JPH10239675A

JPH10239675A - 液晶表示装置の製造方法

Info

Publication number: JPH10239675A
Application number: JP4440097A
Authority: JP
Inventors: Kanemitsu Kubota; 兼充久保田; Tatsuya Shimoda; 達也下田
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1997-02-27
Filing date: 1997-02-27
Publication date: 1998-09-11
Anticipated expiration: 2017-02-27
Also published as: JP4146526B2

Abstract

(57)【要約】【課題】薄く、明るく、色ズレのない液晶表示装置の製
造方法を提供する。【解決手段】耐熱性を有する耐熱性基板１０に、照明光
の照射により剥離を生ずる剥離層１１を形成し、剥離層
１１に、薄膜素子を設けた薄膜素子層１２を形成し、剥
離層１１に対し、前記耐熱性基板１０側から照射光を照
射して当該剥離層１１に剥離を生じさせ、剥離された前
記薄膜素子層１２を、前記耐熱性基板１０より薄い第１
の透明基板１４に接着し、該第１の透明基板１４と薄膜
素子が設けられていない第２の透明基板２０との間にゲ
ストホスト液晶層を挟持して液晶デバイスを形成する。
そして、色の異なる複数の上記ゲストホスト液晶デバイ
スを積層し貼り合わせることによりカラー液晶表示装置
を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶を用いた表示
装置に係り、特に、薄く、明るく、また、色ズレを生ず
ることがないカラーの液晶表示装置の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】低消費電力で、明るいカラー画像表示が
可能な反射型カラー液晶表示装置を求めて、従来から種
々の方式が提案されてきた。その中でも、文献（ＳＩＤ
９６ＤＩＧＥＳＴ、ｐ１０３〜１０６）に示された方式
が、表示面を暗くする偏光板やカラーフィルター層を使
用しないため最もカラー表示画質（明るさ、色純度、コ
ントラスト比）が優れている方式として期待されてい
る。

【０００３】上記方式に於いては、シアン、マゼンダ、
イエローの各原色を示す二色性色素を各々含む複数のゲ
ストホスト液晶セルを用意し、それら複数の液晶セルを
積み重ね、垂直な方向から観察した時に全てのセルに於
いて各原色の対応する画素が重なり合うように位置を合
わせて貼り合わされる。しかる後、各ゲストホスト液晶
セルを独立して駆動すれば、３原色が合成されてカラー
表示が行われる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、シアン、マゼ
ンダ、イエロー各色のゲストホスト液晶セルを用いた表
示装置を製造する際、各セルを重ねてカラー表示用液晶
表示装置を構成すると、色ズレを生ずる可能性があっ
た。

【０００５】ゲストホスト液晶セルを構成する透明電極
基板上にＴＦＴ等の素子を形成するには、基板を４００
℃以上の高温の雰囲気下におかなければならない。この
高い温度に耐えるために、基板には厚いガラスを用いる
必要がある。このため、この厚いガラス基板を用いた各
原色からなるゲストホスト液晶セルを重ね合わせて、カ
ラー表示用液晶表示装置を製造すると、ゲストホスト液
晶層間にガラス基板が入り込むため、ゲストホスト液晶
層間の距離が大きくなる。

【０００６】該カラー表示用液晶表示装置をまったく垂
直な方向から観察すれば、各原色の対応する画素は重な
って見えるため、適正なカラー表示が行われる。ところ
が、わずかでもずれた方向から観察すると、各原色の見
える位置も異なってくる。このため、カラー表示に色ズ
レが生じてしまうのである。

【０００７】高品質のカラー表示を提供するためには、
見る角度によって色ズレの生じない表示装置を製造する
必要がある。

【０００８】また、ガラス基板を用いてＴＦＴ等の素子
を形成する限り、素子を設けた駆動基板は常に一定の厚
さを有することになる。このことは軽く、薄いフィルム
状の表示装置を製造する上で妨げになる。

