エーテル)、DBN(DMSO)、カリウム
ビス(トリメチルシリル)アミド(KHMDS)(THF、
トルエン)、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド
(NaHMDS)(THF、トルエン)、リチウムビス(トリ
メチルシリル)アミド(LiHMDS)(THF、トルエ
ン); 3)非安定化イリド:ナトリウムアジド(アンモニア)、n
−ブチルリチウム(エーテル、ベンゼン、DMF)、カリ
ウム t−ブトキシド(THF)、フェニルリチウム(エー
テル)、水素化ナトリウム(DMF)、カリウムビス(トリ
メチルシリル)アミド(KHMDS)(THF、トルエ
ン)、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(NaH
MDS)(THF、トルエン)、リチウムビス(トリメチル
シリル)アミド(LiHMDS)(THF、トルエン)。 準安定化イリドや非安定化イリドは発生したままの状態
ですぐに合成に供する。Horner−Emmonds反応で用い
られるアルキル亜リン酸ジエステルは、市販されている
か、または、ハロゲン化アルキルと亜リン酸トリアルキ
ルの反応により合成できる。本反応はWittig反応にお
ける安定化イリドや準安定化イリドの反応に対応する。
本反応は有機溶媒中塩基で処理してカルボアニオンを発
生させ、これを反応式2もしくは反応式3により得られ
るカルボニル誘導体(5)に作用させる。本反応に用いら
れる有機溶媒としてはエタノール、ベンゼン、THF、
1,2−ジメトキシエタン(DME)、DMSOなどが挙
げられ、塩基としては水素化ナトリウム、ナトリウムア
ジド、金属アルコキシドなどが挙げられる。本反応はE
−異性体を選択的に合成する場合に有効である。いずれ
の反応の場合も、反応温度は−40℃から溶媒の沸点の
間から選択される。本工程で得られるE,Z−オレフィ
ン異性体は一般にクロマトグラフィーで分離されるが、
当業者に公知の他の分離技術も使える。
【0020】反応式4−2は置換基R4 のXがカルボキ
シである本発明化合物を製造する一例を示したものであ
る。本工程では水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウムのような適当な塩基を用い、エーテル系溶
媒、アルコール系溶媒、水等の混合溶媒を用いて、加水
分解することにより製造される。反応温度は室温からそ
の混合溶媒の還流温度までの間から選択できる。反応式
4−3から4−5に示される一連の反応は、R4 置換基
のAが共役不飽和炭化水素基を意味する本発明化合物の
合成の例示である。まず、反応式4−3では反応式4−
1で得られるα,β−不飽和エステル誘導体(9)を、当
業者公知の方法にて還元し、アリルアルコール誘導体
(11)とする。このとき用いられる還元剤としてはDI
BAL−Hもしくは水素化ビス(2−メトキシエトキシ)
アルミニウムナトリウム(SMEAH、またはRed−A
l、Vitrideとも称される)が好適で、DIBAL−Hに
はジエチルエーテル、THFなどのエーテル系溶媒が、
SMEAHにはベンゼン、トルエンなどが好適である。
好ましい反応温度は−85℃から室温である。
【0021】得られたアリルアルコールを酸化してアル
デヒド(12)を製造する(反応式4−4)。ここで用いら
れる酸化剤として好適なのは活性二酸化マンガンであ
り、好適な溶媒はクロロホルム、塩化メチレン、および
アセトンである。好ましい反応温度は室温から50℃で
ある。反応式4−5では、例えば、エトキシカルボニル
メチレントリフェニルホスホラン、ホスホノ酢酸トリエ
チル、または4−ホスホノクロトン酸トリエチル等を用
いたWittig反応もしくはHorner−Emmonds反応により
共役不飽和炭化水素基を伸張することが出来る。本工程
で得られるE,Z−オレフィン異性体は一般にクロマト
グラフィーで分離されるが、当業者に公知の他の分離技
術も使える。上記反応式4−3から4−5の工程を繰り
返すことにより、さらに炭素鎖が伸長された化合物を得
ることができる。
【0022】
【化23】 (R1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を示し、R10
はC1〜C4アルキル、置換もしくは非置換フェニルを
示す。) 反応式5は、一般式(1)においてXがアルキルカルバモ
イル、非置換また置換フェニルカルバモイルである化合
物の製造方法の一例を示す。ここに例示したような酸ア
ミド誘導体(14)は、反応式4−2で得られた一般式
(10)から、当業者公知のカルボン酸とアミンの縮合に
よって製造される。
【0023】縮合剤としては、一般にペプチド合成に繁
用されるジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、ジ
イイソプロピルカルボジイミド(DIPC)、N−エチル
−N'−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド(E
DCまたはWSCIとも略される。)およびその塩酸塩
(WSCI・HCl)、ベンゾトリアゾール−1−イル−
トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロリ
ン化物塩(BOP)、ジフェニルホスホリルアジド(DP
PA)などが使用できる。これらの他にも、例えば、カ
ルボニルジイミダゾール、2−エトキシ−1−エトキシ
カルボニル−1,2−ジヒドロキノリン(EEDQ)、ト
リフェニルホスフィン−四塩化炭素、トリフェニルホス
