CN113351566A - 清洗方法及清洗设备 - Google Patents

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CN113351566A CN202010145267.5A CN202010145267A CN113351566A CN 113351566 A CN113351566 A CN 113351566A CN 202010145267 A CN202010145267 A CN 202010145267A CN 113351566 A CN113351566 A CN 113351566A
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Abstract

本发明提供了一种清洗方法及清洗设备，涉及半导体技术领域，所述清洗方法包括如下步骤：将多个待清洗件转移至盛放槽内，其中，所述盛放槽上设置有连通其内壁和外壁的导流孔；将盛放槽放置到装有反应清洗液的溶液槽内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽内；将盛放槽从反应清洗液内取出。在整个过程中，多个待清洗件可以一同被放入到反应清洗液中，也可以一同从反应清洗液中取出，相比于现有技术中逐一的放置/取出待清洗件而言，本发明实施例提供的清洗方法的使用的时间更短，清洗的效率更高。

Description

清洗方法及清洗设备
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其是涉及一种清洗方法及清洗设备。
背景技术
在半导体加工制备领域中，经常会用到一些块状金属或器件，块状金属或器件应用时间过长，表面会发生氧化或者附着脏污，影响金属或器件的正常使用。
现有技术中，为了避免酸性清洗液或者碱性清洗液飞溅，需要手动将块状金属或器件逐一放入到酸性清洗液或者碱性清洗液中清洗清洗，清洗掉其表面的氧化膜或脏污才能继续使用。手动清洗块状金属或器件时，块状金属或器件转移费时，清洗速度慢，导致清洗效率低，耗费人工，产能低的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种清洗方法及清洗设备，以缓解了现有的人工清洗过程中待清洗件逐一转移效率低的技术问题。
第一方面，本发明实施例提供的一种清洗方法，所述清洗方法包括如下步骤：
将多个待清洗件转移至盛放槽内，其中，所述盛放槽上设置有连通其内壁和外壁的导流孔；
将盛放槽放置到装有反应清洗液的溶液槽内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽内；
将盛放槽从反应清洗液内取出。
进一步的，所述清洗方法包括在所述将盛放槽放置到反应清洗液内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽内之后进行的步骤：
在所述反应清洗液内，对所述盛放槽内的待清洗件进行超声处理。
进一步的，所述清洗方法包括在所述将盛放槽放置到反应清洗液内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽内之后进行的步骤：
在反应清洗液中晃动盛放槽。
第二方面，本发明实施例提供的一种清洗设备，所述清洗设备包括盛放槽，所述盛放槽用于盛放待清洗件，所述盛放槽上设置有连通其内壁和外壁的导流孔；
所述清洗设备包括溶液槽，所述溶液槽用于盛放反应清洗液；
所述清洗设备包括第一机械臂，所述第一机械臂用于夹持并转移所述盛放槽，以使所述盛放槽能够被放入到所述溶液槽内，或者从所述溶液槽内取出。
进一步的，所述溶液槽上设置有超声波发生器，所述超声波发生器用于使所述溶液槽内的反应清洗液振动。
进一步的，所述清洗设备包括配液装置，所述配液装置包括多个能够向所述溶液槽内定量输出液体的液体输出机构。
进一步的，所述清洗设备包括第二机械臂，所述第二机械臂用于抓取用于盛放待清洗件的容器；
所述第二机械臂能够将所述容器内的待清洗件倒入到所述盛放槽内。
进一步的，所述清洗设备包括支架和漏斗结构，所述支架用于支撑所述漏斗结构；