【０００９】そこで、本発明は、薄く、明るく、また、
色ズレの生じないカラーの液晶表示装置の製造方法を提
供することを課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の液晶表
示装置の製造方法は、(a) 耐熱性を有する耐熱性基板
に、照明光の照射により剥離を生ずる剥離層を形成する
剥離層形成工程と、(b) 前記剥離層形成工程により形
成された剥離層に、薄膜素子を設けた薄膜素子層を形成
する薄膜素子形成工程と、(c) 前記薄膜素子形成工程
により形成された薄膜素子層に、前記耐熱性基板より厚
みの薄い薄厚基板を形成する薄厚基板形成工程と、(d)
前記剥離層に対し、前記耐熱性基板側から照射光を照
射して当該剥離層に剥離を生じさせ、前記薄厚基板が形
成された薄膜素子層を分離する照射分離工程と、(e)
分離された前記薄膜素子層の薄膜素子により駆動される
二色性色素を含むゲストホスト液晶デバイスを製造する
液晶デバイス製造工程と、を備える。

【００１１】請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法
では、前記薄膜素子形成工程は、薄膜素子自体を形成す
る工程と、当該薄膜素子に樹脂層を形成する工程と、を
備える。

【００１２】請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法
では、前記液晶デバイス製造工程は、（ａ）前記薄厚基
板が形成された薄膜素子層と透明基板とを、所定の間隙
をおいて接着する接着工程と、（ｂ）前記接着工程で接
着された前記薄膜素子層と透明基板との間隙に、液晶お
よび二色性色素の混合液を充填する充填工程と、を備え
る。

【００１３】請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法
は、前記液晶デバイス製造工程により複数の原色に対応
するゲストホスト液晶デバイスを各々製造し、さらに各
前記複数のゲストホスト液晶デバイスを貼り合わせて液
晶表示装置を製造する液晶表示装置製造工程を備える。

【００１４】上記発明によれば、高い形成温度を必要と
する薄膜素子層の形成時には、耐熱基板上で薄膜素子の
形成が行われた後、厚みが耐熱性基板より薄い透明基板
に貼り替えられる。この薄い透明基板ともう一つの透明
基板との間に、シアン、マゼンダ、又はイエロー等から
なる各原色毎の二色性色素と液晶とからなるゲストホス
ト液晶層を挟持して貼り合わせれば、各原色毎に薄いゲ
ストホスト液晶デバイスが製造できる。

【００１５】このようにして、さらに上記各原色のゲス
トホスト液晶デバイスを積層してカラー表示用の液晶表
示装置を構成した場合、デバイス間はより薄い透明基板
により隔てられる。この液晶表示装置を斜めの方向から
観察しても、各デバイス間の距離が短いため、色ズレが
生じない。また、透明基板を薄くできるので薄型、軽量
化が図れる他、反射光の光量を多くでき、明るいカラー
表示が行える。

【００１６】

【発明の実施の形態】次に、本発明の好適な実施の形態
を、図面を参照して説明する。

【００１７】＜実施形態＞図１乃至図３に、本実施形態
の製造方法の各工程における層構造の断面図を示す。本
実施形態の製造方法を概説すれば、最初に耐熱性のある
基板に剥離層を介してトランジスタ薄膜層を形成した
後、当該剥離層に剥離を生じさせてトランジスタ薄膜層
を分離し、これを薄い透明基板に張り替えてから、液晶
表示装置を形成するものである。以下、これを具体的に
説明する。

【００１８】剥離層形成工程（図１(a)）：まず、ガ
ラス基板１０に剥離層１１を形成する。薄膜素子である
薄膜トランジスタを形成するには、少なくとも４００度
以上の高温の雰囲気が必要とされる。このトランジスタ
を形成する基台である基板１０としては、このような高
温に耐え、物理的、化学的変性が生ぜず、変形はもとよ
り、ある程度の機械的強度を有する材料であることが望
まれる。光透過性は１０％以上あることが好ましい。光
透過率が低すぎると、後に述べる照射光の減衰が大きく
なるからである。ただし、この基板は、分離後は再利用
されるものなので、価格を考慮する必要もない。このよ
うな材料としては、石英ガラス、ソーダガラス、耐熱ガ
ラス等があげられる。基板厚としては、０．１ｍｍ〜５
ｍｍ程度、好ましくは０．５ｍｍ〜１．５ｍｍ程度とす
る。基板が厚すぎると剥離のための照射光の減衰が多く
なり、薄すぎると、十分な機械的強度が保てなくなるか
らである。

【００１９】剥離層は、レーザ光等の照射光により当該
層内や界面において剥離を生ずるものである。すなわ
ち、一定の強度の光を照射することにより、構成物質の
原子間または分子間の結合力が消失しまたは減少し、ア
ブレーション(ａｂｌａｔｉｏｎ)等を生じ、剥離を起こ
す。このような剥離層１１の組成としては、以下が考え
られる。