フィン−ブロモトリクロロメタン、シアノホスホン酸ジ
エチルなども使用できる。用いられる溶媒は塩化メチレ
ン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、THF、
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、酢
酸エステル類、DMFなどが用いられるこれらを適宜混
合して使用しても良い。反応温度は−20℃から溶媒の
還流温度であり、より好適なのは室温である。
【0024】
【化24】 (R41は水素、C1〜C4アルカノイル、C3〜C10ア
ルキル、C3〜C10アルケニル、または基:−A−X1
{式中、Aは非置換もしくは置換の2価のC2〜C12
不飽和炭化水素基を表し、X1 は(C1〜C4アルカノ
イル)オキシメチル、(C1〜C4アルキル)オキシメチ
ル、シアノ、カルボキシ、(C1〜C4アルキル)オキシ
カルボニル、(C1〜C4アルキル)カルバモイル、非置
換もしくは置換フェニルカルバモイルを表す}を表し、
1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 反応式6はR5 がアルカノイルオキシ基である化合物の
製造法の例を示す。ヒドロキシ誘導体(15)を当業者公
知の方法によりアシル化してアルカノイルオキシ誘導体
(16)を製造することが出来る。すなわち、塩基存在
下、酸ハロゲン化物、もしくは酸無水物を作用させて製
造する。用いられる塩基としては、ピリジン、トリアル
キルアミン類、イミダゾールなどが挙げられ、反応溶媒
としては、ピリジン、塩化メチレンなどのハロゲン化炭
化水素、THFなどのエーテル類が挙げられる。反応温
度は−20℃から溶媒の還流温度で、好ましくは0℃か
ら室温である。このとき、4−ジメチルアミノピリジン
(DMAP)等の反応補助剤を加えても良い。尚、反応式
6においてR4 がヒドロキシを有する場合、同様にヒド
ロキシがアシル化された本発明化合物を得ることができ
る。上記以外の本発明化合物も公知物質、公知方法また
は上記方法を組み合わせることによって製造するとがで
きる。
【0025】前記のように式(I)の化合物の光学活性ジ
アステレオマーは、この発明の一部をなす。光学活性異
性体は各光学活性前駆体から前記操作で製造しても良
く、また、ラセミ混合物を光学分割しても良い。光学分
割は分割剤の存在下、クロマトグラフィー、反復結晶化
またはこれら当業者に公知の技術の組み合わせで実施す
る。本発明の化合物合成における最初の出発物質として
用いる化合物は公知で、商業的に入手出来ない物も当業
者が普通に用いる標準的操作によって容易に合成され
る。この発明の医薬的に受容しうる塩は式(I)の化合物
を等モルまたは過剰量の酸または塩基と反応させて製造
する。
【0026】式(I)で表される本発明化合物およびその
塩は、これを医薬として用いるにあたり経口的または非
経口的に投与することができる。すなわち通常用いられ
る投与形態、例えば錠剤、カプセル剤、シロップ剤、懸
濁液等のかたちで経口的に投与することができ、あるい
はその溶液、乳剤、懸濁液等の液剤のかたちにしたもの
を注射のかたちで非経口投与することができる。坐剤の
かたちで直腸投与することもできる。また、前記の適当
な投与剤型は許容される通常の担体、賦型剤、結合剤、
安定剤などに活性化合物を配合することにより製造する
ことができる。また、注射剤型で用いる場合には許容さ
れる緩衝剤、溶解補助剤、等張剤等を添加することもで
きる。投与量、投与回数は症状、年令、体重、投与形態
によって異なるが、通常は成人に対し1日あたり経口の
場合には約1〜1000mg、好ましくは5〜500mg
を、注射の場合には0.1〜500mgを1回または数回
に分けて投与することができる。
【0027】
【実施例】以下の実施例は本発明の化合物とその製造法
を説明するが本発明を何等限定するものではない。 実施例1 (1S,2R,4aS,8aS)−1−(4−ブロモベンジル)
−4a−メチルデカヒドロナフタレン−2−オールの製
【化25】 窒素雰囲気下、−78℃にて液体アンモニア(15mL)
に金属リチウムの小片(45mg,6.52mmol)を加えた。
得られた濃青色溶液にTHF(10mL)を加え、−78℃
にてさらに15分間撹拌した。この溶液に、(S)−(+)
−4,4a,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−4a−メチル−
2(3H)−ナフタレノン(267mg,1.63mmol)および
t−ブタノール(0.156mL,1.63mmol)のTHF(1
0mL)溶液を滴下した。この混合物をさらに15分間撹
拌後、イソプレン(0.65mL,6.52mmol)を加えて過
剰のリチウムをクエンチした。さらに15分後、臭化4
−ブロモベンジル(1.22g,4.89mmol)のTHF(5m
L)溶液を加え、この混合物を−78℃にて2時間半撹拌
した。飽和塩化アンモニウム水溶液(10mL)を加えた
後、冷却浴をはずし、反応混合物をアンモニアガスを蒸
発させながら室温まで放置した。これを酢酸エチル(2
x20mL)と水(20mL)に分配し、合わせた有機層を飽
和食塩水(30mL)で洗浄、無水硫酸ナトリウムにて乾
燥、濾別後、減圧濃縮した。得られた残渣をフラッシュ
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘ
キサン)にて精製して淡黄色オイルを製造した。窒素雰
囲気下、−78℃にて、このオイルのTHF(5mL)溶液
に、K−セレクトライドのTHF溶液(1M溶液,1.
