JPH10244201A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板に処理を施すための処理室を確実にシール
すること。 【解決手段】処理室１０内に配置された回転チャック２
０は、基板保持部２１と、その下面の周縁付近から垂下
した円筒状のスカート部２７とを有する。このスカート
部２７の下端は、隔壁１５の上面に固定された貯留容器
４０に貯留された純水に接液している。基板保持部２１
の下面の中央からは、中心軸２２が垂下しており、この
中心軸２２は、軸受け２３によって回転自在に支持され
ている。中心軸２２には、回転アクチュエータ１６から
の回転力および昇降駆動機構３０からの昇降駆動力が、
マグネットカップリングによって、隔壁１５を介して伝
達される。これにより、回転チャック２０は、回動およ
び昇降駆動されるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板およびＰＤＰ（プラズマディプ
レイパネル）用ガラス基板などの各種被処理基板に対し
て処理を行う基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶表示装置の製造工程で
は、ガラス基板がコンベアによって次々と搬送され、こ
の搬送過程で、エッチング液や洗浄液などをガラス基板
に供給することによって、ガラス基板自体やその表面に
形成された薄膜に対する各種の処理が施される。このよ
うな装置では、カセットに収容された未処理のガラス基
板が、ロボットによって１枚ずつコンベアに供給され、
また、処理が終了した基板は、コンベアからロボットに
よって１枚ずつ受け取られて、カセットに収容される。
この場合、ロボットとコンベアとの基板の受け渡しの際
に、基板が９０度または１８０度だけ回転される場合が
ある。また、基板に対する処理工程の途中においても、
基板を所定角度だけ回転させる必要が生じる場合もあ
る。

【０００３】基板を所定角度だけ回転させるために用い
られる回転チャック装置の典型的な構成例は、図５に示
されている。この回転チャック装置は、基板１を水平に
保持した状態で鉛直軸まわりに回転することができる回
転チャック２と、この回転チャック２を回転駆動するた
めの回転アクチュエータ３とを備えている。回転チャッ
ク２は、回転アクチュエータ３からの回転力が伝達さ
れ、軸受け４，５に回転自在に支持された回転軸６と、
この回転軸６の上端に固定された基板保持機構７とを有
している。基板保持機構７および回転軸６の上方の部位
ならびに軸受け４は、基板１に対して薬液処理などを施
すための処理室８内に収容されている。

【０００４】この構成により、基板保持機構７に基板１
を保持し、回転アクチュエータ３を駆動することによっ
て、基板保持機構７に保持された基板１を回転させて、
その方向を変えることができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の構
成では、処理室８が駆動機構から充分にシールされてい
ないという問題がある。すなわち、処理室８内には、軸
受け４が存在するから、この軸受け４における摺動に起
因するパーティクルが処理室８内に導入される可能性が
ある。また、回転アクチュエータ３が収容される空間
は、処理室８からは一応隔離されてはいるものの、シー
ルが完璧であるとは言えず、この空間からのパーティク
ルも無視できない。

【０００６】一方、処理室８内で薬液を用いた処理が行
われると、この薬液を含む雰囲気が、軸受け４，５およ
び回転アクチュエータ３などに達し、これらを腐食する
おそれがある。また、回転軸６に摺接するリップシール
等のゴム製のラバーシールを用いてシールを行おうとす
ると、ラバーシールは、摩耗したり薬液によって腐食さ
れたりするから、耐久性の点で充分とは言えない。しか
も、ラバーシールが回転軸６の表面に摺接することによ
って、摩擦熱が発生するから、この摩擦熱が処理室８内
での基板処理に悪影響を与えるおそれがある。さらに、
ラバーシールの摩耗によってパーティクルが発生するか
ら、このパーティクルが基板の処理に与える影響も無視
できない。また、ラバーシールにおける摺動抵抗のため
に、回転アクチュエータ３の負荷が比較的大きいという
問題もある。

【０００７】そこで、本発明の目的は、上述の技術的課
題を解決し、基板に処理を施すための処理室を確実にシ
ールすることができる基板処理装置を提供することであ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板に対
して処理液を供給することによりその基板を処理する処
理室と、この処理室の内部に設けられた可動部材と、上
記可動部材に駆動力を伝達してこの可動部材を作動させ
る駆動機構と、駆動機構が収容された駆動室と、この駆
動室と上記処理室との境界部に設けられ、上記処理室を
上記駆動室から隔離するための液体を貯留する貯留容器
とを含むことを特徴とする基板処理装置である。