所述第二机械臂能够在倾倒完所述待清洗件后将所述容器移动到所述漏斗结构的正下方，所述漏斗结构用于将清洗后的待清洗件导入到所述容器内。
进一步的，所述清洗设备包括漂洗装置，所述漂洗装置用于对待清洗件进行漂洗；
所述清洗设备包括烘干装置，所述烘干装置用于对待清洗件进行烘干。
进一步的，所述溶液槽的底部设置有安装槽，所述安装槽的开口处设置有止挡边沿；
所述溶液槽内设置有转盘，所述转盘和所述盛放槽之间设置有固定结构，所述固定结构用于将二者固定连接；
所述转盘底面上设置有轴杆，所述轴杆的末端的外壁上设置有沿其径向方向延伸的止挡部，且所述止挡部位于所述安装槽内；所述安装槽的底面与所述止挡边沿之间的具有大于所述止挡部的厚度，所述转盘位于所述安装槽的上方，以使所述转盘能够沿所述安装槽的深度方向运动；所述轴杆上套接有弹簧，所述弹簧的一端与所述止挡边沿抵接，另一端与所述止挡部抵接，所述弹簧用于带动所述止挡部远离所述止挡边沿；
所述转盘的边沿处内嵌有第一磁铁；所述溶液槽的下方设置有磁力转动机构，所述磁力转动机构包括电机，以及连接在所述电机转轴上的轮体，所述轮体与所述转盘平行，且所述轮体的边沿上设置有第二磁铁，且所述第一磁铁与所述第二磁铁能够相互吸引，以使所述电机通过所述轮体带动所述转盘转动；
所述转盘的底面上设置有多个球形凸起，多个所述球形凸起沿所述转盘的转动方向环绕且间隔设置；
所述溶液槽上设置有多个凹槽，所述凹槽位于所述球形凸起的下方，多个凹槽间隔的设置在所述球形凸起的运动路径上，且与所述球形凸起一一对应；以使所述转盘转动时，所述球形凸起经过所述凹槽后，所述转盘在轴向上往复运动。
与现有技术相比，本发明实施例提供的清洗方法的优点在于：
在清洗的过程中，使用盛放槽盛放多个待清洗件，并将盛放槽放置到装有反应清洗液的溶液槽内，从而做到了将多个待清洗件一起转移到溶液槽内，因为盛放槽上设置有导流孔，反应清洗液可以顺着导流孔进入到盛放槽内，与其中的待清洗件上的杂质进行反应。将盛放槽从反应清洗液内取出，多个待清洗件与盛放槽一同被提出，缩短了逐一取出待清洗件的时间，同时，因为盛放槽上设置有导流孔，反应清洗液会顺着导流孔流出，避免盛放槽内聚集过多的反应清洗液。在整个过程中，多个待清洗件可以一同被放入到反应清洗液中，也可以一同从反应清洗液中取出，相比于现有技术中逐一的放置/取出待清洗件而言，本发明实施例提供的清洗方法的使用的时间更短，清洗的效率更高。
与现有技术相比，本发明实施例提供的清洗设备的优点在于：
在清洗的过程中，使用盛放槽盛放多个待清洗件，并利用第一机械臂将盛放槽放置到装有反应清洗液的溶液槽内，从而做到了将多个待清洗件一起转移到溶液槽内，因为盛放槽上设置有导流孔，反应清洗液可以顺着导流孔进入到盛放槽内，与其中的待清洗件上的杂质进行反应。利用第一机械臂将盛放槽从反应清洗液内取出，多个待清洗件与盛放槽一同被提出，缩短了逐一取出待清洗件的时间，同时，因为盛放槽上设置有导流孔，反应清洗液会顺着导流孔流出，避免盛放槽内聚集过多的反应清洗液。在整个过程中，多个待清洗件可以一同被放入到反应清洗液中，也可以一同从反应清洗液中取出，相比于现有技术中逐一的放置/取出待清洗件而言，本发明实施例提供的清洗方法的使用的时间更短，清洗的效率更高。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的清洗方法的流程图；
图2为本发明实施例提供的清洗设备的示意图；
图3为本发明实施例提供的盛放槽的示意图；
图4为本发明实施例提供的溶液槽的示意图；
图5为图4中A位置的局部放大图。
图标：100-盛放槽；110-导流孔；200-溶液槽；300-第一机械臂；400-容器；500-第二机械臂；600-漏斗结构；710-漂洗装置；720-烘干装置；810-安装槽；820-转盘；830-轴杆；831-止挡部；840-弹簧；850-第一磁铁；860-电机；870-轮体；871-第二磁铁；881-球形凸起；882-凹槽。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1所示，本发明实施例提供的清洗方法，所述清洗方法包括如下步骤：
