JPH10246621A - 厚み測定装置 - Google Patents

厚み測定装置

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JPH10246621A
JPH10246621A JP4885597A JP4885597A JPH10246621A JP H10246621 A JPH10246621 A JP H10246621A JP 4885597 A JP4885597 A JP 4885597A JP 4885597 A JP4885597 A JP 4885597A JP H10246621 A JPH10246621 A JP H10246621A
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JP
Japan
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measuring device
distance
distance measuring
contact
measurement
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Application number
JP4885597A
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English (en)
Inventor
Minoru Numamoto
実 沼本
Kenji Sakai
謙児 酒井
Manabu Sato
学 佐藤
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】測定位置への被測定物の配置を容易にし、且つ
厚み測定を更に高精度に行うことができる厚み測定装置
を提供する。 【解決手段】半導体ウェーハ1の裏面1a、表面1bま
での距離a、bを非接触測定する非接触距離測定器2
0、30と、これらを相対的に接近離間させる移動駆動
部25、35と、その間隔lを検知する間隔検知部40
と、測定時にそれら非接触距離測定器20、30から半
導体ウェーハ1までの距離a、bを距離測定に適した定
距離L1に保つように移動駆動部25、35を制御し、
間隔lに基づいて、厚みtを演算検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、測定位置への被測
定物の配置を容易にし、且つ厚み測定を高精度に行うこ
とができる厚み測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体材料に回路を形成したいわゆる半
導体チップを製造する過程では、半導体ウェーハの厚み
を検査する工程がある。この工程では、従来、次のよう
な厚み測定装置が用いられている。その厚み測定装置
は、半導体ウェーハを吸着する吸着定盤に対して配置さ
れ、半導体ウェーハの表面までの距離を検知する静電容
量検知型距離測定器等の非接触距離測定器と、この非接
触距離測定器を吸着定盤に対して接近離間自在に支持す
る移動機構と、非接触距離測定器を吸着定盤に対する定
位置に位置決めする係止片などの位置決め手段とを備え
ている。
【0003】この厚み測定装置では、非接触距離測定器
を用いているので、接触型の距離測定器を用いる場合の
ように接触圧力の加減に伴う誤差がなく、高精度な測定
ができる。また、移動機構により、非接触距離測定器を
吸着定盤に対して接近離間自在としているので、非接触
距離測定器を吸着定盤に対して離間させることで、測定
位置への半導体ウェーハの配置を容易にしている。
【0004】また、本出願人らは、最近では特願平9─
011137号の研磨装置の研磨量測定において、上記
位置決め手段に代えて、非接触距離測定器と吸着定盤の
間隔を検知する間隔検知部を設けたものを提案してい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うな従来の厚み測定装置では、非接触距離測定器は、測
定する距離に応じて測定精度が変化するので、半導体ウ
ェーハ等の被測定物の厚みによって精度にばらつきが生
じることとなり、厚み測定の更なる高精度化は困難であ
った。
【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、測定位置への被測定物の配置を容易にし、且
つ厚み測定を更に高精度に行うことができる厚み測定装
