JPH10231327A - スチレン系共重合体、その製造方法および成形体 - Google Patents

スチレン系共重合体、その製造方法および成形体

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JPH10231327A
JPH10231327A JP9034140A JP3414097A JPH10231327A JP H10231327 A JPH10231327 A JP H10231327A JP 9034140 A JP9034140 A JP 9034140A JP 3414097 A JP3414097 A JP 3414097A JP H10231327 A JPH10231327 A JP H10231327A
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08F212/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
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Abstract

(57)【要約】 【課題】スチレン系化合物および複数のビニル基を有す
る化合物の共重合体であって、分子量分布が狭く、した
がって、超高分子量成分や低分子量成分が含まれず、ま
た分岐構造は高分子量成分のみに片寄って含有されな
い、スチレン系共重合体およびその製造方法を提供する
こと。 【解決手段】スチレン系化合物および複数のビニル基を
有する化合物の共重合体であって、分子量分布(Mw/
Mn)が1.5以上2.5未満であり、数平均分子量
(Mn)、重量平均分子量(Mw)およびz平均分子量
(Mz)における、スチレンモノマー1000ユニット
当たりの分岐数である分岐度(λ)がほぼ等しく0.1
以上10未満であることを特徴とするスチレン系共重合
体およびその製造方法ならびにその成形体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スチレン系化合物
および複数のビニル基を有する化合物のスチレン系共重
合体、その製造方法及び成形体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】スチレン系樹脂は、剛性があり、寸法安
定性に優れ、かつ廉価であることから、成形用途に広く
使用されている。近年、射出成形、押出成形、発泡成形
の各種用途においては高強度化の要求が益々強くなって
いる。かかる要求に応える試みとして、樹脂の分子量を
高くし、強度を高める方法が提案されている。しかしな
がら、この方法には樹脂の流動性が低下し成形が困難と
なるもといった問題があった。また、樹脂の分子量を低
下させずに流動性を高める方法として、樹脂にミネラル
オイルなどの可塑剤を添加して用いる方法がある。しか
しながら、この方法には、可塑剤により樹脂の耐熱性及
び機械的強度が低下するという問題があった。このよう
に流動性を維持したまま、樹脂の耐熱性および機械的強
度を高くする方法として、ジビニルべンゼンのような複
数のビニル基を有する化合物と共重合する方法が、特開
昭8−45590号公報、特開平2−170866号公
報、特開平7−166013号公報に開示されている。
しかしながら、これらの方法では、分子量が高くなると
ともに分子量分布も広くなり、また分岐構造は高分子量
成分のみに含有される。また、得られた共重合体には超
高分子量成分や低分子量成分が含まれる。超高分子量成
分が含まれるため成形品の透明性が劣り、低分子量成分
が含まれるためにクリープ特性が劣るという問題があっ
た。また、スチレン系化合物と複数のビニル基を有する
化合物を共に反応系に連続的に添加する方法、いわゆる
連続塊状重合法において、未反応の複数のビニル基を有
する化合物が多量に残存し、重合槽あるいはプロセス配
管内にゲル付着物が発生する問題があった。またリサイ
クルソルベント中にも未反応の複数のビニル基を有する
化合物が多量に残存するため、長期間の放置によりゲル
が発生する恐れがあり、長期連続運転が困難となる問題
があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】かかる状況において、
本発明が解決しようとする課題は、スチレン系化合物お
よび複数のビニル基を有する化合物の共重合体であっ
て、分子量分布が狭く、したがって、超高分子量成分や
低分子量成分が含まれず、また分岐構造は高分子量成分
のみに片寄って含有されない、スチレン系共重合体、そ
の製造方法および成形体を提供する点に存する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達したもの
である。すなわち、本発明のひとつはスチレン系化合物
および複数のビニル基を有する化合物の共重合体であっ
て、重量平均分子量(Mw)が10万〜50万であり、