将多个待清洗件转移至盛放槽100内，其中，所述盛放槽100上设置有连通其内壁和外壁的导流孔110。在准备清洗前，将多个待清洗件一起放入到盛放槽100内，可以人工或者利用第一机械臂300夹持盛放槽100，并转移盛放槽100。如图3所示，盛放槽100可以呈杯状，导流孔110可以位于盛放槽100的底部和侧壁上。
将盛放槽100放置到装有反应清洗液的溶液槽200内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽100内。可以人工或者利用第一机械臂300对盛放槽100进行转移，将盛放槽100放置到溶液槽200内。
将盛放槽100从反应清洗液内取出。待盛放槽100放置在反应清洗液中一段时间后，可以人工或者利用第一机械臂300将盛放槽100取出，多个待清洗件与盛放槽100一同被提出，缩短了逐一取出待清洗件的时间。
综上所述，在清洗的过程中，使用盛放槽100盛放多个待清洗件，并将盛放槽100放置到装有反应清洗液的溶液槽200内，从而做到了将多个待清洗件一起转移到溶液槽200内，因为盛放槽100上设置有导流孔110，反应清洗液可以顺着导流孔110进入到盛放槽100内，与其中的待清洗件上的杂质进行反应。将盛放槽100从反应清洗液内取出，多个待清洗件与盛放槽100一同被提出，缩短了逐一取出待清洗件的时间，同时，因为盛放槽100上设置有导流孔110，反应清洗液会顺着导流孔110流出，避免盛放槽100内聚集过多的反应清洗液。在整个过程中，多个待清洗件可以一同被放入到反应清洗液中，也可以一同从反应清洗液中取出，相比于现有技术中逐一的放置/取出待清洗件而言，本发明实施例提供的清洗方法的使用的时间更短，清洗的效率更高。
以待清洗件为镍金属块为例进行说明，本发明的一种实施具体清洗方式可以为：
1清洗镍金属块时将容器400含镍金属块从应用端上取下；
2将应用端钛容器400放置到溢流槽中溢流清洗，也就是先利用纯水清理，取出并沥干；
3本实施方式中溶液槽200为烧杯，在2L烧杯中使用浓硫酸配制约1L5％vol.稀硫酸溶液；
4准备盛放槽100，将镍金属块从容器400中倒入到盛放槽100中；
5将盛放槽100放入到烧杯内；
6用双手抱住盛有稀硫酸和镍金属块的烧杯，转移至超声清洗机处，进行中等强度超声处理1小时；
7第6步完成后，将烧杯从清洗机内拿出，转移至废液槽旁；
8取出盛放槽100并沥干，放入到清水中冲洗数次；
9准备好上述的容器400，将盛放槽100中的镍金属块，倒入到容器400中；
10将容器400放置到溢流槽中溢流清洗；
11将容器400取出并沥干，安装至应用端。
所述清洗方法包括在所述将盛放槽100放置到反应清洗液内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽100内之后进行的步骤：在所述反应清洗液内，对所述盛放槽100内的待清洗件进行超声处理。
超声产生的振动会传递给待清洗件，其上的杂质会在振动的作用下更容易与待清洗件分离，从而可以去除一些附着在待清洗件上，且不与反应清洗液反应的杂质。
所述清洗方法包括在所述将盛放槽100放置到反应清洗液内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽100内之后进行的步骤：在反应清洗液中晃动盛放槽100。
可以上下或者左右晃动盛放槽100，从而使盛放槽100内的待清洗件与反应清洗液发生相互运动，流动在待清洗件旁边的反应清洗液可以带走待清洗件上附着的杂质，或者与反应清洗液反应过后留下的反应物，从而避免杂质或者反应后的反应物附着在其他杂质上，影响反应的进一步进行。
如图2和图3所示，本发明实施例提供的清洗设备，所述清洗设备包括盛放槽100，所述盛放槽100用于盛放待清洗件，所述盛放槽100上设置有连通其内壁和外壁的导流孔110；所述清洗设备包括溶液槽200，所述溶液槽200用于盛放反应清洗液；所述清洗设备包括第一机械臂300，所述第一机械臂300用于夹持并转移所述盛放槽100，以使所述盛放槽100能够被放入到所述溶液槽200内，或者从所述溶液槽200内取出。在清洗的过程中，使用盛放槽100盛放多个待清洗件，并利用第一机械臂300将盛放槽100放置到装有反应清洗液的溶液槽200内，从而做到了将多个待清洗件一起转移到溶液槽200内，因为盛放槽100上设置有导流孔110，反应清洗液可以顺着导流孔110进入到盛放槽100内，与其中的待清洗件上的杂质进行反应。利用第一机械臂300将盛放槽100从反应清洗液内取出，多个待清洗件与盛放槽100一同被提出，缩短了逐一取出待清洗件的时间，同时，因为盛放槽100上设置有导流孔110，反应清洗液会顺着导流孔110流出，避免盛放槽100内聚集过多的反应清洗液。在整个过程中，多个待清洗件可以一同被放入到反应清洗液中，也可以一同从反应清洗液中取出，相比于现有技术中逐一的放置/取出待清洗件而言，本发明实施例提供的清洗方法的使用的时间更短，清洗的效率更高。