置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決する為の手段】本発明は、被測定物の裏面
の位置を定める裏面位置決定手段と、前記被測定物の表
面までの距離を非接触測定する表面用非接触距離測定器
と、前記表面用非接触距離測定器を前記裏面位置決定手
段に対して相対的に接近離間させる表側移動駆動部と、
前記表面用非接触距離測定器と前記裏面位置決定手段と
の間隔を検知する間隔検知部とを備える厚み測定装置に
おいて、測定時に前記表面用非接触距離測定器により検
知された距離に基づいて、その距離を該表面用非接触距
離測定器の距離測定に適した定距離にするように前記表
側移動駆動部を制御する表側移動駆動制御部と、前記定
距離と、前記裏面位置決定手段で定められた前記被測定
物の裏面の位置と、前記間隔検知部で検知された前記間
隔とに基づいて、前記被測定物の表面と裏面との間の厚
みを演算検出する厚み演算検出部とを備えることを特徴
とする。
【0008】即ち、表面用非接触距離測定器と裏面用非
接触距離測定器との間隔を可変自在とし、測定時には、
被測定物の表面からの前記表面用非接触距離測定器の距
離を該表面用非接触距離測定器の距離測定に適した定距
離に保つ。また、上記発明において、前記裏面位置決定
手段は、前記被測定物の裏面までの距離を非接触測定す
る裏面用非接触距離測定器と、前記裏面用非接触距離測
定器を前記表面用非接触距離測定器に対して相対的に接
近離間させる裏側移動駆動部とを備え、測定時に前記裏
面用非接触距離測定器により検知された距離に基づい
て、その距離を該裏面用非接触距離測定器の距離測定に
適した定距離にするように前記裏側移動駆動部を制御す
る裏側移動駆動制御部を備え、前記間隔検知部で検知さ
れた前記間隔は、前記表面用非接触距離測定器と前記裏
面用非接触距離測定器との間隔であり、前記裏面位置決
定手段で定められた前記被測定物の裏面の位置は、前記
裏面用非接触距離測定器の距離測定に適した定距離であ
ることを特徴とする。
【0009】即ち、従来のように裏面位置決定手段が吸
着定盤である場合では、被測定物と吸着定盤との接触の
加減に伴う誤差が考えられるが、本発明では、この誤差
を解消することができる。また、別の本発明では、本体
支持部と、被測定物の裏面までの距離を非接触測定する
裏面用非接触距離測定器と、前記被測定物の表面までの
距離を非接触測定する表面用非接触距離測定器とを備え
る厚み測定装置において、前記本体支持部は、裏面用非
接触距離測定器と表面用非接触距離測定器とが対向配置
される開放部と、該開放部を移動させる開放部移動駆動
部とを備え、測定時に前記裏面用非接触距離測定器によ
り検知された距離と前記表面用非接触距離測定器により
検知された距離に基づいて、それら距離を等距離に保つ
ように前記開放部移動駆動部を制御する開放部移動駆動
制御部を制御する開放部移動駆動制御部を備えることを
特徴とする。
【0010】即ち、表面用非接触距離測定器と裏面用非
接触距離測定器との間隙が移動調整自在であり、測定時
には、被測定物の表面からの表面用非接触距離測定器の
距離及び被測定物の裏面からの裏面用非接触距離測定器
の距離は、等距離となり、双方が距離測定に適した距離
となるように保たれる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る厚み測定装置の好ましい実施の形態について詳説す
る。図1に示す本発明の第一実施形態の厚み測定装置1
00は、被測定物としての半導体ウェーハ1の端部の厚
みtを測定する測定装置本体10と、半導体ウェーハ1
を支持する支持機構50と、制御部60とを備えてい
る。
【0012】測定装置本体10は、水平方向に開放され
た開放部16を有する本体支持部15と、半導体ウェー
ハ1の端部の裏面1aまでの上下方向の距離aを非接触
測定する裏面用非接触距離測定器20と、本体支持部1
5の開放部16の下部16aに設けられ、裏面用非接触
距離測定器20を、開放部16の上部16bに対して接
近離間させる裏側移動駆動部25と、半導体ウェーハ1
の表面1bまでの上下方向の距離bを非接触測定する表
面用非接触距離測定器30と、本体支持部15の開放部
16の上部16bに設けられ、表面用非接触距離測定器
30を裏面用非接触距離測定器20に対して相対的に接
近離間させる表側移動駆動部35と、表面用非接触距離
測定器30と裏面用非接触距離測定器20との間隔lを
検知する間隔検知部40とを備えている。
【0013】裏面用非接触距離測定器20と表面用非接
触距離測定器30は、共に半導体ウェーハ1との間の静
電容量の変化に基づいて距離a、bを測定する静電容量