【０００９】上記の構成によれば、処理室と駆動室との
境界部に設けられた貯留容器に貯留された液体により、
両室は完全に遮断される。したがって、駆動機構が、処
理室中で使用される処理液の影響を受けることはない。
また、駆動機構において発生したパーティクルが処理室
に侵入することもない。これにより、駆動機構の腐食を
防止できるとともに、処理室内における基板の処理品質
を向上できる。

【００１０】また、ラバーシールなどで処理室のシール
を達成する場合に比較すると、シールの摩耗や摩擦熱の
発生がなく、耐薬液性に優れ、かつ、摺動抵抗が少な
い。これにより、耐久性に優れ、パーティクルの発生が
なく、処理室への熱影響を与えることがなく、しかも、
駆動機構の負荷の少ないシール構造を実現できる。請求
項２記載の発明は、上記駆動機構は、上記可動部材の動
作を案内するための案内手段と、上記可動部材を駆動す
るための駆動力を発生する駆動源とを有するものであ
り、上記駆動室は、上記案内手段が収容された案内手段
室と、上記駆動源が収容された駆動源室とに、隔壁によ
って分割されており、上記貯留容器は、上記案内手段室
と上記処理室との境界部に設けられており、上記駆動機
構は、上記駆動源室に設けられ、上記駆動源により駆動
される駆動磁石と、上記案内手段室内において上記隔壁
を介して上記駆動磁石に対向して配置され、上記処理室
内の可動部材に連結されているとともに、上記駆動磁石
の駆動に伴って動作する従動磁石とを含むものであるこ
とを特徴とする請求項１記載の基板処理装置である。

【００１１】この構成によれば、案内手段室と駆動源室
とは隔壁によって完全に分離されているので、駆動源が
処理液の影響を受けることを確実に防止できる。逆に、
処理室内に駆動源から発生したパーティクルが入り込む
こともない。したがって、駆動源が腐食されることを確
実に防止でき、基板に対する処理品質をさらに向上でき
る。また、貯留容器に貯留された液体が蒸発しても、こ
の液体の蒸気が駆動源に至ることがないから、これによ
っても、駆動源の腐食を効果的に防止できる。

【００１２】さらに、可動部材と駆動源との間では、マ
グネットカップリングによって駆動力の伝達が行われ、
物理的には、両者は分離されている。したがって、駆動
源で発生した熱が可動部材にまで伝導することがないの
で、駆動源で発生した熱が基板の処理に悪影響を与える
ことを確実に防止できる。請求項３記載の発明は、上記
貯留容器に接続され、上記液体を供給する液体供給手段
を備えたことを特徴とする請求項１または請求項２に記
載の基板処理装置である。

【００１３】この構成によれば、貯留容器に貯留された
液体を入れ替えることができるので、液体中に溶解した
処理液や液体中のパーティクルを排出することができ
る。また、除熱を迅速に行えるという効果も期待でき
る。なお、液体の供給は連続的に行われても間欠的に行
われてもよく、間欠的に液体を供給するようにすれば、
液体の消費量を低減できる。

【００１４】請求項４記載の発明は、上記可動部材は、
主面にて基板を保持する基板保持チャックであり、その
基板保持チャックが上記貯留容器の液体に接液される接
液部を備えていることを特徴とする請求項１ないし３の
いずれかに記載の基板処理装置である。この構成によれ
ば、基板保持チャックに設けられた接液部が貯留容器中
の液体に接液されるので、基板保持チャックを冷却する
ことができる。これにより、基板に対する熱影響を抑制
できる。