【００２０】１) 水素を２〜１０ａｔ％程度含有した
非結晶シリコン(ａ−Ｓｉ) ２) 酸化ケイ素若しくはケイ酸化合物、酸化チタン若
しくはチタン酸化合物、酸化ジルコニウム若しくはジル
コン酸化合物、酸化ランタン若しくはランタン酸化合物
等の各種酸化物セラミックス、または誘電体あるいは半
導体３) ジルコン酸チタン(ＰＺＴ)、ＰＬＺＴ、ＰＬＬＺ
Ｔ、ＰＢＺＴ等のセラミックスまたは誘電体４) 窒化ケイ素、窒化アルミ、窒化チタン等の窒化物
セラミックス５) ―ＣＨ２―、―ＣＯ−，−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ−
等の有機高分子材料６) Ａｌ、Ｌｉ、Ｔｉ、Ｍｎ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｙ，Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐｒ，Ｇｄ若しくはＳｍ、またはこれ
らのうち少なくとも一種を含む合金剥離層１１の厚さとしては、通常１ｎｍ〜１０μｍ程
度、より好ましくは４０ｎｍ〜１μｍ程度にする。膜厚
が薄すぎると、形成された膜厚の均一性が失われ、膜厚
が厚すぎると、剥離に必要とされる照射光のパワーを上
げる必要があったり、また、剥離後に剥離層の残渣を除
去するのに時間を要したりするからである。

【００２１】剥離層１１の形成方法は、ＣＶＤ法、特に
低圧ＣＶＤやプラズマＣＶＤにより成膜するのが好まし
い。この他、ＭＯＣＶＤ、ＥＣＲ−ＣＶＤ、蒸着、分子
線蒸着、スパッタリング法、イオンプレーティング法、
ＰＶＤ法等の各種気相成膜法、電気メッキ、浸漬メッ
キ、無電解メッキ法、ラングミュア・ブロジェット法、
スピンコート、スプレーコート、ロールコート法等の塗
布法、各種印刷法、転写法、インクジェット法、粉末ジ
ェット法等に適用できる。これらのうち２種以上の方法
を組み合わせてもよい。

【００２２】なお、図１乃至図３には図示しないが、剥
離層１１の上に酸化ケイ素等の絶縁層を設けてもよい。
絶縁層は、剥離層１１に照射光照射時の断熱を行う。

【００２３】薄膜素子(トランジスタ薄膜)層形成(図１
(ｂ))：剥離層１１の形成後、薄膜トランジスタ(ＴＦ
Ｔ)１２１の形成を行う。薄膜トランジスタは、画素ご
とに一つ形成される。そのドレインには、透明電極１２
２が形成される。薄膜トランジスタ１２１および透明電
極１２２各一個で、一つの画素要素１２０を構成する。
画素要素１２０を形成した層をトランジスタ薄膜層１２
とする。ガラス基板１０は十分な耐熱性があるため、高
温下でトランジスタ薄膜の形成が行える。

【００２４】なお、薄膜トランジスタの代わりに、ＭＩ
Ｍ等の液晶表示装置を駆動するに足りる能動素子が適用
可能である。薄膜素子は、耐熱性のあるガラス基板１０
上で形成されるため、通常の成膜方法で形成できる素子
なら適用が可能である。透明電極１２２としては、ある
程度の光透過性のある材料であることが必要とされる。
このような材料としてＩＴＯ膜が挙げられる。膜厚は、
光透過性を損なわず、かつ表示駆動に足る導電性を確保
するため、例えば９００Å程度とする。

【００２５】透明電極１２２は、レジスト塗布、マス
ク、露光、現像およびエッチング等の公知のパターン成
形技術を用いて行う。

【００２６】樹脂層形成工程(図１(ｃ))：トランジス
タ薄膜層１２の上に樹脂層１３を形成する。この樹脂層
は、プラスチック基板１４を貼り合わせ易くするため
に、トランジスタ薄膜層１２の凹凸を吸収し、かつ、プ
ラスチック基板１４の接合が可能な表面とするため用い
る。樹脂層１３の組成としては、すでにトランジスタ薄
膜層が設けられ、高温化にさらされることがないので、
絶縁性を有し、良好な光透過性を備えたものならばよ
い。例えば、２Ｐモノマー樹脂等を使用できる。又、樹
脂層１３としてホットメルト接着性を有する樹脂材を使
用すれば次工程であるプラスチック基板の接着がより容
易になる。