検知型距離測定器である。裏側移動駆動部25と表側移
動駆動部35は、共に印加電圧に応じて伸縮するピエゾ
素子を用いている。
【0014】間隔検知部40は、裏側移動駆動部25に
設けられ、開放部16の下部16aに対する裏面用非接
触距離測定器20の上下位置cを検知する裏側測定器位
置検知部41と、表側移動駆動部35に設けられ、開放
部16の上部16bに対する表面用非接触距離測定器3
0の上下位置dを検知する表側測定器位置検知部43と
を備えており、裏側測定器位置検知部41と表側測定器
位置検知部43とは、共に例えば、前記ピエゾ素子の印
加電圧或いは抵抗に基づく検知をするものである。
【0015】一方、支持機構50は、半導体ウェーハ1
をその表面1bを上に向けて水平に吸着保持する吸着定
盤51と、吸着定盤51を水平に回転させる定盤回転駆
動部53と、定盤回転駆動部53と共に吸着定盤51を
水平方向に走行させ、半導体ウェーハ1の端部を測定装
置本体10の表面用非接触距離測定器30と裏面用非接
触距離測定器20との間に配置させ、或いはその間から
退去させる定盤走行駆動部55とを備えている。
【0016】制御部60は、図2に示すように、入力部
61、裏側移動駆動制御部63、表側移動駆動制御部6
5、厚み演算検出部67、出力部69、回転制御部7
1、走行制御部73、及びこれらにバス線77を介して
接続された主制御部75とを備えている。入力部61
は、例えばキーボードである。
【0017】裏側移動駆動制御部63は、裏面用非接触
距離測定器20により検知された図1の半導体ウェーハ
1の裏面1aからの裏面用非接触距離測定器20の距離
aに基づいて、その距離aを裏面用非接触距離測定器2
0の距離測定に適した定距離L1にするように裏側移動
駆動部25を制御するものであり、図2の表側移動駆動
制御部65は、表面用非接触距離測定器30により検知
された図1の半導体ウェーハ1の表面1bからの表面用
非接触距離測定器30の距離bに基づいて、その距離b
を表面用非接触距離測定器30の距離測定に適した定距
離L1にするように表側移動駆動部35を制御するもの
である。
【0018】図2の厚み演算検出部67は、裏側測定器
位置検知部41により検知された図1の裏面用非接触距
離測定器20の上下位置cと、表側測定器位置検知部4
3により検知された表面用非接触距離測定器30の上下
位置dと、予め記憶されている開放部16の下部16a
と上部16bの間隔eとに基づいて、裏面用非接触距離
測定器20と表面用非接触距離測定器30との間隔lを
検出し、この間隔lと、予め記憶されている裏面用非接
触距離測定器20及び表面用非接触距離測定器30の距
離測定に適した定距離L1とに基づいて、半導体ウェー
ハ1の表面1bと裏面1aとの間の厚みtを演算検出す
るものである。
【0019】図2の出力部69は、検出された厚みt等
を出力するディスプレイであり、回転制御部71は、定
盤回転駆動部53を制御するものであり、走行制御部7
3は、定盤走行駆動部55を制御するものである。次
に、厚み測定装置100を用いた図1の半導体ウェーハ
1の厚み測定方法について説明する。
【0020】まず、半導体ウェーハ1を、吸着定盤51
に、その表面1bを上に向けて水平に吸着保持させる。
そこで、裏面用非接触距離測定器20、表面用非接触距
離測定器30、裏側測定器位置検知部41、表側測定器
位置検知部43を起動すると共に、図2の制御部60の
入力部61から測定準備命令S1を入力する。主制御部
75は、その測定準備命令S1に基づいて、裏側移動駆
動制御部63と表側移動駆動制御部65とに、それぞ
れ、離間命令S3、S5を出力する。
【0021】裏側移動駆動制御部63と表側移動駆動制
御部65は、離間命令S3、S5に基づいて、図1に示
す裏面用非接触距離測定器20と表面用非接触距離測定
器30との間隔lを図中矢印A、C方向に、半導体ウェ
ーハ1の端部の挿入に支障がない所定間隔、開けるよう
に、裏側移動駆動部25と表側移動駆動部35を制御す
る。
【0022】その後、図2の裏側移動駆動制御部63と
表側移動駆動制御部65は、走行制御部73に起動命令
S7、S9を出力する。走行制御部73は、起動命令S
7、S9を共に入力すると、定盤走行駆動部55を図1
中矢印E方向に起動し、半導体ウェーハ1の端部を測定
装置本体10の表面用非接触距離測定器30と裏面用非
接触距離測定器20との間に配置させる。これにより、
半導体ウェーハ1の端部が多少歪んでいても、その端部
を、裏面用非接触距離測定器20と表面用非接触距離測