42mL,1.42mmol)を加え、室温まで昇温後、2時間
撹拌した。反応溶液を氷冷し、メタノール(1.5mL)、
5N水酸化ナトリウム水溶液(1.51mL,7.56mmo
l)、および30%過酸化水素水(0.58mL,5.67mmo
l)を順に加えた。氷浴を除去し、反応混合物を室温にて
2時間撹拌後、酢酸エチル(50mL)および飽和食塩水
(20mL)に分配した。有機層をさらに飽和食塩水(10m
L)にて洗浄、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾別後、減
圧濃縮した。得られた残渣をフラッシュシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)にて精製
して標題化合物の淡黄色オイル(205mg,37%)を製
造した。IR(neat):3412,2927,2860,1
488,1012cm-1。前記実施例1と同様の方法によ
り実施例2、3、および4の化合物を製造した。
【0028】実施例2 (1S,2R,4aS,8aS)−1−アリル−4a−メチルデ
カヒドロナフタレン−2−オールの製造
【化26】 金属リチウム(44.7mg,6.44mmol)、(S)−(+)−
4,4a,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−4a−メチル−2
(3H)−ナフタレノン(265mg,1.61mmol)、沃化ア
リル(0.44mL,4.83mmol)より、標記化合物の淡黄
色オイル(58.3mg,17%)を製造した。 IR(neat):3388,2974,2926,2861,1
445,909cm-1。 実施例3 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−アリル−6
−イソプロペニル−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタ
レン−2−オールの製造
【化27】 金属リチウム(38.0mg,5.50mmol)、(+)−ヌート
カトン(300mg,1.37mmol)、沃化アリル(0.375
mL,4.11mmol)より、標記化合物の淡黄色オイル(23
8mg,68%)を製造した。 IR(neat):3396,2922,1641,1445,1
382,911,886cm-1
【0029】実施例4 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−6−イソプロペニル−4,4a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−オールの製造
【化28】 金属リチウム(127mg,18.3mmol)、(+)−ヌートカ
トン(1.00g,4.58mmol)、臭化4−ヨードベンジル
(4.08g,13.7mmol)より、標記化合物の淡黄色オイ
ル(435mg,22%)を製造した。 IR(neat):3437,2924,1642,1484,1
445,1383,1007,887cm-1。 実施例5 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチル−
1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒ
ドロナフタレン−2−オールの製造
【化29】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−6−イソプロペニル−4,4a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−オール(435mg,0.992m
mol)の塩化メチレン−メタノール(5:1,30mL)溶液
にオゾンガスを−78℃にて溶液が青色を帯びるまで吹
き込んだ。反応溶液に同温度にて窒素ガスを吹き込んで
過剰のオゾンガスを除去した。チオウレア(151mg,
1.98mmol)を加え、室温まで昇温後、1.5時間撹拌
した。反応液を減圧濃縮後、得られた残渣を酢酸エチル
(30mL)および水(20mL)に分配した。有機層を飽和食
塩水(20mL)にて洗浄、硫酸マグネシウムにて乾燥、濾
別後減圧濃縮した。得られた残渣をフラッシュシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(25mmx220mm,酢酸エ
チル/ヘキサン)にて精製して標記化合物の黄色発泡オ
イル(382mg,87%)を製造した。 IR(neat):3472,2928,1705,1484,1
353,1007,732cm-1
【0030】実施例6 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ
−6−アセチル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−
ジメチルデカヒドロナフタレンの製造
【化30】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチル−
1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒド
ロナフタレン−2−オール(210mg,0.477mmol)の
ピリジン(2mL)溶液に、無水酢酸(2mL)およびDMAP
(触媒量)を加え、この混合物を室温にて15時間撹拌し
た。反応液を酢酸エチル(30mL)にて希釈し、1M塩酸
(3x10mL)および飽和食塩水(10mL)にて洗浄、硫酸
マグネシウムにて乾燥、濾別後、減圧濃縮した。得られ
た残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(15mmx230mm,酢酸エチル/ヘキサン)にて精製
し、標記化合物の発泡シッロプ(146mg,63%)を製
造した。 IR(neat):2937,1733,1708,1245,1
007,755cm-1。 実施例7 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ
−1−アリル−6−イソプロペニル−4,4a−ジメチル
デカヒドロナフタレンの製造
【化31】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−アリル−6
−イソプロペニル−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタ
レン−2−オール(148mg,0.564mmol)のピリジ
ン(2mL)溶液にDMAP(触媒量)および無水酢酸(2mL)
を加え、室温にて15時間撹拌した。反応液を酢酸エチ
ル(30mL)および1N塩酸(10mL)に分配し、有機層を
1N塩酸(2x10mL)及び飽和食塩水(10mL)にて洗
浄、硫酸マグネシウムにて乾燥、濾別後減圧濃縮した。
得られたオイルをフラッシュシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(10mmx180mm,酢酸エチル/ヘキサン)
にて精製し、標記化合物の淡黄色オイル(137mg,80
%)を製造した。 1H−NMR(CDCl3):δ0.76(s,3H),0.76
(d,J=6.27Hz,3H),0.93(t,J=12.7Hz,
1H),1.05−1.30&1.32−1.60(m,6H),
1.62−1.93(m,5H),1.71(s,3H),2.02−
2.38(m,2H),2.05(s,3H),4.68(s,2H),
4.89−5.10(m,3H),5.63−5.86(m,1H)。
【0031】実施例8 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ
−6−アセチル−1−アリル−4,4a−ジメチルデカヒ
ドロナフタレンの製造
【化32】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ
−1−アリル−6−イソプロペニル−4,4a−ジメチル
デカヒドロナフタレン(120mg,0.394mmol)の塩化
メチレン−メタノール(5:1,12mL)溶液にオゾンガ
スを−78℃にて溶液が青色を帯びるまで吹き込んだ。
反応溶液に同温度にて窒素ガスを吹き込んで過剰のオゾ
ンガスを除去した。チオウレア(120mg,1.58mmol)
を加え、室温まで昇温後、1.5時間撹拌した。反応液
を減圧濃縮後、得られた残渣を酢酸エチル(30mL)およ
び水(20mL)に分配した。有機層を飽和食塩水(20mL)
にて洗浄、硫酸マグネシウムにて乾燥、濾別後減圧濃縮
して淡黄色オイル(46mg)を得た。メチルトリフェニル
フォスフォニウムブロミド(106mg,0.297mmol)の
THF(2.0mL)懸濁液に0.5MのKHMDSトルエン
溶液(0.59mL,0.297mmol)を室温にて加え、15
分間撹拌後、得られた黄色混合物を−78℃まで冷却し
た。このイリド溶液に先の淡黄色オイルのTHF(1.0
mL)溶液を加え、−78℃にて1時間撹拌した。1時間
おきに上記と同当量数のイリド溶液を2回加え、さらに
1時間ずつ撹拌した。水(2.0mL)を加え、ドライアイ
ス−アセトン浴を除去して室温まで昇温した。反応混合
物を酢酸エチル(20mL)および飽和食塩水(10mL)に分
配し、有機層を飽和食塩水(10mL)にて再洗浄、硫酸マ
グネシウム乾燥、濾別後、減圧濃縮した。得られた残渣
をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(1
0mmx180mm,酢酸エチル/ヘキサン)にて精製して標
記化合物の淡黄色オイル(19.5mg,24%)を製造し
た。 IR(neat):2933,1734,1710,1375,1
247,1217,1032cm-1
【0032】実施例9 (2E)−3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6
−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジ
メチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ブタ−2−
エンニトリルおよび(2Z)−3−[(2R,4aR,5S,6
S,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベ
ンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2
−イル]−ブタ−2−エンニトリルの製造
【化33】 水素化ナトリウム(60%油分散,45.6mg,1.14mm
ol)のTHF(2.0mL)懸濁液にシアノメチルホスホン酸
ジエチル(0.184mL,1.14mmol)を加え、水素ガス
の発生がなくなるまで室温にて撹拌した。このイリド溶
液に(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチ
ル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカ
ヒドロナフタレン−2−オール(50mg,0.0114mmo
l)のTHF(1.0mL)溶液を加え、1.5時間加熱還流し
た。反応液を酢酸エチル(30mL)および0.5M塩酸(2
0mL)に分配し、有機層を飽和食塩水(20mL)にて洗
浄、硫酸マグネシウム乾燥、濾別後、減圧濃縮した。得
られた残渣オイルを分取シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー(PTLC)(200mmx200mmx0.5mm,2枚、
酢酸エチル/ヘキサン、5重展開)にて精製し、標記化
合物をそれぞれオイル(34.1mg,65%,7.7mg,15
%)として製造した。 IR(neat):3492,2925,2217,1620,1
484,1444,1384,1214,1043,100
7,928,815,756cm-1。 IR(neat):3487,2927,2216,1619,1
484,1441,1385,1210,1046,100
5,846,815,759cm-1
【0033】実施例9と同様の方法により実施例10、
11、および12の化合物を製造した。 実施例10 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−ヒドロ
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン酸エチ
ルおよび3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6
−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジ
メチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−クロトン酸
エチルの製造
【化34】 水素化ナトリウム(60%油分散,90.8mg,2.27mmo
l)、トリエチルホスホノアセテート(0.45mL,2.27
mmol)、および(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6
−アセチル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメ
チルデカヒドロナフタレン−2−オール(100mg,0.