【００２７】プラスチック基板接着工程(図１(d))：
樹脂層１３の表面にプラスチック基板１４を貼りつけ
る。この基板１４は、表示デバイスのゲストホスト液晶
層を挟み込む基板の一方となる。すでにトランジスタ薄
膜層１２の形成が終わっているので、可能な限り厚みの
薄い基板を用いることができる。すなわち、トランジス
タ薄膜層を形成するには組成や機械的強度の点で問題が
あり、使用できなかった基板であっても、ここで使用す
ることができる。なお、プラスチック基板の代わりに、
ガラス等の組成であっても極力厚みを薄くしたもの、さ
らには可撓性のあるプラスチックフィルム等に貼り合わ
せが可能である。例えば、プラスチックフィルムは耐熱
が２００度程度であるが、これでも十分使用が可能であ
る。

【００２８】この基板は、むろん光透過性を良好に有す
るものである必要がある。その膜厚は、５μｍ〜０．４
ｍｍ程度が好ましい。膜厚が厚すぎると光透過性が悪く
なるとともに、本発明の目的である色ズレの防止ができ
なくなり、膜厚が薄すぎると製造工程で必要とされる最
低限の機械的強度を担保できないからである。

【００２９】剥離工程(図２(ａ))：プラスチック基板
１４が貼り合わせられたら、ガラス基板１０側からレー
ザ光４０等を照射する。レーザ光４０は基板１０を透過
し、剥離層１１に照射される。剥離層１１は、これによ
り、基板との界面あるいはその層内において、原子間あ
るいは分子間の結合力が減少あるいは消滅する。レーザ
光４０の照射時、剥離層１１の組成にはアブレーション
が生じ、また剥離層内部のガスの放出、レーザ光４０に
よる融解、蒸散等の相変化が生じていると推測される。

【００３０】照射光としては、剥離層１１に効率よく剥
離を生じさせるものであればよい。特にアブレーション
を生じさせ易いという点で、波長２４８ｎｍまたは３０
８ｎｍのエキシマーレーザ(ｅｘｃｉｍｅｒｌａｓｅ
ｒ)光を用いるのが好ましい。照射されるレーザ光のエ
ネルギー密度は、上記エキシマーレーザ光の場合、１０
〜５０００mJ/cm2程度、照射時間は、１〜１０００ｎｓ
ｅｃ程度、好ましくは１０〜１００ｎｓｅｃ程度とす
る。エネルギー密度が低すぎたり短かすぎたりすれば十
分なアブレーションを生じさせることができず、エネル
ギー密度が高すぎたり照射時間が長すぎたりすれば、剥
離層ばかりかトランジスタ薄膜層１２に悪影響を与えた
り、破壊したりするからである。

【００３１】なお、剥離層１１の全域に照射するため
に、複数回に分けて照射光を照射したり同一個所に２回
以上照射してもよい。さらに、照射光におけるレーザ光
の種類、その波長等を異ならせてもよい。

【００３２】また、剥離層１１の剥離により分離したガ
ラス基板１０およびトランジスタ薄膜層１２には剥離層
１１の残渣が付着しているので、洗浄、エッチング、ア
ッシング、研磨等の方法でこれを除去する。分離したガ
ラス基板１０は再利用に回される。

【００３３】基板貼り合わせ(接着)工程(図２(ｂ))：
トランジスタ薄膜層１２に貼り合わせられたプラスチッ
ク基板１４は、透明電極２１が設けられた他のプラスチ
ック基板２０と、所定の間隙をおいて貼り合わせられ
る。貼り合わせは、エポキシ樹脂等の接着剤を用いる。
この接着剤は、両基板を接着する他、後に形成するゲス
トホスト液晶層の厚みを保持すると共に、水分、気泡、
その他各種汚染物が侵入するのを防止する役割を果たす
周囲シール部３３となる。