定器30との間に配置させることができる。
【0023】その後、図2の走行制御部73は、裏側移
動駆動制御部63と表側移動駆動制御部65に測定配置
命令S11、S13を出力する。測定配置命令S11を
入力すると、裏側移動駆動制御部63は、図1の裏面用
非接触距離測定器20により検知された距離aに基づい
て、その距離aを距離測定に適した定距離L1にするよ
うに裏側移動駆動部25を図中矢印A、B方向に駆動制
御する。
【0024】また、図2の表側移動駆動制御部65は、
測定配置命令S13を入力すると、図1の表面用非接触
距離測定器30により検知された距離bに基づいて、そ
の距離bを距離測定に適した定距離L1にするように表
側移動駆動部35を図中矢印C、D方向に駆動制御す
る。この距離測定に適した定距離L1は、共に等しく、
半導体ウェーハ1の端部を配置したときよりも狭い。
【0025】次に、図2の入力部61から測定開始命令
S15を入力する。主制御部75は、その測定開始命令
S15に基づいて、厚み演算検出部67に検出命令S1
7を出力する。この検出命令S17を入力すると、厚み
演算検出部67は、図1の裏側測定器位置検知部41に
より検知された裏面用非接触距離測定器20の上下位置
cと、表側測定器位置検知部43により検知された表面
用非接触距離測定器30の上下位置dと、予め記憶され
ている開放部16の下部16aと上部16bの間隔eと
に基づいて、裏面用非接触距離測定器20と表面用非接
触距離測定器30との間隔lを検出し、この間隔lと、
予め記憶されている前記定距離L1とに基づいて、半導
体ウェーハ1の表面1bと裏面1aとの間の厚みtを演
算検出する。また、同時にその厚みtを図2の出力部6
9に出力し、出力部69は、厚みtを表示する。
【0026】このように、図1の厚み測定装置100で
は、表面用非接触距離測定器30と裏面用非接触距離測
定器20との間隔lを可変自在としたので、半導体ウェ
ーハ1の配置を容易に行うことができ、且つ、測定時に
は、半導体ウェーハ1の裏面1aからの裏面用非接触距
離測定器20の距離a及び半導体ウェーハ1の表面1b
からの表面用非接触距離測定器30の距離bを、距離測
定に適した定距離L1にするので、表面用非接触距離測
定器30による誤差が従来に増して低減される。よっ
て、厚み測定を更に高精度に行うことができる。
【0027】また、図2の入力部61より測定位置変更
命令S19を入力すると、主制御部75は、測定位置変
更命令S19に基づいて、回転制御部71に回転命令S
21を出力する。回転制御部71は、この回転命令S2
1に基づいて、定盤回転駆動部53を制御する。この制
御は、その回転命令S21に応じて図1の吸着定盤51
を図中矢印G方向或いはH方向に一定の速度で回転させ
る。尚、その制御は、所定角度だけ回転させるものにし
てもよい。
【0028】これにより、半導体ウェーハ1の測定位置
が変更されるので、半導体ウェーハ1の外周の端部全域
の厚み測定を行うことができる。また、この際も、図2
の裏側移動駆動制御部63は、裏面用非接触距離測定器
20により検知された図1の半導体ウェーハ1の裏面1
aからの裏面用非接触距離測定器20の距離aに基づい
て、その距離aを距離測定に適した定距離L1にするよ
うに裏側移動駆動部25を制御しており、図2の表側移
動駆動制御部65は、表面用非接触距離測定器30によ
り検知された図1の半導体ウェーハ1の表面1bからの
表面用非接触距離測定器30の距離bに基づいて、その
距離bを距離測定に適した定距離L1にするように表側
移動駆動部35を制御している。よって、半導体ウェー
ハ1の外周の端部が歪んでいても、その厚み測定を全域
に渡って高精度に行うことができる。
【0029】最後に、図2の入力部61より測定終了命
令S23を入力すると、主制御部75は、回転制御部7
1、走行制御部73、厚み演算検出部67、裏側移動駆
動制御部63、表側移動駆動制御部65に終了命令S2
5、S27、S29、S31、S33を出力する。する
と、回転制御部71は、定盤回転駆動部53を停止さ
せ、走行制御部73は、定盤走行駆動部55を図1中矢
印F方向に駆動して半導体ウェーハ1の端部を測定装置
本体10の表面用非接触距離測定器30と裏面用非接触
距離測定器20との間から退去させる。
【0030】また、図2の厚み演算検出部67は、厚み
検出を停止し、裏側移動駆動制御部63及び表側移動駆
動制御部65は、駆動制御を停止する。尚、上記実施形
態では、図1の裏面用非接触距離測定器20と、裏側移
動駆動部25とが、図1の半導体ウェーハ1の裏面1a