【００１５】請求項５記載の発明は、上記可動部材は、
基板に対して処理液を供給する処理液供給ノズルであ
り、その処理液供給ノズルが上記貯留容器の液体に接液
される接液部を備えていることを特徴とする請求項１ま
たは３のいずれかに記載の基板処理装置である。この構
成によれば、ノズルに設けられた接液部が貯留容器中の
液体に接液されるので、ノズルを冷却できる。これによ
り、ノズルを介して基板に供給される処理液に対する熱
影響を抑制できる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、この
発明の一実施形態に係る基板処理装置の基本的な構成を
説明するための断面図である。この基板処理装置は、た
とえば、液晶表示装置のガラス基板や半導体ウエハのよ
うな基板に処理液を供給して処理を施すための装置であ
り、現像液、エッチング液などの薬液雰囲気が漂う処理
室１０内で、基板１１を主面にて水平に保持し、この基
板１１を所定角度（たとえば、９０度または１８０度）
だけ鉛直軸まわりに回動させるための回転チャック２０
（可動部材）を備えている。回転チャック２０は、ほぼ
円筒形状に構成されており、その上端に、基板１１を水
平に保持するための基板保持部２１を有している。この
基板保持部２１の下面には、円筒状のスカート部２７
（接液部）が、下方に延びて形成されている。また、基
板保持部２１の中央下面からは、下方に向かって中心軸
２２が垂下している。この中心軸２２は、案内手段とし
ての軸受け２３によって、回動および昇降が自在である
ように支持されている。そして、その下端には、従動磁
石としての永久磁石片２５が固定されている。

【００１７】永久磁石片２５の下方には、隔壁１５が設
けられている。この隔壁１５は、スカート部２７ととも
に、軸受け２３が収容された案内手段室３５を形成して
いる。隔壁１５の下方の空間は、回転チャック２０を回
転させるためのロータリーシリンダなどの回転アクチュ
エータ１６と、回転チャック２０を昇降させるための昇
降駆動機構３０とが配置された駆動源室３６となってい
る。すなわち、隔壁１５は、案内手段室３５と回転アク
チュエータ１６および昇降駆動機構３０などを含む駆動
源が配置された駆動源室３６とを隔離している。換言す
れば、回転アクチュエータ１６、昇降駆動機構３０およ
び軸受け２３などを含む駆動機構が収容された駆動室
が、隔壁１５によって、案内手段室３５と駆動源室３６
とに分割されていると言える。

【００１８】回転アクチュエータ１６は、軸受け１８で
回転自在に支持された回転軸１９を鉛直軸まわりに回転
させる。また、昇降駆動機構３０は、回転軸１９の上端
に設けられた電磁石装置３１と、この電磁石装置３１を
駆動するための駆動回路３２とを有している。隔壁１５
の処理室１０側の表面において、上記円筒状の回転チャ
ック２０のスカート部２７に対応する位置には、平面視
においてドーナツ形状の貯留容器４０が設けられてい
る。すなわち、貯留容器４０は、処理室１０と、案内手
段室３５との境界部に配置されている。貯留容器４０
は、隔壁１５の処理室１０側の表面に固定された底面部
４１と、この底面部４１の内周縁から上方に立ち上がっ
た円筒状の内周壁４２と、底面部４２の外周縁から立ち
上がった円筒状の外周壁４３とを有している。外周壁４
３は、内周壁４２よりも低く形成されており、その所定
位置には、純水供給配管４５からの純水を貯留容器４０
の内部に導くための給水口４４が形成されている。

【００１９】外周壁４３は内周壁４２よりも低いので、
給水口４４から供給された水がオーバーフローしたとき
には、このオーバーフローした水は、回転チャック２０
の外方に向かって流出する。純水供給配管４５には、連
続的または間欠的に純水が供給され、貯留容器４０内に
充分な量の純水が常時貯留された状態が保持される。貯
留容器４０は、その内部に貯留された純水中に、回転チ
ャック２０のスカート部２７が接液するように構成され
ている。より具体的には、回転アクチュエータ１６によ
って、回転チャック２０が回転されたときも、また、昇
降駆動機構３０によって回転チャック２０が昇降された
ときも、回転チャック２０のスカート部２７は、貯留容
器４０に貯留された純水に接液している。

【００２０】したがって、処理室１０は、貯留容器４０
に貯留された純水によって、回転チャック２０の内部の
軸受け２３が収納された案内手段室３５からシールされ
ることになる。これにより、処理室１０内で生じた薬液
雰囲気が軸受け２３にまで及ぶことがないので、軸受け
２３の腐食を防止でき、結果として、装置の耐薬液性を
高めることができる。また、軸受け２３における磨耗や
グリスの蒸発に伴うパーティクルは、貯留容器２０に貯
留された純水によって、処理室１０への侵入が防止され
る。これにより、処理室１０内の雰囲気を清浄に保つこ
とができるので、基板１１に対する処理を良好に行うこ
とができる。