【００３４】ゲストホスト液晶注入工程（図２
（ｃ））：シアン、マゼンダ、イエロー等の各二色性色
素と液晶材との混合物からなる各原色毎のゲストホスト
液晶を各々用意し、上記貼り合せ工程により接着された
両基板の間隙に上記ゲストホスト液晶３４Ａを各々注入
し各色のゲストホスト液晶デバイスを作成する。ゲスト
ホスト液晶デバイス貼り合わ工程(図３(a)（ｂ）)：
上記工程により、マゼンダ色液晶デバイス６１、シアン
色液晶デバイス６２およびイエロー色液晶デバイス６３
を形成したら、これらをそれぞれ貼り合わせる。この貼
り合せは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の接着剤７０
により行う。貼り合せにあたって、当該液晶デバイスの
層面に垂直な方向から見て、各液晶デバイスに設けられ
た同一アドレスに係る画素要素１２０が互いに同一直線
上に並ぶように注意して貼り合わせる。その後で、貼り
合わされた液晶デバイスの最下面に白色反射板１００
（白色紙、白布、酸化マグネシウム、酸化アルミニウ
ム、又はアルミニウム、銀等からなる鏡面上に光散乱板
を配したものなどが良い）を配置する。

【００３５】以上の工程により、図３(b)に示すような
液晶表示装置６０が完成する。この液晶表示装置６０に
対し、各液晶デバイスの透明電極２１を共通電極として
電気的に接続し、各液晶デバイスの薄膜トランジスタ１
２１のゲートに各画素の各原色の制御出力端子を接続す
れば、液晶表示が行えるようになる。

【００３６】図４に、本実施形態の製造方法によって製
造したゲストホスト液晶デバイスの断面図を示し表示原
理を説明する。符号はいづれも共通部材については前図
面と共通の符号を使用している。１４は前述した方法に
より形成された薄厚基板で内面に透明電極１２２および
薄膜トランジスタ１２１を有する。２０は同様にプラス
チック基板で、やはり内面に透明電極２１を有する。３
４Ａは、シアン、マゼンダ、又はイエロー等のゲストホ
スト液晶層で、液晶分子９８及び二色性色素９９を少な
くとも含む混合物からなる。ここでは領域５５は無電圧
（Ｖ0）（すなわち、電位差がゼロ）の領域であり、領
域５４は、電圧（Ｖ1）が印加されている領域である。
まず、無電圧領域５５に於いては基板近傍を除く大部分
の液晶分子９８はラセン構造を取り、液晶分子の長軸は
両基板１４及び２０の面に略平行な方位を取る。従っ
て、二色性色素９９も同様にゲストホスト効果に従い略
平行な方位を取る。この結果、入射光５１は該二色性色
素９９により光吸収される。ここで今、該二色性色素９
９がシアン色の場合には、シアン色を呈する波長光のみ
が透過し、他の波長光は吸収される。透過したシアン色
の波長光は下部に配置された白色反射板１００によって
反射され前面に戻る。従って、該領域５５に於いてはシ
アン色の外観が得られる。同様に、二色性色素９９がイ
エロー色の場合にはイエロー色が、マゼンダ色の場合に
はマゼンダ色の外観が得られる。

【００３７】一方、電圧印加領域５４では、電圧Ｖ1が
印加されている。ここで液晶分子９８の誘電異方性（△
ε）を正にしておけば液晶分子９８は前記両基板１４、
２０の面に対して略垂直に配向する。従ってゲストホス
ト効果により二色性色素９９も同様に略垂直に配向する
ため入射光５０に対して光吸収性が殆ど失われ入射光５
０はそのまま白色反射板１００に達しそこで反射されて
前面に戻るため略白色の外観が得られる。このようにし
て二色性色素の方位を電圧の有無により変えることによ
って色素の色と白色とを切り替えて表示することができ
る。

【００３８】以上がゲストホスト液晶デバイスの動作原
理であるが、液晶分子の基板面近傍の配向、中間部のラ
セン状の液晶分子配列の方法等、さらに詳しい説明につ
いては文献（液晶デバイスハンドブック、日本学術振興
会、第１４２委員会編、日刊工業新聞社発行、ｐ３１５
〜３２９）等に記されている。

【００３９】又、ここではゲストホスト液晶層３４Ａは
液晶材料９８と二色性色素９９との混合物からなるとし
たが、電圧無印加時に液晶分子がラセン配向を取るよう
に０．１〜３％程度のコレステリック液晶も加えた方が
よい。また更に、光硬化性樹脂のモノマーも適量加え、
上記ゲストホスト液晶を注入した後、光硬化させたもの
をゲストホスト液晶層３４Ａとして用いれば、表示駆動
電圧が低減できる他、０Ｎ，ＯＦＦ切替時におけるヒス
テリシス現象の発生を押さえる効果もある。