の位置を定める裏面位置決定手段となっているが、本発
明は、裏面位置決定手段が半導体ウェーハ1の端部の裏
面1aを支持する定盤である構成を含む。
【0031】また、上記実施形態では、制御部60を、
図2に示すように各構成要素が送信先を含む情報を発信
するバス方式としたが、必ずしもバス方式とする必要は
なく、各構成要素が主制御部75にそれぞれ直結される
星型の構造とし、主制御部75に、外部及び各構成要素
からの情報を全て入力し、予め記憶された制御手順に基
づいて、主制御部75の中央処理装置が各構成要素に命
令を出力する構成としてもよいことは勿論である。
【0032】また、厚み演算検出部67が、裏面用非接
触距離測定器20及び表面用非接触距離測定器30の距
離測定に適した定距離L1に代えて、裏面用非接触距離
測定器20により検出された距離a及び表面用非接触距
離測定器30により検出された距離bを用いて厚みtを
演算検出する構成としてもよい。また、図1の厚み測定
装置100に代えて、図3に示す本発明の第二実施形態
の厚み測定装置200を用いてもよい。この厚み測定装
置200は、図1の第一実施形態の厚み測定装置100
において、本体支持部15を、図3の本体支持部115
に代え、図1の裏側移動駆動部25、表側移動駆動部3
5を、裏面非接触距離測定器の定尺の取付け具125、
表面用非接触距離測定器30の定尺の取付け具125、
135に代え、加えて開放部移動駆動制御部165を設
けたものである。
【0033】本体支持部115は、図1の開放部16と
同様の図3の開放部116、開放部116を上下に移動
自在に支持する基部117と、開放部116を基部11
7に対して上下(図中矢印I、J方向)に移動させる開
放部移動駆動部118とを備えている。開放部移動駆動
制御部118は、測定時には、裏面用非接触距離測定器
20により検知された距離aと表面用非接触距離測定器
30により検知された距離bに基づいて、それら距離
a、bを距離測定に適した等距離L2にするように開放
部移動駆動部118を制御するものである。尚、等距離
L2は勿論、定数ではなく、厚みtに応じて変化する。
【0034】この厚み測定装置200によれば、表面用
非接触距離測定器30と裏面用非接触距離測定器20と
の間隙を上下に移動調整自在としたので、半導体ウェー
ハ1の配置を容易に行うことができ、且つ、測定時に
は、半導体ウェーハ1の表面1bからの表面用非接触距
離測定器30の距離b及び半導体ウェーハ1の裏面1a
からの裏面用非接触距離測定器20の距離aを、双方が
距離測定に適した距離となるように等距離L2にするの
で、裏面用非接触距離測定器20及び表面用非接触距離
測定器30による誤差が従来に増して低減される。よっ
て、厚み測定を更に高精度に行うことができる。
【0035】尚、本発明は、必ずしも半導体ウェーハ1
に限らず、高精度の厚み測定を要するものであれば、如
何なる被測定物にも適用できることは言うまでもない。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1又は2記
載の発明は、表面用非接触距離測定器と裏面用非接触距
離測定器との間隔を可変自在としたので、被測定物の配
置を容易に行うことができ、且つ、測定時には、被測定
物の表面からの前記表面用非接触距離測定器の距離を該
表面用非接触距離測定器の距離測定に適した定距離にす
るので、表面用非接触距離測定器による誤差が従来に増
して低減され、厚み測定を更に高精度に行うことができ
る。
【0037】請求項3記載の発明は、表面用非接触距離
測定器と裏面用非接触距離測定器との間隙を上下に移動
調整自在としたので、半導体ウェーハの配置を容易に行
うことができ、且つ、測定時には、半導体ウェーハの表
面からの表面用非接触距離測定器の距離及び半導体ウェ
ーハの裏面からの裏面用非接触距離測定器の距離を、双
方が距離測定に適した距離となるように等距離にするの
で、裏面用非接触距離測定器及び表面用非接触距離測定
器による誤差が従来に増して低減され、厚み測定を更に
高精度に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の厚み測定装置の第一実施形態を示す図
【図2】図1の厚み測定装置の制御部を示す図
【図3】本発明の厚み測定装置の第二実施形態を示す図
【符号の説明】