【００２１】しかも、ラバーシールのように回転軸に摺
接する部材を用いた通常のシール方法とは異なり、シー
ル部材の摩耗や熱の発生が無く、摺動抵抗が少ないう
え、ゴム製のラバーシールのように耐薬液性が問題とな
ることもない。したがって、耐久性および耐薬液性が充
分で、しかも、パーティクルの発生のないシール構造を
実現できる。さらには、熱の発生がないので、処理室１
０内での基板処理を安定した温度管理下で良好に行うこ
とができる。また、摺動抵抗が少ないことにより、回転
アクチュエータ１６の負荷を軽減できる。

【００２２】さらに、貯留容器２０に純水を供給してオ
ーバーフローさせるようにしているので、貯留容器２０
内の純水を入れ替えることができる。したがって、純水
中に溶けた処理液やパーティクルを排出することがで
き、かつ、除熱を迅速に行うことができる。純水の供給
は間欠的に行っても差し支えなく、そのようにすれば、
純水の消費量を低減できるので好ましい。

【００２３】また、上記の構成では、回転チャック２０
のスカート部２７を純水に接液させているので、回転チ
ャック２０を冷却することができる。したがって、回転
チャック２０が基板１１に対して熱影響を与えることが
ない。図２は、回転チャック２０を回転および昇降させ
るための構成を説明するための図である。回転チャック
２０の中心軸２２の下端に固定された永久磁石片２５
は、たとえば、扁平な円柱形状のものであり、中心に設
けられた円柱磁石部２５Ａと、その周囲に設けられた環
状磁石部２５Ｂとを有する。円柱磁石部２５Ａは、たと
えば、上端がＳ極、下端がＮ極となっている。また、環
状磁石部２５Ｂは、直径方向の一端にＳ極、他端にＮ極
が位置している。

【００２４】一方、回転軸１９の上端に設けられた電磁
石装置３１は、扁平な環状永久磁石部３１Ｂと、この環
状永久磁石部３１Ｂの中央に設けられた電磁石部３１Ａ
とを有している。環状永久磁石部３１Ｂは、直径方向の
一端にＳ極、他端にＮ極が位置するようになっている。
また、電磁石部３１Ａは、隔壁１５に対向する側にＮ極
またはＳ極を誘起させることができるように構成されて
いる。

【００２５】この構成により、電磁石装置３１と永久磁
石片２５とはマグネットカップリングを構成している。
すなわち、環状永久磁石部２５Ｂと環状磁石部３１Ｂと
は、互いに吸引し合うから、回転アクチュエータ１６に
よって回転軸１９を回転させれば、この回転が、電磁石
装置３１および永久磁石片２５を介して回転チャック２
０に伝達される。また、駆動回路３２によって、電磁石
装置３１の電磁石部３１Ａの上端にＮ極を誘起させれ
ば、この電磁石部３１Ａと永久磁石片２５の円柱磁石部
２５Ａとが反発し合うから、回転チャック２０は上方に
押し上げられることになる。また、電磁石部３１Ａを消
磁したり、あるいは、駆動回路３２によってその上端に
Ｓ極を誘起させれば、回転チャック２０は下降する。

【００２６】こうして、隔壁１５によって、回転アクチ
ュエータ１６や昇降駆動機構３０を処理室１０内の薬液
雰囲気から確実に隔絶することができる。これにより、
回転アクチュエータ１６や軸受け１８などが薬液により
腐食されることも、また、駆動源室３６内で発生したパ
ーティクルが処理室１０に侵入することもない。さらに
は、貯留容器４０内の純水が蒸発して水蒸気が発生して
も、この水蒸気が駆動源室３６に侵入することもないの
で、回転アクチュエータ１６などの部品に錆が生じたり
することも防止できる。

【００２７】また、回転チャック２０と、回転アクチュ
エータ１６とは、構造的に分離されているので、回転ア
クチュエータ１６において発生した熱が回転チャック２
０に伝導することがない。これにより、回転アクチュエ
ータ１６による発熱の影響が基板１１に及ぶことを防止
できる。なお、上記の実施形態においては、電磁石装置
３１を用いて回転チャック２０を昇降するようにしてい
るが、たとえば、環状永久磁石部３１Ｂの中央に、隔壁
１５側にＮ極を配置した円柱永久磁石部３１Ａ′を設け
た図３の構造の永久磁石片３１０を用いてもよい。この
場合、永久磁石片３１０の円柱永久磁石部３１Ａ′と永
久磁石片２５の円柱磁石部２５Ａとは互いに反発し合う
から、永久磁石片３１０を上下動させることにより、回
転チャック２０を昇降することができる。