0227mmol)より標記化合物をそれぞれオイル(51.
9mg,51%,8.2mg,7%)として製造した。 IR(neat):3504,2927,1712,1698,1
639,1484,1219,1150,1045,100
7,756cm-1。 IR(neat):3495,2924,1700,1635,1
484,1222,1150,1051,1007,757c
m-1
【0034】実施例11 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−アセト
キシ−5−アリル−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタ
レン−2−イル]−イソクロトン酸エチルおよび3−
[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−5−アリル−6
−ヒドロキシ−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン
−2−イル]−イソクロトン酸エチルの製造
【化35】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ
−6−アセチル−1−アリル−4,4a−ジメチルデカヒ
ドロナフタレン(19mg,0.062mmol)、水素化ナトリ
ウム(60%油分散,24.8mg,0.62mmol)、およびト
リエチルホスホノアセテート(0.123mL,0.62mmo
l)より標記化合物(7.2mg,31%;2.0mg,10%)を
製造した。 IR(neat):2931,1737,1715,1641,1
246,1217,1149,1045cm-1。 IR(neat):3488,2921,1714,1638,1
218,1142,1039cm-1。 実施例12 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−アセト
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン酸エチ
ルおよび3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6
−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジ
メチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロト
ン酸エチルの製造
【化36】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ
−6−アセチル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−
ジメチルデカヒドロナフタレン(20mg,0.0415mmo
l)、水素化ナトリウム(60%油分散,16.6mg,0.4
15mmol)、およびトリエチルホスホノアセテート(0.
082mL,0.415mmol)より標記化合物(3.6mg,17
%;8.6mg,41%)を製造した。 IR(neat):2930,1734,1714,1641,1
244,1146,1043,1008,756cm-1
【0035】実施例13 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−5−アリル
−6−ヒドロキシ−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタ
レン−2−イル]−イソクロトン酸の製造
【化37】 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−アセト
キシ−5−アリル−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタ
レン−2−イル]−イソクロトン酸エチル(5.6mg,0.
0149mmol)のエタノール(1mL)溶液に5N水酸化ナ
トリウム水溶液(0.2mL)を加え、1時間加熱還流し
た。反応液を室温まで放冷後、濃塩酸(5滴)を加え、減
圧濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル(5mL)を加え、
不溶物を濾別した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣を
PTLC(200mmx200mmx0.25mm,酢酸エチル
/ヘキサン,二重展開)にて精製し、標記化合物を無色オ
イル(3.5mg,75%)として製造した。 IR(neat):3401,2925,1690,1639,1
251,757cm-1。 実施例13と同様の方法により実施例14および15の
化合物を製造した。 実施例14 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−ヒドロ
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン酸の製
【化38】 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−ヒドロ
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン酸エチ
ル(19.5mg,0.0382mmol)より標記化合物(12.
1mg,66%)を製造した。 IR(neat):3433,2926,1688,1638,1
251,1229,1006,757cm-1
【0036】実施例15 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−ヒドロ
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−クロトン酸の製造
【化39】 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−ヒドロ
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−クロトン酸エチル(1
4.0mg,0.0274mmol)より標記化合物(7.0mg,5
3%)を製造した。 IR(neat):3415,2924,1686,1629,1
246,1181,1007,758cm-1。 実施例16 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−[(1E)−3
−ヒドロキシ−1−メチルプロペニル]−1−(4−ヨー
ドベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン
−2−オールの製造
【化40】 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−ヒドロ
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン酸エチ
ル(60mg,0.118mmol)のTHF(2.0mL)溶液に1.