所述溶液槽200上设置有超声波发生器，所述超声波发生器用于使所述溶液槽200内的反应清洗液振动。
超声产生的振动会传递给待清洗件，其上的杂质会在振动的作用下更容易与待清洗件分离，从而可以去除一些附着在待清洗件上，且不与反应清洗液反应的杂质。并且减少的待清洗件的转移步骤。
以待清洗件为镍金属块为例进行说明，本发明的另一种实施具体清洗方式可以为：
1在溶液槽200内配有稀硫酸溶液；
2清洗镍金属块时将容器400含镍金属块从应用端上取下；
3将应用端容器400放置到溢流槽中溢流清洗，也就是先利用纯水清理，取出并沥干；
4准备盛放槽100，将镍金属块从容器400中倒入到盛放槽100中；
5将盛放槽100放入到溶液槽200中，超声处理1小时；
6上一步完成后，将盛放槽100从溶液槽200中拿出，放入到清洗槽清洗、沥干；
7准备钛容器400，将盛放槽100中的镍金属块，倒入到容器400中；
8将容器400放置到溢流槽中溢流清洗；
9将容器400取出并沥干，安装至应用端。
所述清洗设备包括配液装置，所述配液装置包括多个能够向所述溶液槽200内定量输出液体的液体输出机构。
事先准备制备反应清洗液的多种试剂，然后将多个液体输出机构的进液管分别插入到盛有上述试剂的多个试剂瓶中，通过预设的比例，利用液体泵将定量的试剂注入到溶液槽200内，从而在溶液槽200内实现反应清洗液的制备。例如，可以在溶液池内配置稀硫酸，在该情况下，液体输出机构的数量为两个，一个向溶液槽200内注射一定量的浓硫酸，另一个向溶液槽200内注射纯水。
所述清洗设备包括第二机械臂500，所述第二机械臂500用于抓取用于盛放待清洗件的容器400；所述第二机械臂500能够将所述容器400内的待清洗件倒入到所述盛放槽100内。
在半导体领域中，待清洗件可以为放置在反应端的镍金属块，镍金属块放置在钛容器400内被固定在反应端，需要清洗时，可以将钛容器400取下，并放置在第一指定的位置，利用第二机械臂500进行夹持，第二机械臂500具有多个自由度，其用于夹取容器400的夹持部可以进行三维上运动，并且可以转动。第二机械臂500可以将容器400移动至放置在预设位置处的盛放槽100上方，然后通过倾倒的方式，将镍金属块转移到盛放槽100内。
所述清洗设备包括支架和漏斗结构600，所述支架用于支撑所述漏斗结构600；所述第二机械臂500能够在倾倒完所述待清洗件后将所述容器400移动到所述漏斗结构600的正下方，所述漏斗结构600用于将清洗后的待清洗件导入到所述容器400内。
当第二机械臂500倾倒完镍金属块后，可以将容器400转移到第二指定位置处。即漏斗结构600的正下方。当镍金属块完成清洗过程后，第一机械臂300可以将盛放槽100内的镍金属块倒入到容器400内，漏斗结构600可以起到导向作用，避免镍金属块掉落在容器400外面。
第一指定位置和第二指定位置可以设置有与容器400匹配的凹槽882，起到定位作用。
所述清洗设备包括漂洗装置710，所述漂洗装置710用于对待清洗件进行漂洗；所述清洗设备包括烘干装置720，所述烘干装置720用于对待清洗件进行烘干。
漂洗装置710可以包括漂洗槽，将盛放槽100放置在漂洗槽内，所述漂洗槽上设置有进水口和出水口，利用循环的纯水对待清洗件进行漂洗。烘干装置720可以包括烘干槽，烘干槽的侧壁上设置有热风出口，通过向盛放槽100进行吹热风的方式，将待清洗件上的水分带走。
盛放槽100具有酸碱耐受性，盛放槽100的侧壁上设置有卡位，例如卡槽结构，方便与第一机械臂300配合，被第一机械臂300夹持。
溶液槽200的开口处可以设置有盖子，在不进行清洗时，盖子将溶液槽200开口覆盖，避免反应清洗液挥发。溶液槽200内设置排液机构，用于排出反应清洗液。