数平均分子量( Mn)が5万〜40万であり、分子量
分布(Mw/Mn)が1.5以上2.5未満であり、数
平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)およびz
平均分子量(Mz)における、スチレンモノマー100
0ユニット当たりの分岐数である分岐度(λ)がほぼ等
しく0.1以上10未満であることを特徴とするスチレ
ン系共重合体である。本発明の他のひとつは、ラジカル
捕捉剤の存在下、スチレン系化合物および複数のビニル
基を有する化合物を共重合させるスチレン系重合体の製
造方法であって、(1)重合される化合物に対する複数
のビニル基を有する化合物濃度(D;mol%)および
ラジカル捕捉剤濃度(C;mol%)が
【数3】3.0×10-3≦C≦1.0×10-1
【数4】0.2≦C/D≦4.0 となる範囲で、(2)重合温度が100〜160℃で、
(3)重合転化率が40〜80%となるまで重合を行
う、ことを特徴とするスチレン系共重合体の製造方法で
ある。本発明の他のひとつは、上記のスチレン系共重合
体を射出成形、押出成形または発泡成形することにより
得られることを特徴とする成形体である。以下、本発明
を詳細に説明する。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明で用いられるスチレン系化
合物としては、スチレン、α−メチルスチレンなどのα
−置換アルキルスチレン、p−メチルスチレンなどの核
置換アルキルスチレンなどが挙げられる。また、本発明
の製造方法においては、上記のスチレン系化合物と共
に、スチレン系化合物と共重合可能な化合物、たとえば
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタクリル
酸、アクリル酸、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチ
ルなどのエステル誘導体、などのビニルモノマー、更に
は無水マレイン酸、マレイミド、核置換マレイミドなど
を、重合される化合物に対して50重量%未満の範囲で
併用してもよい。
【0006】本発明で用いられる複数のビニル基を有す
る化合物として、ジビニルベンゼン、エチレングリコー
ルジメタクリレートなどを挙げることができる。
【0007】本発明で用いるラジカル捕捉剤とは、ポリ
マーの成長ラジカルと容易に結合、解離でき、平衡状態
をとり得るような化合物であり、種々の安定フリーラジ
カル剤を使用することができる。
【0008】本発明で用いるラジカル捕捉剤としては、
例えば、2, 2, 6, 6−テトラメチル−1−ピペ
リジニルオキシ(以下、TEMPOと略する。)、4−
アミノ−TEMPO、4−ヒドロキシ−TEMPO、4
−オキソ−TEMPOなどのTEMPO誘導体、4,
4−ジメチル−3−オキサゾリニルオキシやその誘導
体、2,2, 5, 5−テトラメチル−1−ピロリジニ
ルオキシやその誘導体、フェニル−t−ブチルニトロキ
シド、2, 2−ジ(4−t−オクチルフェニル)−1
−ピクリルヒドラジル(DPPH)等の安定フリーラジ
カル等がある。これらの中でも2, 2, 6, 6−テ
トラメチル−1−ピペリジニルオキシ(TEMPO)が
好ましい。重合される化合物に対する複数のビニル基を
有する化合物濃度(D;mol%)およびラジカル捕捉
剤濃度(C;mol%)が
【数5】3.0×10-3≦C≦1.0×10-1
【数6】0.2≦C/D≦4.0 となる範囲で、ラジカル捕捉剤を添加する必要がある。
Cが過小である場合は、得られた共重合体の分子量分布
は広く、超高分子量成分をもち、分岐構造は高分子量成
分のみにしか導入されない。また、連続塊状重合プロセ
スにおいてゲル発生の恐れがある。Cが過大である場合
は、重合が進まず、分子量が低いものしか得られず、樹
脂として使用できない。C/Dが過小である場合は、得
られた共重合体の分子量分布は広く、超高分子量成分を
もち、分岐構造は高分子量成分のみにしか導入されな
い。また、連続塊状重合プロセスにおいてゲル発生の恐
れがある。C/Dが過大である場合は、分岐構造を含有
した共重合体が得られない。重合温度は100〜160
℃、好ましくは100〜150℃、更に好ましくは11
0℃〜140℃の範囲で重合を行う必要がある。重合温
度が低いと重合が進まず、共重合体の分子量が低いもの
しか得られず、樹脂として使用できない。重合温度が高
い場合、得られた共重合体の分子量分布は広く、均一に
分岐構造を含有した共重合体が得られない。重合転化率
は40〜80%、好ましくは50〜70%となるまで重
合を行う必要がある。重合転化率が小さい場合、共重合
体の分子量は低いものしか得られず、樹脂として使用で
きない。重合転化率が大きくなるまで重合を続ける場
合、時間当たりの共重合体生成量が小さく、生産性に劣
る。
【0009】本発明で用いるラジカル捕捉剤は、本発明