02MのDIBALトルエン溶液(0.347mL,0.35
4mmol)を加え、室温にて2時間撹拌した。反応液に飽
和塩化アンモニウム水溶液(10mL)を加えた後、エーテ
ル(20mL)および水(20mL)に分配した。水層をエーテ
ル(2x10mL)にて抽出した。合わせた有機層を硫酸マ
グネシウム乾燥、濾別後、減圧濃縮した。得られた残渣
をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(1
0mmx180mm,酢酸エチル/ヘキサン)にて精製し、標
記化合物を無色オイル(43.5mg,79%)として製造し
た。 IR(neat):3384,2923,1700,1484,1
382,1215,1007,757cm-1
【0037】実施例17 (2E,4E)−5−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8a
S)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,
8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ヘキ
サ−2,4−ジエン酸エチルの製造
【化41】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−[(1E)−3
−ヒドロキシ−1−メチルプロペニル]−1−(4−ヨー
ドベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン
−2−オール(41.0mg,0.0875mmol)の塩化メチ
レン(3.0mL)溶液に活性二酸化マンガン(76.1mg,
0.875mmol)を加え、この懸濁液を室温にて2時間強
撹拌した。固体をセライト・パッドを通じて濾過し、濾
液を減圧濃縮して粗アルデヒドを製造した。水素化ナト
リウム(60%油分散、10.5mg,0.263mmol)をT
HF(1.0mL)に懸濁し、トリエチルホスホノアセテー
ト(0.052mL,0.263mmol)を加え、水素ガスの発
生がなくなるまで室温にて撹拌した。このイリド溶液に
粗アルデヒドのTHF(1.0mL)溶液を加え、室温にて
3時間撹拌した。反応液を酢酸エチル(15mL)および水
(5mL)に分配し、有機層を飽和食塩水(10mL)にて洗
浄、硫酸マグネシウム乾燥、濾別後、減圧濃縮した。得
られた残渣オイルをフラッシュシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(10mmx180mm,酢酸エチル/ヘキサ
ン)およびPTLC(200mmx200mmx0.5mm,2
枚、酢酸エチル/ヘキサン、2重展開)にて精製し、標
記化合物を無色オイル(32.1mg,68%)として製造し
た。 IR(neat):3494,2926,1698,1630,1
484,1307,1279,1135,1007,733c
m-1
【0038】実施例18 (2E,4E)−5−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8a
S)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,
8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ヘキ
サ−2,4−ジエン酸の製造
【化42】 (2E,4E)−5−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8a
S)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,
8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ヘキ
サ−2,4−ジエン酸エチル(10.3mg,0.186mmol)
のエタノール(2.0mL)溶液に5N水酸化ナトリウム水
溶液(0.2mL)を加え、室温にて3時間撹拌後、1時間
加熱還流した。反応液を室温まで放冷後、1M塩酸(1.
0mL)を加え、酢酸エチル(5mL)および食塩水(10mL)
に分配した。水層を酢酸エチル(10mL)にて抽出後、有
機層を合わせて硫酸マグネシウム乾燥、濾別後、減圧濃
縮した。得られた残渣をPTLC(200mmx200mm
x0.5mm,酢酸エチル/ヘキサン)にて精製し、標記化
合物を白色結晶(6.9mg,71%)として製造した。 IR(neat):2925,1681,1628,1283,7
76cm-1。 実施例16、17、および18と同様の方法にて実施例
19の化合物を製造した。 実施例19 (2E,4E,6E)−7−[(2R,4aR,5S,6S,8R,
8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−
8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−
オクタ−2,4,6−トリエン酸の製造
【化43】 (2E,4E)−5−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8a
S)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,
8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ヘキ
サ−2,4−ジエン酸エチル(37mg,0.0692mmol)
より、標記化合物(8.4mg,22%)を製造した。 IR(neat):3425,2919,1678,1608,1
302,1261,1008,903,732cm-1
【0039】実施例20 (2E,4E,6E,8E)−9−[(2R,4aR,5S,6S,
8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジ
ル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イ
ル]−デカ−2,4,6,8−テトラエン酸の製造
【化44】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−[(1E)−3
−ヒドロキシ−1−メチルプロペニル]−1−(4−ヨー
ドベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン
−2−オール(18.0mg,0.0384mmoL)の塩化メチ
レン(5.0mL)溶液に活性二酸化マンガン(100mg,1.
15mmol)を加え、この懸濁液を室温にて2時間強撹拌
した。固体をセライト・パッドを通じて濾過し、濾液を
減圧濃縮して粗アルデヒドを製造した。水素化ナトリウ
ム(60%油分散、4.6mg,0.115mmol)をTHF(2.
0mL)に懸濁し、トリエチル 4−ホスホノクロトネート
(0.025mL,0.115mmol)を加え、水素ガスの発生
がなくなるまで室温にて撹拌した。このイリド溶液に粗
アルデヒドのTHF(1.0mL)溶液を加え、室温にて3
時間撹拌した。反応液を酢酸エチル(15mL)および水
(5mL)に分配し、有機層を飽和食塩水(10mL)にて洗
浄、硫酸マグネシウム乾燥、濾別後、減圧濃縮した。得
られた残渣オイルをフラッシュシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(10mmx180mm,酢酸エチル/ヘキサ
ン)およびPTLC(200mmx200mmx0.5mm,2
枚、酢酸エチル/ヘキサン、2重展開)にて精製しトリ
エンエステルを製造した。このトリエンエステルのTH
F(2.0mL)溶液に1.02MのDIBALトルエン溶液
(0.096mL,0.098mmol)を加え、氷冷下にて2時
間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(3.
0mL)を加えた後、エーテル(10mL)および水(5mL)に
分配した。水層をエーテル(2x10mL)にて抽出し、合
わせた有機層を硫酸マグネシウム乾燥、濾別後、減圧濃
縮した。得られた残渣をPTLC(200mmx200mm
x0.5mm、酢酸エチル/ヘキサン、2重展開)にて精製
しトリエンアルコールを製造した。このアルコールの塩
化メチレン(1.0mL)溶液に活性二酸化マンガン(30m
g,0.348mmol)を加え、この懸濁液を室温にて2時間
強撹拌した。固体をセライト・パッドを通じて濾過し、
濾液を減圧濃縮して粗トリエンアルデヒドを製造した。
水素化ナトリウム(60%油分散、1.4mg,0.0348
mmol)をTHF(1.0mL)に懸濁し、トリエチルホスホノ
アセテート(0.0069mL,0.0348mmol)を加え、
水素ガスの発生がなくなるまで室温にて撹拌した。この
イリド溶液に粗アルデヒドのTHF(1.0mL)溶液を加
え、室温にて3時間撹拌した。反応液を酢酸エチル(1
0mL)および水(3mL)に分配し、有機層を飽和食塩水(5
mL)にて洗浄、硫酸マグネシウム乾燥、濾別後、減圧濃
縮した。得られた残渣をPTLC(200mmx200mm
x0.5mm,酢酸エチル/ヘキサン、2重展開)にて精製
しテトラエンエステルを製造した。このエステルのエタ
ノール(1.0mL)溶液に5N水酸化ナトリウム水溶液
(0.2mL)を加え、1時間加熱還流した。反応液を室温
まで放冷後、1M塩酸にて酸性化後、酢酸エチル(5mL)
および食塩水(3mL)に分配した。水層を酢酸エチル(5m
L)にて抽出後、有機層を合わせて硫酸マグネシウム乾
燥、濾別後、減圧濃縮した。得られた残渣をPTLC
(200mmx200mmx0.5mm,酢酸エチル/ヘキサ
ン、3重展開)にて精製し、標記化合物を黄色オイル
(1.6mg,7.5%)として製造した。 IR(neat):3433,2924,1681,1616,1
589,1267,1142,1006cm-1
【0040】実施例21 4−{(2E)−3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8a
S)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,
8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ブタ
−2−エノイルアミノ}−安息香酸の製造
【化45】 3−[(2R,4aR,5S,6S,8R,8aS)−6−ヒドロ
キシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン酸(10
mg,0.0207mmol)の塩化メチレン−DMF(4:1、
2.5mL)溶液にp−アミノ安息香酸メチル(6.3mg,0.