溶液槽200内设置有PH测量装置(酸碱测量装置)，用于在清洗前检测反应清洗液的PH值，检测反应清洗液是否变质。
溶液槽200内设置有控温装置，用于调节溶液槽200内的反应清洗液的温度，用于适合反应清洗进行。
为了可以使盛放槽100内的多个待清洗件彼此之间的位置可以变换，避免相接触的两个待清洗件的贴合面无法得到有效的清洗，可以通过晃动盛放槽100的方式，使多个待清洗件发生相对运动。
如图4和图5所示，具体的，所述溶液槽200的底部设置有安装槽810，所述安装槽810的开口处设置有止挡边沿；所述溶液槽200内设置有转盘820，安装槽810用于安装转盘820，所述转盘820和所述盛放槽100之间设置有固定结构，所述固定结构用于将二者固定连接，也就是说，当第一机械臂300将盛放槽100放置在转盘820上时，利用固定结构可以转盘820与盛放槽100连接，例如二者可以通过磁性连接。
所述转盘820底面上设置有轴杆830，所述轴杆830的末端的外壁上设置有沿其径向方向延伸的止挡部831，且所述止挡部831位于所述安装槽810内；所述安装槽810的底面与所述止挡边沿之间的具有大于所述止挡部831的厚度，所述转盘820位于所述安装槽810的上方，转盘820能够沿所述安装槽810的深度方向上下运动，所述轴杆830上套接有弹簧840，所述弹簧840的一端与所述止挡边沿抵接，另一端与所述止挡部831抵接，所述弹簧840用于带动所述止挡部831远离所述止挡边沿，盛放槽100内的待清洗件在上下颠簸的运动过程中，彼此之间的接触面会发生改变。
所述转盘820的边沿处内嵌有第一磁铁850；所述溶液槽200的下方设置有磁力转动机构，所述磁力转动机构包括电机860，以及连接在所述电机860转轴上的轮体870，所述轮体870与所述转盘820平行，且所述轮体870的边沿上设置有第二磁铁871，且所述第一磁铁850与所述第二磁铁871能够相互吸引，当电机860启动时，轮体870可以转动，并带动转盘820转动；所述转盘820的底面上设置有多个球形凸起881，多个所述球形凸起881沿所述转盘820的转动方向环绕且间隔设置；所述溶液槽200上设置有多个凹槽882，所述凹槽882位于所述球形凸起881的下方，多个凹槽882间隔的设置在所述球形凸起881的运动路径上，且与所述球形凸起881一一对应；当所述转盘820转动时，所述球形凸起881经过所述凹槽882时，盘体在弹簧840的带动下向下运动，而当球形凸起881越过凹槽882时，盘体向上运动，在盘体转动的过程中，盘体在转动的同时进行上下运动，从而可以使待清洗件与反应清洗液发生充分的接触。
盛放槽100位于转盘820的中心位置，起到固定座的磁铁与带动转盘820转动的磁铁之间存在一定的间隙，二者相互影响极小。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步骤：
将多个待清洗件转移至盛放槽(100)内，其中，所述盛放槽(100)上设置有连通其内壁和外壁的导流孔(110)；
将盛放槽(100)放置到装有反应清洗液的溶液槽(200)内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽(100)内；
将盛放槽(100)从反应清洗液内取出。
2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括在所述将盛放槽(100)放置到反应清洗液内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽(100)内之后进行的步骤：
在所述反应清洗液内，对所述盛放槽(100)内的待清洗件进行超声处理。
3.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括在所述将盛放槽(100)放置到反应清洗液内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽(100)内之后进行的步骤：
在反应清洗液中晃动盛放槽(100)。