の範囲でスチレン系化合物と予め混合して用いてもよい
し、重合槽に添加することもできる。
【0010】本発明のスチレン系重合体の重合方法とし
ては懸濁重合、乳化重合、塊状重合法を用いることがで
きる。重合槽としては、完全混合型撹拌重合槽、プラグ
フロータイプの満液型(縦型又は横型)、静的混合管型
重合槽又はこれらの重合槽を組み合わせて用いることが
できる。
【0011】重合方法として熱重合法あるいは開始剤重
合法であること好ましい。使用可能な開始剤としては、
各種の単官能及び多官能過酸化物、アゾ系開始剤などを
用いることが望ましい。
【0012】本発明のスチレン系共重合体は、その重量
平均分子量(Mw)が10万〜50万であり、数平均分
子量が5万〜40万であり、分子量分布(Mw/Mn)
が1.5以上2.5未満であり、分子鎖末端の一部にラ
ジカル補捉剤を含有し、数平均分子量(Mn)、重量平
均分子量(Mw)およびz平均分子量(Mz)におけ
る、スチレンモノマー1000ユニット当たりの分岐数
である分岐度(λ)がほぼ等しく0.1以上10未満で
あることを特徴とするスチレン系共重合体である。ここ
で、スチレンモノマー1000ユニット当たりの分岐数
である分岐度(λ)は、検出器として示差屈折率計とオ
ンライン粘度計とを備えたゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー(GPC)を用いた、いわゆるGPC−粘
度法で測定することができる。スチレンモノマー100
0ユニット当たりの分岐数である分岐度(λ)は次式で
求められる。 [IV(M)/IVL(M)]2/3=[(1+Bn
(M)/7)1/2+4/9・Bn(M)]-1/2 λ(M)=Bn(M)×Mst×1000/M ここで、Mは共重合体のひとつの分子鎖の分子量、IV
(M)は分子量Mである本発明の共重合体分子鎖の極限
粘度、IVL(M)は本発明共重合体と同じ分子量Mを
もつ直鎖状ポリスチレン標準ポリマーの極限粘度であ
る。Mstはスチレンモノマーの分子量であり、104
である。また、Bn(M)は分子量Mである本発明の共
重合体分子鎖に含まれる分岐点の数である。GPC−粘
度法では本発明の共重合体の各分子量MにおけるIV
(M)およびIVL(M)を測定し、上記式から、Bn
(M)を求め、λ(M)を求めることができる。λ(M
n)、λ(Mw)、λ(Mz)とはそれぞれ、平均分子
量Mn、Mw、Mzと同じ分子量を持った分子鎖におけ
るλ値である。本発明のスチレン系共重合体は、分子鎖
末端の一部にラジカル捕捉剤に基づく基を含有する。こ
れはその重合過程において、生成したポリマーラジカル
の一部はラジカル補足剤と結合し、重合が停止するため
である。ポリマー鎖にラジカル補足剤による基が含有し
ているかを判別する方法としては、例えば、高分解能N
MR法や熱分解GC−MS法などが挙げられる。
【0013】本発明のスチレン系共重合体は、該スチレ
ン系共重合体を20〜99.995重量%含み、該スチ
レン系共重合体以外の成分として、他のスチレン系重合
体を80〜0.005重量%含む樹脂組成物とすること
ができる。他のスチレン系重合体として、一般ポリスチ
レン(GPPS)、ゴム変性ポリスチレン(HIP
S)、スチレン−ブタジエンブロック共重合体(SB、
SBS)及びその水添物(SEBS)などの耐衝撃性改
良剤などがあげられる。本発明のスチレン系共重合体に
は、ミネラルオイルなどの可塑剤、離型剤、滑剤、帯電
防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、難燃
剤、抗菌剤、顔料、染料など通常の添加剤を配合するこ
とができる。本発明のスチレン系共重合体に、該共重合
体以外の成分を添加する方法は、本発明のスチレン系共
重合体を製造する際に、重合系にそれらを添加して製造
することができる。また、該共重合体と共重合体以外の
成分を溶融混練することで製造することができる。
【0014】本発明のスチレン系共重合体は、射出成形
用途、押出成形用途、または発泡成形用途などに使用で
きる。例えば、テレビなどの家電製品、OA機器のハウ
ジング、ヨーグルトカップなどの射出成形体、食品用ボ
トルや事務機器用パネルなどのブロー成形品、冷蔵庫内
装材などのシート成形品、PSPラミネート用インフレ
ーションフィルムや食品包装用二軸延伸フィルムなどの
押出成形体、発泡ポリスチレンシート、発泡ボード、ビ
ーズ発泡などの発泡成形体に使用できる。
【0015】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。実施例
及び比較例で用いた測定方法は、次のとおりである。 (1)重合転化率 重合で得られた重合溶液試料0. 5gを精秤し、メチ
ルエチルケトンに溶解させた溶液を、過剰のメタノール
溶液中に滴下して、沈殿させて、ろ過して得られたもの
を70℃で2時間真空乾燥させ乾燥後重量を0.5gで