1…半導体ウェーハ(被測定物) 1a…裏面 1b…表面 20…裏面用非接触距離測定器(裏面位置決定手段) 25…裏側移動駆動部(裏面位置決定手段) 30…表面用非接触距離測定器 35…表側移動駆動部 40…間隔検知部 63…裏側移動駆動制御部 65…表側移動駆動制御部 67…厚み演算検出部 100…厚み測定装置 115…本体支持部 116…開放部 118…開放部移動駆動部 165…開放部移動駆動制御部 200…厚み測定装置 a…距離 b…距離 l…間隔 L1…定距離 L2…等距離

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被測定物の裏面の位置を定める裏面位置決
    定手段と、 前記被測定物の表面までの距離を非接触測定する表面用
    非接触距離測定器と、 前記表面用非接触距離測定器を前記裏面位置決定手段に
    対して相対的に接近離間させる表側移動駆動部と、 前記表面用非接触距離測定器と前記裏面位置決定手段と
    の間隔を検知する間隔検知部とを備える厚み測定装置に
    おいて、 測定時に前記表面用非接触距離測定器により検知された
    距離に基づいて、その距離を該表面用非接触距離測定器
    の距離測定に適した定距離にするように前記表側移動駆
    動部を制御する表側移動駆動制御部と、 前記定距離と、前記裏面位置決定手段で定められた前記
    被測定物の裏面の位置と、前記間隔検知部で検知された
    前記間隔とに基づいて、前記被測定物の表面と裏面との
    間の厚みを演算検出する厚み演算検出部とを備えること
    を特徴とする厚み測定装置。
  2. 【請求項2】前記裏面位置決定手段は、前記被測定物の
    裏面までの距離を非接触測定する裏面用非接触距離測定
    器と、前記裏面用非接触距離測定器を前記表面用非接触
    距離測定器に対して相対的に接近離間させる裏側移動駆
    動部とを備え、 測定時に前記裏面用非接触距離測定器により検知された
    距離に基づいて、その距離を該裏面用非接触距離測定器
    の距離測定に適した定距離にするように前記裏側移動駆
    動部を制御する裏側移動駆動制御部を備え、 前記間隔検知部で検知された前記間隔は、前記表面用非
    接触距離測定器と前記裏面用非接触距離測定器との間隔
    であり、 前記裏面位置決定手段で定められた前記被測定物の裏面
    の位置は、前記裏面用非接触距離測定器の距離測定に適
    した定距離であることを特徴とする請求項1記載の厚み
    測定装置。
  3. 【請求項3】本体支持部と、被測定物の裏面までの距離
    を非接触測定する裏面用非接触距離測定器と、前記被測
    定物の表面までの距離を非接触測定する表面用非接触距
    離測定器とを備える厚み測定装置において、 前記本体支持部は、前記裏面用非接触距離測定器と前記
    表面用非接触距離測定器とが対向配置される開放部と、
    該開放部を移動させる開放部移動駆動部とを備え、 測定時に前記裏面用非接触距離測定器により検知された
    距離と前記表面用非接触距離測定器により検知された距
    離に基づいて、それら距離を等距離に保つように前記開
    放部移動駆動部を制御する開放部移動駆動制御部を備え
    ることを特徴とする厚み測定装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008008778A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Kobe Steel Ltd 薄片状の被測定物の形状測定方法およびその装置
JP2017112316A (ja) * 2015-12-18 2017-06-22 株式会社Sumco 半導体ウェーハの厚み分布測定システムおよび半導体ウェーハ研磨システム、半導体ウェーハの厚み分布測定方法および半導体ウェーハの厚み取り代分布測定方法、ならびに半導体ウェーハの研磨方法。

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008008778A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Kobe Steel Ltd 薄片状の被測定物の形状測定方法およびその装置
JP2017112316A (ja) * 2015-12-18 2017-06-22 株式会社Sumco 半導体ウェーハの厚み分布測定システムおよび半導体ウェーハ研磨システム、半導体ウェーハの厚み分布測定方法および半導体ウェーハの厚み取り代分布測定方法、ならびに半導体ウェーハの研磨方法。

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