【００４０】図５に、本実施形態の製造方法によって製
造した各色のゲストホスト液晶デバイスを積層した反射
型カラー液晶表示装置動作原理を説明する断面図を示
す。

【００４１】同図では、液晶表示装置６０のうち、各液
晶デバイスの２つの画素要素１２０について拡大してあ
る。領域５４における各液晶デバイスの透明電極１２２
および透明電極２１間には、所定の電圧Ｖ1が印加して
ある。電圧印加領域５４では、前述したように液晶分子
が基板面に略垂直に配向する。このため、同様に二色性
色素も略垂直に配向する。よって、入射光５８は、二色
性色素に殆ど吸収されること無く、すべての液晶デバイ
スを透過し、最下面の白色反射板１００に達し、そこで
反射されて再度、前面に反射光５６となって戻ってく
る。よって、この領域５４では液晶表示装置６０の表示
面は明るく（白く）見える。

【００４２】一方、領域５５における各液晶デバイスの
透明電極１２２および透明電極２１間の電位差は、無電
圧Ｖ0(すなわち、電位差がゼロ)に設定されている。電
圧が印加されないため、液晶分子及び二色性色素が前述
したようにラセン構造をとり層面にほぼ水平に配向す
る。このため、入射光５７は、それぞれの液晶デバイス
の二色性色素により各色素に対応する波長光が吸収され
る。（緑色光５３はマゼンダ色の二色性色素を含むゲス
トホスト液晶デバイス６１で吸収され、赤色光５２はシ
アン色の二色性色素を含むゲストホスト液晶デバイス６
２で吸収され、青色光５１はイエロー色の二色性色素を
含むゲストホスト液晶デバイス６３で吸収される。）よ
って、すべての原色光(５１、５２、５３)が吸収される
のであるから、この状態では液晶表示装置６０の表示面
は暗く(黒く)見える。

【００４３】マゼンダ色のゲストホスト液晶デバイス６
１のみ無電圧Ｖ0とし、他のゲストホスト液晶デバイス
６２、６３には電圧Ｖ1を印加した場合には、マゼンダ
色のみ透過し他の色波長光は吸収されるためマゼンダ色
の表示外観を呈する。同様にシアン色のゲストホスト液
晶デバイス６２のみ無電圧Ｖ0とし、他のゲストホスト
液晶デバイス６１、６３には電圧Ｖ1を印加した場合に
は、シアン色のみ透過し他の色波長光は吸収されるため
シアン色の表示外観を呈する。更に同様に、イエロー色
のゲストホスト液晶デバイス６３のみ無電圧Ｖ0とし、
他のゲストホスト液晶デバイス６１、６２には電圧Ｖ1
を印加した場合には、イエロー色のみ透過し他の色波長
光は吸収されるためイエロー色の表示外観を呈する。す
なわち、液晶デバイスごとに駆動電圧の有無を制御すれ
ば、カラー表示ができる。

【００４４】このとき、液晶表示装置６０を構成する各
液晶デバイスの基板の厚さを従来より薄くしているの
で、液晶表示装置全体の膜厚が薄くなっているととも
に、各ゲストホスト液晶層間の基板が薄くなっているた
め該層間の間隔が狭くなっている。このため、明るいば
かりか、垂直方向からややずれた方向から観察しても、
色ズレが生じにくい。実際に表示装置として使用する際
には、見る角度が浅くなる画面の周辺においても色ズレ
が生じにくくなる。

【００４５】以上のべたように、本実施形態によれば、
ガラス基板上にトランジスタ薄膜を形成した後、これを
剥離し、代わりに厚みの薄いプラスチック基板を接着
し、これを用いて各色ゲストホスト液晶デバイスを積み
重ねて液晶表示装置を製造するので、厚みが薄く明る
く、また、色ズレの生じにくいカラー液晶表示装置を提
供できる。

【００４６】〈変形例〉本発明は、上記実施形態にこだ
わらず種々に適用可能なものである。例えば、上記実施
形態では、ゲストホスト液晶を用いた液晶表示装置につ
いて説明したが、他の液晶表示装置に適用することもで
きる。