【００２８】また、上述の実施形態においては、マグネ
ットカップリングを利用して、回転アクチュエータ１６
および昇降駆動機構３０による回転チャック２０の回転
および昇降を実現しているが、隔壁１５を貫通して回転
アクチュエータ１６と回転チャック２０とを直結する回
転軸を設け、回転アクチュエータ１６の回転が直接的に
回転チャック２０に伝達されるようにしてもよい。この
場合、回転チャック２０の昇降は、回転アクチュエータ
１６および回転チャック２０に直結された上記の回転軸
をエアシリンダなどを用いた昇降駆動機構で昇降するこ
とによって達成できる。

【００２９】このような構成を採用しても、貯留容器４
０に貯留された純水によって、回転軸の軸受け、回転ア
クチュエータ１６および昇降駆動機構と、処理室１０内
の空間とは隔絶され、処理室１０内の雰囲気が回転・昇
降駆動機構を腐食したり、回転・昇降駆動機構において
発生したパーティクルが処理室１０に流入したりするお
それはない。

【００３０】図４は、この発明の第２の実施形態に係る
基板処理装置の基本的な構成を説明するための簡略化し
た断面図である。この基板処理装置は、基板Ｗを水平に
保持した状態で高速回転するスピンチャック５１と、こ
のスピンチャック５１に薬液や純水などの処理液を供給
するためのスキャンノズル５２（可動部材）とを備えて
いる。スキャンノズル５２は、その先端の処理液吐出部
５２Ａを基板Ｗの回転中心からその縁部までの間で半径
方向に沿って往復させつつ、スピンチャック５１に保持
された基板Ｗの表面に処理液を供給するものである。す
なわち、スキャンノズル５２は、先端に処理液吐出部５
２Ａを有する揺動アーム部５２Ｂと、この揺動アーム部
５２Ｂをほぼ水平に支持するとともに、鉛直方向に沿っ
て配置された基部５２Ｃとを有する。基部５２Ｃは、ス
ピンチャック５１が収容された処理室６０の隔壁６１を
挿通しており、隔壁６１の上下に設けられた軸受け６２
Ａ，６２Ｂにより、回転自在に支持されている。この基
部５２Ｃの隔壁６１の下方の部位には、プーリー７６が
固定されており、このプーリー７６には、モータ７５の
回転がプーリー７７およびベルト７８を介して伝達され
ている。

【００３１】したがって、モータ７５を正転／逆転する
ことによって、基部５２Ｃが鉛直軸まわりに回動し、こ
れにより、揺動アーム部５２Ｂが揺動し、処理液吐出部
５２Ａが基板Ｗの表面をスキャンする。基部５２Ｃにお
いて隔壁６１よりもやや上方の位置には、回転軸線から
所定距離だけ離反し、さらに隔壁６１に向かって垂下す
るスカート部６５（接液部）が形成されている。隔壁６
１の上面においてスカート部６５に対応する位置は、平
面視においてドーナツ形状の貯留容器７０が設けられて
いる。貯留容器７０は、環状の底面部７１と、この底面
部７１の内周縁から上方に立ち上がる円筒状の内周壁７
２と、底面部７１の外周縁から上方に立ち上がる円筒状
の外周壁７３とを有している。外周壁７３の上端は、内
周壁７２の上端よりも低くなっている。この外周壁７３
の側面の所定位置には、純水供給管６８からの純水を貯
留容器７０内に導き入れるための給水口７４が形成され
ている。外周壁７３は、底面部７１よりもさらに下方に
延びており、その下端は、隔壁６１の上面に固定されて
いる。

【００３２】スカート部６５、貯留容器７０および隔壁
６１によって区画された空間は、案内手段としての軸受
け６２Ａを収容した案内手段室８１を形成している。ま
た、モータ７５などが収容された空間は駆動源室８２を
なしており、この駆動源室８２と上記案内手段室８１と
は全体として駆動室を形成している。また、この実施形
態においては、案内手段室８１と駆動源室８２とは、ス
キャンノズル５２の基部５２Ｃが隔壁６１を挿通する挿
通孔８５を介して連通している。