4.一种清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括盛放槽(100)，所述盛放槽(100)用于盛放待清洗件，所述盛放槽(100)上设置有连通其内壁和外壁的导流孔(110)；
所述清洗设备包括溶液槽(200)，所述溶液槽(200)用于盛放反应清洗液；
所述清洗设备包括第一机械臂(300)，所述第一机械臂(300)用于夹持并转移所述盛放槽(100)，以使所述盛放槽(100)能够被放入到所述溶液槽(200)内，或者从所述溶液槽(200)内取出。
5.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，所述溶液槽(200)上设置有超声波发生器，所述超声波发生器用于使所述溶液槽(200)内的反应清洗液振动。
6.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括配液装置，所述配液装置包括多个能够向所述溶液槽(200)内定量输出液体的液体输出机构。
7.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括第二机械臂(500)，所述第二机械臂(500)用于抓取用于盛放待清洗件的容器(400)；
所述第二机械臂(500)能够将所述容器(400)内的待清洗件倒入到所述盛放槽(100)内。
8.根据权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括支架和漏斗结构(600)，所述支架用于支撑所述漏斗结构(600)；
所述第二机械臂(500)能够在倾倒完所述待清洗件后将所述容器(400)移动到所述漏斗结构(600)的正下方，所述漏斗结构(600)用于将清洗后的待清洗件导入到所述容器(400)内。
9.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括漂洗装置(710)，所述漂洗装置(710)用于对待清洗件进行漂洗；
所述清洗设备包括烘干装置(720)，所述烘干装置(720)用于对待清洗件进行烘干。
10.根据权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述溶液槽(200)的底部设置有安装槽(810)，所述安装槽(810)的开口处设置有止挡边沿；
所述溶液槽(200)内设置有转盘(820)，所述转盘(820)和所述盛放槽(100)之间设置有固定结构，所述固定结构用于将二者固定连接；
所述转盘(820)底面上设置有轴杆(830)，所述轴杆(830)的末端的外壁上设置有沿其径向方向延伸的止挡部(831)，且所述止挡部(831)位于所述安装槽(810)内；所述安装槽(810)的底面与所述止挡边沿之间的具有大于所述止挡部(831)的厚度，所述转盘(820)位于所述安装槽(810)的上方，以使所述转盘(820)能够沿所述安装槽(810)的深度方向运动；所述轴杆(830)上套接有弹簧(840)，所述弹簧(840)的一端与所述止挡边沿抵接，另一端与所述止挡部(831)抵接，所述弹簧(840)用于带动所述止挡部(831)远离所述止挡边沿；
所述转盘(820)的边沿处内嵌有第一磁铁(850)；所述溶液槽(200)的下方设置有磁力转动机构，所述磁力转动机构包括电机(860)，以及连接在所述电机(860)转轴上的轮体(870)，所述轮体(870)与所述转盘(820)平行，且所述轮体(870)的边沿上设置有第二磁铁(871)，且所述第一磁铁(850)与所述第二磁铁(871)能够相互吸引，以使所述电机(860)通过所述轮体(870)带动所述转盘(820)转动；
所述转盘(820)的底面上设置有多个球形凸起(881)，多个所述球形凸起(881)沿所述转盘(820)的转动方向环绕且间隔设置；
所述溶液槽(200)上设置有多个凹槽(882)，所述凹槽(882)位于所述球形凸起(881)的下方，多个凹槽(882)间隔的设置在所述球形凸起(881)的运动路径上，且与所述球形凸起(881)一一对应；以使所述转盘(820)转动时，所述球形凸起(881)经过所述凹槽(882)后，所述转盘(820)在轴向上往复运动。
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