【００４７】すなわち、本発明によれば、耐熱性基板上
に薄膜素子を形成した後、これを剥離し、厚みの薄い薄
厚基板を形成するので、他の製造方法で製造された駆動
素子を設けた基板に比べ、厚みの薄い駆動基板を製造で
きる。従って、この駆動基板によって駆動される公知の
液晶表示機構を有する液晶表示装置を製作すれば、従来
より軽く、薄い液晶表示装置を提供できることになる。

【００４８】特に、この発明によれば、フィルム状の表
示装置を製造する際に有効な液晶表示装置の製造方法を
提供できる。

【００４９】

【発明の効果】本発明の液晶表示装置の製造方法によれ
ば、耐熱性を有する耐熱性基板に剥離層を形成し、該剥
離層上に薄膜素子を設けた薄膜素子層を形成し、該薄膜
素子層上に更に厚みの薄い薄厚基板を形成した後、耐熱
性基板側から照射光を照射して剥離層に剥離を生じさせ
るので、薄膜素子製造に使用できないような耐熱性の低
い薄い基板を薄膜素子層の基台にできる。

【００５０】従って、従来の表示装置よりも薄い液晶表
示装置を製造できる。そして明るく、かつ特に、複数の
原色のカラー液晶デバイスを重ねたカラー液晶表示装置
の色ズレを生じさせないものである。

【００５１】また、本発明の液晶表示装置の製造方法で
は、薄膜素子に樹脂層を形成するので、薄膜素子形成
後、薄膜基板との貼り合せが容易であり、従来より薄い
液晶表示装置を製造できる。これは、フィルム状の液晶
表示装置を製造する時に有利である。

【００５２】以上、本発明の液晶表示装置の製造方法に
より、より薄い、複数の、原色のゲストホスト液晶デバ
イスを貼り合せてカラー液晶表示装置を製造するため、
全体として従来より薄い液晶表示装置が製造できる。こ
れにより、薄く、軽く、明るく、かつ特に、色ズレを生
じさせない美しいカラー表示画像が得られるカラー液晶
表示装置が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態の液晶デバイスの製造工程断面図
（前半）。

【図２】実施形態の液晶デバイスの製造工程断面図
（後半）。

【図３】実施形態の液晶デバイスの製造工程断面図。

【図４】実施形態のゲストホスト液晶デバイスの動作
原理説明図。

【図５】実施形態の液晶表示装置の動作原理説明図。

【符号の説明】

１０・・・ガラス基板１１・・・剥離層１２・・・トランジスタ薄膜層（薄膜素子層）１３・・・樹脂層１４・・・プラスチック基板（透明基板）２０・・・プラスチック基板（透明基板）３０・・・液晶＋二色性色素混合液３４Ａ・・・ゲストホスト液晶層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】耐熱性を有する耐熱性基板に、照明光の照
射により剥離を生ずる剥離層を形成する剥離層形成工程
と、前記剥離層形成工程により形成された剥離層に、薄膜素
子を設けた薄膜素子層を形成する薄膜素子形成工程と、前記薄膜素子形成工程により形成された薄膜素子層に、
前記耐熱性基板より厚みの薄い薄厚基板を形成する薄厚
基板形成工程と、前記剥離層に対し、前記耐熱性基板側から照射光を照射
して当該剥離層に剥離を生じさせ、前記薄板基板が形成
された薄膜素子層を分離する照射分離工程と、分離された前記薄膜素子層の薄膜素子により駆動される
二色性色素を含むゲストホスト液晶デバイスを製造する
液晶デバイス製造工程と、を備えたことを特徴とする液
晶表示装置の製造方法。
【請求項２】前記薄膜素子形成工程は、薄膜素子自体を
形成する工程と、当該薄膜素子に樹脂層を形成する工程
と、を備えたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表
示装置の製造方法。
【請求項３】前記液晶デバイス製造工程は、前記薄厚基板が形成された薄膜素子層と透明基板とを、
所定の間隙をおいて接着する接着工程と、前記接着工程で接着された前記薄膜素子層と透明基板と
の間隙に、液晶および二色性色素の混合液を充填する充
填工程と、を備えたことを特徴とする請求項１に記載の
液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】前記液晶デバイス形成工程において、複
数の原色に対応するにゲストホスト液晶デバイスを各々
製造し、さらに各前記複数のゲストホスト液晶デバイスを貼り合
わせて液晶表示装置を製造する液晶表示装置製造工程を
備えたこと、を特徴とする請求項３に記載の液晶表示装
置の製造方法。