0415mmol)、HOBt(12.7mg,0.0828mmo
l)、およびWSC(8.0mg,0.0415mmol)を順に加
え、この混合物を室温にて8時間撹拌した。1M塩酸
(2.0mL)を加えた後、反応混合物を酢酸エチル(20m
L)および水(10mL)に分配した。有機層を飽和重曹水
(10mL)にて洗浄、硫酸マグネシウムにて乾燥、濾別
後、減圧濃縮した。得られた残渣オイルをPTLC(2
00mmx200mmx0.5mm,酢酸エチル/ヘキサン)に
て精製し、標記化合物を無色オイル(7.8mg,63%)と
して製造した。 IR(neat):3420,2926,1790,1627,1
075,900,744cm-1
【0041】実施例22 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1E)−1−メチ
ルプロペニル]−デカヒドロナフタレン−2−オールお
よび(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨ
ードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1Z)−1−
メチルプロペニル]−デカヒドロナフタレン−2−オー
ルの製造
【化46】 臭化エチルトリフェニルフォスフォニウム(169mg,
0.0454mmol)のTHF(2.0mL)懸濁液に0.5Mの
KHMDSトルエン溶液(0.91mL,0.0454mmol)
を加え、室温にて30分間撹拌した。得られたイリド溶
液に(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチ
ル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカ
ヒドロナフタレン−2−オール(20.0mg,0.0045
4mmol)を加え、室温にて3時間撹拌した。水(5.0mL)
を加えた後、反応混合物を酢酸エチル(15mL)および飽
和食塩水(10mL)に分配した。有機層を硫酸マグネシウ
ムにて乾燥、濾別後、減圧濃縮して得られた黄色オイル
をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(1
0mmx180mm,酢酸エチル/ヘキサン)およびPTLC
(200mmx200mmx0.5mm,酢酸エチル/ヘキサン,
2重展開)にて精製し、標記化合物をE,Z−混合物の無
色オイル(20.5mg,定量的)として製造した。 IR(neat):3446,2925,2851,1484,1
441,1380,1215,1007,815,758cm
-1
【0042】実施例23 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1E)−1−メチ
ルペンタ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−2−
オールおよび(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1
−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1
Z)−1−メチルペンタ−1−エニル]−デカヒドロナフ
タレン−2−オールの製造
【化47】 臭化n−ブチルトリフェニルフォスフォニウム(181m
g,0.0454mmol)のTHF(2.0mL)懸濁液に0.5M
のKHMDSトルエン溶液(0.91mL,0.0454mmo
l)を加え、室温にて30分間撹拌した。得られたイリド
溶液に(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセ
チル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデ
カヒドロナフタレン−2−オール(20.0mg,0.004
54mmol)を加え、3時間加熱還流した。水(5.0mL)を
加えた後、反応混合物を酢酸エチル(15mL)および飽和
食塩水(10mL)に分配した。有機層を硫酸マグネシウム
にて乾燥、濾別後、減圧濃縮して得られた黄色オイルを
フラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(10m
mx180mm,酢酸エチル/ヘキサン)およびPTLC(2
00mmx200mmx0.5mm,2枚,酢酸エチル/ヘキサ
ン,4重展開)にて精製し、標記化合物をそれぞれ無色オ
イル(4.0mg,18%,7.1mg,33%)として製造し
た。 IR(neat):3431,2954,2925,2857,1
484,1008cm-1。 IR(neat):3424,2954,2927,2859,1
484,1007cm-1
【0043】実施例23と同様の方法にて実施例24、
25、および26の化合物を製造した。 実施例24 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1E)−1−メチ
ルヘキサ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−2−
オールおよび(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1
−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1
Z)−1−メチルヘキサ−1−エニル]−デカヒドロナフ
タレン−2−オールの製造
【化48】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチル−
1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒド
ロナフタレン−2−オール(20.0mg,0.00454mm
ol)および臭化n−ペンチルトリフェニルフォスフォニウ
ム(188mg,0.0454mmol)より標記化合物をそれぞ
れ無色オイル(3.3mg,15%,8.0mg,36%)として
製造した。 IR(neat):3437,2953,2924,2855,1
484,1007cm-1。 IR(neat):3425,2953,2925,2855,1
484,1007cm-1。 実施例25 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1E)−1−メチ
ルヘプタ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−2−
オールおよび(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1
−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1
Z)−1−メチルヘプタ−1−エニル]−デカヒドロナフ
タレン−2−オールの製造
【化49】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチル−
1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒド
ロナフタレン−2−オール(40.0mg,0.00908mm
ol)および臭化n−ヘキシルトリフェニルフォスフォニウ
ム(388mg,0.0908mmol)より標記化合物をそれぞ
れ無色オイル(9.9mg,21%,11.3mg,24%)とし
て製造した。 IR(neat):3436,2924,2855,1484,1
007cm-1。 IR(neat):3426,2925,2854,1484,1
007cm-1
【0044】実施例26 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
ベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1E)−1−メチ
ルオクタ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−2−
オールおよび(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1
−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1
Z)−1−メチルオクタ−1−エニル]−デカヒドロナフ
タレン−2−オールの製造
【化50】 (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチル−
1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒド
ロナフタレン−2−オール(40.0mg,0.00908mm
ol)および臭化n−ヘプチルトリフェニルフォスフォニウ
ム(401mg,0.0908mmol)より標記化合物をそれぞ
れ無色オイル(10.0mg,21%,13.2mg,28%)と
して製造した。 IR(neat):3421,2924,2854,1484,1
008cm-1。 IR(neat):3427,2925,2853,1484,1
007cm-1
【0045】
【発明の効果】本発明化合物(I)は、LDL受容体遺伝
子の発現(mRNA量)を増加させることによりLDL受
容体の量を増加させ、血清コレステロールを低下させる
ことが出来る。従って、高脂血症治療薬として使用する