【００３３】この構成により、処理室６０と、案内手段
室８１および駆動源室８２からなる駆動室とは、貯留容
器７０に貯留された純水によって完全に隔絶される。こ
れにより、上記の第１実施形態の場合と同様、耐久性お
よび耐薬液性にすぐれ、かつ、パーティクルの発生がな
く、発熱もなく、さらに、モータ７５の負荷の少ないシ
ール構造を実現できる。

【００３４】以上、この発明の２つの実施形態について
説明したが、この発明は、上記の実施形態以外にも種々
の形態で実施することができる。たとえば、上記第１の
実施形態では、回転および昇降する回転チャックを例に
とったが、基板を昇降するのみの構成のチャックについ
ても、第１の実施形態の場合と同じく、チャックのスカ
ート部を貯留容器内の純水に接液することで、処理室内
の空間をシールできる。この場合には、チャックが回転
する必要はないから、スカート部は円筒状である必要は
なく、それに応じて、貯留容器も円環状のものである必
要はない。

【００３５】また、上記の実施形態においては、シール
用の液体として純水を用いたが、基板の処理に影響のな
い他の種類の液体が適用されてもよい。その他、特許請
求の範囲に記載された技術的事項の範囲で種々の設計変
更を施すことが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の基
本的な構成を説明するための簡略化した断面図である。

【図２】基板を回転および昇降させるための構成を説明
するための概念図である。

【図３】基板を回転および昇降させるための他の構成例
を説明するための概念図である。

【図４】この発明の他の実施形態に係る基板処理装置の
基本的な構成を説明するための簡略化した断面図であ
る。

【図５】従来の基板処理装置の構成を示す簡略化した断
面図である。

【符号の説明】

１０ 処理室 １１ 基板 １５ 隔壁 １６ 回転アクチュエータ １８ 軸受け １９ 回転軸 ２０ 回転チャック ２２ 中心軸 ２３ 軸受け ２５ 永久磁石片 ２７ スカート部 ３０ 昇降駆動機構 ３１ 電磁石装置 ３２ 駆動回路 ３５ 案内手段室 ３６ 駆動源室 ４０ 貯留容器 ４４ 給水口 ４５ 純水供給管 Ｗ 基板 ５１ スピンチャック ５２ スキャンノズル ６０ 処理室 ６１ 隔壁 ６２Ａ 軸受け ６５ スカート部 ７０ 貯留容器 ７５ モータ ８１ 案内手段室 ８２ 駆動源室

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板に対して処理液を供給することにより
   その基板を処理する処理室と、 この処理室の内部に設けられた可動部材と、 上記可動部材に駆動力を伝達してこの可動部材を作動さ
   せる駆動機構と、 駆動機構が収容された駆動室と、 この駆動室と上記処理室との境界部に設けられ、上記処
   理室を上記駆動室から隔離するための液体を貯留する貯
   留容器とを含むことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】上記駆動機構は、上記可動部材の動作を案
   内するための案内手段と、上記可動部材を駆動するため
   の駆動力を発生する駆動源とを有するものであり、 上記駆動室は、上記案内手段が収容された案内手段室
   と、上記駆動源が収容された駆動源室とに、隔壁によっ
   て分割されており、 上記貯留容器は、上記案内手段室と上記処理室との境界
   部に設けられており、 上記駆動機構は、上記駆動源室に設けられ、上記駆動源
   により駆動される駆動磁石と、上記案内手段室内におい
   て上記隔壁を介して上記駆動磁石に対向して配置され、
   上記処理室内の可動部材に連結されているとともに、上
   記駆動磁石の駆動に伴って動作する従動磁石とを含むも
   のであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装
   置。
3. 【請求項３】上記貯留容器に接続され、上記液体を供給
   する液体供給手段を備えたことを特徴とする請求項１ま
   たは請求項２に記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】上記可動部材は、主面にて基板を保持する
   基板保持チャックであり、その基板保持チャックが上記
   貯留容器の液体に接液される接液部を備えていることを
   特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処
   理装置。
5. 【請求項５】上記可動部材は、基板に対して処理液を供
   給する処理液供給ノズルであり、その処理液供給ノズル
   が上記貯留容器の液体に接液される接液部を備えている
   ことを特徴とする請求項１または３のいずれかに記載の
   基板処理装置。