割った値を百分率で表したものを重合転化率とした。 (2)ゲルの有無、重量平均分子量(Mw)および分子
量分布(Mw/Mn) (1)で乾燥したポリマーサンプルの濃度が約0. 5
mg/mlになるように、テトラヒドロフラン溶剤に溶
解させ、ゲルの有無を目視観察した。ゲル発生した場合
は、溶液が白濁する。 溶解液をろ過後、ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定し
た。ここでこのGPCは検出器として示差屈折率計を備
えたものであり、重量平均分子量(Mw)および分子量
分布(Mw/Mn)は、単分散ポリスチレンを用いて求
めた検量線によって算出した。
【0016】実施例1〜3 スチレンと、複数のビニル基を有する化合物としてジビ
ニルベンゼン(m−、p−混合体)、ラジカル捕捉剤と
して2, 2, 6, 6−テトラメチル−1−ピペリジ
ニルオキシ(TEMPO)を用いて表1に示すような組
成に調合した溶液を表1に示す重合温度で重合を行っ
た。測定結果を表1に示す。
【0017】比較例1〜7 スチレンと、複数のビニル基を有する化合物としてジビ
ニルベンゼン(m−、p−混合体)、ラジカル捕捉剤と
して2, 2, 6, 6−テトラメチル−1−ピペリジ
ニルオキシ(TEMPO)を用いて表2,3に示すよう
な組成に調合した溶液を表2,3に示す重合温度で重合
を行った。測定結果を表2,3に示す。
【0018】
【表1】
【0019】
【表2】 (注)ゲル化したため測定できない。
【0020】
【表3】 (注)ゲル化したため測定できない
【0021】
【発明の効果】本発明のスチレン系共重合体は、スチレ
ン系化合物および複数のビニル基を有する化合物の共重
合体であって、分子量分布が狭く、したがって、超高分
子量成分や低分子量成分が含まれず、また分岐構造は高
分子量成分のみに片寄って含有されない。また、本発明
の、スチレン系化合物および複数のビニル基を有する化
合物を共重合させるスチレン系共重合体の製造方法によ
れば、製造プラントにおけるゲル発生を抑制し、連続塊
状重合法による製造を安定的に実施することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // B29K 25:00

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】スチレン系化合物および複数のビニル基を
    有する化合物の共重合体であって、重量平均分子量(M
    w)が10万〜50万であり、数平均分子量(Mn)が
    5万〜40万であり、分子量分布(Mw/Mn)が1.
    5以上2.5未満であり、数平均分子量(Mn)、重量
    平均分子量(Mw)およびz平均分子量(Mz)におけ
    る、スチレンモノマー1000ユニット当たりの分岐数
    である分岐度(λ)がほぼ等しく0.1以上10未満で
    あることを特徴とするスチレン系共重合体。
  2. 【請求項2】ラジカル捕捉剤の存在下、スチレン系化合
    物および複数のビニル基を有する化合物を共重合させる
    スチレン系重合体の製造方法であって、(1)重合され
    る化合物に対する複数のビニル基を有する化合物濃度
    (D;mol%)およびラジカル捕捉剤濃度(C;mo
    l%)が 【数1】3.0×10-3≦C≦1.0×10-1 【数2】0.2≦C/D≦4.0 となる範囲で、(2)重合温度が100〜160℃で、
    (3)重合転化率が40〜80%となるまで重合を行
    う、ことを特徴とするスチレン系共重合体の製造方法。
  3. 【請求項3】スチレン系化合物がスチレン、α−置換ス
    チレンまたは核置換スチレンから選ばれた化合物である
    ことを特徴とする請求項2記載のスチレン系重合体の製
    造方法。
  4. 【請求項4】重合方法が熱重合法あるいは開始剤重合法
    である請求項2記載のスチレン系重合体の製造方法。
  5. 【請求項5】2, 2, 6, 6−テトラメチル−1−
    ピペリジニルオキシ(以下、TEMPOと略する。)、
    4−アミノ−TEMPO、4−ヒドロキシ−TEMP
    O、4−オキソ−TEMPO、4, 4−ジメチル−3
    −オキサゾリニルオキシやその誘導体、2,2, 5,
    5−テトラメチル−1−ピロリジニルオキシ、フェニル
    −t−ブチルニトロキシド、2, 2−ジ(4−t−オ
    クチルフェニル)−1−ピクリルヒドラジルから選ばれ
    たラジカル捕捉剤を用いることを特徴とする請求項2記
    載のスチレン系重合体の製造方法。
  6. 【請求項6】請求項1記載のスチレン系共重合体を射出
    成形、押出成形、または発泡成形することにより得られ
    ることを特徴とする成形体。
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