ことが出来る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/275 A61K 31/275 C07C 13/48 9734−4H C07C 13/48 13/50 9734−4H 13/50 35/00 9155−4H 35/00 43/115 7419−4H 43/115 43/162 7419−4H 43/162 211/41 8828−4H 211/41 235/38 9547−4H 235/38 255/36 9357−4H 255/36 321/22 7419−4H 321/22 // C07M 7:00 (72)発明者 村岡 正実 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友製薬株式会社内 (72)発明者 根来 尚温 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友製薬株式会社内 (72)発明者 大橋 尚仁 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友製薬株式会社内 (72)発明者 ジュリオ・シー・メディナ アメリカ合衆国94080カリフォルニア州サ ウス・サン・フランシスコ、トゥー・コー ポレイト・ドライブ(番地の表示なし) テュラリク インコーポレイテッド内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I)で示される化合物またはその医薬
    的に受容し得る塩。 【化1】 [式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素、C1
    〜C4アルキル、またはC1〜C4ハロアルキルを表
    す。R3 は水素、C1〜C6アルキル、C1〜C6ハロ
    アルキル、または基: 【化2】 {式中、R7 が水素、ハロ、C1〜C4アルキル、C1
    〜C4ハロアルキル、C2〜C4アルケニル、またはC
    2〜C4ハロアルケニルを表し、R8 が水素、C1〜C
    4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、またはハロを表
    すか、あるいは、R7 とR8 が一緒になってそれらが結
    合する炭素原子と共に置換もしくは非置換C5〜C6シ
    クロアルケン環、非置換もしくは置換C5〜C6シクロ
    アルカジエン環、非置換もしくは置換ベンゼン環、また
    は、非置換もしくは置換ヘテロ環を形成してもよく、R
    9 は水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキ
    ル、またはハロを表す}を表す。R4 は水素、C1〜C
    4アルカノイル、C3〜C10アルキル、C3〜C10アル
    ケニル、または基: 【化3】 {式中、Aは非置換もしくは置換の2価のC2〜C12
    不飽和炭化水素基を表し、Xはヒドロキシメチル、(C
    1〜C4アルカノイル)オキシメチル、(C1〜C4アル
    キル)オキシメチル、シアノ、カルボキシ、(C1〜C4
    アルキル)オキシカルボニル、(C1〜C4アルキル)カ
    ルバモイル、非置換もしくは置換フェニルカルバモイル
    を表す}を表す。R50は水素を表し、R5 はヒドロキ
    シ、C1〜C4アルカノイルオキシ、アミノ、C1〜C
    4アルカノイルアミド、置換アミノ、メルカプトまたは
    (C1〜C4アルコキシ)カルボニルオキシ基を表すか、
    またはR50とR5 が一緒になって=Oを表す。1,8a位
    間の結合は単結合または二重結合を表す。1,8a位間が
    単結合の場合、R6 は水素を表し、1,8a位間が二重結
    合の場合、R6 は存在しない。]
  2. 【請求項2】 式(II)で示される請求項1の化合物ま
    たはその医薬的に受容し得る塩。 【化4】 [式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素、メチ
    ル、またはハロメチルを表し、R3 は水素、C1〜C6
    アルキル、C1〜C6ハロアルキル、または基: 【化5】 {式中、R7 が水素、ハロ、C1〜C4アルキル、C1
    〜C4ハロアルキル、C2〜C4アルケニル、またはC
    2〜C4ハロアルケニルを表し、R8 が水素、メチル、
    ハロメチル、またはハロを表すか、あるいは、R7 とR
    8 が一緒になってそれらが結合する炭素原子と共に置換
    もしくは非置換C5〜C6シクロアルケン環、置換もし
    くは非置換C5〜C6シクロアルカジエン環、非置換も
    しくは置換ベンゼン環、または、非置換もしくは置換ヘ
    テロ環を形成してもよく、R9 は水素、メチル、ハロメ
    チル、またはハロを表す}を表す。R4 は水素、アセチ
    ル、C3〜C10アルキル、C3〜C10アルケニル、また
    は基: 【化6】 {式中、Aは非置換もしくは置換の2価のC2〜C12
    不飽和炭化水素基を表し、Xはヒドロキシメチル、(C
    1〜C4アルカノイル)オキシメチル、(C1〜C4アル
    キルオキシ)メチル、シアノ、カルボキシ、(C1〜C4
    アルキル)オキシカルボニル、(C1〜C4アルキル)カ
    ルバモイル、非置換もしくは置換フェニルカルバモイル
    を表す}を表す。R5 はヒドロキシ、C1〜C4アルカ
    ノイルオキシ、アミノ、C1〜C4アルカノイルアミ
    ド、置換アミノ、メルカプトまたは(C1〜C4アルコ
    キシ)カルボニルオキシ基を表す。1,8a位間の結合は
    単結合または二重結合を表す。1,8a位間が単結合の場
    合、R6 は水素を表し、1,8a位間が二重結合の場
    合、R6 は存在しない。]
  3. 【請求項3】 式(III)で示される請求項1の化合
    物またはその医薬的に受容し得る塩。 【化7】 [式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立して水素、また
    はメチルを表し、R3 はアリル、2−ブテニル、2−メ
    チル−2−プロペニル、2−ハロ−2−プロペニル、ま
    たは非置換もしくは置換フェニルメチル基を表し、R4
    は水素、アセチル、C3〜C10アルキル、C3〜C10ア
    ルケニル、または基: 【化8】 {式中、Aは非置換もしくは置換の2価の共役C4〜C
    12不飽和炭化水素基または非置換もしくは置換のビニ
    レンを表し、Xはヒドロキシメチル、(C1〜C4アル
    カノイル)オキシメチル、(C1〜C4アルキル)オキシ
    メチル、シアノ、カルボキシ、(C1〜C4アルキル)オ
    キシカルボニル、(C1〜C4アルキル)カルバモイル、
    非置換または置換フェニルカルバモイルを表す}を表
    し、R5 はヒドロキシまたはC1〜C4アルカノイルオ
    キシ基を表す。]
  4. 【請求項4】 請求項1の化合物またはその医薬的に受
    容し得る塩であって、以下の化合物群から選ばれたも
    の。 (1S,2R,4aS,8aS)−1−(4−ブロモベンジル)
    −4a−メチルデカヒドロナフタレン−2−オール、(1
    S,2R,4aS,8aS)−1−アリル−4a−メチルデカ
    ヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4a
    S,6R,8aS)−1−アリル−6−イソプロペニル−
    4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−オール、
    (1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨード
    ベンジル)−6−イソプロペニル−4,4a−ジメチルデ
    カヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4
    aS,6R,8aS)−2−アセトキシ−1−アリル−6−
    イソプロペニル−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレ
    ン、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−アセチ
    ル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチルデカ
    ヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4a
    S,6R,8aS)−2−アセトキシ−6−アセチル−1−
    アリル−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン、(1
    S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−2−アセトキシ−6
    −アセチル−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメ
    チルデカヒドロナフタレン、3−[(2R,4aS,5S,6
    R,8R,8aS)−6−アセトキシ−5−アリル−8,8a
    −ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソク
    ロトン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8
    aS)−6−アセトキシ−5−(4−ヨードベンジル)−
    8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−
    イソクロトン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,
    8R,8aS)−5−アリル−6−ヒドロキシ−8,8a−
    ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロ
    トン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8a
    S)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,
    8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソ
    クロトン酸エチル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,
    8aS)−5−アリル−6−ヒドロキシ−8,8a−ジメチ
    ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン
    酸、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒ
    ドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチ
    ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−イソクロトン
    酸、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒ
    ドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチ
    ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−クロトン酸エチ
    ル、3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒ
    ドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチ
    ルデカヒドロナフタレン−2−イル]−クロトン酸、(1
    S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−6−[(1E)−3−
    ヒドロキシ−1−メチルプロペニル]−1−(4−ヨード
    ベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン−
    2−オール、(2E)−3−[(2R,4aS,5S,6R,8
    R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジ
    ル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イ
    ル]−ブタ−2−エンニトリル、(2Z)−3−[(2R,4
    aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4
    −ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフ
    タレン−2−イル]−ブタ−2−エンニトリル、(2E,
    4E)−5−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6
    −ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジ
    メチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ヘキサ−2,
    4−ジエン酸エチル、(2E,4E)−5−[(2R,4aS,
    5S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨ
    ードベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレ
    ン−2−イル]−ヘキサ−2,4−ジエン酸、(2E,4
    E,6E)−7−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−
    6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−
    ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−オクタ−
    2,4,6−トリエン酸エチル、(2E,4E,6E)−7−
    [(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ
    −5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒ
    ドロナフタレン−2−イル]−オクタ−2,4,6−トリ
    エン酸、(2E,4E,6E,8E)−9−[(2R,4aS,5
    S,6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨー
    ドベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン
    −2−イル]−デカ−2,4,6,8−テトラエン酸エチ
    ル、(2E,4E,6E,8E)−9−[(2R,4aS,5S,
    6R,8R,8aS)−6−ヒドロキシ−5−(4−ヨード
    ベンジル)−8,8a−ジメチルデカヒドロナフタレン−
    2−イル]−デカ−2,4,6,8−テトラエン酸、4−
    {(2E)−3−[(2R,4aS,5S,6R,8R,8aS)−
    6−ヒドロキシ−5−(4−ヨードベンジル)−8,8a−
    ジメチルデカヒドロナフタレン−2−イル]−ブタ−2
    −エノイルアミノ}−安息香酸、(1S,2R,4R,4a
    S,6R,8aS)−6−[(1E,3E)−5−ヒドロキシ−
    1−メチルペンタ−1、3−ジエニル]−1−(4−ヨー
    ドベンジル)−4,4a−ジメチルデカヒドロナフタレン
    −2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−
    1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−
    [(1E)−1−メチルプロペニル]−デカヒドロナフタレ
    ン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)
    −1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−
    [(1Z)−1−メチルプロペニル]−デカヒドロナフタレ
    ン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)
    −1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−
    [(1E)−1−メチルペンタ−1−エニル]−デカヒドロ
    ナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6
    R,8aS)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメ
    チル−6−[(1Z)−1−メチルペンタ−1−エニル]−
    デカヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,
    4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4
    a−ジメチル−6−[(1E)−1−メチルヘキサ−1−エ
    ニル]−デカヒドロナフタレン−2−オール、(1S,2
    R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨードベンジ
    ル)−4,4a−ジメチル−6−[(1Z)−1−メチルヘキ
    サ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−2−オー
    ル、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1−(4−ヨ
    ードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1E)−1−
    メチルヘプタ−1−エニル]−デカヒドロナフタレン−
    2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8aS)−1
    −(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−6−[(1
    Z)−1−メチルヘプタ−1−エニル]−デカヒドロナフ
    タレン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,6R,8a
    S)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジメチル−
    6−[(1E)−1−メチルオクタ−1−エニル]−デカヒ
    ドロナフタレン−2−オール、(1S,2R,4R,4aS,
    6R,8aS)−1−(4−ヨードベンジル)−4,4a−ジ
    メチル−6−[(1Z)−1−メチルオクタ−1−エニル]
    −デカヒドロナフタレン−2−オール。
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